KR101775193B1 - 성형용 필름 및 성형 전사박 - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 필름 전체에 대하여 환상 올레핀계 수지를 50질량% 이상 100질량% 이하 함유하고, 75℃에서의 저장 탄성률이 1000MPa 이상 3000MPa 이하, 120℃에서의 저장 탄성률이 100MPa 이하인 성형용 필름이다. 본 발명에 의해, 코팅, 라미네이트, 인쇄, 증착 등의 가공시에 우수한 치수 안정성을 나타내고, 성형 전사박 용도에 바람직한 성형용 필름이 제공된다.
Description
본 발명은 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 한 성형용 필름에 관한 것이다.
최근에, 환경 의식이 높아짐에 따라, 건재, 자동차 부품이나 휴대 전화, 전기 제품 등에서, 무용제 도장, 도금 대체 등의 요망이 높아져, 필름을 사용한 장식 방법의 이용이 증가하고 있다.
성형용 2축 연신 폴리에스테르 필름으로서 몇 가지 제안이 되어 있다. 상온에서의 특정한 성형 응력을 규정한 성형용 폴리에스테르 필름이 제안되어 있다(특허문헌 1). 또한, 25℃, 100℃에서의 성형 응력, 열 수축률이나 면 배향도를 규정한 성형용 폴리에스테르 필름이 제안되어 있다(특허문헌 2).
또한, 저온에서의 성형성이 우수한 비정질성 폴리에스테르를 이용한 성형용 무연신 폴리에스테르 필름이 제안되어 있다(특허문헌 3). 또한, 인쇄 가공, 코팅 가공에 대응할 수 있는 전사박용 필름으로서, 무연신 폴리에스테르 필름의 적어도 한쪽면에 폴리올레핀 필름을 접합시킨 필름이 제안되어 있다(특허문헌 4). 또한, 환상 올레핀계 수지를 이용한 필름으로서 이형 필름이 제안되어 있다(특허문헌 5). 또한, 화장 시트용의 환상 올레핀계 필름으로서, 환상 올레핀에 폴리에틸렌을 블렌드한 필름이 제안되어 있다(특허문헌 6).
그러나, 특허문헌 1 및 특허문헌 2의 필름은 2축 연신 폴리에스테르 필름이기 때문에, 내열성은 우수하지만 저온에서의 성형성은 충분하지 못하다.
특허문헌 3의 필름은, 필름의 내용제성이 낮아, 인쇄 가공, 코팅 가공에 견딜 수 없다.
특허문헌 4의 필름은, 폴리올레핀으로서 폴리프로필렌을 사용하고 있기 때문에 표면 외관이 나빠서, 표면에 얼룩이 없을 것이 요구되는 용도로의 전개는 어렵다.
특허문헌 5 및 특허문헌 6의 필름은, 가공성과 성형성에 대해 충분히 고려되어 있는 설계가 아니다. 또한, 특허문헌 5 및 6의 필름은, 표면 외관에 대해서도 충분히 고려되어 있는 설계가 아니다.
본 발명의 제1 과제는, 가공시의 우수한 치수 안정성과 성형성을 양립할 수 있는 성형용 필름을 제공하는 것이다. 또한, 본 발명의 제2 과제는, 표면 외관과 필름의 취급성이 우수한 성형용 필름을 제공하는 것이다.
제1 과제를 해결하기 위한 본 발명의 제1 성형용 필름은, 필름 전체에 대하여 환상 올레핀계 수지를 50질량% 이상 100질량% 이하 함유하고, 75℃에서의 저장 탄성률이 1000MPa 이상 3000MPa 이하, 120℃에서의 저장 탄성률이 100MPa 이하다.
제2 과제를 해결하기 위해서 본 발명의 제2 성형용 필름은, 필름 전체에 대하여 환상 올레핀계 수지를 50질량% 이상 100질량% 이하 함유하고, 적어도 한쪽면의 광택도(60°)가 100 이상이고, 인열 전파 저항이 10N/mm 이상이고, 120℃에서의 파단 신장도가 300% 이상이다.
또한, 본 발명의 성형 전사박은, 제1 또는 제2 성형용 필름의 적어도 한쪽면에 클리어층, 장식층 및 접착층이 성형용 필름의 측에서 이 순서대로 적층되어 있다.
제1 성형용 필름은, 코팅, 라미네이트, 인쇄, 증착 등의 가공시에 우수한 치수 안정성을 갖는다. 제2 성형용 필름은, 필름을 장식에 이용한 경우의 표면 외관과 필름의 취급성이 우수하다. 제1 및 제2 성형용 필름은, 진공 성형, 압공 성형, 프레스 성형과 같은 각종 성형 방법에서, 양호한 성형성을 달성할 수 있기 때문에, 다양한 성형 가공 공정에 적용할 수 있다. 제1 및 제2 성형용 필름은, 예를 들면 건재, 자동차 부품이나 휴대 전화, 전기 제품, 유기기(遊技機) 부품 등의 성형 부재를 장식하기 위한 성형 전사박용 필름으로서 바람직하게 이용된다.
[제1 및 제2 성형용 필름]
[환상 올레핀계 수지]
본 발명의 제1 및 제2 성형용 필름은, 필름의 전체 성분의 합계를 100질량%로 해서, 환상 올레핀계 수지를 50질량% 이상 100질량% 이하 함유하고 있다. 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 한 필름이면, 코팅, 라미네이트, 인쇄, 증착 등의 가공시의 치수 안정성과, 딥드로잉 성형성이 양립할 수 있다. 또한 환상 올레핀계 수지를 이용함으로써 성형 부재의 표면 외관이 양호해진다.
또한, 제1 및 제2 성형용 필름이 복수의 층으로 이루어지는 적층 필름인 경우에는, 적층 필름을 구성하는 모든 층의 전체 성분의 합계를 100질량%으로 해서, 모든 층에 존재하는 환상 올레핀계 수지의 합계가 50질량% 이상 100질량% 이하다.
제1 및 제2 성형용 필름은, 환상 올레핀계 수지를 70질량% 이상 100질량% 이하 포함하는 것이 바람직하고, 환상 올레핀계 수지를 80질량% 이상 100질량% 이하 포함하는 것이 더욱 바람직하고, 환상 올레핀계 수지를 90질량% 이상 100질량% 이하 포함하는 것이 특히 바람직하다.
환상 올레핀계 수지란, 환상 올레핀의 단량체로 중합하여 얻어지는, 중합체의 주쇄에 지환 구조를 갖는 수지를 말한다.
환상 올레핀으로는, 시클로부텐, 시클로펜텐, 시클로헵텐, 시클로옥텐, 시클로펜타디엔, 1,3-시클로헥사디엔과 같은 단환식 올레핀, 비시클로[2,2,1]헵토-2-엔, 5-메틸-비시클로[2,2,1]헵타-2-엔, 5,5-디메틸-비시클로[2,2,1]헵토-2-엔, 5-에틸-비시클로[2,2,1]헵토-2-엔, 5-부틸-비시클로[2,2,1]헵토-2-엔, 5-에틸리덴-비시클로[2,2,1]헵토-2-엔, 5-헥실-비시클로[2,2,1]헵토-2-엔, 5-옥틸-비시클로[2,2,1]헵토-2-엔, 5-옥타데실-비시클로[2,2,1]헵트-2-엔, 5-메틸리덴-비시클로[2,2,1]헵트-2-엔, 5-비닐-비시클로[2,2,1]헵토-2-엔, 5-프로페닐-비시클로[2,2,1]헵토-2-엔과 같은 2환식 올레핀, 트리시클로[4,3,0,12.5]데카-3,7-디엔, 트리시클로[4,3,0,12.5]데카-3-엔, 트리시클로[4,3,0,12.5]운데카-3,7-디엔 또는 트리시클로[4,3,0,12.5]운데카-3,8-디엔 또는 이들의 부분 수소 첨가물(또는 시클로펜타디엔과 시클로헥센의 부가물)인 트리시클로[4,3,0,12.5]운데카-3-엔; 5-시클로펜틸-비시클로[2,2,1]헵토-2-엔, 5-시클로헥실-비시클로[2,2,1]헵토-2-엔, 5-시클로헥세닐비시클로[2,2,1]헵토-2-엔, 5-페닐-비시클로[2,2,1]헵타-2-엔과 같은 3환식 올레핀, 테트라시클로[4,4,0,12.5,17.10]도데카-3-엔, 8-메틸테트라시클로[4,4,0,12.5,177.10]도데카-3-엔, 8-에틸테트라시클로[4,4,0,12.5,17.10]도데카-3-엔, 8-메틸리덴테트라시클로[4,4,0,12.5,17.10]도데카-3-엔, 8-에틸리덴테트라시클로[4,4,0,12.5,17.10]도데카-3-엔, 8-비닐테트라시클로[4,4,0,12.5,17.10]도데카-3-엔, 8-프로페닐-테트라시클로[4,4,0,12.5,17.10]도데카-3-엔과 같은 4환식 올레핀, 8-시클로펜틸-테트라시클로[4,4,0,12.5,17.10]도데카-3-엔, 8-시클로헥실-테트라시클로[4,4,0,12.5,17.10]도데카-3-엔, 8-시클로헥세닐-테트라시클로[4,4,0,12.5,17.10]도데카-3-엔, 8-페닐-시클로펜틸-테트라시클로[4,4,0,12.5,17.10]도데카-3-엔, 테트라시클로[7,4,13.6,01.9,02.7]테트라데크-4,9,11,13-테트라엔, 테트라시클로[8,4,14.7,01.10,03.8]펜타데크-5,10,12,14-테트라엔, 펜타시클로[6,6,13.6,02.7,09.14]-4-헥사데센, 펜타시클로[6,5,1,13.6,02.7,09.13]-4-펜타데센, 펜타시클로[7,4,0,02.7,13.6,110.13]-4-펜타데센, 헵타시클로[8,7,0,12.9,14.7,111.17,03.8,012.16]-5-에이코센, 헵타시클로[8,7,0,12.9,03.8,14.7,012.17,113.16]-14-에이코센, 시클로펜타디엔과 같은 4량체 등의 다환식 올레핀, 및 이들의 유도체 등을 들 수 있다. 이들 환상 올레핀은, 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
상기 중에서도, 생산성, 표면성의 관점에서, 비시클로[2,2,1]헵토-2-엔(이하, 노르보르넨이라 함), 시클로펜타디엔, 또는 1,3-시클로헥사디엔, 및 이들의 유도체가 바람직하게 이용된다.
환상 올레핀계 수지는, 상기 환상 올레핀만을 중합시킨 수지, 상기 환상 올레핀과 쇄상 올레핀을 공중합시킨 수지 중의 어느 수지라도 상관없다.
환상 올레핀만을 중합시킨 수지의 제조 방법으로는, 환상 올레핀 단량체의 부가 중합 또는 개환 중합 등의 공지된 방법을 들 수 있으며, 예를 들면 노르보르넨 및 그의 유도체를 개환 메타세시스 중합시킨 후에 수소화시키는 방법, 노르보르넨 및 그의 유도체를 부가 중합시키는 방법, 시클로펜타디엔, 시클로헥사디엔을 1,2-, 1,4-부가 중합시킨 후에 수소화시키는 방법 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 생산성, 표면성, 성형성의 관점에서, 노르보르넨 및 그의 유도체를 개환 메타세시스 중합시킨 후에 수소화시킨 수지가 특히 바람직하다.
환상 올레핀과 쇄상 올레핀을 공중합시킨 수지의 경우, 바람직한 쇄상 올레핀으로는, 에틸렌, 프로필렌, 1-부텐, 1-펜텐, 1-헥센, 3-메틸-1-부텐, 3-메틸-1-펜텐, 3-에틸-1-펜텐, 4-메틸-1-펜텐, 4-메틸-1-헥센, 4,4-디메틸-1-헥센, 4,4-디메틸-1-펜텐, 4-에틸-1-헥센, 3-에틸-1-헥센, 1-옥텐, 1-데센, 1-도데센, 1-테트라데센, 1-헥사데센, 1-옥타데센, 1-에이코센 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 생산성, 비용의 관점에서, 에틸렌을 특히 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 환상 올레핀과 쇄상 올레핀을 공중합시킨 수지의 제조 방법으로는, 환상 올레핀과 쇄상 올레핀의 부가 중합 등의 공지된 방법을 들 수 있으며, 예를 들면 노르보르넨 및 그의 유도체와 에틸렌을 부가 중합시키는 방법 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 생산성, 표면성, 성형성의 관점에서, 노르보르넨과 에틸렌의 공중합체가 특히 바람직하다.
환상 올레핀계 수지는, 필름으로 했을 때에 필름과 도막의 밀착성을 양호하게 하는 관점에서, 극성기를 함유할 수도 있다. 극성기로는, 예를 들면 카르복실기, 산 무수물기, 에폭시기, 아미드기, 에스테르기, 히드록실기 등을 들 수 있다. 환상 올레핀계 수지에 극성기를 함유시키는 방법으로는, 극성기를 갖는 불포화 화합물을 그래프트 및/또는 공중합시키는 방법 등을 들 수 있다. 극성기를 갖는 불포화 화합물로는, (메트)아크릴산, 말레산, 무수 말레산, 무수 이타콘산, 글리시딜(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴산알킬(탄소수 1 내지 10) 에스테르, 말레산알킬(탄소수 1 내지 10) 에스테르, (메트)아크릴아미드, (메트)아크릴산-2-히드록시에틸 등을 들 수 있다.
또한, 본 발명에서의 환상 올레핀계 수지란, 환상 올레핀계 수지의 중합체 100질량% 중에서, 환상 올레핀 단량체 유래 성분의 합계가 50질량% 이상 100질량% 이하인 중합체를 의미한다.
또한, 제1 및 제2 성형용 필름은, 필름 전체 성분의 합계를 100질량%로 했을 때에, 환상 올레핀계 수지를 50질량% 이상 100질량% 이하 함유하기만 하면, 환상 올레핀계 수지만으로 구성되거나, 그 밖의 올레핀계 수지를 함유하거나, 또한 올레핀계 수지 이외의 수지를 함유해도 된다. 환상 올레핀계 수지 이외의 올레핀계 수지로는, 예를 들면 저밀도 폴리에틸렌, 중밀도 폴리에틸렌, 고밀도 폴리에틸렌, 선상 저밀도 폴리에틸렌, 메탈로센 촉매를 사용하여 중합한 에틸렌-α·올레핀 공중합체와 같은 각종 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌, 에틸렌-프로필렌 공중합체, 에틸렌-프로필렌-부텐 공중합체와 같은 각종 폴리프로필렌계 수지, 메틸펜텐 중합체 등의 폴리올레핀계 수지를 사용할 수 있다. 또한, 에틸렌, 프로필렌, 부텐-1, 펜텐-1, 4-메틸펜텐-1, 헥센-1, 옥텐-1 등의 α-올레핀 단량체로 이루어지는 중합체, 상기 α-올레핀 단량체로 이루어지는 랜덤 공중합체, 상기 α-올레핀 단량체로 이루어지는 블록 공중합체 등도 사용할 수 있다. 그 중에서도, 환상 올레핀계 수지와의 상용성의 관점에서, 환상 올레핀계 수지 이외의 올레핀계 수지로는, 각종 폴리에틸렌계 수지, 각종 폴리프로필렌계 수지가 바람직하게 이용된다.
[폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지]
제1 및 제2 성형용 필름은, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지를 함유하는 것이 바람직하다. 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지를 함유함으로써, 압출 공정에서의 전단 응력을 저하시킬 수 있고, 가교에 의한 이물의 발생을 억제시킬 수 있고, 또한 인성도 향상시킬 수 있다. 한편, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지의 함유량이 많아지면, 자기 유지성이 저하되거나, 필름 표면에 주름 형상의 불균일이 발생하기 쉬워진다. 품위, 인성, 자기 유지성의 관점에서, 폴리에틸렌계 수지 및/또는 폴리프로필렌계 수지의 합계 함유량은, 필름의 전체 성분의 합계 100질량%에 대하여 1질량% 이상 40질량% 이하로 하는 것이 바람직하다. 여기서, "폴리에틸렌계 수지 및/또는 폴리프로필렌계 수지의 합계 함유량"이란, 폴리에틸렌계 수지 또는 폴리프로필렌계 수지의 한쪽만을 함유하는 경우에는, 각각의 함유량이고, 폴리에틸렌계 수지와 폴리프로필렌계 수지 양쪽을 함유하는 경우에는, 양쪽의 합계 함유량이다. 폴리에틸렌계 수지 및/또는 폴리프로필렌계 수지의 합계 함유량은, 1질량% 이상 30질량% 이하이면 더욱 바람직하고, 1질량% 이상 20질량% 이하이면 특히 바람직하다. 또한, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지 중에서도, 환상 올레핀계 수지와의 상용성의 관점에서, 폴리에틸렌계 수지가 바람직하게 이용되고, 고밀도 폴리에틸렌, 선상 저밀도 폴리에틸렌이 더욱 바람직하게 이용되고, 선상 저밀도 폴리에틸렌이 특히 바람직하게 이용된다.
또한, 본 발명에서의 폴리에틸렌계 수지란, 폴리에틸렌계 수지의 중합체 100질량% 중에서, 에틸렌 유래 성분의 합계가 50질량% 이상 100질량% 이하인 중합체를 의미한다. 또한, 본 발명에서의 폴리프로필렌계 수지란, 폴리프로필렌계 수지의 중합체 100질량% 중에서, 프로필렌 유래 성분의 합계가 50질량% 이상 100질량% 이하인 중합체를 의미한다.
[제1 성형용 필름]
[저장 탄성률]
제1 성형용 필름은, 가공시의 치수 안정성, 성형성의 관점에서, 75℃에서의 저장 탄성률이 1000MPa 이상 3000MPa 이하다. 75℃에서의 저장 탄성률을 1000MPa 이상으로 함으로써, 코팅, 라미네이트, 인쇄, 증착과 같은 가공 공정에서의 치수 변화를 억제할 수 있다. 또한, 75℃에서의 저장 탄성률을 3000MPa 이하로 함으로써, 치수 안정성을 유지한 상태로 우수한 성형성도 달성할 수 있다. 치수 안정성의 관점에서, 75℃에서의 저장 탄성률은 1100MPa 이상인 것이 바람직하고, 1200MPa 이상인 것이 더욱 바람직하다. 성형성의 관점에서, 75℃에서의 저장 탄성률은 2500MPa 이하인 것이 바람직하고, 2000MPa 이하인 것이 더욱 바람직하다. 여기서, 75℃에서의 저장 탄성률이 특정한 수치 범위 내이면, 필름의 임의의 한 방향, 및 그 방향에 직교하는 방향의 양 방향에서 그 수치 범위 내에 있는 것을 의미한다.
제1 성형용 필름에 있어서, 75℃에서의 저장 탄성률을 상기 1000MPa 이상 3000MPa 이하의 범위로 하는 방법으로는, 유리 전이 온도가 80℃ 이상의 층의 합계 두께를, 필름 전체 두께를 100%로 해서 50% 이상의 두께로 하는 것이 바람직하다. 여기서, "유리 전이 온도가 80℃ 이상의 층의 합계 두께"란, 유리 전이 온도가 80℃ 이상의 층이 1개인 경우에는 그 층의 두께를 말하며, 유리 전이 온도가 80℃ 이상의 층이 복수인 경우에는, 이들 층의 두께의 합계를 말한다. 각 층의 유리 전이 온도의 제어 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 환상 올레핀계 수지로서 노르보르넨과 에틸렌의 공중합체를 사용하는 경우, 층 중의 노르보르넨의 함유량을 증가시켜 나감으로써 유리 전이 온도를 높일 수 있다. 또한, 노르보르넨의 함유량이 서로 다른 2종의 환상 올레핀계 수지를 블렌드시킴으로써도 층의 유리 전이 온도를 조정할 수 있다. 또한, 예를 들면 환상 올레핀계 수지로서, 노르보르넨의 유도체를 개환 메타세시스 중합시킨 후에 수소화시킨 수지를 사용하는 경우, 노르보르넨의 유도체의 분자량을 크게 함으로써(예를 들면, 측쇄의 분자량을 크게 하거나, 또는 2환 구조로 함으로써), 유리 전이 온도를 높게 할 수 있다. 또한, 유리 전이 온도가 서로 다른 2종의, 노르보르넨의 유도체를 개환 메타세시스 중합시킨 후에 수소화시킨 수지를 블렌드시킴으로써도 층의 유리 전이 온도를 조정할 수 있다. 유리 전이 온도가 85℃ 이상인 층의 합계 두께가 50% 이상이면 더욱 바람직하고, 유리 전이 온도가 90℃ 이상인 층의 합계 두께가 50% 이상이면 특히 바람직하다. 또한, 1개의 층 중에 복수의 수지가 혼합되어 있는 경우 등과 같이, 유리 전이 온도가 복수 존재하는 경우에는, 고온측의 유리 전이 온도를 그 층의 유리 전이 온도로 한다.
또한, 1개의 층 중에, 환상 올레핀계 수지와 폴리에틸렌계 수지 및/또는 폴리프로필렌계 수지를 함유하고 있어도, 폴리에틸렌계 수지 및 폴리프로필렌계 수지의 유리 전이 온도는 실온 이하이기 때문에, 그 층의 유리 전이 온도는 환상 올레핀계 수지의 유리 전이 온도로 결정된다. 그러나, 필름 전체 성분에 대하여 폴리에틸렌계 수지 및 폴리프로필렌계 수지가 합계 50질량%를 초과하여 함유되면, 75℃에서의 저장 탄성률이 저하되어, 가공시의 치수 안정성이 불충분해진다. 그 때문에, 제1 성형용 필름은, 필름의 전체 성분 100질량%에 대하여 폴리에틸렌계 수지 및/또는 폴리프로필렌계 수지의 합계 함유량이 50질량% 이하인 것이 바람직하다. 합계 함유량은 40질량% 이하가 더욱 바람직하고, 30질량% 이하가 특히 바람직하고, 20질량% 이하가 가장 바람직하다.
또한, 제1 성형용 필름은, 성형성의 관점에서 120℃에서의 저장 탄성률이 100MPa 이하다. 120℃에서의 저장 탄성률이 100MPa 이하이면, 우수한 성형성을 갖고, 또한 성형 온도도 150℃ 이하로 비교적 저온으로 설정할 수 있다. 또한 높은 성형성이 필요한 경우에는, 120℃에서의 저장 탄성률이 50MPa 이하이면 바람직하고, 20MPa 이하이면 더욱 바람직하다. 또한, 저장 탄성률의 하한으로는, 0.5MPa 이상인 것이 바람직하다. 여기서, 120℃에서의 저장 탄성률이 특정한 수치 범위 내이면, 필름의 임의의 한 방향, 및 그 방향에 직교하는 방향의 양 방향에서 그 수치 범위 내에 있는 것을 의미한다.
120℃에서의 저장 탄성률을 100MPa 이하로 하는 방법으로는, 유리 전이 온도가 120℃ 이하인 층의 합계 두께를, 필름 전체 두께를 100%로 해서 50% 이상의 두께로 하는 것이 바람직하다. 유리 전이 온도가 110℃ 이하인 층의 합계 두께가 50% 이상이면 더욱 바람직하고, 유리 전이 온도가 105℃ 이하인 층의 합계 두께가 50% 이상이면 특히 바람직하다. 1개의 층 중에 복수의 수지가 혼합되어 있는 경우 등과 같이, 유리 전이 온도가 복수 존재하는 경우에는, 고온측의 유리 전이 온도를 그 층의 유리 전이 온도로 한다.
즉, 제1 성형용 필름에 있어서, 75℃에서의 저장 탄성률을 1000MPa 이상 3000MPa 이하로 하고, 또한 120℃에서의 저장 탄성률을 100MPa 이하로 하기 위한 방법으로는, 예를 들면 유리 전이 온도가 80℃ 이상 120℃ 이하인 층의 합계 두께를 50% 이상으로 하고, 필름 전체 조성 100질량%에 대하여 폴리에틸렌계 수지 및/또는 폴리프로필렌계 수지의 합계 함유량을 50질량% 미만으로 하는 방법이 이용된다.
[제2 성형용 필름]
[광택도]
제2 성형용 필름은, 필름을 장식에 이용한 경우에 성형 부재(장식 후의 제품의 부재)의 표면 외관이 양호해지는 관점에서, 적어도 한쪽면의 광택도(60°)가 100 이상이다. 여기서, 광택도(60°)란, JIS Z-8741-1997에 준거하여, 입사각, 수광각을 60°로 설정해서 측정한 광택도이다. 표면 외관을 보다 양호하게 하기 위해서는, 적어도 한쪽면의 광택도(60°)가 130 이상인 것이 바람직하고, 155 이상이 더욱 바람직하다. 적어도 한쪽면의 광택도(60°)의 상한은 특별히 제한이 없지만, 200을 넘으면 필름 표면의 마찰 계수가 높아져서, 롤로서의 권취가 곤란해지는 경우가 있으므로, 200 이하가 바람직하다.
적어도 한쪽면의 광택도(60°)를 100 이상으로 하는 방법으로는, 필름 제막시에, 평활한 표면을 갖는 캐스트 롤을 사용하는 방법 등이 있다. 평활한 표면을 갖는 캐스트 롤의 사용에 의해, 평활한 롤면이 캐스트 필름에 전사되기 때문에, 성형용 필름의 캐스트 롤 접촉면측의 광택도가 향상된다.
필름 제막시에 평활한 표면을 갖는 캐스트 롤을 사용하여 광택도를 상기 범위로 하기 위해서는, 캐스트 롤 표면의, JIS B-0601-2001에 준거하여 측정한 산술 평균 조도(Ra)가 50nm 이하인 것이 바람직하다. 산술 평균 조도(Ra)는 40nm 이하가 더욱 바람직하고, 20nm 이하가 특히 바람직하다. 또한, 캐스트 롤의 산술 평균 조도(Ra)의 하한은 특별히 제한이 없지만, 필름의 롤 권취성을 고려하면, 5nm 이상이 바람직하다.
캐스트 롤의 표면 조도는, 캐스트 롤 표면의 연삭 상태에 따라 원하는 표면 조도를 얻을 수 있다. 특히 연삭 후에 버프 연마 공정을 거치면 보다 정밀도 좋게 표면성을 제어할 수 있으므로 바람직하다. 또한, 캐스트 롤의 표면 조도를 측정하는 방법으로는, 트리아세틸셀룰로오스 등을 유기 용매에 용해시킨 것을 롤면에 압착, 건조시켜 롤 표면 형상을 전사시킨 샘플을 복제 샘플로서 제조하여, 그 복제 샘플의 표면 조도를 측정하는 방법 등을 들 수 있다.
또한, 캐스트 롤의 평활성을 필름에 보다 강하게 전사시켜 제2 성형용 필름의 광택도를 더 높이는 방법으로는, 와이어상 전극을 이용하여 정전 인가에 의해 필름을 캐스트 롤에 밀착시키는 방법, 필름 제조시에 캐스트 롤 상의 필름을 니프롤로 눌러 붙이는 방법 등을 사용할 수 있다.
제2 성형용 필름을 전사박에 이용하는 경우, 광택도(60°)가 100 이상인 면에, 후술하는 클리어층, 장식층, 접착층 등을 적층하여 성형하면, 우수한 표면 외관의 성형 부재를 얻을 수 있다. 따라서, 제2 성형용 필름은, 광택도(60°)가 100 이상인 면이 한쪽면만이거나 양면이어도 상관없다.
다만, 제2 성형용 필름을 성형 전사박으로서 이용하는 경우, 성형 부재의 수율의 관점에서는, 필름의 양면이 광택도(60°) 100 이상인 것이 바람직하다. 제2 성형용 필름을 성형 전사박으로서 이용하는 경우, 장식층이나 클리어층 등의 적층 결점이 있으면 성형 부재의 외관 불량으로 되어 제품 손실이 발생해버린다. 따라서, 성형 전에 장식층이나 클리어층의 적층 결점을 미리 찾아 놓으면, 적층 결점 부위를 성형체(피착체)(장식 전의 수지 성형체)에 대한 전사 부분에서 어긋나게 하여 성형시킬 수 있기 때문에, 제품 손실의 발생을 줄일 수 있다. 또한, 성형 전사박을 성형기에 세팅할 때는, 성형 전사박의 클리어층, 장식층, 접착층 등을 적층한 면을 성형체(피착체)측을 향해 행한다. 그리고, 성형체(피착체)는 일반적으로 성형기 박스 내의 하측에 놓여진다. 그 때문에, 성형 전에 성형용 필름의 적층 결점을 확인할 때는, 제2 성형용 필름의, 클리어층, 장식층, 접착층 등을 적층하지 않은 면측에서 결점을 찾아낼 필요가 있다. 광택도(60°)가 100 이상인 면이 한쪽면만이고, 다른 한쪽면의 광택도(60°)가 100 미만인 경우, 장식층이나 클리어층 등의 색에 따라서는, 클리어층, 장식층, 접착층 등을 적층하지 않은 면측에서 성형 전사박의 적층 결점을 찾아내기 어려운 경우가 있다.
필름의 양면이 광택도(60°) 100 이상이면, 필름 표면의 마찰 계수가 높아져서, 롤 권취가 곤란해지는 경우가 있다. 이 경우에는 필름의 표면에 보호 필름을 붙여 권취해도 상관없다. 보호 필름으로는 특별히 한정되지 않지만, 보호 필름 표면의 조도가 성형용 필름에 전사될 가능성이 있기 때문에, 예를 들면 광학 용도로 이용되는 폴리올레핀계의 자기 점착성 필름이나, 실리콘 수지 등의 박리성 부여재를 코팅한 PET 필름 등, 표면 평활성이 우수한 필름이 바람직하게 이용된다.
한편, 권취성의 관점에서는, 광택도(60°)가 100 이상인 면을 한쪽면만으로 하고, 다른 한쪽면을 거칠게 하는 방법이 있다. 필름의 표면을 거칠게 하는 방법으로는, 필름을 적층 구성으로 하여, 한쪽층에 충전재 등의 윤활제를 첨가하는 방법이나, 필름 제조시에, 캐스트 롤 상의 필름을 표면이 거친 니프롤로 누르는 방법 등을 들 수 있다.
제2 성형용 필름을 제조할 때의 캐스트 롤, 및 니프롤에 이용되는 재료는 특별히 제한은 없지만, 광택면을 형성하고자 하는 경우에는 금속 재료가 바람직하고, 또한 권취성 향상을 위해 표면을 거칠게 하고자 하는 경우에는 고무 재료가 바람직하다.
[인열 전파 저항]
제2 성형용 필름은, 내인열성의 관점에서, JIS K-7128-2-1998에 준거하여 측정한 인열 전파 저항이 10N/mm 이상이다. 제2 성형용 필름을 성형 전사박으로서 이용한 경우, 성형용 필름에 장식층을 형성하여, 성형과 동시에 성형체(피착체)에 장식층을 전사한 후, 성형체(피착체)로부터 성형용 필름을 박리한다. 인열 전파 저항이 10N/mm 미만이면, 성형용 필름을 박리할 때에 필름이 찢어져 버려, 작업성이 저하되어 버리는 경우가 있다. 성형용 필름을 성형 전사박에 이용하는 경우의 작업성을 향상시키기 위해서는, 인열 전파 저항은 15N/mm 이상이 바람직하고, 20N/mm 이상이 더욱 바람직하고, 30N/mm 이상이 특히 바람직하고, 40N/mm 이상이 가장 바람직하다. 또한, 인열 전파 저항의 상한은 특별히 제한이 없지만, 성형용 필름이 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 하고 있는 것을 고려하면, 100N/mm 이하가 된다. 여기서, 인열 전파 저항이 특정한 수치 범위 내라는 것은, 필름의 임의의 한 방향, 및 그 방향에 직교하는 양쪽 방향에서 그 수치 범위 내에 있는 것을 의미한다.
인열 전파 저항을 10N/mm 이상으로 하기 위한 방법으로는, 성형용 필름에 환상 올레핀계 수지 이외의 올레핀 수지를 함유시키는 방법이나, 성형용 필름에 포함되는 환상 올레핀계 수지 중의, 환상 올레핀 단량체 유래 성분의 비율을 내리는 방법 등을 들 수 있다.
인열 전파 저항을 10N/mm 이상으로 하기 위해서, 성형용 필름에 환상 올레핀계 수지 이외의 올레핀 수지를 함유시키는 경우, 환상 올레핀계 수지 이외의 올레핀 수지로서, 저밀도 폴리에틸렌, 중밀도 폴리에틸렌, 고밀도 폴리에틸렌, 선상 저밀도 폴리에틸렌, 메탈로센 촉매를 사용하여 중합한 에틸렌-α·올레핀 공중합체와 같은 각종 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌, 에틸렌-프로필렌 공중합체, 에틸렌-프로필렌-부텐 공중합체와 같은 각종 폴리프로필렌계 수지, 메틸펜텐 중합체 등의 폴리올레핀계 수지를 사용할 수 있다. 또한, 에틸렌, 프로필렌, 부텐-1, 펜텐-1, 4-메틸펜텐-1, 헥센-1, 옥텐-1 등의 α-올레핀 단량체로 이루어지는 중합체, 상기 α-올레핀 단량체로 이루어지는 랜덤 공중합체, 상기 α-올레핀 단량체로 이루어지는 블록 공중합체 등도 사용할 수 있다. 그 중에서도, 환상 올레핀계 수지와의 상용성의 관점에서, 각종 폴리에틸렌계 수지, 각종 폴리프로필렌계 수지가 바람직하게 이용된다. 또한, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지 중에서도, 환상 올레핀계 수지와의 상용성의 관점에서, 폴리에틸렌계 수지가 바람직하게 이용되고, 고밀도 폴리에틸렌, 선상 저밀도 폴리에틸렌이 더욱 바람직하게 이용되고, 선상 저밀도 폴리에틸렌이 특히 바람직하게 이용된다.
인열 전파 저항을 10N/mm 이상으로 하기 위해서는, 환상 올레핀계 수지 이외의 올레핀 수지를 필름 전체 100질량%에 대하여 1질량% 이상 40질량% 이하 함유시키는 것이 바람직하고, 1질량% 이상 30질량% 이하이면 더욱 바람직하고, 1질량% 이상 20질량% 이하이면 특히 바람직하다.
인열 전파 저항을 10N/mm 이상으로 하기 위해서, 성형용 필름에 포함되는 환상 올레핀계 수지 중의 환상 올레핀 단량체 유래 성분의 함유량을 낮추는 경우, 환상 올레핀계 수지의 중합체 100질량% 중에서, 환상 올레핀 단량체 유래 성분의 함유량은 85질량% 이하가 바람직하고, 80질량% 이하가 더욱 바람직하고, 75질량% 이하가 특히 바람직하다. 또한, 환상 올레핀 단량체 유래 성분의 함유량의 하한은, 환상 올레핀계 수지의 중합체 100질량% 중에서 50질량%이다.
[제1 및 제2 성형용 필름]
[환상 올레핀계 수지, 폴리에틸렌계 수지 및 폴리프로필렌계 수지의 함유량]
제1 및 제2 성형용 필름은, 인성, 품위, 표면 외관을 만족하기 위해서, 층 전체에 대하여 환상 올레핀계 수지를 50질량% 이상 100질량% 이하, 폴리에틸렌계 수지 및/또는 폴리프로필렌계 수지를 합쳐서 1질량% 이상 40질량% 이하 함유하는 A층과, A층의 적어도 한쪽면에 적층되고 층 전체에 대하여 환상 올레핀계 수지를 50질량% 이상 100질량% 이하 함유하는 B층으로 구성되어 있는 것이 바람직하다. 여기서, "폴리에틸렌계 수지 및/또는 폴리프로필렌계 수지를 합쳐서"란, 폴리에틸렌계 수지 또는 폴리프로필렌계 수지의 한쪽만을 함유하는 경우에는, 각각의 함유량이고, 폴리에틸렌계 수지와 폴리프로필렌계 수지 양쪽을 함유하는 경우에는, 양쪽의 합계의 함유량이다.
환상 올레핀계 수지는 폴리에틸렌계 수지나 폴리프로필렌계 수지와 비교하면 인성이 낮은데, 폴리에틸렌계 수지나 폴리프로필렌계 수지를 함유시킴으로써, 인성을 개량할 수 있다. 한편, 폴리에틸렌계 수지나 폴리프로필렌계 수지를 함유시키면 표면 외관이 저하되는 경향이 있다. 이 때문에, 인성과 표면 외관을 양립하기 위해서, 성형용 필름을, B층이 필름의 최외층이 되는 적층 구성으로 하는 것이 바람직하다.
또한, 인성과 자기 유지성의 관점에서는, A층 중의 폴리에틸렌계 수지 및/또는 폴리프로필렌계 수지의 합계 함유량은, A층 전체를 100질량%로 해서, 1질량% 이상 30질량% 이하이면 바람직하고, 1질량% 이상 20질량% 이하이면 더욱 바람직하다.
또한, 표면 외관의 관점에서는, B층은, 폴리에틸렌계 수지 및/또는 폴리프로필렌계 수지를 B층 전체 100질량%에 대하여 합계 0질량% 이상 10질량% 이하만큼 함유하고 있는 것이 바람직하고, 0질량% 이상 5질량% 이하이면 더욱 바람직하다. 특히 바람직하게는, B층이 환상 올레핀계 수지만으로 구성되어 있는 것, 즉 B층 중의 폴리에틸렌계 수지 및/또는 폴리프로필렌계 수지의 합계 함유량이 0질량%이다.
[적층 구성]
성형용 필름을 적층 구성으로 한 경우, 인성, 자기 유지성, 표면 외관의 관점에서 적층비(B층의 합계 두께/A층)는 0.25 이상 1 이하인 것이 바람직하다. 또한, "B층의 합계 두께"란, B층이 1층만인 경우에는 그 B층의 두께이고, B층이 2층인 경우에는 그 2층의 합계 두께이다. 적층비(B층의 합계 두께/A층)는 0.4 이상 0.8 이하이면 더욱 바람직하다. 적층비는, 필름의 단면을 주사형 전자 현미경, 투과형 전자 현미경, 광학 현미경 등으로 500배 이상 10000배 이하의 배율로 관찰함으로써 측정할 수 있다.
제1 및 제2 성형용 필름은, 적층 구성으로 하는 경우 취급성을 더욱 향상시키기 위해서는, A층/B층의 2층 구성보다 B층/A층/B층의 3층 구성으로 하는 것이 바람직하다.
제1 및 제2 성형용 필름은, 적층 구성으로 하는 경우 가공시의 치수 안정성, 성형성의 관점에서, A층의 유리 전이 온도는 70℃ 이상 110℃ 이하가 바람직하다. A층의 유리 전이 온도가 70℃ 이상이면, 코팅, 라미네이트, 인쇄, 증착과 같은 가공 공정에서의 치수 변화를 억제할 수 있다. 또한, A층의 유리 전이 온도가 110℃ 이하이면 치수 안정성을 유지한 상태에서 우수한 성형성도 달성할 수 있다. 치수 안정성의 관점에서, A층의 유리 전이 온도는 75℃ 이상이 더욱 바람직하고, 80℃ 이상이 특히 바람직하다. 성형성의 관점에서, A층의 유리 전이 온도는 105℃ 이하가 더욱 바람직하고, 100℃ 이하가 특히 바람직하다. 또한, A층의 유리 전이 온도가 복수 존재하는 경우에는 고온측의 유리 전이 온도를 채용한다.
A층의 유리 전이 온도를 70℃ 이상 110℃ 이하로 하기 위해서는, 예를 들면 환상 올레핀계 수지로서, 노르보르넨과 에틸렌의 공중합체를 사용하는 경우, 노르보르넨의 함유량을 증가시켜 나감으로써 유리 전이 온도를 높일 수 있다. 또한, 노르보르넨의 함유량이 서로 다른 2종의 환상 올레핀계 수지를 블렌드시킴으로써도 A층의 유리 전이 온도를 조정할 수 있다.
또한, 특히 가공시의 치수 안정성이 엄격한 용도에 전개하는 경우에는, B층의 유리 전이 온도가 75℃ 이상 120℃ 이하이면서, 또한 A층의 유리 전이 온도보다 높은 것이 바람직하다. B층의 유리 전이 온도를 높게 할수록, 성형용 필름의 75℃ 및 120℃의 저장 탄성률은 높아져 가지만, B층의 유리 전이 온도를 상기한 범위로 함으로써, 성형성을 손상시키지 않고 가공시의 치수 변화를 보다 억제할 수 있다. 치수 안정성의 관점에서, B층의 유리 전이 온도는 80℃ 이상이 더욱 바람직하고, 90℃ 이상이 특히 바람직하다. 성형성의 관점에서, B층의 유리 전이 온도는 115℃ 이하가 더욱 바람직하고, 110℃ 이하가 특히 바람직하다. 또한, B층의 유리 전이 온도가 복수 존재하는 경우에는 고온측의 유리 전이 온도를 채용한다.
또한, 제1 및 제2 성형용 필름을 성형 전사박 용도로 사용하는 경우에는, 유리 전이 온도가 높을수록 이형성이 양호해지기 때문에, 이형성의 관점에서도 B층의 유리 전이 온도는 80℃ 이상이 바람직하다.
B층의 유리 전이 온도를 75℃ 이상 120℃ 이하로 하고, 동시에 A층의 유리 전이 온도보다 고온으로 하기 위해서는, 예를 들면 환상 올레핀계 수지로서, 노르보르넨과 에틸렌의 공중합체를 사용하는 경우, 노르보르넨의 함유량을 증가시켜 나감으로써 유리 전이 온도를 높일 수 있기 때문에, B층 중의 환상 올레핀계 수지의 노르보르넨 함유량을 A층 중의 환상 올레핀계 수지의 노르보르넨 함유량보다 많게 하는 방법을 들 수 있다.
또한, 제1 및 제2 성형용 필름은, 코팅, 라미네이트, 인쇄, 증착 등의 가공시의 온도 허용 범위를 넓게 하는 관점에서, 적층 구성으로 하고, 또한 B층이 A층보다 유리 전이 온도가 높은 것이 바람직하다. 성형용 필름이 단층 구성이면, 필름 온도를 상승시켜 나가면 유리 전이 온도 부근에서 급격한 저장 탄성률 저하가 나타난다. 그 때문에, 유리 전이 온도 부근에서 가공을 할 때에 가공 온도에 불균일이 있으면, 필름이 갑자기 변형되어 주름이 생겨버리는 경우가 있다. 한편, 성형용 필름을 적층 구성으로 하고, 또한 B층의 유리 전이 온도를 A층보다 높게 함으로써, 필름 온도를 상승시켰을 때의 저장 탄성률 저하가 완만해진다. 그 때문에, B층의 유리 전이 온도 부근에서도 가공 중의 필름 변형이나 주름의 발생을 억제할 수 있다. 즉, 가공시의 온도 불균일의 허용 범위도 넓어진다. A층과 B층의 유리 전이 온도차의 하한은 5℃ 이상이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 10℃ 이상이고, 특히 바람직하게는 20℃ 이상이다. 또한, 제막성의 관점에서, A층과 B층의 유리 전이 온도차의 상한은 50℃ 이하가 바람직하다.
[지방산 금속염]
제1 및 제2 성형용 필름은, 품위, 표면 외관의 관점에서 필름의 전체 성분의 합계 100질량%에 대하여 지방산 금속염을 0.01질량% 이상 0.5질량% 이하 함유하는 것이 바람직하다. 필름의 품위를 향상시키기 위해서는 폴리에틸렌계 수지나, 폴리프로필렌계 수지를 함유시킴으로써 압출 공정에서의 전단 응력을 저하시킬 수 있고, 가교에 의한 이물의 발생을 억제시킬 수 있으며, 또한 인성도 향상시킬 수 있다. 한편, 표면에 주름 형상의 불균일이 발생하기 쉬워진다. 이 때문에, 제1 및 제2 성형용 필름을, 특히 필름의 품위, 표면 외관이 엄격한 용도에 전개하기 위해서는, 지방산 금속염의 함유량을 상기한 범위로 하는 것이 바람직하다. 지방산 금속염을 0.01질량% 이상 0.5질량% 이하 함유시킴으로써, 폴리에틸렌계 수지나, 폴리프로필렌계 수지를 함유시켰을 때와 마찬가지로, 필름의 압출시의 환상 올레핀계 수지 조성물의 슬립성을 향상시킬 수 있기 때문에, 가교에 의한 이물의 발생을 억제시킬 수 있다. 이 때문에, 성형용 필름의 표면 외관이 향상하여, 성형 후의 성형 부재에 대해서도 우수한 표면 외관의 것을 얻을 수 있다.
여기서 지방산 금속염의 구체예로는, 아세트산나트륨, 아세트산칼륨, 아세트산마그네슘, 아세트산칼슘 등의 아세트산염, 라우르산나트륨, 라우르산칼륨, 라우르산수소칼륨, 라우르산마그네슘, 라우르산칼슘, 라우르산아연, 라우르산은 등의 라우르산염, 미리스트산리튬, 미리스트산나트륨, 미리스트산수소칼륨, 미리스트산마그네슘, 미리스트산칼슘, 미리스트산아연, 미리스트산은 등의 미리스트산염, 팔미트산리튬, 팔미트산칼륨, 팔미트산마그네슘, 팔미트산칼슘, 팔미트산아연, 팔미트산구리, 팔미트산납, 팔미트산탈륨, 팔미트산코발트 등의 팔미트산염, 올레산나트륨, 올레산칼륨, 올레산마그네슘, 올레산칼슘, 올레산아연, 올레산납, 올레산탈륨, 올레산구리, 올레산니켈 등의 올레산염, 스테아르산나트륨, 스테아르산리튬, 스테아르산마그네슘, 스테아르산칼슘, 스테아르산바륨, 스테아르산알루미늄, 스테아르산탈륨, 스테아르산납, 스테아르산니켈, 스테아르산베릴륨 등의 스테아르산염, 이소스테아르산나트륨, 이소스테아르산칼륨, 이소스테아르산마그네슘, 이소스테아르산칼슘, 이소스테아르산바륨, 이소스테아르산알루미늄, 이소스테아르산아연, 이소스테아르산니켈 등의 이소스테아르산염, 베헨산나트륨, 베헨산칼륨, 베헨산마그네슘, 베헨산칼슘, 베헨산바륨, 베헨산알루미늄, 베헨산아연, 베헨산니켈 등의 베헨산염, 몬탄산나트륨, 몬탄산칼륨, 몬탄산마그네슘, 몬탄산칼슘, 몬탄산바륨, 몬탄산알루미늄, 몬탄산아연, 몬탄산니켈 등의 몬탄산염 등을 사용할 수 있다. 이들은 1종류 또는 2종류 이상의 혼합물일 수도 있다. 특히, 스테아르산의 염류나 몬탄산의 염류가 바람직하게 이용되고, 특히, 스테아르산나트륨, 스테아르산칼슘, 스테아르산칼륨, 스테아르산아연, 스테아르산바륨, 몬탄산나트륨 등이 바람직하게 이용된다.
또한, 제1 및 제2 성형용 필름이, A층과 B층을 갖는 2층 이상의 적층 필름인 경우, 지방산 금속염은, A층, B층 중 어느 쪽 층에 함유시키더라도 효과가 있기 때문에 바람직하지만, 특히 B층에 함유하는 것은 품위, 표면 외관의 관점에서 매우 바람직하다.
[파단 신장도]
제1 및 제2 성형용 필름은, 성형성의 관점에서 120℃에서의 파단 신장도가 300% 이상인 것이 바람직하다. 제1 및 제2 성형용 필름은, 진공 성형, 압공 성형, 진공 압공 성형, 프레스 성형 등과 같은 다양한 성형 방법을 이용하여 성형할 수 있는데, 성형 부재의 의장성을 향상시키기 위해서, 코팅, 인쇄, 증착 등에 의해 장식층을 형성시키는 것이 바람직하다. 이들 장식층으로서 내열성이 낮은 것이라도 대응할 수 있게 하기 위해서는, 성형 온도로는 150℃ 이하가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 120℃ 이하다. 이 때문에, 성형용 필름의 120℃에서의 파단 신장도는 300% 이상이 바람직하다. 성형성과 치수 안정성의 관점에서, 120℃에서의 파단 신장도는 500% 이상이 더욱 바람직하고, 700% 이상이 특히 바람직하고, 800% 이상이 가장 바람직하다. 또한, 특히 딥드로잉 성형성이 요구되는 용도에 이용하는 경우에는, 1000% 이상인 것이 바람직하다. 성형성의 관점에서는, 120℃의 파단 신장도는 높은 것이 바람직하지만, 치수 안정성을 고려한 경우에는, 2000% 이하가 바람직하다. 여기서, 120℃에서의 파단 신장도가 특정한 수치 범위 내이면, 필름의 임의의 한 방향, 및 그 방향에 직교하는 방향의 양 방향에서 그 수치 범위 내에 있는 것을 의미한다.
120℃에서의 파단 신장도를 300% 이상으로 하는 방법으로는 특별히 한정되지 않지만, 유리 전이 온도가 110℃ 이하인 층의 합계 두께가 필름 전체 두께를 100%로 해서 50% 이상의 두께인 것이 바람직하다. 유리 전이 온도가 105℃ 이하인 층의 합계 두께가 50% 이상이면 더욱 바람직하고, 유리 전이 온도가 100℃ 이하인 층의 합계 두께가 50% 이상이면 특히 바람직하다. 또한, 1개의 층 중에 유리 전이 온도가 복수 존재하는 경우에는 고온측의 유리 전이 온도를 그 층의 유리 전이 온도로 한다.
[필름의 두께]
제1 및 제2 성형용 필름은, 생산 안정성, 성형성, 치수 안정성의 관점에서, 전체 두께가 20㎛ 이상 500㎛ 이하인 것이 바람직하다. 전체 두께의 하한은 50㎛ 이상이 더욱 바람직하고, 100㎛ 이상이 특히 바람직하다. 전체 두께의 상한은 400㎛ 이하가 더욱 바람직하고, 300㎛ 이하가 특히 바람직하다. 여기서, "전체 두께"란, 성형용 필름이 1층으로 구성되어 있는 경우에는 그 층의 두께이고, 2층 이상으로 구성되어 있는 경우에는 모든 층의 두께의 합계이다.
제1 및 제2 성형용 필름은, 성형성, 가공성의 관점에서 두께 불균일이 10% 이하인 것이 바람직하다. 두께 불균일을 10% 이하로 함으로써 균일하게 성형할 수 있고, 또한 코팅, 라미네이트, 인쇄, 증착 등의 가공시의 불균일을 억제할 수 있다. 성형용 필름의 두께 불균일을 10% 이하로 하는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 점착되지 않을 정도로 캐스트 온도를 높게 하는 방법, 캐스트 위치를 전방 캐스트로 하는 방법, 구금의 립 간극을 좁게 하는 방법 등을 들 수 있다. 두께 불균일은 8% 이하가 더욱 바람직하고, 5% 이하가 특히 바람직하다.
[산화 방지제]
제1 및 제2 성형용 필름은, 품위, 표면 외관의 관점에서 산화 방지제를 함유하는 것이 바람직하다. 산화 방지제를 함유함으로써, 압출 공정에서의 환상 올레핀계 수지의 산화 열화를 방지할 수 있고, 이물의 발생을 억제할 수 있다. 산화 방지제의 함유량은, 필름의 전체 성분의 합계 100질량%에 대하여 0.01질량% 이상 1질량% 이하가 바람직하다. 산화 방지제로는, 특별히 제한은 없고, 공지된 포스파이트계 산화 방지제, 유기 황계 산화 방지제, 힌더드페놀계 산화 방지제 등 어느 것이든 사용할 수 있다.
포스파이트계 산화 방지제로는 화학 구조식에 포스파이트를 포함하는 것, 구체적으로는, 예를 들면 이르가포스 38, 이르가포스 P-EPQ, 이르가포스 126(이상, 모두 시바 스페셜티 케미컬즈사 제조), 스밀라이저 TNP, 스밀라이저 TPP-P, 스밀라이저 P-16(이상, 모두 스미토모 가가꾸 고교사 제조), 아데카스탭 PEP-4C, 아데카스탭 PEP-8, 아데카스탭 11C, 아데카스탭 PEP-36, 아데카스탭 HP-11, 아데카스탭 260, 아데카스탭 522A, 아데카스탭 329K, 아데카스탭 1500, 아데카스탭 C, 아데카스탭 135A, 아데카스탭 3010(이상, 모두 아사히덴카 고교사 제조) 등을 들 수 있다.
유기 황계 산화 방지제로는 화학 구조식에 티오에테르를 포함하는 것, 구체적으로는, 예를 들면 시판품으로서 이르가녹스 PS800FL, 이르가녹스 PS802FL(이상, 모두 시바 스페셜티 케미컬즈사 제조), 스밀라이저 TP-M, 스밀라이저 TP-D, 스밀라이저 TL, 스밀라이저 MB(이상, 모두 스미토모 가가꾸 고교사 제조), 아데카스탭 AO-23(아사히덴카 고교사 제조) 등을 들 수 있다.
힌더드페놀계 산화 방지제로는 화학 구조식에 2,6-알킬페놀을 갖는 것, 구체적으로는, 예를 들면 시판품으로서 이르가녹스 245, 이르가녹스 259, 이르가녹스 565, 이르가녹스 1010, 이르가녹스 1035, 이르가녹스 1076, 이르가녹스 1098, 이르가녹스 1222, 이르가녹스 1330, 이르가녹스 1425, 이르가녹스 3114, 이르가녹스 1520, 이르가녹스 1135, 이르가녹스 1141, 이르가녹스 HP2251(이상, 모두 시바 스페셜티 케미컬즈사 제조), 스밀라이저 BHT, 스밀라이저 MDP-S, 스밀라이저 GA-80, 스밀라이저 BBM-S, 스밀라이저 WX-R, 스밀라이저 GM, 스밀라이저 GS(이상, 모두 스미토모 가가꾸 고교사 제조), 아데카스탭 AO-30(아사히덴카 고교사 제조) 등을 들 수 있다. 이들 산화 방지제는, 1종을 단독으로 이용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 이용할 수도 있다.
[기타 첨가제]
또한, 제1 및 제2 성형용 필름(적층 필름에서는, 그것을 구성하는 각 층)은 필요에 따라서 난연제, 열 안정제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 대전 방지제, 가소제, 점착성 부여제, 폴리실록산 등의 소포제, 안료 또는 염료 등의 착색제를 적정량 함유할 수 있다.
[성형 전사박]
제1 및 제2 성형용 필름은, 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 하고 있는 점에서, 표면 외관, 이형성이 우수하고, 성형 용도 중에서도 성형 전사박 용도에 바람직하게 이용된다. 제1 및 제2 성형용 필름에 장식층을 적층하여, 성형과 동시에 부재에 전사시킴으로써, 성형용 필름과 장식층이 용이하게 박리할 수 있어, 표면 외관이 우수한 성형 부재를 얻을 수 있다. 성형 전사박의 구성으로는, 특별히 한정되지 않지만, 성형용 필름에 장식층을 적층한 구성인 것이 바람직하다. 여기서, 장식층은, 착색, 무뉘 모양, 나무결조, 금속조, 펄조 등의 장식을 부가시키기 위한 층이다. 전사 후의 성형 부재(피착체)의 내상성, 내후성, 의장성의 관점에서는, 클리어층을 더 적층하는 것이 바람직하다. 이 경우, 클리어층은 성형용 필름측에 적층하는 것이 바람직하다. 또한, 전사 후의 성형 부재(피착체)와 장식층의 밀착성의 관점에서, 접착층을 적층하는 것이 바람직하다. 이 경우, 접착층은 피착체측에 적층하는 것이 바람직하다.
즉, 바람직한 양태로서, 성형용 필름/클리어층/장식층/접착층이라는 구성을 들 수 있다. 여기서 말하는 클리어층이란, 성형 부재의 최표층에 위치하는 층이며, 성형 부재의 외관을 향상시키기 위한 고광택, 고투명의 층을 말한다.
여기서, 클리어층으로서 사용되는 수지는, 고투명 수지이면 특별히 한정되지 않지만, 폴리에스테르계 수지, 폴리올레핀계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 불소계 수지, 폴리아세트산비닐계 수지, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체계 수지, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체계 수지 공중합체 등이 바람직하게 사용된다. 내상성의 관점에서, 열 경화 수지, 자외선 경화 수지, 열선 경화 수지가 바람직하게 이용된다. 또한, 클리어층에는 내후성을 향상시키기 위해서, 자외선 흡수제, 자외선 반사제를 첨가해도 상관없다.
또한, 클리어층은, 내상성, 의장성의 관점에서, 두께가 10㎛ 이상 100㎛ 이하인 것이 바람직하다. 두께의 가감은 15㎛ 이상이 더욱 바람직하고, 20㎛ 이상이 특히 바람직하다. 두께의 상한은 80㎛ 이하이면 더욱 바람직하고, 60㎛ 이하이면 특히 바람직하다.
클리어층의 형성 방법으로는, 직접 형성시키는 방법, 캐리어 필름에 일단 형성시켜, 전사시키는 방법 등을 들 수 있다. 클리어층을 형성시킨 후의 건조 온도가 고온으로 할 필요가 있는 경우에는, 일단 캐리어 필름에 형성시키고, 그 후, 전사시키는 방법이 바람직하게 이용된다. 클리어층의 형성 방법으로는, 롤러 도장법, 브러시 도장법, 스프레이 도장법, 침지 도장법 외에, 그라비아 코터, 다이 코터, 코머 코터, 바 코터, 나이프 코터를 이용한 방법을 들 수 있다. 또한, 제1 및 제2 성형용 필름은 환상 올레핀계 수지를 주성분으로 하고 있는 점에서, 톨루엔, 크실렌과 같은 방향족계 용제에 대한 내성이 낮기 때문에, 클리어층에 이용하는 용제로서 방향족계 용제를 사용하지 않는 구성으로 하는 것이 바람직하다.
장식층의 형성 방법으로는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 코팅, 인쇄, 금속 증착 등에 의해 형성할 수 있다. 코팅하는 경우에는, 그라비아 코팅법, 롤 코팅법, 코머 코팅법 등의 코팅법을 사용할 수 있다. 또한, 인쇄하는 경우에는, 오프셋 인쇄법, 그라비아 인쇄법, 스크린 인쇄법 등의 인쇄법을 이용할 수 있다. 이때 사용되는 수지로는, 폴리에스테르계 수지, 폴리올레핀계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 불소계 수지, 폴리아세트산비닐계 수지, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체계 수지, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체계 수지 공중합체 등이 바람직하게 사용된다. 사용되는 착색제로는 특별히 한정되지 않지만, 분산성 등을 고려하여, 염료, 무기 안료, 유기 안료 등에서 적절하게 선택된다.
코팅, 인쇄에 의해 형성되는 장식층의 두께로는, 성형 후의 색조 유지성, 의장성의 관점에서, 10㎛ 이상 100㎛ 이하인 것이 바람직하다. 두께의 하한은 15㎛가 더욱 바람직하고, 20㎛ 이상이 특히 바람직하다. 두께의 상한은 80㎛ 이하가 더욱 바람직하고, 60㎛ 이하가 특히 바람직하다.
또한, 장식층의 형성 방법이 금속 증착인 경우, 증착 박막의 제작 방법으로는 특별히 한정되지 않지만, 진공 증착법, EB 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등을 사용할 수 있다. 또한, 폴리에스테르 필름과 증착층의 밀착성을 향상시키기 위해서, 증착면을 미리 코로나 방전 처리나 앵커 코팅제를 도포하는 등의 방법에 의해 전처리해 두는 것이 바람직하다. 사용되는 금속으로는 성형 추종성의 점에서 융점이 150℃ 이상 400℃ 이하인 금속 화합물을 증착하여 사용하는 것이 바람직하다. 이 융점 범위의 금속을 사용함으로써, 본 발명의 성형용 필름을 성형할 수 있는 온도 영역에서, 증착한 금속층도 성형 가공을 할 수 있어, 성형에 의한 증착층 결점의 발생을 억제하기 쉬워지기 때문에 바람직하다. 더욱 바람직한 금속 화합물의 융점으로는 150℃ 이상 300℃ 이하다. 융점이 150℃ 이상 400℃ 이하인 금속 화합물로는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 인듐(157℃)이나 주석(232℃)이 바람직하고, 특히 인듐을 바람직하게 사용할 수 있다.
장식층의 적층 두께는, 0.001㎛ 이상 100㎛ 이하인 것이 바람직하다. 두께의 하한은 0.01㎛ 이상이 더욱 바람직하고, 0.02㎛ 이상이 특히 바람직하다. 두께의 상한은 80㎛ 이하가 더욱 바람직하고, 60㎛ 이하가 특히 바람직하다.
성형 수지에 대한 접착성을 부여할 목적으로 설치하는 접착층의 소재로는, 감열 타입 또는 감압 타입을 사용할 수 있다. 사출 성형 수지, 수지 성형체에 전사시키는 경우에는 수지에 맞춰서 접착층을 설계할 수 있다. 아크릴계 수지인 경우에는 아크릴계 수지, 폴리페닐렌옥시드·폴리스티렌계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 스티렌 공중합체계 수지, 폴리스티렌계 수지인 경우에는, 이들 수지와 친화성이 있는 아크릴계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리아미드계 수지 등을 이용하는 것이 바람직하다. 성형 수지가 폴리프로필렌계 수지인 경우에는, 염소화 폴리올레핀계 수지, 염소화 에틸렌-아세트산비닐 공중합체계 수지, 환화 고무, 쿠마론인덴계 수지를 이용하는 것이 바람직하다.
접착층의 형성 방법은 다양한 방법이 이용되며, 예를 들면 롤 코팅법, 그라비아 코팅법, 코머 코팅법 등의 코팅법, 또한 예를 들면 그라비아 인쇄법, 스크린 인쇄 등의 인쇄법이 이용된다.
제1 및 제2 성형용 필름을 이용한 성형 전사박을 사용하여 장식시키는 피착체로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 폴리프로필렌, 아크릴, 폴리스티렌, 폴리아크릴로니트릴·스티렌, 폴리아크릴로니트릴·부타디엔·스티렌 등과 같은 수지나, 금속 부재 등이 이용된다.
실시예
이하, 실시예에 따라서 본 발명을 설명하는데, 본 발명은 이들 실시예에 의해 제한되는 것이 아니다. 또한, 다양한 특성은 이하의 방법에 의해 측정하였다.
(1) 필름 전체 두께, 및 각 층의 두께
적층 필름의 전체 두께를 측정할 때는, 다이얼 게이지를 이용하여, 필름으로부터 잘라낸 시료의 임의의 장소 5개소의 두께를 측정하여 평균치를 구하였다.
또한, 적층 필름의 각 층의 층 두께를 측정할 때는, 라이카 마이크로 시스템(주) 제조 금속 현미경 LeicaDMLM을 이용하여, 필름의 단면을 배율 100배의 조건에서 투과광을 사진 촬영하였다. 그리고 촬영한 사진으로부터 적층 필름의 각 층마다 임의의 5개소의 두께를 측정하여, 그 평균치를 각 층의 층 두께로 하였다.
(2) 저장 탄성률
필름을 임의의 한 방향, 및 그 방향에 직교하는 방향으로 길이 60mm×폭 5mm의 직사각형으로 잘라내어 샘플로 하였다. 동적 점탄성 측정 장치(레올러지 제조, DVE-V4 FT 레오스펙트라)를 이용하여, 하기의 조건하에서, 각 방향의 75℃, 120℃에서의 저장 탄성률(E')을 구하였다.
주파수: 10Hz, 시험 길이: 20mm, 변위 진폭: 10㎛
측정 온도 범위: 25℃ 내지 160℃, 승온 속도: 5℃/분.
(3) 유리 전이 온도
시차 주사 열량계(세이코 덴시공업 제조, RDC220)를 이용하여, JIS K7121-1987, JIS K7122-1987에 준거하여 측정 및 해석을 행하였다.
필름 5mg을 샘플로 하였다. 필름의 특정층의 평가를 행하는 경우에는, 측정을 행하는 층을 5mg 깎아 샘플로 하였다. 샘플을 25℃에서부터 20℃/분으로 300℃까지 승온했을 때의 유리 상태로부터 고무 상태로의 전이에 기초하는 비열 변화를 판독했다. 각 베이스 라인이 연장된 직선으로부터 종축(열류를 나타내는 축) 방향으로 등거리에 있는 직선과, 유리 전이의 계단상 변화 부분의 곡선이 교차하는 점의 중간점 유리 전이 온도를 구하여, 유리 전이 온도로 하였다. 또한, 유리 전이 온도가 복수 존재하는 경우에는 고온측의 유리 전이 온도를 채용하였다.
(4) 120℃에서의 파단 신장도
필름을 임의의 한 방향, 및 그 방향에 직교하는 방향으로 길이 100mm×폭 10mm의 직사각형으로 잘라내어 샘플로 하였다. 인장 시험기(오리엔텍 제조 텐실론 UCT-100)를 이용하여, 초기 인장 처크간 거리 20mm로 하고, 인장 속도를 200mm/분으로 해서 필름의 길이 방향과 폭 방향으로 각각 인장 시험을 행하였다. 측정은 미리 120℃로 설정한 항온층 중에 필름 샘플을 세팅하여, 60초간의 예열 후에 인장 시험을 행하였다. 샘플이 파단되었을 때의 신장도를 파단 신장도로 하였다. 또한, 측정은 각 샘플, 각 방향으로 5회씩 행하여, 그 평균치로 평가를 행하였다.
(5) 두께 불균일
필름을 임의의 위치에서 200mm×300mm의 크기로 잘라내어 샘플로 하였다. 200mm의 방향에 대해 단부에서부터 20mm 간격으로 11점, 300mm의 방향에 대해서도 30mm 간격으로 11점, 총 121점의 두께를 측정하여, 최대치, 최소치, 평균치를 구하였다. 하기 식으로부터 두께 불균일을 구하였다.
·두께 불균일(%)={(최대치-최소치)/평균치}×100
(6) 품위
필름을 임의의 위치에서 200mm×300mm의 크기로 잘라내어 샘플로 하였다. 3파장 형광등 하에서 투과시켜 육안으로 관찰을 행하여, 긴 직경이 100㎛ 이상인 이물의 개수를 카운트하여, A4 크기당의 이물의 개수를 구하고, 이하의 기준으로 평가를 행하였다.
A: 이물의 개수가 10개 미만이었다.
B: 이물의 개수가 10개 이상 20개 미만이었다.
C: 이물의 개수가 20개 이상 30개 미만이었다.
D: 이물의 개수가 30개 이상이었다.
(7) 표면 외관
필름 스트레처(브루크너사 제조, KARO-IV)를 이용하여, 하기의 조건으로 필름을 연신하였다. 연신 후의 필름 표면 외관에 대해서, 이하의 기준으로 평가를 행하였다.
초기 샘플: 100mm×100mm, 예열·연신 온도: 120℃, 예열 시간: 20s, 연신 속도: 20%/s, 연신 배율: 2×2
A: 표면 광택이 매우 높고, 불균일이 전혀 관찰되지 않았다.
B: 표면 광택이 높고, 거의 불균일이 관찰되지 않았다.
C: 표면에 약간의 주름 형상의 불균일이 관찰되었다.
D: 표면에 현저한 주름 형상의 불균일이 관찰되었다.
(8) 도공성
필름을 임의의 위치에서 200mm×300mm의 크기로 잘라내어 샘플로 하였다. 샘플의 표면(A층과 B층을 갖는 적층 필름인 경우에는 B층측)에, 어플리케이터를 이용하여, 교에이샤 가가꾸 제조 UF-TCI-1을 도공하였다. 도공성에 대해서, 이하의 기준으로 평가를 행하였다.
A: 도포 불균일은 발생하지 않고, 도공성은 양호하였다.
B: 도포 불균일은 거의 발생하지 않고, 도공성은 문제없었다.
C: 도포 불균일이 약간 발생했지만, 실용상 문제없는 수준이었다.
D: 현저한 도포 불균일이 발생하였다.
(9) 성형성
필름을 임의의 위치에서 200mm×300mm의 크기로 잘라내어 샘플로 하였다. 샘플의 표면(A층과 B층을 갖는 적층 필름의 경우에는 A층측)에, 어플리케이터를 이용하여, 닛본 케미컬 제조 892L을 도공하고, 80℃에서 10분간 건조를 행하여, 도막 두께 20㎛인 접착층을 형성하였다. 얻어진 접착층 적층 필름을 400℃의 원적외선 히터를 이용하여, 120℃의 온도가 되도록 가열하고, 50℃로 가열한 폴리프로필렌제 수지형(저면 직경 150mm)을 따라 진공·압공 성형(압공: 0.2Ma)을 행하여, 필름/접착층/폴리프로필렌제 수지형의 구성체를 얻었다. 얻어진 구성체에 대해서, 형을 따라 성형할 수 있었던 상태(드로잉비: 성형 높이/저면 직경)를 이하의 기준으로 평가하였다. S, A, B 또는 C이면 합격 수준이다.
S: 드로잉비 1.0 이상으로 성형할 수 있었다.
A: 드로잉비 0.9 이상 1.0 미만으로 성형할 수 있었다.
B: 드로잉비 0.8 이상 0.9 미만으로 성형할 수 있었다.
C: 드로잉비 0.7 이상 0.8 미만으로 성형할 수 있었다.
D: 추종성이 낮아, 드로잉비 0.7의 형태로 성형할 수 없었다.
(10) 치수 안정성
필름을 임의의 한 방향 방향, 및 그 방향에 직교하는 방향으로 길이 50mm×폭 4mm의 직사각형으로 잘라내어 샘플로 하였다. 샘플을 열 기계 분석 장치(세이코 인스트루먼츠 제조, TMA EXSTAR6000)를 사용하여, 하기의 조건하에서 승온시켰다. 승온되고 있는 과정에서, 치수 변화율이 1%를 초과하는 온도에 따라, 이하의 기준으로 평가하였다.
시험 길이: 15mm, 하중: 19.6mN, 승온 속도: 5℃/분,
측정 온도 범위: 25 내지 220℃
·치수 변화율(%)={|시험 길이(mm)-유지 후의 필름 길이(mm)|/시험 길이(mm)}×100
A: 100℃ 이상
B: 90℃ 이상 100℃ 미만
C: 80℃ 이상 90℃ 미만
D: 80℃ 미만
(11) 이형성
필름을 임의의 위치에서 200mm×300mm의 크기로 잘라내어 샘플로 하였다. 샘플의 표면(A층과 B층을 갖는 적층 필름의 경우에는 B층측)에, 어플리케이터를 이용하여, 교에이샤 가가꾸 제조 UF-TCI-1을 도공하고, 80℃에서 10분간 건조를 행하여, 도막 두께 50㎛인 클리어층을 형성하였다. 또한, 클리어층의 위에 어플리케이터를 이용하여, 아크릴/우레탄계의 실버 잉크를 도공하고, 80℃에서 10분간 건조를 행하여, 도막 두께 30㎛인 장식층을 형성하였다. 또한 장식층의 위에, 어플리케이터를 이용하여, 닛본 케미컬 제조 892L을 도공하고, 80℃에서 10분간 건조를 행하여, 도막 두께 20㎛인 접착층을 형성하였다. 이와 같이 하여 성형 전사박을 얻었다.
얻어진 성형 전사박을 이용하여, (9)와 마찬가지로 해서 진공·압공 성형을 행하여, 성형용 필름/클리어층/장식층/접착층/폴리프로필렌 수지형의 구성체를 얻었다. 얻어진 구성체에 조사 강도가 2000mJ/cm2가 되도록 자외선을 조사하여 도포제를 경화시켰다. 이 구성체로부터, 임의의 한 방향으로 길이 100mm×폭 10mm의 직사각형으로 잘라내어 샘플로 하였다. 샘플의 성형용 필름과 클리어층의 일부를 박리시킨 후, 인장 시험기(오리엔텍제조 텐실론 UCT-100)를 이용하여, 성형용 필름측, 클리어층측(클리어층/장식층/접착층/폴리프로필렌제 수지형)을 각각 처크 사이에 끼운 후, 180°박리 시험을 행하였다. 박리시의 하중의 평균치를 구하여, 이하의 규준으로 판정하였다.
또한, 초기 처크간 거리 100mm, 인장 속도 300mm/분, 25℃에서, 필름의 임의의 한 방향, 및 그 방향에 직교하는 방향으로 각각 시험을 행하였다. 또한, 측정은 각 샘플, 각 방향으로 5회씩 행하여, 그 평균치로 평가를 행하였다.
A: 0N/10mm 이상 0.2N/10mm 미만
B: 0.2N/10mm 이상 0.5N/10mm 미만
C: 0.5N/10mm 이상 1N/10mm 미만
D: 1N/10mm 이상
(12) 인열 전파 저항
필름을 임의의 일 방향, 및 그 방향에 직교하는 방향으로 각각 75mm×63mm 잘라내어 샘플로 하였다. 중하중 인열 시험기(도요세이끼 제조)를 이용하여, JIS K-7128-2-1998을 따라 측정하였다. 샘플의 73mm의 변의 중앙부 위치에 단부에서부터 20mm의 깊이로 칼자국을 넣고, 나머지 43mm를 인열시켰을 때의 지시값을 판독하였다. 인열 강도로는, 지시값으로부터 구한 인열력(N)을 필름 두께(mm)로 나눈 값으로 하였다. 또한, 측정은 각 방향으로 10회씩 행하여, 그 평균치를 구하였다.
(13) 광택도
JIS Z-8741-1997에 규정된 방법에 따라서, 스가 시켄키 제조 디지털 변각 광택도계 UGV-5D를 이용하여, 60°경면 광택도를 측정하였다. 측정은 5회 행하여, 최대치와 최소치를 제외한 평균치를 광택도로 하였다.
(14) 내인열성
(11)과 마찬가지로 하여 성형 전사박을 제조하고, 드로잉비 0.7로 성형, UV 조사를 행한 후에, 성형용 필름을 성형 부재로부터 손으로 박리하였다. 또한, 박리 부위는 성형용 필름과 성형 부재 중의 클리어층의 사이이다. 마찬가지의 조작을 10회 행하여, 성형용 필름이 찢어져 한번에 필름이 성형 부재로부터 박리되지 않은 횟수로 평가를 행하였다.
S: 없음
A: 1회
B: 2회
C: 3회
D: 4회 이상
(15) 캐스트 롤의 표면 조도(Ra)
두께 80㎛의 트리아세틸셀룰로오스 필름(비오덴 RFA 트리아세틸셀룰로오스/용제: 아세트산메틸)을 이용하고, 트리아세틸셀룰로오스 필름을 캐스트 롤면에 압착 롤러로 선압 9.8N/cm를 가하여, 캐스트 롤의 표면 형상을 전사시킨 것을 실온에서 용제를 건조하여, 이 복제 샘플을 측정 샘플로 하였다.
상기 측정 샘플의 캐스트 롤 표면 형상을 전사시킨 면측을, 표면 조도계(고사카연구소 제조, SE4000)를 이용하여 측정하였다. 촉침 선단 반경 0.5㎛, 측정력 100μN, 측정 길이 1mm, 저영역 컷오프 0.200mm, 고영역 컷오프 0.000mm의 조건으로 측정하여, JIS B-0601-2001에 준거해서 산술 평균 조도(Ra)를 구하였다.
(실시예에서 사용한 수지, 및 첨가제)
각 실시예·비교예에서 사용한 수지, 및 첨가제는 이하와 같다.
(환상 올레핀계 수지 A)
폴리플라스틱스사 제조 TOPAS(등록상표) 8007 F-04를 이용하였다.
(환상 올레핀계 수지 B)
폴리플라스틱스사 제조 TOPAS(등록상표) 6013 F-04를 이용하였다.
(환상 올레핀계 수지 C)
폴리플라스틱스사 제조 TOPAS(등록상표) 9506 F-04를 이용하였다.
(폴리에틸렌계 수지)
프라임 폴리머사 제조 에볼류(등록상표) SP2540을 이용하였다.
※ 표에서는, PE라고 표기하였다.
(폴리프로필렌계 수지)
프라임 폴리머사 제조 P204를 이용하였다.
※ 표에서는, PP라고 표기하였다.
(스테아르산아연)
나카라이테스크사 제조 스테아르산아연을 이용하였다.
(스테아르산칼슘)
나카라이테스크사 제조 스테아르산칼슘을 이용하였다.
(산화 방지제)
시바 스페셜티 케미컬즈사 제조 이르가녹스 1010을 이용하였다.
(실시예 1)
A층의 단층 구성으로 하였다. 표 1과 같은 조성으로 수지를 혼합하여, 단축 압출기(L/D=28)에 공급하였다. 여기서, L/D는, 스크류의 유효 길이(L)를 스크류 직경(D)으로 나눈 값을 말한다. 스크류 유효 길이(L)란, 호퍼 하부의 홈의 시작부터 선단까지의 스크류의 길이를 가리킨다. 공급부 온도 220℃, 그 이후의 온도를 230℃에서 용융하여, 여과 정밀도 30㎛의 리프 디스크 필터를 통과시켰다. 이어서, T 다이(립 간극: 0.4mm)로부터, 40℃에 온도 제어한 경면 드럼(표면 조도 0.2s) 상에 시트상으로 토출하였다. 그때, 캐스트 위치는 드럼의 정상에서부터 전방 10°로 하고, 직경 0.1mm의 와이어상 전극을 사용하여 정전 인가하여, 냉각 드럼에 밀착시켰다. 이와 같이 하여, 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
(실시예 2)
A층의 단층 구성으로 하였다. 조성을 표 1과 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 1과 비교하면, A층의 유리 전이 온도가 높아졌기 때문에, 120℃의 저장 탄성률이 커졌지만, 성형성은 동일하였다. 한편, A층의 유리 전이 온도가 높아졌기 때문에, 75℃의 저장 탄성률이 커지고, 치수 안정성과 이형성은 좋아졌다.
(실시예 3)
A층의 단층 구성으로 하였다. 조성을 표 1과 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 2와 비교하면, A층의 유리 전이 온도가 더 높아졌기 때문에, 120℃의 저장 탄성률이 커지고, 성형성은 나빠졌다. 한편, A층의 유리 전이 온도가 더 높아졌기 때문에, 75℃의 저장 탄성률이 커지고, 치수 안정성과 이형성은 좋아졌다.
(실시예 4)
A층의 단층 구성으로 하였다. 조성을 표 2와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 3과 비교하면, A층의 유리 전이 온도가 더 높아졌기 때문에, 120℃의 저장 탄성률은 커졌지만, 성형성은 동일하였다. 또한, A층의 유리 전이 온도가 높아졌기 때문에, 75℃의 저장 탄성률이 커졌지만, 치수 안정성과 이형성은 동일하였다.
(실시예 5)
A층의 단층 구성으로 하였다. 조성을 표 2와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 4와 비교하면, A층의 유리 전이 온도가 더 높아졌기 때문에, 120℃의 저장 탄성률이 커지고, 성형성은 나빠졌다. 한편, A층의 유리 전이 온도가 높아졌기 때문에, 75℃의 저장 탄성률이 커졌지만, 치수 안정성과 이형성은 동일하였다.
(실시예 6)
A층의 단층 구성으로 하였다. 조성을 표 2와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 5와 비교하면, A층의 유리 전이 온도가 더 높아졌기 때문에, 120℃의 저장 탄성률이 커지고, 성형성은 나빠졌다. 한편, A층의 유리 전이 온도가 높아졌기 때문에, 75℃의 저장 탄성률이 커졌지만, 치수 안정성과 이형성은 동일하였다.
(실시예 7)
A층의 단층 구성으로 하였다. 조성을 표 3과 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 1과 비교하면, A층의 유리 전이 온도가 높아졌기 때문에, 120℃의 저장 탄성률이 커지고, 성형성이 나빠졌다. 한편, A층의 유리 전이 온도가 높아졌기 때문에, 75℃의 저장 탄성률이 커지고, 치수 안정성과 이형성은 좋아졌다.
또한, 실시예 1과 비교하면, A층의 폴리에틸렌계 수지 함유량이 증가했기 때문에, 필름 표면에 주름 형상의 불균일이 발생하기 쉬워져, 표면 외관은 나빠졌다. 한편, A층의 폴리에틸렌계 수지 함유량이 증가했기 때문에, 압출 공정에서의 전단 응력 저하에 의한 이물 억제 효과가 높아져서, 품위는 좋아졌다.
(실시예 8)
A층의 단층 구성으로 하였다. 조성을 표 3과 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
A층의 유리 전이 온도가 동일한 실시예 4와 비교하면, A층이 폴리에틸렌계 수지를 함유하지 않기 때문에, 압출 공정에서의 전단 응력 저하에 의한 이물 억제 효과가 낮아져, 품위는 나빠졌다. 한편, A층이 폴리에틸렌계 수지를 함유하지 않기 때문에, 필름 표면에 주름 형상의 불균일이 발생하기 어려워져, 표면 외관은 좋아졌다.
(실시예 9)
A층의 단층 구성으로 하였다. 조성을 표 3과 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 8과 비교하면, A층이 스테아르산아연을 함유하고 있기 때문에, 압출시의 환상 올레핀계 수지 조성물의 슬립성 향상에 따른 이물 억제 효과에 의해, 품위가 좋아졌다.
또한, A층의 유리 전이 온도가 동일한 실시예 4와 비교하면, A층이 폴리에틸렌계 수지를 함유하지 않기 때문에, 필름 표면에 주름 형상의 불균일이 발생하기 어려워져, 표면 외관은 좋아졌다. 또한, A층이 스테아르산아연을 함유하고 있기 때문에, 압출시의 환상 올레핀계 수지 조성물의 슬립성 향상에 따른 이물 억제 효과에 의해, 품위는 좋아졌다.
(실시예 10)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 각 층의 조성을 표 4와 같이 하여, 각각 단축 압출기(L/D=28)에 공급하였다. 공급부 온도 220℃, 그 이후의 온도를 230℃에서 용융하여, 여과 정밀도 30㎛의 리프 디스크 필터를 통과시켰다. 그 후, 다이의 상부에 설치한 피드 블록 내에서 B층/A층/B층(적층 두께 비는 표 참조)이 되도록 적층한 후, T 다이(립 간극: 0.4mm)로부터, 40℃로 온도 제어한 경면 드럼(표면 조도 0.2s) 상에 시트상으로 토출하였다. 그때, 캐스트 위치는 드럼의 정상에서부터 전방 10°로 하고, 직경 0.1mm의 와이어상 전극을 사용해서 정전 인가하여, 냉각 드럼에 밀착시켰다. 이와 같이 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 1과 비교하면, 표층(B층)에 폴리에틸렌계 수지를 함유하지 않기 때문에, 압출시의 환상 올레핀계 수지 조성물의 슬립성 향상에 따른 이물 억제 효과에 의해, 품위는 좋아졌다. 또한, 표층(B층)에 폴리에틸렌계 수지를 함유하지 않기 때문에, 필름 표면에 주름 형상의 불균일이 발생하기 어려워져, 표면 외관은 좋아졌다.
또한, 실시예 1과 비교하면, A층의 유리 전이 온도는 실시예 1과 동일하게 80℃인데, B층/A층/B층의 적층 구성으로 해서, 표층(B층)의 유리 전이 온도를 80℃보다 높게 했기 때문에, 75℃의 저장 탄성률이 커지고, 치수 안정성과 이형성이 좋아졌다. 한편, 표층(B층)의 유리 전이 온도를 80℃보다 높게 했기 때문에, 120℃의 저장 탄성률도 커졌지만, 성형성은 동일하였다.
(실시예 11)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 각 층의 조성을 표 4와 같이 한 것 이외에는, 실시예 10과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 10과 비교하면, 표층(B층)의 유리 전이 온도를 높게 했기 때문에, 75℃의 저장 탄성률이 커지고, 치수 안정성과 이형성은 좋아졌다. 한편, 표층(B층)의 유리 전이 온도를 높게 했기 때문에, 120℃의 저장 탄성률도 커졌지만, 성형성은 동일하였다.
(실시예 12)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 각 층의 조성을 표 4와 같이 한 것 이외에는, 실시예 10과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 11과 비교하면, 표층(B층)의 유리 전이 온도를 더 높게 했기 때문에, 75℃의 저장 탄성률은 커졌지만, 치수 안정성과 이형성은 동일하였다. 또한, 표층(B층)의 유리 전이 온도를 더 높게 했기 때문에, 120℃의 저장 탄성률도 커졌지만, 성형성은 동일하였다.
(실시예 13)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 각 층의 조성을 표 5와 같이 한 것 이외에는, 실시예 10과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 12와 비교하면, 표층(B층)의 유리 전이 온도를 더 높게 했기 때문에, 75℃의 저장 탄성률은 커졌지만, 치수 안정성, 이형성은 동일하였다. 또한, 표층(B층)의 유리 전이 온도를 더 높게 했기 때문에, 120℃의 저장 탄성률도 커졌지만, 성형성은 동일하였다.
(실시예 14)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 각 층의 조성을 표 5와 같이 한 것 이외에는, 실시예 10과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 13과 비교하면, 표층(B층)의 유리 전이 온도를 더 높게 했기 때문에, 75℃의 저장 탄성률은 커졌지만, 치수 안정성, 이형성은 동일하였다. 한편, 표층(B층)의 유리 전이 온도를 더 높게 했기 때문에, 120℃의 저장 탄성률이 커지고, 성형성이 나빠졌다.
(실시예 15)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 각 층의 조성을 표 5와 같이 한 것 이외에는, 실시예 10과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
B층의 유리 전이 온도가 동일한 실시예 11과 비교하면, 중간층(A층)의 유리 전이 온도가 높아졌기 때문에, 75℃의 저장 탄성률이 커졌지만, 치수 안정성과 이형성은 동일하였다. 또한, 중간층(A층)의 유리 전이 온도가 높아졌기 때문에, 120℃에서의 저장 탄성률도 높아졌지만, 성형성은 동일하였다.
(실시예 16)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 각 층의 조성을 표 6과 같이 한 것 이외에는, 실시예 10과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 12와 비교하고, A층의 폴리에틸렌계 수지를 폴리프로필렌계 수지로 변경하였다. 각종 평가는 실시예 12와 동일하였다.
(실시예 17)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 각 층의 조성을 표 6과 같이 한 것 이외에는, 실시예 10과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 12와 비교하여, B층의 스테아르산아연을 스테아르산칼슘으로 변경하였다. 각종 평가는 실시예 12와 동일하였다.
(실시예 18)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 각 층의 조성을 표 6과 같이 한 것 이외에는, 실시예 10과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 17과 비교하여, 적층비(B층/A층)를 작게 하였다. 각종 평가는 실시예 17과 동일하였다.
(실시예 19)
B층/A층의 2층 구성으로 하였다. 각 층의 조성을 표 7과 같이 한 것 이외에는, 실시예 10과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 18과 비교하여, 층 구성을 A층/B층/A층의 3층 구성에서 B층/A층의 2층 구성으로 변경하였다. 각종 평가는 실시예 18과 동일하였다.
(실시예 20)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 각 층의 조성을 표 7과 같이 한 것 이외에는, 실시예 10과 마찬가지로 하여 필름 두께 150㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 18과 비교하여, 적층비는 동일한 상태 그대로 A층 및 B층 각각의 두께를 두껍게 하였다. 각종 평가는 실시예 18과 동일하였다.
(실시예 21)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 각 층의 조성을 표 7과 같이 한 것 이외에는, 실시예 10과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 12와 비교하여, B층의 스테아르산아연을 산화 방지제로 변경하였다. 각종 평가는 실시예 12와 동일하였다.
(실시예 22)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 각 층의 조성을 표 8과 같이 하여, 각각 단축 압출기(L/D=28)에 공급하였다. 공급부 온도 220℃, 그 이후의 온도를 230℃에서 용융하여, 여과 정밀도 30㎛의 리프 디스크 필터를 통과시켰다. 이어서, 다이의 상부에 설치한 피드 블록 내에서 B층/A층/B층(적층 두께 비는 표를 참조)이 되도록 적층한 후, T 다이(립 간극: 0.4mm)로부터, 40℃로 온도 제어한 경면 드럼(표면 조도 0.2s) 상에 시트상으로 토출하였다. 그때, 캐스트 위치는 드럼의 정상으로 하고, 직경 0.1mm의 와이어상 전극을 사용해서 정전 인가하여, 냉각 드럼에 밀착시켰다. 이와 같이 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 11과 비교하면, 캐스트 위치를 드럼의 전방 10°에서 드럼의 정상으로 변경했기 때문에, 필름의 두께 불균일이 커져, 도공성이 나빠졌다.
(실시예 23)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. T 다이의 립 간격을 0.8mm로 한 것 이외에는 실시예 22와 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 22와 비교하면, 립 간극을 넓게 했기 때문에, 필름의 두께 불균일이 커져, 도공성이 나빠졌다.
(실시예 24)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. T 다이의 립 간격을 0.8mm로 하고, 경면 드럼의 온도를 25℃로 제어한 것 이외에는, 실시예 22와 마찬가지로 하여, 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다. 다시 말해서, 경면 드럼의 온도를 25℃로 제어한 것 이외에는, 실시예 23과 마찬가지로 하여, 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다
실시예 22와 비교하면, 캐스트 온도를 낮게 했기 때문에, 필름의 두께 불균일이 커져, 도공성이 나빠졌다. 또한, 실시예 22와 비교하면, 필름의 두께 불균일이 커지고, 120℃ 파단 신장도가 저하되었기 때문에, 성형성이 나빠졌다.
(비교예 1)
A층의 단층 구성으로 하였다. 조성을 표 9와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 1과 비교하면, A층의 유리 전이 온도가 80℃ 미만이고, 75℃ 저장 탄성률이 1000MPa 미만이기 때문에, 치수 안정성, 이형성에 있어서 가장 낮은 평가가 되었다.
(비교예 2)
A층의 단층 구성으로 하였다. 조성을 표 9와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 6과 비교하면, A층의 유리 전이 온도가 120℃보다 높고, 120℃ 저장 탄성률이 100MPa을 넘기 때문에, 성형성이 가장 낮은 평가가 되었다.
(비교예 3)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 각 층의 조성을 표 9와 같이 한 것 이외에는, 실시예 10과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 1과 비교하면, 유리 전이 온도가 80℃ 이상인 층의 합계 두께가 필름 전체 두께의 50% 미만이고, 75℃ 저장 탄성률이 1000MPa 미만이기 때문에, 치수 안정성과 이형성이 가장 낮은 평가가 되었다. 또한, 표층(B층)에 폴리에틸렌계 수지, 지방산 금속염 모두 함유하지 않기 때문에, 품위가 가장 낮은 평가가 되었다.
(비교예 4)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 각 층의 조성을 표 10과 같이 한 것 이외에는, 실시예 10과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
실시예 15 등과 비교하여 중간층(A층), 표층(B층)의 유리 전이 온도가 모두 120℃보다 높고, 120℃ 저장 탄성률이 100MPa을 넘기 때문에, 성형성이 가장 낮은 평가가 되었다.
(비교예 5)
A층의 단층 구성으로 하였다. 각 층의 조성을 표 10과 같이 한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
A층 중의 환상 올레핀계 수지의 함유량이 50질량% 미만이고, 또한 75℃ 저장 탄성률이 1000MPa 미만이기 때문에, 표면 외관과 치수 안정성이 가장 낮은 평가가 되었다.
(참고 실시예 1)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 각 층의 조성을 표 11과 같이 하여, 각각 단축 압출기(L/D=28)에 공급하였다. 공급부 온도 220℃, 그 이후의 온도를 230℃에서 용융하여, 여과 정밀도 30㎛의 리프 디스크 필터를 통과시켰다. 이어서, 다이의 상부에 설치한 피드 블록 내에서 B층/A층/B층이 되도록 적층한 후, T 다이(립 간극: 0.4mm)로부터, 40℃로 온도 제어한 경면의 캐스트 롤(표면 조도 0.2s) 상에 시트상으로 토출하였다. 그때, 캐스트 위치는 롤의 정상에서부터 전방 10°로 하고, 직경 0.1mm의 와이어상 전극을 사용해서 정전 인가하여 롤에 밀착시켰다. 이와 같이 하여, 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
(참고 실시예 2)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 필름 제조시에 정전 인가를 하지 않고, 경면의 캐스트 롤 상에서 필름을 고무 롤로 니프한 것 이외에는, 참고 실시예 1과 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다.
참고 실시예 1과 비교하면, 고무 롤로 니프했기 때문에, 비캐스트 롤면의 광택도가 저하되었지만, 각종 평가는 참고 실시예 1과 동일하였다.
(참고 실시예 3)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 캐스트 롤의 표면 조도를 0.5s로 변경 한 것 이외에는, 참고 실시예 2와 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다.
참고 실시예 2와 비교하면, 캐스트 롤의 표면 조도를 높게 했기 때문에, 캐스트 롤면측의 광택도가 저하되었지만, 각종 평가는 참고 실시예 2와 동일하였다.
(참고 실시예 4)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 캐스트 롤의 표면 조도를 0.7s로 변경한 것 이외에는, 참고 실시예 2와 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다.
참고 실시예 3과 비교하면, 캐스트 롤의 표면 조도를 더 높게 했기 때문에, 캐스트 롤면측의 광택도가 저하되어, 표면 외관이 나빠졌다.
(참고 실시예 5)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 조성을 표 13과 같이 변경한 것 이외에는, 참고 실시예 1과 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다.
참고 실시예 1과 비교하면, 중간층(A층)의 폴리에틸렌계 수지 함유량을 증가시켰기 때문에, 120℃ 파단 신장도가 저하되어, 성형성이 나빠졌다. 한편, 인열 전파 저항이 커졌기 때문에, 내인열성이 좋아졌다.
(참고 실시예 6)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 적층비를 표 13과 같이 변경한 것 이외에는, 참고 실시예 1과 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다.
참고 실시예 1과 비교하면, 유리 전이 온도가 낮은 A층의 두께가 두꺼워지고, 유리 전이 온도가 높은 B층의 두께가 얇아졌기 때문에, 120℃ 파단 신장도가 증가했지만, 각종 평가는 참고 실시예 1과 동일하였다.
(참고 실시예 7)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 조성을 표 13과 같이 변경한 것 이외에는, 참고 실시예 1과 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다.
참고 실시예 1과 비교하면, 중간층(A층)의 폴리에틸렌계 수지 함유량을 증가시켰기 때문에, 필름 표면에 주름 형상의 불균일이 발생하기 쉬워져, 표면 외관이 나빠졌다. 또한, 120℃ 파단 신장도가 저하되었기 때문에, 성형성이 나빠졌다. 한편, 인열 전파 저항이 커졌기 때문에, 내인열성이 좋아졌다.
(참고 실시예 8)
A층의 단층 구성으로 하였다. 표 14와 같은 조성으로 수지를 혼합하여, 단축 압출기(L/D=28)에 공급하였다. 공급부 온도 220℃, 그 이후의 온도를 230℃에서 용융하여, 여과 정밀도 30㎛의 리프 디스크 필터를 통과시켰다. 이어서, T 다이(립 간극: 0.4mm)로부터, 40℃로 온도 제어한 경면의 캐스트 롤(표면 조도 0.2s) 상에 시트상으로 토출하였다. 그때, 캐스트 위치는 롤의 정상에서부터 전방 10°로 하고, 직경 0.1mm의 와이어상 전극을 사용해서 정전 인가하여 롤에 밀착시켰다. 이와 같이 하여, 필름 두께 100㎛의 성형용 필름을 얻었다.
참고 실시예 1과 비교하면, 필름의 표면이 되는 층이 폴리에틸렌계 수지를 함유하고 있기 때문에, 필름 표면에 주름 형상의 불균일이 발생하기 쉬워져, 표면 외관이 나빠졌다.
(참고 실시예 9)
A층의 단층 구성으로 하였다. 조성을 표 14와 같이 변경한 것 이외에는, 참고 실시예 8과 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다.
참고 실시예 8과 비교하면, A층 중의 폴리에틸렌계 수지 함유량이 저하되었기 때문에, 압출 공정에서의 전단 응력 저하에 따른 이물 억제 효과가 낮아져, 품위가 나빠졌다. 한편, 필름 표면에 주름 형상의 불균일이 발생하기 어려워져, 표면 외관이 좋아졌다.
(참고 실시예 10)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 조성을 표 14와 같이 변경한 것 이외에는, 참고 실시예 1과 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다.
참고 실시예 1과 비교하면, 중간층(A층)의 폴리에틸렌계 수지 함유량을 증가시켰기 때문에, 필름 표면에 주름 형상의 불균일이 발생하기 쉬워져, 표면 외관이 나빠졌다. 또한, 120℃ 파단 신장도가 저하되어, 성형성이 나빠졌다. 인열 전파 저항이 커졌기 때문에, 내인열성이 좋아졌다.
(참고 실시예 11)
A층의 단층 구성으로 하였다. 조성을 표 15와 같이 변경한 것 이외에는, 참고 실시예 8과 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다.
참고 실시예 8에 비교하여 A층의 폴리에틸렌계 수지를 폴리프로필렌계 수지로 변경하였다. 각종 평가는 참고 실시예 8과 동일하였다.
(참고 실시예 12)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 두께를 표 15와 같이 변경한 것 이외에는, 참고 실시예 1과 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다.
참고 실시예 1과 비교하면, 두께가 두꺼워져, 인열 전파 저항 및 120℃ 파단 신장도가 증가했지만, 각종 평가는 참고 실시예 1과 동일하였다.
(참고 실시예 13)
B층/A층의 2층 구성으로 하였다. 층 구성을 변경한 것 이외에는, 참고 실시예 1과 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다.
참고 실시예 1과 비교하여 층 구성을 변경했지만, 각종 평가는 참고 실시예 1과 동일하였다.
(참고 실시예 14)
A층의 단층 구성으로 하였다. 조성을 표 16과 같이 변경한 것 이외에는, 참고 실시예 8과 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다.
참고 실시예 1과 비교하면, 필름의 표면이 되는 층이 폴리에틸렌계 수지를 함유하고 있기 때문에, 필름 표면에 주름 형상의 불균일이 발생하기 쉬워져, 표면 외관이 나빠졌다. 또한, A층의 유리 전이 온도를 높게 했기 때문에, 120℃ 파단 신장도가 저하되어 성형성이 나빠졌다.
(참고 실시예 15)
A층의 단층 구성으로 하였다. 조성을 표 16과 같이 변경한 것 이외에는, 참고 실시예 8과 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다.
참고 실시예 14와 비교하면, A층의 유리 전이 온도를 높게 했기 때문에, 120℃ 파단 신장도가 저하되어, 성형성이 나빠졌다.
(참고 실시예 16)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 조성을 표 17과 같이 변경한 것 이외에는, 참고 실시예 1과 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다.
참고 실시예 1과 비교하면, 표면층(B층)의 유리 전이 온도를 높게 했기 때문에, 120℃ 파단 신장도가 저하되어, 성형성이 나빠졌다.
(참고 실시예 17)
B층/A층/B층의 3층 구성으로 하였다. 조성을 표 17과 같이 변경한 것 이외에는, 참고 실시예 1과 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다.
참고 실시예 1과 비교하면, 표면층(B층)의 유리 전이 온도를 낮게 하여, 120℃ 파단 신장도가 증가했지만, 각종 평가는 참고 실시예 1과 동일하였다.
(참고 실시예 18)
A층의 단층 구성으로 하였다. 조성을 표 17과 같이 변경한 것 이외에는, 참고 실시예 8과 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다.
참고 실시예 8과 비교하면, 표면층(B층)의 유리 전이 온도를 높게 했기 때문에, 인열 전파 저항이 작아져 내인열성이 나빠지고, 120℃ 파단 신장도가 저하되어 성형성이 나빠졌다.
또한, 참고 실시예 8과 비교하면, A층 중의 폴리에틸렌계 수지 함유량을 많게 했지만, A층의 유리 전이 온도를 높게 한 영향이 더 커서, 압출 공정에서의 전단 응력 저하에 따른 이물 억제 효과에 의한 품위 양호화나, 인열 전파 저항의 증가에 의한 내인열성 양호화는 나타나지 않았다.
(참고 비교예 1)
A층의 단층 구성으로 하였다. 필름 제조시에 정전 인가를 하지 않고, 캐스트 롤 상에서 필름을 고무 롤로 니프하고, 캐스트 롤의 표면 조도를 1.2S로 변경한 것 이외에는, 참고 실시예 8과 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다. 어느 면이든 광택도가 100 미만이 되었기 때문에, 표면 외관이 참고 실시예 1 내지 18보다 나빠졌다.
(참고 비교예 2)
A층의 단층 구성으로 하였다. 캐스트 롤의 표면 조도를 1.5S로 변경한 것 이외에는, 참고 비교예 1과 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다. 어느 면이든 광택도가 100 미만이 되고, 또한 캐스트 롤측의 광택도가 참고 비교예 1보다 낮기 때문에, 표면 외관에 있어서 가장 낮은 평가가 되었다.
(참고 비교예 3)
A층의 단층 구성으로 하였다. 조성을 표 18과 같이 변경한 것 이외에는, 참고 실시예 8과 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다. A층의 유리 전이 온도가 높고, 인열 전파 저항이 10N/mm 미만이기 때문에, 내인열성과 성형성이 모두 참고 실시예 1 내지 18보다 떨어지는 결과가 되었다.
(참고 비교예 4)
A층의 단층 구성으로 하였다. 조성을 표 19와 같이 변경한 것 이외에는, 참고 실시예 8과 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다. A층의 유리 전이 온도가 높고, 인열 전파 저항이 10N/mm 미만이기 때문에, 또한 인열 전파 저항이 참고 비교예 3보다 작기 때문에, 내인열성과 성형성이 가장 낮은 평가가 되었다.
(참고 비교예 5)
A층의 단층 구성으로 하였다. 조성을 표 19와 같이 변경한 것 이외에는, 참고 실시예 8과 마찬가지로 하여 성형용 필름을 얻었다. A층 중의 환상 폴리올레핀계 수지의 함유량이 50질량% 미만이고, 폴리프로필렌계 수지의 함유량이 50질량%를 넘었기 때문에, 캐스트 롤면, 비캐스트 롤면측 모두 광택도가 저하되었다. 또한, 성형 후에 폴리프로필렌계 수지의 영향에 의해 표면 외관이 참고 실시예 1 내지 18보다 나빠졌다.
또한, 표에서의 저장 탄성률, 파단 신장도, 인열 전파 저항에 대해서는, 임의의 한 방향 및 그것에 직교하는 방향에 대한 측정 결과를 기록하고 있다.
본 발명의 성형용 필름은, 코팅, 라미네이트, 인쇄, 증착 등의 가공시에 우수한 치수 안정성을 나타내고, 또한 진공 성형, 압공 성형, 프레스 성형과 같은 각종 성형 방법에서, 양호한 성형성을 달성할 수 있기 때문에, 다양한 성형 가공 공정에 적용할 수 있고, 예를 들면 건재, 자동차 부품이나 휴대 전화, 전기 제품, 유기기 부품 등의 성형 부재의 장식에 바람직하게 사용할 수 있다.
Claims (6)
- 필름 전체에 대하여 환상 올레핀계 수지를 50질량% 이상 100질량% 이하 함유하고, 75℃에서의 저장 탄성률이 1000MPa 이상 3000MPa 이하, 120℃에서의 저장 탄성률이 100MPa 이하이고, 치수 변화율이 1%를 초과하는 온도가 80℃ 이상인, 성형용 필름.
- 제1항에 있어서, 상기 필름이,
층 전체에 대하여 환상 올레핀계 수지를 50질량% 이상 99질량% 이하, 폴리에틸렌계 수지 및/또는 폴리프로필렌계 수지를 합쳐서 1질량% 이상 40질량% 이하 함유하는 A층과,
A층의 적어도 한쪽면에 적층되며, 층 전체에 대하여 환상 올레핀계 수지를 50질량% 이상 100질량% 이하 함유하는 B층
을 포함하는, 성형용 필름. - 제2항에 있어서, 상기 A층의 유리 전이 온도가 70℃ 이상 110℃ 이하인, 성형용 필름.
- 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 B층의 유리 전이 온도가 75℃ 이상 120℃ 이하이며, A층의 유리 전이 온도보다 고온인, 성형용 필름.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 필름 전체에 대하여 지방산 금속염을 0.01질량% 이상 0.5질량% 이하 함유하는, 성형용 필름.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항의 성형용 필름의 적어도 한쪽면에 클리어층, 장식층 및 접착층이 성형용 필름측에서 이 순서대로 적층된 성형 전사박.
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