KR101654535B1 - 광학용 투명 감압 접착체와 광학용 투명 감압 접착 적층제 및 그 제조방법 - Google Patents

광학용 투명 감압 접착체와 광학용 투명 감압 접착 적층제 및 그 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 광학 부품에 부착하여 사용되는 광학용 투명 감압 접착체와 광학용 투명 감압 접착 적층체 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 광학 부품에 부착하여 사용할 경우에, 투명 감압 접착체 양면과 박리 시트와의 박리 부위 선택성이 안정될 수 있고, 재부착(re-pasting)하는 리워크(rework) 작업의 경우도, 투명 감압 접착체 양면의 박리 부위 선택성이 안정적이면서 용이하게 발현하는 높은 감압 접착성의 광학용 투명 감압 접착체와 광학용 투명 감압 접착 적층체 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
감압 접착성(pressure-sensitive adhesive property)이 서로 다른 감압 접착면(pressure-sensitive adhesive surface: a)과 감압 접착면(b)을 포함하며, 부가반응(addition reaction)형 실리콘 겔로 형성된 광학용 투명 감압 접착체(optical transparent pressure-sensitive adhesive body)로서, 감압 접착면(a)의 감압 접착 성능(Ga)과 감압 접착면(b)의 감압 접착 성능(Gb)의 관계가 Ga < Gb 이고, JIS Z0237에 따른 경사식 볼텍 시험(tilt type ball tack test: 경사각 30도)의 볼 넘버가 5 내지 32이고 볼 넘버의 차이가 2 내지 12이며, 감압 접착면(a) 및 감압 접착면(b)은 상기 부가반응형 실리콘 겔의 미경화 원료를 다른 박리 필름(A)과 박리 필름(B)에 부착시켜 가열경화 시키고, 박리 필름(A)과 박리 필름(B)의 상기 부착면에는 지방산 아미드계 첨가제를 가지는 박리 처리층을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체를 제공한다.

Description

광학용 투명 감압 접착체와 광학용 투명 감압 접착 적층제 및 그 제조방법 {OPTICAL TRANSPARENT PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE MATERIAL, OPTICAL TRANSPARENT PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE LAMINATE, AND PROCESS FOR PRODUCING SAME}
본 발명은, 광학 부품에 부착하여 사용되는 광학용 투명 감압 접착체와 광학용 투명 감압 접착 적층체 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 광학 부품에 부착하여 사용할 경우, 투명 감압 접착체 양면과 박리 시트와의 박리 부위 선택성이 안정될 수 있다. 또한, 광학 부품에서 투명 감압 접착체를 제거하고, 재부착(re-pasting)하는 리워크(rework) 또는, 광학 부품의 재사용(리사이클) 시에는, 투명 감압 접착체 양면의 박리 부위 선택성이 안정적이면서 용이하게 발현하는 높은 감압 접착성의 광학용 투명 감압 접착체와 광학용 투명 감압 접착 적층체 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 투명 감압 접착체 시트를 부착(pasting)하여 광학 부품을 조립할 때, 취급성이나 대량생산(automation)의 향상을 위하여, 투명 감압 접착 시트와 박리 시트와의 박리 부위 선택성이 안정되어 얻는 것이 중요하다. 또한, 수율을 향상시킴으로써, 환경과 자원 보호, 생산 비용 절감을 고려하는 제품 설계가 보다 중요시되고, 광학 부품의 조립시, 리워크나, 리사이클까지 고려하여 설계한 생산 시스템은, 광학 부품에서 투명 감압 접착 시트를 제거할 때 박리 부위 선택성이 안정적으로 발현하는 것이 중요해진다.
투명 감압 접착 시트와 박리 시트의 박리 부위 선택성을 위해서, 종래부터, 투명 감압 접착 시트의 앞뒷면(surface side and back side)에 부착되는 박리 시트의 박리력을 바꾸는 방법으로는, 예를 들면, 앞뒷면에서 박리 시트의 종류를 바꾸는 방법과, 투명 감압 접착 시트의 한 면에 표면 처리를 가하여, 투명 감압 접착 시트의 감압 접착성을 바꾸는 방법이 사용되어 왔다.
그러나, 앞뒷면에서 박리 시트의 종류를 바꾸는 방법은, 감압 접착 시트의 박리면의 선택성을 안정화할 수 있지만, 광학 부품에 부착 후, 다른 박리 필름을 박리 할 때의 안정성까지 최적화하기 위해서, 박리 시트와 투명 감압 접착 시트의 감암 접착성을 일치(matching)시키려면, 다양한 시험과 검증이 필요하며, 실용화에 큰 문제가 발생된다. 또한, 투명 감압 접착 시트의 사양 또는 피접착 물질 등의 설계 변경이 될 때, 재검토의 필요성이 요구되며, 경험적인 매칭(matching)에 의존할 수 밖에 없었다.
또한, 표면 처리를 가하여 투명 감압 접착 시트의 감압 접착성을 바꾸는 방법은, 표면 처리 공정이 증가하는 대신 대량생산이 떨어지고, 또한 감압 접착성을 조절하는 것이 어려울 수 있으며, 특수한 장치나 환경에 바람직하지 않은 용매를 사용하는 일도 많았다.
또한, 상기의 방법 등은 조립시, 리워크와 광학 부품의 리사이클링과 회수(recovery)를 고려하지 않았다.
종래부터, 광학 부품용 감압 접착성 시트와 접착성 시트에 대하여, 여러 가지가 제안되어 왔다. 예를 들면, 특허 문헌 1에서는 액정 표시 패널과 상기 액정 표시 패널을 보호하는 투명 보호판 사이에 설치할 수 있는 높은 가시성(visibility), 충격 흡수성 및 생산성을 제공하며, 설치 시에는, 공기가 포함되는 것을 방지하고, 감압 접착을 가능하게 하기 위해서, JIS Z0237에 따른 경사식 볼텍 시험(ball-tack test)의 볼 넘버가 5 내지 30(경사각: 30도)인 투명 겔을 포함하고, 바람직하게는, 침입도가 20 내지 160(JIS K2207, 50g 하중)인 실리콘 겔인 것을 특징으로 하는 광 투과성 감압 접착 시트가 제안되어 왔다. 또한, 특허 문헌 2에서는, 양면에 밀착되어 있는 보호 필름을 박리 할 때, 박리면이 안정적인 가교 실리콘계(cross-linked silicone type) 접착성 시트 및 이러한 시트를 효율적으로 제조하는 방법을 제공하기 위해, 막의 두께가 100 ㎛이하이고, 양면에 보호 필름을 밀착하고 있는 가교 실리콘계 접착성 시트이며, 상기 시트에 대한 상기 보호 필름의 박리력이 각각 5.0 N/m 이하이며, 상기 보호 필름의 박리력의 차이가 0.2 N/m 이상인 것을 특징으로 하는 가교 실리콘계 접착성 시트 및 가교성 실리콘 조성물을 서로 이종의 재질로 구성된 2장의 보호 필름 사이에, 상기 조성물의 두께가 100 ㎛ 이하가 되도록 끼운 상태에서, 필름모양으로 성형한 뒤, 상기 조성물을 가교하여 가교 실리콘계 접착성 시트를 제조하는 방법이 제안되고 있다.
화상 표시 장치에 통합할 감압 접착 시트는, 실제 생산 라인에서, 감압 접착면 보호를 위한 박리 필름이 적층된 감압 접착 시트가 제공되고, 감압 접착 시트는 박리 필름을 박리하여 피착체(예를 들면, 액정 디바이스)에 붙을 수 있다. 하지만, 상기 특허 문헌 1에 기재된 감압 접착 시트는, 감압 접착 시트의 앞뒷면에서 박리면 선택성(peeling site selectivity)이 없고, 화상 표시장치의 대량 생산화에 있어서는 설치 사양에 따라 그때마다 최적의 박리 시트를 검색해야 하므로, 신속하고 안정적으로 대량생산에 대응할 수 없다.
또한, 특허 문헌 2에 기재된 가교 실리콘계 접착성 시트는 박리 시트의 박리 부위 선택성과 피착체의 접착력이 우수하여 특허 문헌 1의 과제는 해결되지만, 100 ㎛ 이하의 두께를 가지는 시트, 소위 감압 접착 테이프를 가정한 기술과, 100 ㎛ 이상의 시트, 소위 접착 테이프를 가정한 기술로서, 특히 점탄성을 가지는 시트에서, 안정된 박리 부위 선택성을 실현하여 얻을 수 없었다. 또한, 대량생산으로 인해 불가피한 불량품의 리워크 작업에서 재부착할 때도, 우수한 재박리성이나 박리 부위 선택성을 확보하는 것이 고려되지 않았다.
리워크 작업이 필요한 예로는, 디스플레이에 이용되는 경우, 재부착 작업 동안, 기포가 포획된 상태, 상기 기포에 의해 디스플레이의 휘도, 밝음, 색이 불균일하게 표시 되기 때문에, 재부착하는 등의 작업이 필요하게 되고, 또는, 부착(pasting) 위치의 엇갈림이나 외관 흠짓에 의해 부품 교환을 위해 재부착하는 등의 작업이 필요할 수 있다.
따라서, 상기의 문제점과 불편에 대응하여, 부착 시, 투명 감압 접착체 시트와 박리 시트와의 박리 부위의 선택성이 안정적으로 얻을 수 있는 것이 요구되며, 또한, 광학 부품으로부터 투명 감압 접착체 시트를 제거하여, 재부착하는 리워크 시에는, 투명 감압 접착체 시트 양면에 박리 부위 선택성이 안정적으로 용이하게 발현하는 성능이 요구되고 있다.
상기와 같은 요구에 대해서, 본 출원인은, 감압 접착 부가형 실리콘 원료를 앞뒷면이 다른 박리 필름과 접촉시키거나 한 면을 공기 접촉시켜 경화시킴으로써, 볼텍 넘버 3 내지 15의 감압 접착 특성의 범위에서 앞뒷면이 다른 감압 접착성을 가지는 광학용 투명 감압 접착체가 단층에서 앞뒷면이 다른 감압 접착성과 앞뒷면에서 박리 선택성을 가지는 동시에, 리워크 할 때, 박리 부위 선택성을 갖고 있는 광학용 투명 감압 접착체와 상기 광학용 투명 감압 접착체와 박리 필름을 적층하여 얻어지는 광학용 투명 감압 접착 적층제 및 그 제조 방법은 이미 제안되어 왔다(특허2007-297782호).
본 제안은 종래의 과제를 해결하여 뛰어난 박리 선택성과 리워크의 실현이 가능해졌다. 그러나, 최근 LCD(액정 디스플레이) 등의 피착물과 광학용 투명 감압 접착체의 부착이 상세하게 검토되는 가운데, 부착 후의 완전한 밀착 안정성이 장기간 요구되어 왔다. 또한, 이러한 관점에서, 높은 감압 접착성을 가지는 광학용 투명 감암 접착체가 요구되어 왔다. 예를 들면, 피착체로서 LCD와 상기LCD를 보호하는 투명 보호판을 광학용 투명 감압 접착체를 통해 감압 또는 진공부착 했을 경우, 감압 접착력이 충분하지 않다면, 피착물의 두께나 평활성의 격차와 관련하여 부착 후의 부착된 적층체(pasted laminate) 내에서 잔류 응력이 발생한다. 부착 후, 잔류 응력에 의해, 감압 접착체와 상기 피착체의 부착 계면에 기포가 발생하고, 화상 표시장치로서 치명적인 불량을 일으키는 문제가 있었다. 또한, 최근, 화상 표시장치용의 투명 보호 시트에 다양한 표면 처리(예를 들면, low reflection film treatment (AR처리))가 이루어지기 때문에, 감압 접착체와 감압 접착성이 낮은 것이 적용되고 있는 경우가 있으며, 상기의 부착 불량의 발생을 억제하는 관점에서, 보다 높은 감압 접착성을 가지는 광학용 투명 감압 접착체가 요구되고 있다.
그러나, 광학용 투명 감압 접착 재료를 볼텍 시험의 볼 넘버 15를 초과하는 정도의 높은 감압 접착성으로 한다면, 박리 필름의 박리력(벗김 강도)도 커지고, 기존의 불소계, 알키드계, 실리콘계와 같은 하는 가벼운 박리성이 현저하게 뛰어난 박리 필름을 사용해도, 우수한 박리 선택성의 실현은 어렵다고 판명되었다.
그러므로, 앞뒷면이 다른 감압 접착성과 박리 선택성을 포함하는 높은 감압 접착성의 광학용 투명 감압 접착체와 상기 높은 감압 접착성의 광투과 감압 접착체와 박리 필름을 적층해서 되는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착 적층체의 개발이 강하게 요구되고 있다.
특허 문헌 1: 특개2006-290960호공보 특허 문헌 2: 특개2003-176462호공보
따라서, 본 발명은 이러한 종래 기술의 문제점과 과거로부터 요청되어 온 기술적 과제를 해결하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은, 부착 시에는, 투명 감압 접착체 양면과 박리 시트의 박리 부위 선택성이 안정될 수 있고, 광학 부품으로부터 투명 감압 접착체를 제거하여, 재부착하는 리워크 시에도, 투명 감압 접착체 양면의 박리 부위 선택성이 안정적이고 쉽게 발현되었고, 또한, 부착 후의 밀착 안정성도 뛰어난, 높은 감압 접착성의 광학용 투명 감압 접착체와 광학용 투명 감압 접착 적층체 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은, 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여, 심도 있는 연구를 거듭하였다. 그 결과, 박리 시트와 함께 경화된 높은 감압 접착성의 투명 감압 접착체 시트와 해당 박리 시트의 벗김 강도에 관하여, 높은 감압 접착성의 투명 감압 접착체 시트의 양면에, 특정의 차이를 제공하는 것과 동시에, 박리 시트를 박리 한 후, 투명 감압 접착체 시트의 양면의 감압 접착에 특정 차이를 갖게 함으로써, 리워크 안정성을 제공하였다. 또한, 안정적이고 가벼운 박리성을 실현하기 위해서, 여러 가지의 박리 처리제의 검토를 거듭한 결과, 높은 감압 접착성의 투명 감압 접착체 시트와 특정의 박리 처리제의 특정의 조합이, 바람직하게는, 지방산 아미드계 박리 처리제가, 높은 감압 접착성의 투명 감압 접착체에서, 안정되고 가벼운 박리성을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 또한, 본 발명에 있어서 "높은 감압 접착성"이란, 상기의 "JIS Z0237에 따른 경사식 볼텍 시험(경사각: 30도)에 있어서의 볼 넘버가 5 내지 32 범위의 감압 접착성"을 의미한다.
즉, 본 발명의 제 1 측면에 의하면, 감압 접착성(pressure-sensitive adhesive property)이 서로 다른 감압 접착면(pressure-sensitive adhesive surface: a)과 감압 접착면(b)을 포함하며, 부가반응(addition reaction)형 실리콘 겔로 형성된 광학용 투명 감압 접착체(optical transparent pressure-sensitive adhesive body)로서, 감압 접착면(a)의 감압 접착 성능(Ga)과 감압 접착면(b)의 감압 접착 성능(Gb)의 관계가 Ga < Gb 이고, JIS Z0237에 따른 경사식 볼텍 시험(tilt type ball tack test: 경사각 30도)의 볼 넘버가 5 내지 32이고 볼 넘버의 차이가 2 내지 12이며, 감압 접착면(a) 및 감압 접착면(b)은 상기 부가반응형 실리콘 겔의 미경화 원료를 다른 박리 필름(A)과 박리 필름(B)에 밀착시켜 가열경화 시키고, 박리 필름(A)과 박리 필름(B)의 상기 밀착면에는 지방산 아미드계 첨가제를 가지는 박리 처리층을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체가 제공된다.
또한, 본 발명의 제 2 측면에 의하면, 감압 접착성이 서로 다른 감압 접착면(a)과 감압 접착면(b)을 포함하고, 부가반응형 실리콘 겔로 형성된 광학용 투명 감압 접착체로서, 감압 접착면(a)의 감압 접착 성능(Ga)과 감압 접착면(b)의 감압 접착 성능(Gb)의 관계가 Ga < Gb 이고, JIS Z0237에 따른 경사식 볼텍 시험(경사각: 30도)의 볼 넘버가 5 내지 32이고 볼 넘버의 차이가 2 내지 12이며, 감압 접착면(a)은 상기 부가반응형 실리콘 겔의 미경화 원료를 공기와 접촉시켜 가열 경화시키고, 감압 접착면(b)은 지방산 아미드계 첨가제가 포함된 박리 처리층과 상기 박리 처리층을 포함하는 박리 필름(B)의 박리 처리층에 상기 부가반응형 실리콘 겔의 미경화 원료를 적어도 한쪽 면에 밀착시켜 가열 경화하는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체가 제공된다.
본 발명의 제 3 측면에 의하면, 제 1 측면 또는 제 2 측면에 있어서, 상기 지방산 아미드계 첨가제는 포화 지방산 비스아미드(bisamide) 또는 불포화 지방산 비스아미드로부터 선택되는 1 종 이상의 비스아미드인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체가 제공된다.
또한, 본 발명의 제 4 측면에 의하면, 제 3 측면에 있어서, 상기 박리 처리층은 비스아미드와 수지 성분을 주성분으로 포함하고, 비스아미드의 함유량은 박리 처리층 전체 중량 대비 2 내지 4 중량%인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체가 제공된다.
본 발명의 제 5 측면에 의하면, 제 1 또는 2 측면에 있어서, 상기 박리 필름(B)과 감압 접착면(b)의 벗김 강도(peeling strength: F2)는, JISZ0237에 따른 감압 접착력 시험에서 90도 박리(peeling) 감압 접착력이 0.5N/20mm 이하인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체가 제공된다.
또한, 본 발명의 제 6 측면에 의하면, 제 1 또는 2 측면에 있어서, 박리 필름(A)과 감압 접착면(a)의 벗김 강도(F1), 박리 필름(B)과 감압 접착면(b)의 벗김 강도(F2), 및 감압 접착면(a)과 피착체(C)의 벗김 강도(F3)의 관계는, JISZ0237에 따른 감압 접착력 시험에서 90도 벗김 강도(F1)와 벗김 강도(F2)의 감압 접착력 차이가 0.01~0.5N/20mm이고, 벗김 강도(F2)와 벗김 강도(F3)의 감압 접착력 차이가 0.1N/20mm 이상인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체가 제공된다.
또한, 본 발명의 제 7 측면에 의하면, 제 1 또는 2 측면에 있어서, 상기 실리콘 겔의 경도는 SRIS 0101 규격의 아스카 C 경도(Asker C hardness)가 0 내지 30 또는 JIS K2207에 따른 침입도(25℃)가 20 내지 200인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체가 제공된다.
또한, 본 발명의 제 8 측면에 의하면, 제 1 또는 2 측면에 있어서, 상기 실리콘 겔의 투과율은 파장이 380 내지 780 nm에서 80% 이상인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체가 제공된다.
또한, 본 발명의 제 9 측면에 의하면, 제 1 또는 2 측면에 있어서, 광학용 투명 감압 접착체의 감압 접착면(a)에 박리 필름(A)을, 감압 접착면(b)에 박리 필름(B)을 적층하는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착 적층체가 제공된다.
또한, 본 발명의 제 10의 측면에 의하면, 제 2 측면에 있어서, 광학용 투명 감압 접착체의 감압 접착면(b)에 박리 필름(B)의 일면이 맞닿아 적층되며, 감압 접착면(a)은 박리 필름(B)의 이면(裏麵)이 접촉하여 롤의 형태로 적층되는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착 적층체가 제공된다.
한편, 본 발명의 제 11의 측면에 의하면, 박리 필름(A)과 박리 필름(B) 사이에 미경화 액상의 부가반응형 실리콘 겔 원료를 개재하여 두께를 설정하는 성형 공정, 성형 후 또는 성형과 동시에 가열 경화시키는 가열 공정 및 상기 가열 경화 공정으로 얻을 수 있는 경화 실리콘 겔을 박리 필름(A) 및 박리 필름(B)과 함께 냉각하는 냉각 공정을 포함하고 있고, 박리 필름(A)과 박리 필름(B)은 서로 다르며, 상기 부가반응형 지방산 아미드계 첨가제를 포함한 실리콘 겔 원료 쪽에 박리 처리층을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제조 방법이 제공된다.
또한, 본 발명의 제 12 측면에 의하면, 적어도 일면에 지방산 아미드계 첨가제를 포함하는 박리 처리층을 가지는 박리 필름(B)의 박리 처리층에, 미경화 액상의 부가반응형 실리콘 겔 원료를 공급하여 두께를 설정하는 성형 공정, 성형 후 또는 성형과 동시에 상기 박리 필름(B)과 접촉하지 않는 상기 미경화 실리콘 겔 원료 표면에 적어도 일부를 공기에 접촉시켜 가열 경화 시키는 가열 공정, 상기 가열 경화 공정으로 얻을 수 있는 경화 실리콘 겔을 상기 박리 필름(B)과 함께 냉각하는 냉각 공정 및 상기 가열 공정으로 공기를 접촉시켜 가열 경화 시킨 면에 박리 필름(A)를 붙이는 박리 필름을 부착하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제조 방법이 제공된다.
또한, 본 발명의 제 13 측면에 의하면, 적어도 일면에 지방산 아미드계 첨가제를 가지는 박리 처리층을 포함하는 박리 필름(B)의 박리 처리층에, 미경화된 액상의 부가반응형 실리콘 겔 원료를 공급하여 두께를 설정하는 성형 공정, 성형 후 또는 성형과 동시에 상기 박리 필름(B)과 접촉되지 않은 상기 미경화 실리콘 겔 원료 표면의 일부를 공기에 접촉시켜 가열 경화시키는 가열 공정, 상기 가열 경화 공정으로 얻을 수 있는 경화 실리콘 겔을 상기 박리 필름(B)과 함께 냉각하는 냉각 공정 및 상기 가열 공정으로 공기를 접촉시키고 경화해서 형성된 감압 접착면(a)을 상기 박리 필름(B)의 또 다른 면에 접촉시켜 박리 필름(B)과 함께 감는 공정을 포함하는 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제조 방법이 제공된다.
또한, 본 발명의 제 14 측면에 의하면, 제 11 내지 13 중 어느 측면에서, 상기 가열 공정에서, 상기 가열 공정에서, 상기 미경화 실리콘 겔 원료가 박리 필름(A) 또는 공기와 접촉하는 측의 가열 온도는, 박리 필름(B)과 접촉하는 면의 가열 온도와 다른 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제조 방법이 제공된다.
또한, 본 발명의 제 15 측면에 의하면, 제 11 내지 13 중 어느 측면에서, 상기 냉각 공정에서, 상기 경화 실리콘 겔은 박리 필름(A) 또는 공기와 접촉하는 면과 박리 필름(B)과 접촉하는 면의 냉각 속도 기울기가 다른 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제조 방법이 제공된다.
본 발명은, 상기와 같이, 광학용 투명 감압 접착체와 광학용 투명 감압 접착 적층체 등에 관련된 것이지만, 바람직하게는, 다음이 포함된다.
(1) 제 1 또는 2 측면에 있어서, 박리 필름(A)과 감압 접착면(a)의 벗김 강도(F1), 박리 필름(B)과 감압 접착면(b)의 벗김 강도(F2), 감압 접착면(a)과 피착체(C)와의 벗김 강도(F3) 및 감압 접착면(b)과 피착체(D)와의 벗김 강도(F4)의 관계는 F1 < F2 < F3 < F4, 또는 F1 < F2 < F3 > F4인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체.
(2) 제 1 또는 2 측면에 있어서, 상기 벗김 강도(F3)와 감압 접착면(b)과 피착체(D)의 벗김 강도(F4)의 관계는, 벗김 강도(F3)와 벗김 강도(F4)의 JIS Z0237에 따른 감압 접착력 시험에서 90도 박리인 감압 접착력 차이가 0.1N/20mm 이상인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체.
(3) 제 1 또는 2 측면에 있어서, 박리 필름(A) 및/또는 박리 필름(B)은 지방산 아미드계 첨가제를 포함하는 박리 처리층을 포함하는 대신에, 지방산 아미드계 첨가제를 1.0 내지 5.0 중량% 함유하는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체.
(4) 제 4 측면에 있어서, 상기 수지 성분이 공중합 폴리에스테르인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체.
(5) 제11 측면에 있어서, 냉각 공정 후, 박리 필름(A)를 경화한 실리콘 겔에서 박리하여 감압 접착면(a)를 표출 시키는 박리 공정과 감압 접착면(a)를 박리 필름(B)의 이면(裏麵)에 접촉시켜 박리 필름(B)과 함께 롤 형태로 감는 공정으로부터 되는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제조 방법.
본 발명에 의하면, 광학용 투명 감압 접착체는 종래의 앞뒷면이 다른 감압 접착성의 광학 감압 접착체에 비하여, 감압 접착력이 큰 범위에 대해서도, 선택적인 박리 안정성이 뛰어나기 때문에, 화상 표시장치 등의 피착체와의 부착 후에도 뛰어난 밀착성을 유지할 수 있다. 그러므로, 부착 후의 기포의 발생이나 박리 등과 같은 부착 자체 불량(pasting own defect)을 현저하게 줄일 수 있으며, 화상 표시장치 등에 대한 자동화된 설치의 경우에도 뛰어난 선택적인 박리성을 안정적으로 실현될 수 있다. 그 결과, 대량생산 향상과 비용 절감, 품질 확보를 도모할 수 있다. 또한, 투명 감압 접착체 시트의 투명성을 유지하면서, 경도 또는 종래의 앞뒷면이 다른 감압 접착성의 광학 감압 접착체가 가지는 감압 접착성의 범위도 포함하는, 감압 접착성을 쉽게 컨트롤할 수 있고, 폭 넓은 사양 변경에 신속히 대응할 수 있다. 또한, 리워크나 리사이클 작업에서의 선택 박리성을 가지므로, 리워크나 리사이클의 작업성이나 자동화에도 대응할 수 있어 환경 부하(environmental load) 절감이나 비용절감에 공헌하는 효과를 발휘한다.
또한, 본 발명의 박리 처리제로서 특히 비스아미드(bisamide)를 이용한 박리 필름은 내열성이 뛰어나기 때문에, 가열 경화 온도를 높게 할 수 있으므로, 경화 공정을 단축할 수 있다. 그 결과, 광학 감압 접착체의 생산성을 향상시킬 수 있고, 광학 감압 접착체 제조의 비용 절감에 기여하는 효과를 발휘한다.
또한 본 발명의 제조 방법은 간단한 공정으로 인해 간편하고, 효율적이며, 생산성이 높은 방법이다.
도 1은, 본 발명의 광학용 투명 감압 접착체 및 광학용 투명 감압 접착 적층체를 설명하는 모식도이다. (a)는 광학용 투명 감압 접착 적층체의 모식도(단면도)이고, (b)는 광학용 투명 감압 접착 적층체의 박리 필름 일부를 박리 한 상태의 모식도(단면도)이다;
도 2는, 본 발명에 따른, 다른 형태의 광학용 투명 감압 접착체 및 광학용 투명 감압 접착 적층체를 설명하는 모식도이다;
도 3은, 본 발명의 광학용 투명 감압 접착체 및 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제작 공정을 설명하는 모식도이다. (a)는 박리 필름(B)의 주형(mold) 준비 공정을, (b)는 미경화 원료의 충전 공정을, (c)와 (d)는 박리 필름(A)을 적층한 성형 공정을, (e)는 가열 경화 공정을, (f)는 냉각 공정을, (g)는 광학용 투명 감압 접착 적층체의 완성을 설명하는 도면이다;
도 4는, 본 발명에 따른, 다른 형태의 광학용 투명 감압 접착체 및 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제작 공정을 설명하는 모식도이다. (a)는 박리 필름(B)의 주형 준비 공정을, (b)는 미경화 원료의 충전 공정을, (c)~(e)는 스키지에 의한 성형 공정을, (f)는 가열 경화 공정을, (g)는 냉각 공정을, (h)는 박리 필름(A)의 부착 공정을, (g)는 광학용 투명 감압 접착 적층체의 완성을 설명하는 도면이다;
도 5는, 본 발명의 광학용 투명 감압 접착체 및 광학용 투명 감압 접착 적층체의 연속 생산 공정을 설명하는 모식도이다;
도 6은, 본 발명에 따른, 다른 형태의 광학용 투명 감압 접착체 및 광학용 투명 감압 접착 적층체의 연속 생산 공정을 설명하는 모식도이다;
도 7은, 본 발명에 따른, 다른 형태의 광학용 투명 감압 접착체 및 광학용 투명 감압 접착 적층체의 연속 생산 공정을 설명하는 모식도이다;
도 8은, 본 발명에 따른, 다른 형태의 광학용 투명 감압 접착체 및 광학용 투명 감압 접착 적층체의 연속 생산 공정을 설명하는 모식도이다;
도 9는, 본 발명의 실시 예에 따른 박리 안정성 시험의 순서를 설명하는 모식도이다. (a)~(c)는 평가 스텝(I)을, (d)~(g)는 평가 스텝(II)을, (h)~(j)는 평가 스텝(III)를 설명하는 도면이다;
도 10은, 본 발명의 실시 예의 벗김 강도 F1와 F2를 평가하기 위한 벗김 강도 시험의 시험편의 구성을 설명하는 측면도이다. (a)는 F1를 측정하는 시험편의 구성을 보여주고 있고, (b)는 F1를 측정하는 시험편의 구성을 보여주고 있다;
도 11은, 본 발명의 실시 예의 벗김 강도 F3와 F4를 평가하기 위한 벗김 강도 시험의 시험편의 구성을 모식적으로 나타낸 측면도이다. (a)는 F3을 측정하는 시험편 구성, (b)는 F4를 측정하는 시험편 구성이다;
도 12는, 본 발명의 광학용 투명 감압 접착체를 조합한 화상 표시장치의 구성을 설명하는 모식도(단면도)이다;
도 13은, 본 발명의 광학용 투명 감압 접착체를 조합한 다른 형태의 화상 표시장치의 구성을 설명하는 모식도(단면도)이다;
도 14는, 본 발명의 광학용 투명 감압 접착체를 조합한 다른 형태의 화상 표시장치의 구성을 설명하는 모식도(단면도)이다;
도 15는, 본 발명에 사용하는 박리 필름의 구성의 실시 예를 설명하는 모식도이다. (a)는 한 면에 박리 처리층을 포함하는 구성, (b)는 박리 필름(B)에서 양면 박리 처리층을 포함하는 구성이다;
도 16은, 본 발명에 사용하는 박리 필름의 구성의 다른 실시 예를 설명하는 모식도이다. (a)는 한 면에 박리 처리층을 포함하는 구성, (b)는 박리 필름(B)에서 양면 박리 처리층을 포함하는 구성이다.
본 발명의 광학용 투명 감압 접착체는 화상 표시장치의 도광판 경로의 중간층으로서, 2개의 광학 부품 사이에 넣어 사용하는 것이다.
화상 표시장치 등의 조립 공정에서, 광학용 투명 감압 접착체는 감압 접착면(a)에 박리 필름(A)가, 감압 접착면(b)에 박리 필름(B)가 각각 부착된 광학용 투명 감압 접착 적층체로서 취급된다.
또한 상기 조립공정에서는 2개의 광학 부품(예를 들면, 피착체(C), 피착체(D))를 광학 투명 감압 접착체로 접합하기 위해서;
(I) 먼저, 상기 광학 투명 감압 접착 적층체로부터 박리 필름(A)을 박리 제거하여 감압 접착면(a)을 표출시키고;
(II) 그리고, 상기 감압 접착면(a)에 피착체(C)를 부착시키고;
(III) 그 다음, 감압 접착면(a)에서 피착체(C)를 박리하지 않고, 상기 감압 접착 적층체에서 박리 필름(B)을 박리 제거하여 감압 접착면(b)을 표출시키고,
(IV) 상기 감압 접착면(b)에 피착체(D)가 부착된다.
또한, 피착체(C)와 피착체(D)는 광학 투명 감압 접착체로 접합한 후, 부착 불량(예를 들면, 위치 엇갈림이나 이물질 혼입 등)이 발견되었을 경우에는 피착체와 광학 투명 감압 접착체를 박리하여 불량 사항을 해소하고,
(V) 피착체(C)와 피착체(D) 중 하나는 광학용 투명 감압 접착체로부터 선택적으로 안정적인 박리를 시킴으로써, 리워크 작업을 합리적으로 할 수 있으며, 작업의 기계화에도 대응할 수 있다.
상기의 (I)~(V)의 순서를 확실하게 실현하기 위해서는, 박리 필름(A)과 감압 접착면(a)의 벗김 강도(F1), 박리 필름(B)과 감압 접착면(b)의 벗김 강도(F2), 감압 접착면(a)과 피착체(C)의 벗김 강도(F3), 감압 접착면(b)과 피착체(D)의 벗김 강도(F4)의 관계는, F1 < F2 < F3 < F4, 또는, F1 < F2 < F3 > F4가 되는 것이 필요하다.
상기 박리력과 벗김 강도의 관계를 안정적으로 실현하기 위해서, 본 발명의 광학용 투명 감압 접착체는 감압 접착성이 다른 감압 접착면(a)과 감압 접착면(b)이 있고, 부가 반응형 실리콘 겔에서 형성되는 광학용 투명 감압 접착체이며, 감압 접착면(a)의 감압 접착 성능(Ga)과 감압 접착면(b)의 감압 접착 성능(Gb)과의 관계는, Ga < Gb 이며, 감압 접착 성능(Ga)과 감압 접착 성능(Gb)은 JIS Z0237에 따른 경사식 볼텍 시험(경사각: 30도)에서 볼 넘버가 5 내지 32이고, 볼 넘버의 차이가 2 내지 12인 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명의 광학용 투명 감압 접착체에서는, 제 1의 측면에서, 감압 접착면(a) 및 감압 접착면(b)은 부가 반응형 실리콘 겔의 미경화 원료를, 다른(즉, 동일한 것이 아닌) 박리 필름(A)과 박리 필름(B)에 밀착시켜 가열 경화시키고, 박리 필름(A)과 박리 필름(B)은 상기 밀착면에 지방산 아미드계 첨가제를 가지는 박리 처리층을 포함한다. 또는, 제 2의 측면에서, 감압 접착면(a)은 상기 부가 반응형 실리콘 겔의 미경화 원료를 공기와 접촉시켜 가열 경화시키고, 감압 접착면(b)은 지방산 아미드계 첨가제가 포함된 박리 처리층과 상기 박리 처리층을 포함하는 박리 필름(B)의 박리 처리층에 상기 부가 반응형 실리콘 겔의 미경화 원료를 적어도 한쪽 면에 밀착시켜 가열 경화하는 것을 특징으로 한다. 특히, 본 발명의 광학용 투명 감압 접착체는 종래 기술에서는 검토되지 않았던 리워크 작업에서 피착체의 선택적 분리가 향상되기 때문에, 자동화 대응성에도 뛰어나다.
이하, 본 발명의 광학용 투명 감압 접착체와 광학용 투명 감압 접착 적층체 및 그 제조 방법 등에 대해서 상세하게 설명한다.
1. 광학용 투명 감압 접착체
(i) 부가 반응형 실리콘 겔
본 발명의 광학용 투명 감압 접착체는, 감압 접착성을 가지는 부가 반응형 실리콘 겔에서 형성된다.
상기 실리콘 겔의 경도는 SRIS 0101 규격의 아스카 C 경도(Asker C hardness)가 0 내지 30 이거나 또는, JIS K2207 "Petroleum asphalt"에 따른 침입도(25℃)가 20 내지 200인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명에서 "투명"은 무색 투명, 착색 투명, 반투명을 포함하는 의미이며, 본 발명에서 이용하는 투명 실리콘 겔의 파장은 380 내지 780 nm영역에서 가시광선의 전광선(全光線) 투과율(JIS K7105에 따른 "플라스틱 광학적 특성 시험 방법" 준거)은 80% 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 85% 이상이며, 특히 바람직하게는 90% 이상이다.
투과율은 투명 부재의 투명도를 측정하는 것이며, 예를 들면, 투과율이 80% 미만인 경우, 화면에서 발생 되는 빛이 투명 부재를 투과하기 어려워지므로, 시인성(視認性)이 저하된다. 또한, 투과율이 80% 이상인 파장의 영역이 380 내지 780 nm의 영역보다 좁은 경우에는, 적색 쪽(높은 파장 쪽) 혹은 청색 쪽(낮은 파장 쪽)의 빛의 투과성이 저하되므로 바람직하지 않다. 여기서 투과율은 분광 광도계 등을 이용하여 측정한 값을 말한다.
상기 부가 반응형 실리콘 겔은 기존에 시판되고 있는 여러 가지의 실리콘 재료로서, 일반적으로 사용되고 있는 실리콘 화합물을 적절하게 선택하여 이용할 수 있다. 따라서, 가열 경화형(type of thermal-curing type) 또는 상온 경화형(cold setting type), 경화 기구가 축합형 혹은 부가형 등 모두 이용할 수 있으며, 특히 부가형 실리콘 조성물에서 얻을 수 있는 실리콘 겔이 바람직하다. 또한, 실리콘 원자에 결합하는 그룹(A group binding to silicon atom)은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 메틸 그룹(methyl group), 에틸 그룹(ethyl group), 프로필 그룹(propyl group) 등과 같은 알킬 그룹(alkyl group); 시클로펜틸 그룹(cyclopentyl group), 시클로헥실 그룹(cyclohexyl group) 등과 같은 시클로알킬 그룹(cycloalkyl group); 바이닐 그룹(vinyl group), 알릴 그룹(allyl group) 등과 같은 알케닐 그룹(alkenyl group); 페닐 그룹(phenyl group), 톨릴 그룹(tolyl group) 등과 같은 아릴 그룹(aryl group); 그 밖에도 이러한 그룹(group)의 수소 원자가 부분적으로 다른 원자 또는 결합 그룹으로 치환될 수 있다.
구체적인 부가 반응형 실리콘 겔의 재료는 Dow Corning Toray Co., Ltd의 상품명: CF - 5106(침입도: 150) 등이 바람직하고, 이 실리콘 겔 재료의 원료인 실리콘 수지가 A액과 B액으로 나뉘어 있으며, 이 두 액체를 소정의 비율로 혼합하여 가열하면, 소망하는 침입도를 가진 실리콘 겔의 재료를 얻을 수 있다.
본 발명에서 사용되는 부가 반응형(또는 가교)실리콘 겔의 공정은 특별히 한정되지 않지만, 일반적으로 후술하는 올가노하이드로젠폴리실록산 (organohydrogenpolysiloxane)과 알케닐폴리실록산(alkenylpolysiloxane)을 원료로 하고, 두 화합물을 촉매의 존재 하에서 하이드로 시릴화 반응(hydrosilylation reaction)(부가 반응)을 시켜 얻을 수 있다. 즉, 본 발명에서 실리콘 겔의 원료 물질은 대부분 올가노하이드로젠폴리실록산과 알케닐폴리실록산을 가리킨다. 원료들 중의 하나로서, 이용되는 올가노하이드로젠폴리실록산은 하기와 같은 일반식 (1)로 표현되는 것이 바람직하다.
[일반식 1]
Figure 112011088254395-pct00001
상기 일반식(1)에서, R1은 동일 또는 이종(異種)의 치환 또는 비치환의 1가 탄화수소 그룹을 나타내고; R2, R3 및 R4는 R1 또는 -H를 나타내고; R2, R3 및 R4의 적어도 2개는 -H을 나타내고; x와 y는 각 단위의 수를 나타내는 정수이고; 각 단위는 블록 단위로 혹은 무작위(randomly)로 배치되지만, 무작위로 배치되는 것이 바람직하며; x는 0 이상의 정수이지만, 10 내지 30이 바람직하고; y는 0 이상의 정수이지만 1 내지 10이 바람직하다. (x+y)는 5 내지 300인 정수이지만, 30 내지 200이 바람직하다. 또한, y/(x+y) ≤ 0.1의 범위가 바람직하고, 이 범위를 초과하면 가교점(cross-linking point)이 많아지기 때문에, 본 발명의 투명 감압 접착체는 얻을 수 없다.
R1의 예로는 메틸 그룹(methyl group), 에틸 그룹(ethyl group), 프로필 그룹(propyl group), 부틸 그룹(butyl group) 등과 같은 알킬 그룹(alkyl group); 시클로펜틸 그룹(cyclopentyl group), 시클로헥실 그룹(cyclohexyl group) 등과 같은 시클로알킬 그룹(cycloalkyl group); 페닐 그룹(phenyl group), 톨릴 그룹(tolyl group) 등과 같은 아릴 그룹(aryl group); 벤질 그룹(benzyl group), 페닐에틸 그룹(phenylethyl group) 등의 아랄킬 그룹(aralkyl group); 또는 이러한 수소 원자가 부분적으로 염소 원자(chlorine atom), 불소 원자(fluorine atom) 등으로 치환된 할로겐화 탄화수소 등을 포함할 수 있다.
실리콘 원자에 직접 결합한 수소(Si - H)는 실리콘 원자에 직접 또는 간접적으로 결합한 알케닐 그룹과 부가 반응(하이드로 시릴화 반응)을 하기 위해 필요하며, 올가노하이드로젠폴리실록산 분자에서 적어도 2개의 수소 원자가 필요하다. 실리콘 원자에 직접 결합한 수소의 원자 수가 너무 작으면, 가교점의 수가 너무 작기 때문에, 실리콘 겔을 형성하지 못하고, 실리콘 오일의 성질과 동일하므로, 바람직하지 않다. 반면에, 실리콘 원자에 직접 결합한 수소의 원자 수가 너무 크면, 가교점의 수가 너무 많기 때문에, 실리콘 고무의 성질과 동일하므로, 바람직하지 않다.
또한, 본 발명에 따른, 가교 실리콘 겔을 제조할 때 이용되는 또 다른 원료인 알케닐폴리실록산은, 아래와 같은 일반식(2)에서 나타내는 것이 바람직하다.
[일반식 2]
Figure 112011088254395-pct00002
일반식 (2)에 따른 R1은 동일 또는 이종의 치환 또는 비치환의 1가 탄화수소 그룹을 나타내고; R5, R6 및 R7은 R1 또는 알케닐 그룹을 나타내고; R5, R6 및 R7에서 적어도 2개는 알케닐 그룹을 나타내고; s 및 t는 각 단위의 수를 나타내는 정수이며; 각 단위는 블록 단위 혹은 무작위로 배치되지만, 무작위로 배치되는 것이 바람직하고; s는 0이상의 정수를 나타내고; t는 0이상의 정수를 나타내고, (s+t)는 10 내지 600의 정수이고; t/(s+t) ≤ 0.1 이다. 또한, t/(s+t) ≤ 0.1의 범위가 바람직하다. 이 범위를 넘으면 가교점이 많아지기 때문에 본 발명의 광학용 투명 감압 접착체는 얻을 수 없다.
R1의 예로서는, 메틸 그룹(a methyl group), 에틸 그룹(ethyl group), 프로필 그룹(propyl group), 부틸 그룹(butyl group) 등과 같은 알킬 그룹(alkyl group); 시클로펜틸 그룹(cyclopentyl group), 시클로헥실 그룹(cyclohexyl group) 등과 같은 시클로알킬 그룹(cycloalkyl group); 페닐 그룹(phenyl group), 톨릴그룹(tolyl group) 등과 같은 아릴 그룹(aryl group); 벤질 그룹(benzyl group), 페닐에틸 그룹(phenylethyl group) 등과 같은 아랄킬 그룹(aralkyl group); 또는, 이러한 수소 원자가 부분적으로 염소 원자, 불소 원자 등으로 치환된 할로겐화 탄화수소 등을 포함할 수 있다.
실리콘 원자에 직접 또는 간접적으로 결합한 알케닐 그룹(비닐 그룹, 알릴 그룹 등)는 실리콘 원자에 직접 결합한 수소(Si-H)와 부가 반응(하이드로 시릴화 반응)을 위해 필요하며, 알케닐폴리실록산 분자에서도 알키닐 그룹이 적어도 2개 필요하다. 알케닐 그룹의 수가 작으면, 가교점의 수가 너무 작아 실리콘 겔을 형성하지 못하고, 실리콘 오일의 성질과 동일하여 바람직하지 않다. 반면에, 알케닐기의 수가 너무 많으면, 가교점의 수가 너무 많고, 실리콘 고무의 성질과 동일하여 바람직하지 않다.
본 발명의 일반식 (1)에서 나타내는 하이드로젠폴리실록산은 실리콘 원자에 직접 연결된 -H(수소기)를 가지고 있으며, 일반식 (2)에서 나타내는 알케닐폴리실록산은 탄소-탄소 이중 결합을 가지고, 탄소-탄소 이중 결합과 -H(수소기)가 부가 반응을 일으키는 것을 하이드로 시릴화 반응이라고 한다.
상기 하이드로 시릴화 반응은, 알려진 통상의 기술을 이용하여 수행할 수 있다. 즉, 상기 반응은 에탄올(ethanol), 이소프로필 알코올(isopropyl alcohol) 등과 같은 알코올 그룹(alcohol group); 톨루엔(toluene), 크실렌(xylene) 등과 같은 방향족 탄화수소 그룹(aromatic hydrocarbon group); 디옥산(dioxane), THF 등과 같은 에테르 그룹(ether group); 지방족탄화수소 그룹(aliphatic hydrocarbon group); 염소화 탄화수소 그룹(chlorinated hydrocarbon group)의 유기용매 또는 무용매로 수행한다. 또한, 반응온도는 보통 50 내지 150℃ 이며, 염화 백금산(chloroplatinic acid), 염화 백금산과 알코올에서 얻을 수 있는 착화제(complex), 백금-올레핀 착화제(platinum-olefin complex), 백금-비닐 실록산 착화제(platinum-vinylsiloxane complex), 백금-인 착화제(platinum-phosphorus complex) 등의 촉매를 이용하여 반응시킬 수 있다. 촉매의 사용량은 알케닐 폴리실록산에 대비 백금 원자의 보통 1 내지 500 ppm 이며, 경화성 및 경화 후의 제품의 물리적 특성을 고려하여 3 내지 250 ppm 이 바람직하다.
상기 실리콘 겔은 표면의 비가교(uncross-linked) 작용그룹(functional group)에 의해 감압 접착성을 갖지만, 예를 들면, MQ 타입의 감압 접착체가 제공하는 성분을 혼합한 것과, 비반응성의 감압 접착 성분의 첨가 또는 비가교 작용그룹의 측쇄의 길이와 말단 작용그룹의 종류 등을 조정하여, 감압 접착성을 발현시키는 등 통상의 감압 접착성 부여 방법도 이용할 수 있다.
또한, 본 발명의 광학용 투명 감압 접착체는 감압 접착성이 다른 감압 접착면(a)과 감압 접착면(b)을 가지고 있다.
또한, 본 발명의 광학용 투명 감압 접착체는 다음의 관계를 만족한다.
즉, 박리 필름(A)과 감압 접착면(a)의 벗김 강도(F1), 박리 필름(B)과 감압 접착면(b)의 벗김 강도(F2), 감압 접착면(a)과 피착체(C)의 벗김 강도(F3), 감압 접착면(b)과 피착체(D)와의 벗김 강도(F4)의 관계는 F1 < F2 < F3 < F4, 또는F1 < F2 < F3 > F4이다.
상기의 관계식에서, 벗김 강도(F1)와 벗김 강도(F2)와의 차이가 JIS Z0237 "감압 접착 테이프 및 감압 접착 시트 시험 방법"에 따른 감압 접착력 시험에서 90도 박리(peeling) 감압 접착력이 0.01~0.5N/20mm이고, 벗김 강도(F2)와 벗김 강도(F3)와의 90도 박리(peeling) 감압 접착력 차이가 0.1N/20mm 이상인 것이 바람직하다.
이것은, 광학용 투명 감압 접착체에 대한 박리 필름의 벗김 강도 차이가 상기 범위의 하한(下限)보다 미만이라면, 박리 필름을 벗길 때 박리면이 어느 박리 필름의 면(side)이 될지 안정적이지 않다.
또한, 본 발명의 광학용 투명 감압 접착체는 그 양면에 밀착하고 있는 박리 필름(A)과 감압 접착면(a)의 벗김 강도(F1), 박리 필름(B)과 감압 접착면(b)의 벗김 강도(F2)가, 각각 0.5N/20mm 이하인 것이 바람직하다. 박리 필름을 벗길 때, 벗김 강도가 0.5N/20mm를 초과하면, 박리력이 너무 커서 박리 작업성(특히, 자동화된 공정에서)이 나빠지므로 바람직하지 않다. 또한, 박리력이 지나치게 크면, 광학용 투명 감압 접착체가 파손될 우려가 있기 때문에 바람직하지 않다.
상기 박리력의 조절에서, 박리 필름(A)을 박리 제거했을 때의 감압 접착면(a)의 감압 접착 성능(Ga)과 박리 필름(B)을 박리 제거했을 때의 감압 접착면(b)의 감압 접착 성능(Gb)의 관계는, Ga < Gb 인 것이 필수 조건이며, 피착체인 광학 부품에서 투명 감압 접착체를 제거하여 재부착하는 리워크 시에도, 투명 감압 접착체 양면의 박리 부위 선택성이 안정적인 동시에 쉽게 작용한다.
또한 감압 접착 성능(Ga)와 감압 접착 성능(Gb)는 JIS Z0237 "감압 접착 테이프 및 감압 접착 시트 시험 방법에 따른 경사식 볼텍 시험(경사각: 30도)에서 볼 넘버가 5 내지 32이고, Ga와 Gb의 볼 넘버차이가 2 내지 12인 것이 바람직하고, 볼 넘버차이는 2 내지 5인 것이 더욱 바람직하다. 감압 접착 성능의 차이가 2 미만이면, 피착체인 광학 부품에서 투명 감압 접착체를 제거하여 재부착하는 리워크 시에는, 광학 부품에서 제거면이 어떤 면(side)이 될지 안정적이지 않다. 반면에, 감압 접착 성능의 차이가 12를 초과하면, 투명 감압 접착체의 감압 접착면(b)과 광학 부품의 박리와 제조가 어려울 수 있다.
상기 감압 접착 성능(Ga)과 감압 접착 성능(Gb)은 상기 실리콘 겔의 미경화 원료가 경화를 시작하기 전의 미가교 상태에서 접촉하는 물질의 종류에 의해 조절된다.
상기 물질로서, 박리 필름(기판 재료(substrate material)나 박리 처리층이 해당될 것으로 추측된다.), 공기 등의 기체, 박리 필름에 의한 코팅층의 액체 등이 적용될 수 있지만, 안정된 박리 성능을 실현하기 위해서는, 감압 접착면의 박리 처리제의 전이(바꾸어 말하면, 박리 처리에 의한 감압 접착면의 오염), 상기 실리콘 겔 경화물에 경시적으로 확산, 흡수되지 않는 것이 바람직하다. 물질의 조합으로는 고체상-고체상과 같은 동일한 상 끼리의 조합일 수도 있으며, 고체상-기체상 또는 고체상-액체상과 같은 다른 상으로 조합할 수도 있다. 동일한 상으로, 다른 박리 필름을 접촉시켜 Ga와 Gb를 나타내려면, 미가교 실리콘 겔 재료가 접촉하는 박리 필름 표면의 표면 에너지가 작은 쪽이 볼텍이 작아진다. 또한, 고체상-기체상의 한 예로써, 실리콘 재료는 한쪽 면에 박리 필름과 접촉시킨 부분을 공기에 접촉시켜 가교 시켰을 경우는, 공기에 접촉시킨 면이 볼텍이 작아진다.
또한, 부가 반응형 실리콘 겔의 특징인 가교 반응에 가장 영향을 주는 인가 에너지인, 가열량과 자외선 등의 전자파 조사량의 차이에서도 감압 접착력이나 그것에 기인하는 벗김 강도를 조정할 수 있다.
또한, 박리 필름의 미가교 실리콘 겔 원료의 접촉면 측에 한층 강한 가교제인 하이드로젠폴리실록산을 주성분으로 하는 코팅층을 공급하여, 상기 코팅층과 접촉하는 미가교 실리콘 겔 원료의 표면 가교도를 조절할 수 있다.
또한, 기존의 양면 감압 접착 타입의 광학용 투명 감압 접착 테이프는 감압 접착체(양면 감압 접착 테이프의 양면의 박리재를 제외한 감압 접착층의 부분)의 두께가 100 ㎛ 이하의 범위이고, 감압 접착층의 양면의 감압 접착 특성이 주체(主體)로 감압 접착층의 두께의 영향은 작지만, 두께가 증가함에 따라 감압 접착체로부터 피착물 또는 박리 필름을 박리 시킬 때, 감압 접착체의 인장 탄성변형이 발생하기 쉽고, 특히 점탄성을 가지는 감압 접착체는 박리 응력 완충성이 작용하여 박리 부위 안정성이 저하하는 문제점이 있었다.
그러나, 본 발명의 광학용 투명 감압 접착체는, 기존의 광학용 투명 감압 접착 테이프의 두께 범위는 수십 ㎛ 이상의 두께로, 상기의 박리 부위 안정성이 발휘되는 것은 물론, 특히 두께가 100 ㎛을 초과하고, 광학용 투명 감압 접착체의 점탄성 특성이 벗김 강도에 영향을 주는 두께 영역에서도 박리 부위 안정성이 발휘된다.
본 발명의 특징인 상기의 다른 감압 접착성의 발현 메커니즘은, 현재 명확하지 않지만, 다음과 같이 추측된다. 즉, 미경화 실리콘 겔 원료와 박리 필름 등의 피접촉 물질의 접촉에 의해 형성되는 계면에서, 상기 피접촉 물질의 최외각 표면(outmost)의 분자 상태(표면 에너지)와 미가교 실리콘 겔의 작용그룹 또는 측쇄의 극성(compatibility) 등이 작용하여 계면 근방의 가교 구조의 차이와 미가교 작용그룹의 비율이 바뀌는 매크로 현상(macroscopic phenomenon)으로서, 감압 접착성의 차이로 인해 관측되는 것이라고 추측된다.
또한, 상기 다른 감압 접착의 발현 추측 사항 외에도, 박리 필름과 감압 접착체의 벗김 강도는 다음과 같이 추측된다. 즉, 가교 경화 과정에서 받는 가열이나 냉각의 열 이력에 대응하여, 박리 필름, 실리콘 겔, 계면의 열팽창 수축 이력에 기인하는 계면 잔류 응력이 작용하여, 계면의 밀착 강도가 증가(박리 필름과 실리콘 겔이 서로 맞물려 작용)한다. 그 결과, 벗김 강도의 차이에 관여하는 것이라고 추측된다.
또한, 상기 벗김 강도 F1과 F2에서, 미가교 실리콘 겔 원료가 박리 필름에 접촉하여 가교된 상태에서 박리하는 경우와, 상기와 같이 가교 후에 한 번 박리 필름을 박리 제거한 후, 같은 박리 필름 또는 다른 박리 필름에 재부착한 경우(후에 붙이는 것이라고 칭함)는, 벗김 강도가 다르며, 후자의 벗김 강도는 작아진다.
이것은 다음과 같이 추측된다. 즉, 경화 과정에서 박리 필름과 미가교 실리콘 겔 원료의 계면에서 형성된 계면 결합 구조가 초기 박리 파괴될 때까지 계면에 구속력이 작용하지만, 나중에 부착한 박리 필름과 감압 접착면(a 또는 b)의 접촉에서 발현하는 밀착력은 상기의 박리 파괴면을 형성시키는 구속력이 없기 때문에, 벗김 강도는 초기 박리의 경우보다 작다고 추측된다.
따라서, 상기 박리 유형에 따라 Ga 및 Gb의 균형을 조절하면서 박리 필름의 조합을 최적화할 필요가 있다.
(ii) 박리 필름(A)과 박리 필름(B)
본 발명의 광학용 투명 감압 접착체는 그 양면에 박리 필름(A)과 박리 필름(B)를 밀착시켜 광학용 투명 감압 접착 적층체를 구성한다.
본 발명에서, 박리 필름(A)과 박리 필름(B)으로 정의하고 있지만, 일반적으로 사용되는 박리 시트와 표면 보호 필름이나 지면에 실리콘을 도포한 종이 등 전반적인 것을 가리킨다. 이 박리 필름(A)과 박리 필름(B)은 광학용 투명 감압 접착체의 형성 과정에서 광학용 투명 감압 접착체의 감압 접착성을 조정하는 것이며, 또한, 광학용 투명 감압 접착체의 감압 접착면을 먼지로부터 보호하는 것이기 때문에, 사용할 때에 벗길 필요가 있다.
또한, 본 발명의 광학용 투명 감압 접착체는 박리 필름(A)과 밀착하는 감압 접착면(a), 박리 필름(B)과 밀착하는 감압 접착면(b)을 포함하고, 상기의 벗김 강도의 관계식과 감압 접착 성능의 관계식을 만족하기 위해서, 본 발명에 따른 박리 필름(A)과 박리 필름(B)을 적용한다.
구체적으로는, 본 발명의 제 1의 측면에서는, 박리 필름(A)과 박리 필름(B) 모두 지방산 아미드계의 박리 처리제를 포함하여 구성되지만, 동일한 것이 아닌(즉, 지방산 아미드의 종류가 다른 것, 지방산 아미드의 종류는 같지만, 함유량이 다른 것, 또는 기재 성분(박리 처리제 이외의 성분)이 다른 것 중 적어도 하나) 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 제 2의 측면에서는, 박리 필름(B)은 지방산 아미드계의 박리 처리제를 필수 성분으로 포함한다. 반면에, 재부착되는 박리 필름(A)은, 밀착하는 감압 접착면(a)이 상기 부가 반응형 실리콘 겔의 미경화 원료를 공기에 접촉시켜 가열 경화해서 형성되기 때문에, 본 발명에 따른 벗김 강도 F1과 F2의 관계 요구 사항을 충족하여 적용할 수 있고, 지방산 아미드계의 박리 처리제를 포함해도 포함하지 않아도 박리 필름(B)은 종류(주성분이나 첨가 성분을 포함한 재질)가 다를 수도, 동일할 수도, 박리 필름(B)과 동일할 수도, 다를 수도 있다.
또한, 박리 필름(A)과 박리 필름(B)로서는, 예를 들면, 도 15(a)과 같이, 필름용 기재의 적어도 부가 반응형 실리콘 겔의 미경화 원료와 접촉하는 면에는, 박리 처리층이 형성되어 있는 필름(박리 처리층을 갖는 필름)이 매우 적합하게 이용할 수 있고, 본 발명의 제 8의 측면에서는, 도 15(b)와 같이, 양면에 박리 처리층이 형성되는 필름을 이용하는 것이 바람직하다. 박리 처리층이 형성되어 있는 필름(박리 처리층을 갖는 필름)을 이용하여, 박리 처리층에 포함되는 박리 처리제의 기능, 성능을 충분히 발휘 시킬 수 있다.
이러한 필름용 기재로는, 폴리에스테르 필름(폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름 등), 올레핀계 수지 필름(폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름 등), 폴리염화비닐 필름, 폴리이미드 필름, 폴리아미드 필름(나일론 필름), 레이온 필름 등의 플라스틱계 기재 필름(합성 수지 필름)이나, 종이(상질지, 일본 종이, 그래프트 종이, 글라신 용지, 합성 용지, 탑코트 용지 등)뿐만 아니라, 라미네이트 및 공압출 등에 의해, 복층화 한 것(2~3층의 복합체) 등을 들 수 있다. 필름용 기재로는, 투명성이 높은 플라스틱계 기재 필름(특히, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름)이 이용된 필름용 기재를 매우 적합하게 이용할 수 있다.
본 발명의 광학용 투명 감압 접착체의 양면에 부착되는 박리 필름(A)과 박리 필름(B)에서, 상기 박리 처리층에 포함되는 박리 처리제로서, 특히, 지방산 아미드계 첨가제를 사용하는 것이 특징이다. 또한, 지방산 아미드계 첨가제의 박리 처리제는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 또한, 박리 처리제에 의해 박리 처리가 행해진 필름은 통상의 방법으로 형성된다. 예를 들면, 폴리에스테르 필름에 박리 처리층을 만드는 방법으로서, reverse gravure coating, bar coating, die coating 등과 같은 기존에 알려진 코팅 방식을 이용할 수 있다. 코팅 방식에 관해서 Maki-Shoten(1979)에서 발행된 하라사키 유지(Harasaki Yuji)의 "Coating System"에서 설명되어 있다. 또한, 공압출 성형과 라미네이트 성형에 의해 필름상의 박리 처리층을 기재에 적층한 구조라고 할 수 있다.
또한, 박리 필름(A)과 박리 필름(B)의 두께는 바람직하게는 1 내지 300 ㎛ 이며, 보다 바람직하게는 50 내지 200 ㎛ 이다.
본 발명에서 사용되는 지방산 아미드계 첨가제는, 예를 들어, 포화 지방산 아미드와 불포화 지방산 아미드(이하, 생략하여 모노아미드라고 칭함), 포화 지방산 비스아미드(bisamide)와 불포화 지방산 비스아미드(이하, 생략하여 비스아미드라고 칭함) 등을 들 수 있다.
모노아미드의 예로는, 포화 지방산 아미드, 예를 들어, 팔미틴산 아미드(palmitic acid amide), 스테아린산 아미드(stearic acid amide), 베헤닌산 아미드(behenic acid amide) 등을 들 수 있고, 불포화 지방산 아미드는, 예를 들면, 올레인산 아미드(oleic amide), 에르카산 아미드(erucamide) 등을 들 수 있다. 또한, 비스아미드의 예로는, 포화 지방산 비스아미드(saturated fatty acid bisamide)는, 예를 들면, 메틸렌비스스테아린산 아미드(methylene-bis-stearic acid amide), 에틸렌비스카프린산 아미드 (ethylene-bis-capric acid amide), 에틸렌비스라우린산아미드(ethylene-bis-lauric acid amide), 에틸렌비스팔미틴산아미드(ethylene-bis-palmitic acid amide), 에틸렌비스스테아린산 아미드(ethylene-bis-stearic acid amide), 에틸렌비스베헨산 아미드(ethylene-bis-behenic acid amide), 에틸렌비스아라키딘산 아미드(ethylene-bis-arachidic acid amide), 에틸렌비스리그노세린산 아미드(ethylene-bis-lignoceric acid amide), 헥사메틸렌비스스테아린산 아미드(hexamethylene-bis-stearic acid amide) 등을 들 수 있고, 불포화 지방산 비스아미드(unsaturated fatty acid bisamide)는, 예를 들면, 에틸렌비스올레인 아미드(ethylene-bis-oleic amide), 헥사메틸렌비스올레인 아미드(hexamethylene-bis-oleic amide), N,N＇-디올레이라디핀산 아미드(N,N'-dioleyladipic acid amide), N,N＇-디올레일세바신산 아미드(N,N'-dioleylsebacic acid amide) 등을 들 수 있다. 또한, 이것들 이외에도, N,N'-디헵타데실라디핀산 아미드(N,N'-diheptadecyladipic acid amide), N,N'-디헵타데실세바신산 아미드(N,N'-diheptadecylsebacid acid amide), N,N'-디헵타데실테레프탈린산 아미드(N,N'-diheptadecylterephthalic acid amide), N,N'-디헨에이코실테레프탈린산 아미드(N,N'-diheneicosylterephthalic acid amide) 등을 들 수 있다.
상기의 지방산 아미드계 첨가제 중, 본 발명의 목적을 달성할 수 있고, 또한, 광학용 투명 감압 접착체를 가열 경화시키는 데 필요한 내열성의 관점에서, 바람직한 화합물은 일반식(I)으로 나타내는 비스아미드이다.
[일반식 3]
Figure 112011088254395-pct00003
일반식(I)에 따른 R1은 탄소수가 1 내지 12의 직쇄 또는 분기쇄 알킬렌기(branched alkylene chain)를 나타내고, R2 및 R3은 탄소수가 3 내지 23(바람직하게는 탄소 수 18 내지 23)의 직쇄 또는 분기쇄사슬, 알킬 그룹, 알케닐 그룹, 알카닐 그룹 혹은 히드록시알킬 그룹이며, 동일할 수도 차이가 있을 수도 있다.
또한, 상기 박리 처리층에서, 상기 박리 처리제 이외에, 기반기재(base material) 또는 수지계 바인더로서, 수지 성분이 사용되고, 상기 수지 성분은 호모 폴리에스테르, 공중합 폴리에스테르 일 수도 있으며, 광학용 투명 감압 접착체를 경화 형성할 때, 상기 수지 성분의 내열성 관점에서, 공중합 폴리에스테르가 바람직하다.
또한, 박리 처리층에서 박리 처리제의 함유량은 본 발명의 감압 접착력 등의 성능이 발현되는 범위에서 설정되지만, 첨가량의 상한은 감압 접착체에 지방산 아미드계 첨가제가 크게 반응하여, 소망하는 감압 접착력을 얻을 수 없게 되지 않는 범위에서 설정되며, 예를 들어, 지방산 아미드계 첨가제가 비스아미드인 경우에는, 박리 처리층의 전체 중량 대비 비스아미드의 함유량이 2 내지 4 중량%인 것이 바람직하고, 또한, 모노아미드인 경우에도, 함유량이 2 내지 4 중량%인 것이 바람직하다. 또한, 박리 필름(A)과 박리 필름(B)은 이런 박리 처리층에서 비스아미드의 함유량을 변경하는 것으로, 동종일 수도, 동종이 아닐 수도(다른 것) 있으며, 그 결과, 박리 필름(A)과 박리 필름(B)은 감압 접착면(a)과 감압 접착면(b)에 대해, 각각의 밀착면의 벗김 강도를 제어 또는 변화시킬 수 있고, 광학용 투명 감압 접착체에 대한 박리 필름의 벗김 강도의 차이를 조절할 수 있다.
또한, 박리 처리층에는, 상기 박리 처리제와 기반기재로서 수지 성분 이외에, 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위에서, 예를 들면, 쉽게 미끄러지는 성질(sliding property)을 주요 목적으로 하여, 입자를 배합할 수도 있다. 배합하는 입자의 종류는, 쉽게 미끄러지는 성질을 제공 가능한 입자라면 특별히 한정되는 것은 아니며, 구체적인 예로서, 실리카, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 탄산발륨, 황산칼슘, 인산 칼슘, 인산 마그네슘, 카올린, 산화 알류미늄, 산화 티탄등의 입자를 들 수 있다. 또한, 박리 처리층의 박리성 등을 조절하기 위해서 박리 컨트롤제를 병용할 수도 있다. 또한, 상기 입자 이외에도 필요에 따라 기존에 알려진 산화 방지제, 대전 방지제, 열안정제, 윤활제, 염료, 안료등을 첨가할 수도 있다.
상기의 호모 폴리에스테르는 방향족 디카르본산(aromatic dicarboxylic acid)과 지방족글리콜(aliphatic glycol)을 중축합시켜 얻을 수 있다. 방향족 디카르본산으로서는, 테레프탈릭산(terephthalic acid), 2,6-나프타렌디카르볼릭산(2,6-naphthalenedicarboxylic acid) 등을 들 수 있고, 지방족글리콜로서는, 에틸렌글리콜(ethylene glycol), 디에틸렌글리콜(diethylene glycol), 1,4-시클로헥산디메놀(1,4-cyclohexanedimethanol) 등을 들 수 있다. 대표적인 호모 폴리에스테르로서는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌-2,6-나후타렌지카르보키시레이트(PEN) 등으로 예시 될 수 있다.
또한, 상기의 공중합 폴리에스테르는 상기의 호모 폴리에스테르에서 공중합 성분으로서, 제 3 성분을 함유시켜 얻을 수 있다. 제 3 성분의 비율은 보통 30 몰% 이하의 범위에서 선택된다. 공중합 폴리에스테르에 사용되는 상기 외의 디카르본산 성분으로서는, 이소프탈산(isophthalic acid), 프탈릭산(phthalic acid), 2,6-나프탈렌디카르본산(2,6-naphthalenedicarboxylic acid), 아디픽산(adipic acid), 세바식산(sebacic acid), 옥시카르본산(oxy-carboxylic acid)(예를 들면, P-옥시벤조산 등)등을 들 수 있고, 상기 이외의 글리콜 성분은 프로필렌 글리콜(propylene glycol), 부탄디올(butanediol), 1,4-시클로헥산디메타놀(1,4-cyclohexanedimethanol), 네오펜틸글리콜(neopentylglycol) 등을 들 수 있다.
또한, 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위에서, 상기 공중합 폴리에스테르의 예를 들면, 아크릴 수지, 우레탄 수지, 에폭시 수지, 알키드 수지 등의 유기 수지의 그래프트 중합(graft polymerization) 등에 의해 변성 폴리에스테르 수지 등을 사용할 수도 있다.
또한, 박리 필름(A)과 박리 필름(B)은, 상기의 박리 처리층이 형성되어 있는 필름(박리 처리층을 갖는 필름) 이외에도, 다른 형태로서, 도 16(a)과 같이, 박리 필름 자체가 박리 처리층인 형태, 예를 들면, 폴리에스테르 중에 상기의 지방산 아미드계 첨가제 화합물을 함유하는 폴리에스테르 필름도 이용할 수 있다. 또한, 본 발명의 제 8의 측면에서, 도 16(b)와 같이, 다른 박리 처리층이 적층된 필름을 이용할 수 있다.
여기서, 상기의 폴리에스테르 필름을 형성하는 폴리에스테르는 상기의 폴리에스테르류를 이용할 수 있다.
또한, 지방산 아미드계 첨가제의 첨가량은 본 발명의 감압 접착력 등의 성능이 발현되는 범위에서 설정되지만, 첨가량의 범위의 상한은, 감압 접착체에 지방산 아미드계 첨가제가 크게 전환(migration)하여, 소망하는 감압 접착력을 얻을 수 없게 되지 않는 범위에서 설정된다. 예를 들면, 지방산 아미드계 첨가제가 비스아미드의 경우에는, 박리 처리층 전체 중량에 대비 비스아미드의 함유량이 1 내지 5 중량%인 것이 바람직하다. 첨가량이 1 중량% 미만에서는, 충분한 효과가 발휘되지 않고, 반면에, 5 중량%를 초과하면, 가열 경화시, 비스아미드가 지나치게 크게 용출 된다. 그 결과, 겔 경화면에 용출 된 비스아미드의 박막이 형성되어, 감압 접착성이 현저하게 저하되고, 선택적인 박리 안정성을 얻는 것이 어려울 수 있다. 또한, 지방산 아미드계 첨가제가 모노아미드인 경우에도, 함유량이 1 내지 5 중량%인 것이 바람직하다.
상기의 폴리에스테르 필름을 제조함에 있어서, 지방산 아미드계 첨가제를 첨가하는 시기는, 폴리에스테르 수지 제조 후, 압출 성형 전의 단계가 바람직하다. 예를 들어, 압출 성형 전의 폴리에스테르 수지에 직접 분산 및 혼합하거나, 또는, 미리 고농도의 마스터배치 수지(masterbatch resin)를 준비하고, 이것과 폴리에스테르 폴리머를 소정의 농도가 되도록 희석 및 혼합한 후, 압출 성형하여 필름으로 하는 방법이 적용될 수 있다.
또한, 상기 지방산 아미드계 첨가제를 폴리에스테르 필름 표면에 적당히 편재시키고, 예를 들면, 지방산 아미드계 첨가제를 분산시킨 필름을 열처리하여 상기 지방산 아미드계 첨가제를 적당히 용출(출혈) 시키는 것이 바람직하다. 따라서, 필름을 열처리할 필요가 있다. 열처리 온도는 170 내지 250℃가 바람직하다. 그러나, 상기 지방산 아미드계 첨가제의 용출의 정도는 광학용 투명 감압 접착체의 감압 접착면으로 이행되지 않을 정도인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명에서는 박리 처리제로서의 지방산 아미드계 첨가제의 함유를 필수 조건으로 하며, 상기의 벗김 강도 관계식과, 감압 접착 성능의 관계식을 만족시킬 수 있으면, 박리 필름(A)과 박리 필름(B)은 상기 소재로 한정되지 않는다. 예를 들면, 박리 필름(A)과 박리 필름(B)은, 폴리에테르술폰 수지, 초산셀로스 수지, 폴리이미드 수지, 폴리 에테르 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 폴리아미드 수지, 폴리올레핀(예를 들면, 폴리프로필렌) 등의 유기 수지로부터 되는 필름; 이러한 유기 수지가 다른 유기 수지와 적층하여 만드는 필름; 혹은 이러한 유기 수지가 다른 유기 수지 필름의 표면을 코팅하여 만드는 필름을 예로 들 수 있다. 박리 필름(A)과 박리 필름(B)로서, 상기 소재를 사용하려면, 서로 다른 종류의 재질로 이루어진 것을 사용함으로써 얻어질 수 있는 광학용 투명 감압 접착체로부터, 박리 필름의 벗김 강도의 차이를 적당한 것으로 할 수 있어 바람직하다.
또한, 상기에서 언급한 적층 구조와 표면 처리에 의해 박리 필름의 양면에 다른 박리 특성을 제공함으로써, 한 장의 박리 필름으로 박리 필름(A)과 박리 필름(B)의 기능을 갖게 하고, 특히, 상기 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제조 형태의 하나인 롤 형태로 회수할 경우에는 효과적이다.
2. 광학용 투명 감압 접착 적층체 및 그 제조 방법
본 발명의 광학용 투명 감압 접착 적층체는, 상기의 광학용 투명 감압 접착체의 감압 접착면(a)에 박리 필름(A)을, 감압 접착면(b)에 박리 필름(B)을 적층하여 되는 것(예를 들면, 도 1참조)이다. 또 다른 형태로, 광학용 투명 감압 접착체의 감압 접착면(b)에 박리 필름(B)의 일면이 맞닿아 적층되며, 감압 접착면(a)에 박리 필름(B)의 이면(裏麵)이 접촉하여 롤 형태에 적층될 수 있다.(예를 들면, 도 2참조).
또한, 본 발명의 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제조 방법은 다음의 공정으로부터 되는 것이 바람직하다.
즉, (i) 미경화의 액상 점탄성 재료를 박리 필름(A)과 박리 필름(B) 사이에 개재하여 두께 설정하는 성형 공정, (ii) 성형 후 또는 성형과 동시에 가열 경화시키는 가열 공정, (iii) 경화 시트를 냉각하는 냉각 공정으로 구성될 수 있다.
또한, 박리 필름(A)과 박리 필름(B)은 각각 지방산 아미드계 첨가제를 포함하는 박리 처리층을 가지는 상기 박리층에 미경화의 액상 실리콘 겔 원료를 접촉시킨다.(본 제조 방법의 형태 뿐만 아니라, 이하에서 언급하는 다른 제조 방법의 형태에서도 미경화의 액상 실리콘 겔 원료는 박리 필름의 박리 처리층과 접촉하는 것으로 한다).
상기 (i) 성형 공정은 미경화의 액상 실리콘 겔 원료를 박리 필름(A)과 박리 필름(B) 사이에 개재하여 상기 미경화 재료와 상기 각 박리 필름의 일부 또는 전면과 접촉시킨 후, 박리 필름(A)과 박리 필름(B)의 양쪽 모두 또는 한쪽에 압력을 가하여 소망하는 실리콘 겔 두께로 설정한다. 이 때, 상기 박리 필름(A)과 박리 필름(B)를 모두 경화 후, 실리콘 겔의 감압 접착성 및 벗김 강도를 발현시키는 면(이하, 감압 접착 제어면)을 미경화의 실리콘 겔 재료와 접촉시킨다. 상기의 미경화 액상 실리콘 겔 원료를 박리 필름(A)과 박리 필름(B) 사이에 개재하는 방법 및 두께 설정 방법은, 특별히 한정되지 않지만, 프레스 방식과 캘린더 방식 등을 적용할 수 있다. 또한, 가열 방법은 통상에 알려진 가열 방법을 적용할 수 있다. 또한, 냉각 공정은 자연 냉각일 수도 있으며, 찬 바람을 맞히는 등의 통상에 알려진 냉각 장치를 적용할 수도 있다.
가열 온도는, 본 발명의 제조 방법 형태에 한정하지 않을 뿐만 아니라, 이하에서 말하는 다른 제조 방법의 형태에 대해서도, 70 내지 100℃가 바람직하고, 가열 온도를 높게 할수록(경화 완료할 때까지의 시간이 짧을수록)감압 접착성을 높게 조절할 수 있다. 또한, 70℃ 미만이면, 경화 시간이 길어져서 소망하는 감압 접착성을 얻을 수 없을 뿐만 아니라, 생산성도 저하되기 때문에 바람직하지 않다. 반면에, 100℃를 초과하면, 박리 필름의 열변형에 의한 결함이 생기기 쉬워지기 때문에, 바람직하지 않을 수 있다.
상기 (i) 내지 (iii)의 공정은 각 공정마다 배치식(bacth System)(예를 들면, 도 3참조)으로 할 수 있으며, 연속식(continuous System)(예를 들면, 도 5참조)일 수도 있다.
또한, 본 발명의 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제조 방법의 다른 형태로서, 하기의 공정으로 되는 것이 바람직하다.
즉, (I) 미경화의 액상점탄성 재료를, 지방산 아미드계 첨가제를 포함하는 박리 처리층을 가진 박리 필름(B)에 공급하고, 두께를 설정하는 성형 공정, (ii) 성형 후 또는 성형과 동시에 적어도 박리 필름(A)를 부착하는 부분을 개방 시켜 가열 경화 시키는 가열 공정, (iii) 상기 가열 경화 공정에서 얻을 수 있는 경화 시트를 냉각하는 냉각 공정, (iv) 상기 가열 공정에서 개방 시켜 가열 경화한 면에 박리 필름(A)을 부착하는 박리 필름 부착 공정으로 구성 된다.
상기 (i) 성형 공정은, 미경화의 액상 실리콘 겔 원료를 박리 필름(B)에 대략 균일한 두께가 되도록 미경화층을 형성시킨다. 두께 설정 방법은 통상에 공지된 도포 방법을 적용할 수 있다. 예를 들면, 대량생산이 뛰어난 블레이드식 코터(blade type coater) 등을 적용할 수 있다.
상기 (i) 내지 (iii) 공정은 각 공정마다 배치식(예를 들면, 도 4참조) 일 수도 있으며, 연속식 일 수도 있다. 또한, 도 8에 예시한 것과 같이, (iv)의 박리 필름 부착 공정은, 박리 필름(A)을 연속으로 공급하는 롤 형태(roll type)일 수도 있다. 또 다른 방법은 냉각된 시트를 소정의 시트로 자른 뒤, 박리 필름을 붙일 수 있다.
또한, (iv) 공정의 박리 필름(A)은 벗김 강도 F1 < 벗김 강도 F2 이며, 그 차이가 0.01 내지 0.5N/20mm인 경우, 박리 필름(B)과 같은 것을 사용할 수 있다.
또한, 본 발명의 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제조 방법의 다른 형태는 다음의 공정으로 되는 것이 바람직하다.
즉, (i) 미경화 액상의 부가 반응형 실리콘 겔 원료를, 지방산 아미드계 첨가제를 포함하는 박리 처리층을 가지는 박리 필름(B)에 공급하여 두께 설정하는 성형 공정, (ii) 성형 후 또는 성형과 동시에 상기 박리 필름(B)과 접촉되지 않는 상기 미경화 실리콘 겔 원료 표면에 적어도 일부를 공기 접촉시켜 가열 경화시키는 가열 공정, (iii) 상기 가열 경화 공정에서 얻을 수 있는 경화 실리콘 겔을 박리 필름(B)과 함께 냉각하는 냉각 공정, (iv) 상기 가열 공정으로 공기를 접촉시켜 경화시켜 형성된 감압 접착면(a)를 박리 필름(B)의 이면에 접촉시켜 박리 필름(B)과 함께 감는 공정일 수 있다.(예를 들면, 도 7참조)
상기 감는 공정에서, 제작된 경화 시트의 끝 부분의 감압 접착면(a)를 수지 등의 심재(芯材)에 밀착시켜, 주름이나 공기의 혼입이 발생하지 않도록, 감는다. 감는 방법은, 특별히 한정되지 않지만, 롤로 감는 장치로, 텐션을 조절하면서 수행하는 것이 대량 생산성이 우수하고, 바람직하다. 또한, 제작된 광학용 감압 접착체의 경도가 부드러워질수록, 압축 응력으로 인한 광학 투명 감압 접착체의 두께가 변형되기 쉽기 때문에, 감는 속도와 감는 텐션을 적당히 조절하여 감는 것이 결함을 방지할 수 있다. 또한, 박리 필름(B)의 이면에는, 박리 필름(B)과 동일하거나, 또는, 서로 다른 박리 처리를 가하여, 감압 접착면(a)과 박리 필름(B) 이면의 밀착면의 벗김 강도에 차이를 갖게 할 수 있다. 상기 이면의 처리는, 예를 들면, 지방산 아미드계 첨가제의 함유량을 바꾸는 것으로, 박리 필름(B)의 표면보다, 가볍게 박리하는 것이 매우 적합하다.
또한, 본 발명의 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제조 방법의 다른 형태는, 하기의 공정으로부터 되는 것이 바람직하다.
즉, (i) 미경화 액상의 부가 반응형 실리콘 겔 원료를, 지방산 아미드계 첨가제를 포함하는 박리 처리층을 가진 박리 필름(A)과 박리 필름(B) 사이에 개재하여 두께 설정하는 성형 공정, (ii) 성형 후 또는 성형과 동시에 가열 경화 시키는 가열 공정, (iii) 상기 가열 경화 공정으로 얻을 수 있는 경화 실리콘 겔을 박리 필름(A)과 박리 필름(B)를 함께 냉각하는 냉각 공정, (iv) 박리 필름(A)를 경화한 실리콘 겔에서 박리하여 감압 접착면(a)을 표출시키는 박리 공정, (v)감압 접착면(a)을 박리 필름(B)의 이면에 접촉시켜 박리 필름(B)과 함께 롤 형태로 감는 공정으로 구성된다.(예를 들면, 도 8참조).
또한, 상기의 제조 방법의 형태의 가열 공정은 박리 필름(A)측의 가열 온도와 박리 필름(B)측의 가열 온도를 다르게 경화시킴으로써, 보조적으로 감압 접착 성능 Ga와 Gb를 다르게 조절할 수도 있다. 가열 온도가 높은 면이 감압 접착 성능은 낮다. 박리 필름(A)측과 박리 필름(B)측의 가열 온도차이는 실리콘 원료의 종류와 박리 필름의 종류(열팽창율이나 내열성)에 따라서 다르지만, 10 내지 50℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 10 내지 30℃이다. 또한, 두께 정밀도 확보 측면에서, 중력에 대해서 아래쪽 면이 되는 측의 가열 온도를 높게 하여, 경화에 의해 경도를 높게 하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 각 제조 방법에 따른 냉각 공정은, 박리 필름(A) 면과 박리 필름(B) 면의 냉각 기울기를 다르게 함으로써, 실리콘 겔의 냉각 수축 속도와 박리 필름의 냉각 수축 속도가 균형에 의해 계면 부착 구조(예를 들면, 박리 필름에 실리콘 겔의 부착/달라붙는 효과 등)가 형성된다. 초기 박리시의 벗김 강도를 주로 이용하여 사용하는 타입의 광학용 투명 감압 접착 적층체 경우에는 효과적이다. 냉각 속도 조절은, 블로어(blower) 등의 분사 방식과 냉각판에 접촉시키는 방식 등이며, 특별히 한정되지 않는다.
또한, 상기 각 제조 방법에 따른 가열 공정은, 박리 필름(A)면의 가열 온도와 박리 필름(B)면의 가열 온도를 다르게 경화시킴으로써, 감압 접착 성능 Ga와 Gb를 다르게 조정할 수 있다. 가열 온도가 높은 면이 감압 접착 성능은 낮다. 박리 필름(A)측과 박리 필름(B)측의 가열 온도차이는 실리콘 원료의 종류와 박리 필름의 종류(열팽창율이나 내열성)에 따라서 다르지만, 10 내지 50℃이면 바람직하고, 보다 바람직하게는 10 내지 30℃이다. 또한, 두께 정밀도 확보 측면에서, 중력에 대하여 아래쪽 면이 되는 측의 가열 온도를 높게 하여, 경화에 의해 경도를 높게 하는 것이 바람직하다.
또한, 상기의 각 제조 방법에 따른 냉각 공정은, 박리 필름(A)면과 박리 필름(B)면의 냉각 기울기를 다르게 함으로써, 실리콘 겔의 냉각 수축 속도와 박리 필름의 냉각 수축 속도의 균형에 기인한 계면 밀착 구조(예를 들면, 박리 필름에의 실리콘 겔의 밀착/달라붙는 효과 등)가 형성된다. 초기 박리시의 벗김 강도를 주로 이용하여 사용하는 타입의 광학용 투명 감압 접착 적층체의 경우에 효과적이다. 냉각 속도의 조절은 블로어 등의 분사 방식이나 냉각판에 접촉시키는 방식 등 특별히 한정되지 않는다.
3. 광학용 투명 감압 접착체의 용도
본 발명의 광학용 투명 감압 접착체는, 예를 들면, 화상 표시 장치와 투명 보호 패널 사이에 이용된다. 피착체(C)와 피착체(D)의 조합으로 휴대전화 액정 디스플레이의 경우, 아크릴 등의 수지 보호 패널과 LCD 패널의 유리면(예를 들면, 도 11참조), 또는 상기 보호 패널과 TAC 등의 수지의 편광 시트(예를 들면, 도 12참조), 또한, 상기 편광 시트끼리의 적용(예를 들면, 도 13참조)이 있다. 그 밖에는, 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)와 유기 EL타입의 디스플레이의 경우에는 각 발광소자 표면과 전면 보호 패널 사이의 공간을 가득 채우도록 본 발명의 광학용 투명 감압 접착체를 적용할 수가 있다. 그 외, 광학계 광로(光路)의 전송 손실을 줄이기 위해서, 광산란을 일으키는 공간에 광접합 스페이서(optical junction Spacer)로서 적용할 수 있다. 두께는 용도에 따라 설정되지만, 예를 들면, 상기의 디스플레이 용도의 경우에는, 0.1 내지 5.0 mm, 바람직하게는 0.2 내지 2.0 mm가 충격 완충성을 제공할 수 있어 매우 적합하다.
실시예
이하, 본 발명을 실시 예에 의해 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이러한 실시예에 특히 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1]
(i) 미경화 액상 실리콘 겔 원료를 박리 필름(A)과 박리 필름(B) 사이에 개재하여 두께 설정하는 성형 공정 (ii) 성형 후에 가열 경화시키는 가열 공정 (iii) 경화 시트를 냉각하는 냉각 공정을 거쳐, 박리 필름(A)과 광학용 투명 감압 접착체와 박리 필름(B)의 순서로 적층하여 200 mm X 200 mm X 두께 2.0 mm의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
미경화의 액상 실리콘 겔 원료는, Wacker Asahikasei Silicone Co., Ltd.의 두 액체가 부가 반응형 실리콘 겔(형식: SLJ3363, 공기 중에서 전광선 투과율 90%)을 A액(주제(base resin)+가교 촉매)/B액(주제+가교제)로 55 중량부/ 45 중량부로 배합한 것을 사용하였다.
박리 필름(A)은 기재 시트의 한 면에 박리 처리층을 형성한 구조이며, 기재 시트가 되는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Terephthalate) 수지(I)과 박리 처리층이 되는 에틸렌 비스 올레인산 아미드(NOF Corp., "알프로AD-281", 이하 같이)를 박리 처리층 전체 중량 대비 4 중량%를 혼련하여, 분산된 폴리에틸렌 테레프탈레이트 수지(II)와 공압출로 제작한 것을 사용하였다. 제작한 박리 필름(A)의 두께는 60 ㎛이며, 그 중의 박리 처리층 두께는 30 ㎛이다. 또한, 상기 폴리에틸렌 테레프탈레이트 수지(I)와 폴리에틸렌 테레프탈레이트 수지(II)는 모두 Toray Industries Inc. "Lumilar"에서 생산된 수지를 사용하였다.
또한, 박리 필름(B)은, 에틸렌 비스 올레인산 아미드의 첨가량을 3 중량%로 한 것 이외는, 박리 필름(A)과 같게 하여, 박리 처리층을 형성하는 것을 사용하였다.
성형 공정의 순서는 평탄한 유리 기판 위에 박리 필름(B)의 박리 작용면을 위로하여 깔고, 또한, 박리 필름(B)의 네 모서리에 하형(female mold)로서 두께 2.0 mm의 스페이서를 두고 성형하고, 박리 필름(B)의 중심부에 두 액체에 혼합/탈포한 미경화 액상 실리콘 겔 원료를 기포를 말려들게 하지 않도록 흘려 넣은 다음, 기포를 말려들게 하지 않도록 박리 필름(A)의 박리 기능면을 상기 액상 실리콘 겔 원료 표면에 접촉 피복한 뒤, 박리 필름 위에서 상형판이 되는 평평한 유리판을 올려, 손으로 누르고, 스페이서 두께에서 성형하였다.
다음, 상기 성형 공정의 유리판형(型)과 함께 상기 실리콘 겔 원료를 열풍식 오븐 중에서 75℃, 1시간 가열 경화시킨 후, 오븐에서 꺼내 유리 기판을 제거하고, 광학용 투명 감압 접착 적층체를 목판상에서, 실온(25℃)에서 자연 냉각하였다.
[실시예 2]
미경화의 액상 실리콘 겔 원료는 Wacker Asahikasei Silicone Co., Ltd의 두 액체에 부가 반응형 실리콘 겔(형식: SLJ3363, 공기 중에서 전광선 투과율 90%)을 A액(주제+가교 촉매)/B액(주제+가교제)에 52 중량부/48 중량부로 배합한 것을 이용하고, 박리 필름(A)과 박리 필름(B)의 각각의 에틸렌 비스 올레인산 아미드의 첨가량을 3 중량%, 2 중량%로 한 것 이외는, 실시예 1과 동일하며, 시트 모양의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
[실시예 3]
(i) 미경화 액상점탄성 재료를 박리 필름(B)에 공급하여, 두께 설정하는 성형 공정, (ii) 성형 후에 박리 필름(A)를 부착하지 않고, 개방시켜 가열 경화시키는 가열 공정, (iii) 상기 가열 경화 공정에서 얻어진 경화 시트를 냉각하는 냉각 공정, (iv) 상기 가열 공정에서 개방 시켜 가열 경화한 면에, 박리 필름(A)을 부착하는 박리 필름 부착 공정을 거쳐, 박리 필름(A)과 광학용 투명 감압 접착체와 박리 필름(B)의 순서로 적층되는 200 mm X 200 mm X 두께 2.0 mm의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
또한, (i)의 성형 공정에서 두께 설정은, 평탄한 유리 기판에 박리 필름(B)의 박리 작용면을 위로하여 깔고, 박리 필름(B)에 200 mm X 200 mm X 두께 2.0 mm의 알루미늄제의 내부 치수 프레임 형식의 스페이서를 두고, 미경화 실리콘 겔 원료를 상기 거푸집 안에 가득 흘려 넣고, 스키지판(squeegee plate)으로 거푸집 표면을 따라 스키지하고, 남은 미경화 실리콘 겔 원료를 제거하는 방법으로 수행하였다.
그 다음에, 실시예 1과 동일한 조건으로 스키지면을 공기 접촉시킨 상태에서, 가열 경화 및 냉각하고, 거푸집을 제거한 후, 공기 접촉으로 경화시킨 면에 박리 필름(A)를 부착하였다.
사용한 실리콘 겔은 실시예 1과 동일하고, 또한, 박리 필름(A)과 박리 필름(B)은 동일한 것을 이용하고, 실시예 2의 박리 필름(B)과 동일하다.
[실시예 4]
실시예 3에서, 박리 필름(B)의 에틸렌 비스 올레인산 아미드(ethylene-bis-oleic acid amide)의 첨가량을 3 중량%로 한 것 이외는, 실시예 3과 동일하게 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
[실시예 5]
실시예 3에서, 박리 필름(B)의 에틸렌 비스 올레인산 아미드의 첨가량을 4 중량%으로 한 이외는, 실시예 3과 동일하게 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
[실시예 6]
실시예 4에서, 공기 접촉 경화한 면에 박리 필름(A)를 부착하는 공정을, 상기 공기 접촉 경화한 면을 박리 필름(B)의 이면에 접촉시켜 박리 필름(B)과 함께 감는 공정으로, 옮겨놓은 것과 박리 필름(B)의 이면에도, 에틸렌 비스 올레인산 아미드의 첨가량을 3 중량%로 75 ㎛ 두께의 박리 처리를 하여 박리 필름(B)의 두께를 200 ㎛으로 한 것을 제외하고는 실시예 4와 같은 조건으로 제작하여, 폭 200 mm의 롤 형태의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
감는 공정에서는, 외경 20 mmφ의 PVC 제품의 노심 재료(Core Material)에 공기 접촉면 측을 밀착시켜, 주름 공기의 혼입이 발생하지 않게 감았다.
[실시예 7]
실시예 3에서, 미경화의 액상 실리콘 겔 원료로서, 실시예 2의 원료를 경화 후에 침입도(JIS K2207 10g)가 60이 되도록, 두 액체의 배합량을 조정한 것을 사용한 것을 제외하고, 실시예 3과 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
[실시예 8]
실시예 4에서, 미경화 액상 실리콘 겔 원료를 실시예 2의 원료를 이용한 것을 제외하고, 실시예 4와 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
[실시예 9]
실시예 3에서, 미경화 액상 실리콘 겔 원료를 실시예 2의 원료를 이용한 것을 제외하고, 실시예 3과 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
[실시예 10]
실시예 4에서, 미경화 액상 실리콘 겔 원료로서, 실시예 1의 원료를, 경화 후에 침입도(JIS K2207 10g)가 150이 되도록, 두 액체의 배합량을 조정한 것을 사용한 것을 제외하고, 실시예 4와 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
[실시예 11]
실시예 5에서, 에틸렌 비스 올레인산 아미드 대신 에틸렌 비스 스테아린 산아미드(NOF Corp., "ALFLOW H50")로 한 것을 제외하고, 실시예 5와 동일하게 하여 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
[실시예 12]
실시예 5에서, 에틸렌 비스 올레인산 아미드 대신 스테아린산 아미드(NOF Corp., "ALFLOW S10")로 한 것을 제외하고, 실시예 5와 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
[실시예 13]
실시예 5에서, 에틸렌 비스 올레인산 아미드 대신 올레인산 아미드(NOF Corp., "ALFLOW E10")로 한 것을 제외하고, 실시예 5와 동일하게 하여 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
[실시예 14]
실시예 2에서, 가열 조건이 표면의 박리 필름(A)측을 70℃, 아래쪽 면의 박리 필름(A)측을 100℃으로 한 것을 제외하고, 실시예 2와 동일하게 하여 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
[실시예 15]
냉각 조건을 박리 필름(A)측을 실온에서 자연 냉각하고, 박리 필름(B)측을 10℃의 수냉 냉각판(cooling plate cooled by water)으로 강제 냉각하여, 박리 필름(A)측 대비 박리 필름(B)측을 급냉(냉각 속도를 크게)한 것을 제외하고, 실시예 2와 동일하게 하여 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
[실시예 16]
실시예 2에서, 에틸렌 비스 올레인산 아미드 대신 에틸렌 비스 베헨산 아미드(ethylene-bis-behenic acid amide)로 한 것을 제외하고, 실시예 2와 동일하게 하여 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
또한, 에틸렌비스베헨산 아미드는 베헨산(C21H43COOH, Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd., 순도 95% 이상)과 에틸렌디아민(Wako Pure Chemical INdustries, Ltd., 순도 99% 이상)[베헨산 : 에틸렌 디아민 = 0.67 : 0.33(몰비)]을 질소 분위기 하에서 용해, 가열 반응시킨 후, 크실렌, 아세톤으로 정제, 여과, 건조한 것을 사용하였다.
[실시예 17]
실시예 3에서, 에틸렌 비스 올레인산 아미드 대신 에틸렌 비스 베헨산 아미드로 바꾼 것을 제외하고, 실시예 3과 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
또한, 에틸렌 비스 베헨산 아미드는 실시예 16의 것과 동일한 것을 사용하였다.
[실시예 18]
실시예 5에서, 에틸렌 비스 올레인산 아미드 대신 에틸렌 비스 베헨산 아미드로 바꾼 것을 제외하고, 실시예 5와 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
또한, 에틸렌 비스 베헨산 아미드는, 실시예 16의 것과 동일한 것을 사용하였다.
[실시예 19]
실시예 10에서, 에틸렌 비스 올레인산 아미드 대신 에틸렌 비스 베헨산 아미드로 바꾼 것을 제외하고, 실시예 10과 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
또한, 에틸렌 비스 베헨산 아미드는, 실시예 16의 것과 동일한 것을 사용하였다.
[실시예 20]
실시예 6에서, 에틸렌 비스 올레인산 아미드 대신 에틸렌 비스 베헨산 아미드로 바꾼 것을 제외하고, 실시예 6과 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
또한, 에틸렌 비스 베헨산 아미드는, 실시예 16의 것과 동일한 것을 사용하였다.
[실시예 21]
실시예 2에서, 에틸렌 비스 올레인산 아미드 대신 에틸렌 비스 리그노세린산 아미드로 바꾼 것을 제외하고, 실시예 2와 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
또한, 에틸렌 비스 리그노세린산 아미드(ethylene-bis-lignoceric acid amide)는 리그노세린산(lignoceric acid)과 에틸렌 디아민(ethylene diamine)[리그노세린산 : 에틸렌 디아민 = 0.71 : 0.29(몰비)]을 질소 분위기하에서 용해, 가열 반응시킨 후, 크실렌, 아세톤 중에서 정제, 여과, 건조한 것을 사용하였다.
[실시예 22]
실시예 3에서, 에틸렌 비스 올레인산 아미드 대신 에틸렌 비스 리그노세린산 아미드로 바꾼 것을 제외하고, 실시예 3과 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
또한, 에틸렌 비스 리그노세린산 아미드는, 실시예 21의 것과 동일한 것을 사용하였다.
[실시예 23]
실시예 5에서, 에틸렌 비스 올레인산 아미드 대신 에틸렌 비스 리그노세린산 아미드로 바꾼 것을 제외하고, 실시예 5와 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
또한, 에틸렌 비스 리그노세린산 아미드는, 실시예 21의 것과 동일한 것을 사용하였다.
[실시예 24]
실시예 10에서, 에틸렌 비스 올레인산 아미드 대신 에틸렌 비스 리그노세린산 아미드로 바꾼 것을 제외하고, 실시예 10과 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
또한, 에틸렌 비스 리그노세린산 아미드는, 실시예 16의 것과 동일한 것을 사용하였다.
[실시예 25]
실시예 6에서, 에틸렌 비스 올레인산 아미드 대신 에틸렌 비스 리그노세린산 아미드로 바꾼 것을 제외하고, 실시예 6과 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
또한, 에틸렌 비스 리그노세린산 아미드는, 실시예 16의 것과 같은 것을 사용하였다.
[실시예 26]
실시예 5에서, 에틸렌 비스 올레인산 아미드 대신 비스아미드의 상기 일반식 (I)의 R2가 베헨산, R3가 스테아린산으로 구성된 에틸렌 비스 지방산 아미드로 한 것을 제외하고, 실시예 5와 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
또한, 상기 에틸렌 비스 지방산 아미드는 베헨산과 스테아린산과 에틸렌 디아민[베헨산 : 스테아린산 : 에틸렌디아민 = 0.64 : 0.03 : 0.33(몰비)]을 질소 분위기 하에서 용해, 가열 반응시킨 후, 크실렌, 아세톤 중에서 정제, 여과, 건조한 것을 사용하였다.
[비교예 1]
박리 필름(B)를 Panac Corp.의 알키드계로 박리 처리된 박리 필름(형식: T-9, 필름두께: 0.1 mm)로 바꾼 것을 제외하고, 실시예 3과 동일하게 하여 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다
[비교예 2]
박리 필름(B)를 Panac Corp.의 알키드계로 박리 처리된 박리 필름(형식: T-9, 필름두께: 0.1 mm)으로 바꾼 것을 제외하고, 실시예 8과 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
[비교예 3]
박리 필름(B)를 Unitika Ltd.의 플루오르실리콘계 박리 필름(형식: FZ, 필름 두께: 0.1 mm)으로 바꾼 것을 제외하고, 실시예 3과 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
[비교예 4]
박리 필름(B)의 에틸렌 비스 올레인산 아미드의 첨가량을 1 중량%로, 감압 접착 성능(Ga)과 감압 접착 성능(Gb)의 감압 접착력의 차이를 13으로 한 것을 제외하고, 실시예 3과 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
[비교예 5]
박리 필름(B)의 에틸렌 비스 올레인산 아미드의 첨가량을 7 중량%로, 감압 접착 성능(Ga)과 감압 접착 성능(Gb)의 감압 접착력을 같다고 한 것을 제외하고, 실시예 3과 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
[비교예 6]
박리 필름(B)의 에틸렌 비스 베헨산 아미드의 첨가량을 1 중량%로, 감압 접착 성능(Ga)과 감압 접착 성능(Gb)의 감압 접착력의 차이를 13으로 한 것을 제외하고, 실시예 17과 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
[비교예 7]
박리 필름(B)의 에틸렌 비스 베헨산 아미드의 첨가량을 7 중량%로, 감압 접착 성능(Ga)과 감압 접착 성능(Gb)의 감압 접착력의 차이를 1로 한 것을 제외하고, 실시예 17과 동일하게 하여 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
[비교예 8]
박리 필름(B)의 에틸렌 비스 리그노세린산 아미드의 첨가량을 1 중량%로, 감압 접착 성능(Ga)과 감압 접착 성능(Gb)과의 감압 접착력의 차이를 13으로 한 것을 제외하고, 실시예 22와 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
[비교예 9]
박리 필름(B)의 에틸렌 비스 리그노세린산 아미드의 첨가량을 7 중량%로, 감압 접착 성능(Ga)과 감압 접착 성능(Gb)과의 감압 접착력의 차이를 1로 한 것을 제외하고, 실시예 22와 동일하게 하여, 시트상의 광학용 투명 감압 접착 적층체를 얻었다.
(평가):
실시예 1 내지 26 및 비교예 1 내지 9로 제작한 광학용 투명 감압 접착체 및 광학용 투명 감압 접착 적층체에 대해, 다음의 평가방법으로 성질, 상태 및 성능을 측정했다. 그 평가 결과를 표 1 내지 4에 나타냈다.
또한, 표 1 내지 4 중, bis-A1, bis-A2, bis-A3, bis-A4 및 bis-A5의 기재는 각각 에틸렌 비스 올레인산 아미드, 에틸렌 비스 스테아린산 아미드, 에틸렌 비스 베헨산 아미드, 에틸렌 비스 리그노세린산 아미드 및 에틸렌 비스 지방산 아미드를 나타내고, mono-A1 및 mono-A2는 각각 스테아린산 아미드, 올레인산 아미드를 나타낸다.
(i) 접착성(감압 점착성):
감압 접착 성능(Ga)과 감압 접착 성능(Gb)는 경사식 볼텍 시험의 볼 넘버: JIS Z0237 "감압 접착 테이프 및 감압 접착 시트 시험 방법"의 경사식 볼텍 시험에 따라, 30도의 경사판에 시험 조각(test piece)을 붙여서, 이 시험조각 표면에 볼을 굴리고, 300초 후에 측정 부분에서 정지하는 볼 중, 최대의 볼 넘버를 찾아내 볼텍의 값으로 했다.
(ii) 박리 안정성:
이하의 평가 스텝에 따라, 차례차례 박리 안정성을 평가했다.
평가 스텝(I):
상기 광학 투명 감압 접착 적층체에서 박리 필름(A)을 박리 제거하여 감압 접착면(a)을 표출시킨다. 이때, 박리 필름(B)이 벗겨지지 않고, 박리 필름(A)만 박리 제거할 수 있으면 ○(합격), 조금이라도 박리 필름(B)이 박리하는 경우 X(불합격)로 판정했다.
평가 스텝(II):
피착체(C)로서, 1 mm의 두께를 가지는 아크릴판(Mitsubishi Rayon Co., Ltd., MR-200 L-001)은 상기 감압 접착면(a)에 이물질이나 기포가 혼입하지 않게 부착한 후, 피착체(C)를 손으로 고정하고 박리 필름(B)를 박리 제거하여 감압 접착면(b)를 표출시킨다. 이 때, 피착체(C)와 감압 접착면(a)의 부착면이 박리하지 않고 박리 필름(B)만 박리 제거할 수 있으면 ○(합격), 박리 필름(B)가 박리 되기 어려운 경우, 또는 소량이라도 피착체(C)와 감압 접착면(a)의 부착면이 박리 됐을 경우는 X(불합격)로 판정했다.
평가 스텝(III):
상기 감압 접착면(b)에 피착체(D)(상기 피착체(C)와 같은 사양의 아크릴판)를 이물질이나 기포가 혼입하지 않게 부착한 후, 1시간 실온에 방치하고, 피착체(D)를 손으로 고정하고, 피착체(C)를 박리 시킨다. 이 때, 피착체(D)측이 박리 하지 않고 피착체(C)만 박리 제거할 수 있으면 ○(합격), 피착체(D)측이 조금이라도 박리 됐을 경우는 X(불합격)로 판정했다. 각 평가 스텝의 시험 시료는 각각 5개로 하고, 모두 같은 측에 박리 했을 경우만 ○(합격)로 하고, 1개라도 반대측이 박리 됐을 경우는 X(불합격)로 판정했다. 또한, X(불합격)판정이 나온 시점에서 평가 종료로 했다.
(iii)벗김 강도:
벗김 강도(F1), 벗김 강도(F2), 벗김 강도(F3) 및 벗김 강도(F4)는 JIS Z0237 "감압 접착 테이프 및 감압 접착 시트 시험 방법"에 따른 감압 접착력 시험에서 180도 벗김 강도 감압 접착력을 인장 속도 300 mm/min에서 90도 벗김 시험기(Peel tester)로 측정했다. 벗김 강도(F1) 및 벗김 강도(F2)의 평가용의 시험 시료는 각각 도 10(a)와 도 10(b)에 나타낸 바와 같이, 피측정면의 반대측의 면이 되는 박리 필름에 프라이머를 개입시켜 미경화의 실리콘 겔 원료를 밀착시키고, 실시예 1~26 및 비교예 1~9의 구성, 가열, 냉각 조건에서 경화 시키고, 경화면의 표면 온도가 23℃이 된 후, 24시간을 더 양생(養生) 시킨 것으로 했다.(평가 시료 타입 X).
또한, 벗김 강도(F3) 및 벗김 강도(F4)의 평가는 각각 도 11(a)과 도 11(b)에 나타낸 바와 같이, 상기 평가 시료 타입 X를 작성한 후, 피측정면에 박리 필름을 밀착시켜 경화 시킨 실시예에서는, 박리 필름을 박리 제거하여 피측정 감압 접착면을 형성(개방 조건으로 경화 시킨 실시예에서 그대로)한 후, 피착체(C 또는 D)의 표면을 에탄올로 닦아 세척하고, 상기 세척된 면에 상기 평가 시료 타입 X의 피측정 감압 접착면을 부착하여 평가 시료로 삼았다(평가 시료 타입 Y). 상기 부착 조건은 2 kg의 롤러에서 300 mm/min의 속도로 한번 왕복 후, 23℃에서 20~40분 방치했다.
또한, 피착체는 두께 1 mm의 아크릴판(Mitsubishi Rayon Co., Ltd., MR-200 L001)으로 했다.
(iv)그 외의 성능, 성질과 상태:
경도:
JIS K2207 "Petroleum asphalt"에 따른 침입도 측정법으로 측정했다.
[표 1]
Figure 112011088254395-pct00004
[표 2]
Figure 112011088254395-pct00005
[표 3]
Figure 112011088254395-pct00006
[표 4]
Figure 112011088254395-pct00007
미경화 실리콘 겔 원료에 접촉시키는 박리 필름을 다르게 하여 가열 경화함으로써, 얻을 수 있는 광학용 투명 감압 접착체의 감압 접착 특성면의 감압 접착성을 이용하여 박리 필름을 조정하고, 광학용 투명 감압 접착체에 다른 감압 접착면을 형성하는 기술에서, 표 1~4의 평가 결과에서 알 수 있다. 즉, 박리 처리층에 지방산 아미드계 첨가제를 이용한 박리 필름의 적용과, 특히, 지방산 아미드계 첨가제로 비스아미드를 이용했을 경우에는, 박리 처리층 전량 대비 2 내지 4 중량%의 비스아미드가 첨가된 박리 처리층을 형성하는 것으로써, 볼텍 넘버가 5 내지 32의 범위에서, 감압 접착성이 다른 면을 가지는 광학용 투명 감압 접착체를 얻을 수 있다. 상기 광학용 투명 감압 접착체와 박리 필름을 적층해서 되는 광학용 투명 감압 접착 적층체는, 뛰어난 박리성과 박리 선택성을 실현할 수 있으며, 특히 볼 넘버 15 이상의 높은 감압 접착성을 가지는 광학용 투명 감압 접착체에서 조성되는 광학용 투명 감압 접착 적층체도, 뛰어난 박리성과 박리 선택성을 실현할 수 있는 것이 확인되었다.
또한, 본 발명의 광학용 투명 감압 접착 적층체는, 기존의 광학용 투명 감압 접착체의 감압 접착성의 범위에서도 뛰어난 박리성과 박리 선택성을 얻을 수 있기 때문에 다양한 감압 접착성의 조정이 가능한 것을 알 수 있다.
또한, 실시예 5 및 실시예 11 내지 13의 결과에서, 박리 처리층에서 상기 지방산 아미드 첨가제로서 비스아미드는, 포화 지방산 비스아미드 또는 불포화 지방산 비스아미드에서도 같은 효과가 있으며, 또한, 포화 지방산 아미드 및 불포화 지방산 아미드와 같은 모노아미드에서도 비슷한 효과를 얻을 수 있다는 것을 알 수 있다.
또한, 본 발명의 제 1의 측면인 실시예 1과 실시예 2와 같이, 미경화 실리콘 겔 원료를, 박리 필름의 비스아미드의 첨가 조건을 다르게 한 박리 필름(A)과 박리 필름(B) 사이에 두고 가열 경화하는 경우에서, 또는, 제 2의 측면인 실시예 3 내지 15와 같이, 한 면을 공기에 접촉시키고, 다른 면은 박리 필름(B)에 접촉시켜 경화시키는 경우도, 모두 표면에서 다른 감압 접착성과 뛰어난 박리성 및 박리 선택성이 실현될 수 있는 것을 알 수 있다.
또한 실시예 6과 같이, 박리 필름의 양면에 소량의 비스아미드를 함유하는 박리 처리를 실시하여, 한 면을 공기에 접촉시키고, 다른 면은 박리 필름(B)에 접촉시켜 경화 시킨 후, 롤 형태로 감은 경우에서도 같은 효과를 발휘한다는 것을 알 수 있다.
또한, 광학용 투명 감압 접착체의 감압 접착면(a)의 감압 접착 특성 Ga와 감압 접착면(b)의 감압 접착 특성 Gb는 Ga < Gb이며, Ga와 Gb는 JIS Z0237에 따른 경사식 볼텍 시험(경사각: 30도)의 볼 넘버가5 내지 32이고, 볼 넘버의 차이가 2 내지 12로, 바람직하게는 2 내지 5로 하는 것으로써, 일련의 박리, 부착 작업에서 안정된 박리 선택성을 나타냈다. 또한, 리워크 작업에서도 한 면(낮은 벗김 강도 쪽)이 안정되어 박리할 수 있었다.
또한, 실시예 1 내지 15 광학용 투명 감압 접착체 중의 어느 것도 높은 감압 접착성이므로, 피착체로서 아크릴판이나 유리판에 부착한 후에 장시간 실온에서 방치하여도, 박리나 기포의 발생은 볼 수 없었다.
또한, 리워크 작업성에 대해서는, 실시예 1 내지 26은, 피착체(C), 피착체(D)로서 각각 아크릴판과 유리판을 사용했으므로, 벗김 강도 F3와 F4의 관계는 F3 < F4이고, 피착체(C)가 선택적으로 박리 제거되는 경우, 리워크 작업성을 평가한 예이다. 그러나, 피착체(C)와 피착체(D)의 종류(재질, 표면 상태 등)의 조합에 의해, F3 > F4가 되는(피착체(D)가 선택적으로 박리 제거된다) 경우에도, 리워크 작업성을 확보할 수 있다는 것은 검증할 것도 없이 분명하다.
또한, 본 발명의 제 11 내지 13의 측면 중 어느 하나의 제조 방법에서도, 상기의 박리 안정성을 실현할 수 있고, 또한, 실시예 14 및 실시예 15에 따라, 경화 공정의 가열 온도와 냉각 속도에 의해서, 박리 안정성을 조정할 수 있다는 것을 알 수 있다.
또한 실시예 16 내지 26과 같이, 지방산 그룹의 종류를 바꾸어도, 실시예 1 내지 15와 같은 효과를 얻을 수 있다는 것을 알 수 있다. 특히, 광학용 투명 감압 접착체의 감압 접착면은 볼 넘버 32의 감압 접착력이 큰 감압 접착면에 대해서도 효과적이라는 것을 알 수 있다.
한편, 광학용 투명 감압 접착체의 감압 접착면이 볼 넘버 15를 초과하면, 표 4의 평가 결과의 비교예 1~3에 따라, 기존의 가벼운 박리 필름으로서 사용되는 알키드계와 플루오르실리콘계의 박리 필름에서는, 박리 필름(A)의 박리 제거로부터 리워크에 이를 때까지 박리 작업에서 소정의 박리성 및 박리 선택성을 얻을 수 없었다.
또한, 비교예 4 내지 9에 따라, 어느 비스아미드가 첨가된 박리 처리층을 갖는 박리 필름을 이용한 경우에도, 소정의 첨가량의 범위를 벗어나게 되면, 안정된 박리성을 얻을 수 없다는 것을 알 수 있다. 특히, 비교예 5와 7 및 9와 같이, 비스아미드의 첨가량이 과잉이 되면, 광학용 투명 감압 접착체 표면에 비스아미드가 옮겨가서 감압 접착력을 저하시키고, 감압 접착 성능(Ga)과 감압 접착 성능(Gb)의 감압 접착력 차이가 소망하는 범위보다 작아진다. 그 결과, F1과 F2가 역전하고, 박리 필름(A)의 박리 제거의 단계에서 박리 선택성이 극단적으로 나빠졌다.
본 발명의 광학용 투명 감압 접착체는 기존의 양면이 다른 감압 접착성의 광학 감압 접착체에 비해, 감압 접착력이 크고, 박리 안정성이 뛰어나므로, 화상 표시장치 등의 피착체와 부착한 후에도 뛰어난 밀착성을 유지할 수 있다. 또한, 부착할 때, 투명 감압 접착체 양면과 박리 필름과의 박리 부위 선택성이 안정되어 얻을 수 있고, 광학 부품에서 투명 감압 접착체를 제거하여, 재부착하는 리워크 작업 시, 투명 감압 접착체 양면의 박리 부위 선택성이 안정적이고, 쉽게 발현하기 때문에, 광범위한 광학용 부품에 적용할 수 있으며, 특히 디스플레이 등에 매우 적합하게 이용할 수 있다.
또한, 리사이클까지 고려했을 경우에도, 박리 부위 선택성이 안정화에 의해 화상 표시 소자의 회수 효율화에도 기여할 수 있다.
1, 100, 101, 102, 103, 104, 105. 광학용 투명 감압 접착 적층체
2. 광학용 투명 감압 접착체
21. 감압 접착면(a)
22. 감압 접착면(b)
3. 박리 필름(A)
4. 박리 필름(B)
31, 32, 311, 41, 42, 411. 박리 처리층
35, 45. 필름용 기재
5. 미경화의 광학용 투명 감압 접착체 원료
6. 피착체(C)
61. 피착체(D)
62. 보호판
63, 631, 632 편광판
65. 상기식 표시 소자(액정 소자, 유기 EL소자, 플라스마 발광소자 등)
70. 스페이서-(화형)
71. 원료 용기
73. 프라이머
75. 권 심지
80. 가열 장치(히터)
81. 독터 블레이드(스키지판)
82. 원료 공급 장치
83. 냉각 장치
84, 841, 842, 843, 844, 845. 반송 장치(컨베이어)
85. 캘린더 롤
86. 시트 절단 장치
87. 박리 필름(A) 부착 장치
91. 박리 필름(B) 공급 장치(롤)
92. 박리 필름(A) 공급 장치(롤)
93. 박리 필름(A) 박리 회수 장치(롤)
94. 박리 필름(A) 부착용 공급 장치(롤)

Claims (15)

  1. 감압 접착성(pressure-sensitive adhesive property)이 서로 다른 감압 접착면(pressure-sensitive adhesive surface: a)과 감압 접착면(b)을 포함하며, 부가반응(addition reaction)형 실리콘 겔로 형성된 단층의 광학용 투명 감압 접착체(optical transparent pressure-sensitive adhesive body)로서,
    감압 접착면(a)의 감압 접착 성능(Ga)과 감압 접착면(b)의 감압 접착 성능(Gb)의 관계가 Ga < Gb 이고, JIS Z0237에 따른 경사식 볼텍 시험(tilt type ball tack test: 경사각 30도)의 볼 넘버가 5 내지 32이고 볼 넘버의 차이가 2 내지 12이며,
    감압 접착면(a) 및 감압 접착면(b)은 상기 부가반응형 실리콘 겔의 미경화 원료를 다른 박리 필름(A)과 박리 필름(B)에 밀착시켜 가열경화 시키고, 박리 필름(A)과 박리 필름(B)의 부가반응형 실리콘 겔과의 밀착면에는 지방산 아미드계 첨가제를 가지는 박리 처리층을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체.
  2. 감압 접착성이 서로 다른 감압 접착면(a)과 감압 접착면(b)을 포함하고, 부가반응형 실리콘 겔로 형성된 단층의 광학용 투명 감압 접착체로서,
    감압 접착면(a)의 감압 접착 성능(Ga)과 감압 접착면(b)의 감압 접착 성능(Gb)의 관계가 Ga < Gb 이고, JIS Z0237에 따른 경사식 볼텍 시험(경사각: 30도)의 볼 넘버가 5 내지 32이고 볼 넘버의 차이가 2 내지 12이며,
    감압 접착면(a)은 상기 부가반응형 실리콘 겔의 미경화 원료를 공기와 접촉시켜 가열 경화 시키고, 감압 접착면(b)은 지방산 아미드계 첨가제가 포함된 박리 처리층을 포함하는 박리 필름(B)의 박리 처리층에 상기 부가반응형 실리콘 겔의 미경화 원료를 적어도 한쪽 면에 밀착시켜 가열 경화하는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 지방산 아미드계 첨가제는 포화 지방산 비스아미드(bisamide) 또는 불포화 지방산 비스아미드로부터 선택되는 1 종 이상의 비스아미드인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 박리 처리층은 비스아미드와 수지 성분을 포함하고, 비스아미드의 함유량은 박리 처리층 전체 중량 대비 2 내지 4 중량%인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 박리 필름(B)과 감압 접착면(b)의 벗김 강도(peeling strength: F2)는, JISZ0237에 따른 감압 접착력 시험에서 90도 박리(peeling) 감압 접착력이 0.5N/20mm 이하인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 박리 필름(A)과 감압 접착면(a)의 벗김 강도(F1), 박리 필름(B)과 감압 접착면(b)의 벗김 강도(F2), 및 감압 접착면(a)과 피착체(C)의 벗김 강도(F3)의 관계는, JISZ0237에 따른 감압 접착력 시험에서 90도 벗김 강도(F1)와 벗김 강도(F2)의 감압 접착력 차이가 0.01~0.5N/20mm이고, 벗김 강도(F2)와 벗김 강도(F3)의 감압 접착력 차이가 0.1N/20mm 이상인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 실리콘 겔의 경도는 SRIS 0101 규격의 아스카 C 경도(Asker C hardness)가 0 내지 30 또는 JIS K2207에 따른 침입도(25℃)가 20 내지 200인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체.
  8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 실리콘 겔의 투과율은 파장이 380 내지 780 nm에서 80% 이상인 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착체.
  9. 제 1 항 또는 제 2 항에 따른 광학용 투명 감압 접착체의 감압 접착면(a)에 박리 필름(A)을, 감압 접착면(b)에 박리 필름(B)을 적층하는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착 적층체.
  10. 제 2 항에 따른 광학용 투명 감압 접착체의 감압 접착면(b)에 박리 필름(B)의 일면이 맞닿아 적층되며, 감압 접착면(a)은 박리 필름(B)의 이면(裏麵)이 접촉하여 롤의 형태로 적층되는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착 적층체.
  11. 제 9 항에 따른 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제조 방법으로서,
    박리 필름(A)과 박리 필름(B) 사이에 미경화 액상의 부가반응형 실리콘 겔 원료를 개재하여 두께를 설정하는 성형 공정;
    성형 후 또는 성형과 동시에 가열 경화시키는 가열 공정; 및
    상기 가열 경화 공정으로 얻을 수 있는 경화 실리콘 겔을 박리 필름(A) 및 박리 필름(B)과 함께 냉각하는 냉각 공정;
    을 포함하고 있고,
    박리 필름(A)과 박리 필름(B)은 서로 다르며, 상기 부가반응형 지방산 아미드계 첨가제를 포함한 실리콘 겔 원료 쪽에 박리 처리층을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제조 방법.
  12. 제 9 항에 따른 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제조 방법으로서,
    적어도 일면에 지방산 아미드계 첨가제를 포함하는 박리 처리층을 가지는 박리 필름(B)의 박리 처리층에, 미경화 액상의 부가반응형 실리콘 겔 원료를 공급하여 두께를 설정하는 성형 공정;
    성형 후 또는 성형과 동시에 상기 박리 필름(B)과 접촉하지 않는 상기 미경화 실리콘 겔 원료 표면에 적어도 일부를 공기에 접촉시켜 가열 경화시키는 가열 공정;
    상기 가열 경화 공정으로 얻을 수 있는 경화 실리콘 겔을 상기 박리 필름(B)과 함께 냉각하는 냉각 공정; 및
    상기 가열 공정으로 공기를 접촉시켜 가열 경화시킨 면에 박리 필름(A)를 붙이는 박리 필름을 첨부하는 공정;
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제조 방법.
  13. 제 10 항에 따른 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제조 방법으로서,
    적어도 일면에 지방산 아미드계 첨가제를 가지는 박리 처리층을 포함하는 박리 필름(B)의 박리 처리층에, 미경화된 액상의 부가반응형 실리콘 겔 원료를 공급하여 두께를 설정하는 성형 공정;
    성형 후 또는 성형과 동시에 상기 박리 필름(B)과 접촉되지 않은 상기 미경화 실리콘 겔 원료 표면의 일부를 공기에 접촉시켜 가열 경화시키는 가열 공정;
    상기 가열 경화 공정으로 얻을 수 있는 경화 실리콘 겔을 상기 박리 필름(B)과 함께 냉각하는 냉각 공정; 및
    상기 가열 공정으로 공기를 접촉시키고 경화해서 형성된 감압 접착면(a)을 상기 박리 필름(B)의 또 다른 면에 접촉시켜 박리 필름(B)과 함께 감는 공정;
    을 포함하는 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제조 방법.
  14. 제 13 항에 있어서, 상기 가열 공정에서, 상기 미경화 실리콘 겔 원료가 공기와 접촉하는 측의 가열 온도는, 박리 필름(B)과 접촉하는 면의 가열 온도와 다른 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제조 방법.
  15. 제 13 항에 있어서, 상기 냉각 공정에서, 상기 경화 실리콘 겔은 공기와 접촉하는 면과 박리 필름(B)과 접촉하는 면의 냉각 속도 기울기가 다른 것을 특징으로 하는 광학용 투명 감압 접착 적층체의 제조 방법.
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