KR101463869B1 - 박막형성장치 및 박막형성방법 - Google Patents

박막형성장치 및 박막형성방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101463869B1
KR101463869B1 KR1020130000541A KR20130000541A KR101463869B1 KR 101463869 B1 KR101463869 B1 KR 101463869B1 KR 1020130000541 A KR1020130000541 A KR 1020130000541A KR 20130000541 A KR20130000541 A KR 20130000541A KR 101463869 B1 KR101463869 B1 KR 101463869B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
thin film
color
liquid material
nozzle head
nozzle
Prior art date
Application number
KR1020130000541A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20130081241A (ko
Inventor
유지 오카모토
Original Assignee
스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 filed Critical 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤
Publication of KR20130081241A publication Critical patent/KR20130081241A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101463869B1 publication Critical patent/KR101463869B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B1/00Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means
    • B05B1/14Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means with multiple outlet openings; with strainers in or outside the outlet opening
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0225Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work characterised by flow controlling means, e.g. valves, located proximate the outlet
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

솔더레지스트 등의 박막에 인자를 위한 공정수의 삭감이 요구되고 있다.
대상물에 제1 및 제2 노즐헤드가 대향한다. 제1 및 제2 노즐헤드는, 각각 제1 색 및 제2 색의 액상재료를 토출한다. 이동기구가, 대상물을 지지하는 스테이지를, 제1 및 제2 노즐헤드에 대하여, 대상물의 면내방향으로 이동시킨다. 제어장치가, 제1 노즐헤드 및 이동기구를 제어하여, 대상물에, 제1 색의 액상재료로 제1 박막을 형성하고, 제2 노즐헤드 및 이동기구를 제어하여, 대상물에, 제2 색의 액상재료로 제2 박막을 형성한다.

Description

박막형성장치 및 박막형성방법{Apparatus for forming thin film and method for forming the same}
본 발명은, 대상물 상에 액상재료를 토출하여 박막을 형성하는 장치, 및 박막을 형성하는 방법에 관한 것이다.
프린트배선판에 솔더레지스트의 패턴을 형성하는 종래의 방법에 대하여 설명한다. 우선, 표면에 회로 패턴이 형성된 프린트배선판의 전체면에, 감광성의 솔더레지스트를 도포한다. 소정의 마스크패턴을 이용하여, 솔더레지스트막을 노광하고, 그 후 현상함으로써, 솔더레지스트의 패턴이 형성된다.
통상, 솔더레지스트층의 위에, 기판을 식별하기 위한 식별정보가 인자된다. 솔더레지스트층을 노광하기 전에, 잉크젯프린터에 의하여 식별정보를 인자하는 방법이 공지되어 있다. 인자 후에, 솔더레지스트층을 노광 및 현상함으로써, 세정에 대하여 강한 인자패턴을 형성할 수 있다.
특허문헌 1: 일본공개특허공보 2006-147614호
종래의 방법에서는, 솔더레지스트층의 도포, 인자, 노광, 및 현상의 공정에 따라, 식별정보가 인자된 기판이 제조된다. 인자를 위한 공정수의 삭감이 요구되고 있다.
본 발명의 일 관점에 의하면,
대상물을 지지하는 스테이지와;
상기 대상물에 대향하여, 제1 색의 액상재료를 토출하는 복수의 노즐구멍이 형성된 제1 노즐헤드와;
상기 대상물에 대향하여, 제1 색과는 상이한 제2 색의 액상재료를 토출하는 복수의 노즐구멍이 형성된 제2 노즐헤드와;
상기 제1 노즐헤드 및 상기 제2 노즐헤드에 대하여 상기 스테이지를, 또는 상기 스테이지에 대하여 상기 제1 노즐헤드 및 상기 제2 노즐헤드를, 상기 대상물의 면내(面內)방향으로 이동시키는 이동기구와;
상기 이동기구, 상기 제1 노즐헤드, 및 상기 제2 노즐헤드를 제어하는 제어장치;를 가지고,
상기 제어장치는,
상기 제1 노즐헤드 및 상기 이동기구를 제어하여, 상기 대상물에, 상기 제1 색의 액상재료로 제1 박막을 형성하고, 상기 제2 노즐헤드 및 상기 이동기구를 제어하여, 상기 대상물에, 상기 제2 색의 액상재료로 제2 박막을 형성하는 박막형성장치가 제공된다.
본 발명의 다른 관점에 의하면,
형성해야 하는 박막패턴의 이미지데이터에 근거하여, 복수의 제1 노즐구멍으로부터 대상물의 표면에 제1 색의 액상재료를 토출하여 제1 색의 제1 박막을 형성하는 공정과,
형성해야 하는 기호패턴의 이미지데이터에 근거하여, 복수의 제2 노즐구멍으로부터 상기 대상물의 표면에 상기 제1 색과는 상이한 제2 색의 액상재료를 토출하여 제2 색의 제2 박막을 형성하는 공정을 가지는 박막형성방법이 제공된다.
제1 노즐헤드 및 제2 노즐헤드를 이용하여, 한 번의 주사에 의하여 2색의 액상재료를 도포할 수 있다. 일방의 색의 액상재료로 문자나 기호 등을 나타내면, 인자를 위한 독립된 공정을 실시하는 일 없이 인자를 행할 수 있다. 또, 2색으로 나누어 도포함으로써, 의장적인 효과를 높일 수 있다.
도 1은, 실시예 1에 의한 박막형성장치의 개략측면도이다.
도 2에 있어서, 도 2의 (A)는, 박막을 형성하는 대상물과, 형성해야 하는 박막의 평면도이며, 도 2의 (B)는, 그 일부분을 확대한 평면도이다.
도 3에 있어서, 도 3의 (A)는, 노즐유닛의 사시도이며, 도 3의 (B)는, 노즐유닛의 저면도이다.
도 4는, 제1 박막을 형성하는 액상재료와 제2 박막을 형성하는 액상재료의 착탄점의 위치를 나타내는 도이다.
도 5에 있어서, 도 5의 (A) 내지 (C)는, 실시예 1에 의한 방법으로 형성한 박막의 단면도이다.
도 6은, 실시예 1에 의한 방법으로 박막을 형성할 때에 이용되는 이미지데이터를 시각적으로 나타낸 도이다.
도 7은, 실시예 2에 의한 방법으로 형성한 박막의 단면도이다.
[실시예 1]
도 1에, 실시예 1에 의한 박막형성장치의 개략측면도를 나타낸다. 정반(20) 위에, 이동기구(21)에 의하여 스테이지(25)가 지지되어 있다. 스테이지(25) 위에, 박막을 형성할 대상물(30), 예를 들면 프린트기판이 지지되어 있다. 이동기구(21)는, 스테이지(25)를, 그 지지면에 평행한 2방향으로 이동시킴과 함께, 지지면에 수직인 축을 회전중심으로 하여 회전시킬 수 있다. 스테이지(25)는, 예를 들면 진공척에 의하여 대상물(30)을 고정한다.
스테이지(25)의 상방에, 노즐유닛(40) 및 촬상장치(50)가 배치되어 있다. 노즐유닛(40) 및 촬상장치(50)는, 지주(22) 및 빔(23)에 의하여, 정반(20)에 지지되어 있다. 노즐유닛(40)은, 복수의 노즐구멍을 가지고 있으며, 노즐구멍으로부터 대상물(25)을 향해 액상재료의 액체방울, 예를 들면 솔더레지스트의 액체방울을 토출한다. 촬상장치(50)는, 대상물(30)의 표면에 형성되어 있는 얼라이먼트마크, 배선패턴 등을 촬상한다.
촬상장치(50)에 의해 취득된 이미지데이터가, 제어장치(60)에 입력된다. 제어장치(60)는, 이동기구(21)를 제어함으로써 스테이지(25)를 이동시킨다. 또한, 제어장치(60)는, 노즐유닛(40)에 토출신호를 송신함으로써, 원하는 노즐구멍으로부터 액상재료의 액체방울을 토출시킨다. 또, 제어장치(60)는, 촬상장치(50)에 의해 취득된 이미지데이터의 화상해석을 행한다. 제어장치(60) 내에 준비된 기억장치(61)에, 박막형성에 필요한 각종 이미지데이터나, 제어장치(60)가 실행하는 프로그램 등이 기억되어 있다.
도 1에서는, 노즐유닛(40) 및 촬상장치(50)를 정반(20)에 대하여 고정하여, 스테이지(25)를 정반(20)에 대하여 이동 가능한 구성으로 했다. 그 반대로, 스테이지(25)를 정반(20)에 고정하여, 노즐유닛(40) 및 촬상장치(50)를, 정반(20)에 대하여 이동 가능한 구성으로 해도 된다. 또한, 스테이지(25)를, 정반(20)에 대하여 일차원방향으로 이동 가능하게 하여, 노즐유닛(40) 및 촬상장치(50)를, 스테이지(25)의 이동방향에 직교하는 방향으로 이동 가능한 구성으로 해도 된다.
도 2의 (A)에, 대상물(30)의 표면에 형성해야 하는 제1 박막(32), 및 표면에 형성되어 있는 얼라이먼트마크(31)의 평면도를 나타낸다. 대상물(30)의 외형은, 예를 들면 직사각형이다. 대상물(30)의 표면에, 형성해야 하는 제1 박막(32)의 평면형상을 나타내는 이미지데이터가 정의되어 있다. 또한, 대상물(30)의 네 모서리에, 얼라이먼트마크(31)가 형성되어 있다. 얼라이먼트마크(31)에는, 대상물(30)의 표면에 형성되어 있는 배선패턴과 마찬가지로, 동박이 이용된다. 제1 박막(32)의 평면형상, 얼라이먼트마크(31)의 평면형상, 및 양자의 상대위치관계를 나타내는 이미지데이터가, 기억장치(61)(도 1)에 기억되어 있다.
도 2의 (B)에, 제1 박막(32)의 일부분, 및 문자나 기호 등의 평면형상을 가지는 제2 박막(33)을 나타낸다. 도 2의 (B)의 해칭(hatching)한 영역에, 제1 박막(32)이 형성된다. 직사각형 또는 원형 등의 개구(34)에는, 동박이 노출된다. 제2 박막(33)은, "C01", "R21", "RAM", "CPU" 등의 문자의 형상에 대응하는 평면형상을 가진다. 제2 박막(33)을 형성해야 하는 위치가, 이미지데이터에 의하여 정의되어 있다.
도 2의 (B)에 나타낸 예에서는, 제2 박막(33)이, 문자를 나타내는 평면형상을 가지지만, 문자 이외의 각종 기호를 나타내는 평면형상을 가져도 된다. 제2 박막(33)은, 육안으로 식별 가능한 평면형상 및 크기를 가진다.
도 3의 (A)에, 노즐유닛(40)의 사시도를 나타낸다. 지지부재(41)의 저면에, 6개의 노즐헤드(42)가 장착되어 있다. 노즐헤드(42)의 각각에, 복수의 노즐구멍(45)이 형성되어 있다. 노즐구멍(45)은, 예를 들면 2열로 배열되어 있다. 6개의 노즐헤드(42) 중 4개의 노즐헤드(42G)는, 노즐구멍(45)으로부터, 제1 색, 예를 들면 녹색의 액상재료의 액체방울을 토출한다. 나머지 2개의 노즐헤드(42W)는, 노즐구멍(45)으로부터, 제2 색, 예를 들면 백색의 액상재료의 액체방울을 토출한다. 노즐헤드(42)는, 노즐구멍(45)의 배열방향과 직교하는 방향으로 배열되어 있다. 상호 인접한 노즐헤드(42)의 사이, 및 가장 끝에 위치하는 노즐헤드(42)보다 외측에, 자외광원(43)이 배치되어 있다. 자외광원(43)은, 대상물(30)(도 1)에 자외선을 조사한다.
도 3의 (B)에, 노즐헤드(42) 및 자외광원(43)의 저면도를 나타낸다. 노즐헤드(42)의 각각의 저면(기판(30)에 대향하는 표면)에, 2열의 노즐열(46)이 형성되어 있다. 노즐열(46)의 각각은, 도 3의 (B)에 있어서 세로방향으로, 피치(주기)(8P)로 배열된 복수의 노즐구멍(45)으로 구성되어 있다. 일방의 노즐열(46)의 노즐구멍(45)의 위치는, 타방의 노즐열(46)의 노즐구멍(45)의 위치에 대하여, 세로방향으로 4P만큼 어긋나 있다.
제1 색용의 4개의 노즐헤드(42G)는, 세로방향으로 조금씩 어긋나게 하여, 지지부재(41)(도 3의 (A))에 고정되어 있다. 어긋남량은, 1개의 노즐열(46)에 있어서의 노즐구멍(45)의 피치(8P)의 1/8이다. 예를 들면, 가장 좌측의 노즐헤드(42G)를 기준으로 하여 2번째, 3번째 및 4번째의 노즐헤드(42G)는, 도 3의 (B)에 있어서 하방으로 2P, P, 3P만큼 어긋나 있다. 세로방향에만 주목하면, 4개의 노즐헤드(42G)에 형성되어 있는 노즐구멍(45)은, 피치(P)로 등간격으로 배치되게 된다.
제2 색용의 2개의 노즐헤드(42W)는, 세로방향의 2P만큼 어긋나 고정되어 있다. 또한, 일방의 노즐헤드(42W)는, 제1 색용의 기준이 되는 노즐헤드(42G)에 대하여, 세로방향으로 P/2만큼 어긋나 있다. 세로방향에만 주목하면, 2개의 노즐헤드(42W)에 형성되어 있는 노즐구멍(45)은, 피치(2P)로 등간격으로 배치되게 된다.
이로 인하여, 제2 색용의 노즐헤드(42W)에 의하여 형성되는 기호패턴(33)(도 2의 (B))의 세로방향의 해상도는, 제1 색용의 노즐헤드(42G)에 의하여 형성되는 박막패턴(32)(도 2의 (B))의 세로방향의 해상도의 1/2이 된다. 세로방향에 관하여, 박막패턴(32)을 형성하는 액상재료의 2개의 착탄점에 대하여, 기호패턴(33)을 형성하는 액상재료의 하나의 착탄점이 대응한다. 이미 설명한 바와 같이, 제2 색용의 노즐헤드(42W) 중 하나가, 제1 색용의 기준이 되는 노즐헤드(42G)에 대하여, 세로방향으로 P/2만큼 어긋나 고정되어 있다. 이로 인하여, 세로방향에 관하여, 기호패턴(33)을 형성하는 액상재료의 착탄점이, 박막패턴(32)을 형성하는 액상재료의 2개의 착탄점의 중간에 위치하게 된다.
도 3의 (B)에 나타낸 노즐헤드(42)의 저면에 대상물(30)(도 1)을 대향시킨 상태로, 대상물(30)을 가로방향으로 이동시키면서, 노즐헤드(42)로부터 액상재료를 토출시킴으로써, 대상물(30)에 액상재료를 도포할 수 있다.
도 3의 (B)에 있어서 가로방향에 관한 해상도는, 스테이지(25)(도 1)의 이동속도, 및 노즐구멍(45)(도 3의 (B))으로부터의 액상재료의 토출주기에 의하여 결정된다. 제1 색용의 노즐헤드(42G)의 개수가 제2 색용의 노즐헤드(42W)의 개수의 2배이기 때문에, 노즐헤드(42)의 토출주기가 동일한 경우, 가로방향에 관해서도, 제2 박막(33)(도 2의 (B))의 세로방향의 해상도가, 제1 박막(32)(도 2의 (B))의 세로방향의 해상도의 1/2이 된다. 액상재료의 착탄점의, 가로방향에 관한 상대위치는, 노즐구멍(45)으로부터의 토출타이밍을 제어함으로써, 조정 가능하다.
도 4에, 제1 박막(32) 및 제2 박막(33)을 구성하는 액상재료의 착탄점의 분포를 나타낸다. 제1 박막(32)을 형성하는 액상재료의 착탄점(70)이, 세로방향 및 가로방향으로 피치(P)로 배치되어 있다. 제2 박막(33)을 형성하는 액상재료의 착탄점(71)이, 세로방향 및 가로방향으로 피치(2P)로 배치되어 있다. 착탄점(70, 71)의 위치를 나타내는 원형은, 액상재료가 대상물 표면에서 퍼지는 영역을 나타내고 있는 것이 아니라, 원형의 크기가, 당해 착탄점에 착탄되는 액체방울의 체적의 대소관계에 대응한다. 즉, 제2 박막(33)의 착탄점(71)에 착탄되는 액체방울의 체적이, 제1 박막(32)의 착탄점(70)에 착탄되는 액체방울의 체적보다 크다. 실제로는, 1개의 액체방울을 구성하는 액상재료가 퍼지는 영역은, 도 4에 나타낸 원형영역보다 넓다. 제1 박막(32)을 형성하는 액상재료는, 인접하는 착탄점에 착탄된 액상재료에 연속한다. 이로써, 면 상에서 간극이 생기지 않는 박막을 형성할 수 있다. 제2 박막(33)이 형성되는 영역에는, 제1 박막(32)을 형성하기 위한 액상재료가 착탄되지 않도록, 액상재료의 토출이 제어된다.
액체방울의 체적은, 노즐헤드(42)에 주는 토출신호에 의하여 제어 가능하다. 일례로서, 제2 박막(33)의 착탄점(71)에 착탄되는 액상재료의 체적은, 제1 박막(32)의 착탄점(70)에 착탄되는 액상재료의 체적의 약 4배이다. 제2 박막(33)의, 세로방향 및 가로방향의 해상도가, 각각 제1 박막(32)의 1/2이다. 이로 인하여, 제1 박막(32)과 제2 박막(33)의 평균 막두께를 대략 동일하게 할 수 있다.
도 5의 (A)에, 도 4의 일점쇄선(5A-5A)에 있어서의 단면도를 나타낸다. 대상물(30)의 표면에, 제1 박막(32) 및 제2 박막(33)이 형성되어 있다. 도 5의 (A)에 있어서는, 착탄점(70, 71)의 위치를 알기 쉽게 하기 위하여, 착탄점마다, 표면형상이 볼록하게 되도록 나타내고 있지만, 실제로는 거의 평탄한 표면이 얻어진다. 도 3의 (B)에 나타낸 바와 같이, 노즐헤드(42)의 사이에 자외광원(43)이 배치되어 있기 때문에, 1개의 노즐헤드(42)로부터 토출된 액상재료가 경화된 후, 다음의 노즐헤드(42)로부터 토출된 액상재료가 대상물(30)의 표면에 착탄된다.
도 5의 (A)는, 제1 박막(32)을 형성하는 액상재료가 착탄되어 경화된 후에, 제2 박막(33)을 형성하는 액상재료가 착탄된 예를 나타내고 있다. 제1 박막(32)과 제2 박막(33)의 경계에 있어서, 제2 박막(33)의 가장자리가, 제1 박막(32)의 가장자리 위에 덮여 있다.
도 5의 (B) 내지 (C)에, 제1 박막(32)을 형성하는 액상재료와, 제2 박막(33)을 형성하는 액체방울의 착탄순서가 상이한 다른 예를 나타낸다. 도 5의 (B)에 나타낸 예에서는, 제2 박막(33)을 형성하는 액상재료가 착탄되어 경화된 후, 제1 박막(32)을 형성하는 액상재료가 착탄된다. 이로 인하여, 도 5의 (A)에 나타낸 예와는 반대로, 제2 박막(33)의 가장자리가, 제1 박막(32)의 가장자리의 밑에 들어가 있다. 도 5의 (C)에 나타낸 예에서는, 제1 박막(32)과 제2 박막(33)의 경계의 장소에 따라, 착탄순서가 상이하다. 예를 들면, 도 5의 (C)의 좌측의 경계에 있어서는, 제1 박막(32)을 형성하는 액상재료가, 제2 박막(33)을 형성하는 액상재료보다 먼저 착탄된다. 도 5의 (C)의 우측의 경계에 있어서는, 그 반대로, 제2 박막(33)을 형성하는 액상재료가, 제1 박막(32)을 형성하는 액상재료보다 먼저 착탄된다.
도 6에, 실시예 1의 박막형성방법에 이용되는 이미지데이터를, 시각적으로 나타낸다. 이들 이미지데이터는, 예를 들면 래스터형식으로 정의되어 있다. 도 6에서는, 액상재료를 착탄시켜야 하는 착탄점이 위치하는 영역(박막형성영역)을, 해칭하여 나타내고 있다. 박막, 예를 들면 솔더레지스트막으로 덮어야 하는 영역을 나타내는 이미지데이터(80)에 있어서는, 박막형성영역 내에, 복수의 개구(34)가 획정되어 있다. 제2 박막(33)을 형성하기 위한 기초가 되는 이미지데이터(81)에 있어서는, 박막형성영역의 평면형상이, 문자 또는 기호를 나타내고 있다.
종래는, 솔더레지스트막을 형성한 후에, 문자 등을 인자하고 있었다. 이로 인하여, 솔더레지스트막의 패터닝은, 제1 박막(32)을 형성하기 위한 이미지데이터(80)에 근거하여 행해지고 있었다. 실시예 1에 있어서는, 도 4, 도 5의 (A) 내지 (C)에 나타낸 바와 같이, 제2 박막(33)이 형성되는 영역에는, 제1 박막(32)의 액상재료를 착탄시키지 않는다. 이로 인하여, 이미지데이터(80)로 정의된 박막형성영역으로부터, 제2 박막(33)의 이미지데이터로 정의된 박막형성영역을 제외함으로써, 이미지데이터(82)를 생성한다. 이 이미지데이터(82)에 근거하여, 제1 박막(32)을 형성한다.
상기 실시예 1에서는, 액상재료의 토출 및 경화의 처리가 종료된 시점에서, 이미 대상물(30)의 표면에 문자나 기호가 표시되어 있다. 이로 인하여, 제조공정수를 삭감할 수 있다. 또한, 문자나 기호도 솔더레지스트로 형성된다. 이로 인하여, 잉크로 문자 등을 인자하는 경우에 비해, 잉크의 박리에 의한 문자의 소실을 방지할 수 있다.
또, 제1 박막(32)과 제2 박막(33)으로 구성되는 솔더레지스트막의 막두께를, 면내에서 균일하게 접근시킬 수 있다.
상기 실시예 1에서는, 제1 박막(32)이, 주로 본래의 솔더레지스트막으로서 기능하고, 제2 박막(33)이, 주로 식별표지로서 기능한다. 여기서, "주로"라고 표기한 것은, 엄밀하게는 제2 박막(33)도 솔더레지스트막으로서의 역할을 담당하고 있기 때문이다. 단, 제2 박막(33)의 기능은, 식별표지로 한정할 필요는 없다. 예를 들면, 대상물(30)의 표면 중 솔더레지스트막을 형성해야 하는 영역을 2색으로 나누어 도포함으로써, 의장적인 효과를 갖게 할 수 있다. 이 때, 개구(34)(도 2의 (B))의 가장자리를 확정하는 영역에는, 고해상도로 패턴을 형성하는 것이 가능한 제1 박막(33)을 배치하는 것이 바람직하다.
상기 실시예 1에서는, 제1 색(예를 들면 초록)과 제2 색(예를 들면 흰색)의 2색의 액상재료를 이용했지만, 3색 이상의 액상재료를 이용해도 된다.
[실시예 2]
도 7에, 실시예 2에 의한 방법으로 형성된 박막의 단면도를 나타낸다. 실시예 1에서는, 제2 박막(33)이 형성되는 영역에는, 제1 박막(32)이 형성되지 않았다. 실시예 2에서는, 제2 박막(33)을 형성해야 하는 영역에도 제1 박막(32)이 형성된다. 제2 박막(33)은 제1 박막(32) 위에 형성된다.
실시예 2에 있어서도, 제2 박막(33)을 솔더레지스트로 형성하기 때문에, 잉크의 박리에 의한 문자 등의 소실을 방지할 수 있다. 또, 실시예 1의 방법에 비해, 입체적인 식별표지를 형성할 수 있다.
이상 실시예를 따라 본 발명을 설명했지만, 본 발명은 이들에 제한되는 것은 아니다. 예를 들면, 각종 변경, 개량, 조합 등이 가능한 것은 당업자에게 자명할 것이다.
20: 정반
21: 이동기구
22: 지주
23: 빔
25: 스테이지
30: 대상물(프린트기판)
31: 얼라이먼트마크
32: 제1 박막
33: 제2 박막
40: 노즐유닛
41: 지지부재
42: 노즐헤드
42G: 제1 색용의 노즐헤드
42W: 제2 색용의 노즐헤드
43: 자외광원
45: 노즐구멍
50: 촬상장치
60: 제어장치
61: 기억장치
70: 제1 박막의 착탄점
71: 제2 박막의 착탄점
80: 박막으로 덮는 영역을 정의하는 이미지데이터
81: 제2 박막의 이미지데이터
82: 제1 박막의 이미지데이터

Claims (10)

  1. 대상물을 지지하는 스테이지와;
    상기 대상물에 대향하여, 제1 색의 액상재료를 토출하는 복수의 노즐구멍이 형성된 제1 노즐헤드와;
    상기 대상물에 대향하여, 제1 색과는 상이한 제2 색의 액상재료를 토출하는 복수의 노즐구멍이 형성된 제2 노즐헤드와;
    상기 제1 노즐헤드 및 상기 제2 노즐헤드에 대하여 상기 스테이지를, 또는 상기 스테이지에 대하여 상기 제1 노즐헤드 및 상기 제2 노즐헤드를, 상기 대상물의 면내방향으로 이동시키는 이동기구와;
    상기 이동기구, 상기 제1 노즐헤드, 및 상기 제2 노즐헤드를 제어하는 제어장치;를 가지고,
    상기 제어장치는,
    상기 제1 노즐헤드, 상기 제2 노즐헤드 및 상기 이동기구를 제어하여, 1회의 주사에 의하여 상기 대상물에, 상기 제1 색의 액상재료로 제1 박막을 형성함과 동시에 상기 대상물에, 상기 제2 색의 액상재료로 제2 박막을 형성하며,
    상기 제1 박막은 박막패턴 이미지데이터로 정의된 박막형성영역으로부터 기호패턴 이미지데이터로 정의된 박막형성 영역을 제외함으로써 생성된 이미지데이터에 근거하여 형성되고,
    상기 제2 박막은 상기 기호패턴 이미지데이터에 근거하여 형성되는 것을 특징으로 하는 박막형성장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 액상재료 및 상기 제2 액상재료는 솔더레지스트인 박막형성장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 제2 박막은, 육안으로 식별 가능한 표지로서 기능하는 평면형상을 가지는 박막형성장치.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 제어장치는, 상기 제2 박막을 형성해야 하는 영역에는, 상기 제1 색의 액상재료를 토출하지 않도록 상기 제1 노즐헤드를 제어하는 박막형성장치.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 제2 박막의 해상도가, 상기 제1 박막의 해상도보다 낮은 박막형성장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 제어장치는, 상기 제2 노즐헤드의 노즐구멍으로부터 토출되는 상기 제2 색의 액상재료의 액체방울의 체적이, 상기 제1 노즐헤드의 노즐구멍으로부터 토출되는 상기 제1 색의 액상재료의 액체방울의 체적보다 커지도록, 상기 제1 노즐헤드 및 상기 제2 노즐헤드를 제어하는 박막형성장치.
  7. 박막패턴의 이미지데이터에 근거하여, 복수의 제1 노즐구멍으로부터 대상물의 표면에 제1 색의 액상재료를 토출하여 제1 색의 제1 박막을 형성하는 공정과,
    기호패턴의 이미지데이터에 근거하여, 복수의 제2 노즐구멍으로부터 상기 대상물의 표면에 상기 제1 색과는 상이한 제2 색의 액상재료를 토출하여 제2 색의 제2 박막을 형성하는 공정을 가지며,
    상기 제1 박막을 형성하는 공정과 상기 제2 박막을 형성하는 공정은 동시에 수행되고,
    상기 제1 박막을 형성하는 공정은 상기 박막패턴의 이미지데이터로 정의된 박막형성영역으로부터 상기 기호패턴의 이미지데이터로 정의된 박막형성영역을 제외함으로써 생성된 이미지데이터에 근거하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 박막형성방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 제1 색의 액상재료 및 상기 제2 색의 액상재료는, 솔더레지스트인 박막형성방법.
  9. 삭제
  10. 삭제
KR1020130000541A 2012-01-06 2013-01-03 박막형성장치 및 박막형성방법 KR101463869B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2012-001029 2012-01-06
JP2012001029A JP6057406B2 (ja) 2012-01-06 2012-01-06 薄膜形成装置及び薄膜形成方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130081241A KR20130081241A (ko) 2013-07-16
KR101463869B1 true KR101463869B1 (ko) 2014-11-20

Family

ID=48715497

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130000541A KR101463869B1 (ko) 2012-01-06 2013-01-03 박막형성장치 및 박막형성방법

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6057406B2 (ko)
KR (1) KR101463869B1 (ko)
CN (1) CN103192602B (ko)
TW (1) TWI593468B (ko)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016197660A (ja) * 2015-04-03 2016-11-24 積水化学工業株式会社 電子部品の製造方法及び電子部品
JP6479555B2 (ja) * 2015-04-27 2019-03-06 住友重機械工業株式会社 膜形成装置
JP6085393B1 (ja) * 2015-05-01 2017-02-22 株式会社メイコー プリント配線基板の製造方法及びプリント配線基板
WO2016185606A1 (ja) * 2015-05-21 2016-11-24 株式会社メイコー プリント配線基板及びプリント配線基板の製造方法
WO2016185607A1 (ja) * 2015-05-21 2016-11-24 株式会社メイコー プリント配線基板及びプリント配線基板の製造方法
WO2016185605A1 (ja) * 2015-05-21 2016-11-24 株式会社メイコー プリント配線基板及びプリント配線基板の製造方法
JP6968505B2 (ja) * 2018-05-17 2021-11-17 住友重機械工業株式会社 インク塗布装置及びインク塗布方法
JP2021153085A (ja) * 2020-03-24 2021-09-30 株式会社Screenホールディングス パターン形成装置、パターン形成方法、および吐出データ生成方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0715118A (ja) * 1993-06-21 1995-01-17 Hitachi Ltd プリント基板およびその製造方法
KR20000017112A (ko) * 1998-08-05 2000-03-25 히가시 데쓰로 도포·현상처리방법 및 도포·현상처리장치

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61182062U (ko) * 1985-05-07 1986-11-13
JPH07263845A (ja) * 1994-03-18 1995-10-13 Fujitsu Ltd プリント配線板の製造方法及びその製造装置
JP3599404B2 (ja) * 1995-03-01 2004-12-08 キヤノン株式会社 プリント配線板の製造方法及び製造装置
JP3704207B2 (ja) * 1996-08-12 2005-10-12 ペンタックス株式会社 プリント回路基板用インクジェット印刷装置
AU2002346740A1 (en) * 2001-06-01 2002-12-16 Litrex Corporation Interchangeable microdeposition head apparatus and method
US20030166311A1 (en) * 2001-09-12 2003-09-04 Seiko Epson Corporation Method for patterning, method for forming film, patterning apparatus, film formation apparatus, electro-optic apparatus and method for manufacturing the same, electronic equipment, and electronic apparatus and method for manufacturing the same
GB0221893D0 (en) * 2002-09-20 2002-10-30 Avecia Ltd Process
JP4505191B2 (ja) * 2003-03-31 2010-07-21 日立ビアメカニクス株式会社 電子回路基板の製造装置
JP2005125762A (ja) * 2003-09-29 2005-05-19 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成装置及び方法
US7273264B2 (en) * 2003-09-29 2007-09-25 Fujifilm Corporation Image forming apparatus and method
TWI391424B (zh) * 2005-01-12 2013-04-01 Taiyo Holdings Co Ltd A hardened resin composition for inkjet and a hardened product thereof, and a printed circuit board using the same
JP4469872B2 (ja) * 2007-04-27 2010-06-02 東京エレクトロン株式会社 塗布方法およびパターン形成方法
CN101348634B (zh) * 2007-07-20 2010-08-04 北京化工大学 一种光固化喷墨纳米导电油墨及其制备方法和使用方法
CN101588678A (zh) * 2008-05-20 2009-11-25 欣兴电子股份有限公司 防焊层的形成方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0715118A (ja) * 1993-06-21 1995-01-17 Hitachi Ltd プリント基板およびその製造方法
KR20000017112A (ko) * 1998-08-05 2000-03-25 히가시 데쓰로 도포·현상처리방법 및 도포·현상처리장치

Also Published As

Publication number Publication date
JP2013140908A (ja) 2013-07-18
JP6057406B2 (ja) 2017-01-11
CN103192602A (zh) 2013-07-10
TW201334876A (zh) 2013-09-01
CN103192602B (zh) 2016-05-04
KR20130081241A (ko) 2013-07-16
TWI593468B (zh) 2017-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101463869B1 (ko) 박막형성장치 및 박막형성방법
US10293554B2 (en) Three-dimensional object forming device and three-dimensional object forming method
TWI522021B (zh) Film forming method and thin film forming apparatus
TWI441581B (zh) 虛擬用於將墨點印刷在基板上的印刷頭的方法及儲存裝置
TWI704016B (zh) 油墨塗佈裝置及油墨塗佈方法
JP2007144635A (ja) インクジェット記録装置
JP2008091296A (ja) 液状体配置方法、カラーフィルタの製造方法、有機el表示装置の製造方法
TWI740074B (zh) 膜形成方法、膜形成裝置及形成有膜之複合基板
JP2011044481A (ja) 電子回路基板の製造装置
JP2014104385A (ja) 基板製造方法及び基板製造装置
JP5904779B2 (ja) 液体吐出ヘッドの製造方法
KR20200089597A (ko) 패턴 형성 장치, 패턴 형성 방법 및 토출 데이터 생성 방법
EP2373488B1 (en) Method of manufacturing an ink jet print head
JP6289880B2 (ja) 薄膜形成方法及び薄膜形成装置
JP6071565B2 (ja) 液体吐出ヘッドの製造方法
JP2020080379A (ja) 膜形成装置及び方法
JP2014067984A (ja) 基板製造方法及び薄膜形成装置
JP5728702B2 (ja) フィルタ製造装置およびフィルタ製造方法
JP2014100636A (ja) 基板製造方法及び基板製造装置
JP2014099520A (ja) 基板製造方法及び基板製造装置
JP6324065B2 (ja) チップの製造方法
JP2013033879A (ja) 描画装置及び描画方法
JP2010256395A (ja) カラーフィルターの製造方法
JP2018114655A (ja) 立体物造形方法及び立体物造形装置
JP2014052514A (ja) 表示装置、及び、その製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171018

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181030

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191029

Year of fee payment: 6