KR101345060B1 - 발광층 형성 방법 및 유기 발광 디바이스 - Google Patents

발광층 형성 방법 및 유기 발광 디바이스 Download PDF

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Abstract

균일한 두께의 발광층을 원하는 패턴으로 형성하는 방법과, 고품질인 표시를 구현할 수 있는 신뢰성이 높은 유기 전계발광 디바이스를 제공한다. 35 dyne/cm이상의 표면 장력을 갖는 수지 필름을 표면층으로서 가지는 블랭킷과, 전단 속도 100/초에서 측정된 5~200 cP의 범위의 점도(잉크 온도 23℃)를 가지며, 40 dyne/cm이하의 표면 장력과, 150~250℃ 범위의 비점 온도를 갖는 용매를 함유하는 발광층용 잉크를 제공하고, 발광층용 잉크를 그라비아 형태로 셀에 충전하고, 블랭킷이 상기 셀로부터 발광층용 잉크를 수용하도록 하고, 상기 블랭킷 상의 발광층용 잉크를 발광층 형성면에 전사함으로써, 발광층이 형성된다.

Description

발광층 형성 방법 및 유기 발광 디바이스{METHOD FOR LUMINESCENT LAYER FORMATION AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE}
본 발명은 그라비어 오프셋 인쇄에 의한 유기 전계발광 디바이스를 구성하는 발광층 형성 방법 및 유기 전계발광 디바이스에 관한 것이다.
유기 전계 발광(EL) 소자는, 자체발광에 의해 높은 시감도를 갖고, 액정 디스플레이와 달리 고체 상태 디스플레이고, 온도 변화의 영향을 별로 받지 않고, 시야각이 크다는 장점을 가진다. 이들 장점으로 인해, 풀 칼라 표시장치, 영역 칼라 표시장치, 조명 등의 유기 전계발광 소자로서 실용화되는 추세에 있다.
유기 전계발광소자에는, 발광층을 구성하는 유기 발광재료가 저분자 타입과 고분자 타입으로 구분된다. 예를 들면, 고분자 타입의 발광층은, 발광층용 유기 발광재료 함유 잉크를 사용해 여러 가지의 인쇄 방법, 혹은 잉크젯 인쇄 방법에 의해 형성될 수 있다. 예를 들면, 100 ~ 60000 cP의 점도를 갖는 틱소트로피 유기 발광재료 함유 잉크를 요판으로부터 실리콘 블랭킷에 수용하여, 이 잉크를 시트형태의 기판에 전사시키는 오프셋 인쇄 방법에 의해 발광층을 형성하는 방법이 제안되었다(일본 특허 공개 번호 93668/2001). 또, 5 중량%이하의 수분 용해도를 갖는 용매에 함유된 유기 발광재료를 포함하는 잉크를 제공해, 요판으로부터 블랭킷에 잉 크를 수용하고, 이 잉크를 기판에 전사시키는 오프셋 인쇄 방법에 의해 발광층을 형성하는 방법이 제안되었다(일본 특허 공개 번호 291587/2001). 또, 유기 발광재료를 함유하는 잉크를 그라비아 롤을 통해 실리콘 블랭킷의 표면에 공급해 코팅막을 형성하고, 이 코팅막을 릴리프 판으로 가압하여, 가압된 부분의 코팅막을 제거하고, 그 후, 실리콘 블랭킷 표면에 남은 코팅막을 필름형성면에 전사해 발광층을 형성하는 방법이 제안되었다(일본 특허 공개 번호 178915/2004).
또한, 유기 발광재료를 함유하는 잉크와, 이 잉크에 사용되는 용제에 침투될 때 40%이하의 체적 변화를 나타내는 실리콘 일래스토머로 이루어지는 블랭킷을 제공하여, 이 잉크를 요판의 오목부로부터 블랭킷으로 전사하고, 또한, 기판상에 이 잉크를 전사시키는 요판 오프셋 인쇄 방법에 의해 발광층을 형성하는 방법이 제안되었다(일본 특허 공개 번호 308973/2003). 또한, 풀칼라 또는 영역 칼라 표시 디바이스가 유기 전계발광 디바이스로서 제안되었다(일본 특허 공개 번호 111158/2004). 이 디바이스는, 애노드 형성된 기판상에 원하는 패턴으로 절연층을 설치해, 절연층이 형성되어 있지 않은 영역(발광 표시 영역)의 전극 패턴상에 발광층을 포함한 발광소자층을 형성하고, 이 발광소자층과 접촉하도록 절연층상에 원하는 패턴으로 캐소드를 형성함으로써 형성된다.
종래의 발광층 형성 방법에서는, 비교적 높은 점도의 잉크를 사용하는 것으로 인해, 닥터 블레이드에 의해 요판의 오목부로 잉크를 충전하는데 있어서, 만족스럽지 못한 스크래핑 또는 두께가 고르지 못한 상태가 생기기 쉽고, 따라서 균일한 두께의 발광층 형성이 어려웠다. 또, 실리콘 블랭킷에 잉크가 침투하기 쉬었다. 이 때문에, 형성된 발광층이 거친 표면을 갖고, 동시에, 실리콘 블랭킷의 인쇄 내구력이 저하되는 문제가 있었다.
유기 발광재료를 함유하는 잉크를 기판상에 스핀코팅하고, 이 코팅을 건조함으로써 균일한 두께의 발광층이 형성될 수 있다. 그러나, 스핀 코팅은, 원하는 패턴으로 발광층을 형성하려면, 포토리소그래피법과 조합되어야 하므로 공정이 복잡해지는 문제점이 있다. 이 스핀 코팅법은 발광층 형성용 잉크의 사용 효율이 낮다고 하는 추가 단점을 갖는다. 한편, 잉크젯 방법은 패턴화된 발광층을 용이하게 형성할 수 있지만, 토출된 잉크의 유동성과 표면장력 등의 조절이 불충분할 때, 균일한 두께의 발광층을 형성하는 것이 곤란했다.
또한, 종래의 풀 칼라, 혹은 영역 칼라의 표시장치로서의 유기 발광 디바이스에 대해, 발광층의 불균일한 두께로 인해 표시 품질의 향상에 한계가 있었다. 또, 절연층이 형성되어 있지 않은 영역(발광 표시 영역)에 발광소자층의 형성 결함이 있으면, 애노드와 캐소드 사이에 합선이 생겨 신뢰성을 현저하게 저하시킨다는 문제가 있었다.
본 발명은, 상기 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 관점에서 이루어진 것으로, 본 발명의 목적은 균일한 층두께의 발광층을 원하는 패턴으로 형성하는 방법과 고품질인 표시를 실현하고 신뢰성이 높은 유기 전계발광 디바이스를 제공하는 것이다.
상기 목적은, 대향 전극과, 상기 전극간에 설치되고 적어도 발광층을 갖는 발광소자층을 포함하는 유기 전계발광 디바이스의 발광층 형성 방법으로서, 적어도 유기 발광재료를 포함하는 발광층용 잉크를 그라비아 폼의 셀에 충전하는 단계; 블랭킷이 상기 셀로부터 발광층용 잉크를 수용하도록 하는 단계; 상기 블랭킷 상의 발광층용 잉크를 발광층 형성면에 전사하는 단계를 포함하고, 상기 블랭킷은 35 dyne/cm이상의 표면 장력을 갖는 수지 필름을 표면층으로서 가지고, 상기 발광층용 잉크는 전단 속도 100/초에서 측정된 5~200 cP의 범위의 점도(잉크 온도 23℃)를 가지며, 40 dyne/cm이하의 표면 장력과, 150~250℃ 범위의 비점 온도를 갖는 용매가 상기 발광층용 잉크에 사용되는, 발광층 형성 방법에 의해 달성된다.
본 발명에 따르는 방법의 바람직한 실시예에서, 상기 수지 필름은, 5~200μm의 두께를 갖는다.
본 발명에 따르는 방법의 바람직한 실시예에서, 적어도, 상기 발광층용 잉크가 그라비아 폼으로부터 수용되는 위치로부터 상기 발광층용 잉크가 상기 발광층 형성면에 전사되는 위치까지의 범위의 부분에서 회전하는 블랭킷 실린더의 원주면에 수지 필름이 감겨지는 상태로 상기 수지 필름이 반송된다.
본 발명에 따르는 방법의 바람직한 실시예에서, 쿠션층이 상기 블랭킷 실린더의 표면에 형성된다.
본 발명에 따르는 방법의 바람직한 실시예에서, 상기 발광층용 잉크에서 상기 유기 발광재료의 함유량은, 1.5~4.0 중량%의 범위에 있는다.
본 발명에 따르는 방법의 바람직한 실시예에서, 상기 그라비아 폼의 셀은, 20 ~200μm의 범위의 최대 개구 길이와, 10~200μm의 깊이를 갖는다.
본 발명에 따르는 방법의 바람직한 실시예에서, 상기 그라비아 폼에서, 복수의 셀이 1개의 영역 칼라용 패턴을 구성하고, 1개의 패턴 폭은 200μm이상이다.
본 발명에 따르는 방법의 바람직한 실시예에서, 발광색이 서로 다른 복수의 발광층이 복수 쌍의 그라비아 폼과 블랭킷을 이용해 연속적으로 형성된다.
본 발명에 따르는 방법의 바람직한 실시예에서, 그라비아 폼은 축방향으로 복수의 구획으로 분할되고, 원하는 발광층용 잉크가 각 구획마다 공급되어, 발광색이 서로 다른 복수의 발광층을 동시에 형성한다.
본 발명에 따르면, 투명기재; 상기 투명기재상에 원하는 패턴으로 형성된 투명 전극층; 상기 투명기재 상에 형성되어 상기 전극층의 원하는 부분이 노출되도록 하는 복수의 개구를 갖는 절연층; 상기 개구내의 상기 투명 전극층을 덮고, 상기 개구의 주변 부분 상에 위치된 부분의 상기 절연층상으로 연장되도록 형성되고, 적어도 발광층을 갖는 발광소자층; 상기 개구들중 원하는 개구 내에 위치하는 상기 발광소자층과 접속되도록 형성된 전극층을 포함하는 유기 전계발광 디바이스로서, 상기 발광 소자층의 발광층은 상기 방법에 의해 형성된다.
또한, 본 발명에 따르면, 기재; 상기 기재상에 원하는 패턴으로 형성된 전극층; 상기 기재상에 형성되어 상기 전극층의 원하는 부분이 노출되도록 하는 복수의 개구를 갖는 절연층; 상기 개구내의 상기 전극층을 덮고, 상기 개구의 주변 부분 상에 위치된 부분의 상기 절연층상으로 연장되도록 형성되고, 적어도 발광층을 갖는 발광소자층; 상기 개구 들중 원하는 개구 내에 위치하는 상기 발광소자층과 접속되도록 형성된 투명 전극층을 포함하는 유기 전계발광 디바이스로서, 상기 발광 소자층의 발광층은 상기 방법에 의해 형성된다.
본 발명에 따르는 유기 전계발광 디바이스의 바람직한 실시예에서, 상기 발광소자층을 구성하는 상기 발광층에서, 상기 개구내에 위치하는 부분의 두께 변동이 10% 이하이다.
본 발명에 따르는 유기 전계발광 디바이스의 바람직한 실시예에서, 상기 발광소자층은, 순서대로 적층된 적어도 정공 주입층, 발광층, 전자 주입층을 포함한다.
본 발명에 따르는 유기 전계발광 디바이스의 바람직한 실시예에서, 상기 유기 전계발광 디바이스는, 패시브 매트릭스형 또는 액티브 매트릭스형이다.
본 발명에 따르는 유기 전계발광 디바이스의 바람직한 실시예에서, 상기 유기 전계발광 디바이스는, 상기 절연층에서 1O mm 이상의 최대 개구폭을 갖는 개구를 포함하는 유기 발광 포스터이다.
본 발명에 따르는 유기 전계발광 디바이스의 바람직한 실시예에서, 상기 유기 전계발광 디바이스는, 칼라 필터층을 더 포함한다.
본 발명에 따르는 유기 전계발광 디바이스의 바람직한 실시예에서, 상기 유기 전계발광 디바이스는, 상기 칼라 필터층과 상기 투명 전극의 사이에 형성된 색변환 형광물질층을 더 포함한다.
본 발명에 따르는 유기 전계발광 디바이스의 바람직한 실시예에서, 상기 유기 전계발광 디바이스는, 상기 발광소자층에서, 백색을 포함한 원하는 발광색의 발광층이 형성되거나, 또는 각각 원하는 발광색의 발광층이 소정의 패턴의 조합으로 형성된다.
본 발명에 따르는 유기 전계발광 디바이스의 바람직한 실시예에서, 상기 발광소자층은, 청색 광을 방사하고, 상기 색변환 형광물질층은 청색 광을 녹색 형광으로 변환해 녹색 형광 광을 방사하는 녹색 변환층과, 청색 광을 적색 형광으로 변환해 적색 형광 광을 방사하는 적색 변환층을 포함한다.
본 발명에 따르는 유기 전계발광 디바이스의 바람직한 실시예에서, 상기 유기 전계발광 디바이스는, 상기 정공 주입층용 코팅막을 형성하고, 상기 정공 주입층용 코팅막을 형성한 뒤 1분 이내에 상기 발광층용 코팅막을 형성하고, 이 2층을 100~200℃의 온도 범위에서 동시에 건조함으로써 형성된 정공 주입층과 발광층을 포함한다.
본 발명에 따르는 발광층 형성 방법에 따르면, 발광층이 균일한 두께로 형성될 수 있다. 또, 각 발광색에 대해, 발광층이 원하는 패턴으로 형성될 수 있다. 또한, 수지 필름기재 등의 플렉서블 기재상에 발광층이 형성될 수 있고, 블랭킷의 인쇄 내구력이 매우 높으므로, 유기 전계발광 디바이스의 제조 코스트가 또한 저감될 수 있다.
또, 본 발명에 따르는 유기 전계발광 디바이스에서, 개구의 주변 부분의 절연층으로 연장되도록 발광소자층이 형성되기 때문에, 발광소자층을 통해 서로 대향하는 위치에 존재하는 전극간의 합선이 발생될 염려가 없으므로, 높은 신뢰성이 얻어질 수 있다. 또한, 발광소자층의 발광층이 본 발명에 따르는 방법으로 제조되기 때문에, 발광층의 두께가 균일하고 고품질의 표시가 실현될 수 있다. 따라서, 본 발명은 풀 칼라 표시장치, 영역 칼라 표시장치, 조명 등의 각종 유기 전계발광 소자의 제조에 유용하다.
도 1은 본 발명에 따른 발광층 형성 방법을 도시하는 도면이다.
도 2는 본 발명에 따른 발광층 형성 방법을 도시하는 도면이다.
도 3은 본 발명에 따른 발광층 형성 방법을 도시하는 도면이다.
도 4는 그라비아 폼의 셀을 도시하는 도면이다.
도 5는 본 발명에 따른 발광층 형성 방법을 도시하는 도면이다.
도 6은 본 발명에 따른 발광층 형성 방법을 도시하는 도면이다.
도 7은 본 발명에 따른 유기 전계 발광 디바이스의 일 실시예를 나타내는 부분 단면 사시도이다.
도 8은 본 발명에 따른 유기 전계 발광 디바이스의 다른 실시예를 나타내는 평면도이다.
도 9는 발광층과 절연층의 개구와의 관계를 나타내는 도면이다.
도 10은 본 발명에 따른 유기 전계 발광 디바이스의 또 다른 실시예를 나타내는 사시도이다.
도 11은 도 9에 나타내는 유기 전계 발광 디바이스의 A-A선으로 취한 단면도이다.
도 12는 본 발명에 따른 유기 전계 발광 디바이스의 다른 실시예를 나타내는 부분 단면도이다.
도 13은 본 발명에 따른 유기 전계 발광 디바이스의 다른 실시예를 나타내는 부분 단면도이다.
첨부 도면을 참조하여 본 발명을 설명한다.
[발광층 형성 방법]
도 1은, 본 발명에 따른 발광층 형성 방법을 도시하는 설명도이다. 도 1에 있어서, 인쇄 유니트(1)를 구성하는 잉크 팬(9)에 포함된 발광층용 잉크(15)는, 회전하는 그라비아 폼(2)의 표면에 공급된다. 발광층용 잉크(15)의 불필요한 부분이 닥터 블레이드(10)에 의해 긁어져서, 발광층용 잉크(15)가 셀(3)에만 공급된다. 셀(3)내의 발광층용 잉크(15)는 블랭킷(4)에 수용되어 그 후, 임프레션 실린더(8)에 반송되고 있는 기재(11)의 발광층 형성면(11A)에 전사된다. 이 기재(11)는 건조 존(13)에 보내져, 발광층용 잉크(15)가 건조되어 발광층(20)을 형성된다.
본 발명에서, 블랭킷 실린더(6)의 표면에 표면층으로서 구비된, 35 dyne/cm이상, 바람직하게는 35~65dyne/cm의 표면 장력을 갖는 수지 필름(5)을 포함하는 어셈블리가 블랭킷(4)으로서 사용된다. 또, 발광층용 잉크(15)로서 전단 속도 100/초 및 잉크 온도 23℃의 조건 하에서 측정하여, 5~200 cP의 점성, 바람직하게는 20 ~ 150cP의 점성을 갖고, 40dyne/cm이하, 바람직하게는 20 ~ 37dyne/cm의 용매의 표면장력, 및 150 ~ 250℃, 바람직하게는 170 ~ 230℃의 비점의 잉크가 발광층용 잉크(15)로서 사용된다.
블랭킷(4)의 표면층을 구성하는 수지 필름(5)의 표면장력이 35dyne/cm미만 일 때, 그라비아 폼(2)로부터의 잉크 수용성이 저하하고, 따라서 균일한 두께의 발광층(20)의 형성이 곤란하다. 수지 필름(5)의 표면장력(고체의 표면장력 [γs])은, 표면장력이 알려진 2 이상의 액체(표준 물질)를 사용하여 자동 접촉각계(쿄와 계면 과학(주)에 의해 제조된 모델 DropMaster 700형)로 접촉각 θ을 측정하고, γs(고체의 표면장력) = γL (액체의 표면장력) cosθ+γSL(고체와 액체의 표면장력)의 식에 근거해 고체의 표면 장력을 결정하여 구해진다.
사용하는 수지 필름(5)의 예는, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름, 용이 접착 타입의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름, 코로나 처리된 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름, 폴리페닐렌 설파이드 필름, 코로나 처리된 폴리페닐렌 설파이드 필름, 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름, 용이 접착 타입의 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름, 폴리노르보르넨 필름, 멜라민-기반 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름 등의 수지 필름을 포함한다. 수지 필름(5)의 두께는, 예를 들면, 5~200μm, 바람직하게는 10~100μm의 범위에 있을 수 있다. 수지 필름(5)의 두께가 5μm미만일 때, 필름 가공성, 블랭킷 실린더(6)로의 장착성이 저하해 바람직하지 않다. 한편, 수지 필름(5)의 두께가 200μm를 넘으면, 경도가 너무 높아져 유연성이 저하해 바람직하지 않다.
도 1에서, 블랭킷 실린더(6)은 그 표면층에 쿠션층(6a)을 갖는다. 이 쿠션층(6a)의 경도는, 예를 들면, 20 ~80°의 범위에 있을 수 있다. 두께는, 예를 들면, 0.1~30 mm의 범위에 있을 수 있다. 상기의 경도는, JIS K 6253에서 규정된 경도계 경도 테스트에 의해 측정된 유형 A 경도이다.
또, 도 1에 나타나는 예에서, 수지 필름(5)은, 블랭킷 실린더(6)에 일체적으로 장착된다. 또는, 도 2에 나타낸 예에서, 블랭킷 실린더(6) 주위에 감기도록 수지 필름(5)이 블랭킷 실린더(6)의 회전과 함께 반송되도록 할 수 있다. 이 경우, 적어도 그라비아 폼(2)로부터 발광층용 잉크(15)가 수용되는 위치(화살표 a로 표시된 위치)와 발광층용 잉크(15)가 발광층 형성면(11A)에 전사되는 위치(화살표 b로 표시된 위치)까지의 범위의 부분에서, 블랭킷 실린더(6) 주위에 수지 필름(5)이 감기게 할 필요가 있다. 이러한 수지 필름(5)은, 공급 롤(미도시)로부터 블랭킷 실린더(6)상에 반송 공급되어 와인드업 롤러(미도시)에 감아올려지는 구성도 가능하다. 또, 수지 필름(5)이 엔드리스 필름의 형태로 사용되어, 롤러(미도시)와 블랭킷 실린더(6) 사이에 설치된 무한 궤도에 반송되는 구성도 가능하다.
또, 본 발명에서는, 그라비아 폼을 판 모양으로 해도 된다. 도 3은, 이 실시예를 나타내는 도면이다. 도 3에서, 판 형상의 그라비아 폼(2')의 표면에 발광층용 잉크(15)가 공급되고, 닥터 블레이드(미도시)로 발광층용 잉크(15)의 불필요한 부분을 긁어내어, 셀(3')에만 발광층용 잉크(15)가 공급된다. 다음에, 이 셀(3')내의 발광층용 잉크(15)는, 블랭킷(4)에 수용되고, 판 모양의 기재(11)의 발광층 형성면(11A)에 전사되고 건조되어 발광층이 형성된다. 또는, 실린더(8) 위에 반송되고 있는 기재(11)의 발광층 형성면(11A)에 발광층용 잉크(15)가 전사되고 건조되어 발광층을 형성할 수 있다.
상기의 발광층용 잉크(15)의 점성이 전단 속도 100/초, 잉크 온도 23℃의 조건에서 측정하여 5 cP미만일 때, 잉크 새깅(sagging)이 생기거나 원하는 두께의 발광층의 형성이 곤란해진다. 한편, 점성이 200 cP를 넘으면, 그라비아 폼(2)의 셀 도트 마크로 인해 요철이 커지고, 균일한 두께의 발광층의 형성이 곤란해진다. 점도는 점탄성 측정 장치(Physica 사제의 모델 MCR301)에 의해, 온도 23℃에서 정상류측정 모드에서 측정된다. 또, 발광층용 잉크(15)는, 전단 속도100/초, 잉크 온도 23℃의 조건에서 측정된 점성 Vl과, 전단 속도 1000/초, 잉크 온도 23℃의 조건에서 측정된 점성 V2와의 비, 즉 Vl/V2가 0.9~1.5 정도이고, 즉, 거의 뉴턴 유동을 나타낸다.
또, 발광층용 잉크(15)에 사용되고 있는 용매의 표면장력이 40dyne/cm를 넘으면, 그라비아 폼(2)로부터의 발광층용 잉크(15)의 수용성이 저하해 바람직하지 않다. 또한 , 발광층용 잉크(15)의 용매의 비점이 150℃미만이고, 블랭킷(4)을 구성하는 수지 필름(5)로부터 기재(11)의 발광층 형성면(11A)에 전사된 발광층용 잉크(15)가 즉시 건조되고, 따라서, 발광층(20)에 줄무늬가 발생하기 쉬워진다. 비점이 250℃를 넘으면, 건조가 곤란해진다. 바람직하지 않게, 예를 들면, 건조 존(13)에서의 건조로 기재(11) 등에 악영향이 생기거나 용매의 일부가 제거되지 않고 남게 된다. 용매의 표면장력은, 표면장력계(쿄와계면과학(주)제의 모델 CBVP-Z)에 의해, 액체의 온도 20℃에서 측정된다. 발광층용 잉크(15)에 이용가능한 유기 발광재료로서는, 예를 들면, 아래와 같은 색소계, 금속 컴플렉스계, 고분자계 유기 발광재료를 들 수 있다.
(1) 색소계 발광재료
색소계 발광재료는, 시클로펜타디엔 유도체, 테트라 페닐 부타디엔 유도체, 트리페닐 아민 유도체, 옥사디아졸 유도체, 피라조로키노린 유도체, 디스티릴벤젠 유도체, 디스티릴아리렌 유도체, 실롤 유도체, 티오펜 환화합물, 피리딘 환화합물 , 페리논 유도체, 페릴렌 유도체, 올리고티오펜 유도체, 트리푸마닐아민 유도체, 옥사디아졸 디머, 피라조린 디머 등을 포함한다.
(2) 금속 컴플렉스계 발광재료
금속 컴플렉스계 발광재료는, 예를 들면, 퀴노리놀 알루니늄 컴플렉스, 벤조퀴노리놀베릴륨 컴플렉스, 벤조사졸 아연 컴플렉스, 벤조티아졸 아연 컴플렉스, 아조메틸 아연 컴플렉스, 포르피린 아연 컴플렉스, 유로퓸 컴플렉스를 포함하고, 착제에서, Al(알루미늄), Zn(아연), Be(베릴륨)등 , 또는, Tb(테르븀), Eu(유로퓸), Dy(디스프로슘) 등의 희토류 금속이 중심 금속으로 제시되고, 배위자(ligand)는 옥사디아졸, 티아디아졸, 페닐피리딘, 페니벤조이미다졸, 키놀린 또는 다른 구조를 갖는다.
(3) 고분자계 발광재료
고분자계 발광재료는, 폴리-p-페니렌비니렌 유도체, 폴리 티오펜 유도체, 폴리-p-페니렌 유도체, 폴리실란 유도체, 폴리아세틸렌 유도체, 폴리비닐카르바졸 유도체, 폴리 플루오렌 유도체를 포함한다.
발광층용 잉크(15)에 있어서의 상기 유기 발광재료의 함유량은, 예를 들면, 1.5~ 4.0 중량%의 범위에서 설정될 수 있다.
발광층용 잉크(15)에 사용되는 용매는, 표면장력이 상기 지정된 범위(40dyn es/cm 이하)이고, 비점이 상기 지정된 범위(150~250℃)에 있는 요구사항을 만족한 다. 이 용매의 예들은 쿠멘, 아니솔, n-프로필 벤젠, 메시티렌, 1, 2, 4-트리메틸 벤젠, 리모넨, p-시멘, o-디클로로 벤젠, 부틸 벤젠, 디에틸 벤젠, 2, 3-디히드로벤조푸란, 벤조산염 메틸, 1, 2, 3, 4-테트라 메틸 벤젠, 아밀 벤젠, 테트라린, 벤조산염 에틸, 페닐 헥산, 시클로 헥실 벤젠, 벤조산염 부틸을 포함한다. 이들은 단독으로 사용될 수 있다.
혼합 용매가 사용될 때, 혼합비에 기초한 비율에 근거해 계산된 상기 규정된 표면장력과 비점을 가져야 한다. 예를 들면, 표면장력이 A dyne/cm, 비점이 B ℃의 용매 1과 , 표면장력이 C dyne/cm, 비점이 D ℃의 용매 2가 3:7의 중량비로 구성된 혼합 용매의 경우, 혼합비에 따른 비율에 기초해 계산된 표면장력[(A×3/10)+(C×7/10)]가 상기 규정된 범위(40 dynes/cm이하)에 있어야 하고, 동시에, 혼합비에 따른 비율에 기초해 계산된 비점[(B×3/10)+(D×7/10)]이 상기 규정된 범위(150~250℃)에 있어야 한다. 따라서, 혼합비에 따른 비율에 기초해 계산된 혼합 용매의 표면장력과 비점이 상기 규정된 각각의 범위에 있기만 하면, 혼합 용매를 구성하는 개개의 용매의 표면장력과 비점이 상기 규정된 범위 밖에 있어도 된다.
본 발명에 따른 발광층 형성 방법에서, 그라비아 폼(2)의 셀(3)의 최대 개구길이가 20 ~200μm, 바람직하게는 30~170μm의 범위에 있고, 깊이가 10~200μm, 바람직하게는 15~150μm의 범위에 있는 것이 바람직하다. 셀(3)의 최대 개구 길이가 20μm미만일 때, 원하는 두께의 발광층의 형성이 곤란하다. 한편, 최대 개구 길이가 200μm를 넘으면, 닥터 블레이드(10)로 불필요한 잉크를 긁어내는 것이 불충분 하다.
또, 본 발명에 따른 발광층 형성 방법에서, 셀이 그라비아 폼(2)로 형성되므로, 복수의 셀이 1개의 영역 칼라용 패턴을 구성한다. 도 4는, 이 예를 나타낸다. 도 4에 나타낸 실시예에서, 복수의 셀(3)(도면에 도시된 실시예에서 15 셀)이 패턴(쇄선으로 나타낸 형상)을 구성한다. 이 경우, 1개의 패턴의 폭 W는 200μm이상, 바람직하게는 300μm이상이다. 패턴폭 W는, 그라비아 폼(2)의 회전 방향(도 4에 화살표 a로 나타낸 방향)에 직교하는 방향의 최소폭이다. 패턴폭 W가 200μm미만일 때, 패턴의 에지 부근의 두께 변동이 10%이상이 되어 바람직하지 않다.
또, 본 발명에 따른 발광층 형성 방법에서는, 발광 색이 서로 다른 복수의 발광층이 복수 쌍의 그라비아 폼과 블랭킷을 이용해 연속해 형성될 수 있다. 도 5는 이 예를 나타낸다. 이 시스템은, 빨강 발광층 형성용의 그라비아 폼(2R)와, 블랭킷(4) 및 임프레션 실린더(8)를 구비한 유니트(1R), 초록 발광층 형성용의 그라비아 폼(2G)와, 블랭킷(4) 및 임프레션 실린더(8)를 구비한 유니트(1G), 파랑 발광층 형성용의 그라비아 폼(2B)와, 블랭킷(4) 및 임프레션 실린더(8)를 구비한 유니트(1B)를 포함한다. 유니트(1R, 1G, 1B)는, 상기 인쇄 유니트(1)와 동일하다. 유니트(1R, 1G, 1B)의 잉크 팬(9)에는, 대응하는 적색 발광층용 잉크(15R), 녹색 발광층용 잉크(15G), 청색 발광층용 잉크(15B)가 공급된다. 유니트(1R, 1G, 1B)의 순서로, 적색 발광층용 잉크(15R), 녹색 발광층용 잉크(15G), 청색 발광층용 잉크(15B)가 기재(11)의 발광층 형성면(11A) 측에 연속적으로 전사되고, 건조되어, 적색 발광층(20R), 녹색 발광층(20G), 청색 발광층(20B)을 형성한다. 이 경우, 발광층의 임의의 원하는 형성 패턴이 설정될 수 있고, 발광층의 형성 순서는 상기의 순서로 한정되지 않는다.
또, 본 발명에 따른 발광층 형성 방법의 실시예에서는, 그라비아 폼(2)가 축방향으로 복수의 구획으로 분할되고, 각 구획에 임의의 발광층용 잉크가 공급되어, 발광색이 서로 다른 복수의 발광층을 동시에 형성할 수 있다. 도 6은 이 실시예를 도시하는 도면이다. 도 6에서, 그라비아 폼(2)는 축방향(화살표 b로 표시된 방향)으로 3구획(2G, 2R, 2B)로 분할되고, 영역 칼라용 패턴을 형성하기 위한 복수의 셀(3)이 각 구획에 형성된다. 적색 발광층용 잉크(15R), 녹색 발광층용 잉크(15G), 청색 발광층용 잉크(15B)가 각각 구획(2G, 2R, 2B)에, 예를 들면, 분배자 방법으로 공급되고, 상기 설명한 바와 같이, 적색 발광층용 잉크(15R), 녹색 발광층용 잉크(15G), 청색 발광층용 잉크(15B)가 기재(11)의 발광층 형성면(11A) 측에 연속적으로 전사되고, 건조되어, 영역 칼라 패턴으로서 적색 발광층(20R), 녹색 발광층(20G), 청색 발광층(20B)을 형성한다. 설계 패턴, 치수, 위치 관계 등은 원하는 대로 설정될 수 있다.
상기 실시예에서 블랭킷(4)은, 그라비아 폼(2)와 임프레션 실린더(8)의 회전 방향에 대해 전진 방향으로 회전된다. 그러나, 형성되는 발광층 패턴에 의거하여, 블랭킷(4)은, 그라비아 폼(2)와 임프레션 실린더(8)의 회전 방향에 대해 직교하는 방향으로 회전될 수 있다. 또, 기재(11)은 시트 형태일 수 있고, 그라비아 폼(2)로의 발광층용 잉크(15)의 공급은, 잉크 팬(9)을 사용하지 않고, 예를 들면 분배자에 의해 실행될 수 있다.
[유기 전계발광 디바이스]
도 7은, 유기 전계발광 디바이스의 일 실시예를 나타내는 부분 단면 사시도이다. 도 7에서, 유기 전계 발광 디바이스(31)는, 투명기재(32)와 이 투명기재(32)상에 화살표 a로 표시된 방향으로 연장된 스트립 패턴으로 설치된 복수의 투명 전극층(33), 스트라이프 형상의 개구(35)를 갖는 절연층(34), 각 투명 전극층(33)상에 위치하는 스트라이프 형상의 개구(35) 내의 투명 전극층(33)을 피복하도록 설치된 발광소자층(36), 이 발광소자층(36) 상의 투명 전극층(33)과 직교하는 화살표 b로 표시된 방향으로 연장된 스트립 패턴의 복수의 전극층(40)을 포함한다. 절연층(34)의 개구(35)는, 화살표 a방향에 따른 스트라이프 형상의 개구이며, 각 투명 전극층(33) 상에 각각 위치된다.
발광소자층(36)은, 절연층(34)과 각 개구(35)내의 투명 전극층(33)을 덮도록 설치된 정공 주입층(37)과, 개구(35)내의 투명 전극층(33)(정공 주입층(37))을 피복하고, 개구(35)의 주변부 상에 위치된 부분에 절연층(34) 위로 연장되도록 각 개구(35) 마다 설치된 복수의 발광층(38)과, 이들을 피복하도록 설치된 전자 주입층(39)을 포함한다. 도 7에서, 발광층(38)에, 적색 발광층(38R), 녹색 발광층(38G), 청색 발광층(38B)이 스트립 형상으로 이 순서로 반복해 배열된다. 전자 주입층(39)은 절연층(34)을 덮도록 설치된다. 그러나, 전자 주입층(39)은 전극층(40)의 하층이 되는 영역에만 형성될 수 있다.
이 유기 전계 발광 디바이스(31)는, 스트립 패턴의 투명 전극층(33)이 전극층(40)과 교차하는 부분에서 발광 영역을 형성하는 패시브 매트릭스형이다. 발광소 자층(36)의 발광층(38)은, 본 발명에 따른 발광층 형성 방법에 의해 형성된 발광층이다. 개구(35)의 주위의 부분에서 절연층(34) 위에 연장되도록 설치된 발광소자층(36)이, 발광소자층(36)이 투명 전극층(33)과 전극층(40) 사이에서 유지되는 위치에 존재하는 투명 전극층(33)과 전극층(40)의 합선을 방지하기 때문에, 유기 전계 발광 디바이스(31)는 신뢰성이 높은 것이다. 또, 발광소자층(36)의 발광층(38) 이 본 발명에 따른 제조 방법으로 형성되므로, 그 두께의 변동은 10%이하로 두께가 균일하다. 따라서, 고품질의 표시가 실현될 수 있다. 발광층(38)의 두께 변동은, 다음 식 [(최대 두께 - 최소 두께)/평균 두께]×100(%)으로 계산된다. 발광층(38)의 두께는, 세이코 인스트루먼트(주) 제의 Nanopics 1000으로, 이 장치의 표준 디바이스로 제공되는 컨택트 모드용 캔틸레버를 이용하여, 측정 영역 100μm 및 스캔 속도 90sec/frame의 조건 하에서 측정된다. 다음에, 본 발명에 따른 유기 전계 발광 디바이스(31)를 구성하는 각 부재를 설명한다. 유기 전계 발광 디바이스(31)를 구성하는 투명기재(32)는, 통상, 관찰자측의 장치의 표면에 설치되고, 발광층(38)으로부터 방사된 광을 관찰자가 용이하게 볼 수 있는 정도의 투명성을 가진다. 후술하는 것같이, 발광층(38)으로부터 방사된 광이 상기 경우와 반대로 취해질 때, 투명 기판(32) 대신에 불투명한 기판을 사용해도 된다.
투명 기판(32)(또는 투명 기판 대신에 사용된 불투명한 기판)은 예를 들면, 유리 재료, 수지 재료, 또는, 이들 재료로 이루어지는 복합 재료, 예를 들면, 유리판 및 유리판에 보호 플라스틱 필름 혹은 보호 플라스틱층이 설치된 것을 포함하는 복합 재료로 형성될 수 있다.
이 수지 재료 및 보호 플라스틱 재료는, 예를 들면, 불소계 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리염화비닐, 폴리 불화 비닐, 폴리스티렌, ABS 수지, 폴리아미드, 폴리아세탈, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 변성 폴리페닐렌 에테르, 폴리술폰, 폴리아릴레이트, 폴리에테르이미드, 폴리 아미드이미드, 폴리이미드, 폴리페닐렌 설파이드, 액정 폴리에스테르, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 , 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리옥시메틸렌, 폴리 에테르 술폰, 폴리 에테르에테르 케톤, 폴리 아크릴레이트, 아크릴로니트릴-스틸렌 수지, 페놀 수지, 요소수지, 멜라민 수지, 불포화 폴리에스테르수지, 에폭시 수지, 폴리우레탄, 실리콘 수지, 비정질 폴리오레핀을 포함한다. 재료가 유기 발광 디바이스용으로서 사용할 수 있는 고분자 재료이면, 다른 수지 재료도 사용 가능하다. 투명 기판(32)의 두께는, 통상 50μm~1.1mm 정도이다.
투명 기판(32)은, 그 용도에 따라 다르지만, 예를 들면 수증기나 산소에 대해 양호한 가스 배리어성을 갖는 것이 더욱 바람직하다. 또, 수증기, 산소 등에 대해 배리어성을 갖는 가스 배리어층이 투명 기판(32) 상에 형성될 수 있다. 가스 배리어층은, 예를 들면, 산화 규소, 산화 알류미늄, 산화 티탄 등의 무기산화물을 스패터링법이나 진공 증착법 등의 물리 증착법에 의해 형성될 수 있다.
도면에 나타낸 실시예에서, 유기 전계 발광 디바이스(31)을 구성하는 투명 전극층(33)은 애노드이고, 발광층(38)에 정전하(정공)를 주입하기 위해서, 정공 주입층(37)에 인접해 설치된다. 그러나, 투명 전극층(33)은 캐소드이어도 된다. 이 경우, 발광소자층(36)의 정공 주입층(37)의 위치와 전자 주입층(39)의 위치가 서로 바뀐다.
투명 전극층(33)은, 종래 유기 발광 디바이스에서 사용되는 투명전극층이면, 특별히 한정되지 않는다. 투명 전극층(33)의 재료는, 금속, 합금, 그 혼합물, 예를 들면, 산화 인듐 주석(ITO), 산화 인듐, 산화 인듐 아연(IZO), 산화 아연, 산화 제2주석, 또는 금등의 박막 전극 재료를 포함한다. 그 중에서도, 정공이 주입하기 쉬운 관점으로부터, 큰 일 함수(4 eV이상)를 갖고, 투명, 또는 반투명인 ITO, IZO, 산화 인듐, 금이 바람직하다.
투명 전극층(33)은 수백Ω/□ 이하의 시트 저항을 갖는 것이 바람직하다. 재료에 따라서 두께가 변화하지만, 투명 전극층(33)의 두께는 예를 들면, 0.005~1μm정도일 수 있다.
이 투명 전극층(33)은, 주변의 단자부에서 중앙의 화소 영역까지 원하는 패턴 형상으로 연장된다. 이 패턴의 투명 전극층(33)은, 스패터링법이나 진공 증착법에 의해, 금속 마스크를 이용하여 패턴 형상으로 형성하거나, 또는, 예를 들면 스패터링법이나 진공 증착법에 의해, 전체 영역 상에 막을 형성한 후, 감광성 레지스터를 마스크로서 사용하여 이 막을 에칭하여 형성된다.
유기 전계 발광 디바이스(31)를 구성하는 절연층(34)은, 투명 전극층(33)상에 각각 위치하는 스트라이프 형상의 개구(35)를 가진다. 이 절연층(34)은, 예를 들면, 투명 전극층(33)을 덮도록 전면에 감광성 수지 재료를 도포해, 패턴 노광, 현상을 실시해 형성하거나 열강화성 수지 재료를 이용해 형성할 수 있어 이 절연층(34)이 형성된 부분은 비발광부가 된다. 절연층(34)의 두께는, 절연층(34)을 구 성하는 수지 고유의 절연 저항에 따라 적당 설정할 수 있지만, 예를 들면, 0.05~5.0μm정도로 할 수 있다. 또는, 상기 수지 재료에 카본 블랙이나, 티탄 질화물, 티탄 산화물, 티탄산질화물 등의 티탄계 흑색 안료의 1종, 혹은 2종 이상의 차광성 미립자를 혼합함으로써, 블랙 매트릭스를 절연층(34)으로 형성한다. 절연층(34)의 형상은 상기 형상에 한정되는 것은 아니다.
도면에 도시된 실시예에서, 유기 전계 발광 디바이스(31)를 구성하는 발광소자층(36)은, 투명 전극층(33)측에서 보아, 정공 주입층(37), 발광층(38) 및 전자 주입층(39)이 그 순서로 적층된 구조를 가진다. 발광 소자층(36)에 사용될 수 있는 다른 구조는, 발광층(38) 단독으로 이루어지는 구조, 발광층(38)과 정공 주입층(37)으로 이루어지는 구조, 발광층(38)과 정공 주입층(37) 사이에 개재된 정공 수송층을 포함하는 구조, 발광층(38)과 전자 주입층(39) 사이에 개재된 전자 수송층을 포함하는 구조를 포함한다. 상기 구조에서, 발광 파장이 조정될 수 있거나, 예를 들면 발광 효율을 향상시키는 관점으로부터, 상기 층이 적당한 재료로 도핑 될 수 있다.
도면에 도시된 실시예에서, 발광소자층(36)의 발광층(38)은 적색 발광층(38R), 녹색 발광층(38G), 청색 발광층(38B)으로 이루어진다. 그러나, 예를 들면, 유기 전계 발광 디바이스의 사용 목적에 의거해서, 원하는 발광색(예를 들면, 황색, 하늘색, 오렌지색)의 발광층이 단독으로 사용될 수 있거나, 또는, 예를 들면, 적색 발광, 녹색 발광, 및 청색 발광 이외의 복수의 발광색의 원하는 조합을 사용할 수 있다. 본 발명에 따르는 발광층의 형성 방법에서 상기 서술된 것같이 유 기 발광 재료가 발광소자층(36)의 발광층(38)에 사용되는 유기 발광재료로서 사용될 수 있다.
발광소자층(36)의 층에 사용되는 도핑 재료, 정공 수송 재료, 정공 주입 재료, 전자 주입 재료 등이, 아래에 예시되는 무기 재료 및 유기 재료 중 어느 것일 수 있다. 발광소자층(36)의 각층의 두께는 특히 제한되지 않고, 예를 들면, 10~1000 nm정도로 할 수 있다.
도핑 재료
도핑 재료는, 페릴렌 유도체, 쿠마린 유도체, 루브렌 유도체, 퀴나크리돈 유도체, 스퀄리움 유도체, 포르피린 유도체, 스티릴 색소, 테트라센 유도체, 피라졸린 유도체, 데카씨클린, 피노싸존을 포함한다.
정공 수송 재료
정공 수송 재료는, 옥사디아졸계, 옥사졸계, 트리아졸계, 티아졸계, 트리 페닐 메탄계, 스티릴계, 피라졸린계, 히드라존계, 방향족 아민계, 카바졸계 , 폴리비닐 카바졸계, 스틸벤계, 에나민계, 아진계, 트리 페닐 아민계, 부타디엔계, 다환방향족계, 및 스틸벤디머를 포함한다. π공액계 폴리머는 폴리아세틸렌, 폴리디아세틸렌, 폴리(p-페닐렌), 폴리(P-페닐렌 설파이드), 폴리(p-페닐렌 옥사이드), 폴리( 1, 6-헵타디엔), 폴리(p-페닐렌 비닐렌), 폴리(2, 5-디에니렌 ), 폴리(2, 5-피롤), 폴리(m-페닐렌 설파이드), 폴리(4, 4'-비페니렌)을 포함한다.
전하 수송 고분자 컴플렉스는 폴리스티렌-AgCl 1O4, 폴리비닐 나프타렌-TCNE, 폴리비닐 나프타렌-P-CA, 폴리비닐 나프타렌-DDQ, 폴리비닐 메시티렌-TCNE, 폴리 나프탈렌 아세틸렌-TCNE, 폴리비닐 안트라센-Br2, 폴리비닐 안트라센-I2, 폴리비닐 안트라센-TNB, 폴리 디메틸 아미노 스틸렌-CA, 폴리비닐 이미다졸-CQ, 폴리-p-페닐렌-I2, 폴리-1-비닐 피리딘-I2, 폴리-4-비닐 피리딘-I2, 폴리-p-1-페닐렌-I2, 폴리 비닐 피리듐-TCNQ를 포함한다. 전하 수송 저분자 컴플렉스는 TCNQ-TTF를 포함하고, 고분자 금속 컴플렉스는 폴리-동 프타로시아닌을 포함한다. 정공 수송 재료는, 낮은 이온화 포텐셜을 갖는 재료를 포함한다. 부타디엔, 에나민, 히드라존, 및 트리페닐 아민계가 특히 바람직하다.
정공 주입 재료
정공 주입 재료는 페닐 아민계, 스타 버스트 아민계, 프타로시아닌계, 산화 바나듐, 산화 몰리브덴, 산화 루테늄, 산화 알류미늄 등의 산화물, 아몰퍼스 카본, 폴리 아닐린, 폴리 티오펜 유도체, 트리아졸 유도체, 옥사디아졸 유도체 , 이미다졸 유도체, 폴리 아릴 알칸 유도체, 피라졸린 유도체, 피라졸론 유도체, 페닐렌 디아민 유도체, 아릴 아민 유도체, 아미노 치환 칼콘 유도체, 옥사졸 유도체, 스티릴안트라센 유도체, 플루오레논 유도체, 히드라존 유도체, 스틸벤 유도체, 시라잔 유도체, 폴리실란계, 아닐린 공중합체, 티오펜 올리고머 등의 유전성 고분자 올리고머를 포함한다.
정공 주입 재료는, 포르린 화합물, 방향족 제3급 아민 화합물, 스티릴 아민 화합물을 포함한다. 포르핀 화합물은 포르핀, 1, 10, 15, 20- 테트라 페닐-21 H, 23H-포르핀 동(II), 알루미늄 프타로시아닌 염화물, 동 옥타 메틸프탈로시아닌을 포함한다. 또, 방향족 제3급 아민 화합물 및 스티릴아민 화합물은 N, N, N', N'- 테트라 페닐-4, 4'-디아미노페닐, N, N'- 디페닐-N, N'- 비스(3- 메틸 페닐)-[1, 1'- 비페닐]- 4, 4'- 디아민, 4-(디-p-톨릴 아미노)-4'-4(디-p-톨릴 아미노) 스티릴]스틸벤, 3- 메톡시-4'- N, N-디페닐 아미노 스틸벤젠, 4, 4'-비스〔N-(1-나프틸)- N-페닐 아미노]비페닐, 및 4, 4', 4"- 트리스[N-(3- 메틸 페닐)- N- 페닐 아미노]트리페닐아민등을 들 수 있다.
전자 주입 재료
전자 주입 재료는, 칼슘, 바륨, 알루미늄 리튬, 불화 리튬, 스트론튬, 산화 마그네슘, 불화 마그네슘, 불화 스트론튬, 불화 칼슘, 불화 바륨, 산화 알루미늄, 산화 스트론튬, 산화 칼슘, 폴리 메틸 메타크릴레이트, 폴리스티렌 설폰산 나트륨, 니트로 치환 플루오렌 유도체, 안트라퀴노디메탄 유도체, 디페닐 퀴논 유도체, 싸이오피란디옥사이드 유도체, 나프타렌 페릴렌 등의 복소환 테트라카르복실산 무수물, 카르보디이미드, 플루오레닐리덴메탄 유도체, 안트라퀴노디메탄 및 안트론 유도체, 옥사디아졸 유도체, 상기 옥사디아졸환의 산소 원자가 유황 원자로 치환된 티아졸 유도체, 흡자기(吸子基)로서 알려져 있는 퀴노살린환을 가진 퀴노살린 유도체, 트리스(8- 퀴노리놀) 알루미늄 등의 8- 퀴노리놀 유도체의 금속 컴플렉스, 프타로시아닌, 금속 프타로시아닌, 디스티릴 피라진 유도체를 포함한다.
발광소자층(36)을 구성하는 각층의 형성에 대해서, 발광층(38)은, 본 발명에 따르는 발광층 형성 방법에 의해 형성된다. 정공 주입층(37) 및 전자 주입층(39)은, 화상 표시 영역에 대응하는 개구를 갖춘 포토마스크(photomask)(주변부의 투명 전극층(33)으로 형성되는 전극 단자상에의 성막을 방지하기 위한 마스크)를 통해 진공 증착법등에 의해 형성될 수 있다. 정공 주입층(37) 및 전자 주입층(39)은 스크린 인쇄 등의 인쇄 방법에 의해 형성될 수도 있다.
또, 정공 주입층(37)과 발광층(38)은, 정공 주입층용 코팅막을 형성한 다음에, 정공 주입층용 코팅후 1분 이내에 발광층용 코팅막을 형성하고, 이들 2층을 100~200℃의 온도 범위에서 동시에 건조함으로써 형성될 수 있다. 이 경우, 정공 주입층용 코팅막은, 본 발명에 따르는 발광층 형성 방법과 동일한 방법으로, 100/초의 전단 속도에서 측정된 5~200 cP의 범위의 점도(잉크 온도 23℃)를 갖고, 용매의 표면장력이 40dyne/cm 이하이고, 한편, 비점이 150~250℃의 범위인 정공 주입층용 잉크를 사용하여 형성될 수 있다.
도면의 실시예에서, 유기 전계 발광 디바이스(31)을 구성하는 전극층(40)은 캐소드이고, 발광층(38)에 음전하(전자)를 주입하기 위해서 전자 주입층(39)에 인접해 설치된다. 또는, 전극층(40)은 애노드도 가능하다. 이 경우, 발광소자층(36)을 구성하는 정공 주입층(37)의 위치와 전자 주입층(39)의 위치가 서로 바뀌어진다.
전극층(40)의 재료는, 통상의 유기 전계발광 디바이스에 사용되는 것이면 특별히 한정되지 않고, 투명 전극층(33)과 같이, 산화 인듐 주석(ITO), 산화 인듐, 산화 인듐 아연(IZO), 산화 아연, 산화 제2주석, 또는 금 등의 박막 전극 재료, 또한, 예를 들면, MgAg의 마그네슘 합금, AlLi, AlCa, AlMg 등의 알루미늄 또는 그 합금 및 은을 포함한다. 그 중에서도, 전자를 주입하기 쉬운 관점으로부터, 일 함수가 작은(4 eV이하) 예를 들면, 마그네슘 합금, 알루미늄, 은이 바람직하다. 전극 층(40)은 수백Ω/□이하의 시트 저항을 갖는 것이 바람직하다. 이 때문에, 전극층(40)의 두께는, 예를 들면, 0.005~0.5μm정도로 할 수 있다.
전극층(40)은 상기 전극 재료를 이용하여 예를 들면, 마스크를 통해 스퍼터링법이나 진공 증착에 의해 패턴 형상으로 형성될 수 있다.
본 발명에 따르는 유기 전계발광 디바이스에서, 예를 들면, 광이 취해지는 방향은, 상기 유기 전계 발광 디바이스(31)에서 전극층(40)으로서 투명 전극층을 사용하여, 반대 방향으로 만들 수 있다. 이 경우, 기재(32)는 투명하지 않아도 되고, 투명 전극층(33)은 불투명한 전극층이어도 된다.
본 발명에 따르는 유기 전계발광 디바이스는, 액티브 매트릭스형이어도 된다. 도 8 및 도 9는, 본 발명에 따르는 액티브 매트릭스형 유기 발광 디바이스의 일례를 설명하기 위한 도이다. 도 8은 전극 배선 패턴을 나타내는 도면이다. 투명기재(미도시) 상에 형성된 전극 배선 패턴(53)은, 신호선(53A), 주사선(53B), TFT(박막 트랜지스터)(53C), 투명 전극(화소 전극) 층(53D)을 포함한다. 또, 절연층(54)(도 8에서 사선으로 표시된 부분)은 이러한 전극 배선 패턴(53)을 피복하도록 형성된다. 절연층(54)은, 각 투명 전극층(53D)상에 위치하는 개구(55)를 갖는다. 또한, 절연층(54)에는, 각 개구(55)내의 투명 전극층(53D)을 피복하도록 발광소자층(미도시)이 형성되고, 전극(공통 전극) 층(미도시)이 발광소자층 상에 설치되고, 발광소자층 상에 전극(공통 전극) 층(미도시)이 설치된다.
발광소자층은 절연층(54)과 각 개구(55) 내의 투명 전극층(53D)을 덮도록 설치된 정공 주입층, 개구(55)내의 투명 전극층(53D)(정공 주입층)을 덮고, 개구(55) 의 주변부 상에 위치된 부분에서 절연층(54)으로 연장되도록 각 개구(55)에 대해 설치된 복수의 발광층, 및 이것들을 덮도록 설치된 전자 주입층으로 구성될 수 있다. 도 9는, 절연층(54)의 개구(55)와 발광층과의 관계를 나타내는 도면이다. 도 9에서, 발광층은, 개구(55)보다 큰 원하는 패턴의 적색 발광층(58R), 녹색 발광층(58G), 청색 발광층(58B)을 포함한다.
본 발명에 따르는 액티브 매트릭스형의 유기 전계발광 디바이스에서, 발광층(적색 발광층(58R), 녹색 발광층(58G), 청색 발광층(58B))은, 본 발명에 따르는 발광층 형성 방법에 의해 형성된다. 개구(55)의 주변의 부분에서 절연층(54)으로 연장되도록 형성된 발광소자층은, 발광소자층이 투명 전극층(53D)과 전극층 사이에 유지되는 위치에서 위치된 투명 전극층(53D)과 전극층(미도시) 사이의 합선을 방지하기 때문에, 신뢰성이 높다. 또, 발광소자층의 발광층(적색 발광층(58R), 녹색 발광층(58G), 청색 발광층(58B))이 본 발명에 따른 방법으로 형성되므로, 두께 변동은 10%이하, 즉 두께가 균일하고, 고품질 표시가 가능하다. 상기 실시예에서와 같이, 발광소자층은, 예를 들면, 다음의 구조를 가질 수 있다: 발광층 단독으로 이루어지는 구조, 정공주입층과 발광층으로 이루어지는 구조, 발광층과 전자 주입층으로 이루어지는 구조, 또한, 정공 주입층과 발광층의 사이에 개재된 정공 수송층을 포함하는 구조, 발광층과 전자 주입층의 사이에 개재된 전자 수송층을 포함하는 구조.
도 10은, 본 발명에 따르는 유기 발광 디바이스의 다른 실시예를 나타내는 부분 사시도이며, 도 11은 도 10에 나타내는 유기 전계발광 디바이스의 A-A선을 따라 취한 단면도이다. 도 10 및 도 11에 있어서, 유기 전계발광 디바이스(61)는, 투명기재(62)와 이 투명기재(62)상에 장방형태로 설치된 투명 전극층(63), 마름모꼴 개구(65a)와 장방형 개구(65b)를 갖는 절연층(64), 각 개구(65a, 65b)내의 투명 전극층(63)을 덮도록 설치된 발광소자층(66)과 이 발광소자층(66)을 덮도록 형성된 전극층(70)을 포함한다. 발광소자층(66)은, 정공 주입층(67), 발광층(68), 전자 주입층(69)이 순서대로 적층된 것을 포함하고, 개구(65a, 65b)의 주변 상의 절연층(64) 위로 연장된다.
이 유기 전계발광 디바이스(61)는, 개구(65a, 65b)가 존재하는 위치가 표시 영역이 되는 영역 칼라 표시 유형이다. 발광소자층(66)의 발광층(68)은, 본 발명에 따르는 발광층 형성 방법에 의해 형성된다. 이 유기 전계발광 디바이스(61)에서, 개구(65a, 65b)의 주변의 부분에서 절연층(64) 상에 연장되도록 설치된 발광소자층(66)은, 발광소자층(66)이 투명 전극층(63)과 전극층(70) 사이에서 유지되는 위치에서 위치된 투명 전극층(63)과 전극층(70) 사이의 합선을 방지하기 때문에, 유기 전계발광 디바이스(61)는 신뢰성이 높다. 또, 발광소자층(66)의 발광층(68)이 본 발명에 따르는 방법으로 형성되므로, 그 두께 변동은 10%이하, 즉, 두께가 균일하다. 따라서, 고품질의 표시가 가능하다.
발광층(68)은, 각 개구(65a, 65b)의 주변의 부분에서 절연층(64) 위로 연장되는 크기를 가져도 된다. 또, 이 경우, 개구(65a, 65b)에 위치하는 발광층은 발광색이 서로 다른 것이어도 된다. 또한, 각 개구(65a, 65b)상에 위치되는 부분에서 전극층(70)은 서로 전기적으로 독립될 수 있으므로, 발광층은 서로 독립적으로 발 광할 수 있다. 또, 상기 실시예에서와 같이, 발광소자층(66)은, 예를 들면 다음의 구조를 가질 수 있다: 발광층 단독으로 이루어지는 구조, 정공 주입층과 발광층으로 이루어지는 구조, 발광층과 전자 주입층으로 이루어지는 구조, 또한, 정공주입층과 발광층 사이에 개재된 정공 수송층을 갖는 구조, 발광층과 전자 주입층 사이에 개재된 전자 수송층을 갖는 구조.
본 발명에 따르는 유기 발광 디바이스는, 상기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 도 12는, 본 발명에 따르는 유기 전계 발광 디바이스의 다른 실시예를 나타내는 부분 단면도이다. 도 12에 나타내는 유기 전계발광 디바이스(71)는, 투명기재(72)를 포함한다. 적색 착색층(73R), 녹색 착색층(73G), 청색 착색층(73B)을 포함하는 칼라 필터층(73)이 투명기재(72) 상에 스트립 패턴으로 설치된다. 투명 평활화층(75)이 칼라 필터층(73)을 덮도록 설치된다. 상기 실시예의 유기 전계 발광 디바이스(31)과 동일한 방법으로 형성된 스트립 패턴의 복수의 투명 전극층(33)은 투명 평활화층(75) 상에 설치된다. 스트라이프 형상의 개구(35)가 각 투명 전극층(33)상에 위치하도록 절연층(34)이 설치된다. 개구(35)내에 위치된 투명 전극층(33)을 덮도록 발광소자층(36)이 설치된다. 복수의 스트립 패턴의 전극층(40)이, 그들이 투명 전극층(33)과 직교 하도록 발광소자층(36) 위에 설치된다.
복수의 스트립 패턴의 투명 전극층(33)은, 스트립 패턴의 적색 착색층(73R), 녹색 착색층(73G), 청색 착색층(73B)상에 위치한다.
또, 발광소자층(36)은, 절연층(34)과 각 개구(35)내의 투명 전극층(33)을 덮도록 설치된 정공 주입층(37)과, 개구(35)내에 위치된 투명 전극층(33)(정공 주입 층(37))을 피복하고, 개구(35)의 주변 부분에서 절연층(34) 상에 연장되도록 각 개구(35) 마다 설치된 복수의 발광층(38)과, 이들을 덮도록 설치된 전자 주입층(39)으로 이루어딘다. 도면에 도시된 실시예에서, 발광층(38)은, 스트립 패턴의 백색 발광층이다.
유기 발광 디바이스(71)는, 칼라 필터층(73)과 투명 평활화층(75)이 설치되어 있고, 발광층(38)이 백색 발광층인 점을 제외하고는, 유기 전계 발광 디바이스(31)와 같다. 따라서, 같은 부재에는, 같은 번호를 붙이고, 그 상세한 설명은 생략한다.
또, 상기 실시예에서와 같이, 발광소자층(36)은, 예를 들면 다음의 구조를 가질 수 있다: 발광층 단독으로 이루어지는 구조, 정공 주입층과 발광층으로 이루어지는 구조, 발광층과 전자 주입층으로 이루어지는 구조, 또한, 정공주입층과 발광층 사이에 개재된 정공 수송층을 갖는 구조, 발광층과 전자 주입층 사이에 개재된 전자 수송층을 갖는 구조.
칼라 필터층(73)은, 발광소자층(36)으로부터의 광을 색보정하고, 색순도를 높이기 위해 설치된다. 칼라 필터층(73)을 구성하는 적색 착색층(73R), 녹색 착색층(73G), 청색 착색층(73B)의 재료는, 발광소자층(36)의 발광 특성에 따라 적절히 선택될 수 있다. 예를 들면, 안료, 안료 분산제, 바인더 수지, 반응성 화합물 및 용매를 포함하는 안료 분산 조성물로 형성될 수 있다. 칼라 필터(73)의 두께는, 각 착색층의 재료, 유기 전계 발광 소자층의 발광 특성에 기초하여 적절히 결정될 수 있다. 예를 들면, 칼라 필터의 두께는 1 ~3μm정도의 범위에 있을 수 있다.
또, 아래에 존재하는 층(칼라 필터(73) 등)의 구성으로 인해 레벨의 차이(표면 요철)이 존재할 때, 평탄화를 위해 이 레벨 차이를 제거하고, 발광소자층(36)의 두께가 고르지 못한 것을 방지한다. 투명 평활화층(75)은, 투명(가시광선 투과율: 50% 이상) 수지에 의해 형성될 수 있다. 이러한 수지의 구체적인 예는, 아크릴레이트계, 메타크릴레이트계의 반응성 비닐기를 함유하는 광 경화형 수지, 열경화성 수지를 포함한다. 여기서 사용가능한 투명 수지는, 폴리 메틸 메타크릴레이트, 폴리 아크릴레이트, 폴리카보네이트, 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 피롤리돈, 히드록시 에틸 셀룰로오스, 카르복시메틸 셀룰로오스, 폴리염화비닐 수지, 멜라민 수지, 페놀 수지, 알키드 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 말레산 수지 및 폴리아미드 수지를 포함한다. 투명 평활화층(75)의 두께는, 사용하는 재료를 고려해, 평탄화 기능이 전개될 수 있는 범위에서 설정할 수 있다. 예를 들면, 두께는 1~5μm정도의 범위에서 적절히 결정될 수 있다.
또, 도 13은, 본 발명에 따르는 유기 전계 발광 디바이스의 다른 실시예를 나타내는 부분 단면도이다. 도 13에 나타내는 유기 전계 발광 디바이스(81)는, 투명기재(82)를 포함한다. 적색 착색층(83R), 녹색 착색층(83R), 청색 착색층(83B)을 포함하는 칼라 필터층(83)이 투명기재(82)상에 스트립 패턴으로 설치된다. 스트립 패턴의 적색 변환 형광물질층(84R)(청색 광을 적색 형광으로 변환하는 층), 녹색 변환 형광물질층(84G)(청색 광을 녹색 형광으로 변환하는 층), 청색 변환 더미층(84B)(청색 광을 그대로 투과되게 하는 층)을 포함하는 색변환 형광물질층(84)은 칼라 필터층(83)에서 각각 적색 착색층(83R), 녹색 착색층(83R), 청색 착색층(83B) 을 덮도록 설치된다. 투명 평활화층(85)은 이들을 덮도록 설치된다. 스트립 패턴의 복수의 투명 전극층(33)이 상기 실시예의 유기 발광 디바이스(31)와 동일한 방법으로 이 투명(30) 평활화층(85)상에 형성된다. 각 투명 전극층(33)상에 스트라이프 형상의 개구(35)가 위치하도록 절연층(34)이 설치된다. 개구(35)내에 위치된 투명 전극층(33)을 덮도록 발광소자층(36)이 설치된다. 스트립 패턴의 복수의 전극층(40)이 발광소자층(36) 상에 투명 전극층(33)과 직교 하도록 설치된다.
스트립 패턴의 복수의 투명 전극층(33)은, 스트립 패턴의 적색 변환 형광물질층(84R), 녹색 변환 형광물질층(84G), 청색 변환 더미층(84B) 상에 위치한다. 발광소자층(36)은, 절연층(34)과 각 개구(35)내에 위치된 투명 전극층(33)을 덮도록 설치된 정공 주입층(37)과, 개구(35)내에 위치된 투명 전극층(33)(정공 주입층(37))을 덮고 개구(35)의 주변 부분에서 절연층(34) 상으로 연장되도록 각 개구(35) 마다 설치된 복수의 발광층(38)과, 이들을 덮도록 설치된 전자 주입층(39)을 포함한다. 도면에 도시된 실시예에서, 발광층(38)은 스트립 패턴의 청색 발광층이다.
유기 발광 디바이스(81)는, 칼라 필터층(83), 색변환 형광물질층(84), 투명 평활화층(85)이 설치되어 있고, 발광층(38)이 청색 발광층인 점을 제외하고는, 상기 유기 전계 발광 디바이스(31)와 같다. 따라서, 동일한 부재에는, 동일한 참조 번호를 붙이고, 그 설명은 생략한다. 또, 칼라 필터층(83), 투명 평활화층(85)은, 상기 칼라 필터층(73), 투명 평활화층(75)과 동일하므로, 여기서의 설명은 생략한다. 또, 상기 실시예에서와 같이, 발광소자층(36)은, 예를 들면 다음의 구조를 가 질 수 있다: 발광층 단독으로 이루어지는 구조, 정공 주입층과 발광층으로 이루어지는 구조, 발광층과 전자 주입층으로 이루어지는 구조, 또한, 정공주입층과 발광층 사이에 개재된 정공 수송층을 갖는 구조, 발광층과 전자 주입층 사이에 개재된 전자 수송층을 갖는 구조.
적색 변환 형광물질층(84R) 및 녹색 변환 형광물질층(84G)은, 형광 색소만으로 이루어지는 층이거나, 혹은, 수지에 포함된 형광 색소를 함유한 층이다. 청색 발광을 적색 형광으로 변환하는 적색 변환 형광물질층(84R)에 사용하는 형광 색소의 예는, 4-디시아노메티렌-2-메틸-6-(p-디메틸아미노스티릴)-4H-피란 등의 시아닌 색소, 1-에틸-2-[4-1(p-디메틸아미노페닐)-1, 3-부타디에닐]-피리듐-과염소산염 등의 피리딘 색소, 로다민 B, 로다민 6G 등의 로다민색소, 및 옥사진 색소를 포함한다. 청색 발광을 녹색 형광으로 변환하는 녹색 변환 형광물질층(84G)에 사용가능한 하는 형광 색소는, 2, 3, 5, 6-1 H, 4 H-테트라 히드로-8-트리플루오로메틸퀴노리디노(9, 9a, 1-gh) 쿠마린, 3-(2'-벤조티아조릴)-7-디에틸아미노쿠마린, 3-(2'-벤즈이미다조릴)-7-N, N-디에틸아미노쿠마린 등의 쿠마린 색소, 베이직 옐로우 51등의 쿠마린 염료, 솔벤트 옐로우 11 및 솔벤트 옐로우116 등의 나프탈이미드 색소를 포함한다. 또한, 직접 염료, 산성 염료, 기본 염료, 분산 염료 등의 각종 염료가 형광성이 있으면 사용될 수 있다. 이들 형광 색소는 단독, 혹은, 2종 이상의 조합으로 사용될 수 있다.
적색 변환 형광물질층(84R) 및 녹색 변환 형광물질층(84G)이 수지 중에 형광 색소를 포함할 때, 형광 색소의 함유량은, 예를 들면, 사용된 형광 색소, 색변환 형광물질층의 두께 등을 고려해 적절히 설정될 수 있다. 예를 들면, 형광색소의 함유량은 사용하는 수지 100 중량부에 기초하여 0.1~1 중량부 정도로 할 수 있다.
청색 변환 더미층(84B)은, 발광소자층(36)에서 발광된 청색 광을 그대로 투과해, 칼라 필터층(83)에 보내는 층이다. 청색 변환 더미층(84B)은, 적색 변환 형광물질층(84R), 녹색 변환 형광물질층(84G)과 거의 같은 두께를 갖는 투명 수지층일 수 있다.
적색 변환 형광물질층(84R), 녹색 변환 형광물질층(84G)이 수지 중에 함유된 형광 색소를 포함할 때, 투명(가시광선 투과율: 50% 이상) 수지가 수지로서 사용될 수 있다. 이러한 수지의 예는, 폴리 메틸 메타크릴레이트, 폴리 아크릴레이트, 폴리카보네이트, 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 피롤리돈, 히드록시 에틸 셀룰로오스, 카르복시메틸 셀룰로오스, 폴리염화비닐 수지, 멜라민 수지, 페놀 수지, 알키드 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 말레산 수지 및 폴리아미드 수지를 포함한다. 색변환 형광물질층(84)의 패턴 형성이 포토리소그래피에 의해, 예를 들면, 아크릴산계, 메타크릴산계, 폴리 계피산비닐계, 환고무계 또는 다른 반응성 비닐기를 갖는 광 경화형 레지스트 수지가 사용될 수 있다. 또한, 이러한 수지는, 청색 변환 더미층(84B)에서 사용될 수 있다.
색변환 형광물질층(84)을 구성하는 적색 변환 형광물질층(84R)과 녹색 변환 형광물질층(84G)이, 형광 색소만으로 구성될 때, 예를 들면, 원하는 패턴 마스크를 통해 진공 증착 또는 스퍼터링에 의해 스트립 형태로 형성될 수 있다. 한편, 적색 변환 형광물질층(84R)과 녹색 변환 형광물질층(84G)이, 수지 중에 함유된 형광 색 소를 함유 한 층(40)으로서 형성될 때, 이들은, 예를 들면, 형광 색소와 수지를 분산, 또는 가용화시켜 준비된 도포액을 스핀 코팅, 롤 코팅, 캐스트 코팅 등의 방법으로 도포해 층을 형성하고, 이 층을 포토리소그래피로 패터닝하거나, 도포액을 스크린 인쇄 등의 패턴 형태로 인쇄하여 형성될 수 있다. 청색 변환 더미층(84B)은, 원하는 감광성 수지 도료를 스핀 코팅, 롤 코팅, 캐스트 코팅에 의해 도포해 층을 형성하고, 이 층을 포토리소그래피법으로 패터닝하거나, 또는 원하는 수지 도포액을 스크린 인쇄 등으로 패턴 형태로 인쇄하여 형성될 수 있다.
이러한 색변환 형광물질층(84)의 두께는, 적색 변환 형광물질층(84R) 및 녹색 변환 형광물질층(84G)이 발광소자층(36)으로부터 발광된 청색 광을 충분히 흡수해 형광을 발생하도록 하는 정도여야 한다. 그 두께는, 예를 들면 사용하는 형광 색소, 형광 색소 농도를 고려해 적절히 결정될 수 있고, 예를 들면, 10~20μm정도로 할 수 있다. 적색 변환 형광물질층(84R)의 두께와 녹색 변환 형광물질층(84G)의 두께가 서로 달라도 된다.
청색 발광 유기 발광재료는, 예를 들면, 벤조티아졸, 벤즈이미다졸, 벤즈옥사졸 또는 다른 형광증백제, 금속 킬레이트화 옥시노이드 화합물, 스티릴벤젠 화합물, 디스티릴피라진 유도체, 방향족 디메티리딘 화합물을 포함한다.
형광증백제의 구체예는, 2-2'-(p-페니렌디비니렌)-비스벤조티아졸 등의 벤조티아졸 형광증백제; 2-[2-[4-(2-벤즈이미다조릴) 페닐]비닐] 벤지이미다졸, 및 2-[2-(4-카르복시페닐) 비닐]벤즈이미다졸 등의 벤지이미다졸 형광증백제; 및 2,5-비스(5,7-디-티-펜틸-2-벤조옥사조릴)-1,3,4-티아디아졸, 4,4'-비스(5,7-티- 펜틸-2-벤즈옥사조릴)스틸벤, 및 2-[2-(4-클로로페닐)비닐]나프트[1,2-d]옥사졸 등의 벤즈옥사졸 형광증백제를 포함한다.
금속 킬레이트화 옥시노이드 화합물의 예는, 트리스(8-퀴노리놀 ) 알루미늄, 비스(8-퀴노리놀) 마그네슘, 비스(벤조f]-8-퀴노리놀) 아연 또는 다른 8-히드록시 퀴놀린 금속 컴플렉스 및 디리듐에핀트리디온을 포함한다.
스트릴벤젠 화합물은, 1,4-비스(2-메틸스티릴) 벤젠, 1,4-비스(3-메틸스티릴)벤젠, 1,4-비스(4-메틸스티릴) 벤젠, 디스티릴 벤젠, 1,4-비스(2-에틸스티릴)벤젠, 1,4-비스(3-에틸스티릴) 벤젠, 1,4-비스(2-메틸스티릴)-2-메틸벤젠, 및 1,4-비스(2-메틸스티릴)-2-에틸 벤젠을 포함한다.
디스티릴피라진 유도체의 예는, 2,5-비스(4-메틸스티릴)피라진, 2,5-비스(4-에틸스티릴)피라진, 2,5-비스[2-(1-나프틸)비닐]피라진, 2,5-비스(4-메트옥시스티릴)피라진, 2,5-비스[2-(4-비페닐)비닐]피라진, 및 2,5-비스[2-(1-피레닐)비닐]피라진을 포함한다.
방향족 디메티리딘 화합물의 예는, 1,4-페니렌디메티리딘, 4,4-페니렌지메티리딘, 2,5-자일렌디메티리딘, 2,6-나프티렌디메티리딘, 1,4-비페니렌디메티리딘, 1,4-p-테레페니렌디메티리딘, 9,10-안트라센디이르디메티리딘, 4,4'-비스(2,2-디-t-부틸페닐비닐)비페닐, 4,4'-비스(2,2-디페닐비닐)비페닐 및 다른 유도체를 포함한다.
발광층 재료의 다른 부가 예는, 일반식(Rs-Q)2-AL-0-L로 표현되는 화합물을 포함하고, AL은 벤젠환을 포함하는 탄소 원자 6 ~ 24개의 탄화수소를 나타내 고, 0-L는 페니레이트 배위자를 나타내고, Q는 치환 8-퀴노리노레이트 배위자를 나타내고, Rs는 알루미늄 원자에 2개 이상의 치환 8-퀴노리노레이트 배위자를 부착하는 것이 입체적으로 방해되도록 선택된 8-퀴노리노레이트 치환기를 나타낸다. 그 구체 예는, 비스(2-메틸-8-퀴노리노레이트)(p-페닐페노레이트트)알루미늄(III), 및 비스(2-메틸-8-퀴노리노레이트)(1-나프토레이트)알루미늄(III)를 포함한다. 상기 실시예는 단지 예시이며, 본 발명의 범위를 제한하고자 의도된 것은 아니다. 예를 들면, 칼라 필터층(73,83)이 형성되지 않은 부분에 블랙 매트릭스가 설치될 수 있다.
다음 실시예들은 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
[실시예 1]
아래의 조성에 따라서 적색 발광층용 잉크 A1를 조제했다.
이 잉크 Al의 점도는, 전단 속도 100/초 및 잉크 온도 23℃의 조건하에서, 점탄성 측정 장치(Physica 사제의 모델 MCR 301)로 정상류측정 모드에서 측정하여, 80 cP였다. 또, 용매로서 사용되는 메시티렌과 테트라린의 표면장력은 표면장력계(쿄와계면과학(주) 제의 모델 CBVP-Z)로 액체 온도 20℃에서 측정했다.
적색 발광층용의 잉크 A1의 조성
· 폴리플루오렌 유도체계 적색 발광재료
(분자량:300,000) 2.5 중량%
· 용매(메시티렌:테트라린=50:50의 혼합 용매)
97.5 중량%
(혼합 용매의 표면장력 = 32 dyne/cm, 비점 = 186℃)
(메시티렌의 표면장력 = 28 dyne/cm, 비점 = 165℃)
(테트라린의 표면장력 = 35.5 dyne/cm, 비점=207℃)
또, 25μm의 셀간격으로 격자 형상으로 배열된 사각형의 셀(셀의 한 변이100μm, 셀의 깊이 35μm)을 갖춘 판 형상의 그라비아 폼(유효 폭 50 mm)가 준비된다. 이 그라비아 폼에서, 사각형의 셀의 대각선 방향이, 후술의 블랭킷의 가동 방향과 일치된다.
수지 필름으로서 아래와 같은 5종의 수지 필름(F1 ~ F5)이 형성되었다. 이들 수지 필름(폭 150 mm)의 표면장력은 다음과 같이 측정된다.
(수지 필름)
·F1: 폴리프로필렌 필름(토레이 인더스트리(주)제조 Torayfan BO 타입 2500), 두께 50μm, 표면장력 30dyne/cm
·F2 : 멜라민-인화 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(파낙 코교(주)제 PET 100 SG-1), 두께100μm, 표면장력 35 dyne/cm
·F3 : 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(토레이 인더스트리(주)제 T60), 두께 75μm, 표면장력 38 dyne/cm
·F4 : 폴리에틸렌 나프탈레이트 필름(테이진(주)제 Q51), 두께 75μm, 표면장력 45 dyne/cm
·F5 : 접착용이 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(토레이 인더스트리(주)제 U10), 두께100μm, 표면장력 60 dyne/cm
수지 필름의 표면장력의 측정 방법
접촉각θ는 표면장력을 알고 있는 2종 이상의 액체(표준 물질)를 사용하여, 자동 접촉각계(쿄와계면과학(주)제 모델 Dropmaster700)로 측정하였다.
수지 필름의 표면장력은 다음 식에 의거하여 결정되었다: γs(수지 필름의 표면장력)=γL(액체의 표면장력) cosθ+γSL(수지 필름과 액체의 표면장력).
다음에, 각 수지 필름(Fl ~ F5)이, 그 표면에 직경 12 cm, 실린더 폭 30 cm의 표면에 쿠션층(경도 70°)을 갖는 블랭킷 실린더의 원주 면에 장착되어 5개의 블랭킷을 준비했다. 쿠션층의 경도는 JIS K 6253으로 특정된 듀로미터 경도 테스트에 의해 측정된 Type A 경도이다.
다음에, 상기의 그라비아 폼과 각 블랭킷은 편평한 오프셋 인쇄기에 장착되었다. 적색 발광층용 잉크 A1가 그라비어 형태에 공급되어, 셀에 충전되고, 잉크 A1의 불필요한 부분이 블레이드로 제거되었다. 다음에, 세정 처리와 자외선 플라즈마 세정되는 유리 기판이 기재로서 준비된다. 블랭킷은 그라비아 폼으로부터 잉크 A1를 수용하도록 허용된다. 그 후, 블랭킷으로부터 유리 기판 상에 잉크 A1가 전사되어, 적색 발광층(두께 약 70 nm)을 형성했다. 이 경우, 인쇄 속도는1000 mm/초이며, 건조는, 120℃로 설정된 핫 플레이트상에서 1시간동안 행해진다.
상기의 준비된 것과 표면장력이 다른 수지 필름이 장착된 블랭킷이 적색 발광층의 형성시의 인쇄 적합성을 관찰하기 위해 사용된다. 또한, 적색 발광층의 두께 변동[(최대 두께 - 최소 두께)/평균 두께]×100(%)이 측정된다. 그 결과는 아래의 표 1에 나타냈다. 적색 발광층의 두께는, 세이코 인스트루먼트(주) 제의 Nanopics 1000으로, 이 장치에서 표준 디바이스로 포함된 컨택트 모드용 캔틸레버를 이용하여, 측정 영역 100μm 및 스캔 속도 90sec/frame의 조건하에서 측정되었다.
[표 1]
블랭킷 수지 필름의 표면장력 dyne/cm 인쇄 적합성 두께 변동,%
F1 30 그라비아 폼로부터의 수용성이 나쁘다 25
F2 35 양호 5
F3 38 양호 3
F4 45 양호 3
F5 60 양호 5
표 1에 나타내듯이, 표면장력이 35 dyne/cm이상인 블랭킷 F2 ~ F5를 사용하여, 실제의 관점으로부터 만족스런 적색 발광층이 형성될 수 있다.
[실시예 2]
실시예 1에서 사용한 적색 발광층용 잉크 A1에 기초하여, 아래의 표 2에 나타낸 비점의 혼합 용매를 사용하여 적색 발광층용의 8종 잉크(Al ~ A8)가 준비되었다. 혼합 용매의 표면장력은 40dyne/cm이하이며, 전단 속도 100/초, 잉크 온도 23℃의 조건하에서 측정된 잉크 점도는 5~200 cP의 범위내에 있다.
한편, 실시예 1에서 사용된 것과 동일한 그라비아 폼이 제공되었다.
실시예 1에서 서술된 수지 필름 F3(토레이 인더스트리(주) 제 T60, 두께 75μm, 표면장력 38dyne/cm)가 실시예 1에서 서술된 블랭킷 실린더의 원주면 상에 장착되어, 블랭킷을 준비한다.
다음에, 상기 그라비아 폼과 블랭킷이 플랫 오프셋 인쇄기에 장착되고, 적색 발광층용 각 잉크(Al ~ A8)를 이용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 유리 기판위에 적색 발광층(두께 약 70 nm)이 형성된다. 건조도 실시예 1과 동일한 방법으로 행해졌다.
상기와 같이, 비점이 다른 용매를 이용한 적색 발광층용 잉크(8종)가, 적색 발광층 형성시의 인쇄 적합성을 관찰하기 위해 사용된다. 또, 적색 발광층의 두께 변동[(최대두께 - 최소 두께)/평균 두께]×100(%)이 측정되었다. 그 결과는 아래의 표 2에 나타낸 것과 같다.
[표 2]
적색 발광층에 대해 사용된 잉크 용매의 비점, ℃ 인쇄 적합성 두께 변동, %
A1 110 그라비아 폼로의 충전시에 건조 발생 ­
A2 140 기재로의 전사 후 즉시 건조 발생, 그 결과 줄무늬 발생 50
A3 150 약간 줄무늬 발생 10
A4 165 약간 줄무늬 발생 8
A5 210 양호 5
A6 240 양호 5
A7 250 양호 5
A8 270 건조 존에서 건조 불가능 5
표 2에 나타낸 것같이, 150~250℃의 범위의 비점을 갖는 용매를 이용한 잉크(A3~ A7)가 사용될 때, 실제적인 관점에서 만족한 적색 발광층이 형성될 수 있다.
[실시예 3]
실시예 1에서 사용한 적색 발광층용의 잉크 A1에 기초하여, 아래의 표 3에 나타낸 것같은 표면장력을 갖는 혼합 용매를 사용하여 8종의 적색 발광층용의 잉 크(A'1~A'8)가 준비되었다.
혼합 용매의 비점은 150~250℃의 범위내에 있고, 전단 속도100/초, 잉크 온도 23℃의 조건하에서 측정된 잉크의 점도는 5~200 cP의 범위내에 있는다.
한편, 실시예 1과 동일한 그라비아 폼이 이 실시예에서 제공된다.
실시예 1에서 서술된 수지 필름 F3(토레이 인더스트리(주) 제 T60, 두께 75μm, 표면장력 38dyne/cm)가 실시예 1에서 서술된 블랭킷 실린더의 원주면 상에 장착되어, 블랭킷을 준비한다.
다음에, 상기 그라비아 폼과 블랭킷이 플랫 오프셋 인쇄기에 장착되고, 적색 발광층용 각 잉크(A'l ~ A'8)를 이용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 유리 기판위에 적색 발광층(두께 약 70 nm)이 형성된다. 건조도 실시예 1과 동일한 방법으로 행해졌다.
상기와 같이, 비점이 다른 용매를 이용한 적색 발광층용 잉크(8종)가, 적색 발광층 형성시의 인쇄 적합성을 관찰하기 위해 사용된다. 또, 적색 발광층의 두께 변동[(최대두께 - 최소 두께)/평균 두께]×100(%)이 측정되었다. 그 결과는 아래의 표 3에 나타낸 것과 같다.
[표 3]
적색 발광층에 대해 사용된 잉크 용매의 표면장력, dyne/cm 인쇄 적합성 두께 변동, %
A'1 25 양호 5
A'2 30 양호 4
A'3 32 양호 2
A'4 34 양호 4
A'5 36 에지 파트가 약간 구불불구불함 7
A'6 38 에지 파트가 약간 구불구불함 8
A'7 40 에지 파트가 약간 구불구불함 10
A'8 42 그라비아 폼로부터의 수용성이 나쁘다 15
표 3에 나타낸 것같이, 40dyne/cm이하의 표면 장력을 갖는 용매를 이용한 잉크(A '1~A'7)가 사용될 때, 실제적인 관점에서 만족한 적색 발광층이 형성될 수 있다.
[실시예 4]
실시예 1에서 사용한 적색 발광층용의 잉크 A1에 기초하여, 아래의 표 4에 나타낸 것같이, 전단 속도100/초, 잉크 온도 23℃의 조건하에서 측정되고, 점도가 3~250 cP의 범위내에 있는 각 적색 발광층용 잉크A"1~A"12(12종)가 준비되었다.
이 경우, 적색 발광 물질의 함유량은 2 ~ 3 중량%의 범위에서 적절히 변경되고, 또, 혼합 용매의 메시티렌과 테트라린의 혼합비가 변경되어, 표면장력을 25~40dyne/cm의 범위에서, 비점을 150~250℃의 범위에서 적절히 변경한다.
한편, 실시예 1과 동일한 그라비아 폼이 이 실시예에서 제공된다.
실시예 1에서 서술된 수지 필름 F3(토레이 인더스트리(주) 제 T60, 두께 75μm, 표면장력 38dyne/cm)가 실시예 1에서 서술된 블랭킷 실린더의 원주면 상에 장착되어, 블랭킷을 준비한다.
다음에, 상기 그라비아 폼과 블랭킷이 플랫 오프셋 인쇄기에 장착되고, 적색 발광층용 각 잉크(A"2~A"12)를 이용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 유리 기판위에 적색 발광층(두께 약 70 nm)이 형성된다. 건조도 실시예 1과 동일한 방법으로 행해졌다.
상기와 같이, 비점이 다른 용매를 이용한 적색 발광층용 잉크(12종)가, 적색 발광층 형성시의 인쇄 적합성을 관찰하기 위해 사용된다. 또, 적색 발광층의 두께 변동[(최대두께 - 최소 두께)/평균 두께]×100(%)이 측정되었다. 그 결과는 아래의 표 4에 나타낸 것과 같다.
[표 4]
적색 발광층에 대해 사용된 잉크 잉크의 점도, cP 인쇄 적합성 두께 변동, %
A"2 3 잉크의 늘어짐으로 인해 층 두께가 부족 40
A"3 5 스포트형 얼룩짐이 발생 20
A"4 10 스포트형 얼룩짐이 발생 10
A"5 20 스포트형 얼룩짐이 약간 발생 7
A"6 30 양호 5
A"7 50 양호 3
A"1 80 양호 3
A"8 90 양호 3
A"9 100 양호 5
A"10 150 그라비아 폼의 셀도트 마크가 약간 남는다 7
A"11 200 그라비아 폼의 셀도트 마크가 남는다 10
A"12 250 그라비아 폼 셀 도트 마크 드라이브된 큰 요철로 인해 실용 불가 20
표 4에 나타내듯이, 5~200 cP인 점도를 갖는 잉크(A"3~A"7, A"1, A"8~A"11)를 사용하여, 실제적인 관점에서 만족한 적색 발광층이 형성될 수 있다.
[실시예 5]
투명 전극층의 형성
유리 기판(두께 0.7 mm)상에, 이온 도금법에 의해 두께 200 nm의 산화 인듐주석(ITO) 전극막이 우선 형성된다. 이 ITO 전극막 상에 감광성 레지스트가 도포되고, 마스크 노광, 현상, ITO 전극막의 에칭이 실시되어, 폭 2.2mm의 스트라이프 형상의 투명 전극층을 4 mm 피치로 10개 형성한다.
절연층의 형성
다음에, 상기의 유리 기판(두께 0.7 mm)이 세정 처리 및 자외선 플라즈마 세정된다. 그 후, 아크릴 수지를 주성분으로 하는 네가티브형 감광성 레지스트가 스핀 코팅되고, 포토리소그래피-프로세스로 패터닝되어, 각 투명 전극층상에 2 mm×2 mm 크기의 발광 영역(개구)가 4 mm 피치로 존재하는 절연층(두께 1μm)을 형성한다.
정공 주입층의 형성
다음에, 정공 주입층용 잉크로서 폴리(3,4)에티렌디옥시티오펜(PEDOT)(바이엘(사)제 Baytron P CH8000)이 스핀 코팅되고, 코팅은 150℃로 설정된 핫 플레이트 상에서 30분간 건조되어 정공 주입층을 형성한다. 이 정공 주입층은 50mm×50mm의 크기를 가지며, 절연층의 개구를 덮도록 형성된다. PEDOT 스핀 코팅의 회전 속도는, 정공 주입층의 두께가 70 nm가 되도록 조절된다.
적색 발광층의 형성
실시예 1에서 사용된 것과 동일한 그라비아 폼이 제공된다.
실시예 1에서 서술된 수지 필름 F3(토레이 인더스트리(주) 제 T60, 두께 75μm, 표면장력 38dyne/cm)가 실시예 1에서 서술된 블랭킷 실린더의 원주면 상에 장착되어, 블랭킷을 준비한다.
상기 그라비아 폼과 블랭킷이 플랫 오프셋 인쇄기에 장착되고, 실시예 1과 동일한 방법으로, 적색 발광층(두께 약 70 nm)이 실시예 1에서 준비된 적색 발광층용 각 잉크 Al을 이용하여 정공주입층 상에 형성된다(전단 속도100/초, 잉크 온도 23℃의 조건하에서 측정된 점도: 80 cP, 혼합 용매의 표면장력 32 dyne/cm, 비점=186℃).
전자 주입층의 형성
어셈블리의 적색 발광층이 형성된 면측에, 2.2 mm 폭의 스트라이프 형상의 개구를 4 mm 피치로 갖는 금속 마스크가 설치되므로, 이 개구가 스트라이프 형상의 투명 전극층과 직교하고, 절연층의 발광 영역(개구) 상에 위치한다. 다음에, 이 마스크를 통해 진공 기상 증착에 의해 칼슘이 기상 증착(증착 속도=0.lnm/초)되고, 전자 주입층(두께 10 nm)을 4 mm 피치로 10개 형성한다.
전극층의 형성
다음에, 전자 주입층 형성에 이용한 금속 마스크를 그대로 사용하여, 진공 증착법에 의해 알루미늄이 기상 증착(증착률 = 0.4nm/초)된다. 그래서, 알루미늄의 2.21 mm 폭의 스트라이프 형상의 전극층(두께 300nm)이 전자 주입층상에 형성된다.
결국, 전극층-형성된 면측에, 자외선 경화형 접착제를 통해 밀봉판이 부착되어, 본 발명에 따르는 유기 전계발광 디바이스를 준비한다.
이 유기 발광 디바이스에 있어서, 1000 cd/m2에서의 발광 효율과, 정전류 구동시에 발광 휘도가 반감할 때까지의 시간을 발광 소자 수명으로 평가하여, 0.9 cd/A, 30000시간인 것으로 구해졌다. 소자 수명은, 초기의 휘도를 100 cd/m2로 주어 전류치를 설정하고, 그 전류치로 디바이스를 연속 구동시켜, 휘도가 절반이 되는, 즉, 휘도가 50 cd로 줄어드는데 필요한 시간을 평가했다.
[실시예 6]
아래의 조성에 따라서 녹색 발광층용 잉크 B가 준비되었다.
전단 속도 100/초, 잉크 온도 23℃의 조건하에서 실시예 1과 동일한 방법으로 이 잉크 B의 점도가 측정되어, 80 cP가 구해졌다
녹색 발광층용 잉크 B의 조성
· 폴리플루오렌 유도체계 녹색 발광재료
(분자량:200,000) 2.5 중량%
· 용매(메시티렌:테트라린=67:33의 혼합 용매)
97.5 중량%
(혼합 용매의 표면장력 = 33 dyne/cm, 비점 = 193℃)
녹색 발광층용 잉크 B가 사용된 것을 제외하고, 실시예 5와 동일한 방법으로 유기 전계 발광 디바이스가 준비된다. 이 유기 전계발광 디바이스에 대해서,1000cd /m2에서의 발광 효율과, 정전류 구동시에 발광 휘도가 반감할 때까지 필요한 시간이 소자 수명으로 평가하는데, 8.5 cd/A, 20000 시간으로 구해진다.
[실시예 7]
아래의 조성에 따라서 청색 발광층용 잉크 C가 준비되었다.
전단 속도 100/초, 잉크 온도 23℃의 조건하에서 실시예 1과 동일한 방법으로 이 잉크 C의 점도가 측정되어, 60 cP가 구해졌다
청색 발광층용 잉크 C의 조성
· 폴리플루오렌 유도체계 청색 발광재료
(분자량:300,000) 2.5 중량%
· 용매(메시티렌:테트라린=25:75의 혼합 용매)
97.5 중량%
(혼합 용매의 표면장력 = 34 dyne/cm, 비점 = 197℃)
청색 발광층용 잉크 C가 사용된 것을 제외하고, 실시예 5와 동일한 방법으로 유기 전계 발광 디바이스가 준비되고, 또한, 전자 주입층의 형성에서, 칼슘층을 진공 기상 증착으로 형성하기 전에, 1 nm의 두께의 불화 리튬이 진공 기상 증착(증착 률 = 0.O1 nm/초)에 의해 형성된다.
이 유기 전계발광 디바이스에 있어서, 1000cd/m2에서의 발광 효율과, 정전류 구동시에 발광 휘도가 반감할 때까지 필요한 시간을 소자 수명으로서 평가해서, 4.O cd/A, 1000 시간을 각각 구했다.
[실시예 8]
아래와 같은 조성에 따라서 백색 발광층용의 잉크 D가 준비된다. 이 잉크 D의 점도는, 전단 속도 100/초, 잉크 온도 23℃의 조건 하에서, 실시예 1과 동일한 방법으로 측정되어, 45 cP인 것으로 구해졌다.
백색 발광층용의 잉크 D의 조성
· 폴리플루오렌 유도체계 백색 발광재료
(분자량:300,000) 2.5 중량%
· 용매(메시티렌:테트라린=25:75의 혼합 용매)
97.5 중량%
(혼합 용매의 표면장력 = 34 dyne/cm, 비점 = 197℃)
백색 발광층용 잉크 D가 사용된 것을 제외하고, 실시예 5와 동일한 방법으로 유기 전계 발광 디바이스가 준비된다. 이 유기 전계발광 디바이스에 있어서, 1000cd/m2에서의 발광 효율과, 정전류 구동시에 발광 휘도가 반감할 때까지 필요한 시간을 소자 수명으로서 평가해서, 4.O cd/A, 1000 시간을 각각 구했다.

Claims (22)

  1. 대향하는 전극과, 상기 전극간에 구비되고 적어도 발광층을 갖는 발광소자층을 포함하는 유기 전계발광 디바이스의 발광층 형성 방법으로서,
    적어도 유기 발광재료를 포함하는 발광층용 잉크를 그라비아 폼의 셀에 충전하는 단계;
    블랭킷이 상기 셀로부터 발광층용 잉크를 수용하도록 하는 단계;
    상기 블랭킷 상의 발광층용 잉크를 발광층 형성면에 전사하는 단계를 포함하고,
    상기 블랭킷은 35 dynes/cm이상의 표면 장력을 갖는 수지 필름을 표면층으로서 가지고,
    상기 발광층용 잉크는 전단 속도 100/초에서 측정된 5~200 cP의 범위의 점도(잉크 온도 23℃)를 가지며,
    40 dynes/cm이하의 표면 장력과, 150~250℃ 범위의 비점 온도를 갖는 용매가 상기 발광층용 잉크에 사용되는, 발광층 형성 방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 수지 필름은, 5~200μm의 두께를 갖는, 발광층 형성 방법.
  3. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    상기 블랭킷은, 블랭킷 실린더의 주위 면에 일체적으로 형성된 수지 필름을 포함하는, 발광층 형성 방법.
  4. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    적어도, 상기 발광층용 잉크가 그라비아 폼으로부터 수용되는 위치로부터 상기 발광층용 잉크가 상기 발광층 형성면에 전사되는 위치까지의 범위의 부분에서 회전하는 블랭킷 실린더의 주위 면에 수지 필름이 감겨지는 상태로 상기 수지 필름이 반송되는, 발광층 형성 방법.
  5. 청구항 3에 있어서,
    쿠션층이 상기 블랭킷 실린더의 표면에 구비되는, 발광층 형성 방법.
  6. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    상기 발광층용 잉크에서 상기 유기 발광재료의 함유량은, 1.5~4.0 중량%의 범위에 있는, 발광층 형성 방법.
  7. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    상기 그라비아 폼의 셀은, 20 ~200μm의 범위의 최대 개구 길이와, 10~200μm의 깊이를 갖는, 발광층 형성 방법.
  8. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    상기 그라비아 폼에서, 복수의 셀이 1개의 영역 칼라용 패턴을 구성하고, 1개의 패턴 폭은 200μm이상인, 발광층 형성 방법.
  9. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    발광색이 서로 다른 복수의 발광층이 복수 쌍의 그라비아 폼과 블랭킷을 이용해 연속적으로 형성되는, 발광층 형성 방법.
  10. 청구항 8에 있어서,
    그라비아 폼은 축방향으로 복수의 구획부로 분할되고, 임의의 원하는 발광층용 잉크가 각 구획부마다 공급되어, 발광색이 서로 다른 복수의 발광층을 동시에 형성하는, 발광층 형성 방법.
  11. 투명기재; 상기 투명기재상에 원하는 패턴으로 구비된 투명 전극층; 상기 투명기재 상에 구비되어 상기 전극층의 원하는 부분이 노출되도록 하는 복수의 개구를 갖는 절연층; 상기 개구내의 상기 투명 전극층을 덮고, 상기 개구의 주변 부분 상에 위치된 부분의 상기 절연층상으로 연장되도록 구비되고, 적어도 발광층을 갖는 발광소자층; 및 상기 개구들중 임의의 원하는 개구 내에 위치하는 상기 발광소자층과 접속되도록 구비된 전극층을 포함하는 유기 전계발광 디바이스로서,
    상기 발광 소자층의 발광층은 청구항 1 또는 2에 따르는 방법에 의해 형성되는, 유기 전계발광 디바이스.
  12. 기재; 상기 기재상에 원하는 패턴으로 구비된 전극층; 상기 기재상에 구비되어 상기 전극층의 원하는 부분이 노출되도록 하는 복수의 개구를 갖는 절연층; 상기 개구내의 상기 전극층을 덮고, 상기 개구의 주변 부분 상에 위치된 부분의 상기 절연층상으로 연장되도록 구비되고, 적어도 발광층을 갖는 발광소자층; 및 상기 개구 들중 임의의 원하는 개구 내에 위치하는 상기 발광소자층과 접속되도록 구비된 투명 전극층을 포함하는 유기 전계발광 디바이스로서,
    상기 발광 소자층의 발광층은 청구항 1 또는 2에 따르는 방법에 의해 형성된, 유기 전계발광 디바이스.
  13. 청구항 11에 있어서,
    상기 발광소자층을 구성하는 상기 발광층에서, 상기 개구내에 위치하는 부분의 두께 변동이 10% 이하인, 유기 전계발광 디바이스.
  14. 청구항 11에 있어서,
    상기 발광소자층은, 순서대로 적층된 정공 주입층, 발광층, 및 전자 주입층을 적어도 포함하는, 유기 전계발광 디바이스.
  15. 청구항 11에 있어서,
    패시브 매트릭스형인, 유기 전계발광 디바이스.
  16. 청구항 11에 있어서,
    액티브 매트릭스형인, 유기 전계발광 디바이스.
  17. 청구항 11에 있어서,
    상기 절연층에서 1O mm 이상의 최대 개구폭을 갖는 개구를 포함하는 유기 발광 포스터인, 유기 전계발광 디바이스.
  18. 청구항 11에 있어서,
    칼라 필터층을 더 포함하는, 유기 전계발광 디바이스.
  19. 청구항 18에 있어서,
    상기 칼라 필터층과 상기 투명 전극의 사이에 구비된 색변환 형광물질층을 더 포함하는, 유기 전계발광 디바이스.
  20. 청구항 11에 있어서,
    상기 발광소자층에서, 백색을 포함한 원하는 발광색의 발광층이 구비되거나, 또는 각각의 원하는 발광색의 발광층이 소정의 패턴의 조합으로 구비되는, 유기 전계발광 디바이스.
  21. 청구항 19에 있어서,
    상기 발광소자층은, 청색 광을 방사하고,
    상기 색변환 형광물질층은 청색 광을 녹색 형광으로 변환해 녹색 형광 광을 방사하는 녹색 변환층과, 청색 광을 적색 형광으로 변환해 적색 형광 광을 방사하는 적색 변환층을 포함하는, 유기 전계발광 디바이스.
  22. 청구항 14에 있어서,
    정공 주입층용 코팅막을 형성하고, 상기 정공 주입층용 코팅막을 형성한 뒤 1분 이내에 상기 발광층용 코팅막을 형성하고, 이 2층을 100~200℃의 온도 범위에서 동시에 건조함으로써 형성된 정공 주입층과 발광층을 포함하는, 유기 전계발광 디바이스.
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Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5023690B2 (ja) * 2006-12-25 2012-09-12 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ用のオーバーコートを形成する方法
JP5020642B2 (ja) * 2007-01-15 2012-09-05 阪本 順 印刷装置、印刷方法および多層構造形成方法
KR101014363B1 (ko) * 2007-10-17 2011-02-15 한국기계연구원 롤투롤 윤전인쇄방식을 이용한 전자소자 제조장치
EP2216380A1 (en) * 2007-11-16 2010-08-11 Sumitomo Chemical Company, Limited Coating liquid used in coating method for discharging coating liquid through slit-shaped discharge outlet
JP4388138B2 (ja) 2008-03-31 2009-12-24 パナソニック株式会社 2種類の物質を基板の表面に選択的に配置する方法
KR101592386B1 (ko) * 2009-01-16 2016-02-11 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
KR101733585B1 (ko) 2009-07-28 2017-05-11 삼성디스플레이 주식회사 잉크 패턴 형성 방법 및 잉크 패턴 인쇄 장치
JP5272971B2 (ja) * 2009-08-27 2013-08-28 セイコーエプソン株式会社 有機el装置の製造方法、及びカラーフィルターの製造方法
KR101108081B1 (ko) 2009-09-21 2012-01-31 한국기계연구원 평제판 그라비아 오프셋 인쇄의 양산성 테스트 방법
CN102687592B (zh) * 2010-01-08 2016-01-20 株式会社日本有机雷特显示器 有机el面板、使用了该有机el面板的显示装置以及有机el面板的制造方法
JP2011148231A (ja) * 2010-01-22 2011-08-04 Dainippon Printing Co Ltd 印刷方法、発光層形成方法、有機発光デバイス形成方法および有機発光デバイス
JP5663892B2 (ja) * 2010-02-16 2015-02-04 住友化学株式会社 薄膜の製造方法
JP5660129B2 (ja) * 2010-03-16 2015-01-28 コニカミノルタ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
JP2011204524A (ja) * 2010-03-26 2011-10-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 発光装置の製造方法
US9379323B2 (en) * 2010-04-12 2016-06-28 Merck Patent Gmbh Composition having improved performance
JP2011230348A (ja) * 2010-04-27 2011-11-17 Komori Corp グラビア印刷機
US8907329B2 (en) 2010-11-24 2014-12-09 Panasonic Corporation Organic el panel, display device using same, and method for producing organic el panel
US8853716B2 (en) 2010-11-24 2014-10-07 Panasonic Corporation Organic EL panel, display device using same, and method for producing organic EL panel
US8847217B2 (en) 2010-11-24 2014-09-30 Panasonic Corporation Organic EL panel, display device using same, and method for producing organic EL panel
WO2012070085A1 (ja) * 2010-11-24 2012-05-31 パナソニック株式会社 有機elパネル、それを用いた表示装置および有機elパネルの製造方法
WO2012098994A1 (ja) * 2011-01-18 2012-07-26 シャープ株式会社 被成膜基板、有機el表示装置
JP5611874B2 (ja) * 2011-03-17 2014-10-22 ヒラノ技研工業株式会社 塗工装置
JP6015073B2 (ja) * 2012-04-02 2016-10-26 セイコーエプソン株式会社 機能層形成用インク、発光素子の製造方法
JP6111036B2 (ja) * 2012-09-28 2017-04-05 セーレン株式会社 グラビアオフセット印刷方法
KR101659115B1 (ko) * 2012-12-27 2016-09-22 제일모직주식회사 열전사 필름 및 이를 사용하여 제조된 유기전계발광소자
KR102080731B1 (ko) * 2013-05-28 2020-02-25 삼성디스플레이 주식회사 유기전계 발광장치의 제조방법
KR101436123B1 (ko) 2013-07-09 2014-11-03 피에스아이 주식회사 초소형 led를 포함하는 디스플레이 및 이의 제조방법
KR20190091381A (ko) 2013-08-12 2019-08-05 카티바, 인크. 인쇄 가능한 유기 발광 다이오드 잉크 배합물을 위한 에스테르계 용매 시스템
KR20150022560A (ko) * 2013-08-23 2015-03-04 삼성전기주식회사 인쇄회로기판 및 인쇄회로기판 제조 방법
JP2015085538A (ja) * 2013-10-28 2015-05-07 凸版印刷株式会社 グラビアオフセット印刷装置
JP6228017B2 (ja) * 2014-01-09 2017-11-08 セーレン株式会社 印刷装置および印刷方法
KR101672781B1 (ko) 2014-11-18 2016-11-07 피에스아이 주식회사 수평배열 어셈블리용 초소형 led 소자, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 수평배열 어셈블리
KR101713818B1 (ko) 2014-11-18 2017-03-10 피에스아이 주식회사 초소형 led 소자를 포함하는 전극어셈블리 및 그 제조방법
CN105244454B (zh) * 2015-10-16 2018-04-06 Tcl集团股份有限公司 一种印刷am‑qdled及其制作方法
KR101730977B1 (ko) 2016-01-14 2017-04-28 피에스아이 주식회사 초소형 led 전극어셈블리
CN105694590B (zh) * 2016-01-19 2019-05-21 纳晶科技股份有限公司 量子点墨水、发光膜和电致发光器件
TWI661947B (zh) 2017-11-17 2019-06-11 財團法人工業技術研究院 凹版轉印機台
CN108926065A (zh) * 2018-08-09 2018-12-04 晋江市履图鞋业科技有限公司 一种发光鞋及其加工方法
KR20200145951A (ko) * 2019-06-21 2020-12-31 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 그의 제조 방법
CN110611057B (zh) * 2019-10-17 2020-12-25 山西穿越光电科技有限责任公司 一种卷对卷转印oled柔性显示发光层的方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003059656A (ja) * 2001-08-09 2003-02-28 Dainippon Printing Co Ltd エレクトロルミネッセント素子の製造方法
JP2004066736A (ja) * 2002-08-08 2004-03-04 Dainippon Printing Co Ltd シリコーンゴムブランケット及びその製造方法

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3444563B2 (ja) 1995-03-30 2003-09-08 藤倉ゴム工業株式会社 オフセット印刷用ブランケットおよびその製造方法
JP4269195B2 (ja) * 1998-09-25 2009-05-27 ソニー株式会社 発光又は調光素子、及びその製造方法
JP2000228284A (ja) 1998-12-01 2000-08-15 Sanyo Electric Co Ltd カラーel表示装置
JP2001093668A (ja) 1999-09-22 2001-04-06 Canon Inc 有機発光材料、それを用いた表示体及びその製造方法
JP2001291587A (ja) 2000-02-01 2001-10-19 Canon Inc 有機発光デバイスの製造方法及び該方法で製造された有機発光デバイス
US6668148B2 (en) * 2000-12-20 2003-12-23 Ricoh Company, Ltd. Latent electrostatic image developing apparatus and image forming apparatus including such developing apparatus
JP4004255B2 (ja) * 2001-09-05 2007-11-07 シャープ株式会社 有機led表示パネルの製造方法
US20030089252A1 (en) * 2001-11-09 2003-05-15 Sarnecki Greg J. Production of Electroluminescent Devices
US7098069B2 (en) * 2002-01-24 2006-08-29 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device, method of preparing the same and device for fabricating the same
JP2003308973A (ja) * 2002-02-13 2003-10-31 Sumitomo Rubber Ind Ltd 有機elパネルの製造方法およびそれに用いる印刷用ブランケット
KR100467553B1 (ko) * 2002-05-21 2005-01-24 엘지.필립스 엘시디 주식회사 고분자 유기전기발광 디스플레이 소자와 그 제조방법
US7230271B2 (en) 2002-06-11 2007-06-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device comprising film having hygroscopic property and transparency and manufacturing method thereof
JP2004095551A (ja) * 2002-08-09 2004-03-25 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置およびその作製方法
KR100504472B1 (ko) 2002-09-05 2005-08-04 엘지전자 주식회사 유기 el 소자 및 그 제조 방법
JP2004111158A (ja) 2002-09-17 2004-04-08 Dainippon Printing Co Ltd 発光表示パネル
JP3867659B2 (ja) 2002-11-26 2007-01-10 ソニー株式会社 有機電界発光素子の製造方法
US7026658B2 (en) * 2003-03-13 2006-04-11 Samsung Sdi, Co., Ltd. Electrical conductors in an electroluminescent display device
US20040265481A1 (en) * 2003-06-27 2004-12-30 Yoshihiro Kobayashi Method for manufacturing electroluminescent element
JP2005059348A (ja) * 2003-08-11 2005-03-10 Dainippon Printing Co Ltd 有機el発光層形成用平台印刷機
KR100549984B1 (ko) 2003-12-29 2006-02-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 듀얼패널타입 유기전계발광 소자 및 그 제조방법
US20050164425A1 (en) * 2004-01-23 2005-07-28 Markus Tuomikoski Optoelectronic component
JP4984446B2 (ja) * 2005-07-11 2012-07-25 大日本印刷株式会社 発光層、正孔注入層の形成方法およびそれらを用いた有機発光デバイスの製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003059656A (ja) * 2001-08-09 2003-02-28 Dainippon Printing Co Ltd エレクトロルミネッセント素子の製造方法
JP2004066736A (ja) * 2002-08-08 2004-03-04 Dainippon Printing Co Ltd シリコーンゴムブランケット及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
GB0722535D0 (en) 2007-12-27
JP4984433B2 (ja) 2012-07-25
GB2440483B (en) 2011-04-06
US20090081480A1 (en) 2009-03-26
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WO2006123813A1 (en) 2006-11-23
GB2440483A (en) 2008-01-30
KR20080021023A (ko) 2008-03-06
CN101223826A (zh) 2008-07-16
CN100586242C (zh) 2010-01-27

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