KR101304774B1 - 표면보호필름 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 표면보호필름은, 투명 고분자 필름의 한쪽 면에 점착층이 설치되고, 다른 쪽 면에 표면보호층이 설치되며, 표면보호층이 이형성 성분으로서 JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 100도 이상인 축합반응형 실리콘계 수지를 포함하고, 바인더 성분인 JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 90도 이하인 축합반응형 수지로 형성한다. 바람직하게는 상기 JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 90도 이하인 축합반응형 수지는, 축합반응형 실리콘계 수지를 포함한다. 이 표면보호필름은 포토레지스트에 대한 매우 높은 이형성을 지속할 수 있다.

Description

표면보호필름{Surface-protective film}
본 발명은 이형성(離型性)을 갖는 표면보호필름에 관한 것으로, 특히, 프린트기판 제작공정 등에 있어서 점착성을 갖는 포토레지스트를 노광(露光)할 때의 원고(포토마스크)의 표면에 적합하게 사용되는 표면보호필름에 관한 것이다.
통상, 프린트 배선판이나 수지 볼록판은, 액상 포토레지스트 등의 점착성이 있는 포토레지스트에 포토마스크(노광용 원고)를 밀착노광하여 제작된다. 이 때문에, 포토마스크의 표면에 어떠한 처리를 행하지 않으면, 노광종료 후 포토마스크를 포토레지스트로부터 박리할 때, 포토레지스트의 일부가 포토마스크 표면에 부착되어, 닦아내도 포토마스크 상에 잔존하여, 노광정도(露光精度)의 저하를 초래한다는 문제를 발생시킨다. 이러한 사정으로부터, 종래부터 포토마스크 상의 포토레지스트에 대향(對向)하는 면에 이형성을 갖는 표면보호필름을 설치하여, 포토레지스트가 포토마스크에 부착되는 것을 방지하고 있다.
이러한 포토마스크용 표면보호필름으로서는, 플라스틱 필름의 한쪽 면에 이형성을 갖는 표면보호층을 갖고, 다른 한쪽 면에 점착층을 갖는 것이 제안되어 있다(특허문헌 1). 표면보호층을 구성하는 재료로서는, 통상 실리콘계 수지 등의 이형성을 갖는 수지가 사용되고 있다.
그러나 이러한 표면보호필름에 있어서도, 표면보호층으로의 포토레지스트의 부착을 완전히 방지할 수는 없어, 표면보호층에 노광을 반복할 때마다 조금씩 부착된 포토레지스트에 의해, 노광시의 빛이 차폐되거나, 광산란성이 증가하여, 노광장애(露光障害)로 되어 버린다. 또한, 부착된 포토레지스트의 표면요철이 기판(레지스트)에 재전사(再轉寫)되어 버려, 흠집에 의한 불량으로 되어 버린다.
이러한 문제를 해결하기 위해, 표면보호막에 남은 포토레지스트나, 그 밖의 먼지 등을 제거하기 위해, 표면보호막의 표면을 세정 용제에 의해 정기적으로 클리닝(닦아내기 조작)하는 것이 행해지고 있다(특허문헌 2).
그러나, 이러한 작업을 행하는 것은 번잡하여, 양산성을 높이기 위해서라도 클리닝의 횟수를 적게 하는 것이나 클리닝을 없애는 것이 요망되고 있다.
특허문헌 1 : 일본국 특허공개 평11-7121호 공보(특허청구의 범위)
특허문헌 2 : 일본국 특허공개 제2003-96409호 공보(발명이 해결하고자 하는 과제)
발명의 개시
발명이 해결하고자 하는 과제
이에 본 발명은, 포토레지스트에 대한 매우 높은 이형성이 지속되는 표면보호필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.
과제를 해결하기 위한 수단
상기 과제 달성을 위해 검토한 결과, 노광을 반복할 때마다 표면보호막에 조금씩 포토레지스트가 부착되어, 표면보호막의 이형성이 상실되어 가는 것을 알 수 있었다.
따라서, 본 발명자 등은 이러한 목적을 달성하기 위해 예의 연구를 거듭한 결과, 표면보호층을 이형성 성분으로서 JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 100도 이상인 축합반응형 실리콘계 수지를 포함하고, 바인더 성분으로서 JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 90도 이하인 축합반응형 수지로 구성함으로써, 상기와 같은 과제를 해결할 수 있음을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명의 표면보호필름은 투명 고분자 필름의 한쪽 면에 표면보호층이 설치된 표면보호필름에 있어서, 표면보호층이 이형성 성분으로서 JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 100도 이상인 축합반응형 실리콘계 수지를 포함하고, 바인더 성분으로서 JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 90도 이하인 축합반응형 수지로 구성되는 것을 특징으로 하는 것이다.
또한, 본 발명의 표면보호필름은 상기 물과의 접촉각이 90도 이하인 축합반응형 수지로서, 축합반응형 실리콘계 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 것이다.
또한, 본 발명의 표면보호필름은 상기 물과의 접촉각이 100도 이상인 축합반응형 실리콘계 수지의 비율은, 상기 바인더 성분 100 중량부에 대해 1 중량부~40 중량부인 것을 특징으로 하는 것이다.
본 발명의 표면보호필름의 일태양에 있어서, 투명 고분자 필름의 다른 쪽 면에는 점착층이 설치되어 있다.
추가적으로, 본 발명의 표면보호층용 조성물은 JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 100도 이상인 축합반응형 실리콘계 수지와, JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 90도 이하인 축합반응형 수지를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명의 표면보호막용 조성물은 상기 축합반응형 수지가, JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 90도 이하인 축합반응형 실리콘계 수지를 포함한다. 본 발명의 표면보호막용 조성물에 있어서, 축합반응형 수지는 예를 들면 이 축합반응형 실리콘계 수지를 15 중량% 이상, 70 중량% 이하 포함한다.
발명의 효과
본 발명에 따르면 표면보호막으로의 포토레지스트의 부착을 방지하여, 클리닝을 행하지 않더라도, 포토레지스트에 대한 매우 높은 이형성을 지속할 수 있다.
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
본 발명의 표면보호층용 조성물 및 표면보호필름에 대해서 설명한다.
본 발명의 표면보호층용 조성물은 물과의 접촉각이 100도 이상인 축합반응형 실리콘계 수지와, 물과의 접촉각이 90도 이하인 축합반응형 수지를 포함하는 것이다. 본 발명의 표면보호층용 조성물은 고분자 필름 등의 기재에 표면보호층을 설치한 표면보호필름의 표면보호층이나, 표면보호대상 재료(예를 들면 포토마스크)의 표면에 직접 설치한 표면보호층을 형성하는데 사용된다.
본 발명의 표면보호필름은 투명 고분자 필름의 한쪽 면에 표면보호층이 설치되고, 다른 쪽 면에 점착층이 설치된 표면보호필름으로, 표면보호층은 본 발명의 표면보호층용 조성물로 형성된 것이다. 이하, 본 발명의 표면보호필름의 실시형태에 대해서 설명한다.
투명 고분자 필름으로서는, 노광시에 사용되는 자외선의 투과율이 높은 것이면 좋고, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 트리아세틸셀룰로오스, 아크릴, 폴리염화비닐 등의 투명성이 우수한 고분자 필름이 사용된다. 특히 이축연신된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이 기계적 강도, 치수안정성이 우수하기 때문에 적합하게 사용할 수 있다. 또한, 이들의 투명 고분자 필름에, 적절히 이(易)접착층 등을 설치한 것도 적합하게 사용된다.
투명 고분자 필름의 두께는, 해상도에 영향을 미치기 때문에 얇은 쪽이 바람직하지만, 취급성도 고려하여 두께의 하한으로서는 1 ㎛ 이상, 바람직하게는 2 ㎛ 이상, 4 ㎛ 이상이 보다 바람직하고, 상한으로서는 100 ㎛ 이하, 바람직하게는 25 ㎛ 이하, 12 ㎛ 이하의 범위가 보다 바람직하다.
투명 고분자 필름의 표면보호층이 설치되는 면과 반대쪽 면에 설치되는 점착층은, 일반적으로 사용되는 아크릴계 점착제, 고무계 점착제, 우레탄계 점착제, 실리콘계 점착제 등의 공지의 투명 점착제를 사용할 수 있다. 본 발명의 표면보호필름은 화상 등의 보호를 목적으로 하고 있어, 점착제도 투명하고 그 자체가 높은 내후성을 가지고 있는 것이 바람직하다. 이러한 점착제로서는 우레탄 가교성 또는 에폭시 가교성 고분자량 아크릴계의 점착제가 적합하다. 또한, 대전방지 등의 성능을 갖는 점착제를 사용해도 좋다.
또는 대전방지층을 설치한 투명 고분자 필름 면에, 점착층을 설치해도 좋다.
이 점착층의 두께로서는 투명성(해상도)을 저해하지 않고, 적절한 점착성이 얻어지도록, 하한으로서 0.5 ㎛ 이상, 바람직하게는 1 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 2 ㎛ 이상의 범위가 바람직하고, 상한으로서는 30 ㎛ 이하, 바람직하게는 15 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 7 ㎛ 이하의 범위가 바람직하다.
또한, 점착층에는 그 점착성에 따라 표면보호필름의 취급성이 저하되지 않도록 하기 위해, 표면에 이형처리를 행한 이형 필름을 첩합(貼合)시키는 것도 적절히 행할 수 있다.
투명 고분자 필름의 다른 쪽 표면에 설치되는 표면보호층은 이형성을 갖는 표면보호층으로 되고, 이형성 성분, 바인더 성분으로 구성되어 되는 것이다.
이형성 성분은 포토레지스트에 대해 높은 이형성을 부여하는 성분으로, 주로 JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 100도 이상인 축합반응형 실리콘계 수지(이하, 고접촉각 축합반응형 수지라고도 한다)로 된다. 또한 바인더 성분은 투명 고분자 필름에 대한 높은 접착성을 부여하는 성분으로, 주로 JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 90도 이하인 축합반응형 수지(이하, 저접촉각 축합반응형 수지라고도 한다)로 된다.
이들 2종류의 축합반응형 수지를 포함하는 표면보호층용 조성물을 사용하여 기재 상에 표면보호층을 형성한 경우, 도막이 건조되는 과정에서, 자율적으로 고접촉각 축합반응형 수지가 표면측에 편재하고, 저접촉각 축합반응형 수지가 기재측에 편재하게 된다. 또한 양자의 계면에 있어서 이형성 성분과 바인더 성분이 축합반응에 의해 결합된다. 이와 같이 상기 2종류의 축합반응형 수지를 사용함으로써, 표면보호층 표면에는 높은 이형성을 갖는 이형성 성분이 고농도로 존재하게 되기 때문에, 높은 이형성이 얻어진다. 또한 이형성 성분이 고농도로 존재하는 영역과, 바인더 성분이 고농도로 존재하는 영역이 양 성분을 구성하는 수지의 축합반응에 의해 결합되어 있기 때문에, 이형성 성분이 도막으로부터 탈락되는 경우가 없어져, 이형성을 지속할 수 있다.
한편, 바인더 성분인 저접촉각 축합반응형 수지만으로는 이형성이 얻어지지 않는다. 또한, 이형성 성분인 고접촉각 축합반응형 수지만으로는 투명 고분자 필름과의 접착성이 나쁘고, 또한 기계적 강도가 떨어져, 프린트기판과 접촉할 때의 내찰상성이 충분히 얻어지지 않는다. 추가적으로, 고접촉각 축합반응형 실리콘계 수지를 바인더 성분으로서 축합반응형 수지가 아닌 수지와 조합시킨 경우나, 저접촉각 축합반응형 수지를 이형성 성분으로서 축합반응형 실리콘계 수지가 아닌 수지와 조합시킨 경우에서는, 이형성 성분과 바인더 성분이 결합하는 경우가 없기 때문에, 지속되는 이형성이 얻어지지 않는다.
축합반응형 실리콘 수지는, 다음의 화학식 1과 같은 실록산 주쇄를 갖는 실리콘계 수지로, 측쇄의 유기 관능기 R 및/또는 말단기로서, 실라놀기를 생성하는 가수분해성기, 즉 가수분해하여 실라놀기(Si-OH)를 재생하고, 추가적으로 탈수축합하여 주쇄 사이에 실록산 결합을 형성하는 기와, 소수성기를 갖는다. 가수분해성기로서는, 예를 들면 아세톡시기, 옥심기, 메톡시기, 아미드기, 프로페녹시기 등을 들 수 있다. 또한 소수성기로서는, 페닐기, 알킬기, 플루오로알킬기 등을 들 수 있다. 이들 유기 관능기 R을 구성하는 가수분해성기 및 소수성기를 적절히 선택 도입함으로써 축합반응형 실리콘 수지의 물과의 접촉각을 조정할 수 있다. 구체적으로는, 소수성기의 비율을 많게 할수록 접촉각을 크게 할 수 있다. 또한 소수성기의 비율을 적게 하고, 가수분해성기를 많게 할수록 접촉각을 작게 할 수 있다.
Figure 112008046112286-pct00001
고접촉각의 축합반응형 실리콘계 수지로서, 예를 들면, 디메틸폴리실록산을 베이스 폴리머로 한 측쇄 및/또는 말단기에 페닐기, 알킬기, 플루오로알킬기를 갖는 것 등을 사용할 수 있고, 축합반응성이라는 관점에서, 실라놀기를 생성하는 가수분해성기, 예를 들면 아세톡시기, 옥심기, 메톡시기, 아미드기, 프로페녹시기 등을 갖는 것을 사용할 수 있다.
이형성 성분으로서는, 전술한 축합반응형 실리콘계 수지 이외의 이형성 성분도, 도막의 기능을 저해하지 않는 범위에서 첨가하는 것도 가능하다. 다른 이형성 성분으로서, 예를 들면 측쇄나 말단기에 가수분해성기를 갖지 않는 실리콘오일(디메틸폴리실록산) 등을 들 수 있다. 다른 이형성 성분을 첨가하는 경우, 이형성 성분에 차지하는 축합반응형 실리콘계 수지의 비율은 90% 이상인 것이 바람직하다.
저접촉각 축합반응형 수지는, 바인더 성분으로서의 역할을 하는 것으로, 물과의 접촉각이 90도 이하, 바람직하게는 85도 이하인 것을 사용한다. 저접촉각 축합반응형 수지에 대해서도, 측쇄인 유기 관능기를 구성하는 가수분해성기 및 소수 성기의 비율을 적절히 조정함으로써 축합반응형 수지의 물과의 접촉각을 조정할 수 있다. 이러한 수지로서는, 축합반응형 실리콘계 수지, 축합반응형 알키드 수지, 축합반응형 멜라민 수지, 축합반응형 아크릴 수지, 축합반응형 폴리에스테르 수지 등을 사용할 수 있다.
특히, 축합반응형 실리콘계 수지는, 용액상태에 있어서 이형성 성분의 실리콘계 수지와의 상용성이 좋기 때문에 바람직하고, 예를 들면 실라놀기를 생성하는 가수분해성기를 갖는 것을 사용할 수 있다. 또한, 축합반응형 수지 중에 실리콘 성분(실리콘계 수지)은 하한으로서 15 중량% 이상이 바람직하고, 상한으로서 70 중량% 정도 함유시키는 것이 바람직하다. 이러한 범위로 함으로써, 바인더 성분인 다른 축합반응형 수지와 이형성 성분인 고접촉각 축합반응형 실리콘계 수지 사이에, 바인더 성분인 축합반응형 실리콘계 수지가 개재되어 결합시킬 수 있기 때문에, 투명 고분자 필름과의 접착성을 향상시킬 수 있고, 추가적으로 도막에 충분한 경화성이나 포토레지스트에 포함되는 용제에 대해 충분한 기계적 강도, 내찰상성을 부여할 수 있다.
추가적으로 축합반응형 수지 이외의 수지를, 도막의 기능을 저해하지 않는 범위에서 바인더 성분으로서 첨가할 수 있다. 축합반응형 수지 이외의 수지로서, 예를 들면, 열가소성 아크릴 수지, 열가소성 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 전체 바인더 성분 중의 축합반응형 수지의 비율은 하한으로서 70 중량% 이상 정도이다.
이형성 성분의 축합반응형 실리콘계 수지는, 바인더 성분 100 중량부에 대해 상한으로서 40 중량부 이하, 20 중량부 이하가 더욱 바람직하고, 하한으로서 1 중 량부 이상, 2 중량부 이상이 더욱 바람직하다. 하한을 1 중량부 이상으로 하는 것은, 1 중량부 보다 적으면 이형 효과가 얻어지기 어렵기 때문이다. 또한, 상한을 40 중량부 이하로 하는 것은, 40 중량부 보다 많으면 포토레지스트에 포함되는 용제에 대해 충분한 기계적 강도, 내찰상성이 얻어지기 어려워지고, 투명 고분자 필름과의 접착성이 악화되며, 추가적으로 많이 첨가하더라도 이형 효과의 향상이 보이지 않기 때문이다.
본 발명의 표면보호층용 조성물은, 전술한 고접촉각 축합반응형 실리콘계 수지 및 저접촉각 축합반응형 수지와의 축합반응을 촉진하기 위한 촉매를 포함하고 있어도 좋다. 촉매로서는, 금속 지방산염, 금속 알코올레이트 등의 공지의 촉매를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 주석화합물, 지르코늄화합물, 티탄계 화합물 등이 사용된다.
본 발명의 표면보호필름은 축합반응으로 각 성분을 결합할 수 있기 때문에, 기계적 강도, 내찰상성의 향상이나, 도막으로부터의 이형성 성분의 탈락 감소, 즉 프린트기판으로의 이형성 성분의 전사 감소, 및 이형 지속성의 향상을 꾀할 수 있다.
표면보호층 중에는, 이들 수지 외에 표면보호층에 요철을 형성하기 위해 무기안료나, 수지 비즈 등의 미립자 등을 첨가할 수 있다. 이러한 미립자로서는 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 황산바륨, 실리카, 수산화알루미늄, 카올린, 클레이, 탈크 등의 무기안료나, 아크릴 수지입자, 폴리스티렌 수지입자, 폴리우레탄 수지입자, 폴리에틸렌 수지입자, 벤조구아나민 수지입자, 에폭시 수지입자 등의 수지 비즈 등을 사용할 수 있다. 이러한 미립자의 첨가량은, 미립자의 종류, 표면보호층의 두께에 따라 상이하기 때문에 일률적으로는 말할 수 없지만, 통상은 표면보호층을 구성하는 전체 고형분 중의 0.05 중량%~9.5 중량% 정도이다. 또한, 이러한 미립자의 평균입경은, 표면보호층의 두께에 따라 상이하기 때문에 일률적으로는 말할 수 없지만, 통상 0.1 ㎛~10 ㎛ 정도이고, 바람직하게는 0.5 ㎛~5 ㎛인 것이 사용된다. 이와 같이 요철을 형성함으로써, 레지스트와 적절한 간극을 두어, 밀착노광시의 공기 빠짐을 양호하게 할 수 있고, 추가적으로 밀착노광시에 뉴턴링의 발생을 방지할 수 있다.
표면보호층의 두께로서는 특별히 한정되지 않지만, 노광시의 포토마스크의 해상도를 저하시키지 않는다는 관점에서 가능한 얇은 쪽이 바람직하고, 또한 표면보호층의 표면경도, 밀착노광을 반복하는 것에 의한 표면보호층의 깎임, 초기의 이형성, 및 이형성의 지속이라는 관점에서 구체적으로는 0.2 ㎛~5 ㎛, 바람직하게는 0.4 ㎛~2.5 ㎛ 정도로 한다.
이상과 같은 표면보호층이나 점착층은, 각각의 구성성분이나 필요에 따라 다른 성분을 배합하여, 적당한 용매에 용해 또는 분산시켜서 도포액을 조제하고, 이 도포액을 롤코팅법, 바코팅법, 스프레이코팅법, 에어나이프코팅법 등의 공지의 방법에 의해 투명 고분자 필름 상에 도포, 건조한 후, 적절히 필요한 경화방법을 사용하여 경화시킴으로써 형성할 수 있다.
이상과 같이 본 실시형태에 따르면, 표면을 보호하고자 하는 것에, 점착층을 매개로 첩부(貼付)함으로써, 용이하게 표면보호막을 형성할 수 있다. 또한, 표면보 호막의 막 표면의 경도를 유지하면서, 오염이 부착되기 어렵게 할 수 있기 때문에, 포토레지스트에 대한 매우 높은 이형성을 지속할 수 있다.
또한 표면보호필름으로서는, 이상의 실시형태에서 설명한 바와 같이, 점착층을 갖는 것이 일반적이지만, 본 발명의 표면보호필름에 있어서 점착층은 필수는 아니기에, 점착층을 갖지 않는 것도 본 발명에 포함된다.
이하, 실시예에 의해 본 발명을 추가적으로 설명한다. 또한, 「부」, 「%」는 특별히 나타내지 않는 한, 중량기준으로 한다.
[실시예 1]
두께 6 ㎛의 투명 고분자 필름(루미라:도오레사)의 한쪽 표면에 하기 조성의 표면보호층용 도포액을 바코팅에 의해 도포하고, 120℃에서 5분 가열 경화시켜, 두께 약 1 ㎛의 표면보호층을 형성하였다. 추가적으로 다른 한쪽 면에 하기 조성의 점착층용 도포액을 도포하고, 건조시킴으로써, 두께 약 2 ㎛의 점착층을 형성하여, 표면보호필름을 제작하였다. 점착층에는 취급상 두께 25 ㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 이형 필름(MRB:미쯔비시 화학 폴리에스테르필름사)을 첩합하였다.
<표면보호층용 도포액>
·축합반응형 실리콘계 수지 4부
(KS705F:신에쯔 화학공업, 접촉각 108도:고형분 30%)
·축합반응형 실리콘계 수지 60부
(유기 실란 축합물:멜라민 수지:알키드 수지=10:3:7, 접촉각 80도:고형분 30%)
·주석계 경화촉매 0.5부
·안료 0.1부
(Nipsil
SS-15:도소·실리카)
·메틸에틸케톤 20부
·톨루엔 20부
<점착층용 도포액>
·아크릴산 에스테르 공중합체 10부
(아콘택 SCL-200:고형분 40%, 도아고세이 화학)
·톨루엔 10부
·초산에틸 10부
[실시예 2]
실시예 1의 표면보호층 도포액을, 하기 표면보호층 도포액으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 표면보호필름을 제작하였다.
<표면보호층용 도포액>
·축합반응형 실리콘계 수지 12부
(KS705F:신에쯔 화학공업, 접촉각 108도:고형분 30%)
·축합반응형 실리콘계 수지 60부
(유기 실란 축합물:멜라민 수지:알키드 수지=10:3:7, 접촉각 80도:고형분 30%)
·주석계 경화촉매 0.5부
·안료 0.1부
(Nipsil
SS-15:도소·실리카)
·메틸에틸케톤 16부
·톨루엔 16부
[실시예 3]
실시예 1의 표면보호층 도포액을, 하기 표면보호층 도포액으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 표면보호필름을 제작하였다.
<표면보호층용 도포액>
·축합반응형 실리콘계 수지 21부
(KS705F:신에쯔 화학공업, 접촉각 108도:고형분 30%)
·축합반응형 실리콘계 수지 60부
(유기 실란 축합물:멜라민 수지:알키드 수지=10:3:7, 접촉각 80도:고형분 30%)
·주석계 경화촉매 0.5부
·안료 0.1부
(Nipsil
SS-15:도소:실리카)
·메틸에틸케톤 12부
·톨루엔 12부
[비교예 1]
실시예 1의 표면보호층 도포액을, 하기 표면보호층 도포액으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 표면보호필름을 제작하였다.
<표면보호층용 도포액>
·부가 중합형 실리콘계 수지 30부
(LTC750A:도오레 다우코닝 실리콘, 접촉각 100도 이상:고형분 30%)
·백금계 경화촉매 0.3부
·안료 0.05부
(Nipsil
SS-15:도소:실리카)
·톨루엔 70부
[비교예 2]
실시예 1의 표면보호층 도포액을, 하기 표면보호층 도포액으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 표면보호필름을 제작하였다.
<표면보호층용 도포액>
·축합반응형 실리콘계 수지 30부
(KS705F:신에쯔 화학공업, 접촉각 100도 이상)
·주석계 경화촉매 0.6부
·안료 0.05부
(Nipsil
SS-15:도소:실리카 주식회사)
·톨루엔 70부
실시예 1~3, 및 비교예 1~2에서 얻어진 표면보호필름에 대해서, 반복노광을 행함으로써 표면보호층이 높은 이형성을 지속하는지 여부를 이하와 같은 시험을 행하여 평가하였다. 또한, 포토레지스트 중에 포함되는 다가 알코올 등의 용제로도 침식되지 않고, 포토레지스트에 대한 높은 이형성이 지속되는지 여부를 평가하였다. 또한, 표면보호층의 내찰상성에 대해서도 평가하였다. 평가결과를 표 1에 나타낸다.
<초기의 이형성 평가>
실시예 1~3, 및 비교예 1~2의 표면보호필름의 표면보호층을 갖는 면에, 점착 테이프(니치반 셀로테이프 No.405:니치반사) 폭 18 mm를 첩부하고, 인장시험기(TENSILON HTM-100:도요 볼드윈사)를 사용하여, 박리속도 300 mm/min에 있어서의 180°박리력을 측정하였다. 측정결과가 50 g/18 mm 미만인 것을 「◎」, 50 g/18 mm~200 g/18 mm 미만인 것을 「○」, 200 g/18 mm 이상인 것을 「×」로 하였다.
<반복노광에 따른 이형성 평가>
포토레지스트(광감광성 수지)로서 에폭시화 비스페놀 A 디아크릴레이트(A-BPE4:신나카무라화학)를 사용하고, 여기에 광중합개시제로서 아세토페논계 광라디칼 중합개시제(이루가큐어 184:씨바 스페셜티 케미컬즈사)를 3 중량% 첨가한 것을 바코터로 폴리에스테르 필름 상에 도포 두께 10 ㎛가 되도록 도포한 시험편 A를 제작하였다. 이 시험편 A의 광감광성 수지 도포면과, 실시예 1~3, 및 비교예 1~2의 표면보호필름의 표면보호층을 갖는 면을 밀착시켜, 표면보호층을 갖는 면의 배면 (背面)으로부터 메탈할라이드램프를 사용하여 200 mJ/㎠의 자외선 노광을 행한 후, 시험편 A를 박리하였다. 동일한 작업을 100회 행한 후, 표면보호필름의 표면보호층을 갖는 면에, 점착 테이프(니치반 셀로테이프 No. 405:니치반사) 18 mm 폭을 첩부하고, 인장시험기(TENSILON HTM-100:도요 볼드윈사)를 사용하여, 박리속도 300 mm/min에 있어서의 180°박리력을 측정하였다. 측정결과가 50 g/18 mm 미만인 것을 「◎」, 50 g/18 mm~200 g/18 mm 미만인 것을 「○」, 200 g/18 mm 이상인 것을 「×」로 하였다.
<내찰상성 평가>
실시예 1~3, 및 비교예 1~2의 표면보호필름의 표면보호층을 갖는 면을, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르를 스며들게 한 거즈로, 100 g/㎠가 되는 하중을 걸면서 왕복 20회 러빙한 후, 표면보호층을 갖는 면을 관찰하였다. 표면보호층의 변화가 인정되지 않는 것을 「◎」, 찰과흔은 인정되지만 표면보호층의 탈락이 인정되지 않는 것을 「○」, 표면보호층의 탈락이 약간 인정되는 것을 「△」, 표면보호층의 탈락이 현저히 인정되는 것을 「×」로 하였다.
Figure 112008046112286-pct00002
실시예 1~2의 것은, 이형성 성분, 바인더 성분 모두 축합반응형 실리콘계 수지로 표면보호층을 형성하였기 때문에, 초기의 이형성, 반복노광에 따른 이형성, 내찰상성 중 어느 평가로도 표면보호필름으로서 충분한 성능을 나타내었다. 실시예 3의 것은, 초기의 이형성, 반복노광에 따른 이형성은, 다른 실시예의 것과 마찬가지로 양호한 결과였지만, 이형성 성분을 다른 실시예 보다 많이 포함하기 때문에, 내찰상성이 약간 떨어지는 것으로 되었다.
비교예 1의 것은, 종래형의 표면보호필름으로 사용되고 있는 부가중합형 실리콘계 수지를 사용하고 있기 때문에, 반복노광에 따른 이형성의 평가에서 성능의 저하가 현저하였다.
비교예 2의 것은, 이형성 성분으로서의 축합반응형 실리콘계 수지만으로 표면보호층을 형성하였기 때문에, 표면보호층의 내찰상성이 현저히 나쁜 것으로, 표면보호층에 흠집이 생기기 쉽고, 흠집에 의한 노광장애를 일으키기 쉬워, 사용에 견딜 수 있는 것은 아니었다.

Claims (7)

  1. 투명 고분자 필름의 한쪽 면에 표면보호층이 설치된 표면보호필름에 있어서,
    표면보호층이 이형성 성분으로서 JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 100도 이상인 축합반응형 실리콘계 수지를 포함하고, 바인더 성분으로서 JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 90도 이하인 축합반응형 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면보호필름.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 물과의 접촉각이 90도 이하인 축합반응형 수지로서, 축합반응형 실리콘계 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면보호필름.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 물과의 접촉각이 100도 이상인 축합반응형 실리콘계 수지의 비율은, 상기 바인더 성분 100 중량부에 대해 1 중량부~40 중량부인 것을 특징으로 하는 표면보호필름.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 투명 고분자 필름의 다른 쪽 면에, 점착층이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 표면보호필름.
  5. 이형성 성분으로서, JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 100도 이상인 축합반응형 실리콘계 수지와,
    바인더 성분으로서, JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 90도 이하인 축합반응형 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면보호막용 조성물.
  6. 제5항에 있어서, 상기 바인더 성분으로서의 물과의 접촉각이 90도 이하인 축합반응형 수지가, JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 90도 이하인 축합반응형 실리콘계 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면보호막용 조성물.
  7. 제6항에 있어서, JIS R3257:1999에 있어서의 물과의 접촉각이 90도 이하인 축합반응형 실리콘계 수지를, 상기 바인더 성분으로서의 물과의 접촉각이 90도 이하인 축합반응형 수지의 15 중량% 이상, 70 중량% 이하 포함하는 것을 특징으로 하는 표면보호막용 조성물.
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