JP2003096409A - 表面保護フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 レジスト付着防止層表面が洗浄溶剤によるク
リーニングよって侵されることがないと共にフォトレジ
スト中に含まれる多価アルコールやその誘導体等からな
る溶剤によっても侵されることがないことにより、その
レジスト付着防止性が低下せずにレジストに対する極め
て高い離型持続性を有する表面保護フィルムを提供す
る。 【解決手段】 透明高分子フィルムの一方の表面に下引
き層、レジスト付着防止層をこの順に設け、反対面に粘
着層を設けた表面保護フィルムであって、前記下引き層
がヘキサメトキシメチルメラミンを含有してなるもので
あり、前記レジスト付着防止層がシランカップリング剤
を添加した付加反応型シリコーン組成物を硬化させてな
るものであって、前記シランカップリング剤としてを分
子中にエポキシ基を有するγ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシランが含まれているものとする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント基板用原
稿などに用いる表面保護フィルムに関し、特にプリント
基板作製工程などにおいて粘着性を有するフォトレジス
トを露光する際の原稿（フォトマスク）の表面に好適に
用いられる表面保護フィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】通常、プリント配線板や樹脂凸版は、液
状フォトレジストなどの粘着性のあるフォトレジストに
露光用原稿を密着露光して作製される。かかる露光用原
稿は、フォトレジストに密着して使用されるので、その
表面に何らの処理も施さないと、露光終了後の原稿を剥
がす際にフォトレジストの一部が原稿表面に残存してし
まい、汚れを生じてしまう。このような事情から、従来
より露光用原稿上のフォトレジストに対向する面に、表
面にレジスト付着防止層を有する表面保護フィルムを設
けるようにしている。

【０００３】このようなフォトマスク用表面保護フィル
ムとしては、ポリエステル基材の片面に粘着層が、他面
にレジスト付着防止層が設けられているものが提案され
ている（特開平１１−７１２１号等）。

【０００４】そして、このような表面保護フィルムにつ
いては、使用に際してそのレジスト付着防止層の表面を
定期的に溶剤によってクリーニング（拭き取り操作）す
ることが行われるために、このようなクリーニング後に
おいてもレジスト付着防止性が低下せずにレジストに対
して離型持続性を保持していることが要求される。

【０００５】そこで、本発明者らは、特開２０００−２
７３４１２号において、レジスト付着防止層表面の溶剤
によるクリーニング後においても、そのレジスト付着防
止性が低下せずにレジストに対して離型持続性を有する
表面保護フィルムを提案している。この特開２０００−
２７３４１２号の表面保護フィルムにおいては、低級ア
ルコール等の洗浄溶剤によるクリーニングに対してはレ
ジスト付着防止性が低下せずにレジストに対してある程
度離型持続性を高めることができた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、最近のフォト
レジストの塗布方法としては、量産性を高めるために従
来のスクリーン印刷からスプレーコートやカーテンコー
トという方法が取られるようになって来ている。そのた
めフォトレジスト中に含まれる溶剤の成分や含有量が変
化してきており、そのフォトレジスト中に含まれる多価
アルコールやその誘導体等からなる溶剤によって、レジ
スト付着防止層が徐々に侵されてしまい、その離型持続
性が十分なものではなくなってしまった。

【０００７】そこで、本発明は、上記の問題点を解決す
るためになされたものであって、レジスト付着防止層表
面が洗浄溶剤によるクリーニングよって侵されることが
ないと共にフォトレジスト中に含まれる多価アルコール
やその誘導体等からなる溶剤によっても侵されることが
ないことにより、そのレジスト付着防止性が低下せずに
レジストに対する極めて高い離型持続性を有する表面保
護フィルムを提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
このような目的を達成するために鋭意研究を重ねた結
果、特定の化合物を含有する下引き層と、特定のシラン
カップリング剤を添加してなる特定のシリコーン組成物
を硬化させたレジスト付着防止層を、透明高分子フィル
ム表面にこの順序に積層することによって、下引き層と
レジスト付着防止層との接着性が極めて向上して、上記
のような課題を解決することができることを見出し、本
発明を完成するに至った。

【０００９】即ち、本発明の表面保護フィルムは、透明
高分子フィルムの一方の表面に下引き層、レジスト付着
防止層をこの順に設け、反対面に粘着層を設けた表面保
護フィルムであって、前記下引き層がメラミン系化合物
を含有してなるものであり、前記レジスト付着防止層が
シランカップリング剤を添加した付加反応型シリコーン
組成物を硬化させてなるものであって、前記シランカッ
プリング剤として分子中にエポキシ基を有するアルコキ
シシラン加水分解物が含まれていることを特徴とするも
のである。

【００１０】また、本発明の表面保護フィルムは、前記
付加反応型シリコーン組成物の反応主成分がメチルヘキ
セニル・ジメチルポリシロキサンであることを特徴とす
るものである。

【００１１】また、本発明の表面保護フィルムは、前記
アルコキシシラン加水分解物がγ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシランであることを特徴とするものであ
る。

【００１２】また、本発明の表面保護フィルムは、前記
メラミン系化合物がヘキサメトキシメチルメラミンであ
ることを特徴とするものである。

【００１３】また、本発明の表面保護フィルムは、前記
透明高分子フィルムの厚みが４〜１２μｍであることを
特徴とするものである。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の表面保護フィルム
について、詳細に説明する。

【００１５】本発明の表面保護フィルムは、透明高分子
フィルムの一方の表面に下引き層、レジスト付着防止層
をこの順に設け、反対面に粘着層を設けたものである。

【００１６】ここで使用される透明高分子フィルムとし
ては、露光の際に使われる紫外線の透過率の高いもので
あれば良く、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカ
ーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチ
レン、トリアセチルセルロース、アクリル、ポリ塩化ビ
ニル等の透明性に優れる高分子フィルムが用いられる。
特に二軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィル
ムが機械的強度、寸法安定性に優れているために好適に
使用され、適宜易接着層等を設けたものも好適に使用さ
れる。透明高分子フィルムの厚みは、解像度に影響する
ため薄い方が好ましいが、取扱性も考慮して、１〜１０
０μｍ、好ましくは２〜２５μｍ、さらに望ましくは４
〜１２μｍの範囲が好適に採用される。

【００１７】次に透明高分子フィルムの一方の表面に設
けられる下引き層は、メラミン系化合物を含有してなる
ものである。ここで下引き層は、メラミン系化合物を好
ましくは１０重量％以上、より好ましくは２０重量％以
上含有することによって、下引き層とレジスト付着防止
層との接着性を向上させることができる。そのため下引
き層には、そのメラミン系化合物の接着向上作用を阻害
しない範囲で、メラミン系化合物以外にも他のバインダ
ー樹脂等を含有させることができる。

【００１８】ここで含有できる他のバインダー樹脂とし
ては、メラミン系化合物の下引き層とレジスト付着防止
層との接着向上作用を阻害しないものであれば特に限定
されず、透明高分子フィルムとの接着性に優れるものを
採用することができる。望ましくはメラミン系化合物と
架橋硬化可能な樹脂を採用することが好ましい。このよ
うにメラミン系化合物と架橋硬化可能な樹脂を含有させ
ることにより、下引き層自体の耐溶剤性や下引き層と透
明高分子フィルムとの接着性を調整することが容易にな
るという効果を奏することができるようになる。ここで
メラミン系化合物と架橋硬化可能な樹脂としては、アク
リル系樹脂、アルキド系樹脂、ポリエステル系樹脂など
を挙げることができ、特に透明高分子フィルムに対する
下引き層の接着性を向上させる観点からは、アクリル系
樹脂を採用することが好ましい。ここで採用されるアク
リル系樹脂としてはアクリル酸およびそのエステル、ア
クリルアミド、アクリロニトリル、メタクリル酸および
そのエステルなどの重合体および共重合体が挙げられ、
特に末端にヒドロキシル基やカルボキシル基を有するア
クリルポリオール樹脂等を採用することが好ましい。

【００１９】次にメラミン系化合物とは、メラミン、メ
チロールメラミン若しくはその誘導体、又はこれらを縮
合反応させるなどして得られるメラミン樹脂、等のメラ
ミンを出発原料とする化合物のことを意味する。特に他
のバインダー樹脂との架橋硬化の際に高い反応性を有す
る観点からは、メチロールメラミン若しくはその誘導体
を採用することが好ましく、特にモノメチロールメラミ
ンからヘキサメチロールメラミンまであるメチロールメ
ラミンの中ではヘキサメチロールメラミンを採用するこ
とが好ましい。更にこのメチロールメラミンの誘導体と
しては、メチロールメラミンをアルキル化したアルコキ
シメチルメラミンが挙げられ、特に末端のアルキル基が
メチル基であるメトキシメチルメラミン若しくはブチル
基であるブトキシメチルメラミンを採用することが好ま
しく、中でもヘキサメトキシメチルメラミンを採用する
ことにより他のバインダー樹脂との反応性を極めて向上
させることができるので好ましい。

【００２０】このように他のバインダー樹脂との反応性
の高いメラミン系化合物を採用することで、下引き層自
体の耐溶剤性や透明高分子フィルム及びレジスト付着防
止層との接着性などの性能をより向上させ、レジストに
対する離型持続性により優れたものにできる。

【００２１】更に、メラミン系化合物の硬化温度を低く
して、硬化速度を上昇させる作用として、下引き層に硬
化触媒を含有させることが望ましい。そのような硬化触
媒としては、例えば塩酸、硫酸、リン酸、スルホン酸、
シュウ酸、マレイン酸、ヘキサミン酸、ジメチル酸、ピ
ロリン酸、フタル酸、アクリル酸等が挙げられ、特にｐ
−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、
ジノニルナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンジ
スルホン酸等のスルホン酸が好ましく用いられる。

【００２２】また下引き層には、メラミン系化合物や他
のバインダー樹脂の他にも、下引き層とレジスト付着防
止層との接着向上作用を阻害しない範囲で、微粒子、可
塑剤、酸化防止剤、滑剤、帯電防止剤、難燃剤、抗菌
剤、防カビ剤などの各種の添加剤を含有させることが可
能である。

【００２３】特に、フォトマスク用の表面保護フィルム
としては、密着露光時の真空引きをし易くする観点か
ら、表面保護フィルムのレジスト付着防止層側の表面に
凹凸を設けることが好ましいため、下引き層に微粒子を
含有させることで表面に凹凸を形成することが好まし
い。この微粒子としては、炭酸カルシウム、炭酸マグネ
シウム、硫酸バリウム、シリカ、水酸化アルミニウム、
カオリン、クレー、タルク等の体質顔料や、アクリル樹
脂粒子、ポリスチレン樹脂粒子、ポリウレタン樹脂粒
子、ポリエチレン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒
子、エポキシ樹脂粒子等の合成樹脂粒子等が使用でき、
平均粒径で０．１〜５．０μｍのものが好ましく、より
好適には０．５〜３．０μｍのものが使用される。

【００２４】ここで下引き層の厚みとしては、基本的に
は限定されるものではないが、表面保護フィルムとして
の厚みを薄くすることで密着露光の際の解像度を向上さ
せる観点から、シリコーン系樹脂層及び透明高分子フィ
ルムとの接着向上作用を低下させない範囲で、出来るだ
け薄いことが好ましい。そこで具体的には０．０２〜
４．０μｍ、望ましくは０．２〜２．０μｍの範囲が好
適に採用される。

【００２５】次に下引き層上に設けられるレジスト付着
防止層は、シランカップリング剤を添加した付加反応型
シリコーン組成物を硬化させてなるものである。

【００２６】ここで付加反応型シリコーン組成物とは、
反応主成分としてのジオルガノポリシロキサンに架橋剤
として作用する成分を加え、必要に応じて溶剤等により
希釈した組成物であって、下引き層上に塗布して加熱乾
燥硬化させて積層することによって、レジスト付着防止
層を形成するものである。

【００２７】ここで付加反応型シリコーン組成物の反応
主成分となるジオルガノポリシロキサンとしては、ケイ
素原子に直結したビニル基若しくは高級アルケニル基が
ケイ素原子に直結したものが好適であり、メチルビニル
・ジメチルポリシロキサン、メチルフェニル・メチルビ
ニル・ジメチルポリシロキサン等のビニル基含有ジオル
ガノポリシロキサンや、メチルブテニル・ジメチルポリ
シロキサン、メチルオクテニル・ジメチルポリシロキサ
ン、メチルへキセニル・ジメチルポリシロキサン等の炭
素数４〜８程度の高級アルケニル基を有するジオルガノ
ポリシロキサンが挙げられる。尚、特に厚みが４〜１２
μｍの透明高分子フィルムのように耐熱性に乏しいもの
を採用する場合においては、比較的低温で十分にシリコ
ーン組成物を付加反応させることができるようになるも
のとして、メチルへキセニル・ジメチルポリシロキサン
を好適に採用することができる。これにより表面保護フ
ィルムとしての平面性等を改善することができるように
なる。

【００２８】また付加反応型シリコーン組成物中に含ま
れる架橋剤として作用する成分としては、少なくとも１
分子中に３個のケイ素原子結合水素原子を有するオルガ
ノハイドロジェンポリシロキサンが挙げられる。このケ
イ素原子に結合する水素原子以外の有機基としては、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基等のアルキル基、ベンジル基、フェネチ
ル基等のアラルキル基のような脂肪族飽和結合を有しな
い一価炭化水素基が挙げられる。そして、このオルガノ
ハイドロジェンポリシロキサンは、反応主成分であるジ
オルガノポリシロキサン１００重量部に対して０．５〜
３０重量部の範囲が好適である。０．５重量部以上にす
ることにより、付加反応型シリコーン組成物の硬化を十
分にすることができ、３０重量部以下にすることによ
り、レジスト付着防止層の経時的な劣化を抑制すること
ができるようになる。

【００２９】また、シリコーン系樹脂層を構成する付加
反応型シリコーン組成物には、組成物の保存安定性を向
上するためにアルキルアルコール、エンイン化合物等の
付加反応制御剤等を加えることが有効である。また、付
加反応型シリコーン組成物の架橋硬化を促進するために
は、塩化白金酸等の白金化合物からなる白金触媒をこれ
ら組成物に加えることが極めて有効である。

【００３０】そして、本発明で下引き層とレジスト付着
防止層との接着向上作用をもたらすためには、この付加
反応型シリコーン組成物に添加するシランカップリング
剤として分子中にエポキシ基を有するアルコキシシラン
加水分解物が含まれていることを必要とする。

【００３１】即ち、付加反応型シリコーン組成物には、
少なくとも分子中にエポキシ基を有するアルコキシシラ
ン加水分解物を含んでいればよいが、好ましくは付加反
応型シリコーン組成物の固形分１００重量部に対して１
重量部以上添加していることが望ましい。ここでこの分
子中にエポキシ基を有するアルコキシシラン加水分解物
としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β
−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメト
キシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）
エチルメチルジメトキシシラン等が挙げられ、特にγ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシランが好ましく採
用される。

【００３２】ここで何故、この分子中にエポキシ基を有
するアルコキシシラン加水分解物を付加反応型シリコー
ン組成物に添加することで、この付加反応型シリコーン
組成物を硬化させてなるレジスト付着防止層とメラミン
系化合物を含有してなる下引き層との接着性が向上する
のかは明らかではない。しかし、何らかの作用によって
付加反応型シリコーン組成物が付加反応することによっ
て形成されるシリコーンポリマー中に当該アルコキシシ
ラン加水分解物が取りこまれ、それと前後して当該アル
コキシシラン加水分解物中のエポキシ基が開環すること
でヒドロキシル基が形成され、このヒドロキシル基が下
引き層中のメラミン系化合物と反応することで化学的に
結合して、両層を強固に接着させているものと考えられ
る。よってこのように両層が強固に接着することによ
り、レジスト付着防止層が失われる等によってレジスト
付着防止性が低下するようなことがなく、レジストに対
する離型持続性に極めて優れる表面保護フィルムを得る
ことができるようになるものと考えられる。

【００３３】また、この付加反応型シリコーン組成物に
は、例えばγ−（２−アミノエチル）アミノプロピルト
リメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−
クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプ
トプロピルメチルジメトキシシラン、メチルトリメトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン、ヘキサメチルジ
シラザン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリアセ
トキシシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジク
ロロシラン、トリメチルクロロシラン等の、他のシラン
カップリング剤を併用することも適宜行い得る。

【００３４】ここでレジスト付着防止層の厚みとして
は、０．０５〜５．０μｍ、好ましくは０．１〜２．０
μｍの範囲が採用される。特に、下引き層に微粒子を含
有させて凹凸を形成した場合には、その凹凸を埋めない
厚みに調整することが好ましい。

【００３５】次に、透明高分子フィルムの下引き層やレ
ジスト付着防止層が設けられる面とは反対の面に設けら
れる粘着層は、一般に使用されるアクリル系粘着剤、ゴ
ム系粘着剤などが使用できる。また、帯電防止などの性
能を持つ粘着剤を使用しても良い。この粘着層の厚みと
しては、透明性（解像度）を阻害せず、適度な粘着性が
得られるよう、０．５〜２０μｍ、好ましくは１〜１０
μｍ、さらに好ましくは２〜４μｍの範囲が採用され
る。また粘着層には、その粘着性によって表面保護フィ
ルムの取り扱い性が低下しないようにするために、プラ
スチックフィルムや紙等の表面に離型処理を施した離型
フィルムを貼り合わせることも適宜行い得る。

【００３６】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。尚、
「部」「％」とあるのは特に断りのない限り重量基準で
ある。

【００３７】［実施例］厚み６μｍのポリエチレンテレ
フタレートフィルム（ルミラー：東レ社）の一方の表面
に下記組成の下引き層用塗工液ａとレジスト付着防止層
用塗工液ｂを、反対面に下記組成の粘着層用塗工液をそ
れぞれ順次塗布し、加熱乾燥硬化させることにより、約
０．５μｍの下引き層、約０．５μｍのレジスト付着防
止層、約２μｍの粘着層を形成した。この際レジスト付
着防止層の硬化温度は１００℃、１分で行った。また、
粘着層の表面には取り扱い性を考慮して厚み２５μｍの
離型フィルム（ＭＲＢ：三菱化学ポリエステルフィルム
社）を貼り合わせて、表面保護フィルムとした。尚、下
記下引き層用塗工液ａに使用しているアクリルポリオー
ル樹脂のモノマー共重合比は、メタクリル酸メチル８３
部、アクリル酸エチル８部、メタクリル酸２−ヒドロキ
シエチル８部、メタクリル酸１部のものである。また、
下記レジスト付着防止層用塗工液ｂに使用している付加
反応型シリコーン組成物中のジオルガノポリシロキサン
の主成分はメチルヘキセニル・ジメチルポリシロキサン
である。

【００３８】＜下引き層用塗工液ａ＞ ・アクリルポリオール樹脂 ３．５部 ・ヘキサメトキシメチルメラミン（ニカラックMW-30M ：三和ケミカル社） １．５部 ・ｐ−トルエンスルホン酸メタノール溶液（<固形分５ ０％>） ０．５部 ・シリカ微粒子（サイリシア４３５：富士シリシア化学 社） ０．３部 ・メチルエチルケトン ９４．２部

【００３９】＜レジスト付着防止層用塗工液ｂ＞ ・付加反応型シリコーン組成物（LTC750A<固形分３０％ >:東レ・ダウコーニング・シリコーン社） ８０部 ・白金触媒（SRS212：東レ・ダウコーニング・シリコー ン社） ０．８部 ・シランカップリング剤（γ−グリシドキシプロピルト リメトキシシラン、TSL8350:東芝シリコーン社）１部 ・トルエン ４１８．２部

【００４０】＜粘着層用塗工液＞ ・アクリル酸エステル共重合体（アロンタックSCL-200 <固形分４０％>：東亞合成化学社） １０部 ・トルエン １０部 ・酢酸エチル １０部

【００４１】［比較例１］実施例の下引き層用塗工液ａ
を、下記組成の下引き層用塗工液ｃに変更した以外は実
施例と同様にして表面保護フィルムを作製した。尚、下
引き層用塗工液ｃに使用しているアクリルポリオール樹
脂は実施例で使用しているアクリルポリオール樹脂と同
じものである。

【００４２】＜下引き層用塗工液ｃ＞ ・アクリルポリオール樹脂 ５部 ・シリカ微粒子（サイリシア４３５：富士シリシア化学 社） ０．３部 ・メチルエチルケトン ９４．７部

【００４３】［比較例２］実施例のレジスト付着防止層
用塗工液ｂを、下記組成のレジスト付着防止層用塗工液
ｄに変更した以外は実施例と同様にして表面保護フィル
ムを作製した。

【００４４】＜レジスト付着防止層用塗工液ｄ＞ ・付加反応型シリコーン組成物（LTC750A<固形分３０％ >:東レ・ダウコーニング・シリコーン社） ８０部 ・白金触媒（SRS212：東レ・ダウコーニング・シリコー ン社） ０．８部 ・トルエン ４１９．２部

【００４５】［比較例３］実施例のレジスト付着防止層
用塗工液ｂを、下記組成のレジスト付着防止層用塗工液
ｅに変更し、レジスト付着防止層の硬化温度を１３０
℃、１分で行った以外は実施例と同様にして表面保護フ
ィルムを作製した。尚、下記レジスト付着防止層用塗工
液ｅに使用している付加反応型シリコーン組成物中のジ
オルガノポリシロキサンの主成分はメチルビニル・ジメ
チルポリシロキサンである。

【００４６】＜レジスト付着防止層用塗工液ｅ＞ ・付加反応型シリコーン組成物（KS847H<固形分３０％> ：信越化学工業社） ８０部 ・白金触媒（CAT-PL-50T：信越化学工業社） ０．８部 ・シランカップリング剤（γ−（２−アミノエチル）ア ミノプロピルトリメトキシシラン、TSL8340：東芝シ リコーン社） １部 ・トルエン ４１８．２部

【００４７】以上のようにして実施例及び比較例１〜３
で得られた表面保護フィルムについて、以下のようにし
て離型持続性の評価を行った。評価結果を表１に示す。

【００４８】［離型持続性の評価］レジスト付着防止層
の離型持続性を確認するため、レジスト付着防止層の表
面を、エタノール、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル（ＰＧＭ）を用いて、それぞれ１０回、５０回、
２００回拭き取り操作を行った後について、粘着テープ
（ニットーポリエステル３１ｂ：日東電工社）をレジス
ト付着防止層の表面に貼り合わせ、剥離速度３００ｍｍ
／ｍｉｎにおける１８０°剥離力の測定を行った。この
際に剥離力が、１ｇ／２５．４ｍｍ〜３０ｇ／２５．４
ｍｍであったものを「○」、３０ｇ／２５．４ｍｍ以上
であったものを「×」とした。

【００４９】

【表１】

【００５０】表１の結果からも明らかなように、実施例
の表面保護フィルムは、レジスト付着防止層の表面をク
リーニングするために使用されるような低級アルコール
であるエタノールに対しての耐性に優れるのみならず、
フォトレジスト中に含まれるような多価アルコールであ
るプロピレングリコールモノメチルエーテルに対しての
耐性にも優れ、極めて離型持続性に優れるものであっ
た。

【００５１】一方、比較例１の表面保護フィルムは、下
引き層にメラミン系化合物を含有しておらず、下引き層
とレジスト付着防止層との接着性が低いと考えられるた
め、エタノール及びプロピレングリコールモノメチルエ
ーテルに対する耐性に乏しく、離型持続性に劣るもので
あった。

【００５２】また、比較例２の表面保護フィルムは、レ
ジスト付着防止層にシランカップリング剤を添加してお
らず、下引き層とレジスト付着防止層との接着性が低い
と考えられるため、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルに対する耐性に乏しく、離型持続性に劣るもので
あった。

【００５３】また、比較例３の表面保護フィルムは、レ
ジスト付着防止層に添加したシランカップリング剤とし
て分子中にエポキシ基を有するアルコキシシラン加水分
解物を含まずに、下引き層とレジスト付着防止層との接
着性が低いと考えられるため、エタノール及びプロピレ
ングリコールモノメチルエーテルに対する耐性に乏し
く、離型持続性に劣るものであった。また、レジスト付
着防止層を形成した付加反応型シリコーン組成物のジオ
ルガノポリシロキサンがメチルヘキセニル・ジメチルポ
リシロキサンではないために加熱硬化温度を高くしたた
め、表面保護フィルムとしての平面性が損なわれるもの
であった。

【００５４】

【発明の効果】本発明の表面保護フィルムによれば、レ
ジスト付着防止層表面が洗浄溶剤によるクリーニングよ
って侵されることがないと共にフォトレジスト中に含ま
れる多価アルコールやその誘導体等からなる溶剤によっ
ても侵されることがないことにより、そのレジスト付着
防止性が低下せずにレジストに対する極めて高い離型持
続性を有する表面保護フィルムを提供することができる
ようになる。

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H095 AA01 BA11 BC20 4F006 AA35 AB33 AB65 BA02 EA05 4J004 AA05 AA10 AB01 CA02 CA03 CA04 CA05 CA06 CC03 CC05 CD02 DA04 DB01 EA06 FA04 FA05 4J038 DA162 DL051 DL081 NA04 NA10 PB09

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】透明高分子フィルムの一方の表面に下引き
   層、レジスト付着防止層をこの順に設け、反対面に粘着
   層を設けた表面保護フィルムであって、前記下引き層が
   メラミン系化合物を含有してなるものであり、前記レジ
   スト付着防止層がシランカップリング剤を添加した付加
   反応型シリコーン組成物を硬化させてなるものであっ
   て、前記シランカップリング剤として分子中にエポキシ
   基を有するアルコキシシラン加水分解物が含まれている
   ことを特徴とする表面保護フィルム。
2. 【請求項２】前記付加反応型シリコーン組成物の反応主
   成分がメチルヘキセニル・ジメチルポリシロキサンであ
   ることを特徴とする請求項１記載の表面保護フィルム。
3. 【請求項３】前記アルコキシシラン加水分解物がγ−グ
   リシドキシプロピルトリメトキシシランであることを特
   徴とする請求項１記載の表面保護フィルム。
4. 【請求項４】前記メラミン系化合物が、ヘキサメトキシ
   メチルメラミンであることを特徴とする請求項１記載の
   表面保護フィルム。
5. 【請求項５】前記透明高分子フィルムの厚みが、４〜１
   ２μｍであることを特徴とする請求項１記載の表面保護
   フィルム。