JP2000273412A - 表面保護フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 レジスト付着防止層表面の極性溶媒等による
クリーニング後においても、そのレジスト付着防止性及
び離型性が低下せずに高い持続性を有する表面保護フィ
ルムを提供する。 【解決手段】 透明支持体２の一方の表面に飽和共重合
ポリエステル樹脂バインダーに微粒子を添加した下引き
層３とオルガノポリシロキサンを主成分とする付加反応
型シリコーン組成物を硬化させてなるレジスト付着防止
層４をこの順で設け、反対面に粘着層５を設けて表面保
護フィルム１とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント基板用原
稿、印刷物などに用いる表面保護フィルムに関し、特に
プリント基板作製工程などにおいて粘着性を有するフォ
トレジストを露光する際の原稿表面に好適に用いられる
表面保護フィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】通常、プリント配線板や樹脂凸版は、液
状フォトレジストなどの粘着性のあるフォトレジストに
露光用原稿（フォトマスク）を密着露光して作製され
る。かかる露光用原稿は、フォトレジストに密着して使
用されるので、その表面に何らの処理も施さないと、露
光終了後の原稿を剥がす際にフォトレジストの一部が原
稿表面に転写され、汚れを生じてしまう。このような事
情から、従来より露光用原稿上のフォトレジストに対向
する面に、表面にレジスト付着防止層を有する表面保護
フィルムを設けるようにしている。このようなフォトマ
スク用表面保護フィルムとしては、ポリエステル基材の
片面に粘着層が、他面にレジスト付着防止層が設けられ
ている。

【０００３】このようなレジスト付着防止層は、樹脂及
び離型剤の混合物から構成されており、この離型剤とし
ては低分子量のシリコーン系添加剤が一般に用いられて
いる。

【０００４】しかし、このような離型剤は、離型性は得
られるものの、離型剤がレジスト側に転写し、後工程で
種々の問題が生ずる。このような問題としては、プリフ
ラックスを塗布する際にプリフラックスがはじいてしま
う、文字印刷時にインキをはじいてしまう等があげられ
る。このため、転写した離型剤を除去するなどの工程が
別に必要とされる。

【０００５】そこで、本発明者らは特開平１１−７１２
１号において、レジスト付着防止層中に特定のグラフト
ポリマーを含有させることで、上記欠点を解消し、粘着
性のフォトレジストが付着せず、且つ離型剤がレジスト
に転写しない表面保護フィルムを提案している。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記特開平１
１−７１２１号の表面保護フィルムにおいても、レジス
ト付着防止層へのフォトレジストの転写は完全には防止
することができず、これらレジスト付着防止層上に僅か
に残ったフォトレジストや、その他のほこり等を除去す
るために、定期的に極性溶媒等でクリーニング（拭き取
り操作）を行っているのが現状である。

【０００７】するとレジスト付着防止層中のグラフトポ
リマーとバインダーの結合力に耐溶剤性が乏しいため、
クリーニングによってレジスト付着防止層表面からグラ
フトポリマーが遊離することで、クリーニング後、レジ
スト付着防止性及び離型性が低下してしまい、これらの
性能が持続しないという問題点が残されていた。

【０００８】本発明は、上記の問題点を解消するために
なされたものであって、レジスト付着防止層表面の極性
溶剤等によるクリーニング後においても、そのレジスト
付着防止性及び離型性が低下せずに高い持続性を有する
表面保護フィルムを提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を解決する本発
明の表面保護フィルムとしては、透明支持体上の一方の
面に下引き層、レジスト付着防止層をこの順で設け、反
対面に粘着層を設けた表面保護フィルムであって、前記
下引き層が飽和共重合ポリエステル樹脂バインダーに微
粒子を添加してなるものであり、前記レジスト付着防止
層がジオルガノポリシロキサンを主成分とする付加反応
型シリコーン組成物を硬化させてなるものであることを
特徴とする。

【００１０】また、本発明の表面保護フィルムは、前記
ジオルガノポリシロキサンが、メチルへキセニル・ジメ
チルポリシロキサンであることを特徴とするものであ
る。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明を図１を用いて詳述
する。

【００１２】表面保護フィルム１の透明支持体２として
は、露光の際に使われる紫外線の透過率の高いものであ
れば良く、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネ
ート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリエチレンナフタレート、ポリスチレン等の透明
なプラスチックフィルムが用いられる。特に二軸延伸さ
れたポリエチレンテレフタレートフィルムが強度、耐熱
性、寸法安定性に優れているために好適に使用される。
透明支持体の厚みは、解像度に影響するため薄い方が好
ましいが、取扱性も考慮して、１〜１００μｍ、好まし
くは２〜２５μｍ、さらに好ましくは４〜１２μｍ程度
である。

【００１３】透明支持体２上の一方の表面に設けられる
下引き層３は、飽和共重合ポリエステル樹脂バインダー
を主成分として微粒子を添加してなる組成物から形成さ
れる。

【００１４】飽和共重合ポリエステル樹脂とは、主鎖に
エステル結合を持つ重合体であって、ジカルボン酸等の
多塩基酸と多価アルコールとの重縮合等によって得られ
る規則的な線状構造を持つ熱可塑性の有機ポリマーであ
る。

【００１５】ジカルボン酸としては、テレフタル酸、イ
ソフタル酸等の芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、セバ
シン酸等の脂肪族カルボン酸等を用いることができ、多
価アルコールとしては、エチレングリコール、１，４−
ブタンジオール、ジエチレングリコール、ネオペンチル
グリコール等を用いることができる。

【００１６】微粒子としては、炭酸カルシウム、炭酸マ
グネシウム、硫酸バリウム、シリカ、水酸化アルミニウ
ム、カオリンクレー、タルク等の体質顔料や、アクリル
樹脂粒子、ポリスチレン樹脂粒子、ポリウレタン樹脂粒
子、ポリエチレン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒
子、エポキシ樹脂粒子等の合成樹脂粒子等が使用でき
る。

【００１７】これらの微粒子の粒径としては、平均粒径
で０．１〜５．０μｍのものが好ましく、より好適には
０．５〜３．０μｍのものが使用される。

【００１８】この微粒子の添加量としては、飽和共重合
ポリエステル樹脂バインダー１００重量部に対して、
０．０２５〜２５重量部が適当である。０．０２５重量
部以上とすることにより、レジスト付着防止層４との密
着性を向上させて、レジスト付着防止層４のレジスト付
着防止性及び離型性について、高い持続性を得られるよ
うになり、２５重量部以下とすることにより、表面保護
フィルム１に高透明性が得られるようになる。

【００１９】この下引き層３の厚みとしては、使用する
微粒子の粒径の２０〜８０％の範囲に調整することが好
ましく、より好適には３０〜７０％の範囲になるように
調整することが望ましい。２０％以上とすることで飽和
共重合ポリエステル樹脂バインダーが微粒子を脱落させ
ず、又８０％以下とすることで下引き層３の表面に凹凸
を付与することにより、レジスト付着防止層４との密着
性を向上させることができるようになる。具体的には
０．０２〜４．０μｍ、好ましくは０．２〜２．０μｍ
が採用される。

【００２０】以上のようにして、下引き層３に凹凸形状
を付与して下引き層３とレジスト付着防止層４の密着性
を上昇させることにより、レジスト付着防止層４の耐溶
剤性がより向上することになる。

【００２１】また、この下引き層３を構成する組成物に
は、耐熱性や柔軟性等を付与するために他の熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等の他のバイ
ンダー成分、帯電防止性を付与するために帯電防止剤、
希釈剤として有機溶媒等を加えることができる。

【００２２】下引き層３上に設けられるレジスト付着防
止層４は、ジオルガノポリシロキサンを主成分とする付
加反応型シリコーン組成物を硬化させてなるものであ
る。

【００２３】ここで用いられるジオルガノポリシロキサ
ンは、ケイ素原子に直結したビニル基若しくは高級アル
ケニル基がケイ素原子に直結したものが好適であり、メ
チルビニル・ジメチルポリシロキサン、メチルフェニル
・メチルビニル・ジメチルポリシロキサン等のビニル基
含有ジオルガノポリシロキサンや、メチルブテニル・ジ
メチルポリシロキサン、メチルオクテニル・ジメチルポ
リシロキサン、メチルへキセニル・ジメチルポリシロキ
サン等の炭素数４〜８程度の高級アルケニル基を有する
ジオルガノポリシロキサンが挙げられる。尚、透明支持
体２が耐熱性に乏しいものである場合においても熱によ
る平面性の低下を招かないと共に、低温で架橋硬化して
も下引き層３とレジスト付着防止層４との密着性を十分
なものとすることができるものとしては、メチルへキセ
ニル・ジメチルポリシロキサンが特に好適である。

【００２４】また、付加反応型シリコーン組成物には、
ジオルガノポリシロキサンを硬化させる架橋剤として作
用する成分を加えることが必要である。この架橋剤の好
適なものとしては、少なくとも１分子中に３個のケイ素
原子結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリ
シロキサンが挙げられる。このケイ素原子に結合する水
素原子以外の有機基としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアル
キル基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基の
ような脂肪族飽和結合を有しない一価炭化水素基が挙げ
られる。

【００２５】このオルガノハイドロジェンポリシロキサ
ンは、ジオルガノポリシロキサン１００重量部に対して
０．５〜３０重量部の範囲が好適である。０．５重量部
以上とすることにより、付加反応型シリコーン組成物の
硬化を十分とすることができ、３０重量部以下とするこ
とにより、レジスト付着防止層４の経時的な劣化を抑制
することができるようになる。

【００２６】また、付加反応型シリコーン組成物には、
組成物の保存安定性を向上するためにアルキルアルコー
ル、エンイン化合物等の付加反応制御剤等を加えること
が有効であるほか、希釈剤として有機溶媒等を加えるこ
ともできる。

【００２７】また、付加反応型シリコーン組成物の架橋
硬化を促進するためには、塩化白金酸等の白金化合物か
らなる白金触媒を、これら組成物と共に用いることが極
めて有効である。

【００２８】以上のような付加反応型シリコーン組成物
としては、市販品で言えば、無官能シリコーン離型剤が
極力添加されていないような、例えば東レ・ダウコーニ
ング・シリコーン社製ＬＴＣ７５０Ａ、ＬＴＣ７６０
Ａ、信越化学工業社製ＫＳ８４７Ｈ、ＫＳ３７０３等を
用いることができ、白金触媒としては例えば東レ・ダウ
コーニング・シリコーン社製ＳＲＳ２１２、信越化学工
業社製ＣＡＴ−ＰＬ−５０Ｔ等を用いることができる。
ここで付加反応型シリコーン組成物中に無官能シリコー
ン離型剤を添加していないタイプを選択するのは、この
ような無官能シリコーン離型剤がレジストへ転写するの
を防止するためである。

【００２９】以上のようにして調整した付加反応型シリ
コーン組成物を塗布し、硬化させることにより、下引き
層３上にレジスト付着防止層４を形成する。このレジス
ト付着防止層４を速やかに形成させるには、塗布した
後、５０〜２００℃の温度条件下、好ましくは１００〜
１５０℃の温度条件下で加熱して行えばよい。

【００３０】レジスト付着防止層４の厚みとしては０．
０５〜５．０μｍ、好ましくは０．１〜２．０μｍの範
囲が採用される。

【００３１】特に、下引き層３とレジスト付着防止層４
の密着性の向上、レジスト付着防止層４の耐ブロッキン
グ性の向上、真空プリンターでレジスト付着防止層４を
フォトレジストに密着露光する際の密着性の向上を図る
ために、下引き層３で形成された凹凸を埋めない厚みに
調整することが極めて有効である。

【００３２】透明支持体２の下引き層３やレジスト付着
防止層４が設けられる反対面に設けられる粘着層５は、
一般に使用されるアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤など
が使用される。また、帯電防止などの性能を持つ粘着剤
を使用しても良い。粘着層５の厚みとしては、透明性
（解像度）を阻害せず、適度な粘着性が得られるよう、
０．５〜２０μｍ、好ましくは１〜１０μｍ、さらに好
ましくは２〜４μｍの範囲が採用される。

【００３３】また、粘着層５には、その粘着性によって
表面保護フィルム１の取り扱い性が低下しないようにす
るために、プラスチックフィルムや紙等の表面に離型処
理を施した離型フィルム６を貼り合わせることも適宜行
い得る。

【００３４】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。尚、本実
施例の「％」、「部」とあるのは特に断りのない限り重
量基準である。

【００３５】［実施例１］厚み６μｍのポリエチレンテ
レフタレートフィルム２（ルミラー：東レ社）の片面に
下記組成の下引き層用塗布液ａとレジスト付着防止層用
塗布液ａを、反対面に粘着層用塗布液をそれぞれ順次バ
ーコーターにより塗布し、乾燥（硬化）させることによ
り、約０．５μｍの下引き層３、約０．５μｍのレジス
ト付着防止層４、約２μｍの粘着層５を形成した。この
際レジスト付着防止層４の乾燥硬化条件は１３０℃、１
分で行った。また、粘着層５には取扱上のため厚み２５
μｍのポリエチレンテレフタレート離型フィルム６（Ｍ
ＲＢ：三菱化学ポリエステルフィルム社）を貼り合わせ
て、表面保護フィルム１とした。尚、下記レジスト付着
防止層用塗布液ａに使用している付加反応型シリコーン
組成物中のジオルガノポリシロキサンの主成分はメチル
ビニル・ジメチルポリシロキサンである。

【００３６】

【００３７】〈レジスト付着防止層用塗布液ａ〉 ・付加反応型シリコーン組成物 （ＫＳ８４７Ｈ：信越化学工業社） １００部 ・白金触媒（CAT-PL-50T：信越化学工業社） １部 ・トルエン ４９９部

【００３８】〈粘着層用塗布液〉 ・アクリル酸エステル共重合体（固形分４０％） （アロンタック SCL-200：東亞合成化学社） １０部 ・トルエン １０部 ・酢酸エチル １０部

【００３９】［実施例２］実施例１のレジスト付着防止
層用塗布液ａを、下記組成のレジスト付着防止層用塗布
液ｂに変更して、このレジスト付着防止層４の乾燥硬化
条件を１００℃、１分にした以外は、実施例１と同様に
して表面保護フィルム１を作製した。尚、下記レジスト
付着防止層用塗布液ｂに使用している付加反応型シリコ
ーン組成物中のジオルガノポリシロキサンの主成分はメ
チルヘキセニル・ジメチルポリシロキサンである。

【００４０】

【００４１】［比較例１］実施例１の下引き層用塗布液
ａを、下記組成の下引き層用塗布液ｂに変更した以外は
実施例１と同様にして表面保護フィルムを作製した。

【００４２】

【００４３】［比較例２］実施例１の下引き層用塗布液
ａ中「シリカ微粒子 ０．０３５部」を添加しなかった
以外は実施例１と同様にして表面保護フィルムを作製し
た。

【００４４】［比較例３］実施例１のレジスト付着防止
層用塗布液ａを以下の組成のレジスト付着防止層用塗布
液ｃに変更し、乾燥硬化条件を１００℃、１分にした以
外は実施例１と同様にして表面保護フィルムを作製し
た。

【００４５】

【００４６】［比較例４］実施例１の表面保護フィルム
の下引き層３とレジスト付着防止層４を設けないものを
表面保護フィルムとして作製した。

【００４７】実施例、比較例で得られた表面保護フィル
ムについて以下の評価試験を行った。

【００４８】Ａ．プラスチックフィルムへの離型剤の転
写性（転写１） 表面保護フィルムのレジスト付着防止層面と未処理のポ
リエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）
を重ね合わせ、これに４０g/cm²の荷重をかけ、１２０
℃の状態で１時間静置した後、ＰＥＴフィルム側にマジ
ック（登録商標）で画線を引きそのハジキ具合を目視に
より評価し、離型剤のプラスチックフィルムへの転写の
有無を確認した。マジック画線にハジキがなかったもの
を「○」、ハジキを生じたものを「×」とした。

【００４９】Ｂ．レジストへの離型剤の転写性（転写
２） 回路パターンのない原稿に表面保護フィルムを貼り合わ
せ、ソルダーレジストの塗布された銅板の前記レジスト
と、前記表面保護フィルムのレジスト付着防止層が対向
するように密着して露光し、銅板上のレジストを全面硬
化させた。その後、表面保護フィルムを貼り合わせた原
稿を剥がし、硬化したレジストにマジックで画線を引
き、目視にてそのハジキ具合を観察し、離型剤のレジス
トへの転写の有無を確認した。マジック画線にハジキが
なかったものを「○」、ハジキを生じたものを「×」と
した。

【００５０】Ｃ．表面保護フィルムへのレジスト付着防
止性 （剥離性）レジスト付着防止層の離型効果を確認するた
め、粘着テープ（ニットーポリエステル３１ｂ：日東電
工社）をレジスト付着防止層面に貼り合わせ、その剥離
速度３００ｍｍ／ｍｉｎにおける１８０°剥離力をテン
シロンによって測定した。この際の剥離力が、１g/inch
〜６０g/inchであったものを「○」、６０g/inch以上で
あったものを「×」とした。

【００５１】Ｄ．表面保護フィルムへのレジスト付着防
止性の持続性 （剥離持続性）レジスト付着防止層の離型効果の持続性
を確認するため、レジスト付着防止層面をメタ変性アル
コールを用いて１００回拭き取り操作を行った後に、粘
着テープ（ニットーポリエステル３１ｂ：日東電工社）
をレジスト付着防止層面に貼り合わせ、その剥離速度３
００ｍｍ／ｍｉｎにおける１８０°剥離力をテンシロン
によって測定した。この際の剥離力が、１g/inch〜６０
g/inchであったものを「○」、６０g/inch以上であった
ものを「×」とした。

【００５２】これらの評価結果を表１に示す。

【表１】

【００５３】以上の結果から明らかなように、実施例
１、２の表面保護フィルム１は、レジスト付着防止層４
からの離型剤の転写が全く認められず、その剥離持続性
に優れるものであった。また、実施例２はジオルガノポ
リシロキサンとしてメチルへキセニル・ジメチルポリシ
ロキサンを用いて乾燥硬化温度を低温にしてレジスト付
着防止層４を形成したために、表面保護フィルム１の平
面性に優れるものであった。

【００５４】一方、比較例１、２のものは離型剤の転写
は認められなかったが、下引き層３とレジスト付着防止
層４との密着性に劣るためにレジスト付着防止層４の耐
溶剤性に乏しいものとなり、メタ変性アルコールによる
拭き取り操作の結果、レジスト付着防止層４自体が拭き
取られてしまい、その剥離性が無くなって、その持続性
の無いものであった。また、比較例３のものは離型剤の
転写が認められると共に、メタ変性アルコールによる拭
き取り操作の結果、シリコーン添加型離型剤が拭き取ら
れてしまい、その剥離性が無くなって、その持続性の無
いものであった。また、比較例４のものはレジスト付着
防止層が無いため転写するものはないが、剥離性が悪
く、レジスト付着防止効果を得ることはできなかった。

【００５５】これらのことから、実施例１、２の表面保
護フィルムは、離型剤の転写を抑えると共にレジストの
付着を防止することが可能なもので、且つその剥離持続
性に極めて優れるものであった。

【００５６】

【発明の効果】本発明の表面保護フィルムは、透明支持
体上の一方の面に下引き層、レジスト付着防止層をこの
順で設け、反対面に粘着層を設けた表面保護フィルムで
あって、下引き層が飽和共重合ポリエステル樹脂バイン
ダーに微粒子を添加してなるものであり、レジスト付着
防止層がジオルガノポリシロキサンを主成分とする付加
反応型シリコーン組成物を硬化させてなるものであるこ
とによって、レジストなどの原稿への転写を防止できる
と共に、表面保護フィルムからレジストなどへの離型剤
の転写を抑えることが可能で、且つレジスト付着防止層
表面の極性溶剤等によるクリーニング後においても、そ
のレジスト付着防止性及び離型性が低下せずに高い持続
性を有することが可能となった。

【００５７】これによって、プリント配線板作製時にお
いて、露光後レジスト側に転写した離型剤を除去する等
の煩雑な工程を恒久的に省略でき、且つ離型性を失う結
果によって生じるような表面保護フィルムの破壊を無く
すことができるようになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の表面保護フィルムの実施例を示す断
面図。

【符号の説明】

１・・・表面保護フィルム ２・・・透明支持体 ３・・・下引き層 ４・・・レジスト付着防止層 ５・・・粘着層 ６・・・離型フィルム

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 清水 孝司 埼玉県与野市鈴谷４丁目６番35号 株式会 社きもと技術開発センター内 Ｆターム(参考） 4F100 AA20 AK25G AK41B AK41J AK42 AK52C AL01B AR00D AT00A BA04 BA07 BA10C BA10D BA15 CB00 DE01B GB43 JD20C JL06 JL13D JL14 JN01A 4J002 CP042 CP131 FD140 FD200 GF00 4J004 AA05 AA10 AB01 CA04 CA05 CA06 CC03 CC05 CD06 DB02 FA04 FA05

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】透明支持体上の一方の面に下引き層、レジ
   スト付着防止層をこの順で設け、反対面に粘着層を設け
   た表面保護フィルムであって、前記下引き層が飽和共重
   合ポリエステル樹脂バインダーに微粒子を添加してなる
   ものであり、前記レジスト付着防止層がジオルガノポリ
   シロキサンを主成分とする付加反応型シリコーン組成物
   を硬化させてなるものであることを特徴とする表面保護
   フィルム。
2. 【請求項２】前記ジオルガノポリシロキサンが、メチル
   へキセニル・ジメチルポリシロキサンであることを特徴
   とする請求項１記載の表面保護フィルム。