KR20160002708A

KR20160002708A - 이형 성능 회복액, 이형 성능 회복방법 및 포토마스크

Info

Publication number: KR20160002708A
Application number: KR1020157024746A
Authority: KR
Inventors: 도모코 네기시; 가오루 나카무라; 스스무 구리시마; 히로무 히라마츠
Original assignee: 키모토 컴파니 리미티드
Priority date: 2013-04-19
Filing date: 2014-03-31
Publication date: 2016-01-08
Also published as: WO2014171315A1; JP2014210861A; CN105121588A; TW201447510A

Abstract

본 발명은 실리콘오일을 포함하는 도막이 갖는 이형 성능이 저하된 경우에 그 저하된 이형 성능을 회복시키는 데 유용한 이형 성능 회복액을 제공하는 것을 과제로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 이형 성능 회복액은 성능 회복 성분과 용매만으로 구성하고, 성능 회복 성분을 반응성 실리콘오일 및 비반응성 실리콘오일로 구성하는 것을 특징으로 하며, 반응성 실리콘오일을 1 중량부의 비반응성 실리콘오일에 대해 3~5 중량부의 양으로 함유시키는 것이 바람직하고, 성능 회복 성분과 용매의 중량 비율을 4：96~6：94로 하는 것이 바람직하다.

Description

이형 성능 회복액, 이형 성능 회복방법 및 포토마스크{Mold release performance-restoring solution, mold release performance restoration method, and photomask}

본 발명은 실리콘오일을 포함하는 도막의 이형 성능이 저하되었을 때의 사용에 적합한 이형 성능 회복액, 그 용액을 이용한 이형 성능 회복방법 및 그 방법을 이용하여 이형 성능을 회복시킨 보호막을 유리 마스크의 박막 패턴(대상)면에 적층한 포토마스크에 관한 것이다.

프린트 배선판이나 수지 볼록판을 제작하는 경우, 점착성이 있는 포토레지스트에 대해 밀착 노광이 종료된 포토마스크는 포토레지스트로부터 떼어내어져 용제에 의해 레지스트 대향면을 세정한 후, 별도의 포토레지스트에 대해 반복 이용에 제공된다. 종래부터 이 반복 이용시의 노광 정밀도의 저하를 방지할 목적으로, 포토마스크의 박막 패턴면에 이형성을 갖는 도막을 형성하거나, 그러한 도막이 설치된 표면 보호 필름을 첩합(貼合)하는 것이 행해지고 있다(특허문헌 1, 2). 이에 의해 용제에 의한 세정 후에 포토레지스트가 포토마스크의 박막 패턴면에 잔존하는 것이 방지된다.

일본국 특허공개 제2000-273412호 공보(단락번호 0008) 일본국 특허공개 제2005-181565호 공보(단락번호 0005)

이형성을 갖는 도막은 바인더 수지에 이형 성분으로서 실리콘오일을 포함하는 것이 많다. 이러한 도막은 포토마스크의 이용 빈도가 증가함에 따라 이형 성능이 저하된다. 이 때문에 어느 정도 반복 이용한 시점에서 포토마스크 상에 새로운 도막을 다시 형성하거나 또는 동일 패턴의 포토마스크를 별도로 준비할 필요가 있어, 성과물(프린트 배선판이나 수지 볼록판 등. 이하 동일)의 생산성 측면에서 과제를 가지고 있었다.

본 발명의 일측면에서는, 이형성을 갖는 도막의 저하된 이형 성능을 회복시키는 데 유용한 이형 성능 회복액을 제공한다. 또한 다른 측면에서는, 이형성 도막의 저하된 이형 성능을 효율적으로 회복시킬 수 있는 이형 성능 회복방법과 그 방법을 이용하여 저하된 이형 성능을 회복시킨 포토마스크도 제공한다.

본 발명자들은 반복 이용 후의 포토마스크에 새로운 도막을 형성하거나 또는 그 포토마스크와 동일 패턴의 포토마스크를 별도로 준비하지 않고 성과물의 생산성을 향상시킬 수 있는 방책을 검토하였다. 그 결과, 저하된 이형(離型) 성능을 회복시키면 된다는 신규한 과제를 착상하였다. 그리고, 특정 성능 회복 성분을 다량의 용매로 희석한 용액이 이형성을 갖는 실리콘오일을 포함하는 도막의 저하된 이형 성능의 회복에 유효한 것을 발견하고, 본 발명을 완성시켰다.

또한 본 발명에서 말하는 실리콘오일을 포함하는 도막은 이형 성능을 가져, 예를 들면 프린트 기판 제작공정 등에 있어서 점착성이 있는 포토레지스트(액상 포토레지스트 등)를 노광할 때의 원고(포토마스크)의 표면 등에 형성하거나 또는 첩착(貼着)되는 보호막으로서 이용된다.

본 발명의 이형 성능 회복액은 실리콘오일을 포함하는 도막의 저하된 이형 성능을 회복시키기 위해 사용된다. 이 회복액은 성능 회복 성분과 용매만으로 구성되어 있고, 성능 회복 성분을 반응성 실리콘오일 및 비반응성 실리콘오일로 구성한 것을 특징으로 한다.

본 발명의 이형 성능 회복방법은 실리콘오일을 포함하는 도막의 저하된 이형 성능을 회복시키는 방법으로서, 본 발명의 이형 성능 회복액을 대상 도막(이형 성능이 저하된 실리콘오일을 포함하는 도막)에 도포하고, 하기 조건에서 건조시키는 것을 특징으로 한다. 온도：85℃ 이상 130℃ 이하, 시간：5분 이상 15분 이하.

본 발명의 포토마스크는 유리 기판 상에 박막 패턴을 갖는 유리 마스크의 상기 박막 패턴면에 적층된 실리콘오일을 포함하는 보호막에 대해 본 발명의 이형 성능 회복방법을 적용하여 저하된 이형 성능을 회복시킨 것을 특징으로 한다.

본 발명은 아래의 태양을 포함한다.

(1) 이형 성능 회복액에 있어서 성능 회복 성분 중의 함유 비율을 비반응성 실리콘오일：1 중량부에 대해 반응성 실리콘오일：1.5 중량부 이상 7 중량부 이하(특히 3 중량부 이상 5 중량부 이하)로 할 수 있다.

(2) 이형 성능 회복액에 있어서 성능 회복 성분과 용매의 중량 비율을 2.5：97.5~8：92(특히 4：96~6：94)로 할 수 있다.

(3) 이형 성능 회복방법에 있어서 건조 조건을 온도：90℃ 이상 120℃ 이하, 시간：8분 이상 12분 이하로 할 수 있다.

(4) 보호막의 형성에 제공되는 유리 마스크로서 박막 패턴이 크롬 재료로 형성된 크롬 마스크를 사용할 수 있다.

본 발명의 이형 성능 회복액은 특정 성능 회복 성분을 포함하기 때문에 이형성을 갖는 도막의 저하된 이형 성능을 회복시키는 데 유용하다.

본 발명의 이형 성능 회복방법은 특정 성능 회복 성분을 포함하는 용액을 대상 도막에 도포하는 동시에 특정 조건에서 건조시키기 때문에 이형성을 갖는 도막의 저하된 이형 성능을 효과적으로 회복시킬 수 있다.

본 발명의 포토마스크는 이형 성능이 저하된 보호막에 대해 본 발명의 이형 성능 회복방법을 적용함으로써 저하된 이형 성능을 회복시키고 있기 때문에, 노광 작업의 반복 이용에 제공할 수 있다. 그 결과, 하나의 포토마스크의 반복 사용 내성이 증가하여 결과적으로 성과물의 생산성 향상이 달성된다.

먼저 본 발명의 이형 성능 회복액의 구성예를 설명한다.

본 예의 이형 성능 회복액은 성능 회복 성분과 희석용매만으로 구성되며, 소위 바인더 성분을 포함하지 않는다. 바인더 성분을 포함하지 않기 때문에 박막으로 하기 쉬워 보호막의 성능(경도나 투과율 등)을 유지한 채로 이형성만을 회복시킬 수 있다.

본 예의 성능 회복 성분은 실리콘오일을 포함하는 도막의 저하된 이형 성능을 회복시키기 위해 사용된다. 본 성분은 반응성 실리콘오일과 비반응성 실리콘오일의 혼합물로 구성된다.

본 예의 반응성 실리콘오일은 디메틸폴리실록산의 메틸기의 일부를 반응성 관능기로 치환한 변성 실리콘오일을 포함한다. 반응성 관능기로서는, 알콕시기, 메르캅토기, 카르비놀기, 에폭시기, 아민기, 아크릴기, 카르복실기 등을 들 수 있다. 이들 반응성 실리콘오일은 단독 사용 또는 2종류 이상 병용할 수 있다.

반응성 실리콘오일로서 바람직하게는 실라놀기를 갖는 것, 카르비놀기를 갖는 것 등을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 실라놀기를 갖는 것을 들 수 있다. 실라놀기를 갖는 반응성 실리콘오일을 포함시킨 경우, 보다 장기간에 걸쳐 회복 후의 이형 성능을 지속시키는 것을 기대할 수 있다.

반응성 실리콘오일로서는, 구체적으로는 신에쯔 케미컬사의 상품명으로서 아미노 변성(KF393, KF8004, KF861, KF8010 등), 에폭시 변성(KF101, X-22-4741, X-22-163, X-22-173DX 등), 카르비놀 변성(X-22-4039, X-22-4015, X-22-160AS, KF6001, KF6003 등), 하이드로겐 변성(KF9901 등), 메타크릴 변성(X-22-164C, X-22-174DX 등), 카르복실 변성(X-22-162C 등), 실라놀 변성(KF9701 등), 측쇄 아미노-양말단 메톡시 변성(KF857, KF858 등) 등을 들 수 있다.

본 예의 비반응성 실리콘오일은 디메틸 실리콘오일이나 디메틸폴리실록산의 메틸기의 일부를 폴리에테르기, 페닐기, 알킬기, 아랄킬기, 불소화 알킬기 등으로 치환한 무관능의 변성 실리콘오일을 포함한다. 이들 비반응성 실리콘오일은 단독 사용 또는 2종류 이상 병용할 수 있다.

비반응성 실리콘오일로서 바람직하게는 장쇄 알킬, 폴리에테르 등을 들 수 있으며, 보다 바람직하게는 장쇄 알킬을 들 수 있다.

비반응성 실리콘오일로서는, 구체적으로는 신에쯔 케미컬사의 상품명으로서 폴리에테르 변성(KF352A, KF353, KF354L, KF355A, KF615A, KF643, KF6011, KF6012, KF6015)이나 디메틸 실리콘오일(KF96 등) 등을 들 수 있다.

본 예에서는 반응성 실리콘오일을 1 중량부의 비반응성 실리콘오일에 대해 바람직하게는 1.5 중량부 이상, 보다 바람직하게는 3 중량부 이상이며, 바람직하게는 7 중량부 이하, 보다 바람직하게는 5 중량부 이하의 양(반응성 실리콘오일을 복수 종 함유시키는 경우, 그 합계량)으로 함유시키면 된다. 반응성 실리콘오일을 적량으로 함유시킴으로써 보다 장기간에 걸쳐 회복 후의 이형 성능을 지속시키는 것을 기대할 수 있다. 또한 반응성 실리콘오일의 함유량이 지나치게 많으면 완전히 반응되지 않아 블리드되어 전사될 가능성이 있지만, 본 발명에서는 액 중에서의 반응성 실리콘오일의 함유량 한정을 필수로 하는 것은 아니다.

희석용매로서는 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 부탄올, 이소프로필알코올 등을 들 수 있다. 이들 용매는 단독 사용 또는 2종류 이상 병용할 수 있다.

본 예에서는, 성능 회복 성분과 희석용매의 중량비를 바람직하게는 전자를 2.5 중량% 이상 8 중량% 이하, 후자를 92 중량% 이상 97.5 중량% 이하로 하고, 보다 바람직하게는 전자를 4 중량% 이상 6 중량% 이하, 후자를 94 중량% 이상 96 중량% 이하로 하면 된다. 성능 회복 성분을 액 중에 적량으로 함유시킴으로써 이형성 향상 효과를 기대할 수 있다. 또한 액 중에서의 성능 회복 성분의 함유량이 지나치게 많으면 도막으로의 간섭 불균일이 발생하기 쉬울 뿐 아니라 레지스트로 전사되는 경향이 있지만, 본 발명에서는 액 중에서의 성능 회복 성분의 함유량 한정을 필수로 하는 것은 아니다.

본 예의 이형 성능 회복액은 전술한 특정 성능 회복 성분을 포함하기 때문에 이형성을 갖는 도막의 저하된 이형 성능을 회복시키는 데 유용하다. 이 회복액을 이용함으로써 성과물의 생산성 향상(노광 작업의 효율화나 비용 삭감 등)을 기대할 수 있다.

다음으로 본 발명의 이형 성능 회복액의 적용예를 설명한다.

본 예의 이형 성능 회복액은 실리콘오일을 포함하는 보호막이, 예를 들면 유리 기판 상의 박막 패턴면에 적층된 유리 마스크에 대해 적용할 수 있다. 아래에 이 유리 마스크로의 적용을 예시하여 설명한다.

본 예의 이형 성능 회복액이 적용 가능한 일례로서의 유리 마스크는 보호막의 형성에 제공되는 마스크 본체의 박막 패턴면에 소정 조성의 열경화형 보호액(본 예에서는 실리콘 수지, 에폭시 수지 및 실리콘오일을 포함하는 구성을 예시한다)을 도포하고, 이것에 열을 가하여 경화시킨 경화물로 구성되는 보호막을 갖는다.

마스크 본체는 유리 기판에 프린트 배선판이나 수지 볼록판에 미세한 패턴을 형성하기 위한 박막 패턴이 형성되어 있다. 이러한 마스크 본체로서는, 예를 들면 유리 기판 상에 젤라틴과 할로겐화은을 혼합한 에멀젼을 도포하여 박막 패턴화한 것(에멀젼 마스크)이나, 유리 기판 상에 크롬 재료(크롬이나 산화크롬 등)로 구성되는 박막 패턴을 형성한 것(크롬 마스크) 등을 들 수 있다. 본 예에서는 마스크 본체로서 특히 크롬 마스크를 사용했을 때의 적용에 효과적이다.

또한 본 예에서 사용하는 마스크 본체는 보호막에 대한 접착성을 향상시키기 위한 언더코팅층이 유리 기판 상에 설치되어 있는 것을 포함한다.

본 예에서 적용하는 유리 마스크는 마스크 본체의 박막 패턴면 전면에 열경화형 보호액을 도포한 후, 이것에 열을 가함으로써 보호액의 수지 성분을 중합(열경화)시켜서 경화물로 하고, 이것을 하드 코트성과 이형성을 갖는 보호막으로서 이용하는 것이다. 보호액 중에 실리콘 수지 및 에폭시 수지를 포함함으로써, 마스크 본체와의 접착성, 하드 코트성(JIS-K5600-5-4：1999에 준거한 연필경도가 H 이상) 및 내광성이 우수한 보호막을 갖는 유리 마스크로 되어 있다.

단, 포토마스크로서의 반복 사용(이용 빈도)가 증가함에 따라 서서히이기는 하나 보호막의 이형 성능이 저하되는 것은 부정할 수 없다. 이에 본 예에서는 본 예의 회복액을 적용함으로써 보호막의 저하된 이형 성능을 회복시키는 것으로 하고 있다.

다음으로 본 발명의 이형 성능 회복방법의 일례를 설명한다.

본 예의 이형 성능 회복방법은 대상 도막에 대해 본 예의 이형 성능 회복액을 도포한다. 대상 도막으로서는, 본 예에서는 실리콘 수지 및 에폭시 수지의 열경화물과 실리콘오일을 포함하는 보호막으로, 또한 그 막의 이형 성능이 저하되었을 때에 적용하면 된다.

또한 이형 성능의 저하는 본 예에서는, 예를 들면 소정의 세정(용제 세정) 후, 포토마스크의 상기 도막 상에 포토레지스트의 잔존이 확인되었을 때로 한다.

도포방법은 한정되지 않고, 딥 코트, 스핀 코트, 다이 코트, 캡 코트, 바 코트 등 공지의 방법을 사용할 수 있다. 도포량은 이형 성능의 열화(劣化) 정도에 따라 증감시키면 된다. 단 도포량이 지나치게 많으면 간섭 불균일, 전사 등의 문제가 발생하고, 지나치게 적으면 효과가 얻어지기 어렵다. 이에 건조 막 두께가 예를 들면 50~300 nm 정도가 되는 양으로 도포하면 된다.

다음으로 도포한 회복액을 특정 조건에서 건조시킨다. 건조온도는 85℃ 이상 130℃ 이하 정도면 되고, 바람직하게는 90℃ 이상 120℃ 이하 정도가 된다. 이 온도가 지나치게 높으면 기재의 하드 코트 성능의 문제를 발생시키고, 지나치게 낮으면 이형 성능의 문제를 발생시킬 수 있다. 건조시간은 5분 이상 15분 이하 정도면 되고, 바람직하게는 8분 이상 12분 이하 정도로 한다. 건조시간이 지나치게 길면 핸들링의 문제를 발생시킬 수 있다.

본 예의 이형 성능 회복방법은 특정 성능 회복 성분을 포함하는 용액을 대상 도막에 도포하는 동시에 특정 조건에서 건조시키기 때문에 보호막의 저하된 이형 성능이 효과적으로 회복된다. 그 결과, 본 방법 적용 후의 유리 마스크는 노광 작업의 반복 이용에 제공할 수 있다. 그 결과, 하나의 유리 마스크의 반복 사용 내성이 증가하여 결과적으로 성과물의 생산성 향상이 달성된다.

실시예

아래에 실시예에 의해 본 발명을 추가적으로 설명한다. 또한 「부」, 「%」는 특별히 나타내지 않는 한 중량 기준으로 한다.

＜1. 유리 마스크의 제작＞

하기 조성의 유리 마스크용 열경화형 보호액을 패턴이 형성된 크롬 마스크 상에 스핀 코트에 의해 도포하고, 150℃에서 70분에 걸쳐 가열 경화시켜 두께 약 2 ㎛의 보호막을 형성하여 유리 마스크를 제작하였다.

＜유리 마스크용 열경화형 보호액의 조성＞

·실리콘 수지(고형분 100%) 10부

(KR400：신에쯔사 제조)

·에폭시 수지(고형분 100%) 10부

(EPPN502H：닛폰 가야쿠사 제조)

·실리콘오일(고형분 100%) 0.3부

(X-22-4272：신에쯔사 제조)

·메틸에틸케톤(희석용매) 79.2부

·경화제(고형분 100%) 0.5부

(IB2PZ：시코쿠 케미컬즈사 제조)

＜2. 유리 마스크의 박리 성능의 유사 평가＞

2-1. 박리온도의 변화

제작한 유리 마스크의 보호막면에 자외선 경화형 수지로 구성된 포토레지스트를 밀착시켰다(공정 1). 다음으로 유리 마스크의 보호막이 형성되어 있지 않은 면(유리 마스크의 이면)으로부터 자외선을 조사(밀착 노광)하여 포토레지스트를 소정 패턴으로 UV 경화시킨 후, 노광이 끝난 포토레지스트를 유리 마스크로부터 박리하였다(공정 2). 다음으로 포토레지스트로부터 떼어낸 유리 마스크의 보호막면을 용제 세정하고, 다음 노광을 위한 유리 마스크를 준비하였다(공정 3).

이상의 공정 1~3의 조작을 100회 행한 후, 유리 마스크의 보호막에 점착 테이프(셀로테이프 CT405AP-18：니치반 주식회사)를 첩부하였다. 이 상태에서 인장시험기(시마즈 소형 탁상 시험기 EZ-L：시마즈 코포레이션)를 사용하여 박리속도 300 ㎜/min에 있어서의 180°박리력을 측정하였다.

그 결과, 박리력이 1 N/18 ㎜ 미만이었던 경우 「이형성 있음」으로 판단하고, 공정 1~3의 조작을 추가로 100회 행하여 재차 동일 조건에서 180°박리력을 측정하였다. 그리고 그 측정결과가 1 N/18 ㎜ 이상이 된 시점에서 「이형성 없음」, 즉 「이형 성능이 저하되었다」고 판단하였다. 본 예에서는 통산으로 공정 1~3의 조작을 500회 행한 후에 이형 성능의 저하가 확인되었다.

2-2. 접촉각의 변화

제작한 유리 마스크의 보호막면의 순수(純水)의 접촉각을 마스크 제작 직후, 상기 공정 1~3의 조작을 100회, 200회, 500회 행한 후 각각의 타이밍에서 측정하였다. 그리고 접촉각의 값이 90도 이상이었던 경우를 「방오성 있음」으로 판단하고, 90도 미만이 된 시점에서 「방오성 없음」으로 판단하였다. 또한 접촉각의 값은 순수 적하 1분 후의 접촉각의 측정값에 대해 적하와 측정을 3회 반복해서 얻어진 측정값의 평균값으로 하였다. 본 예에서는 공정 1~3의 조작을 500회 행한 후에 방오 성능의 저하가 확인되었다.

＜3. 회복액의 제작＞

하기 표 1 조성으로 각 예의 이형 성능 회복액을 제작하였다.

표 1 중 반응성 실리콘오일(DMS-S15：Gelest사 제조, 고형분 100%, 평균 분자량 2750, 점도(25℃)＝65 cSt), 비반응성 실리콘오일(KF-96-100cs：신에쯔사 제조, 고형분 100%, 점도(25℃)＝1000×10³ cSt), 희석용매(메틸에틸케톤)를 사용하였다.

＜4. 회복액의 평가＞

각 예에서 제작한 이형 성능 회복액에 대해서 그 각 회복액을 적용했을 때의 이형 성능의 회복 정도를 평가하였다. 구체적으로는 아래의 절차로 평가하였다.

상기 2-1.의 공정 1~3을 500회 행하여 이형 성능이 저하된 보호막을 갖는 유리 마스크를 준비하였다. 이 준비한 유리 마스크의 보호막에 제작한 표 1 조성의 각 예의 이형 성능 회복액을 건조 막 두께가 200 nm 정도가 되는 양으로 도포한 후, 표 1에 기재된 건조 조건에서 건조시켰다. 이 건조 후의 보호막을 갖는 유리 마스크에 대해 상기 2-1.의 공정 1~3을 700회 행한 후, 상기 2-1.의 「박리온도의 변화」와 상기 2-2.의 「접촉각의 변화」를 평가하였다.

구체적으로는 「박리온도의 변화」에서의 박리력이 0.2 N/18 ㎜ 미만이었던 것을 「◎」, 0.2 N/18 ㎜ 이상 0.7 N/18 ㎜ 미만이었던 것을 「○」, 0.7 N/18 ㎜ 이상 1 N/18 ㎜ 미만이었던 것을 「△」, 1 N/18 ㎜ 이상이었던 것을 「×」로 하였다. 또한 「접촉각의 변화」에서의 접촉각의 값이 98도 이상이었던 것을 「◎」, 95도 이상 98도 미만이었던 것을 「○」, 90도 이상 95도 미만이었던 것을 「△」, 90도 미만이었던 경우를 「×」로 하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.

＜5. 고찰＞

각 예의 이형 성능 회복액에 그 유용성이 확인되었다. 특히 실험예 3~5의 것에 우수한 유용성이 확인되었다.

＜6. 다른 실험예＞

실험예 1~7에서 사용한 반응성 실리콘오일 대신에 다른 반응성 실리콘오일(DMS-S21：Gelest사 제조, 고형분 100%, 평균 분자량 4200, 점도(25℃)＝110 cSt)을 사용한 경우도 표 1과 동일한 결과가 얻어졌다.

또한 실험예 1~7에서 사용한 비반응성 실리콘오일 대신에 다른 비반응성 실리콘오일(KF6001：신에쯔사 제조, 고형분 100%, 점도(25℃)＝45×10³ cSt)을 사용한 경우도 표 1과 동일한 결과가 얻어졌다.

Claims

실리콘오일을 포함하는 도막의 저하된 이형(離型) 성능을 회복시키기 위해 사용하는 이형 성능 회복액으로서, 성능 회복 성분과 용매만으로 구성되어 있고,
상기 성능 회복 성분을 반응성 실리콘오일 및 비반응성 실리콘오일로 구성한 것을 특징으로 하는 이형 성능 회복액.
제1항에 있어서,
상기 반응성 실리콘오일을 1 중량부의 비반응성 실리콘오일에 대해 3 중량부 이상 5 중량부 이하의 양으로 함유시킨 것을 특징으로 하는 이형 성능 회복액.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 성능 회복 성분과 상기 용매의 중량 비율을 4：96~6：94로 한 것을 특징으로 하는 이형 성능 회복액.
실리콘오일을 포함하는 도막의 저하된 이형 성능을 회복시키는 방법으로서,
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 회복액을 대상 도막에 도포하고, 하기 조건에서 건조시키는 것을 특징으로 하는 이형 성능 회복방법.
온도：85℃ 이상 130℃ 이하,
시간：5분 이상 15분 이하.
유리 기판 상에 박막 패턴을 갖는 유리 마스크의 상기 박막 패턴면에 실리콘오일을 포함하는 보호막을 적층한 포토마스크에 있어서, 상기 보호막에 대해 제4항에 기재된 방법을 적용하여 저하된 이형 성능을 회복시킨 포토마스크.
제5항에 있어서,
상기 유리 마스크로서 박막 패턴이 크롬 재료로 형성된 크롬 마스크를 사용한 것을 특징으로 하는 포토마스크.