KR101250742B1

KR101250742B1 - 벤조산에스테르를 함유하는 화장료용 원료 및 상기화장료용 원료를 함유하는 화장료

Info

Publication number: KR101250742B1
Application number: KR1020077006381A
Authority: KR
Inventors: 게이지 야스노
Original assignee: 닛신 오일리오그룹 가부시키가이샤
Priority date: 2004-09-21
Filing date: 2005-09-06
Publication date: 2013-04-03
Also published as: CN101018539B; WO2006033231A1; US20080102044A1; EP1795177A4; JPWO2006033231A1; JP4801589B2; CN101018539A; KR20070072493A; US8748487B2; EP1795177A1

Abstract

광택 부여성과 산화 안정성이 우수한 화장료용 원료, 및 윤기와 사용감이 우수한 화장료를 제공한다. 상기 화장료용 원료는 (A): 벤조산, (B): 네오펜틸글리콜, 디네오펜틸글리콜, 트리네오펜틸글리콜, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 트리트리메틸올프로판, 디펜타에리트리톨 및 트리펜타에리트리톨로 이루어지는 군에서 선택되는 알코올, 및 (C): 탄소수 3 내지 28의 지방산 및/또는 탄소수 3 내지 28의 히드록시카르복실산과의 에스테르 화합물을 함유하고, 상기 화장료는 상기 화장료용 원료를 함유한다.

화장료용 원료, 벤조산 에스테르

Description

벤조산에스테르를 함유하는 화장료용 원료 및 상기 화장료용 원료를 함유하는 화장료 {RAW MATERIAL FOR COSMETIC PREPARATION CONTAINING BENZOATE AND COSMETIC PREPARATION CONTAINING SUCH RAW MATERIAL}

본 발명은 벤조산에스테르를 함유하는 화장료용 원료 및 상기 화장료용 원료를 함유하는 화장료에 관한 것이고, 특히 광택 부여성(화장료 중에 배합하였을 때에 화장료에 윤기를 제공하는 기능)과 산화 안정성이 우수한 화장료용 원료 및 상기 화장료용 원료를 함유하는, 윤기와 사용감이 우수한 화장료에 관한 것이다.

광택 부여성이 있는 천연 유래의 화장료용 원료로서, 라놀린이 알려져 있지만, 동물 유래이기 때문에 품질 안정성이나 악취의 점에서 만족스럽지 못하였다.

또한, 광택 부여성이 있는 화장료용 원료에 이용되는 합성 에스테르 유제로는, 다양한 합성 에스테르 유제가 범용되고 있고, 예를 들면 이량체 디올과 방향족 폴리카르복실산과의 에스테르나 히드록실화 지방산 에스테르가 알려져 있다(특허 문헌 1, 특허 문헌 2 참조).

특허 문헌 1: 일본 특허 공개 제2002-275024호 공보

특허 문헌 2: 일본 특허 공개 제2001-172119호 공보

<발명의 개시>

<발명이 해결하고자 하는 과제>

그러나, 상술한 합성 에스테르 유제는 광택 부여성과 산화 안정성의 면에서 아직 충분하다고 말할 수는 없으며 모두 만족할만한 것은 아니었다. 따라서, 광택 부여성과 산화 안정성이 우수한 합성 에스테르 유제의 개발이 요망되었다.

따라서, 본 발명의 목적은 광택 부여성과 산화 안정성이 우수한 화장료용 원료를 제공하는 것에 있다.

또한, 본 발명의 목적은 윤기와 사용감이 우수한 화장료를 제공하는 것에 있다.

<과제를 해결하기 위한 수단>

본 발명자들은 상기 목적을 달성하기 위해서 예의 검토를 거듭한 결과, 벤조산과 소정의 알코올과의 에스테르 화합물에 의해 광택 부여성과 산화 안정성이 우수한 화장료용 원료를 얻을 수 있음을 발견하고, 본 발명을 완성하였다.

즉, 본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해서 하기 (A)와 (B)와의 에스테르 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료용 원료를 제공한다.

(A): 벤조산

(B): 네오펜틸글리콜, 디네오펜틸글리콜, 트리네오펜틸글리콜, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 트리트리메틸올프로판, 디펜타에리트리톨 및 트리펜타에리트리톨로 이루어지는 군에서 선택되는 알코올

또한, 본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해서 하기 (A)와 (B)와 (C)와의 에스테르 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료용 원료를 제공한다.

(A): 벤조산

(C): 탄소수 3 내지 28의 지방산 및/또는 탄소수 3 내지 28의 히드록시카르복실산

또한, 본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해서, 상기 화장료용 원료를 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료를 제공한다.

<발명의 효과>

본 발명의 화장료용 원료에 따르면, 광택 부여성 및 산화 안정성이 우수한 화장료 원료를 제공할 수 있다.

또한, 본 발명의 화장료에 따르면, 윤기 및 사용감이 우수한 화장료를 제공할 수 있다.

도 1은 실시예 및 비교예에 대한 산화 안정성 시험의 결과를 나타낸 도면이다.

<발명을 실시하기 위한 최선의 형태>

이하, 본 발명을 구체적으로 설명한다.

〔본 발명의 화장료용 원료〕

본 발명의 화장료용 원료는 하기 (A)와 (B)와의 에스테르 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료용 원료이다.

(A): 벤조산

(B): 네오펜틸글리콜, 디네오펜틸글리콜, 트리네오펜틸글리콜, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 트리트리메틸올프로판, 디펜타에리트리톨 및 트리펜타에리트리톨로 이루어지는 군에서 선택되는 알코올.

보다 바람직하게는 (A)와 (B)와 하기 (C)와의 에스테르 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료용 원료이다.

(A)와 (B)에 부가적으로 (C)를 이용함으로써, 산화 안정성이 더욱 우수한 화장료용 원료를 얻을 수 있다. 또한, 실온에서 보다 결정화하기 어려운 에스테르 화합물을 얻을 수 있고, 취급성이 우수한 화장료용 원료를 얻을 수 있다.

(A) 벤조산은 (B) 알코올 1 몰에 대하여 1 내지 8 몰 이용한다. 광택 부여성이 우수한 화장료용 원료를 얻기 위해서는, 목적하는 에스테르 화합물의 분자량에 대한 벤조산 함유율(％)이 높을수록 바람직하고, 벤조산 함유율(％)이 10 ％ 이상인 것이 바람직하며, 20 ％ 이상인 것이 보다 바람직하고, 30 ％ 이상인 것이 보다 바람직하며, 33 ％ 이상인 것이 가장 바람직하다. 여기서 말하는 벤조산 함유율이란, 목적하는 에스테르 화합물의 분자량에 대한 벤조산 잔기 분자량의 비율을 나타낸다.

한편, 목적하는 에스테르 화합물의 분자량에 대한 벤조산 함유율(％)이 너무 높아지면, 고체(결정)화되어 버린다. 화장료용 원료의 성상은 취급성 문제 때문에 고형상의 것보다 페이스트상 내지 액상인 것이 바람직하다. 따라서, 본 발명에서는 벤조산 함유율(％)이 80 ％ 이하인 것이 바람직하고, 75 ％ 이하인 것이 보다 바람직하며, 70 ％ 이하인 것이 보다 바람직하고, 65 ％ 이하인 것이 가장 바람직하다.

또한, 벤조산 대신에 다양한 벤조산 유도체, 예를 들면 메틸벤조산, 에틸벤조산, 메톡시벤조산 등을 이용할 수도 있다.

(B) 알코올은 네오펜틸글리콜, 디네오펜틸글리콜, 트리네오펜틸글리콜, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 트리트리메틸올프로판, 디펜타에리트리톨 및 트리펜타에리트리톨로 이루어지는 군에서 선택된다.

본 발명에서는 그 중에서도 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 트리트리메틸올프로판, 디펜타에리트리톨, 트리펜타에리트리톨이 바람직하고, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 디펜타에리트리톨이 보다 바람직하다. 네오펜틸글리콜, 디네오펜틸글리콜 및 트리네오펜틸글리콜은 실온에서 고체(결정)화되는 경향이 있기 때문에, 취급성의 점에서 트리메틸올프로판 등이 보다 바람직하다.

본 발명에 있어서 상기 알코올의 1개 이상의 OH기는 벤조산에 의해 에스테르화되어 있다. 또한, 산화 안정성의 점에서, 상기 알코올의 OH기는 벤조산 또는 (C) 성분에 의해 적어도 80 ％ 이상이 에스테르화되어 있는 것이 바람직하고, 전부 에스테르화되어 있는 것이 보다 바람직하다.

(C)의 탄소수 3 내지 28의 지방산은 탄소수 3 내지 28의 포화 지방산이 바람직하고, 탄소수 8 내지 22의 포화 직쇄 지방산 및 탄소수 8 내지 18의 포화 분지 지방산이 보다 바람직하며, 2-에틸헥산산 및 이소스테아르산이 가장 바람직하다.

또한, (C)의 탄소수 3 내지 28의 히드록시카르복실산은 탄소수 3 내지 28의 포화 히드록시카르복실산이 바람직하고, 탄소수 3 내지 18의 포화 히드록시카르복실산이 보다 바람직하며, 12-히드록시스테아르산이 가장 바람직하다.

(C)의 탄소수 3 내지 28의 지방산 및/또는 탄소수 3 내지 28의 히드록시카르복실산은 1종으로 한정되지 않고, 2종 이상을 선택하여 에스테르화 원료로서 이용할 수도 있다.

본 발명의 화장료용 원료에 함유되는 에스테르 화합물은 하기 화학식(1) 내지 (3)으로 표시되는 벤조산에스테르이다.

(화학식(1) 중, R은 수소 원자, 벤조산 잔기, 탄소수 3 내지 28의 지방산 잔기 또는 탄소수 3 내지 28의 히드록시카르복실산 잔기이고, n은 0 내지 2의 정수를 나타낸다.)

(화학식(2) 중, R은 수소 원자, 벤조산 잔기, 탄소수 3 내지 28의 지방산 잔기 또는 탄소수 3 내지 28의 히드록시카르복실산 잔기이고, n은 0 내지 2의 정수를 나타낸다.)

(화학식(3) 중, R은 수소 원자, 벤조산 잔기, 탄소수 3 내지 28의 지방산 잔기 또는 탄소수 3 내지 28의 히드록시카르복실산 잔기이고, n은 1 내지 2의 정수를 나타낸다.)

화장료용 원료의 광택 부여성은, 함유되는 에스테르 화합물의 굴절률과 상관성이 있고, 에스테르 화합물의 굴절률이 높을수록 화장료용 원료의 광택 부여성은 높아진다. 따라서, 본 발명에서는 상기 에스테르 화합물의 굴절률(25 ℃)이 1.48 이상인 것이 바람직하고, 1.49 이상인 것이 보다 바람직하며, 1.50 이상인 것이 보다 바람직하고, 1.51 이상인 것이 가장 바람직하다. 이러한 굴절률(25 ℃)이 되도 록 원료, 조건 등을 조정한다. 또한, 굴절률은, 예를 들면 아쯔베(Atsube) 굴절계 등을 이용하여 측정할 수 있다. 또한, 본 발명의 화장료용 원료는 높은 굴절률이면서 또한 광범위한 굴절률(조건 등에 따라서 다르지만, 예를 들면 25 ℃에서 1.48 내지 1.54)을 얻을 수 있기 때문에, 화장료 중에 배합하면, 윤기의 조정이 광범위에서 가능해져 화장료의 변화 범위(variation)이 넓어지기 때문에 부가 가치를 높일 수 있다.

〔본 발명의 화장료용 원료의 제조 방법〕

본 발명에 있어서의 에스테르화 반응은, 상기 원료를 적당한 반응 용기에 넣고, 산, 알칼리, 기타 금속 촉매의 존재하 또는 비존재하에, 바람직하게는 상기 반응에 불활성인 유기 용매 또는 기체 중 150 ℃ 내지 250 ℃에서 수 시간 내지 40 시간 정도, 바람직하게는 수 시간 내지 30 시간 정도, 부생하는 물을 제거하면서 반응을 행한다. 또한, 반응시에 첨가하는 상기 원료의 첨가 순서는 특별히 한정은 없다.

촉매를 사용하는 경우에는, 산 촉매 또는 알칼리 토류 금속의 알콕시드 등을 반응 원료의 질량에 대하여 0.001 내지 1.0 질량％ 첨가한다.

상기 반응 경과는 반응 경과 중의 산가를 측정함으로써 평가할 수 있다. 반응 종료 후, 미반응물을 포함하는 경우가 있어, 이들을 수세, 알칼리 탈산, 흡착 처리 등의 공지된 방법으로 분리 제거하고, 또한 탈색, 탈취 처리를 실시하여 정제한다.

〔본 발명의 화장료용 원료를 함유하는 화장료〕

본 발명의 화장료용 원료를 화장료 중에 함유시킴으로써 윤기와 사용감이 우수한 화장료를 얻을 수 있다.

본 발명의 화장료용 원료를 배합한 화장료는 윤기와 사용감이 우수하기 때문에, 본 발명의 화장료용 원료는 특히 윤기가 요구되는 메이크 업 화장료에 이용하면 효과적이다. 예를 들면, 립스틱, 아이새도우, 두발 화장료, 유액, 유중수(油中水)계 핸드 크림, 크림상 수중유형 선 블록(sun block) 화장료, 미조료(美爪料), 립 크림, 립 글로스 등에 배합하는 것이 바람직하다.

본 발명의 화장료는 통상적인 방법에 의해 제조할 수 있고, 본 발명의 화장료용 원료의 화장료에 대한 배합량은 벤조산에스테르의 조성이나 화장료의 종류, 제형에 따라서도 다르지만, 1 내지 80 질량％인 것이 바람직하고, 1 내지 60 질량％인 것이 보다 바람직하며, 1 내지 40 질량％인 것이 보다 바람직하다.

본 발명의 화장료는 필요에 따라서 유분, 왁스, 보습제, 유화제, 증점제, 안료, 향료, 약제, 자외선 흡수제, 미백제, 육모제(育毛劑), 제한제(制汗劑) 등의 성분을 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 함유시킬 수 있다. 본 발명의 화장료는 광택 부여성이 우수한 화장료용 원료를 함유하기 때문에, 다른 윤기를 내는 화장용 원료의 배합량을 감소시킬 수 있거나 또는 배합할 필요가 없지만, 통상적인 배합량을 배합할 수도 있다.

또한, 본 발명의 화장료용 원료에 함유되는 에스테르 화합물은 화장료에 한정되지 않고, 윤기가 요구되는 것이라면 의약품, 의약부외품 등으로도 사용할 수 있다.

이하에 실시예를 들어 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들에 의해 한정되지 않는다. 또한, 괄호내의 수치(몰)는 몰비를 나타낸다.

실시예 1

〔네오펜틸글리콜(1.0 몰)과 벤조산(1.0 몰) 및 2-에틸헥산산(1.0 몰)과의 에스테르 화합물을 함유하는 화장료용 원료의 제조〕

교반기, 온도계, 질소 가스 흡입관 및 물 분리기를 구비한 4구 플라스크에 네오펜틸글리콜〔EASTMAN CHEMICAL사 제조, 상품명: NPG PLATELETS〕 78.2 g(1.0 몰), 벤조산〔DSM사 제조, 상품명: PuroxB〕 91.8 g(1.0 몰), 2-에틸헥산산〔치소사 제조, 상품명: 옥틸산〕 109.0 g(1.0 몰)을 첨가하고, 촉매로서 염화주석 0.6 g을 이용하여 질소 기류하에 180 ℃ 내지 200 ℃에서 약 15 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 통상법으로 정제하여, 검화가 335인 목적하는 네오펜틸글리콜과 벤조산 및 2-에틸헥산산과의 에스테르 화합물 150.6 g을 얻었다.

실시예 2

〔네오펜틸글리콜(1.0 몰)과 벤조산(2.0 몰)과의 에스테르 화합물을 함유하는 화장료용 원료의 제조〕

교반기, 온도계, 질소 가스 흡입관 및 물 분리기를 구비한 4구 플라스크에 네오펜틸글리콜〔EASTMAN CHEMICAL사 제조, 상품명: NPG PLATELETS〕 89.7 g(1.0 몰), 벤조산〔DSM사 제조, 상품명: PuroxB〕 210.7 g(2.0 몰)을 첨가하고, 촉매로서 염화주석 0.6 g을 이용하여 질소 기류하에 180 ℃ 내지 200 ℃에서 약 15 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 통상법으로써 정제하여, 검화가 359인 목적하는 네오펜틸글리콜과 벤조산과의 에스테르 화합물 210.5 g을 얻었다.

실시예 3

〔트리메틸올프로판(1 몰)과 벤조산(2 몰) 및 2-에틸헥산산(1 몰)과의 에스테르 화합물을 함유하는 화장료용 원료의 제조〕

교반기, 온도계, 질소 가스 흡입관 및 물 분리기를 구비한 4구 플라스크에 트리메틸올프로판〔세라니즈사 제조, 상품명: 트리메틸올프로판〕 77.8 g(1.0 몰), 벤조산〔DSM사 제조, 상품명: PuroxB〕 140.2 g(2.0 몰), 2-에틸헥산산〔치소사 제조, 상품명: 옥틸산〕 82.8 g(1.0 몰)을 첨가하고, 촉매로서 염화주석 0.6 g을 이용하여 질소 기류하에 180 ℃ 내지 200 ℃에서 약 15 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 통상법으로써 정제하여, 검화가 360인 목적하는 트리메틸올프로판과 벤조산 및 2-에틸헥산산과의 에스테르 화합물 161.8 g을 얻었다.

실시예 4

〔트리메틸올프로판(1 몰)과 벤조산(1 몰) 및 2-에틸헥산산(2 몰)과의 에스테르 화합물을 함유하는 화장료용 원료의 제조〕

교반기, 온도계, 질소 가스 흡입관 및 물 분리기를 구비한 4구 플라스크에 트리메틸올프로판〔세라니즈사 제조, 상품명: 트리메틸올프로판〕 147.8 g(1.0 몰), 벤조산〔DSM사 제조, 상품명: PuroxB〕 134.6 g(1.0 몰), 2-에틸헥산산〔치소사 제조, 상품명: 옥틸산〕 317.6 g(2.0 몰)을 첨가하고, 촉매로서 염화주석 0.6 g을 이용하여 질소 기류하에 180 ℃ 내지 200 ℃에서 약 15 시간 반응시켰다. 반응 종 료 후, 통상법으로써 정제하여, 검화가 344인 목적하는 트리메틸올프로판과 벤조산 및 2-에틸헥산산과의 에스테르 화합물 480 g을 얻었다.

실시예 5

〔트리메틸올프로판(1 몰)과 벤조산(2 몰) 및 12-히드록시스테아르산(1 몰)과의 에스테르 화합물을 함유하는 화장료용 원료의 제조〕

교반기, 온도계, 질소 가스 흡입관 및 물 분리기를 구비한 4구 플라스크에 트리메틸올프로판〔세라니즈사 제조, 상품명: 트리메틸올프로판〕 59.3 g(1.0 몰), 벤조산〔DSM사 제조, 상품명: PuroxB〕 107.9 g(2.0 몰), 12-히드록시스테아르산〔가와켄 화인 케미칼(주) 제조, 상품명: 히드록시스테아르산〕 132.8 g(1.0 몰)을 첨가하고, 촉매로서 염화주석 0.6 g을 이용하여 질소 기류하에 180 ℃ 내지 200 ℃에서 약 15 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 통상법으로써 정제하여, 검화가 269인 목적하는 트리메틸올프로판과 벤조산 및 12-히드록시스테아르산과의 에스테르 화합물 160.0 g을 얻었다.

실시예 6

〔트리메틸올프로판(1 몰)과 벤조산(2 몰) 및 이소스테아르산(1 몰)과의 에스테르 화합물을 함유하는 화장료용 원료의 제조〕

교반기, 온도계, 질소 가스 흡입관 및 물 분리기를 구비한 4구 플라스크에 트리메틸올프로판〔세라니즈사 제조, 상품명: 트리메틸올프로판〕 120.0 g(1.0 몰), 벤조산〔DSM사 제조, 상품명: PuroxB〕 218.5 g(2.0 몰), 이소스테아르산〔유니케마 제조, 상품명: PRISORINE3505〕 261.5 g(1.0 몰)을 첨가하고, 촉매로서 염화 주석 0.6 g을 이용하여 질소 기류하에 180 ℃ 내지 200 ℃에서 약 15 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 통상법으로써 정제하여, 검화가 273인 목적하는 트리메틸올프로판과 벤조산 및 이소스테아르산과의 에스테르 화합물 465 g을 얻었다.

실시예 7

〔트리메틸올프로판(1 몰)과 벤조산(3 몰)과의 에스테르 화합물을 함유하는 화장료용 원료의 제조〕

교반기, 온도계, 질소 가스 흡입관 및 물 분리기를 구비한 4구 플라스크에 트리메틸올프로판〔세라니즈사 제조, 상품명: 트리메틸올프로판〕 160.8 g(1.0 몰), 벤조산〔DSM사 제조, 상품명: PuroxB〕 439.2 g(3.0 몰)을 첨가하고, 촉매로서 염화주석 0.6 g을 이용하여 질소 기류하에 180 ℃ 내지 200 ℃에서 약 15 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 통상법으로써 정제하여, 검화가 377인 목적하는 트리메틸올프로판과 벤조산과의 에스테르 화합물 432 g을 얻었다.

실시예 8

〔디트리메틸올프로판(1 몰)과 벤조산(3 몰) 및 2-에틸헥산산(1 몰)과의 에스테르 화합물을 함유하는 화장료용 원료의 제조〕

교반기, 온도계, 질소 가스 흡입관 및 물 분리기를 구비한 4구 플라스크에 디트리메틸올프로판〔Perstorp사 제조, 상품명: 디트리메틸올프로판〕 98.7 g(1.0 몰), 벤조산〔DSM사 제조, 상품명: PuroxB〕 144.0 g(3.0 몰), 2-에틸헥산산〔치소사 제조, 상품명: 옥틸산〕 56.8 g(1.0 몰)을 첨가하고, 촉매로서 염화주석 0.6 g을 이용하여 질소 기류하에 180 ℃ 내지 200 ℃에서 약 15 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 통상법으로써 정제하여, 검화가 326인 목적하는 디트리메틸올프로판과 벤조산 및 2-에틸헥산산과의 에스테르 화합물 162.7 g을 얻었다.

실시예 9

〔디트리메틸올프로판(1 몰)과 벤조산(2 몰) 및 12-히드록시스테아르산(2 몰)과의 에스테르 화합물을 함유하는 화장료용 원료의 제조〕

교반기, 온도계, 질소 가스 흡입관 및 물 분리기를 구비한 4구 플라스크에 디트리메틸올프로판〔Perstorp사 제조, 상품명: 디트리메틸올프로판〕 137.0 g(1.0 몰), 벤조산〔DSM사 제조, 상품명: PuroxB〕 133.7 g(2.0 몰), 12-히드록시스테아르산〔가와켄 화인 케미칼(주) 제조, 상품명: 히드록시스테아르산〕 329.3 g(2.0 몰)을 첨가하고, 촉매로서 염화주석 0.6 g을 이용하여 질소 기류하에 180 ℃ 내지 200 ℃에서 약 15 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 통상법으로써 정제하여, 검화가 219인 목적하는 디트리메틸올프로판과 벤조산 및 12-히드록시스테아르산과의 에스테르 화합물 440.2 g을 얻었다.

실시예 10

〔디트리메틸올프로판(1 몰)과 벤조산(2 몰)및 이소스테아르산(2 몰)과의 에스테르 화합물을 함유하는 화장료용 원료의 제조〕

교반기, 온도계, 질소 가스 흡입관 및 물 분리기를 구비한 4구 플라스크에 디트리메틸올프로판〔Perstorp사 제조, 상품명: 디트리메틸올프로판〕 139.1 g(1.0 몰), 벤조산〔DSM사 제조, 상품명: PuroxB〕 135.8 g(2.0 몰), 이소스테아르산〔유니케마 제조, 상품명: PRISORINE3505〕 325.0 g(2.0 몰)을 첨가하고, 촉매로서 염 화주석 0.6 g을 이용하여 질소 기류하에 180 ℃ 내지 200 ℃에서 약 15 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 통상법으로써 정제하여, 검화가 223인 목적하는 디트리메틸올프로판과 벤조산 및 이소스테아르산과의 에스테르 화합물 425 g을 얻었다.

실시예 11

〔디펜타에리트리톨(1 몰)과 벤조산(3 몰) 및 2-에틸헥산산(3 몰)과의 에스테르 화합물을 함유하는 화장료용 원료의 제조〕

교반기, 온도계, 질소 가스 흡입관 및 물 분리기를 구비한 4구 플라스크에 디펜타에리트리톨〔코에이 가가꾸(주) 제조, 상품명: 디ㆍ펜타리트〕 72.4 g(1.0 몰), 벤조산〔DSM사 제조, 상품명: PuroxB〕 104.4 g(3.0 몰), 2-에틸헥산산〔치소사 제조, 상품명: 옥틸산〕 123.1 g(3.0 몰)을 첨가하고, 촉매로서 염화주석 0.6 g을 이용하여 질소 기류하에 180 ℃ 내지 200 ℃에서 약 15 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 통상법으로써 정제하여, 검화가 356인 목적하는 디펜타에리트리톨과 벤조산 및 2-에틸헥산산과의 에스테르 화합물 165.7 g을 얻었다.

실시예 12

〔디펜타에리트리톨(1 몰)과 벤조산(4 몰) 및 이소스테아르산(2 몰)과의 에스테르 화합물을 함유하는 화장료용 원료의 제조〕

교반기, 온도계, 질소 가스 흡입관 및 물 분리기를 구비한 4구 플라스크에 디펜타에리트리톨〔코에이 가가꾸(주) 제조, 상품명: 디ㆍ펜타리트〕 127 g(1.0 몰), 벤조산〔DSM사 제조, 상품명: PuroxB〕 242.4 g(4.0 몰), 이소스테아르산〔닛산 가가꾸 제조, 상품명: 이소스테아르산〕 292.6 g(2.0 몰)을 첨가하고, 촉매로서 염화주석 0.6 g을 이용하여 질소 기류하에 180 ℃ 내지 250 ℃에서 약 38 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 통상법으로써 정제하여, 검화가 260인 목적하는 디펜타에리트리톨과 벤조산 및 이소스테아르산과의 에스테르 화합물 408.5 g을 얻었다.

실시예 13

〔디펜타에리트리톨(1 몰)과 벤조산(3 몰) 및 이소스테아르산(3 몰)과의 에스테르 화합물을 함유하는 화장료용 원료의 제조〕

교반기, 온도계, 질소 가스 흡입관 및 물 분리기를 구비한 4구 플라스크에 디펜타에리트리톨〔코에이 가가꾸(주) 제조, 상품명: 디ㆍ펜타리트〕 101.9 g(1.0 몰), 벤조산〔DSM사 제조, 상품명: PuroxB〕 146.8 g(3.0 몰), 이소스테아르산〔유니케마 제조, 상품명: PRISORINE3505〕 351.3 g(3.0 몰)을 첨가하고, 촉매로서 염화주석 0.6 g을 이용하여 질소 기류하에 180 ℃ 내지 200 ℃에서 약 15 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 통상법으로써 정제하여, 검화가 241인 목적하는 디펜타에리트리톨과 벤조산 및 이소스테아르산과의 에스테르 화합물 412.9 g을 얻었다.

실시예 14

〔디펜타에리트리톨(1 몰)과 벤조산(2 몰) 및 이소스테아르산(4 몰)과의 에스테르 화합물을 함유하는 화장료용 원료의 제조〕

교반기, 온도계, 질소 가스 흡입관 및 물 분리기를 구비한 4구 플라스크에 디펜타에리트리톨〔코에이 가가꾸(주) 제조, 상품명: 디ㆍ펜타리트〕 91.5 g(1.0 몰), 벤조산〔DSM사 제조, 상품명: PuroxB〕 87.9 g(2.0 몰), 이소스테아르산〔유니케마 제조, 상품명: PRISORINE3505〕 420.6 g(4.0 몰)을 첨가하고, 촉매로서 염 화주석 0.6 g을 이용하여 질소 기류하에 180 ℃ 내지 200 ℃에서 약 15 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 통상법으로써 정제하여, 검화가 216인 목적하는 디펜타에리트리톨과 벤조산 및 이소스테아르산과의 에스테르 화합물 408.1 g을 얻었다.

실시예 15

〔디펜타에리트리톨(1 몰)과 벤조산(4 몰) 및 12-히드록시스테아르산(2 몰)과의 에스테르 화합물을 함유하는 화장료용 원료의 제조〕

교반기, 온도계, 질소 가스 흡입관 및 물 분리기를 구비한 4구 플라스크에 디펜타에리트리톨〔코에이 가가꾸(주) 제조, 상품명: 디ㆍ펜타리트〕 56.7 g(1.0 몰), 벤조산〔DSM사 제조, 상품명: PuroxB〕 109.4 g(4.0 몰), 12-히드록시스테아르산〔가와켄 화인 케미칼(주) 제조, 상품명: 히드록시스테아르산〕 134.1 g(2.0 몰)을 첨가하고, 촉매로서 염화주석 0.6 g을 이용하여 질소 기류하에 180 ℃ 내지 200 ℃에서 약 15 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 통상법으로써 정제하여, 검화가 272인 목적하는 디펜타에리트리톨과 벤조산 및 12-히드록시스테아르산과의 에스테르 화합물 166.7 g을 얻었다.

실시예 16

〔디펜타에리트리톨(1 몰)과 벤조산(3 몰) 및 12-히드록시스테아르산(3 몰)과의 에스테르 화합물을 함유하는 화장료용 원료의 제조〕

교반기, 온도계, 질소 가스 흡입관 및 물 분리기를 구비한 4구 플라스크에 디펜타에리트리톨〔에이꼬우 가가꾸(주) 제조, 상품명: 디ㆍ펜타리트〕 103.3 g(1.0 몰), 벤조산〔DSM사 제조, 상품명: PuroxB〕 144.5 g(3.0 몰), 12-히드록시 스테아르산〔가와켄 화인 케미칼(주) 제조, 상품명: 히드록시스테아르산〕 355.3 g(3.0 몰)을 첨가하고, 촉매로서 염화주석 0.6 g을 이용하여 질소 기류하에 180 ℃ 내지 200 ℃에서 약 15 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 통상법으로써 정제하여, 검화가 238인 목적하는 디펜타에리트리톨과 벤조산 및 12-히드록시스테아르산과의 에스테르 화합물 398.1 g을 얻었다.

실시예 17

〔디펜타에리트리톨(1 몰)과 벤조산(2 몰) 및 12-히드록시스테아르산(4 몰)과의 에스테르 화합물을 함유하는 화장료용 원료의 제조〕

교반기, 온도계, 질소 가스 흡입관 및 물 분리기를 구비한 4구 플라스크에 디펜타에리트리톨〔코에이 가가꾸(주) 제조, 상품명: 디ㆍ펜타리트〕 89.8 g(1.0 몰), 벤조산〔DSM사 제조, 상품명: PuroxB〕 86.2 g(2.0 몰), 12-히드록시스테아르산〔가와켄 화인 케미칼(주) 제조, 상품명: 히드록시스테아르산〕 424.0 g(4.0 몰)을 첨가하고, 촉매로서 염화주석 0.6 g을 이용하여 질소 기류하에 180 ℃ 내지 200 ℃에서 약 15 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 통상법으로써 정제하여, 검화가 211인 목적하는 디펜타에리트리톨과 벤조산 및 12-히드록시스테아르산과의 에스테르 화합물 391.6 g을 얻었다.

비교예 1 내지 4

비교예로서, 윤기가 양호한 화장료용 원료로서 알려져 있는 말산디이소스테아릴〔닛신 오일리오사 제조, 상품명: 코스몰 222〕(비교예 1), 트리메틸올프로판(1 몰)과 2-에틸헥산산(3 몰)과의 에스테르(비교예 2), 디트리메틸올프로판(1 몰)과 2-에틸헥산산(4 몰)과의 에스테르(비교예 3), 디펜타에리트리톨(1 몰)과 2-에틸헥산산(6 몰)과의 에스테르(비교예 4)를 이용하였다.

이상의 실시예 1 내지 17 및 비교예 1 내지 4의 원재료 등을 통합하면 이하의 표 1과 같다.

[화장료용 원료의 굴절률 측정〕

실시예 1 내지 17에서 얻은 본 발명의 화장료용 원료 및 비교예 1 내지 4의 화장료용 원료의 굴절률을 측정하여 광택 부여성의 평가를 행하였다. 굴절률이 높을수록 화장료용 원료의 광택 부여성이 높아지는 것을 나타내었다. 굴절률은 아쯔베 굴절계 Model: ER-98(엘마 한바이(주)사)을 이용하여 25 ℃의 온도 조건하에서 측정하였다. 결과를 표 2에 나타내었다.

표 2로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1 내지 17의 화장료용 원료는 비교예 1 내지 4와 비교하여 보다 높은 굴절률을 나타내었기 때문에, 광택 부여성이 우수한 것이 밝혀졌다.

〔화장료용 원료의 산화 안정성 시험〕

실시예 1, 3, 5, 8, 11, 12, 15에서 얻은 본 발명의 화장료용 원료 및 비교예 1 내지 4의 화장료용 원료에 대하여, 기준 유지 분석법(일본 오일 화학회)의 CDM 시험에 의해 산화 안정성을 측정하였다. 시료를 120 ℃로 가열하면서 청정 공기를 넣고, 산화에 의해 생성된 휘발성 분해물을 물 중에 수집하여, 휘발성 분해물 생성에 의한 물 전도율의 변화를 경시적으로 측정하였다. 물 전도율의 변화가 작을수록 분해물이 적고, 산화 안정성이 양호한 것을 나타내었다. 구체적으로는 자동 유지 안정성 시험 장치〔메트롬사 제조, 상품명: 런시매트 743형〕를 이용하여, 각각에 대하여 전기 전도율의 변화를 측정하였다. 결과를 도 1 및 표 3에 나타내었다. 표 3의 수치는 20 시간 경과시의 전기 전도율(μS/cm) 및 전기 전도율 50 μS/cm가 되기까지의 필요 시간(h)을 나타내었다.

도 1 및 표 3으로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1, 3, 5, 8, 11, 12, 15의 화장료용 원료는 비교예 1 내지 4와 비교하여 동등 이상의 안정성을 나타내었다.

다음에, 실시예 1, 3, 5, 8, 11, 15에서 얻은 본 발명의 화장료용 원료 및 비교예 1, 2, 4의 화장료용 원료를 첨가한 각종 화장료를 제조하여 각종 화장료로서의 평가를 행하였다.

〔본 발명의 화장료의 강도 평가〕

본 발명의 화장료(스틱상 립스틱)의 강도를 조사하기 위해서 강도 평가를 행하였다. 강도 평가로서, 꺾임(bending) 강도를 측정하였다. 꺾임 강도는 레오미터 NRM-2002J(후도 고교(주)사 제조)를 이용하여 측정하였다. 강도 평가는 그 값이 비교예와 비교하여 우수한 경우를 ◎, 동등한 경우를 ○, 열악한 경우를 ×라 하였다.

〔본 발명의 화장료의 관능 평가〕

본 발명의 화장료의 윤기, 사용감을 조사하기 위해서 이하의 방법으로 관능 평가를 행하였다. 관능 평가 패널 10명에 각각의 화장료를 사용하게 하여, 윤기를 포함하는 각종 관능성 평가 항목에 대하여 패널 각 사람이 하기 기준 평가로 7 단계로 평가하여 평가점을 매기고, 패널 전원의 평가점의 평균값을 산출하여 하기 4 단계의 기준에 의해 평가하였다.

(7 단계 기준 평가) 화장료의 평가

평가점: 평가

6: 매우 양호함

5: 양호함

4: 약간 양호함

3: 보통

2: 약간 나쁨

1: 나쁨

0: 매우 나쁨

(4 단계 평가) 10명의 패널리스트의 평가점 평균값

기준 평가의 평가점 평균값: 평가

5점 이상: ◎ 매우 우수함

3점 이상 5점 미만: ○ 우수함

1점 이상 3점 미만: △ 어느 쪽이라고도 말할 수 없음

1점 미만: × 특히 열악함

실시예 18, 비교예 5

〔스틱상 립스틱〕

표 4에 나타내는 배합의 스틱상 립스틱을 이하의 방법으로 제조하였다.

이산화티탄, 적색 201호를 실시예 15의 화장료용 원료의 일부에 첨가하고, 롤러로 처리하여 안료부를 제조하였다. 실시예 15의 화장료용 원료의 잔여부와 표4의 잔여 성분을 혼합하여 가열 용해시킨 후, 제조한 안료부를 첨가하여 호모 믹서에서 균일하게 분산시켰다. 분산물을 형틀에 유입시킨 후, 급냉시켜 스틱상 립스틱을 얻었다(실시예 18). 동일하게 하여 비교예 4의 화장료용 원료를 이용하여 스틱상 립스틱을 제조하였다(비교예 5). 각각에 대하여 강도 평가 및 관능 평가를 행한 결과를 표 5에 나타내었다.

표 5로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 화장료용 원료를 배합한 실시예 18의 스틱상 립스틱은 꺾임 강도가 우수하였고, 사용감에 대해서도 입술에 대하여 매끈하게 펴지고, 자연스러운 윤기감이 부여된 것이 확인되었다. 또한, 실시예 18의 스틱상 립스틱은 디펜타에리트리톨(1 몰)/2-에틸헥산산(6 몰)을 첨가한 비교예 5의 스틱상 립스틱와 비교하여 양호한 평가 결과였다.

실시예 19, 비교예 6

〔아이새도우 화장료〕

표 6에 나타내는 배합의 아이새도우 화장료를 이하의 방법으로 제조하였다.

산화티탄, 운모 티탄, 마이카, 군청, 흑산화철을 트리 2-에틸헥산글리세릴〔닛신 오일리오사 제조, 상품명: T.I.0〕에 첨가하고, 롤러로 처리하여 안료부를 제조하였다. 실시예 15의 화장료용 원료와 표 6의 잔여 성분을 혼합하여 가열 용해시킨 후, 제조된 안료부를 첨가하여 호모 믹서에서 균일하게 분산시켰다. 탈기한 후, 분산물을 형틀에 유입시켜 급냉시키고, 아이새도우 화장료를 얻었다(실시예 19). 동일하게 하여 비교예 1의 화장료용 원료를 이용하여 아이새도우 화장료를 제조하였다(비교예 6). 각각에 대하여 관능 평가를 행한 결과를 표 7에 나타내었다.

표 7로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 화장료용 원료를 배합한 실시예 19의 아이새도우 화장료는 윤기가 우수하고, 마무리감이 양호하였다. 또한, 실시예 19의 아이새도우 화장료는 말산디이소스테아릴을 첨가한 비교예 6의 아이새도우 화장료와 비교하더라도 동등 이상의 평가 결과였다.

실시예 20, 비교예 7

〔두발 화장료〕

표 8에 나타내는 배합의 두발 화장료를 이하의 방법으로 제조하였다.

실시예 11의 화장료용 원료, 유동 파라핀, 이소옥탄산세틸, 환원 라놀린을 균일하게 혼합하였다. 잔여 성분을 균일하게 혼합한 것에, 앞 공정에서 얻어진 혼합물을 첨가하면서 분산시켜 두발 화장료를 얻었다(실시예 20). 동일하게 하여 비교예 1의 화장료용 원료를 이용하여 두발 화장료를 제조하였다(비교예 7). 각각에 대하여 관능 평가를 행한 결과를 표 9에 나타내었다.

표 9로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 화장료용 원료를 배합한 실시예 20의 두발 화장료는 도포시의 펴짐이 가볍고, 자연스러운 윤기에 있어서 우수한 효과를 나타내는 것이고, 마무리 후 모발의 매끄러움도 양호하였다. 또한, 실시예 20의 두발 화장료는 말산디이소스테아릴을 첨가한 비교예 7의 두발 화장료와 비교하더라도 동등 이상의 평가 결과였다.

실시예 21, 비교예 8

〔유액〕

표 10에 나타내는 배합의 유액을 이하의 방법으로 제조하였다.

정제수에 1,3-부틸렌글리콜, PEG1500(보습제)을 첨가하여 70 ℃로 가열하여 수상(水相)을 제조하였다. 실시예 3의 화장료용 원료와 유성 성분을 혼합하고, 가열 용해 후, 잔여 성분을 첨가하여 70 ℃로 가열하여 유상(油相)을 제조하였다. 유상에 수상에 첨가하고, 호모 믹서에서 유화시켜 유화 입자를 균일하게 한 후, 탈기, 여과, 냉각시켜 유액을 얻었다(실시예 21). 동일하게 하여 비교예 1의 화장료용 원료를 이용하여 유액을 제조하였다(비교예 8). 각각에 대하여 관능 평가를 행한 결과를 표 11에 나타내었다.

표 11로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 화장료용 원료를 배합한 실시예 21의 유액은 피부에 대하여 자연스러운 윤기를 제공하고, 펴짐이 양호하며 유연성이 부여된 것이 확인되었다. 또한, 실시예 21의 유액은 말산디이소스테아릴을 첨가한 비교예 8의 유액과 비교하여 양호한 평가 결과였다.

실시예 22, 비교예 9

〔유중수계 핸드 크림〕

표 12에 나타내는 배합의 유중수계 핸드 크림을 이하의 방법으로 제조하였다.

실시예 5의 화장료용 원료, 스쿠알란, 바셀린, 옥타메틸시클로펜타실록산, 이소옥탄산세틸, 알킬 함유 폴리옥시알킬렌 변성 오르가노폴리실록산을 혼합하고, 거기에 실리카를 첨가하여 디스퍼 믹서에서 분산시켰다. 잔여 성분을 균일하게 혼합한 것을, 앞 공정에서 얻어진 혼합물에 첨가하면서 분산시켜 유중수형 핸드 크림을 얻었다(실시예 22). 동일하게 하여 비교예 2의 화장료용 원료를 이용하여 유중수계 핸드 크림을 제조하였다(비교예 9). 각각에 대하여 관능 평가를 행한 결과를 표 13에 나타내었다.

표 13으로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 화장료용 원료를 배합한 실시예 22의 유중수계 핸드 크림은 피부에 윤기를 주고, 매끄러운 펴짐을 가지며, 유연성이 부여된 것이 확인되었다. 또한, 실시예 22의 유중수계 핸드 크림은 트리메틸올프로판(1 몰)/2-에틸헥산산(3 몰)을 첨가한 비교예 9의 유중수계 핸드 크림과 비교하더라도 동등 이상의 평가 결과였다.

실시예 23, 비교예 10

〔크림상 수중유(水中油)형 선 블록료〕

표 14에 나타내는 배합의 크림상 수중유형 선 블록료를 이하의 방법으로 제조하였다.

실시예 8의 화장료용 원료에 산화티탄, 이소옥탄산세틸, 유동 파라핀, 모노올레산 소르비탄 폴리옥시에틸렌(20 몰), 세스퀴올레산 소르비탄, 스테아르산, 세토스테아릴알코올, 모노스테아르산 글리세릴, 수소 첨가 대두 인지질을 첨가하고, 70 ℃로 가열하면서 혼합하여 유상을 제조하였다. 잔여 성분을 70 ℃로 가열하고, 균일하게 혼합하여 수상을 제조하였다. 유상 중에 수상을 첨가하면서 호모 믹서에서 유화 후, 탈기, 여과, 냉각시켜 크림상 수중유형 선 블록료를 얻었다(실시예 23). 동일하게 하여 비교예 1의 화장료용 원료를 이용하여 크림상 수중유형 선 블록료를 제조하였다(비교예 10). 각각에 대하여 관능 평가를 행한 결과를 표 15에 나타내었다.

표 15로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 화장료용 원료를 배합한 실시예 23의 크림상 수중유형 선 블록료는 피부에 자연스러운 윤기를 주고, 도포시의 넓게 펴짐이 우수한 선 블록 화장료였다. 또한, 실시예 23의 크림상 수중유형 선 블록료는 말산디이소스테아릴을 첨가한 비교예 10의 크림상 수중유형 선 블록료와 비교하더라도 동등 이상의 평가 결과였다.

실시예 24, 비교예 11

〔미조료〕

표 16에 나타내는 배합의 미조료를 이하의 방법으로 제조하였다.

실시예 1의 화장료용 원료에 아세트산에틸, 아세트산부틸, 이소프로필알코올을 첨가하여 균일하게 혼합한 후, 잔여 성분을 첨가하고, 균일하게 혼합하여 미조료를 얻었다(실시예 24). 동일하게 하여 비교예 1의 화장료용 원료를 이용하여 미조료를 제조하였다(비교예 11). 각각에 대하여 관능 평가를 행한 결과를 표 17에 나타내었다.

표 17로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 화장료용 원료를 배합한 실시예 24의 미조료는 윤기, 펴짐이 양호하였다. 또한, 실시예 24의 미조료는 말산디이소스테아릴을 첨가한 비교예 11의 미조료와 비교하더라도 동등 이상의 평가 결과였다.

Claims

삭제
하기 (A)와 (B)와 (C)의 에스테르 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료용 원료.

(A): 벤조산

(B): 네오펜틸글리콜, 디네오펜틸글리콜, 트리네오펜틸글리콜, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 트리트리메틸올프로판, 디펜타에리트리톨 및 트리펜타에리트리톨로 이루어지는 군에서 선택되는 알코올

(C): 탄소수 8 내지 22의 포화 직쇄 지방산 및 탄소수 8 내지 18의 포화 분지 지방산에서 선택되는 1종 이상
제2항에 있어서, 상기 (C)는 2-에틸헥산산 및 이소스테아르산에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 화장료용 원료.
제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 에스테르 화합물이 벤조산 함유율(％)이 20 ％ 이상 65 ％ 이하인 것을 특징으로 하는 화장료용 원료.
삭제
제2항 또는 제3항에 기재된 화장료용 원료를 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료.
제6항에 있어서, 상기 화장료가 립스틱, 아이새도우, 두발 화장료, 유액, 유중수계 핸드 크림, 크림상 수중유형 선 블록(sun block)료 또는 미조료(美爪料; manicure)인 것을 특징으로 하는 화장료.