KR101193428B1

KR101193428B1 - 광학 필름, 및 그 제조 방법

Info

Publication number: KR101193428B1
Application number: KR1020100026645A
Authority: KR
Inventors: 도시유키 이이다; 도모유키 히라야마; 유타카 오모리; 미유키 구로기; 히사에 시미즈; 준이치 나가세
Original assignee: 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date: 2009-04-16
Filing date: 2010-03-25
Publication date: 2012-10-24
Also published as: KR20100114824A; JP2010250113A; US8518552B2; JP5383299B2; US20100265579A1

Abstract

과제
높은 복굴절 발현성 및 투명성을 가지며, 또한 복굴절의 파장 분산을 제어할 수 있는 광학 필름을 제공한다.
해결 수단
일반식 (I) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머와, 일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머를 함유하는 광학 필름에 의해 상기 과제가 해결된다. 상기 복수의 에스테르계 폴리머는 상용성을 갖기 때문에, 본 발명의 광학 필름은 투명성이 우수하고, 폴리머의 함유비를 변경함으로써 파장 분산을 조정할 수 있다.

Description

광학 필름, 및 그 제조 방법{OPTICAL FILM AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME}

본 발명은 액정 표시 장치의 광학 보상 등에 사용되는 광학 필름 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 또, 본 발명은 그 광학 필름을 사용한 편광판에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 이들 광학 필름 및/또는 편광판을 사용한, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, PDP 등의 화상 표시 장치에 관한 것이다.

종래부터, 액정 표시 장치의 광학 보상 등을 목적으로 하여, 복굴절을 갖는 폴리머 재료가 사용되고 있다. 이러한 광학 보상 재료로는, 예를 들어 플라스틱 필름을 연신하거나 하여 복굴절을 부여한 것이 널리 사용되고 있다. 또한 최근, 방향족 폴리이미드나, 방향족 폴리에스테르 등의, 고복굴절 발현성 폴리머를 기재 상에 도포한 광학 보상 재료가 개발되어 있다 (예를 들어 특허문헌 1, 2 참조).

이러한 방향족 폴리머는, 내열성이나 기계적 강도가 우수하다는 특징을 갖는 한편, 유기 용매에 대한 용해성이 부족한 경향이 있다. 그 때문에, 방향족 폴리머를 주성분으로 하는 광학 필름은, 일반적으로는 폴리머를 극성이 큰, 즉 용해성이 높은 용매에 용해시켜 용액으로 한 후, 그 용액을 금속 드럼이나 금속 벨트, 혹은 기재 필름 등의 위에 도공하고 건조시켜 제막된다. 그러나, 이러한 제막 방법에서는, 그 폴리머를 용해할 수 있는 용매의 선택지가 한정되기 때문에, 건조 조건이 제한되거나 고가의 설비가 필요해지거나 하는 경우가 있었다. 또, 도공에 사용되는 기재는 용매에 용해되지 않을 것이 요구되기 때문에, 사용 가능한 기재가 제한되어 있었다. 이러한 관점에서, 톨루엔이나 아세트산 에틸 등의 극성이 낮은 용매에 가용이며, 또한 광학 보상 재료로서 기능할 수 있는 복굴절 발현성을 구비하는 폴리머의 개발이 요구되고 있다.

또, 액정 표시 장치의 광학 보상 등을 목적으로 하는 광학 필름에서는, 가공성, 내열성, 기계 강도, 고복굴절 발현성 등에 추가하여, 복굴절의 파장 분산을 적절히 조정할 수 있을 것이 요구되는 경우가 있다. 예를 들어, 액정 셀의 복굴절을 보상하는 광학 필름에서는, 그 액정 셀의 복굴절의 파장 분산과 합치하는 파장 분산 특성을 가질 것이 요구되는 경우가 있다. 그러나, 액정 셀의 복굴절의 파장 분산 특성은 액정 셀마다 상이하므로, 이것을 적절히 보상하기 위해서는, 액정 셀의 종류마다 광학 필름의 복굴절의 파장 분산도 조정할 필요가 있다.

WO 94/24191 국제공개팜플렛 일본 공개특허공보 2004-070329호

광학 필름의 복굴절의 파장 분산은, 광학 필름을 구성하는 폴리머 고유의 값이기 때문에, 파장 분산을 조정하기 위해서는, 폴리머의 구조 그 자체를 변경할 필요가 있다. 그러나, 액정 셀의 종류에 맞추어 각각 폴리머를 새로 설계하는 것은 비현실적이라고 할 수 있다. 한편, 복굴절과 두께의 곱으로 나타내는 리타데이션에는 가성성 (加成性) 이 성립되기 때문에, 파장 분산 특성이 상이한 복수의 폴리머를 조합하여 파장 분산을 조정할 수 있다. 이와 같이 복수의 폴리머를 조합하는 방법으로서, 상이한 폴리머로 이루어지는 복수의 필름을 적층시키는 방법을 들 수 있는데, 복수의 필름의 제조 및 그들을 적층시키기 위한 접착제 등의 적층 수단이 필요해지므로, 비용 증가로 이어지는 경향이 있다.

이러한 관점에서, 복수의 폴리머를 혼합하여 1 장의 광학 필름으로서 파장 분산을 조정할 수 있는 것이 바람직하다고 할 수 있다. 그러나, 복수의 폴리머를 혼합하는 경우에는, 용제에 대한 용해성뿐만 아니라, 폴리머의 상용성을 고려할 필요가 있다. 즉, 상용하는 폴리머의 조합은 한정되어 있기 때문에, 복수의 폴리머를 혼합하여 광학 필름을 제조한 경우에는, 필름의 투명성이나 기계 강도가 떨어지는 등의 문제를 일으키기 쉽다.

이들 종래 기술을 감안하여, 본 발명은 복수의 상용계 폴리머의 조합에 의해 파장 분산을 조정할 수 있고, 또한 액정 표시 장치 등의 광학 보상에 사용할 수 있는 투명성을 갖는 광학 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본원 발명자들은 예의 검토한 결과, 소정 구조의 폴리에스테르가 상용성을 가지며, 또한 복굴절의 파장 분산을 조정할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명에 이르렀다. 즉, 본 발명은 하기 일반식 (I) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머와, 하기 일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머를 함유하는 광학 필름에 관한 것이다.

[화학식 1]

일반식 (I) 에 있어서, A₁, B₁, D₁ 및 E₁ 은, 각각 치환기를 나타내고, a₁, b₁, d₁ 및 e₁ 은, 각각 대응하는 A₁, B₁, D₁ 및 E₁ 의 치환수 (0 ～ 4 까지의 정수) 를 나타낸다. A₁, B₁, D₁ 및 E₁ 은, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 탄소수 1 ～ 6 의 알킬기, 또는 치환 혹은 무치환 아릴기를 나타낸다.

X₁ 은, 공유 단결합, 불포화 이중 결합, 불포화 삼중 결합, CH₂ 기, CHR 기, CR₂ 기, C(CZ₃)₂ 기, CO 기, O 원자, S 원자, SO₂ 기, Si(CH₂CH₃)₂ 기, 및 N(CH₃) 기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 원자 또는 기를 나타내고, R 은, 각각 독립적으로 탄소수 1 ～ 6 의 직사슬 혹은 분지의 알킬기, 또는 치환 혹은 무치환의 아릴기를 나타내고, Z 는 할로겐이다.

p₁ 및 q₁ 은, 각각 1 ～ 3 까지의 정수를 나타낸다.

[화학식 2]

일반식 (II) 에 있어서, A₂, D₂ 및 E₂ 는, 각각 치환기를 나타내고, a₂, d₂및 e₂ 는, 각각 대응하는 A₂, D₂ 및 E₂ 의 치환수 (0 ～ 4 까지의 정수) 를 나타낸다. A₂, D₂ 및 E₂ 는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 탄소수 1 ～ 6 의 알킬기, 또는 치환 혹은 무치환 아릴기를 나타낸다.

X₂ 는, 공유 단결합, 불포화 이중 결합, 불포화 삼중 결합, CH₂ 기, CHR 기, CR₂ 기, C(CZ₃)₂ 기, CO 기, O 원자, S 원자, SO₂ 기, Si(CH₂CH₃)₂ 기, 및 N(CH₃) 기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 원자 또는 기를 나타내고, R 은, 각각 독립적으로 탄소수 1 ～ 6 의 직사슬 혹은 분지의 알킬기, 또는 치환 혹은 무치환의 아릴기를 나타내고, Z 는 할로겐이다.

p₂ 및 q₂ 는, 각각 1 ～ 3 까지의 정수를 나타내고, r₂ 는 1 또는 2 이다.

본 발명의 광학 필름에 있어서는, 상기 일반식 (I) 이 하기 일반식 (III) 이며, 또한 상기 일반식 (II) 가 하기 일반식 (IV) 인 것이 바람직하다.

[화학식 3]

일반식 (III) 에 있어서, A₁ 그리고 B₁, 및 a₁ 그리고 b₁ 은, 모두 상기 일반식 (I) 과 동일하다.

R¹ 및 R² 는, 각각 독립적으로 탄소수 1 ～ 10 의 직사슬 혹은 분지의 알킬기, 또는 치환 혹은 무치환의 아릴기를 나타낸다.

R³ ～ R⁶ 은, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ～ 6 의 직사슬 혹은 분지의 알킬기, 탄소수 5 ～ 10 의 시클로알킬기, 또는 치환 혹은 무치환의 아릴기를 나타낸다 (단, R³ ～ R⁶ 중, 적어도 어느 1 개는 수소 원자가 아니다).

[화학식 4]

일반식 (IV) 에 있어서, A₂, 및 a₂ 는, 모두 상기 일반식 (II) 와 동일하다.

R⁷ 및 R⁸ 은, 각각 독립적으로 탄소수 1 ～ 10 의 직사슬 혹은 분지의 알킬기, 또는 치환 혹은 무치환의 아릴기를 나타낸다.

R⁹ ～ R¹² 는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ～ 6 의 직사슬 혹은 분지의 알킬기, 탄소수 5 ～ 10 의 시클로알킬기, 또는 치환 혹은 무치환의 아릴기를 나타낸다 (단, R⁹ ～ R¹² 중, 적어도 어느 1 개는 수소 원자가 아니다).

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기 일반식 (IV) 에 있어서의 R⁷ 이 메틸기이며, 또한 R⁸ 이 탄소수 2 ～ 4 인 직사슬 혹은 분지의 알킬기인 것이 바람직하다. 일반식 (IV) 에 있어서의 R⁹ ～ R¹² 가, 각각 독립적으로 탄소수 1 ～ 4 인 직사슬 혹은 분지의 알킬기인 것이 바람직하다.

또, 상기 일반식 (III) 에 있어서의 R¹ 이 메틸기이며, 또한 R² 가 탄소수 2 ～ 4 인 직사슬 혹은 분지의 알킬기인 것이 바람직하다. 일반식 (III) 에 있어서의 R³ ～ R⁶ 이, 각각 독립적으로 탄소수 1 ～ 4 인 직사슬 혹은 분지의 알킬기인 것이 바람직하다.

또한, 본 발명의 광학 필름은, 상기 일반식 (I) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머와, 상기 일반식 (II) 로 나타내는 폴리머의 중량비가 1 : 99 ～ 99 : 1 인 것이 바람직하다.

또한, 본 발명의 광학 필름은, 두께가 20 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.

또, 본 발명의 광학 필름은, 파장 550 ㎚ 에 있어서의 두께 방향 리타데이션 (Rth (550)) 과 파장 450 ㎚ 에 있어서의 두께 방향 리타데이션 (Rth (450)) 의 비 (Rth (450)/Rth (550)) 가 1.02 ～ 2.00 인것이 바람직하고, 1.04 ～ 1.18 인 것이 보다 바람직하며, 1.06 ～ 1.16 인 것이 더욱 바람직하다. 본 발명의 광학 필름은 헤이즈값이 1.0 ％ 이하인 것이 바람직하다. 또, 필름 두께 방향의 굴절률 (nz) 이, 필름 면내의 굴절률의 최대값 (nx) 보다 작은 것이 바람직하다.

본 발명의 광학 필름의 제조 방법의 일 양태에 있어서는, 상기 일반식 (I) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머와, 상기 일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머와, 용매를 함유하는 용액을 조제하는 공정, 그 용액을 기재의 표면에 도포하는 공정, 도포된 용액을 건조시키는 공정을 갖는 것이 바람직하다.

또, 본 발명은 상기 광학 필름과 편광자를 포함하는 편광판에 관한 것이며, 또한 상기 광학 필름 및 편광판 중 어느 1 개를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.

상기 일반식 (I) 의 반복 단위를 갖는 폴리머와, 상기 일반식 (II) 의 반복 단위를 갖는 폴리머는, 모두 용제에 대한 용해성이 우수하고, 또한 높은 복굴절 발현성을 가지며, 또한 상용성을 갖는다. 그 때문에, 본 발명의 광학 필름은 투명성이 우수하고, 또한 얇은 두께로 원하는 리타데이션을 발현할 수 있다. 또한, 파장 분산이 상이한 폴리머를 조합하는 것에 의해 폴리머의 함유비를 변경하는 것만으로, 복굴절의 파장 분산을 적절히 조정할 수 있기 때문에, 액정 셀의 종류가 상이한 경우에도 적절한 광학 보상을 실현할 수 있다.

도 1 은 본 발명의 편광판의 구성 단면 (斷面) 의 일례를 나타내는 개념도이다.
도 2 는 본 발명의 편광판의 구성 단면의 일례를 나타내는 개념도이다.
도 3 은 본 발명의 편광판의 구성 단면의 일례를 나타내는 개념도이다.
도 4 는 본 발명의 편광판의 구성 단면의 일례를 나타내는 개념도이다.

본 발명의 광학 필름은, 하기 일반식 (I) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머와, 하기 일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머를 포함한다.

[화학식 5]

[화학식 6]

일반식 (I), (II) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머 각각에 대하여 순서대로 설명한다.

먼저, 일반식 (I) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머에 대하여 설명한다. 상기 일반식 (I) 에 있어서, A₁, B₁, D₁ 및 E₁ 은, 벤젠 고리를 치환하는 치환기를 나타내고, a₁, b₁, d₁ 및 e₁ 은, 각각 대응하는 A₁, B₁, D₁ 및 E₁ 의 치환수 (0 ～ 4 까지의 정수) 를 나타낸다. A₁, B₁, D₁ 및 E₁ 은, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 탄소수 1 ～ 6 의 알킬기, 또는 치환 혹은 무치환 아릴기를 나타낸다. X₁ 은, 공유 단결합, 불포화 이중 결합, 불포화 삼중 결합, CH₂ 기, CHR 기, CR₂ 기, C(CZ₃)₂ 기, CO 기, O 원자, S 원자, SO₂ 기, Si(CH₂CH₃)₂ 기, 및 N(CH₃) 기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 원자 또는 기를 나타내고, R 은, 각각 독립적으로 탄소수 1 ～ 6 의 직사슬 혹은 분지의 알킬기, 또는 치환 혹은 무치환의 아릴기를 나타내고, Z 는 할로겐이다. p₁ 및 q₁ 은, 각각 1 ～ 3 까지의 정수를 나타낸다.

폴리머의 용해성 및 복굴절의 발현성의 관점에서는, 상기 일반식 (I) 중에서도, p₁ ＝ q₁ ＝ 1 이며, X₁ 이 CR₂ 기, 즉 직사슬 혹은 분지의 알킬렌기인 것이 바람직하게 사용된다. 이러한 모노머 단위로서, 하기 일반식 (III) 으로 나타내는 것이 바람직하게 채용된다.

[화학식 7]

상기 일반식 (III) 에 있어서, A₁ 그리고 B₁, 및 a₁ 그리고 b₁ 은, 모두 상기 일반식 (I) 과 동일하다. R¹ 및 R² 는, 각각 독립적으로 탄소수 1 ～ 10 의 직사슬 혹은 분지의 알킬기, 또는 치환 혹은 무치환의 아릴기를 나타낸다. R³ ～ R⁶ 은, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ～ 6 의 직사슬 혹은 분지의 알킬기, 탄소수 5 ～ 10 의 시클로알킬기, 또는 치환 혹은 무치환의 아릴기를 나타낸다. 단, R³ ～ R⁶ 중, 적어도 어느 1 개는 수소 원자가 아니다.

상기 A₁, B₁, R¹ ～ R⁶ 이 무치환 아릴기인 경우, 그 무치환 아릴기로는, 예를 들어 페닐기, 비페닐기, 터페닐기, 나프틸기, 비나프틸기, 트리페닐페닐기 등을 들 수 있다. 또, 상기 A₁, B₁, R¹, R² 가 치환 아릴기인 경우, 상기 무치환 아릴기의 수소 원자중 1 개 이상이, 탄소수 1 ～ 10 의 직사슬 혹은 분지의 알킬기, 탄소수 1 ～ 10 의 직사슬 혹은 분지의 알콕시기, 니트로기, 아미노기, 실릴기, 할로겐, 할로겐화 알킬기, 또는 페닐기로 치환된 것 등을 들 수 있다. 또, R¹ ～ R⁶ 이 할로겐 원자인 경우의 할로겐 원자로는, 불소, 염소, 브롬, 요오드 등을 들 수 있다. 또, R³ ～ R⁶ 이 탄소수 5 ～ 10 의 시클로알킬기인 경우, 고리 상에는 탄소수 1 ～ 5 의 직사슬 또는 분지의 알킬기를 1 또는 2 개 이상 갖고 있어도 된다. 구체적으로는, 시클로알킬기로서 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기, 시클로데실기, 혹은 이들 고리 상에 메틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기 등의 치환기를 갖는 탄소수 5 ～ 10 의 시클로알킬기를 들 수 있다.

상기 일반식 (III) 에 있어서는, R¹ 및 R² 가, 각각 독립적으로 탄소수 1 ～ 4 인 직사슬 혹은 분지의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도, R¹ 이 메틸기이며, R² 가 탄소수 2 ～ 4 인 직사슬 혹은 분지의 알킬기인 것이 바람직하고, R² 가 에틸기 또는 이소부틸기인 것이 특히 바람직하다. R¹ 및/또는 R² 의 알킬기의 탄소수가 지나치게 많으면, 광학 필름의 복굴절의 발현성이 저하되거나 내열성 (유리 전이 온도) 이 저하되거나 하는 경우가 있다. 또, R¹ 및 R² 의 탄소수가 지나치게 적으면, 용제에 대한 용해성이 떨어지는 경우가 있다.

또, 상기 일반식 (III) 에 있어서는, R³ 및 R⁵ 가 탄소수 1 ～ 4 인 직사슬 혹은 분지의 알킬기이며, 또한 R⁴ 및 R⁶ 이 수소 원자 또는 탄소수 1 ～ 4 인 직사슬 혹은 분지의 알킬기인 것이 바람직하고, R³ ～ R⁶ 의 모두가 탄소수 1 ～ 4 인 직사슬 혹은 분지의 알킬기인 것이 보다 바람직하며, R³ ～ R⁶ 의 모두가 메틸기인 것이 특히 바람직하다.

이와 같이, R¹ ～ R⁶ 으로서 소정의 치환기를 가짐으로써, 폴리머는 용제에 대하여 높은 용해성을 갖는다. 이와 같이, 치환기의 탄소수에 따라 용해성이 상이한 원인은 확실하지는 않지만, 페닐기가 치환기를 가짐으로 인해 입체 장해가 생겨 방향족 고리끼리의 스태킹이 해소되기 때문으로 추정된다.

다음으로, 일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머에 대하여 설명한다. 상기 일반식 (II) 에 있어서, A₂, D₂ 및 E₂ 는, 각각 치환기를 나타내고, 일반식 (I) 에 대하여 상기한 A₁, D₁ 및 E₁ 과 각각 동일하다. a₂, d₂ 및 e₂ 는, 각각 대응하는 A₂, D₂ 및 E₂ 의 치환수 (0 ～ 4 까지의 정수) 를 나타낸다. X₂ 는 일반식 (I) 에 대하여 상기한 X₁ 과 동일하다. p₂ 및 q₂ 는, 각각 1 ～ 3 까지의 정수를 나타내고, r₂ 는 1 또는 2 이다.

폴리머의 용해성 및 복굴절의 발현성의 관점에서는, 상기 일반식 (I) 중에서도, p₂ ＝ q₂ ＝ 1 이며, X₂ 가 CR₂ 기, 즉 직사슬 혹은 분지의 알킬렌기인 것이 바람직하게 사용된다. 이러한 모노머 단위로서 하기 일반식 (IV) 나 일반식 (V) 로 나타내는 것이 바람직하게 사용된다.

[화학식 8]

[화학식 9]

상기 일반식 (IV), (V) 에 있어서, A₂ 및 a₂ 는 모두 상기 일반식 (II) 와 동일하다. 또, B₂ 및 b₂ 는, 각각 A₂ 및 a₂ 와 동일하다. R⁷ ～ R¹² 는, 각각 상기 일반식 (III) 의 R¹ ～ R⁶ 과 동일하다.

일반식 (IV) 의 반복 단위를 갖는 폴리머는, D ＝ Rth (450)/Rth (550) 로 나타내는 파장 550 ㎚ 의 복굴절에 대한 파장 450 ㎚ 의 복굴절의 비가, 상기 일반식 (I) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머에 비해 작은 경향이 있다. 그 때문에, 광학 필름의 복굴절의 파장 분산을 광범위하게 조정한다는 관점에서는, 일반식 (IV) 의 반복 단위를 갖는 폴리머를 사용하는 것이 바람직하다.

또, 일반식 (IV) 의 반복 단위를 갖는 폴리머를 사용하는 경우, 하기 일반식 (VI) 로 나타내는 테레프탈 유래의 구조를 갖는 것이나, 하기 일반식 (VII) 로 나타내는 테레프탈산 유래와 이소프탈산 유래의 구조를 갖는 공중합체가 바람직하다. 특히, 범용 용제에 대한 용해성을 높인다는 관점에서는, 하기 일반식 (VII) 로 나타내는 구조를 갖는 공중합체가 바람직하다.

[화학식 10]

[화학식 11]

상기 일반식 (VI), (VII) 에 있어서, A₂ 그리고 a₂ 및 R⁷ ～ R¹² 는, 상기 일반식 (IV) 와 동일하고, A'₂ 그리고 a'₂ 및 R'⁷ ～ R'¹² 는, 각각 A₂ 그리고 a₂ 및 R⁷ ～ R¹² 와 동일하다. l, m 은, 공중합체에 있어서의 모노머 비율 (몰비) 을 나타낸다. 또, 상기 일반식 (VII) 에 있어서는, 편의상, 폴리머를 블록 공중합체로 나타내고 있는데, 폴리머의 시퀀스는 특별히 한정되지 않으며, 블록 공중합체, 랜덤 공중합 중 어느 것이어도 된다.

상기 일반식 (VII) 로 나타내는 폴리에스테르에 있어서, 산 성분 중 테레프탈산 유래 구조의 함유율, 즉 l/(l ＋ m) 의 값은, 0.3 이상인 것이 바람직하고, 0.5 이상인 것이 보다 바람직하며, 0.6 이상인 것이 더욱 바람직하다. l/(l ＋ m) 의 값이 과도하게 작으면, 폴리머의 용제에 대한 용해성은 우수하지만, 광학 필름으로 한 경우에 내열성이 불충분해지거나 복굴절 발현성이 떨어지거나 하는 경우가 있다.

이상, 일반식 (I), 일반식 (II) 의 반복 단위를 갖는 폴리머에 대하여 설명했는데, 이들 에스테르계 폴리머는, 상기한 것 이외의 반복 단위를 함유해도 된다. 각 에스테르계 폴리머에 있어서의, 상기 일반식 (I), (II) 의 구조의 함유량은, 폴리머의 용해성 및 복굴절 발현성을 유지할 수 있는 범위이면 특별히 제한되지 않는다. 2 개의 폴리머를 혼합함으로써 파장 분산을 조정한다는 관점에서는, 일반식 (I) 의 반복 단위를 갖는 폴리머에 있어서의 일반식 (I) 의 구조의 함유량은 30 몰％ 이상인 것이 바람직하고, 50 몰％ 이상인 것이 보다 바람직하며, 70 몰％ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또, 일반식 (II) 의 반복 단위를 갖는 폴리머에 있어서의 일반식 (II) 의 구조의 함유량은 50 몰％ 이상인 것이 바람직하고, 70 몰％ 이상인 것이 보다 바람직하며, 80 몰％ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 이와 같이, 각각의 폴리머가 소정의 모노머비를 가짐으로 인해, 일반식 (I) 의 반복 단위를 갖는 폴리머와 일반식 (II) 가 갖는 복굴절의 파장 분산에 차를 갖게 하여, 이들 양자를 포함하는 광학 필름의 파장 분산을 적절히 조정할 수 있게 된다.

일반식 (I), 일반식 (II) 의 반복 단위를 갖는 폴리머의 중량 평균 분자량 (Mw) 은, 3,000 이상인 것이 바람직하고, 5,000 ～ 1,000,000 인 것이 보다 바람직하며, 10,000 ～ 500,000 인 것이 더욱 바람직하고, 50,000 ～ 350,000 인 것이 가장 바람직하다. 분자량이 과도하게 작으면, 필름 강도가 불충분해지거나 고온 환경에 노출된 경우에 광학 특성이 크게 변화되는 경우가 있다. 또, 분자량이 과도하게 크면, 용제에 대한 용해성이 저하되는 등, 광학 필름의 생산성이 떨어지는 경우가 있다.

또, 일반식 (I), 일반식 (II) 의 반복 단위를 갖는 폴리머의 유리 전이 온도는 특별히 제한되지 않지만, 광학 필름의 내열성의 관점에서는, 100 ℃ 이상인 것이 바람직하고, 120 ℃ 이상인 것이 보다 바람직하며, 150 ℃ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또, 성형성이나 연신 등의 가공성의 관점에서는, 유리 전이 온도는 300 ℃ 이하인 것이 바람직하고, 250 ℃ 이하인 것이 더욱 바람직하다.

본 발명의 광학 필름에 있어서, 상기 일반식 (I) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머와, 상기 일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머는 상용성을 갖기 때문에, 양자의 함유비는 임의로 설정할 수 있다. 그 중량비는 예를 들어, 1 : 99 ～ 99 : 1, 바람직하게는 5 : 95 ～ 95 : 5, 더욱 바람직하게는 10 : 90 ～ 90 : 10 의 범위에서, 원하는 파장 분산이 되도록 조정하면 된다.

상기 일반식 (I) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머는, 상기 일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머에 비해, 파장 550 ㎚ 에 있어서의 두께 방향 리타데이션 (Rth (550)) 과 파장 450 ㎚ 에 있어서의 두께 방향 리타데이션 (Rth (450)) 의 비 (D ＝ Rth (450)/Rth (550)) 가 큰 경향이 있다. 그 때문에, 일반식 (I) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머의 함유량을 상대적으로 크게 함으로써, Rth (450)/Rth (550) 은 커지는 경향이 있고, 일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머의 함유량을 상대적으로 크게 함으로써, Rth (450)/Rth (550) 은 작아지는 경향이 있다. 본 발명의 광학 필름에 있어서는, Rth (450)/Rth (550) 이 1.02 ～ 2.00 인 것이 바람직하고, 1.04 ～ 1.18 인 것이 보다 바람직하며, 1.06 ～ 1.16 인 것이 더욱 바람직하다.

또한, 두께 방향의 리타데이션 (Rth) 은, 측정 파장에 있어서, 광학 필름의 면 내의 굴절률이 최대가 되는 방향, 즉 지상축 방향의 굴절률을 nx, 두께 방향의 굴절률을 nz 로 했을 때, 두께 방향의 복굴절 (Δnxz ＝ nx - nz) 과 두께 (d) 의 곱 (Δnxz × d) 으로 나타낸다.

또, 본 발명의 광학 필름에는, 필름 두께 방향의 굴절률 (nz) 이, 필름 면내의 굴절률의 최대값 (nx) 보다 작은 것이 바람직하다. 또, 파장 550 ㎚ 에 있어서의 두께 방향의 복굴절은, 0.01 이상인 것이 바람직하고, 0.012 ～ 0.07 인 것이 보다 바람직하며, 0.015 ～ 0.055 인 것이 더욱 바람직하다. 이러한 광학 특성을 가짐으로써, 그 광학 필름은 액정 표시 장치의 광학 보상 등에 적합하게 사용할 수 있다.

또한, 본 발명의 광학 필름의 두께는 특별히 제한되지 않으며, 자기 지지성을 갖는 필름이어도 되고, 두께가 얇은 코팅막이어도 되는데, 상기 에스테르계 폴리머의 복굴절의 발현성이 높다는 면에서, 두께가 20 ㎛ 이하인 코팅막이어도, 액정 표시 장치의 광학 보상 등의 용도에 충분한 리타데이션을 갖는 광학 필름으로 할 수 있다.

또, 광학 필름을 액정 표시 장치의 광학 보상 등의 용도에 사용한다는 관점에서는, 투명성이 높은 것이 바람직하고, 헤이즈는 1.0 ％ 이하인 것이 바람직하다. 본 발명의 광학 필름은, 상기 복수의 에스테르계 폴리머가 상용성을 갖기 때문에, 헤이즈를 낮게 유지할 수 있다.

다음으로, 본 발명의 광학 필름을 구성하는 폴리머의 제조 방법의 예를 설명한다. 일반식 (I), (II) 의 반복 단위를 갖는 에스테르계 폴리머의 제조 방법은 특별히 제한되지 않고, 공지된 방법을 사용할 수 있다. 일반적으로는, 대응하는 비스페놀 화합물과 디카르복실산 화합물, 혹은 그 유도체로부터 중축합시켜 얻어진다.

일반적으로 중축합 방법으로는, 탈아세트산에 의한 용융 중축합법, 탈페놀에 의한 용융 중축합법, 디카르복실산 화합물을 산디클로라이드로서 유기 염기를 사용하여 폴리머가 가용이 되는 유기 용매계에서 실시하는 탈염산 균일 중합법, 디카르복실산 클로라이드와 비스페놀을 알칼리 수용액과 수 (水) 비혼화성 유기 용매의 2 상계에서 중합하는 계면 중축합법, 비스페놀 화합물과 디카르복실산을 그대로 사용하고, 축합제를 사용하여 반응계 중에서 활성 중간체를 생성시키는 직접 중축합법 등 여러 가지가 알려져 있다. 그 중에서도 투명성이나 내열성, 고분자량화의 관점에서, 계면 중축합법, 또는 탈염산 균일 중합법에 의해 중합하는 것이 바람직하다.

계면 중축합법에 의해 에스테르계 폴리머를 중합하는 경우에는, 모노머 (비스페놀 및 디카르복실산 클로라이드), 유기 용매, 알칼리, 촉매 등이 사용된다.

디카르복실산 클로라이드로는, 상기 일반식 (I) 의 구조를 갖는 폴리에스테르를 얻는 경우에는, 4,4'-스틸벤디카르복실산 클로라이드, 혹은 4,4'-스틸벤디카르복실산 클로라이드의 방향족 고리에, 상기 일반식 (I), 혹은 일반식 (III) 에 있어서의, A₁, B₁ 의 예로서 나타낸 치환기를 갖는 것 등을 들 수 있다. 또, 상기 일반식 (II) 의 구조를 갖는 폴리에스테르를 얻는 경우에는, 테레프탈산 클로라이드, 이소프탈산 클로라이드, 4,4'-비페닐디카르복실산 클로라이드, 혹은 이들 화합물의 방향족 고리에, 상기 일반식 (II), 혹은 일반식 (IV) ~ (VII) 에 있어서의, A₂, A₂', B₂ 의 예로서 나타낸 치환기 등을 갖는 것 등을 사용할 수 있다.

비스페놀로는 2,2-비스(3-메틸-4-하이드록시페닐)프로판, 2,2-비스(3,5-디메틸-4-하이드록시페닐)프로판, 2,2-비스(3-메틸-4-하이드록시페닐)부탄, 2,2-비스(3-메틸-4-하이드록시페닐)-4-메틸펜탄, 2,2-비스(3-sec-부틸-4-하이드록시페닐)프로판, 2,2-비스(3-시클로헥실-4-하이드록시페닐)프로판, 2,2-비스(4-하이드록시페닐)부탄, 2,2-비스(4-하이드록시페닐)-4-메틸펜탄, 3,3-비스(4-하이드록시페닐)펜탄, 2,2-비스(4-하이드록시페닐)헥산, 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-1-페닐메탄, 비스(4-하이드록시페닐)디페닐메탄 등을 들 수 있다. 또한, 상기한 것 이외에도, 대응하는 케톤과 페놀 유도체를, 산촉매하에서 반응시키는 등의 공지된 방법에 의해, 상기 에스테르계 폴리머를 제조하기 위한 모노머로서의 비스페놀을 얻을 수 있다.

중합 반응에 사용하는 유기 용제로는, 특별히 한정되지 않지만, 물과의 혼화성이 낮으며, 또한 에스테르계 폴리머를 용해하는 것이 바람직하고, 디클로로메탄, 클로로포름, 1,2-디클로로에탄 등의 할로겐계 용제, 혹은 아니솔 등을 적합하게 사용할 수 있다. 또, 이들 용제를 2 종 이상 혼합하여 사용할 수도 있다.

알칼리로는 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 수산화 리튬 등을 사용할 수 있다. 알칼리 사용량으로는, 일반적으로 비스페놀 모노머의 2 ～ 5 몰배 (1 ～ 2.5 몰 당량) 이다.

촉매로는, 상간 이동 촉매를 사용하는 것이 바람직하고, 예를 들어 테트라부틸암모늄브로마이드, 트리옥틸메틸암모늄클로라이드, 벤질트리에틸암모늄클로라이드 등의 제4급 암모늄염, 테트라페닐포스포늄클로라이드, 트리페닐메틸포스포늄클로라이드 등의 제4급 포스포늄염, 폴리에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 폴리에틸렌글리콜디메틸에테르, 디벤조-18-크라운-6, 디시클로헥실-18-크라운-6 등의 폴리에틸렌옥시드 화합물 등을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 반응 후의 촉매의 제거 등의 취급 용이성 면에서 테트라알킬암모늄할라이드류가 바람직하게 사용된다. 또, 그 외에 필요에 따라, 산화 방지제나 분자량 조정제 등을 임의로 사용할 수 있다.

에스테르계 폴리머의 분자량을 조정하는 방법으로는, 수산기와 카르복실기의 관능기비를 변경하여 중합하는 방법이나, 분자량 조정제로서 1 관능의 물질을 중합시에 첨가하는 방법을 들 수 있다. 여기서 말하는 분자량 조정제로서 사용되는 1 관능 물질로는 페놀, 크레졸, p-tert-부틸페놀 등의 1 가 페놀류, 벤조산 클로라이드, 메탄술포닐클로라이드, 페닐클로로포르메이트 등의 1 가 산클로라이드류, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, 펜탄올, 헥사놀, 도데실알코올, 스테아릴알코올, 벤질알코올, 페네틸알코올 등의 1 가의 알코올류 등을 들 수 있다. 또, 중합 반응 후에 1 가 산클로라이드를 반응시킴으로써 말단 페놀을 밀봉할 수 있다. 말단을 밀봉함으로써, 페놀의 산화 착색을 억제할 수 있어 적합하게 사용할 수 있다. 또, 중합 중에 산화 방지제를 병용할 수도 있다.

계면 중축합 반응을 사용하는 경우, 중합 반응 후에는 수상 및 유기상의 혼합 상태이며, 폴리머, 유기 용매, 물 이외에 촉매나 잔존 모노머 등의 불순물을 함유한다. 일반적으로 할로겐 용제를 사용한 계면 중축합을 실시한 경우, 수용성 불순물을 제거하는 방법으로서 수상을 분리, 제거하는 분액 조작을 반복하여 수세하는 방법이 취해진다. 또, 수세 후, 필요에 따라 아세톤, 메탄올 등의 폴리머의 빈용매가 되는 수혼화성 유기 용매를 사용하여 재침전시키는 경우가 있다. 수혼화성 유기 용매를 사용하여 재침전시킴으로써 탈수, 탈용매할 수 있고, 분체로서 꺼낼 수 있게 되며, 또한 비스페놀 화합물과 같은 소수성 불순물도 저감시킬 수 있는 경우가 많다.

여기서 말하는 폴리머의 빈용매인 수 비혼화성 유기 용매로는, 물과의 상용성이 낮으며, 또한 상기 에스테르계 폴리머를 0.5 중량 ％ 이상 용해하지 않는 용매를 사용하는 것이 바람직하다. 또, 가열 건조시켜 용이하게 제거할 수 있다는 관점에서, 비점은 120 ℃ 이하인 것이 보다 바람직하다. 이러한 용매의 바람직한 예로는, 폴리머의 종류에 따라 용해성이 상이하므로 일률적으로 말할 수는 없지만, 시클로헥산, 이소포론 등의 탄화 수소류, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로필알코올 등의 알코올류 등을 들 수 있다.

계면 중축합 반응시의 모노머 주입 농도, 및 후처리시의 폴리머 농도는 높은 것이 생산성이 우수하여 바람직하다. 계면 중축합 반응 농도는, 수상 및 유기상도 포함한 반응 후의 총액량에 대한 폴리머량이 1 중량 ％ 이상인 것이 바람직하고, 3 중량 ％ 이상인 것이 보다 바람직하며, 5 중량 ％ 이상인 것이 더욱 바람직하다.

반응 온도는 특별히 제한은 없지만, 바람직하게는 -5 ℃ ～ 50 ℃, 보다 바람직하게는 5 ℃ ～ 35 ℃, 특히 바람직하게는, 10 ～ 30 ℃ 의 실온 부근이다. 반응 온도가 상기한 범위이면 반응 중의 점도, 온도를 컨트롤하기 쉬우며, 가수 분해나 산화 착색 등의 부반응도 적어진다.

또, 부반응을 억제하기 위하여, 중합 반응에 수반되는 발열을 고려하여, 미리 반응 온도를 낮게 설정해 둘 수도 있으며, 반응 진행을 서서히 진행시키기 위하여, 알칼리 용액이나 디카르복실산 클로라이드를 서서히 첨가하거나 용액을 적하할 수도 있다. 또, 산화 착색을 억제할 목적에서, 질소 등의 불활성 가스 분위기하에서 반응을 진행시키는 것이 바람직하다.

알칼리 용액이나 디카르복실산 클로라이드를 첨가한 후의 반응 시간은, 모노머의 종류나 알칼리의 사용량, 혹은 알칼리의 농도에 따라서도 다르기 때문에 일률적으로 말할 수는 없지만, 일반적으로 반응 시간은 10 분 ～ 10 시간이며, 30 분 ～ 5 시간인 것이 바람직하고, 1 ～ 4 시간인 것이 보다 바람직하다.

이와 같이 하여 얻어진 에스테르계 폴리머는, 계면 중축합 반응을 종료한 후, 분액, 수세하여, 그대로 유기 용매 용액으로서 사용해도 되고, 빈용매를 사용하여 분체화하여 사용해도 된다.

탈염산 균일 중합법에 의해 에스테르계 폴리머를 중합하는 경우에는, 모노머 (비스페놀 및 디카르복실산 클로라이드), 유기 용매, 아민 화합물 등이 사용된다.

디카르복실산 클로라이드, 및 비스페놀로는, 계면 중축합법에 있어서 전술한 것과 동일한 것을 사용할 수 있다. 또, 유기 용매로는, 에스테르계 폴리머를 용해하는 것이 바람직하고, 전술한 디클로로메탄, 클로로포름, 1,2-디클로로에탄 등의 할로겐계 용제, 혹은 아니솔 등을 적합하게 사용할 수 있다. 또한, 균일 중합법의 경우, 용매는 물과 혼화하는 것이어도 되고, 상기한 것 이외에 예를 들어 메틸에틸케톤 등의 케톤계 용제 등을 적합하게 사용할 수 있다.

아민 화합물은 산수용체로서 반응을 촉진시킬 목적으로 사용된다. 아민 화합물로는, 트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리-n-부틸아민, 트리헥실아민, 트리도데실아민, N,N-디메틸시클로헥실아민, 피리딘, 3-메틸피리딘 등의 피리딘 유도체, 퀴놀린, 디메틸아닐린 등의 제3급 아민을 적합하게 사용할 수 있다. 또, 반응계에는, 그 외에 필요에 따라, 산화 방지제나 분자량 조정제 등을 임의로 사용할 수 있다.

탈염산 균일 중합법을 사용하는 경우, 중합 반응 후에는 용매에 폴리머가 용해된 상태이며, 폴리머, 유기 용매 이외에, 아민 화합물이나 잔존 모노머 등의 불순물을 함유한다. 이러한 불순물은, 전술한 계면 중축합 반응의 경우와 동일하게, 분액 조작을 반복하여 수세한 후에, 필요에 따라 빈용매로 재침전시킴으로써 분체로서 꺼낼 수 있게 된다.

또, 탈염산 균일 중합법의 모노머 주입 농도, 처리시의 폴리머 농도, 반응 온도, 반응 시간 등에 관해서도, 전술한 계면 중축합 반응과 동일한 조건을 바람직하게 적용할 수 있다.

다음으로, 상기 에스테르계 폴리머를 사용하여 본 발명의 광학 필름을 제조하는 방법에 대하여 설명한다. 본 발명의 광학 필름은, 일반식 (I) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머와, 일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머를 사용하여, 용액으로부터의 도공법이나 용융 압출법 등의 공지된 방법에 의해 얻을 수 있다. 광학 필름의 평활성이나, 광학 특성의 균일성, 혹은 복굴절 발현성의 관점에서는, 용액으로부터의 도공법에 의해 제막하는 것이 바람직하다.

용액으로부터의 도공법에 의해 제막하는 경우, 그 공정은 상기 각 폴리머와, 용매를 함유하는 용액을 조제하는 공정, 그 용액을 기재의 표면에 도포하는 공정, 및 도포된 용액을 건조시키는 공정을 포함한다. 이들 공정을 거침으로써, 기재 상에 밀착 적층된 광학 필름이 형성된다.

상기 용액의 용매로는, 상기한 각 에스테르계 폴리머를 용해하는 것이면 특별히 제한되지 않고, 폴리머의 종류에 따라 적절히 결정할 수 있다. 구체예로는, 예를 들어 클로로포름, 디클로로메탄, 톨루엔, 자일렌, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 메틸이소부틸케톤, 아세트산 에틸 등을 들 수 있다. 이들 용매는 1 종류여도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다. 또, 상기 에스테르계 폴리머가 용해되는 범위에서 빈용매를 첨가할 수도 있다.

일반적으로 폴리에스테르는 용매에 대한 용해성이 낮기 때문에, 염화 메틸렌이나 클로로포름 등, 환경 부하가 큰 할로겐계의 용매나, 디메틸포름아미드 (DMF), 디메틸아세트아미드 (DMAc) 등의 비점이 높은 극성 용매 이외에 대한 용해성이 부족한 경향이 있다. 할로겐계 용매나 DMF, DMAc 등은 용해성이 높기 때문에, 에스테르계 폴리머를 용해할 뿐만 아니라, 광학 필름의 도공에 사용하는 기재도 용해하는 경우가 있다. 그 때문에, 광학 필름의 도포에 사용되는 기재는 내용제성이 높은 것이 사용된다.

일반식 (I), (II) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머는, 톨루엔, 자일렌, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 메틸이소부틸케톤, 아세트산 에틸 등에 가용이기 때문에, 이들을 용매로서 사용함으로써, 사용 가능한 기재의 선택 범위가 넓어진다는 이점을 갖는다. 또, 용제에 톨루엔이나 아세트산 에틸을 사용하는 것은, 용매를 증발시키기 위하여 필요한 에너지가 작다는 면에서도 바람직하다.

또, 상기 용액은, 광학 필름의 복굴절 발현성이나 투명성이 현저하게 저하되지 않는 범위에서, 일반식 (I), (II) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머와는 상이한 다른 수지 등을 함유해도 된다. 상기 다른 수지로는, 예를 들어 각종 범용 수지, 엔지니어링 플라스틱, 열가소성 수지, 열경화성 수지 등을 들 수 있다.

이와 같이, 일반식 (I), (II) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머 이외의 수지 등을 상기 용액에 배합하는 경우, 그 배합량은 일반식 (I), (II) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머의 합계 100 중량부에 대하여, 0 ～ 20 중량부인 것이 바람직하다.

상기 용액에는, 각 조제 공정에 있어서 용도에 따른 여러 가지 첨가제 (예를 들어 열화 방지제, 자외선 방지제, 광학 이방성 조절제, 박리 촉진제, 가소제, 적외 흡수제, 필러 등) 를 첨가할 수 있으며, 그들은 고체여도 되고 유상물이어도 된다. 즉, 그 융점이나 비점에 있어서 특별히 한정되는 것은 아니다. 첨가제의 첨가량은, 바람직하게는 일반식 (I), (II) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머의 합계 100 중량부에 대하여 0 ～ 20 중량부이다.

상기 용액에 있어서의 폴리머 농도는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 도공에 적절한 용액 점도로 하기 위하여, 3 ～ 40 중량 ％ 인 것이 바람직하고, 5 ～ 35 중량 ％ 인 것이 보다 바람직하며, 10 ～ 30 중량 ％ 인 것이 더욱 바람직하다.

상기 용액을 기재 상에 도공하고, 적절히 건조시킴으로써 광학 필름이 얻어진다. 기재는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 엔드리스 벨트나 드럼 롤 등의 무단 (無端) 기재나, 폴리머 필름 등의 유한 길이의 기재를 사용할 수 있다. 본 발명의 광학 필름이 자기 지지성을 갖는 경우에는, 무단 기재, 유한 길이의 기재의 어느 것도 사용할 수 있다. 자기 지지성을 갖는다란, 기재로부터 박리된 상태에서도 핸들링 가능한 것으로서, 일반적으로 15 ～ 500 ㎛ 정도, 보다 바람직하게는 20 ～ 300 ㎛ 정도의 두께를 갖는 경우를 가리킨다. 필름 두께가 상기 범위보다 두꺼운 경우에도 자기 지지성을 갖고 있지만, 과도하게 두께가 두꺼우면 용제의 건조에 다대한 시간과 에너지를 필요로 하거나, 두께의 균일성이 잘 얻어지지 않는 등, 양산상의 문제를 일으키는 경우가 있다.

본 발명의 광학 필름의 두께가 상기 범위보다 얇은, 즉 1 ～ 20 ㎛ 정도, 혹은 2 ～ 15 ㎛ 인 경우에는, 기재로서 유한 길이의 기재를 사용하는 것이 바람직하다. 엔드리스 벨트나 드럼 롤 등의 무단 기재를 사용하는 제법은, 광학 필름을 기재로부터 박리하여 반송하는 것을 필요로 하기 때문에, 일반적으로는 자기 지지성이 없는 필름의 제조에는 적합하지 않다. 이러한 경우에는, 기재로서 유리판이나, 폴리머 필름 등의 유한 길이의 기재를 사용하고, 본 발명의 광학 필름을 코팅막으로 하여 기재 상에 형성할 수 있다. 또한, 본원 명세서 및 특허 청구의 범위에서 「광학 필름」이란, 자기 지지성을 갖는 필름, 및 자기 지지성을 갖지 않는 코팅막 모두를 포함한다.

상기 유한 길이의 기재 중에서도, 핸들링성 등의 관점에서 폴리머 기재가 바람직하게 사용된다. 폴리머 기재로는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 폴리머, 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 폴리머, 폴리카보네이트계 폴리머, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴계 폴리머, 폴리스티렌, 아크릴로니트릴?스티렌 공중합체 등의 스티렌계 폴리머, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 고리형 내지 노르보르넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌?프로필렌 공중합체 등의 올레핀계 폴리머, 염화 비닐계 폴리머, 나일론이나 방향족 폴리아미드 등의 아미드계 폴리머, 또한 이미드계 폴리머, 술폰계 폴리머, 폴리에테르술폰계 폴리머, 폴리에테르에테르케톤계 폴리머, 폴리페닐렌술피드계 폴리머, 비닐알코올계 폴리머, 염화 비닐리덴계 폴리머, 비닐부티랄계 폴리머, 아크릴레이트계 폴리머, 폴리옥시메틸렌계 폴리머, 에폭시계 폴리머 등의 투명 폴리머나 이들 폴리머의 블렌드물로 이루어지는 폴리머 필름을 들 수 있다.

상기 폴리머 기재는, 폴리머 필름 단독이어도 되고, 폴리머 필름 상에 앵커코트층이나 대전 방지층 등을 형성한 것이어도 된다. 나아가서는, 코로나 처리나 플라즈마 처리, 혹은 비누화 처리 등에 의해, 접착성을 향상시킨 필름을 사용할 수도 있다. 또, 예를 들어 일본 공표특허공보 평9-506837호 등에 기재되어 있는 반사형 편광판 등의 광학 기능 필름을 기재로서 사용할 수도 있다.

본 발명에 있어서는, 상기 에스테르계 폴리머가 용해성이 우수하고, 톨루엔 등의 저극성 용매의 용액으로 이루어진다는 면에서, 일반적으로 내용제성이 낮은 아크릴계나 올레핀계 폴리머를 주성분으로 하는 필름도 기재로서 사용할 수도 있다.

도공 방법으로는, 예를 들어 스핀 코트법, 롤 코트법, 플로우 코트법, 프린트법, 딥 코트법, 유연 성막법, 바 코트법, 그라비아 인쇄법 등을 들 수 있다. 또, 도공시에는, 필요에 따라 다층 코팅을 채용할 수도 있다.

이어서, 상기 기재에 도공된 상기 용액을 건조시켜, 상기 기재 상에 광학 필름이 형성된다. 건조 방법으로는, 예를 들어 자연 건조나 가열 건조 등을 들 수 있다. 그 조건은 용제의 종류나, 폴리머의 종류, 폴리머 농도 등에 따라 적절히 결정할 수 있는데, 예를 들어 온도는, 통상 25 ℃ ～ 300 ℃ 이며, 50 ℃ ～ 200 ℃ 이며, 특히 바람직하게는 60 ℃ ～ 180 ℃ 이다. 또한, 건조는, 일정 온도에서 실시해도 되고, 단계적으로 온도를 상승 또는 하강시키면서 실시해도 된다. 건조 시간도 특별히 제한되지 않는다. 통상, 고화 시간은 10 초 ～ 60 분, 바람직하게는 30 초 ～ 30 분이다. 또, 광학 필름이 자기 지지성을 갖는 경우에는, 일단 지지체로부터 박리한 후, 추가로 건조시킬 수도 있다.

본 발명의 광학 필름은, 전술한 바와 같이, 상대적으로 두께가 두껍고 자기 지지성을 갖는 필름, 및 상대적으로 두께가 얇고 자기 지지성을 갖지 않는 코팅막 중 어느 것이어도 되는데, 광학 필름을 구성하는 폴리머의 복굴절 발현성이 높다는 면에서, 코팅막으로서 적합하게 사용할 수 있다. 이러한 코팅막은, 전술한 바와 같이, 기재 상에 에스테르계 폴리머의 용액을 도공, 건조시킴으로써, 광학 필름과 기재가 밀착 적층된 광학 적층체로서, 그대로 편광판이나 화상 표시 장치 등에 사용할 수도 있다.

상기 일반식 (I), (II) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머는, 면 내 배향성을 갖고 있다는 면에서, 코팅막으로 하는 것만으로도 소정의 두께 방향 복굴절을 갖기 때문에, 용액을 도공, 건조시키는 것만으로 두께 방향의 복굴절을 발현하기 위하여, nx ≒ ny > nz 의 굴절률 이방성을 갖는, 이른바 네거티브 C 플레이트로 할 수 있다. 또한, 도공 조건이나 연신 조건을 조정함으로써, 두께 방향의 복굴절 이외에, 면 내 복굴절 (Δnxy ＝ nx - ny) 을 가지며, nx > ny > nz 의 굴절률 이방성을 갖는 광학 필름으로 할 수도 있다. 여기서, ny 란, 면 내의 굴절률이 최소가 되는 방향, 즉 진상축 방향의 굴절률이다.

다음으로, 본 발명의 편광판에 대하여 설명한다. 본 발명의 편광판은, 상기 본 발명의 광학 필름을 포함하는 광학 보상 기능 장착 편광판이다. 이러한 편광판은 상기 광학 필름과, 편광자를 갖고 있으면, 그 구성은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 광학 필름 (R), 편광자 (P) 및 2 개의 투명 보호 필름 (T) 을 가지며, 편광자 (P) 의 양면에 투명 보호 필름 (T) 이 각각 적층되어 있고, 일방의 투명 보호 필름 (T) 의 표면에 추가로 광학 필름 (R) 이 적층된 형태로 할 수 있다. 또한, 광학 필름 (R) 과 기재 (S) 를 밀착 적층시킨 광학 적층체 (1) 를 사용하는 경우, 광학 필름 (R) 과 기재 (S) 중 어느 표면이 투명 보호 필름 (T) 에 면해도 되는데, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 광학 필름 (R) 측이 투명 보호 필름 (T) 에 면해 있는 것이 바람직하다.

또, 상기 투명 보호 필름 (T) 은, 편광자 (P) 의 양측에 적층시켜도 되고, 어느 일방의 면에만 적층시켜도 된다. 또, 양면에 적층시키는 경우에는, 예를 들어 동일 종류의 투명 보호 필름을 사용해도 되고, 상이한 종류의 투명 보호 필름을 사용해도 된다.

또, 본 발명의 편광판의 다른 형태로서, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 광학 필름 (R), 편광자 (P) 및 투명 보호 필름 (T) 을 가지며, 편광자 (P) 의 일방의 표면에 상기 광학 필름 (R) 이, 상기 편광자의 타방의 표면에 상기 투명 보호 필름 (T) 이, 각각 적층된 것으로 할 수도 있다.

또한, 광학 필름 (R) 과 기재 (S) 를 밀착 적층시킨 광학 적층체 (1) 를 사용하는 경우, 광학 필름 (R) 과 기재 (S) 중 어느 표면이 상기 편광자 (P) 에 면해도 되는데, 도 4 에 나타내는 바와 같이, 기재 (S) 측이 편광자 (P) 에 면하도록 배치하는 것이 바람직하다. 이러한 구성으로 함으로써, 상기 기재 (S) 를, 광학 보상층 장착 편광판에 있어서의 투명 보호 필름으로서 겸용할 수 있다. 즉, 상기 편광자 (P) 의 양면에 투명 보호 필름 (T) 을 적층시키는 대신, 편광자 (P) 의 일방의 면에는 투명 보호 필름 (T) 을 적층시키고, 타방의 면에는 기재 (S) 가 면하도록 광학 적층체 (1) 를 적층시킴으로써, 광학 적층체 (1) 의 기재 (S) 가 투명 보호 필름의 역할도 하는 것이다. 이 때문에, 보다 더욱 박형화된 편광판을 얻을 수 있게 된다.

편광자 (P) 로는, 특별히 제한되지 않고 각종의 것을 사용할 수 있다. 예를 들어 폴리비닐알코올계 필름, 부분 포르말화 폴리비닐알코올계 필름, 에틸렌?아세트산 비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 이색성 염료 등의 이색성 물질을 흡착시켜 1 축 연신한 것, 폴리비닐알코올의 탈수 처리물이나 폴리 염화 비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 폴리비닐알코올계 필름과 요오드 등의 이색성 물질로 이루어지는 편광층이 적합하다. 이들 편광자의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 일반적으로 5 ～ 80 ㎛ 정도이다.

투명 보호 필름 (T) 의 두께는, 적절히 결정할 수 있는데, 일반적으로는 강도나 취급성 등의 작업성, 박층성 등의 면에서 1 ～ 500 ㎛ 정도이다. 특히 1 ～ 300 ㎛ 가 바람직하고, 5 ～ 200 ㎛ 가 보다 바람직하다. 투명 보호 필름은, 5 ～ 150 ㎛ 의 경우에 특히 바람직하다.

본 발명의 광학 필름, 편광판의 용도는 한정되지 않지만, 바람직하게는 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, 플라즈마 디스플레이 패널 등의 화상 표시 장치에 적합하게 사용된다. 이들 화상 표시 장치는, 예를 들어 퍼스널 컴퓨터 모니터, 노트북 퍼스널 컴퓨터, 복사기 등의 OA 기기, 휴대 전화, 시계, 디지털 카메라, 휴대 정보 단말 (PDA), 휴대 게임기 등의 휴대 기기, 비디오 카메라, 텔레비젼, 전자 렌지 등의 가정용 전기 기기, 백 모니터, 카 내비게이션 시스템용 모니터, 카 오디오 등의 차재용 기기, 상업 점포용 인포메이션용 모니터 등의 전시 기기, 감시용 모니터 등의 경비 기기, 개호용 모니터, 의료용 모니터 등의 개호?의료 기기 등에 사용된다.

특히, 본 발명의 광학 필름은, 높은 복굴절 발현성, 투명성을 가지면서, 폴리머의 양을 조정함으로써 파장 분산을 조정할 수 있기 때문에, 액정 셀에서 기인하는 복굴절의 보상 등을 목적으로 한 광학 보상 필름으로서, 다양한 액정 셀을 적절히 광학 보상할 수 있다.

실시예

이하에서, 실시예를 들어 본 발명을 설명하는데, 본 발명은 하기의 실시예에 제한되는 것은 아니다. 또한, 실시예 및 비교예의 평가는, 하기 방법에 의해 실시한 것이다.

(Δnxz 및 파장 분산)

오지 계측 기기 (주) 제조 상품명 「KOBRA-WPR」을 사용하여, 측정 파장 (λ) (단, λ ＝ 450 ㎚ 및 550 ㎚ 이다) 에 있어서의 정면 리타데이션 및 샘플을 40 도의 각도로 기울였을 때의 리타데이션으로부터, 장치 부속의 프로그램에 따라 파장 (λ) 에 있어서의 두께 방향 복굴절 (Δnxz (λ)) 을 계산했다. 얻어진 값으로부터 파장 (λ) ㎚ 에 있어서의 두께 방향 리타데이션 (Rth (λ)) 을 산출하고 (단, Rth (λ) ＝ Δnxz (λ) × d 이다), 그 값으로부터 파장 분산 (Rth (450)/Rth (550)) 을 구했다.

또한, 막두께 (d) 는, Sloan 제조 제품명 「Dektak」를 사용하여, 폴리머 도포 전후의 유리의 두께차로부터 구한 값을 사용하였다.

(헤이즈)

헤이즈미터 (무라카미 색채 기술 연구소 제조 형번 「HM-150」) 를 사용하여 측정했다.

[일반식 (I) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머의 제조]

(제조예 1)

교반 장치를 구비한 반응 용기 중에, 2,2-비스(3,5-디메틸-4-하이드록시페닐)-4-메틸펜탄 3.27 g, 메틸트리 n-옥틸암모늄클로라이드 0.20 g 을 1 M 수산화 칼륨 35 ㎖ 에 용해시켰다. 이 용액을 교반하에, 4,4'-스틸벤디카르복실산 클로라이드 1.53 g 및 테레프탈산 클로라이드 1.02 g 에 클로로포름 35 ㎖ 를 첨가하여 용해한 용액을 한 번에 첨가하고, 실온 (20 ℃) 에서 90 분간 교반하여 반응을 진행시켰다. 그 후, 중합 용액을 정치 (靜置) 분리하여, 폴리머를 함유한 클로로포름 용액을 분리하고, 이어서 아세트산수로 세정하고, 이온 교환수로 세정한 후, 메탄올에 투입하여 폴리머를 석출시켰다. 석출된 폴리머를 여과하고, 감압하에서 건조시킴으로써, 하기 식 (VIII) 로 나타내는 백색의 폴리머 4.66 g 을 얻었다. 얻어진 폴리머를 「폴리머 A」라고 한다.

[화학식 12]

[일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머의 제조]

(제조예 2)

교반 장치를 구비한 반응 용기 중에, 2,2-비스(4-하이드록시페닐)-4-메틸펜탄 2.70 g, 벤질트리에틸암모늄클로라이드 0.06 g 을 1 M 수산화 나트륨 용액 25 ㎖ 에 용해시켰다. 이 용액을 교반하에, 테레프탈산 클로라이드 1.52 g 및 이소프탈산 클로라이드 0.51 g 에 클로로포름 25 ㎖ 를 첨가하여 용해한 용액을 한 번에 첨가하고, 실온 (20 ℃) 에서 90 분간 교반하여 반응을 진행시켰다. 그 후, 중합 용액을 정치 분리하여, 폴리머를 함유하는 클로로포름 용액을 분리하고, 이어서 아세트산수로 세정하고, 이온 교환수로 세정한 후, 메탄올에 투입하여 폴리머를 석출시켰다. 석출된 폴리머를 여과하고, 감압하에서 건조시킴으로써, 하기 식 (IX) 로 나타내는 백색의 폴리머 3.41 g 을 얻었다. 얻어진 폴리머를 「폴리머 B」라고 한다.

[화학식 13]

[가용성 폴리이미드의 제조]

(제조예 3)

교반 장치, 딘스탁 장치, 질소 도입관, 온도계 및 냉각관을 장착한 반응 용기 (500 ㎖) 내에 2,2'-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판산 2무수물 [클라리안트 쟈판 (주) 제조] 17.77 g (40 m㏖), 및 2,2-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노비페닐 [와카야마 정화 공업 (주) 제조] 12.81 g (40 m㏖) 을 첨가하였다. 계속해서 이소퀴놀린 2.58 g (20 m㏖) 을 m-크레졸 275.21 g 에 용해시킨 용액을 첨가하고 23 ℃ 에서 1 시간 교반하여 (600 rpm) 균일한 용액을 얻었다. 다음으로, 반응 용기를, 오일 배스를 사용하여 반응 용기 내의 온도가 180 ℃ 가 되도록 가온하고, 온도를 유지하면서 5 시간 교반하여 황색 용액을 얻었다. 추가로 3 시간 교반한 후, 가열 및 교반을 정지하고, 방랭하여 실온으로 되돌리면, 폴리머가 겔상이 되어 석출되었다.

상기 반응 용기 내의 황색 용액에 아세톤을 첨가하여 상기 겔을 완전하게 용해시켜, 희석 용액 (7 중량 ％) 을 제조했다. 이 희석 용액을, 2 ℓ 의 이소프로필알코올 중에 교반을 계속하면서 조금씩 첨가했더니, 백색 분말이 석출되었다. 이 분말을 여과 채취하고, 1.5 ℓ 의 이소프로필알코올 중에 투입하여 세정했다. 추가로 한번 더 동일한 조작을 반복하여 세정한 후, 상기 분말을 다시 여과 채취했다. 이것을 60 ℃ 의 공기 순환식 항온 오븐에서 48 시간 건조시킨 후, 150 ℃ 에서 7 시간 건조시켜, 하기 식 (X) 으로 나타내는 구조식의 폴리이미드 분말을 얻었다 (수율 85 ％). 얻어진 폴리이미드의 중합 평균 분자량 (Mw) 은 135000, 이미드화율은 99.9 ％ 였다. 얻어진 폴리머를 「폴리머 C」라고 한다.

[화학식 14]

[광학 필름의 제조]

(실시예 1)

제조예에서 얻어진 폴리머 A 와 폴리머 B 를 중량비 5 : 95 로 톨루엔에 용해시키고, 스핀 코트법에 따라 유리 상에 도포하고, 70 ℃ 에서 5 분 건조시키고, 추가로 110 ℃ 에서 4 분 건조시켜, 두께 5.95 ㎛ 의 광학 필름을 제조했다.

(실시예 2)

상기 실시예 1 에 있어서, 폴리머 A 와 폴리머 B 의 중량비를 25 : 75 로 한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 두께 4.58 ㎛ 의 광학 필름을 제조했다.

(실시예 3)

상기 실시예 1 에 있어서, 폴리머 A 와 폴리머 B 의 중량비를 50 : 50 으로 한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 두께 4.65 ㎛ 의 광학 필름을 제조했다.

(실시예 4)

상기 실시예 1 에 있어서, 폴리머 A 와 폴리머 B 의 중량비를 75 : 25 로 한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 두께 5.97 ㎛ 의 광학 필름을 제조했다.

(실시예 5)

상기 실시예 1 에 있어서, 폴리머 A 와 폴리머 B 의 중량비를 95 : 5 로 한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 두께 5.87 ㎛ 의 광학 필름을 제조했다.

(비교예 1)

제조예에서 얻어진 폴리머 A 와 폴리머 C 를 중량비 5 : 95 로 시클로펜타논에 용해시키고, 스핀 코트법에 의해 유리 상에 도포하고, 70 ℃ 에서 5 분 건조시키고, 추가로 110 ℃ 에서 4 분 건조시켜, 두께 5.23 ㎛ 의 광학 필름을 제조했다.

(비교예 2)

상기 비교예 1 에 있어서, 폴리머 A 와 폴리머 C 의 중량비를 25 : 75 로 한 것 이외에는 비교예 1 과 동일하게 하여, 두께 4.76 ㎛ 의 광학 필름을 제조했다.

(비교예 3)

상기 비교예 1 에 있어서, 폴리머 A 와 폴리머 C 의 중량비를 50 : 50 으로 한 것 이외에는 비교예 1 과 동일하게 하여, 두께 5.54 ㎛ 의 광학 필름을 제조했다.

(비교예 4)

상기 비교예 1 에 있어서, 폴리머 A 와 폴리머 C 의 중량비를 75 : 25 로 한 것 이외에는 비교예 1 과 동일하게 하여, 두께 5.70 ㎛ 의 광학 필름을 제조했다.

(비교예 5)

상기 비교예 1 에 있어서, 폴리머 A 와 폴리머 C 의 중량비를 5 : 25 로 한 것 이외에는 비교예 1 과 동일하게 하여, 두께 5.34 ㎛ 의 광학 필름을 제조했다.

실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름의 파장 분산 (D) (＝ Rth (450)/Rth (550)), 복굴절 및 헤이즈의 측정값을 표 1 에 나타낸다.

일반식 (I) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머 A 와, 일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머 B 는, 모두 용제에 대한 용해성이 높고, 톨루엔과 같이 비교적 극성이 작은 용매 중에서도 상용성을 갖고 있었다. 또, 이들 폴리머를 갖는 실시예의 광학 필름은, 복수의 폴리머를 혼합하고 있음에도 불구하고, 헤이즈가 1.0 ％ 미만으로 투명성을 갖고 있었다. 그에 반해, 폴리머 C 는 톨루엔에 대한 용해성이 없기 때문에, 비교예에 있어서는 광학 필름을 제조하기 위한 용제로서 시클로펜타논을 사용하였다. 또, 비교예의 광학 필름은, 폴리머가 상용계가 아니기 때문에 헤이즈가 높아, 광학 필름으로서의 투명성이 부족하였다.

P 편광자
R 광학 필름
T 투명 보호 필름
S 기재
1 광학 적층체
10 편광판

Claims

하기 일반식 (I) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머와, 하기 일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머를 함유하는, 광학 필름.
[화학식 1]

(일반식 (I) 에 있어서, A₁, B₁, D₁ 및 E₁ 은, 각각 치환기를 나타내고, a₁, b₁, d₁ 및 e₁ 은, 각각 대응하는 A₁, B₁, D₁ 및 E₁ 의 치환수 (0 ～ 4 까지의 정수) 를 나타낸다. A₁, B₁, D₁ 및 E₁은, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 탄소수 1 ～ 6 의 알킬기, 또는 치환 혹은 무치환 아릴기를 나타낸다.
X₁ 은, 공유 단결합, 불포화 이중 결합, 불포화 삼중 결합, CH₂ 기, CHR 기, CR₂ 기, C(CZ₃)₂ 기, CO 기, O 원자, S 원자, SO₂ 기, Si(CH₂CH₃)₂ 기, 및 N(CH₃) 기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 원자 또는 기를 나타내고, R 은, 각각 독립적으로 탄소수 1 ～ 6 의 직사슬 혹은 분지의 알킬기, 또는 치환 혹은 무치환의 아릴기를 나타내고, Z 는 할로겐이다.
p₁ 및 q₁ 은, 각각 1 ～ 3 까지의 정수를 나타낸다.)
[화학식 2]

(일반식 (II) 에 있어서, A₂, D₂ 및 E₂ 는, 각각 치환기를 나타내고, a₂, d₂및 e₂ 는, 각각 대응하는 A₂, D₂ 및 E₂ 의 치환수 (0 ～ 4 까지의 정수) 를 나타낸다. A₂, D₂ 및 E₂ 는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 탄소수 1 ～ 6 의 알킬기, 또는 치환 혹은 무치환 아릴기를 나타낸다.
X₂ 는, 공유 단결합, 불포화 이중 결합, 불포화 삼중 결합, CH₂ 기, CHR 기, CR₂ 기, C(CZ₃)₂ 기, CO 기, O 원자, S 원자, SO₂ 기, Si(CH₂CH₃)₂ 기, 및 N(CH₃) 기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 원자 또는 기를 나타내고, R 은, 각각 독립적으로 탄소수 1 ～ 6 의 직사슬 혹은 분지의 알킬기, 또는 치환 혹은 무치환의 아릴기를 나타내고, Z 는 할로겐이다.
p₂ 및 q₂ 는, 각각 1 ～ 3 까지의 정수를 나타내고, r₂ 는 1 또는 2 이다.)
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 항에 있어서의 일반식 (I) 이 하기 일반식 (III) 이며, 또한 상기 일반식 (II) 가 하기 일반식 (IV) 인, 광학 필름.
[화학식 3]

(일반식 (III) 에 있어서, A₁ 그리고 B₁, 및 a₁ 그리고 b₁ 은, 모두 상기 일반식 (I) 과 동일하다.
R¹ 및 R² 는, 각각 독립적으로 탄소수 1 ～ 10 의 직사슬 혹은 분지의 알킬기, 또는 치환 혹은 무치환의 아릴기를 나타낸다.
R³ ～ R⁶ 은, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ～ 6 의 직사슬 혹은 분지의 알킬기, 탄소수 5 ～ 10 의 시클로알킬기, 또는 치환 혹은 무치환의 아릴기를 나타낸다 (단, R³ ～ R⁶ 중, 적어도 어느 1 개는 수소 원자가 아니다).)
[화학식 4]

(일반식 (IV) 에 있어서, A₂, 및 a₂ 는, 모두 상기 일반식 (II) 와 동일하다.
R⁷ 및 R⁸ 은, 각각 독립적으로 탄소수 1 ～ 10 의 직사슬 혹은 분지의 알킬기, 또는 치환 혹은 무치환의 아릴기를 나타낸다.
R⁹ ～ R¹² 는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ～ 6 의 직사슬 혹은 분지의 알킬기, 탄소수 5 ～ 10 의 시클로알킬기, 또는 치환 혹은 무치환의 아릴기를 나타낸다 (단, R⁹ ～ R¹² 중, 적어도 어느 1 개는 수소 원자가 아니다).)
제 2 항에 있어서,
상기 일반식 (IV) 에 있어서의 R⁷ 이 메틸기이며, 또한 R⁸ 이 탄소수 2 ～ 4 인 직사슬 혹은 분지의 알킬기인, 광학 필름.
제 2 항에 있어서,
상기 일반식 (IV) 에 있어서의 R⁹ ～ R¹² 가, 각각 독립적으로 탄소수 1 ～ 4 인 직사슬 혹은 분지의 알킬기인, 광학 필름.
제 2 항에 있어서,
상기 일반식 (III) 에 있어서의 R¹ 이 메틸기이며, 또한 R² 가 탄소수 2 ～ 4 인 직사슬 혹은 분지의 알킬기인, 광학 필름.
제 2 항에 있어서,
상기 일반식 (III) 에 있어서의 R³ ～ R⁶ 이, 각각 독립적으로 탄소수 1 ～ 4 인 직사슬 혹은 분지의 알킬기인, 광학 필름.
제 1 항에 있어서,
상기 일반식 (I) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머와, 상기 일반식 (II) 로 나타내는 폴리머의 중량비가 1 : 99 ～ 99 : 1 인, 광학 필름.
제 1 항에 있어서,
두께가 20 ㎛ 이하인, 광학 필름.
제 1 항에 있어서,
파장 550 ㎚ 에 있어서의 두께 방향 리타데이션 (Rth (550)) 과 파장 450 ㎚ 에 있어서의 두께 방향 리타데이션 (Rth (450)) 의 비 (Rth (450)/Rth (550)) 가 1.02 ～ 2.00 인, 광학 필름.
제 1 항에 있어서,
헤이즈값이 1.0 ％ 이하인, 광학 필름.
제 1 항에 있어서,
필름 두께 방향의 굴절률 (nz) 이 필름 면내의 굴절률의 최대값 (nx) 보다 작은, 광학 필름.
제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름과 편광자를 포함하는, 편광판.
제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름, 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름과 편광자를 포함하는 편광판 중 적어도 어느 1 개를 포함하는, 화상 표시 장치.
제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 제조하는 방법으로서,
상기 일반식 (I) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머와, 상기 일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위를 갖는 폴리머와, 클로로포름, 디클로로메탄, 톨루엔, 자일렌, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 메틸이소부틸케톤 및 아세트산 에틸의 1종 또는 2종 이상의 용매를 함유하는 용액을 조제하는 공정,
상기 용액을 기재의 표면에 도포하는 공정,
도포된 상기 용액을 건조시키는 공정을 갖는, 광학 필름의 제조 방법.