CN101680988A - 光学薄膜、图像显示装置、二炔基芴及其聚合物 - Google Patents

光学薄膜、图像显示装置、二炔基芴及其聚合物 Download PDF

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Abstract

本发明的目的在于提供显示理想的波长色散，进而也可以较薄的形成的光学薄膜。本发明是一种光学薄膜，其含有具有上述通式(II)所示的重复单元的聚合物。式(II)中，A、A’、B和B’分别表示取代基，a、a’、b和b’表示对应的A、A’、B和B’的取代数。A、A’、B和B’分别独立地表示卤素或碳原子数1～4的烷基。R1和R2表示选自卤素、碳原子数1～10的烷基等，X表示－CO－、－SO2－等。

Description

光学薄膜、图像显示装置、二炔基芴及其聚合物
技术领域
本发明涉及光学薄膜、图像显示装置、可以作为该光学薄膜的形成材料使用的二炔基芴及其聚合物。
背景技术
相位差板是为了实现例如液晶显示装置的广视角化等而使用的光学薄膜。相位差板的相位差值依赖于波长。该相位差值的波长色散大致可分为3种。第1种是相位差值在波长越短侧越显示大的波长色散的相位差板(下文中称为“正色散”)，第2种是相位差值从短波长侧到长波长侧显示几乎不变的波长色散(下文中称作“平坦色散”)的相位差板，第3种是相位差值在波长越短侧显示越小的波长色散(下文中称为“逆色散”)的相位差板。
而且，正色散和逆色散的相位差值对波长的依赖性大，平坦色散(dispersion-flattened)的相位差值对波长的依赖性小。
以往作为显示平坦色散的相位差板，已知有将降冰片烯系树脂成膜并拉伸而成的降冰片烯系薄膜(例如，JSR株式会社制，商品名“ア一トンフイルム”)。但降冰片烯系薄膜厚度为60～80μm左右，所以较厚。因此，具有该光学薄膜的液晶显示装置变得较厚且重。
另一方面，已知含有聚酰亚胺的相位差板可以通过在基材上涂布含有聚酰亚胺的溶液来形成，并显示规定的相位差值(专利文献1)。如果由涂布来形成，则可以得到较薄的相位差板。但由聚酰亚胺形成的相位差板通常显示正色散(即不能成为平坦色散)。
另外，相位差板的厚度方向的相位差值可以根据“Δnxz×厚度”求出。因此，Δnxz大的相位差板，即使较薄，也具有期望的相位差值。因此，人们追求Δnxz大的薄膜。
专利文献1：日本专利申请公表2000-511296号公报
发明内容
发明要解决的问题
本发明的目的在于提供显示理想的相位差值的波长色散，进而可以较薄的形成的光学薄膜，以及使用该光学薄膜的图像显示装置。
另外，本发明的另外目的在于提供作为上述光学薄膜的形成材料的理想的二炔基芴。
用于解决问题的方案
作为液晶显示装置的液晶单元，VA(垂直阵列)模式的液晶单元广泛普及。本发明人等详细调查了该VA模式的液晶单元的相位差值的波长色散。结果判明，近年来显示平坦色散的VA模式液晶单元逐渐增多。因此，用于补偿该液晶单元的相位差板优选使用显示平坦色散的相位差板。进而从寻求使液晶显示装置轻量化的观点来看，优选较薄的相位差板。但如上所述，以往的相位差板有长有短的。因此，本发明人对各种材料进行了深入研究，结果发现，通过使用特定的聚合物可以实现上述目的。
本发明提供了一种光学薄膜，含有具有下述通式(1)所示的重复单元的聚合物。
[化学式1]
Figure G200880017322XD00031
上述式(I)中，A、A’、B和B’分别表示取代基，a和a’表示对应的A和A’的取代数(0～3的整数)，b和b’表示对应的B和B’的取代数(0～3的整数)，A、A’、B和B’分别独立地表示卤素或碳原子数1～4的烷基，R1和R2分别独立地表示选自由氢、卤素、碳原子数1～10的烷基、取代或无取代的芳基、取代或无取代的乙烯基、取代或无取代的乙炔基、SiR3R4R5基(R3～R5分别独立地表示碳原子数1～6的烷基或芳基)、和CR6R7(OH)基(R6和R7分别独立地表示碳原子数1～4的烷基)所组成的组中的原子或基团，X表示-CR8 2-(R8表示氢、碳原子数1～4的烷基、全氟基、或者取代或无取代的芳基)、-SiR9 2-(R9表示氢、碳原子数1～4的烷基、或者取代或无取代的芳基)、-O-、-NR10-(R10表示氢、碳原子数1～4的烷基、或者取代或无取代的芳基)、-CO-、或-SO2-。
式(I)所示的重复单元，主链部分的2个苯环通过2价结合基X结合。因此，导入有该重复单元的聚合物的主链的刚性高。由该聚合物制得的光学薄膜，Δnxz较大。因此，即使较薄，该光学薄膜也具有期望的相位差值。
进而，具有上述式(I)所示的重复单元的聚合物，芴骨架的共轭体系通过三键(炔基)延伸，并且芴骨架在相对于主链延伸的方向以基本垂直的方向取向。因此，含有该聚合物的光学薄膜，其相位差值的波长色散接近于平坦色散。
本发明的优选光学薄膜，波长550nm时的双折射率Δnxz为0.005～0.070，
其中，Δnxz＝nx-nz。nx表示薄膜面内的折射率为最大的方向(X轴方向)的折射率，nz表示薄膜的厚度方向的折射率。
本发明的其他优选光学薄膜显示Rth(450)/Rth(550)＜1.06。
本发明的其他优选光学薄膜显示Rth(650)/Rth(550)≥0.95，
上述Rth(450)、Rth(550)和Rth(650)表示波长450nm、波长550nm和波长650nm时的厚度方向的相位差值。
另外，本发明的其他优选光学薄膜，上述聚合物是聚酯系聚合物。
另外，本发明提供了具有上述光学薄膜的图像显示装置。
进而，本发明还提供了下述通式(X)所示的二炔基芴，
[化学式2]
Figure G200880017322XD00041
上述式(X)中，A、A’、B和B’分别表示取代基，a和a’表示对应的A和A’的取代数(0～3的整数)，b和b’表示对应的B和B’的取代数(0～3的整数)，A、A’、B和B’分别独立地表示卤素或碳原子数1～4的烷基。D和D’分别独立地表示OH基、NHR基(R表示氢或碳原子数1～4的烷基)、COOH基、或NCO基，R1和R2分别独立地表示选自由氢、卤素、碳原子数1～10的烷基、取代或无取代的芳基、取代或无取代的乙烯基、取代或无取代的乙炔基、SiR3R4R5基(R3～R5分别独立地表示碳原子数1～6的烷基或芳基)、和CR6R7(OH)基(R6和R7分别独立地表示碳原子数1～4的烷基)所组成的组中的原子或基团，X表示-CR8 2-(R8表示氢、碳原子数1～4的烷基、全氟基、或者取代或无取代的芳基)、-SiR9 2-(R9表示氢、碳原子数1～4的烷基、或者取代或无取代的芳基)、-O-、-NR10-(R10表示氢、碳原子数1～4的烷基、或者取代或无取代的芳基)、-CO-、或-SO2-。
另外，本发明提供了一种聚合物，其以上述的二炔基芴作为重复单元。
本发明的光学薄膜显示平坦色散。因此，本发明的光学薄膜作为例如用于补偿VA模式的液晶单元的相位差板适合。进而，本发明的光学薄膜，Δnxz较大。因此，本发明的光学薄膜即使厚度较薄，也具有期望的厚度方向的相位差值。
具有该光学薄膜的图像显示装置视角特性优异，薄且轻。
进而，本发明的二炔基芴，由于主链部分的两个苯环结合(该苯环是式中被“X”连接的2个苯环)，所以主链的刚性和直线性高。该二炔基芴导入到例如适当的聚合物中使用。导入有刚性且直线性高的二炔基芴的本发明的聚合物，通过将其制膜，可以形成显示平坦色散且较薄的光学薄膜。
具体实施方式
本说明书中的主要用语含义如下。
“nx”表示薄膜面内的折射率为最大的方向(X轴方向)的折射率，“ny”表示薄膜面内的与X轴方向垂直方向(Y轴方向)的折射率，“nz”表示与X轴和Y轴垂直方向(薄膜的厚度方向)的折射率。其中，nx≥ny。
“Δnxz”表示25℃、波长(λ)nm时薄膜的厚度方向的双折射率。Δnxz由Δnxz＝nx-nz求得。
“面内的相位差值(Re(λ)”是指25℃、波长(λ)nm时薄膜的面内的相位差值。在将薄膜厚度记作d(nm)时，Re(λ)可以通过Re(λ)＝(nx-ny)×d求得。
“厚度方向的相位差值(Rth(λ)”是指25℃、波长(λ)nm时薄膜的厚度方向的相位差值。在将薄膜厚度记作d(nm)时，Rth(λ)可以通过Rth(λ)＝(nx-nz)×d求得。
“聚合物”包括聚合度(在该聚合物含有多种重复单元时，是各单元的总计聚合度)20以上的高聚合物，进而还包括聚合度为2以上，且小于20的低聚合物(也称作“低聚物”)。
本发明人等发现，由具有下述通式(I)所示的重复单元的聚合物制成的薄膜在波长450～750nm的可见光区域相位差值的波长色散接近于平坦色散，并且Δnxz较大。本发明专门利用了该聚合物的性质，提供了显示平坦色散(即，相位差值对波长的依赖性小)且薄的光学薄膜。
[化学式3]
Figure G200880017322XD00061
上式(I)中，A、A’、B和B’分别表示取代基，a和a’表示对应的A和A’的取代数，b和b’表示对应的B和B’的取代数。上述a和a’表示0～3的整数，b和b’表示表示0～3的整数。
A、A’、B和B’分别独立地表示卤素或碳原子数1～4的烷基。R1和R2分别独立地表示选自由氢、卤素、碳原子数1～10的烷基、取代或无取代的芳基、取代或无取代的乙烯基、取代或无取代的乙炔基、SiR3R4R5基、和CR6R7(OH)基所组成的组中的基团。上述R3、R4和R5分别独立地表示碳原子数1～6的烷基或芳基。上述R6和R7分别独立地表示碳原子数1～4的烷基。
式(I)中的X表示-CR8 2-、-SiR9 2-、-O-、-NR10-、-CO-、或-SO2-。上述R8表示氢、碳原子数1～4的烷基、全氟基、或者取代或无取代的芳基。上述R9表示氢、碳原子数1～4的烷基、或者取代或无取代的芳基。上述R10表示氢、碳原子数1～4的烷基或者取代或无取代的芳基。
上述式(I)所示的重复单元中，优选下述式(II)所示的重复单元。
[化学式4]
Figure G200880017322XD00071
在式(II)中，A、A’、B、B’、a、a’、b、b’、R1、R2和X与式(I)相同。
式(I)和式(II)的A、A’、B和B’对光学薄膜的波长色散性没有特别影响。因此，所述具有A、A’、B和B’为卤素或碳原子数1～4的烷基的重复单元的聚合物可以形成显示平坦色散的光学薄膜。
优选上述A和A’的至少一者是碳原子数1～4的烷基(优选为甲基)，且其取代数为1或2(a＝1～2，和a’＝1～2)。具有该重复单元的聚合物透明性优异，且溶剂溶解性优异。
更优选式(I)和式(II)的A和A’是无取代(a＝0，且a’＝0)。进而优选式(I)和式(II)的B和B’是无取代(b＝0，且b’＝0)。
此外，式(I)和式(II)的X优选为-O-、-CO-、或-SO2-，进而优选上述X是-O-。
具有上述式(I)或式(II)所示的重复单元的聚合物，主链部的2个苯环通过2价的结合基X结合。因此，该聚合物主链的直线性和刚性高。由此，该聚合物制成的薄膜具有较大的Δnxz。
式(I)和式(II)的R1和R2分别独立地表示氢、碳原子数1～6的烷基、三甲基硅基或C(CH3)2(OH)基。特别是更优选式(I)和式(II)的R1和R2分别独立地表示碳原子数1～6的烷基、三甲基硅基或C(CH3)2(OH)基。
具有上述式(I)或式(II)所示的重复单元的聚合物，芴骨架的共轭体系通过三键(炔基)延伸，并且芴骨架相对于主链延伸的方向以基本垂直的方向取向。因此，该聚合物在具有上述重复单元的部位的相位差值的波长色散性大。因此往往是导入越多的式(I)或式(II)所示的重复单元，所得薄膜的相位差值的波长色散就逐渐从平坦色散变为逆色散。
上述式(I)或式(II)所示的重复单元的导入量没有特殊限定，只要在聚合物总体中含有1摩尔％以上即可。尤其是，如上所述，往往导入越多的式(I)或式(II)的重复单元，所得的光学薄膜就会越加呈现逆色散。因此，优选含有聚合物总体的5摩尔％以上、进而优选含有10摩尔％以上、特别优选含有12.5摩尔％以上的式(I)或式(II)所示的重复单元。
另一方面，如果式(I)或式(II)所示的重复单元的导入量过多，则可能得不到耐热性、透明性等优异的光学薄膜。基于这样的原因，式(I)或式(II)的重复单元的导入量的上限优选为聚合物总体的90摩尔％，更优选为60摩尔％，特别优选为40摩尔％。
上述式(I)或式(II)的重复单元作为适当合适的聚合物的结构单元被导入。优选向可以构成成膜后显示正色散的薄膜的聚合物(下面有时将该聚合物称作“正色散聚合物”)中导入上述式(I)或式(II)的重复单元。在该正色散聚合物中导入上述式(I)或式(II)的重复单元而成的本发明的聚合物，可以形成在成膜后显示平坦色散的光学薄膜。
另外，式(I)或式(II)的重复单元的排列可以是无规的，也可以是嵌段的。
作为上述正色散聚合物可以列举出聚酯系聚合物、聚酰亚胺系聚合物、聚酰胺系聚合物、聚酰胺酰亚胺系聚合物等。其中，本发明的聚合物优选为在聚酯系聚合物中导入上述式(I)或式(II)所示的重复单元而成的聚合物。这是由于该聚合物制成的薄膜耐热性优异、双折射率较高、可以通过涂布法形成的缘故。
下文中，在特指在聚酯系聚合物中导入式(I)或式(II)所示的重复单元而成的聚合物时，将该聚合物称作“导入有芴的聚酯聚合物)。
上述聚酯系聚合物，只要是主链具有酯键就没有特殊限定。作为聚酯系聚合物，由于直线性和刚性优异，所以优选芳香族聚酯系聚合物。
作为该芳香族聚酯系聚合物，可以列举出具有下述通式(III)所示的重复单元的聚合物。
[化学式5]
Figure G200880017322XD00091
上述式(III)中，Ar表示芳香环。式(III)中，Ar是例如选自下组式(IV)所示的芳香环组中的一种芳香环。
[化学式6]
上组式(IV)中，G分别独立地表示氢原子、卤素、碳原子数1～4的烷基或苯基，g1～g3表示其取代数。g1表示0～4的整数，g2表示0～3的整数，g3表示0～2的整数。(IV)组式的R表示氢原子、或取代基(作为该取代基优选为卤素、或碳原子数1～4的烷基)。
式(III)的Ar优选为下组式(IV’)所示的单一的芳香环中的任一个。(IV’)组式的G和g1与(IV)组式相同。将(IV’)组式所示的左侧的芳香环称作“对位取代体”，将右侧的芳香环称作“间位取代体”。
另外，式(III)的Ar优选为(IV)组式或(IV’)组式所示的G是氢原子(无取代)的芳香环。另外，在G是取代基的情况中，优选其取代数为1～2。
[化学式7]
Figure G200880017322XD00111
在本发明的一个实施方式中，上述聚酯系聚合物更优选在分子结构中分别具有式(III)的Ar是对位取代体的重复单元、和式(III)的Ar是间位取代体的重复单元。该聚合物通过导入对位取代体而Δnxz变高，且通过导入间位取代体而溶剂溶解性优异。
另外，在本发明的另一实施方式中，上述聚酯系聚合物更优选具有式(III)的Ar仅由对位取代体构成的重复单元。
优选上述聚酯系聚合物还含有下述通式(V)所示的重复单元。
[化学式8]
Figure G200880017322XD00112
式(V)中，Y表示共价键、或选自由CH2基、C(CH3)2基、C(CZ3)2基(这里，Z表示卤素)、CO基、氧原子、硫原子、SO2基、Si(CH2CH3)2基、和N(CH3)基所组成的组中的原子或基团。E和H是取代基，e表示E的取代数(0～4的整数)，h表示H的取代数(0～4的整数)。E和H分别独立地表示选自由氢、卤素、烷基、取代烷基、硝基、氰基、硫代烷基、烷氧基、芳基、取代芳基、烷基酯基、和取代烷基酯基所组成的组中的原子或基团，在多个时分别相同或不同。q1表示0～3的整数，q2表示1～3的整数。作为卤素，可以列举出例如氟、氯、溴、和碘。作为取代烷基，可以列举出例如卤代烷基。另外作为取代芳基，可以列举出例如卤代芳基。
特别是，优选式(V)的Y是共价键，且q1、q2、e和h是1的重复单元。该重复单元以下述式(VI)表示。
[化学式9]
Figure G200880017322XD00121
式(VI)中，E和H分别独立地表示选自由氢、卤素、烷基、取代烷基、硝基、氰基、硫代烷基、烷氧基、芳基、取代芳基、烷基酯基、和取代烷基酯基所组成的组中的原子或基团。优选E和H是氢原子以外的原子或基团，更优选E和H是卤代烷基(CF3等)等碳原子数1～4的取代烷基、或CH3等碳原子数1～4的烷基。
本发明的导入有芴的聚酯聚合物是具有上述式(1)和/或式(II)的重复单元、和上述式(III)的重复单元的聚合物。其中，本发明的导入有芴的聚酯聚合物优选具有下述通式(VII)或通式(VIII)所示的重复单元。
[化学式10]
Figure G200880017322XD00122
[化学式11]
Figure G200880017322XD00131
在式(VII)和式(VIII)中，A、a、A’、a’、B、b、B’、b’、R1、R2和X与上述式(I)相同。另外，Ar1和Ar2分别独立地表示选自上述(IV)组式或(IV’)组式所示的芳香环组中的芳香环。在式(VII)和式(VIII)中，E、e、H、h、Y、q1和q2与上述式(V)相同。m表示1～90摩尔％，n表示10～90摩尔％。其中，在设定聚合物总体为100时，m+n≤100摩尔％。
式(VII)和式(VIII)的A和A’优选为无取代(a＝0，且a’＝0)。在上述A和A’具有取代基时，优选A和A’的至少一者是碳原子数为1～4的烷基(优选为甲基)，其取代数为1或2(a＝1～2，且a’＝1～2)。
另外，式(VII)和式(VIII)的B和B’优选为无取代(b＝0，且b’＝0)。
进而，式(VII)和式(VIII)的X优选为-O-、-CO-、或-SO2-，更优选X是-O-。
另外，式(VII)和式(VIII)的R1、和R2优选分别独立为氢、碳原子数1～6的烷基、三甲基硅基或C(CH3)2(OH)基。特别是R1和R2更优选是碳原子数1～6的烷基、三甲基硅基或C(CH3)2(OH)基。
进而，式(VII)和式(VIII)的Ar1和Ar2优选分别独立地表示(IV’)组式所示的对位取代体或间位取代体。特别是，更优选该(IV’)组式所示的G是氢原子(无取代)的对位取代体或间位取代体。
导入仅具有对位取代体的芴的聚酯聚合物以下述式(XI)表示。导入具有对位取代体和间位取代体的芴的聚酯聚合物以下述式(XII)表示。
[化学式12]
在式(VI)和式(VII)中，A、a、A’、a’、B、b、B’、b’、R1、R2和X与上述式(VII)相同。E、e、H、h、Y、q1和q2与上述式(V)相同。G和g1与上述(IV’)组式相同。式(XI)的m表示1～90摩尔％，n表示10～90摩尔％。其中，在设定聚合物总体为100时，50摩尔％≤m+n≤100摩尔％。另外，式(XII)的l表示1～30摩尔％，m表示1～30摩尔％，n表示1～30摩尔％，o表示1～30摩尔％。其中，在设定聚合物总体为100时，70摩尔％≤l+m+n+o≤100摩尔％。
本发明的聚合物的重均分子量(Mw)没有特殊限定，优选为1000～1000000，更优选为2000～500000。该分子量的聚合物，可以得到溶剂溶解性优异，并且难以出现由伸缩、变形等带来的裂纹的光学薄膜。
另外，本发明的聚合物的玻璃化转变温度，可以通过调节式(I)或式(II)中的取代基的种类和取代数、以及主链的种类、各重复单元的导入量等来适当设定。该聚合物的玻璃化转变温度为100℃以上，优选为130℃以上。由该玻璃化转变温度的聚合物形成的薄膜具有作为光学薄膜充分的耐热性。另外，玻璃化转变温度是根据JIS K 7121(1987)的DSC法求出的。
具有上述式(I)或式(II)的重复单元的聚合物可以通过将下述通式(X)所示的二炔基芴(单体)导入到正色散聚合物中而得到。
[化学式14]
Figure G200880017322XD00151
上述式(X)中，A、A’、B和B’分别表示取代基，a和a’表示对应的A和A’的取代数，b和b’表示对应的B和B’的取代数。上述a和a’是0～3的整数，上述b和b’是0～3的整数。
A、A’、B和B’分别独立地表示卤素或碳原子数1～4的烷基。D和D’分别独立地表示OH基、NHR基(R表示氢或碳原子数1～4的烷基)、COOH基、或NCO基。R1和R2分别独立地表示选自由氢、卤素、碳原子数1～10的烷基、取代或无取代的芳基、取代或无取代的乙烯基、取代或无取代的乙炔基、SiR3R4R5基和CR6R7(OH)基所组成的组中的基团。上述R3、R4、和R5分别独立地表示碳原子数1～6的烷基或芳基。上述R6和R7分别独立地表示碳原子数1～4的烷基。
式(X)的X表示-CR8 2-、-SiR9 2-、-O-、-NR10-、-CO-、或-SO2-。上述R8表示氢、碳原子数1～4的烷基、全氟基、或者取代或无取代的芳基。上述R9表示氢、碳原子数1～4的烷基、或者取代或无取代的芳基。上述R10表示氢、碳原子数1～4的烷基、或者取代或无取代的芳基。
上述式(X)的D和D’是与构成聚合物的其他重复单元键合的基团。本发明的二炔基芴，优选上述式(X)的D和D’是OH基或COOH基，更优选D和D’是OH基。这是由于这样的二炔基芴可以容易地与例如羧酸或羟基反应形成酯键的缘故。
上述式(X)所示得二炔基芴，例如，作为重复单元被导入到聚合物中。通过将本发明的二炔基芴导入到正色散的聚合物中，使得正色散聚合物的光学性质改变。由此，由该聚合物制得的薄膜接近于平坦色散。虽然本发明的二炔基芴本身显示逆色散，但是本发明的二炔基芴具有使导入有它的正色散聚合物的波长色散接近平坦色散的作用。
该作用，对应于二炔基芴的导入量，且随着其导入量的增加，所得薄膜逐渐接近平坦色散。
因此，本发明提供了通过向聚酯系聚合物等正色散聚合物中导入上述式(X)所示的二炔基芴，来调节含有该正色散聚合物的光学薄膜的相位差值的光学薄膜的相位差调节方法。根据该调节方法，通过适当调节二炔基芴相对于正色散聚合物的导入量，从接近平坦色散的光学薄膜到显示平坦色散的光学薄膜可以任意制作。
上述式(X)所示的二炔基芴可以通过例如下面的方法来制造(参照下述反应式(a)～(c))。其中，下述反应式(a)～(c)中的A、a、B、b、R1、R2和式(X)相同。
(1).式(X)的D和D’是OH基的二炔基芴的制造方法(参照反应式(a))。
在酸催化剂下使2，7-二溴芴衍生物与酚衍生物反应，然后在钯(0)催化剂下与炔基化合物反应。
[化学式15]
Figure G200880017322XD00171
(2).式(X)的D和D’是COOH基的二炔基芴的制造方法(参照反应式(b))。
在酸催化剂下使2，7-二溴芴衍生物与酚衍生物反应，然后用高锰酸钾氧化，用酯保护，然后在钯(0)催化剂下与乙炔基化合物反应并水解。
[化学式16]
Figure G200880017322XD00172
(3).式(X)的D和D’是NCO基或NH2基的二炔基芴的制造方法(参照反应式(c))。
可以使通过上述方法(2)得到的具有COOH基的二炔基芴与二氯亚砜反应，然后与叠氮化钠反应，从而得到具有NCO基的二炔基芴。
进而，使其水解，可以得到具有NH2基的二炔基芴。
[化学式17]
Figure G200880017322XD00181
本发明的光学薄膜，可以通过将含有本发明的聚合物的形成材料成膜来得到。
另外，光学薄膜的形成材料中，除了本发明的聚合物以外，还可以含有结构不同的其他聚合物。其中，上述聚合物在本发明的聚合物的取向性不明显降低的范围内取向。
作为上述其他的聚合物可以列举出例如，通用树脂、工程塑料、热塑性树脂、热固性树脂等。作为通用树脂，可列举出例如聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯树脂、丙烯腈-苯乙烯树脂等。作为工程塑料可以列举出例如聚缩醛、聚碳酸酯、聚酰胺(尼龙)、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等。作为热塑性树脂可以列举出例如，聚苯硫醚、聚醚砜、聚酮、聚酰亚胺、聚对苯二甲酸环己烷二甲醇酯、聚芳酯、液晶聚合物等。作为热固性树脂可以列举出例如，环氧树脂、酚醛清漆树脂等。这些其他聚合物的配合量，在形成材料中例如为0～50质量％，优选为0～30质量％。
另外，根据需要在上述形成材料中还可以配合例如稳定剂、增塑剂、金属类等各种添加剂。
本发明的光学薄膜的厚度没有特殊限定，通常为200μm以下。由于可以使图像显示装置薄型化，所以光学薄膜的厚度优选为20μm以下，更优选为15μm以下，特别优选为10μm以下。另一方面，可以适当设定光学薄膜的厚度的下限，以具有期望的相位差值。通常，光学薄膜的厚度为1μm以上，优选为2μm以上。本发明的聚合物可以通过涂布来制膜。因此，含有本发明的聚合物的光学薄膜可以较薄地形成。
本发明的光学薄膜的制造方法没有特别限定，可以列举出例如将含有本发明的聚合物的形成材料制膜，并根据需要拉伸(或收缩)的方法等。制膜可以通过将上述形成材料涂布在适当的基材上来进行。
上述形成材料的涂布，可以列举出例如，将上述形成材料加热熔融，将其涂布在基材上的方法；将使上述形成材料溶解在溶剂中而得到的聚合物溶液涂布在基材上的方法等。从制造效率、分子取向控制、和光学各向异性控制等的观点出发，优选在基材上涂布聚合物溶液的方法。
特别是，通过在基材上涂布含有本发明的聚合物的聚合物溶液，可以形成显示负的单轴性(折射率椭球体nx≈ny＞nz)的涂膜。
具体地讲，在基材上涂布含有本发明的聚合物的聚合物溶液，然后干燥，在该过程中对涂膜的面内(X轴方向和Y轴方向)施加收缩力，从而能够形成显示负的单轴性的涂膜。这样，本发明的聚合物，无论基材有无取向，通过在基材上涂布，均可以形成显示光学单轴性的涂膜。
另外，“nx≈ny”，不仅包括nx和ny完全相同的情况，而且还包括基本上相同的情况。nx和ny基本上相同的情况是指例如，Re(590)是0nm～10nm，优选是0nm～5nm。
上述聚合物溶液可以通过将本发明的聚合物(根据需要也可配合其他的聚合物和各种添加剂等)溶解在适当的溶剂中来调制。本发明的聚合物的溶剂溶解性优异，所以可以容易地调制上述聚合物溶液。
上述溶剂，只要是能够溶解本发明的聚合物等就没有特殊限定，可以适当选择。溶剂可以列举出例如有机溶剂。作为有机溶剂可以列举出例如，氯仿、二氯甲烷、四氯化碳、二氯乙烷、四氯乙烷、三氯乙烯、四氯乙烯、氯苯、邻二氯苯等卤代烃类；苯酚、对氯苯酚等酚类；苯、甲苯、二甲苯、甲氧基苯、1，2-二甲氧基苯等芳香族烃类；丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮、环戊酮、2-吡咯烷酮、N-甲基-2-吡咯烷酮等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯类；叔丁醇、甘油、乙二醇、三乙二醇、乙二醇单甲醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇、二丙二醇、2-甲基-2，4-戊二醇等醇类；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等酰胺类；乙腈、丁腈等腈类；乙醚、二丁醚、四氢呋喃等醚类、二硫化碳、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂等。这些溶剂可以单独使用，也可以两种以上并用。
上述聚合物溶液，相对于100质量份溶剂，优选配合的聚合物等的固体成分为5～50质量份，更优选为10～40质量份。上述浓度范围的聚合物溶液是适合涂布的粘度，所以优选。
另外，聚合物溶液的涂布方法，可以列举出旋涂法、辊涂法、流涂法、印刷法、浸涂法、流延成膜法、棒涂法、凹版印刷法等。
将上述聚合物溶液涂布在基材上形成涂膜后，也可以对该涂膜进行干燥。干燥处理可以通过例如自然干燥、风干、加热干燥等来进行。在加热干燥的情况下，对该温度没有特殊限定，例如为25℃～250℃，优选为40℃～200℃。
在最终得到的涂膜(即光学薄膜)中残留的溶剂量优选为1质量％以下，更优选为0.5质量％以下。这是由于残留溶剂量低的光学薄膜，尺寸稳定性优异，光学特性不易出现随时间变化的缘故。
涂布上述形成材料(聚合物溶液等)的基材，没有特殊限定。作为该基材可以是例如合成树脂制基材，或者也可以是玻璃基材、硅晶圆类的无机化合物制基材。作为合成树脂制基材，可以列举出用浇铸法制成的薄膜、在熔融聚合物成膜后进行拉伸处理的薄膜等。其中，由于可以精细涂布而优选进行了拉伸处理的薄膜。
另外，基材优选透明性优异的。通过使用透明性优异的基材，可以将在该基材上形成的光学薄膜，在不从基材上剥离的情况下直接使用。
作为上述合成树脂制基材的树脂成分，可以列举出例如，三乙酰纤维素(TAC)等乙酸酯树脂、聚酯树脂、聚醚砜树脂、聚砜树脂、聚碳酸酯树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚烯烃树脂、丙烯酸树脂、聚降冰片烯树脂、纤维素树脂、聚烯丙酸酯树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙烯醇树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏二氯乙烯树脂、液晶聚合物、和它们的混合物等。进而，上述树脂成分还可以是侧链具有取代酰亚胺基或无取代酰亚胺基的热塑性树脂、与侧链具有取代苯基或无取代苯基和硝基的热塑性树脂形成的混合物等(该混合物公开在日本专利申请公开2001-343529号公报中)。
基材的厚度例如是12μm～200μm，优选为20μm～150μm，更优选为25μm～100μm。若基材的厚度为12μm以上，就可以精细涂布聚合物溶液。另一方面，若基材的厚度为200μm以下，会进一步抑制光学薄膜的变形量。
通过将含有本发明的聚合物的形成材料涂布在基材上，可以形成显示光学单轴性的涂膜。该涂膜是本发明的光学薄膜。因此，本发明的光学薄膜薄，且显示光学单轴性(折射率椭球体nx≈ny＞nz)。该光学薄膜可以作为相位差板使用。
进而，如果拉伸或收缩上述涂膜，则可以形成显示光学双轴性(折射率椭球体nx＞ny＞nz)的光学薄膜。
作为涂膜的拉伸方法，优选例如，沿其长度方向单轴拉伸的自由端纵向拉伸、或固定其长度方向并且沿宽度方向单轴拉伸的固定端横向拉伸等。作为其他的拉伸方法可以列举出例如，沿长度方向和宽度方向两方进行拉伸的依次或同时的双轴拉伸等。另外，在形成有涂膜的基材是可拉伸的基材时，优选拉伸该基材的方法。由于通过该方法可以均匀地拉伸基材，所以可以随着该拉伸间接地均匀拉伸涂膜。另外，该方法可用于连续生产工序，产品的量产性高等方面优选。另外，上述基材和涂膜也可以同时拉伸。
另外，在是形成有涂膜的基材收缩得到的基材的情况中，通过使基材收缩，可以间接地收缩涂膜。在使基材收缩时，优选利用拉伸机等来控制基材的收缩率。作为其控制方法，可以列举出例如，暂时放开拉伸机的夹子，使基材沿着基材的移送方向松弛的方法、或慢慢使拉伸机的夹子间隔变短的方法等。
本发明的光学薄膜的厚度方向的相位差值(Rth(λ))和面内的相位差值(Rth(λ))可以适当调节。该调节可以通过例如选择使用的聚合物的结构和分子量、设定光学薄膜的厚度、和设定制膜时的拉伸比例(或收缩比例)等方法来进行。
含有本发明的聚合物的光学薄膜，其波长色散接近平坦色散。具体地讲，本发明的光学薄膜满足0.97≤Rth(450)/Rth(550)＜1.06、1.03≥Rth(650)/Rth(550)≥0.95的关系。
特别是，含有上述式(I)或式(II)的导入量增加的或作为式(I)或式(II)的R1和R2选择适当取代基的聚合物的光学薄膜满足0.97≤Rth(450)/Rth(550)≤1.03的关系，进而满足0.97≤Rth(450)/Rth(550)≤1.02的关系。该光学薄膜，其波长色散更接近平坦色散。
另外，含有式(I)或式(II)的导入量增加的或作为式(I)或式(II)的R1和R2选择适当取代基的聚合物的光学薄膜满足1.03≥Rth(650)/Rth(550)≥0.97的关系。进而满足1.03≥Rth(650)/Rth(550)≥0.98的关系。该光学薄膜，与上述同样更接近平坦色散。
另外，在本发明的光学薄膜的折射率椭球体满足nx＞ny＞nz的关系时，该光学薄膜面内的相位差值也满足Re(450)/Re(550)＜1.06、Re(650)/Re(550)≥0.95的关系。进而，对其面内的相位差值，含有增加式(I)的导入量的聚合物的光学薄膜，其波长色散也越接近平坦色散。
另外，Rth(450)、Rth(550)、和Rth(650)分别表示在25℃下波长450nm、波长550nm、和波长650nm下的厚度方向的相位差值。Re(450)、Re(550)、和Re(650)分别表示在25℃下波长450nm、波长550nm、和波长650nm下的面内的相位差值。
本发明的光学薄膜的双折射率可以通过上述式(I)或式(II)的导入量、聚酯的结构等来适当设计。本发明的光学薄膜的波长550nm下的双折射率(Δnxz(550))优选为0.005以上，更优选为0.01以上。上述Δnxz(550)的上限优选为0.070。
本发明的光学薄膜可以在任意适当的用途中使用。本发明的光学薄膜的代表性用途是相位差板。相位差板在液晶显示装置的λ/4板、λ/2板、视角放大薄膜等中使用。作为光学薄膜的其他用途，可以列举出图像显示装置的防反射膜用途等。作为图像显示装置可以列举出液晶显示装置、有机EL显示器、和等离子体显示器等。
本发明的光学薄膜可以以层叠有其他光学部件的光学叠层体的方式使用。作为该光学叠层体可以列举出例如，在本发明的光学薄膜上叠层具有保护层的偏振器的叠层体(该叠层体通常被称作“偏光板”)、在本发明的光学薄膜上叠层其他的相位差板的叠层体等。
构成这些叠层体的各层，通常是使用公知的粘合剂(或粘结剂)接合的。作为该粘合剂可以列举出溶剂型粘合剂、乳胶型粘合剂、压敏性粘合剂、再湿性粘合剂、缩聚型粘合剂、无溶剂型粘合剂、薄膜状粘合剂、热熔型粘合剂等。
上述偏振器是将自然光或偏振光转变成直线偏振光的光学部件。对偏振器没有特殊限定，可以使用适当合适的偏振器。作为偏振器优选含有碘或两色性染料的以乙烯醇系聚合物作为主要成分的拉伸薄膜。偏振器的厚度通常为5μm～50μm。另外，为了防止偏振器收缩或膨胀，或防止紫外线引起的劣化，而将上述保护层贴合在偏振器上。作为保护层，优选列举含有纤维素系聚合物或降冰片烯系聚合物的聚合物薄膜。保护层的厚度通常为10μm～200μm。另外，形成本发明的光学薄膜时的基材也可以兼为上述保护层。
本发明的图像显示装置具有本发明的光学薄膜。
本发明的图像显示装置，除了将本发明的光学薄膜组装到液晶面板等中以外，可以采用与以往的图像显示装置同样的构成。
本发明的图像显示装置可以在任意适当的用途中使用。在该图像显示装置是液晶显示装置时，其用途有例如，电脑显示器、笔记本电脑、复印机等办公设备；手机、钟表、数码相机、便携信息终端(PDA)、便携游戏机等便携机器；摄像机、微波炉等家庭用电器；后监视器、汽车导航系统用监视器、车载音响等车载用设备；商业店铺用情报用显示器等展示仪器；监控器等警务设备；护理用显示器、医疗用显示器等护理医疗仪器等。
具有本发明的光学薄膜的图像显示装置，包括液晶显示装置、有机EL显示器、和等离子体显示器等，其优选用途为电视。电视的屏幕尺寸优选为宽17型(373mm×224mm)以上，进而优选为宽23型(499mm×300mm)以上，特别优选为宽32型(687mm×412mm)以上。
本发明的聚合物的透明性和耐热性优异，另外，显示规定的相位差值，所以可以作为各种光学薄膜的形成材料优选使用。
另外，作为光学薄膜以外的用途，本发明的聚合物可以作为塑料透镜、棱镜、光盘、光纤、光致抗蚀剂、全息显示器等各种光学部件的形成材料使用。
另外，本发明的聚合物可以在例如，燃料电池用电解质膜、半导体用涂布材料(芯片表面保护材料、芯片层间绝缘材料等)、半导体装置用密封材料、挠性电路基板用材料、光取向膜用材料、光波导材料、耐宇宙线材料(可用于人造卫星等)、分离膜用材料(气体分离用途等)、抗蚀剂材料、印刷用材料(彩色印刷用调色剂转印带等)等中。
进而，本发明的聚合物，由于溶剂溶解性优异，所以可以作为保护部件表面的涂布剂使用。
实施例
下面示出了实施例和比较例来具体说明本发明。但本发明并不受下述实施例限定。
另外，实施例和比较例中使用的各分析方法如下所示。
(1)化学结构的确定：
化学结构使用核磁共振仪(ブルカ社制，产品名“AVANCEII300”(测定溶剂：氘代氯仿、或氘代DMSO，频率：300MHz，观测核：1H、13C，测定温度：25℃)来特定。下面将该方法记作“NMR”。
(2)重均分子量的测定
调制测定用试样为0.1％的DMF溶液，将其用0.45μm的膜滤器过滤，然后使用内装有检测器(RI)的GPC本身(東ソ一社制，HLC-8120GPC)来测定分子量。具体地说，测定条件是，柱温40℃，泵流量0.40mL/分钟，测定用试样的分子量是使用预先分子量已知的标准聚氧乙烯的标准曲线，作为聚氧乙烯换算的分子量计算得到。另外，使用的柱子是将superAWM-H(直径6.0mm×15cm)、superAV4000(直径6.0mm×15cm)和superAW2500(直径6.0mm×15cm)串联连接使用的，流动相使用在容量瓶中加入10mmol的LiBr和10mmol的磷酸，然后加入DMF使总量为1L的液体。
(3)厚度的测定
厚度使用SLOAN社制的商品名“Dektak”来测定。
(4)Δnxz、Rth(λ)的测定
Δnxz等使用王子计测机器(株)制，商品名“KOBRA-WPR”，在25℃波长λ时测定。Rth(λ)是将波长λ的光从偏离试样的法线40度的角度入射，将测定出的值(R40λ)换算成Rth(λ)而求得的。
<合成例1>
(2，7-二羟基-9，9-[2，7-双(2-甲基-2-羟基-3-丁炔基)芴基]呫吨的合成)
将30.0g的2，7-二溴芴和24.43g的间苯二酚溶解在100mL的甲苯中，向其中加入3.48g浓硫酸和0.09g巯基丙酸，80℃下加热18小时。反应结束后用氢氧化钠中和，然后加入氯仿，过滤分离析出的固体，从而得到溴衍生物。
然后将0.008g双(三苯基膦)二氯钯(II)和0.002g碘化亚铜(I)在氮气气氛下溶解在1.0mL的二噁烷中。向该溶液中加入0.005g三叔丁基膦、0.046g二异丙基胺、0.037g 2-甲基-3-丁炔-2-醇、和0.10g的上述得到的溴衍生物，在80℃下搅拌20小时。然后减压除去溶剂，借助使用展开溶剂(己烷和乙酸乙酯的混合溶剂)的硅胶填充柱来纯化残渣。进而用混合溶剂(己烷∶氯仿＝2∶1)重复进行重结晶，从而得到0.057g化合物(收率56.4％)。经NMR测定，结果所得的化合物是下述式(1)所示的2，7-二羟基-9，9-[2，7-双(2-甲基-2-羟基-3-丁炔基)芴基]呫吨。
[化学式18]
Figure G200880017322XD00271
<合成例2>
(2，7-二羟基-9，9-[2，7-双(5-己炔基)芴基]呫吨的合成)
将1.010g的钯碳和0.365g的碘化亚铜(I)在氮气气氛下溶解在95mL的二甲基乙酰胺和5mL水中。向该溶液中加入0.800g三苯基膦、0.046g二异丙基胺、4.000g的1-己炔、和10.00g的上述<合成例1>中得到的溴衍生物，在80℃下搅拌24小时。然后减压除去溶剂，借助使用展开溶剂(己烷和乙酸乙酯的混合溶剂)的硅胶填充柱来纯化残渣。纯化后得到3.370g化合物(收率33.8％)。经NMR测定，结果所得的化合物是下述式(2)所示的(2，7-二羟基-9，9-[2，7-双(5-己炔基)芴基]呫吨。
[化学式19]
[实施例1]
在冰冷的0.52g二氯亚砜中加入4mL吡啶。将0.17g间苯二甲酸和0.17g对苯二甲酸溶解在4mL吡啶中，将其在5～10分钟内慢慢地加入到上述含有二氯亚砜的吡啶中。然后移开冷却浴，在室温下搅拌20分钟(将该混合溶液称作“溶液A”)。另一方面，将0.34g双(4-羟基苯基)六氟丙烷和上述<合成例2>所得的0.52g的2，7-二羟基-9，9-[2，7-双(5-己炔基)芴基]呫吨溶解到4mL吡啶溶液中(将该溶液称作“溶液B”)。将溶液B一次性加入到溶液A中，80℃下加热4小时，然后搅拌一夜。将所得的溶液用氯仿稀释，然后加入到甲醇中。将析出的聚合物在甲醇中回流，过滤、干燥，从而得到0.91g聚合物(收率88.1％)。经NMR测定，该聚合物是下述式(3)所示的导入有芴的聚酯聚合物。该聚合物的重均分子量是64300。
[化学式20]
Figure G200880017322XD00282
将所得的导入有芴的聚酯聚合物溶解在环己酮中，调制聚合物溶液(固体成分浓度16质量％)。利用旋涂法涂布到玻璃板上，80℃下干燥5分钟，然后进一步在150℃下干燥30分钟，从而调制聚酯薄膜。
该聚酯薄膜的干燥厚度是9.81μm。
该聚酯薄膜550nm时的双折射率(Δnxz)是0.0066。
另外，测定该薄膜的厚度方向的相位差值的波长色散，结果Rth(450)/Rth(550)＝0.98，Rth(650)/Rth(550)＝1.02。
[实施例2]
除了使用0.23g双酚A来替代实施例1的0.34g双(4-羟基苯基)六氟丙烷以外，其他与实施例1同样来合成聚合物。另外，经NMR测定，该聚合物是下述式(4)所示的导入有芴的聚酯聚合物。该聚合物的重均分子量是17200。
[化学式21]
Figure G200880017322XD00291
将所得的导入有芴的聚酯聚合物与实施例1同样制膜，制作聚酯薄膜(干燥厚：4.36μm)。
该实施例2的聚酯薄膜550nm时的双折射率(Δnxz)是0.0067。
该薄膜的Rth(450)/Rth(550)＝0.98，Rth(650)/Rth(550)＝1.01。
[实施例3]
除了使用0.32g双(三氟甲基)联苯来替代实施例1的0.34g双(4-羟基苯基)六氟丙烷以外，其他与实施例1同样来合成聚合物。另外，经NMR测定，该聚合物是下述式(5)所示的导入有芴的聚酯聚合物。该聚合物的重均分子量是5290。
[化学式22]
Figure G200880017322XD00292
将所得的导入有芴的聚酯聚合物与实施例1同样制膜，制作聚酯薄膜(干燥厚：2.40μm)。
该实施例3的聚酯薄膜550nm时的双折射率(Δnxz)是0.011。
另外，该薄膜的Rth(450)/Rth(550)＝1.00，Rth(650)/Rth(550)＝1.02。
[实施例4]
除了使用0.21g双(4，4’-二羟基-2，2’-二甲基)联苯来替代实施例1的0.34g双(4-羟基苯基)六氟丙烷以外，其他与实施例1同样来合成聚合物。另外，经NMR测定，该聚合物是下述式(6)所示的导入有芴的聚酯聚合物。该聚合物的重均分子量是13100。
[化学式23]
将所得的聚合物与实施例1同样制膜，制作聚酯薄膜(干燥厚：4.35μm)。
该实施例4的聚酯薄膜550nm时的双折射率(Δnxz)是0.011。
另外，该薄膜的Rth(450)/Rth(550)＝1.00，Rth(650)/Rth(550)＝1.02。
[实施例5]
除了使用0.33g对苯二甲酸来代替实施例1的0.17g间苯二甲酸和0.17g对苯二甲酸，并且使用0.21g双(4，4’-二羟基-2，2’-二甲基)联苯来替代实施例1的0.34g双(4-羟基苯基)六氟丙烷以外，其他与实施例1同样来合成聚合物。另外，经NMR测定，该聚合物是下述式(7)所示的导入有芴的聚酯聚合物。该聚合物的重均分子量是13000。
[化学式24]
Figure G200880017322XD00311
将所得的导入有芴的聚酯聚合物与实施例1同样制膜，制作聚酯薄膜(干燥厚：4.27μm)。
该实施例5的聚酯薄膜550nm下的双折射率(Δnxz)是0.015。
另外，该薄膜的Rth(450)/Rth(550)＝1.00，Rth(650)/Rth(550)＝1.02。
[比较例]
将6.77g甲乙酮和25.88g的间苯二酚溶解在7mL的甲苯中。向该溶液中加入3.66g浓硫酸和0.09g巯基丙酸，90℃下加热21小时。反应结束后用氢氧化钠中和，然后加入氯仿，过滤分离析出的固体。这样得到5.00g的2，7-双羟基-9-乙基-9-甲基呫吨。
除了使用0.32g双(三氟甲基)联苯来代替实施例1的0.34g双(4-羟基苯基)六氟丙烷，并且使用0.26g上述得到的2，7-二羟基-9-乙基-9-甲基呫吨来代替实施例1的0.52g的2，7-二羟基-9，9-[2，7-双(5-己炔基)芴基]呫吨以外，其他与实施例1同样来合成聚合物。另外，经NMR测定，结果该聚合物是下述式(8)所示的聚酯系聚合物。该聚合物的重均分子量是4310。
[化学式25]
Figure G200880017322XD00312
将所得的聚合物与实施例1同样制膜，制作聚酯薄膜(干燥厚：1.96μm)。
该比较例的聚酯薄膜550nm时的双折射率(Δnxz)是0.0213。
另外，该薄膜的Rth(450)/Rth(550)＝1.06，Rth(650)/Rth(550)＝0.97。
如上所述，实施例1～实施例5的光学薄膜显示了平坦色散。另一方面，比较例的光学薄膜Rth(450)/Rth(550)＝1.06，显示了正色散。

Claims (13)

1.一种光学薄膜，其含有具有下述通式(1)所示的重复单元的聚合物，
Figure A2008800173220002C1
其中，式(I)中，A、A’、B和B’分别表示取代基，a和a’表示对应的A和A’的取代数，其为0～3的整数，b和b’表示对应的B和B’的取代数，其为0～3的整数；A、A’、B和B’分别独立地表示卤素或碳原子数1～4的烷基；R1和R2分别独立地表示选自由氢、卤素、碳原子数1～10的烷基、取代或无取代的芳基、取代或无取代的乙烯基、取代或无取代的乙炔基、SiR3R4R5基、和CR6R7(OH)基所构成的组中的原子或基团，其中R3～R5分别独立地表示碳原子数1～6的烷基或芳基，R6和R7分别独立地表示碳原子数1～4的烷基；X表示-CR8 2-、-SiR9 2-、-O-、-NR10-、-CO-、或-SO2-，其中R8表示氢、碳原子数1～4的烷基、全氟基、或者取代或无取代的芳基，R9表示氢、碳原子数1～4的烷基、或者取代或无取代的芳基，R10表示氢、碳原子数1～4的烷基、或者取代或无取代的芳基。
2.根据权利要求1所述的光学薄膜，所述重复单元以下述通式(II)表示，
Figure A2008800173220003C1
其中，在式(II)中，A、A’、B、B’、a、a’、b、b’、R1、R2和X与式(I)相同。
3.根据权利要求1或2所述的光学薄膜，波长550nm时的双折射率Δnxz为0.005～0.070，
其中，Δnxz＝nx-nz，nx表示薄膜面内的折射率为最大的方向即X轴方向的折射率，nz表示薄膜的厚度方向的折射率。
4.根据权利要求1～3的任一项所述的光学薄膜，其显示出Rth(450)/Rth(550)＜1.06，
其中，Rth(450)和Rth(550)表示波长450nm和波长550nm时的厚度方向的相位差值。
5.根据权利要求1～4的任一项所述的光学薄膜，其显示出Rth(650)/Rth(550)≥0.95，
其中，Rth(550)和Rth(650)表示波长550nm和波长650nm时的厚度方向的相位差值。
6.根据权利要求1～5的任一项所述的光学薄膜，所述聚合物是聚酯系聚合物。
7.根据权利要求1～6的任一项所述的光学薄膜，其折射率椭球体满足nx≈ny＞nz，
其中，nx表示薄膜面内的折射率为最大的方向即X轴方向的折射率，ny表示同一薄膜面内与X轴方向垂直的方向即Y轴方向的折射率，nz表示薄膜的厚度方向的折射率。
8.根据权利要求1～6的任一项所述的光学薄膜，其折射率椭球体满足nx＞ny＞nz，
其中，nx表示薄膜面内的折射率为最大的方向即X轴方向的折射率，ny表示同一薄膜面内与X轴方向垂直的方向即Y轴方向的折射率，nz表示薄膜的厚度方向的折射率。
9.根据权利要求1～8的任一项所述的光学薄膜，由将上述聚合物涂布在基材上得到的涂膜构成。
10.根据权利要求1～9的任一项所述的光学薄膜，其厚度为20μm以下。
11.一种图像显示装置，其具有权利要求1～10的任一项所述的光学薄膜。
12.下述通式(X)所示的二炔基芴，
其中，式(X)中，A、A’、B和B’分别表示取代基，a和a’表示对应的A和A’的取代数，其为0～3的整数，b和b’表示对应的B和B’的取代数，其为0～3的整数；A、A’、B和B’分别独立地表示卤素或碳原子数1～4的烷基；D和D’分别独立地表示OH基、NHR基、COOH基、或NCO基，其中R表示氢或碳原子数1～4的烷基；R1和R2分别独立地表示选自由氢、卤素、碳原子数1～10的烷基、取代或无取代的芳基、取代或无取代的乙烯基、取代或无取代的乙炔基、SiR3R4R5基、和CR6R7(OH)基所构成的组中的原子或基团，其中R3～R5分别独立地表示碳原子数1～6的烷基或芳基，R6和R7分别独立地表示碳原子数1～4的烷基；X表示-CR8 2-、-SiR9 2-、-O-、-NR10-、-CO-、或-SO2-，其中R8表示氢、碳原子数1～4的烷基、全氟基、或者取代或无取代的芳基，R9表示氢、碳原子数1～4的烷基、或者取代或无取代的芳基，R10表示氢、碳原子数1～4的烷基、或者取代或无取代的芳基。
13.一种聚合物，其具有权利要求12所述的二炔基芴作为重复单元。
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