KR101169120B1 - 적층 유리 제품 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 적층 유리 제품 및 그 제조방법에 관한 것이다.
적층 유리, 코어, 무알카리, 다결정상 실리콘

Description

적층 유리 제품 및 그 제조방법 {Laminated glass articles and methods of making thereof}
본 출원은 "적층 유리 및 그 제조방법"의 명칭으로 2006. 2. 10.자로 출원된 미국출원번호 제60/772,034호를 우선권으로 청구하며, 이는 본원에 참고문헌으로서 포함된다.
AMLCD 및 OLED 디스플레이 분야에서, 다결정상 실리콘에 기초한 박막 트렌지스터(TFTs)는 전자를 좀 더 효율적으로 수송하는 성능을 가지므로 바람직하다. 다결정성 실리콘계 트렌지스터(p-Si)는 비정질-실리콘계 트렌지스터(a-Si) 보다 높은 이동도(mobility)를 갖는 것으로 특징된다. 이는 보다 작고 빠른 속도의 트렌지스터를 제조할 수 있도록 하며, 순차적으로 보다 밝고 빠른 디스플레이의 생산을 가능하게 한다.
p-Si계 트렌지스터의 한가지 문제점은 제조 시 a-Si 트렌지스터의 제조에 적용되는 것에 비하여 높은 제조 온도를 요구한다는 점이다. a-Si 트렌지스터 제조 시 적용되는 350℃의 최대 온도에 비하여 450 내지 600℃의 온도 범위가 요구된다. 이러한 온도에서, 대부분의 AMLCD 유리 기판은 압밀(compaction)로 알려진 프로세스를 겪는다. 압밀(또한 열압밀로 기술됨)은 유리의 가상(fictive) 온도에서의 변화로 인한, 유리 내 비가역적인 치수 변화(수축 또는 팽창)이다. 이러한 가상적(hypothetical) 온도는 유리 구조가 열적 평형에 있는 온도로서 정의된다. 이처럼, 유리의 가상 온도는 이전의 열적 이력에 대한 유리의 점탄성적인 응답을 측정한 것이다. 상기 트렌지스터들의 제조 시 포토리소그라피 공정을 통해서 마이크론의 공차(tolerances)로 4-6층의 일련의 정렬을 하는 것이 요구되므로, 이러한 압밀 거동은 문제가 된다. 압밀은 특정 유리 조성의 고유 점도 특성(왜곡점으로 나타냄) 및 제조 공정에 의해 결정되는 유리 시트의 열적 이력 모두에 좌우된다. 보다 높은 온도에서의 공정(저온의 p-Si TFTs에 의해 요구되는 것과 같은)은 유리가 충분한 열적 안정성을 갖도록, 즉 최소한의 압밀을 겪도록 유리 기판을 어닐링하는 단계가 부가적으로 요구될 수 있다.
유리 내 압밀 거동을 교정하고 최소화하기 위한 두가지 접근법이 있다. 첫번째는 p-Si TFT 제조 과정에서 유리가 겪는 것과 유사한 가상 온도를 생성하기 위하여 유리를 열적으로 전처리하는 것이다. 그러나, 이러한 접근 방법에는 몇 가지 어려움이 있다. 첫째, p-Si TFT 제조 과정에서 채택되는 다중 가열 단계는 이러한 전처리에 의해 완전하게 보상될 수 없는, 유리 내 다소 상이한 가상 온도를 생성한다. 둘째, 상기 유리의 열적 안정성은 p-Si TFT 제조의 세부 사항과 밀접하게 관련되는데, 이는 상이한 고객에 대한 상이한 전처리를 의미할 수 있다. 마지막으로, 전처리는 공정 비용이 들고 복잡하다.
또 다른 접근법은 압밀 응답의 속도(kinetics)를 늦추는 것이다. 이는 유리의 점도를 상승시킴으로써 달성될 수 있다. 따라서, 겪게 될 공정 온도(>～200-300℃)보다 유리의 왜곡점이 훨씬 큰 경우, 압밀은 최소화된다. 그러나, 이러한 접근법의 문제점은 이러한 높은 왜곡점을 갖는 유리 기판을 어떻게 비용적 측면에서 효율적으로 제조할 수 있는가 하는 점이다. 예를 들어, 매우 매끄러운 표면을 제조할 수 있어 이러한 적용에 높은 가치가 있는 용융 공정은 실투(devitrification)에 대해서 매우 안정한 유리를 요구한다. 이러한 요구조건은 용융 인발(fusion draw) 상에 "부서지시 쉬운(fragile)" 타입의 유리 제조를 배제한다. 부서지기 쉬운 유리는 예를 들어, 매우 높은 왜곡점(최소의 압밀을 위해) 및 낮은 용융 온도(melting temperature; 용이한 용융을 위해)와 같은 가파른 점도 곡선을 갖는 유리이다. 참고문헌으로서, C.A. Angell, "분광학 시뮬레이션 및 산란, 및 유리 내의 중간 범위 차수의 문제", J. Non-Cryst. Solids, 73 (1985) 1-17 참조. 이러한 타입의 유리는 실투(유리 내 결정상의 형성)가 나타나기 쉬운 경향이 있고, 그 결과 용융 공정에 의해 부과되는 형성 요구조건과 잘 맞지 않는 경향이 있다.
당 분야에서 요구되는 것은 낮은 압밀의 p-Si 유리 기판이다. 인발 공정(예를 들어, 용융 인발)의 열 용량(thermal capability)을 현저히 끌어올리지 않으면서 낮은 압밀(높은 왜곡점) 유리를 제조하는 것이 바람직하다. 이러한 요구에 해결하기 위하여, 본 명세서에서는 외피와 코어로 구성된 적층 유리 제품이 기술되며, 상기 외피는 낮은 압밀성 및 높은 왜곡점 유리로 구성된다.
발명의 요약
본 명세서에 기재된 물질, 화합물, 조성물, 제품, 소자(device) 및 방법의 목적에 따르면, 예시되고 광범위하게 기술된 바와 같이, 일 측면에서 기술되는 발명은 적층 유리 제품 및 그 제조방법에 관한 것이다.
부가적인 이점은 후술되는 상세한 설명에서 일부 설명될 것이며, 부분적으로는 상세한 설명으로부터 명확히 인식되거나, 또는 후술되는 측면들을 실시함으로써 수득될 수 있을 것이다. 후술되는 이점들은 첨부된 청구항에 특정된 구성요소 및 조합에 의해 이해되고 달성될 것이다. 전술한 일반적인 설명 및 후술되는 상세한 설명 모두는 단지 예시하고 설명하기 위한 것으로서 이에 본 발명이 한정되는 것은 아님이 이해되어야 한다.
본 명세서에 포함되어 일부를 구성하는 첨부된 도면은 후술되는 몇 가지 측면을 나타낸다.
도 1은 적층 유리 제품의 제조를 위한 이중 용융 공정(double fusion process)의 횡단면도이다.
본 명세서에서 기재되는 물질, 화합물, 조성물, 제품, 소자 및 방법들은 기술되는 발명의 특정 측면과 포함된 실시예에 대한 후술되는 상세한 설명과 도면을 참고로 하여 좀 더 용이하게 이해될 수 있을 것이다.
본 명세서에 따른 물질, 화합물, 조성물, 제품, 소자 및 방법들을 기술하고 설명하기 전에, 기술되는 측면들이 특정 합성방법 또는 특정 재료에 한정되는 것은 아니며, 물론 다양하게 변형될 수 있음이 이해되어야 한다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 용어들은 단지 특정 측면들을 설명하기 위한 것으로서 이에 한정되는 것은 아님이 이해되어야 한다.
또한, 본 명세서 전반에 걸쳐, 여러가지 공개문헌이 참고될 것이다. 이러한 공개문헌들의 내용은 기술되는 발명이 속한 분야의 상태를 좀 더 충분하게 기술하기 위하여 본 출원에 참고문헌으로서 그 전체가 포함된다. 기술되는 참고문헌들은 또한 참고되는 문장 내에서 언급되는 것에 포함된 물질에 대해서 참고로서 개별적으로 그리고 특별히 포함된다.
본 명세서 및 후술되는 청구항에서, 몇 가지 용어들이 다음과 같은 의미를 정의하기 위하여 사용될 것이다:
본 명세서의 청구항 및 명세서에 걸쳐 단어 "포함한다" 및 "포함하는"과 같은 상기 단어의 다른 형태는 포함하나 한정하는 것은 아니며, 예를 들어, 기타 첨가제, 구성성분, 완전체(integer) 또는 단계들을 배제하는 것은 아니다.
본 명세서 및 청구항에서 사용되는 바에 따라, 부정관사 또는 정관사는 문맥에서 특별히 다르게 기술하지 않는 한, 다수를 포함한다. 따라서, 예를 들어, "조성물"이라는 언급은 이러한 조성물들을 2 이상의 혼합물로 포함하며, "작용제"라는 언급은 이러한 작용제들을 2 이상의 혼합물로 포함하며, "상기 층"이라는 언급은 이러한 층들을 둘 이상의 조합으로 포함한다.
"선택적인" 또는 "선택적으로"는 이어서 기술되는 사건 또는 환경이 발생되거나 발생되지 않을 수 있으며, 사건 또는 환경이 발생되는 경우와 발생되지 않는 경우를 포함한다는 것을 의미한다.
본원에서 기술되는 특정 물질, 화합물, 조성물 및 구성성분들은 상업적으로 얻어질 수 있거나 또는 당업계에 공지된 일반적인 기술을 이용하여 용이하게 합성될 수 있다. 예를 들어, 기술된 화합물 및 조성물을 제조하는데 사용되는 출발물질 및 재료는 코닝사(Corning, N.Y.), 알드리치 케미컬사(밀워키, 위스콘신), 아크로스 오거닉스(모리스 플레인, 뉴저지), 피셔 사이언티픽(피츠버그, 펜실베니아), 또는 시그마(스트리트 루이스, 미주리)와 같은 상업적인 공급처로부터 얻거나, 또는 피셔 앤드 피셔의 유기 합성용 재료, 1-17권(존 윌리 및 선즈, 1991); 로드의 탄소 화합물 화학, 1-5권 및 추보(엘시비어 사이언스 출판, 1989); 유기 반응, 1-40권(존 윌리 앤드 선즈, 1991); 마치의 고급 유기 화학(존 윌리 앤드 선즈, 4판); 및 라록의 일반 유기 치환(VCH 출판사, 1989)와 같은 참고문헌들에 설명된 과정들에 따라서 당업자에게 널리 공지된 방법에 의해 제조된다.
또한, 본원에서 기술되는 사용가능한 물질, 화합물, 조성물 및 구성성분들은 상기 기술된 방법들 및 조성물들과 함께 사용되거나, 또는 이들의 제조에 사용되거나, 또는 이들의 산물일 수 있다. 이들 및 다른 물질들이 본원에서 기술되며, 이러한 물질들의 조합, 부분집합(subset), 상호작용, 그룹 등이 기술될 때 이러한 화합물들의 각각의 다양한 개별적이고 총체적인 조합 및 치환에 대한 특정한 참고가 명시적으로 기술되지 않을 수 있으며, 각각은 특별히 고려되어 본원에서 기술된다. 예를 들어, 만약 조성물이 기술되고 상기 조성물의 수개의 구성성분들에 대해 만들어질 수 있는 몇 가지 변형이 언급된다면, 다르게 특별히 지적되지 않는 한, 가능한, 각각 및 모든 조합과 치환이 특별히 고려된다. 따라서, 만약 구성성분 A, B, 및 C의 클래스가 기술되고 구성성분 D, E 및 F의 클래스가 기술되고, 조성물 A-D의 예가 기술된다면, 각각이 개별적으로 언급되지 않더라도 각각은 개별적으로 그리고 총체적으로 고려된다. 따라서, A-E, A-F, B-D, B-E, B-F, C-D, C-E 및 C-F의 조합 각각이 특별히 고려되고 A, B 및 C; D, E 및 F; 그리고 A-D의 조합의 예의 기재로부터 기술된 것으로 고려되어야 한다. 이와 유사하게, 이들의 모든 부분집합 또는 조합이 특별히 고려되고 기술된다. 따라서, 예를 들어, A-E, B-F, 및 C-E의 서브-그룹이 특별히 고려되고 A, B 및 C; D, E 및 F; 그리고 A-D의 조합의 예의 기재로부터 기술된 것으로 고려되어야 한다. 이러한 개념은 제조방법에서의 단계에 대한 기재, 및 기술된 조성물을 이용하는 점 등을 포함하여, 한정되지 않고 모든 측면에 적용된다. 따라서, 만약 수행가능한 여러가지 부가적인 단계가 있다면, 이들 부가 단계 각각은 기술된 방법들의 특정 측면 또는 측면들의 조합으로 수행될 수 있고, 이러한 각 조합은 특별히 고려되어 기술된 것으로 여겨져야 한다.
첨부된 실시예 및 도면을 설명하는 물질, 화합물, 조성물, 제품 및 방법의 특정 측면을 상세하게 하기 위하여 참고가 사용될 것이다.
I. 적층 유리 제품 ( Laminated Glass Articles )
일 측면에서, (1) 적어도 하나의 노출된 표면을 포함하는 유리 코어 및 (2) 유리 외피(glass skin)을 포함하는 유리 제품으로서, 상기 외피가 상기 코어의 노출된 표면에 연결되며(connected) 650℃를 초과하는 왜곡점을 갖는 유리 조성물을 포함하는 유리 제품이 기술된다. 본 명세서에서 사용되는 용어 "연결된(connected)"은 상기 외피가 상기 코어의 노출된 표면에 인접하거나(즉, 치밀하게 접촉함), 또는 하나 이상의 중간층을 거쳐 상기 코어에 간접적으로 부착될 때를 포함한다. 본 명세서에서 정의된 용어 "노출된 표면"은 만약 상기 외피 유리에 의해 접촉된다면 상기 외피 유리와 접촉될 수 있는 코어 유리의 임의의 표면이다. 상기 유리 제품은 하나 이상의 노출된 표면을 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 유리 코어가 유리 시트일 때, 상기 코어는 2개의 노출될 표면을 가지며, 여기서 하나 또는 둘 모두의 표면은 이에 연결된 유리 외피를 가질 수 있다. 상기 외피 및 코어 유리 조성물의 특성은 이하에서 상세히 기재된다.
a. 외피
상기 외피를 생성하는데 본원에서 유용한 유리 조성물은 650℃를 초과하는 왜곡점을 갖는다. 다른 실시예에서, 상기 외피 유리 조성물은 655, 660, 665, 670, 675, 680, 685, 690, 695, 700, 705, 710, 715, 720, 725, 730, 735, 740, 745, 750, 760, 770, 780, 790 또는 800℃를 초과하는 왜곡점을 가질 수 있으며, 여기서 상기 언급된 값(stated value) 모두는 적절한 경우 상한 또는 하한의 종점(end point)을 형성할 수 있다. 일 측면에서, 상기 외피는 700℃ 내지 800℃의 왜곡점을 갖는 유리를 포함한다. 또 다른 측면에서, 상기 외피는 700℃ 내지 750℃의 왜곡점을 갖는 유리를 포함한다. 개시된 조성물의 왜곡점은 공지된 기술을 이용하여 당업자에 의해 결정될 수 있다. 예를 들어, 상기 왜곡점은 ASTM 방법 C336을 이용하여 결정될 수 있다.
또 다른 측면에서, 상기 외피 유리 조성물은 15,000, 20,000, 25,000, 30,000, 35,000, 40,000, 45,000, 50,000, 60,000, 70,000, 80,000, 90,000, 100,000, 200,000, 300,000, 400,000, 또는 500,000 포이즈를 초과하는 액상점도를 가질 수 있으며, 여기서 상기 언급된 값의 모두는 적합할 때 상한 또는 하한의 종점을 형성할 수 있다. 상기 유리들의 액상온도는 표준 액화방법과 같은 공지된 기술에 의해 측정될 수 있다. 표준 액화방법(Liq.)은 백금 보트(boat)에 파쇄된(crushed) 유리 입자를 위치시키는 단계; 상기 보트를 구배 온도 영역을 갖는 로에 위치시키는 단계, 적합한 온도 영역에서 24시간 동안 상기 보트를 가열하는 단계, 및 상기 유리 내부에 결정상이 나타나는 가장 높은 온도를 현미경 검사에 의해 결정하는 단계를 포함한다. 상기 기술은 또한 "구배 보트 기술"로서 언급된다. 일 측면에서, 상기 외피는 구배 보트 기술에 의해 측정된 바에 따라 20,000 내지 50,000의 액상 점도를 갖는 유리를 포함한다. 또 다른 측면에서, 상기 외피는 구배 보트 기술에 의해 측정된 바에 따라 35,000 내지 50,000의 액상점도를 갖는 유리를 포함한다.
또 다른 측면에서, 상기 외피 유리는 30ppm 미만, 25ppm 미만, 20ppm 미만, 15ppm 미만, 또는 10ppm 미만의 열압밀을 갖는다.
일 측면에서, 상기 외피는 산화물을 기준으로 하는 몰%로 하기와 같은 무-알칼리 유리를 포함한다:
SiO2 64.0-72.0
B2O3 1.0-5.0
Al2O3 9.0-16.0
MgO + La2O3 1.0-7.5
CaO 2.0-7.5
SrO 0.0-4.5
BaO 1.0-7.0
여기서,
(a) 1.15≤∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3)≤1.55, 여기서 Al2O3, MgO, CaO, SrO, BaO 및 La2O3는 각각의 산화물 성분의 몰%를 나타냄;
(b) 상기 유리는 700℃ 이상의 왜곡점을 가짐;
(c) 상기 유리는 1,665℃ 이하의 200 포이즈 점도에서의 온도를 가짐; 그리고
(d) 상기 유리는 85,000 포이즈 이상의 액상온도에서의 점도를 가짐.
또 다른 측면에서, 상기 외피는 산화물 기준으로 한 몰%로 하기 조성을 포함하는 무-알카리 유리를 포함한다:
SiO2 65.0-71.0
Al2O3 9.0-16.0
B2O3 1.5-4.0
MgO + La2O3 0.5-7.5
CaO 2.0-6.0
SrO 0.0-4.5
BaO 1.0-7.0
La2O3 0.0-4.0
여기서, ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3)≥1.15이며, Al2O3, MgO, CaO, SrO, BaO 및 La2O3는 상기 해당 산화물 성분의 몰%를 나타냄.
또 다른 측면에서, 상기 외피는 산화물 기준으로 한 몰%로 하기 조성을 포함하는 무-알카리 유리를 포함함:
SiO2 65.0-72.0
Al2O3 10.0-15.0
B2O3 1.0-4.0
MgO 2.0-7.5
CaO 3.0-6.0
SrO 0.0-4.5
BaO 1.0-6.0
여기서, ∑(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al2O3)≥1.15이며, Al2O3, MgO, CaO, SrO 및 BaO는 상기 해당 산화물 성분의 몰%를 나타냄.
상기 외피와 관련하여 본 명세서에서 기술된 유리 조성물에서, SiO2는 기본적인 유리 형성자(former)로서 기능한다. 또 다른 측면에서, 상기 SiO2의 농도는 평판 디스플레이 유리(예를 들어, AMLCD 유리)에 적합한 밀도 및 화학적 내구성을 가지며, 다운드로우 공정(예를 들어, 융융 공정)에 의해 유리가 형성될 수 있도록 하는 액상온도(액상점도)를 갖는 유리를 제공하기 위하여 64몰%를 초과할 수 있다. 상한값의 경우, 일반적으로 SiO2 농도는 배치 물질이 통상의 고 체적 용융기술, 예를 들면 내화재 용융기(refractory melter) 내에서의 주울 용융을 이용하여 용융될 수 있도록 약 71 몰% 이하일 수 있다. SiO2 농도가 증가함에 따라, 200 포이즈 온도(용융 온도)가 일반적으로 상승한다. 여러 가지 적용에 있어서, 상기 SiO2 농도는 유리 조성물이 1650℃ 이하의 용융 온도를 갖도록 조절된다. 일 측면에 있어서, SiO2 농도는 66.0 내지 71몰% 사이 또는 66.5 내지 70.5몰% 사이이다.
Al2O3는 본 명세서에서 기술되는 외피 유리를 제조하는데 사용되는 또 다른 유리 형성자이다. 9몰% 이상의 Al2O3 농도는 낮은 액상온도 및 이에 상응하는 높은 액상 점도를 갖는 유리를 제공한다. 적어도 9몰% Al2O3를 사용하는 것은 유리의 왜곡점 및 모듈러스(modulus)를 향상시킨다. 1.15 이상의 ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3) 비율을 달성하기 위하여(아래 참조), Al2O3 농도를 16몰% 미만으로 유지시키는 것이 바람직하다. 일 측면에서, Al2O3 농도는 12 내지 15몰% 사이이다.
B2O3는 유리 형성자인 동시에 용융 온도를 낮추고 용융을 촉진하는 플럭스(flux)이다. 이러한 효과를 달성하기 위하여, 본 명세서에 기재된 외피 유리 조성물은 1.0몰% 이상의 B2O3 농도를 갖는다.
SiO2와 관련하여 언급한 바와 같이, 유리 내구성은 또한 LCD 적용에 있어 매우 중요하다. 내구성은 알카리토금속 산화물 및 란탄 산화물의 농도를 증가시킴으로써 어느 정도 조절할 수 있으며, B2O3 함량을 증가시킴으로써 상당히 감소될 수 있다. 왜곡점 및 영 모듈러스의 경우, B2O3 함량을 낮게 유지시키는 것이 바람직하다. 따라서, 상술한 성질을 달성하기 위하여, 일 측면에서, 본 명세서에 기재된 유리는 5.0몰% 이하, 1.0 내지 5.0몰% 사이, 1.0 내지 4.0몰% 사이, 또는 2.0 내지 4.0몰% 사이의 B2O3 농도를 갖는다.
상기 Al2O3 및 B2O3 농도는 상기 외피 유리의 용융 및 성형(forming) 특성을 유지시키는 한편, 왜곡점을 증가시키고, 모듈러스를 증가시키고, 내구성을 향상시키고, 밀도를 감소시키고, 그리고 열팽창계수(CTE)를 감소시키기 위하여 쌍(pair)으로 선택될 수 있다. 예를 들어, B2O3에서의 증가 및 이에 상응하는 Al2O3의 감소가 낮은 밀도 및 CTE를 얻는데 도움이 될 수 있는 반면, Al2O3의 증가가 ∑(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al2O3) 또는 ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3) 비율을 약 1.15 미만으로 감소시키지 않는다면, Al2O3의 증가 및 이에 상응하는 B2O3의 감소는 왜곡점, 모듈러스 및 내구성 향상에 도움이 될 수 있다. 예를 들어, AMLCD 적용에 사용하기 위한 외피 유리는 28-42×10-7/℃ 범위의 CTE(0-300℃)를 갖는다.
유리 형성자(SiO2, Al2O3 및 B2O3) 이외에도, 상기 외피 유리는 알카리토금속 산화물을 포함할 수 있다. 일 측면에서, 적어도 3개의 알카리토금속 산화물이 유리 조성물의 일부인 바, 예를 들어, MgO, CaO 및 BaO, 그리고 선택적으로 SrO이다. 상기 알카리토금속 산화물은 용융, 청징, 성형(forming) 및 최종 용도(ultimate use)에 중요한 여러 가지 성질을 갖는 유리를 제공한다. 일 측면에서, ∑(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al2O3)는 1.15 이상, 1.2 이상, 또는 1.25 이상이다. 또 다른 측면에서, ∑(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al2O3)는 1.55 이하, 또는 1.50 이하이다.
상기 외피 유리 내의 MgO, La2O3, 또는 이들의 조합 농도 및 외피 유리의 ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3) 비율은 유리 성능, 특히 용융성(meltability) 및 청징에 영향을 줄 수 있다. 일 측면에서, ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3)는 1.15 이상, 1.20 이상, 또는 1.25 이상이다. 또 다른 측면에서, ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3)는 1.15 이상 및 1.55 이하, 또는 1.25 이상 및 1.45 이하이다.
MgO+La2O3 합을 증가시킴으로써, 액상온도는 증가될 수 있으며, 상기 액상점도는 고 점도 성형 공정(예를 들어, 용융 공정)의 사용하는 것이 가능한 수준까지 떨어질 수 있다. 따라서, MgO 및 La2O3의 양은 외피 유리 형성을 위하여 원하는 성질을 얻도록 조절될 수 있다. 농도에 있어서, 양 성분이 존재할 경우, MgO+La2O3의 조합 농도는 상술한 여러 가지 이점을 달성하기 위하여 1.0 내지 7.5몰% 사이이어야 한다. 또 다른 측면에서, 상기 MgO 농도는 2.0 내지 6.0몰% 사이 또는 3.0 내지 6.0몰% 사이이다.
상기 외피 유리 조성물에 존재하는 칼슘 산화물은 낮은 액상온도(높은 액상점도), 높은 왜곡점 및 모듈러스, 그리고 평판 디스플레이, 특히 AMLCD 적용에 가장 바람직한 범위의 CTE를 생성할 수 있다. 이는 또한 화학적 내구성에 긍정적인 영향을 미치며, 다른 알카리토금속 산화물에 비하여 배치 물질로서 상대적으로 저렴하다. 그러나 높은 농도에서는 CaO가 밀도 및 CTE를 증가시킨다. 또한, 충분히 낮은 SiO2 농도에서 CaO는 회장석(anorthite)를 안정화시켜 액상점도를 감소시킬 수 있다. 따라서, 일 측면에서, 상기 CaO 농도는 2.0몰% 이상일 수 있다. 또 다른 측면에서, 상기 유리 조성물의 CaO 농도는 7.5몰% 이하 또는 3.0 내지 7.5몰% 사이이다.
나머지 알카리토금속 산화물 SrO 및 BaO는 모두 낮은 액상온도(높은 액상점도)에 기여할 수 있으며, 따라서, 본 명세서에 기재된 유리는 통상적으로 이러한 산화물 중 적어도 하나를 함유한다. 그러나, 이러한 산화물들의 선택 및 농도는 CTE 및 밀도의 증가와 모듈러스 및 왜곡점의 감소를 방지하도록 선택된다. SrO 및 BaO의 상대적인 비율은 상기 외피 유리가 다운드로우 공정에 의해 성형(형성)될 수 있는 적합한 물리적 성질과 액상점도의 조합을 얻도록 조화적으로 조절될 수 있다.
또 다른 측면에서, 상기 외피는 미국특허 4,180,618호에 기재된 바와 같은 유리 조성물을 포함할 수 있으며, 이는 유리 조성물과 관련하여 참고문헌으로서 포함된다. 일 측면에서, 상기 외피 유리 조성물은 0-300℃의 온도범위에 걸쳐 32-42×10-7/℃ 사이의 선 열팽창계수, 800℃를 초과하는 어닐링 온도, 및 적어도 100,000 포이즈의 액상온도에서의 점도를 나타내는 유리를 포함하며, 상기 유리는 산화물을 기준으로 하여 유리 배치로부터 계산된 중량%로, 55 내지 75%의 SiO2; 5 내지 25%의 Al2O3; 및 9 내지 15%의 CaO, 14 내지 20%의 SrO, 18 내지 26%의 BaO로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 알카리 토금속 산화물, 및 이러한 산화물의 혼합물로 실질적으로 구성되며, 여기서 상기 알카리토금속 산화물의 총 함량은 몰 기준으로 9 내지 15%의 CaO에 상응한다.
상기 외피를 제조하는데 사용되는 유리 조성물은 유리의 여러가지 물리적, 용융, 청징 및 성형(형성) 특성을 조절하기 위하여 다양한 기타 산화물을 포함할 수 있다. 특별히 이에 한정되는 것은 아니나, 기타 산화물의 예로는 TiO2, MnO, Fe2O3, ZnO, Nb2O5, MoO3, Ta2O5, WO3, Y2O3, 및 CeO2를 포함한다. 일 측면에서, 이러한 산화물들의 각 함량은 2.0몰% 이하일 수 있고, 총 조합 농도는 4.0몰% 이하일 수 있다. 상기 외피는 또한 상기 유리를 생산하는데 사용되는 용융, 청징 및/또는 성형(형성) 설비에 의해 유리 내로 도입되거나 및/또는 배치 물질과 관련된 여러 가지 혼합물을 포함할 수 있다.
상기 외피 유리 조성물은 일반적으로 무 알카리이다; 그러나, 상기 외피 유리는 약간의 알카리 오염물을 함유할 수 있다. AMLCD로의 적용에 있어서, 유리로부터 TFT의 실리콘 내로 알카리 이온의 확산을 통해서 박막 트렌지스터(TFT) 상에 부정적 영향을 주는 것을 방지하기 위하여 알칼리 레벨을 0.1몰% 미만으로 유지하는 것이 바람직하다. 본 명세서에서 기재되는, "무-알카리 유리"는 0.1몰% 이하의 총 알카리 농도를 갖는 유리이며, 여기서 총 알카리 농도는 Na2O, K2O 및 Li2O 농도의 합이다. 일 측면에서, 상기 총 알카리 농도는 0.07몰% 이하이다.
상술한 바와 같이, 1.15 이상의 ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3) 및 ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3)의 비율은 청징, 즉 용융된 배치 물질로부터 기상 함유물을 제거하는 것을 개선시킨다. 이러한 개선은 좀 더 친환경적인 청징 패키지의 사용을 가능하게 한다. 예를 들어, 산화물 기준으로, 본 명세서에서 기술되는 유리 조성물은 다음의 조성 특성 중 하나 이상 또는 모두를 가질 수 있다:
(i) 최대 0.05몰%의 As2O3 농도;
(ii) 최대 0.05몰%의 Sb2O3 농도;
(iii) 최대 0.2몰%의 SnO2 농도.
As2O3는 AMLCD 유리에 효과적인 고온 청징제이며, 본 명세서에 기술된 일부 측면에서, As2O3는 우수한 청징 성능에 기인하여 청징제로서 사용된다. 그러나, As2O3는 유해하며 유리 제조 공정 시 특별한 취급이 요구된다. 따라서, 일부 측면에서, 청징은 실질적인 양의 As2O3를 사용하지 않고, 즉 마무리된(finished) 유리가 최대 0.05몰%의 As2O3를 갖도록 수행된다. 일 측면에서, 상기 유리의 청징에서 어떠한 As2O3도 의도적으로 사용되지 않는다. 이러한 경우, 마무리된 유리는 상기 배치 물질, 및/또는 상기 배치 물질을 용융시키는데 사용된 설비 내에 존재하는 오염물의 결과로서 통상적으로 최대 0.005몰%의 As2O3를 가질 것이다.
As2O3와 같이 유독하지는 않으나, Sb2O3 또한 유해하며 특별한 취급이 요구된다. 또한, Sb2O3는 청징제로서 As2O3 또는 SnO2를 사용한 유리에 비하여 밀도를 높이고, CTE를 증가시키며 왜곡점을 낮춘다. 따라서, 일부 측면에서, 청징제는 실질적인 양의 Sb2O3를 사용하지 않고, 즉 마무리된 유리가 최대 0.05몰%의 Sb2O3를 갖도록 수행된다. 또 다른 측면에서, 상기 유리의 청징에서 어떠한 Sb2O3도 의도적으로 사용되지 않는다. 이러한 경우, 마무리된 유리는 상기 배치 물질, 및/또는 상기 배치 물질을 용융시키는데 사용된 설비 내에 존재하는 오염물의 결과로서 통상적으로 최대 0.005몰%의 Sb2O3를 가질 것이다.
As2O3 및 Sb2O3 청징에 비하여, 주석 청징(즉, SnO2 청징)은 덜 효과적이나, SnO2는 알려진 어떠한 유해한 성질도 갖지 않는 흔한 물질이다. 또한, 수년동안, SnO2는 AMLCD 유리용 배치 물질의 주울 용융(Joule melting)에서 주석 산화물 전극의 사용을 통해 AMLCD 유리의 구성성분이었다. AMLCD 유리 내의 SnO2의 존재는 액정 디스플레이 제조에서 이러한 유리의 사용에 어떠한 알려진 악영향도 초래하지 않았다. 그러나, 고 농도의 SnO2는 AMLCD 유리 내에 결정상 결함을 형성하므로 바람직하지 않다. 일 측면에서, 마감된 유리 내의 SnO2의 농도는 0.2몰% 이하이다.
주석 청징은 단독으로, 또는 원한다면 다른 청징 기술과 조합하여 사용될 수 있다. 예를 들어, 주석 청징은 할라이드 청징, 예를 들어, 브롬 청징과 조합될 수 있다. 주석 청징에 가능한 다른 조합으로는 황산염, 황화물, 세륨 산화물, 기계적인 버블링, 및/또는 진공 청징 등이 포함되나, 이에 한정되는 것은 아니다. 이러한 다른 청징 기술이 단독으로 사용되는 것이 고려될 수 있다. 일부 측면에서, ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3) 비율과 개별적인 알카리토금속 및 La2O3 농도를 상술한 범위 내로 유지하는 것은 청징 공정을 수행하기에 좀 더 용이하고 효과적으로 만든다.
b. 코어
코어 유리 조성물의 선택은 사용되는 외피 유리와 적층 유리 제품의 최종 용도에 따라 달라질 수 있다. 일 측면에서, 상기 기술된 조성물은 100,000 포이즈를 초과하는 액상점도를 가질 수 있다. 예를 들어, 조성물은 100,000, 200,000, 250,000, 300,000, 350,000, 400,000, 450,000, 500,000, 550,000, 600,000, 650,000, 700,000, 750,000, 800,000, 900,000, 1,000,000, 2,000,000, 3,000,000 또는 4,000,000 포이즈를 초과하는 액상점도를 가질 수 있으며, 상기 언급된 모든 값은 적절할 때 상한값(upper endpoint) 또는 하한값(lower endpoint)를 형성할 수 있다. 상기 액상점도는 상술한 기술을 이용하여 결정될 수 있다.
미국 특허번호 5,374,595호 및 6,319,867호에 개시된 모든 유리 조성물은 상기 코어 유리 조성물로서 사용될 수 있으며, 상기 문헌의 유리 조성물과 관련한 교시는 참고문헌으로 포함된다. 일 측면에서, 상기 코어 유리 조성물은 0-300℃의 온도범위에 걸쳐 32-46×10-7/℃ 사이의 선 열팽창계수, 650℃를 초과하는 왜곡점, 1200℃ 이하의 액상온도, 200,000 포이즈(20,000 Pa)을 초과하는 액상점도, 95℃에서 5중량%의 HCl 수용액에 24 시간 동안 침지시킨 후 2mg/㎠ 미만의 중량손실, 용융 및 성형(형성) 온도에서 실투에 대한 장기간의 안정성, 및 1675℃ 미만에서 200 포이즈(20 Pa)의 용융 점도를 나타내는 유리를 포함하며, 상기 유리는 실질적으로 알카리 금속 산화물을 함유하지 않으며, 산화물 기준으로 한 몰%로 나타내어 하기와 같이 구성된다: SiO2(64-70); Y2O3(0-3); Al2O3(9.5-14); MgO(0-5); B2O3(5-10); CaO(3-13); TiO2(0-5) SrO(0-5.5); Ta2O5(0-5); BaO(2-7); Nb2O5(0-5), 여기서 MgO+CaO+SrO+BaO는 10-20ㅇ이다. 또 다른 측면에서, 상기 코어 유리 조성물은 2.45gm/㎤ 미만의 밀도, 200,000 포이즈를 초과하는 액상점도, 650℃를 초과하는 왜곡점을 나타내는 유리를 포함하며, 상기 유리는 산화물을 기준으로 한 몰%로 표현된, 하기의 조성을 포함한다: 65-75 SiO2, 7-13 Al2O3, 5-15 B2O3, 0-3 MgO, 5-15 CaO, 0-5 SrO, 및 실질적으로 BaO를 함유하지 않는다.
상기 코어에 유용한 적합한 LCD 유리의 예로는 미국특허번호 5,374,594호, 6,060,168호, 및 6,319,867호, 및 미국공개특허번호 2002-0082158호, 2005-0084440호, 및 2005-0001201호에 기술된 것을 포함하나, 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 문헌들은 모두 전체로서 본 발명의 참고문헌으로서 포함된다. 또 다른 측면에서, 상기 코어 유리 조성물은 코닝 코드 1737 유리 또는 이글2000TM(EAGLE2000TM) 유리이다.
c. 적층 유리 제품의 성질 및 적용
일 측면에서, 본 명세서에 기재된 유리 제품은 0℃ 내지 300℃의 온도범위에 걸쳐 40×10-7/℃ 미만의 열팽창계수를 가질 수 있다. 또 다른 측면에서, 제품은 0℃ 내지 300℃의 온도범위에 걸쳐 28×10-7/℃ 내지 40×10-7/℃의 열팽창계수를 갖는다. 일부 예에서, 상기 제품은 28, 29, 30, 31, 32, 33, 34, 35, 36, 37, 38, 39, 또는 40×10-7/℃의 열팽창계수를 가질 수 있으며, 상기 언급한 값 모두는 적합한 때 상한값(upper endpoint) 또는 하한값(lower endpoint)을 형성할 수 있다. 또 다른 측면에서, 상기 외피는 상기 코어 대비 ±0.1, ±0.2, ±0.3, ±0.4, ±0.5, ±0.6, ±0.7, ±0.8, ±0.9, 또는 ±1 ×10-7/℃의 열팽창계수를 갖는다.
특정 측면에서, 상기 유리 제품이 액정 디스플레이(LCD)에 사용될 때, 상기 적층 유리 제품의 열 안정성이 관심사가 된다. 액정 디스플레이는 통상적으로 박막의 액정 물질을 감싸는 2개의 평평한 유리 시트를 포함한다. 상기 유리 상의 투명 박막 전극의 어레이(array)는 상기 액정 물질의 광전달 특성을 조절함으로써 이미지를 생성한다. 다이오드 또는 박막 트렌지스터(TFT)와 같은 능동 소자를 각 픽셀에서 포함시킴으로써 고 해상도의 비디오 디스플레이를 생산하기 위한 높은 명암대조도(contrast) 및 응답 속도가 달성될 수 있다. 일반적으로 능동 매트릭스 LCDs(AMLCD)로서 언급되는, 이러한 평판 디스플레이는 노트북 컴퓨터 및 휴대용 텔리비젼과 같은 고성능 디스플레이에 주된 기술이 되고 있다.
현재, 대부분의 AMLCD들은 비정질 실리콘(a-Si) 공정들을 이용하고 있으며, 이는 최대 450℃의 공정온도를 갖는다. 그럼에도 불구하고, 상기 다결정상 실리콘(폴리-Si)의 사용은 a-Si에 비하여 특정 장점들을 제공한다는 점이 오랫동안 인식되어 왔다. 폴리-Si는 훨씬 높은 구동 전류와 전자 이동도(mobility)를 가지므로 TFT 크기를 줄이는 동시에 픽셀의 응답 속도를 증가시킬 수 있다. 폴리-Si 공정은 또한 유리 기판 상(온-보드 로직)에 직접 디스플레이 구동 회로를 제조할 수 있게 한다). 이러한 집적화(integration)는 비용을 상당히 줄이고 신뢰도를 증가시키며 또한 좀 더 작은 패키지를 가능하게 한다. 반면 a-Si는 테이프 캐리어 본딩과 같은 집적회로 패키징 기술을 이용하여 디스플레이 주변에 접착되어야 하는 개별적인 구동 칩을 요구한다.
폴리-Si는 통상적으로 화학 기상 증착(CVD) 기술을 이용하여 유리 상에 비정질 실리콘을 증착하고, 후속적으로 a-Si를 폴리-Si로 결정화시킴으로써 제조된다. 폴리-Si를 제작하는 많은 방법이 있으며, 2가지의 카테고리로 분류할 수 있다: 600℃까지의 공정 온도를 이용하는 저-온 폴리-Si 방법, 및 전형적으로 900℃ 정도의 높은 온도를 적용하는 고-온 폴리-Si 방법.
많은 저-온 방법들은 a-Si에서 폴리-Si로 가공하기 위한 특별한 기술들을 필요로 한다. 이러한 기술 중 하나는 레이저 재결정화로서, 여기서는 기판이 400℃의 온도에서 유지되며 상기 Si 층을 국부적으로 용융시키고 재결정화하기 위하여 엑시머 레이저가 사용된다. 저온 폴리-Si TFT들은 또한 비정질 실리콘을 열적으로 결정화함으로써(600℃의 최대온도) 제조될 수 있다. 이온 주입과 같은 다른 공정 단계들은 또한 승온된 온도에서 가공(프로세싱)하는 단계를 포함할 수 있다. 이러한 승온된 공정 단계 중 어디에서도 압밀(compaction)이 문제시될 수 있다.
TFT 제작은 다중의 포토리소그라피 단계를 요구하므로, 상기 기판 내에 임의의 비가역적인 치수 상의 변화(수축 또는 팽창)도 연속적인 노출 단계들 사이에서 패턴의 정렬불량을 초래할 수 있다. 디스플레이 공정 시 허용가능한 기판 압밀은 회로 디자인의 특성(nature) 및 디스플레이의 크기에 좌우되며, AMLCD의 경우 압밀은 디스플레이의 최대 치수(dimension)에 걸쳐 가장 작은 피처의 부분(a fraction of the smallest feature)보다 크지 않은 양이어야 한다. 상기 열 압밀 또는 안정성은 달라질 수 있으며, 임의의 주어진 고객의 열 사이클 포인트로 맞춰질 수 있다. 일 측면에서, 상기 외피는 상기 코어보다 우수한 열 안정성 또는 압밀(덜 압밀된)을 갖는다. 또 다른 측면에서, 상기 제품은 20ppm 미만, 18ppm 미만, 16ppm 미만, 14ppm 미만, 12ppm 미만, 10ppm 미만, 8ppm 미만, 6ppm 미만, 또는 4ppm 미만의 열적 안정성 또는 압밀을 갖는다.
일부 측면에서, 투명 유리 제품을 갖는 것이 바람직하다. 일 측면에서, 상기 기술된 유리 제품은 400 내지 800nm 사이에서 90%를 초과하는 투과도의 투명성을 가질 수 있다.
상기 외피의 두께는 유리 제품의 최종 용도에 따라 달라질 수 있다. 일 측면에서, 상기 외피는 0.1mm, 0.2mm, 0.3mm, 0.4mm, 0.5mm, 0.6mm, 0.7mm, 0.8mm, 0.9mm, 1.0mm, 또는 1.1mm의 두께를 가지며, 여기서, 임의의 값은 임의의 적절한 범위의 종점이 될 수 있다. 일 측면에서, 상기 외피는 무 알카리인 바, 본 명세서에서 무 알카리는 0.1중량% 미만의 알카리 금속을 갖는 유리로서 정의된다. 상기 코어 또한 무 알카리일 수 있음이 고려되나, 상기 코어는 유리 제품의 최종 용도에 따라 알카리금속을 함유할 수 있다.
일 측면에서, 상기 외피는 740℃를 초과하는 왜곡점 및 구배 보트(gradient boat) 기술에 의해 측정되는 35,000 내지 50,000 포이즈의 액상점도를 갖는 유리 조성물을 포함하며, 상기 코어는 구배 보트 기술에 의해 측정되는 350,000 포이즈를 초과하는 액상점도를 갖는 유리 조성물을 포함하며, 상기 제품은 0℃ 내지 300℃의 온도범위에 걸쳐 28×10-7/℃ 내지 40×10-7/℃의 열팽창계수를 포함하며, 여기서 상기 외피는 상기 코어에 대해 ±0.1×10-7/℃의 열팽창계수를 갖는다.
일반적으로, 상기 유리 제품은 전자 적용에 사용될 수 있다. 예를 들어, 상기 제품은 평평한 스크린 디스플레이 패널을 제작하는데 사용될 수 있다. 일 측면에서, 상기 제품은 박막 트렌지스터용 기판 또는 유기 발광 다이오드로서 사용될 수 있다. 또 다른 측면에서, 상기 유리 제품은 액정 디스플레이에 사용될 수 있다. 액정 디스플레이(LCDs)는 조명용 광의 외부 소스에 따라 좌우되는 수동 평판 디스플레이이다. 상기 액정 디스플레이의 제조는 상술한 바와 같다.
II . 유리 제품의 제조방법
일 측면에서, 본 명세서에서는 적층 유리 제품의 제조방법이 개시된다. 일 측면에서, 상기 방법은 유리 코어의 적어도 하나의 노출된 표면에 용융 인발에 의해 유리 외피를 적용하는 단계를 포함하며, 상기 외피는 650℃를 초과하는 왜곡점을 포함한다. 일부 예에서, 상기 외피는 용융 공정에 의해 상기 코어의 노출된 표면에 적용될 수 있다. 이러한 적합한 용융 공정의 예가 미국특허 제4,214,886호에 개시되어 있으며, 이는 전체로서 본 명세서의 참고문헌으로 포함된다. 상기 공정은 다음과 같이 요약될 수 있다. 서로 다른 조성을 갖는 적어도 2개의 유리(예를 들어, 기본 또는 코어 유리 시트와 외피)를 개별적으로 용융시킨다. 그 다음, 각각의 유리를 적절한 운반 시스템을 통해서 오버플로우 분배기(distributor)로 운반한다. 분배기들은 하나가 다른 하나 위에 장착되어, 각각으로부터의 유리가 분배기의 상부 에지(top edge) 부위를 넘고 적어도 일 측면의 아래로 흘러 상기 상부 에지 부위 아래의 분배기의 일 측면 또는 양 측면 상에 적절한 두께의 균일한 흐름 층이 형성된다.
하부 분배기는 관련된 쐐기-형상(wedge-shaped)의 성형 부재를 갖는 바, 이러한 성형 부재는 상부의 단부에서 상기 분배기의 측벽과 이어지며 인발선(draw line)으로 수렴하는 하부 단부에서 종료하는, 수렴하는 측벽 부(converging sidewall portions)를 갖는다. 상기 하부 분배기를 넘쳐흐르는 용융된 유리는 상기 분배기 벽을 따라 아래로 흘러 상기 성형 부재의 수렴하는 외측 표면에 인접하는 초기 유리 흐름층을 형성하는 한편, 그 위의 분배기를 넘쳐흐르는 용융된 유리는 상부 분배기 벽 위에서 아래로 흘러 상기 초기 층의 외측 표면부 위로 흐른다. 상기 성형 부재의 각 수렴 측벽으로부터의 2개의 개별적인 유리 층은 합류되고 상기 인발선에서 용합되어 단일의 연속적인 적층 시트를 형성한다. 2개의-유리 적층체의 중앙 유리는 코어 유리라고 지칭되는 한편, 상기 코어 유리의 외측 표면 아래로 흐르는 유리는 외피 유리라고 지칭된다. 3개 이상의 개별적인 유리가 이용될 때, 상기 코어와 외피 유리 중간에 형성된 이러한 유리들은 중앙 또는 매립된 유리로 알려져 있다. 중앙 또는 매립된 유리가 사용될 때, 상기 외피는 상기 중앙 또는 매립된 유리에 의해 상기 코어에 "연결"된다. 역으로, 단지 하나의 외피 유리가 상기 코어에 직접적으로 융합될 때, 상기 외피는 상기 코어에 "인접"된다.
상기 오버플로우 분배기 공정은 형성되는 시트 유리에 화염 연마된(fire-polished) 표면을 제공하며, 조절된 분배기에 의해 제공된, 균일한 분포된 두께의 유리를 제공하며, 유리 시트에 우수한 광학 특성을 제공한다.
본 명세서에서 기술된 방법에 사용될 수 있는 다른 용융 공정들이 미국특허번호 제3,338,696호, 제3,682,609호, 제4,102,664호, 제4,880,453호 및 미국공개특허번호 제205-0001201호에 기술되어 있으며, 이들은 모두 그 전체로서 참고문헌으로 본원에 포함된다.
일 측면에서, 상기 유리 제품은 제1 및 제2의 노출된 표면을 갖는 유리 (코어)의 시트일 수 있고, 여기서 상기 외피는 상기 제1 및 제2의 노출된 표면 모두에 인접된다. 유리 시트 코어의 제1 및 제2의 노출된 표면 모두 상에 외피를 두는 것은 몇 가지 이점을 갖는다. 예를 들어, 상기 유리 시트는 상기 디스플레이 제조 시 효과적으로 두꺼워질 수 있고, 새그(sag) 및 손상을 취급하는 것과 관련한 근심을 덜어줄 수 있다. 이는 디스플레이 제조에서 좀 더 얇고, 가벼운 중량의 유리를 이용할 수 있게 한다. 또한, 상기 외피의 조성에 따라, 상기 외피가 하나의 표면으로부터 제거되는 것을 허용하는 한편(예를 들어, 디스플레이 제조에서 TFT를 수용하기 위한 표면), 다른 외피는 보호되도록 할 수 있다.
후술되는 실시예는 상기 기술된 대상 발명에 따른 방법 및 결과를 설명하기 위하여 아래에서 설명된다. 이러한 실시예들은 본원에서 기술되는 대상 발명들의 모든 측면을 포함하고자 의도되는 것이 아니라, 오히려 대표적인 방법들과 결과를 설명하기 위한 것이다. 이러한 실시예들은 당업계의 당업자들에게 명백한 본 발명의 균등물 및 변형을 배제하고자 하는 것이 아니다.
수치(예를 들어, 함량, 온도 등)와 관련하여 정확성을 기하려는 노력을 하였으나, 일부 오류 및 오차가 고려되어야 한다. 다르게 지칭되지 않는 한, 부는 중량부이며, 온도는 ℃로 나타낸 것이거나 또는 주위 온도이며, 압력은 대기압이거나 또는 약(near) 대기압이다. 반응 조건, 예를 들어, 구성성분의 농도, 온도, 압력 및 다른 반응 범위와 같은 반응 조건과 제품의 순도와 기술된 공정으로부터 얻어지는 수율을 최적화하기 위한 조건에 대한 여러가지 변형 및 조합이 있다. 단지 적절하고 일반적인 실험이 이러한 공정 조건들을 최적화하기 위해 요구될 것이다.
실시예 1
도 1은 이중 용융(fusion) 공정의 횡단면도를 나타낸다. 도 1에서, 1은 코어 유리(2)가 상단 트로프 영역(3)을 채우고 용융 파이프(9)의 웨어(weirs)를 넘쳐흘러 양 측면 아래로 흐르고, 용융 파이프(4)의 루트(root)에서 시트로 재결합하는 전형적인 용융 파이프를 나타낸다. 이중 용융 공정에서, 상부 용융 파이프(5)는 상기 전형적인 용융 파이프(1) 위에 위치된다. 상기 상부 용융 파이프 역시 트로프 영역(6)을 가지며, 상기 트로프 영역(6)은 적층 시트의 외피가 될 유리(7)로 채워진다. 상기 유리는 상기 상부 용융 파이프의 웨어를 넘쳐, 그 측면들 아래로, 그리고 상기 코어 유리의 표면 상에 흐른다. 상기 외피 유리 용융 파이프(8)의 루트는 웨어 위치에서 상기 코어 유리와 유사한 온도와 점도에서 작동된다. 만약 코어 유리가 이글2000TM 유리로 구성된다면, 상기 외피 용융 파이프의 루트는 ～1240℃ 및 40,000 포이즈에 있다.
낮은 압밀 적층 시트의 일례로서, 코어 유리가 이글2000TM 유리 조성물인 적층 시트가 사용될 수 있다. 상기 유리는 31.8×10-7/℃의 CTE(0-300℃), 900,000 p에서의 용융 공정에 적합한 (구배 보트 기술에 의해 측정되는) 액상점도, 및 666℃의 왜곡점을 갖는다. 450℃에서 6 시간 동안의 열 사이클 하에서, 이글2000TM 유리(0.7mm의 두께 및 600lbs/시간으로 인발됨)는 대략 35ppm 압밀을 나타낸다. 이글2000TM 유리에 대한 웨어 온도는 1240℃ 범위이다.
이글2000TM 유리 조성물용 낮은 압밀 외피 유리에 대한 일 예를 중량%로 하기와 같이 나타낸다.
SiO2 62.2
Al2O3 18.1
B2O3 10.2
MgO 0.12
CaO 7.63
SrO 0.76
As2O3 1.02
상기 유리는 1240℃의 액상온도 또는 35,000 p, 31.1×10-7/℃의 CTE, 및 681℃의 왜곡점을 가질 것으로 예상된다. 이러한 타입의 왜곡점 상승으로 정확하게 얼마나 많은 압밀이 감소할 것인지는 알려져 있지 않으나, 만약 압밀 응답(response)이 상기 외피 유리에 의해 조절되었다면 25%의 압밀 감소를 나타내는 압밀 모델링 결과가 합리적인 예측이다. 실제, 상기 적층 시트의 압밀은 다소 작을 수 있으며, 실제 값은 각 층의 두께 및 다른 인자들에 의존한다.

Claims (18)

  1. 코어 유리를 포함하는 중앙 코어, 및 외피 유리를 포함하는 외피;
    를 포함하는 적층 유리 시트로서,
    여기서,
    (a) 상기 외피 유리는 700℃ 이상의 왜곡점 및 1,665℃ 이하의 용융 온도를 갖고;
    (b) 상기 코어 유리가 용융 오버플로우 다운드로우 공정에 의하여 성형되는 동안 실투(devitrification)에 대하여 상기 외피 유리보다 더욱 안정하도록, 구배 보트 기술에 의해 측정될 때, 상기 외피 유리가 15,000-80,000 포이즈 범위의 액상 점도를 갖고 상기 코어 유리가 100,000 포이즈를 초과하는 액상 점도를 가지며;
    (c) 상기 적층 유리 시트는 상기 중앙 코어가 재결합(rejoin) 표면을 갖고, 상기 외피가 화염 연마된(fire-polished) 표면을 갖도록 이중 용융 오버플로우 다운드로우 공정에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 적층 유리 시트.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 외피는 상기 중앙 코어에 인접한 것을 특징으로 하는 적층 유리 시트.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 외피 유리는 구배 보트 기술(gradient boat technology)에 의해 측정하여 20,000 내지 50,000 포이즈의 액상 점도를 갖는 유리를 포함하며, 여기서 상기 유리 제품은 용융 인발에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 적층 유리 시트.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 적층된 유리 시트는 0℃ 내지 300℃의 온도 범위에 걸쳐 40×10-7/℃ 미만의 평균 열팽창계수를 갖는 것을 특징으로 하는 적층 유리 시트.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 외피 유리는 무-알카리인 것을 특징으로 하는 적층 유리 시트.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 외피 유리는 무-알카리이며, 산화물을 기준으로 한 몰%로 하기 조성을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 유리 시트:
    SiO2 64.0-72.0
    B2O3 1.0-5.0
    Al2O3 9.0-16.0
    MgO + La2O3 1.0-7.5
    CaO 2.0-7.5
    SrO 0.0-4.5
    BaO 1.0-7.0
    여기서, 1.15≤∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3)≤1.55이며, Al2O3, MgO, CaO, SrO, BaO 및 La2O3는 상기 해당 산화물 성분의 몰%를 나타냄.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 외피 유리는 무-알카리이며, 산화물을 기준으로 한 몰%로 하기 조성을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 유리 시트:
    SiO2 65.0-71.0
    Al2O3 9.0-16.0
    B2O3 1.5-4.0
    MgO + La2O3 0.5-7.5
    CaO 2.0-6.0
    SrO 0.0-4.5
    BaO 1.0-7.0
    La2O3 0.0-4.0
    여기서, ∑(MgO+CaO+SrO+BaO+3La2O3)/(Al2O3)≥1.2이며, Al2O3, MgO, CaO, SrO, BaO 및 La2O3는 상기 해당 산화물 성분의 몰%를 나타냄.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 외피 유리는 무-알카리이며, 산화물을 기준으로 한 몰%로 하기 조성을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 유리 시트:
    SiO2 65.0-72.0
    Al2O3 10.0-15.0
    B2O3 1.0-4.0
    MgO 2.0-7.5
    CaO 3.0-6.0
    SrO 0.0-4.5
    BaO 1.0-6.0
    여기서, ∑(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al2O3)≥1.15이며, Al2O3, MgO, CaO, SrO 및 BaO는 상기 해당 산화물 성분의 몰%를 나타냄.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 시트는 20ppm 미만의 열 압밀(thermal compaction)을 갖는 것을 특징으로 하는 적층 유리 시트.
  10. 청구항 1의 적층 유리 시트를 포함하는 전자 장치.
  11. 청구항 1의 적층 유리 시트를 포함하는 액정디스플레이.
  12. 청구항 1에 있어서,
    상기 외피의 적어도 하나의 화염 연마된 표면 상에 박막 트렌지스터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 유리 시트.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 박막 트렌지스터는 다결정상 실리콘을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 유리 시트.
  14. 청구항 1의 적층 유리 시트의 제조 방법으로서,
    중앙 코어를 형성하는 단계; 및
    이중 용융 오버플로우 다운드로우 공정을 이용하여 상기 중앙 코어의 적어도 하나의 노출된 표면에 외피를 적용하는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 유리 시트의 제조 방법.
  15. 청구항 1에 있어서,
    상기 외피 유리의 왜곡점은 740℃를 초과하는 것을 특징으로 하는 적층 유리 시트.
  16. 청구항 1에 있어서,
    상기 코어 유리의 액상 점도는 350,000 포이즈를 초과하는 것을 특징으로 하는 적층 유리 시트.
  17. 청구항 1에 있어서,
    상기 외피 유리의 왜곡점은 740℃를 초과하며, 상기 코어 유리의 액상 점도는 350,000 포이즈를 초과하는 것을 특징으로 하는 적층 유리 시트.
  18. 청구항 1에 있어서,
    상기 외피 유리가 상기 코어 유리보다 더 작은 압밀을 갖는 것을 특징으로 하는 적층 유리 시트.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160045099A (ko) * 2013-08-22 2016-04-26 코닝 인코포레이티드 용융된 유리 처리 기기 및 그 방법

Families Citing this family (105)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103121796B (zh) 2006-02-10 2017-03-29 康宁股份有限公司 具有高的热稳定性和化学稳定性的玻璃组合物及其制备方法
RU2010154445A (ru) * 2008-05-30 2012-07-10 Фостер Вилер Энергия Ой (Fi) Способ и система для генерации энергии путем сжигания в чистом кислороде
US9782949B2 (en) * 2008-05-30 2017-10-10 Corning Incorporated Glass laminated articles and layered articles
JP5436101B2 (ja) * 2008-09-05 2014-03-05 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置の作製方法
US9346699B2 (en) * 2008-10-06 2016-05-24 Corning Incorporated Method of making a glass laminate having controlled strength
US8713967B2 (en) * 2008-11-21 2014-05-06 Corning Incorporated Stable glass sheet and method for making same
JP2010143800A (ja) * 2008-12-19 2010-07-01 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス板製造装置
US9637408B2 (en) * 2009-05-29 2017-05-02 Corsam Technologies Llc Fusion formable sodium containing glass
US9302937B2 (en) 2010-05-14 2016-04-05 Corning Incorporated Damage-resistant glass articles and method
KR101747057B1 (ko) 2010-06-29 2017-06-13 코닝 인코포레이티드 오버플로 하향인발 융합 공정을 사용해 공동인발하여 만들어진 다층 유리 시트
CN103338926B (zh) 2010-11-30 2016-03-02 康宁股份有限公司 表面和中心区域处于压缩状态的玻璃
US9090505B2 (en) 2011-07-15 2015-07-28 Corning Incorporated Microwave-based glass laminate fabrication
TWI572480B (zh) 2011-07-25 2017-03-01 康寧公司 經層壓及離子交換之強化玻璃疊層
JP6202297B2 (ja) * 2011-12-29 2017-09-27 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス
TWI614227B (zh) * 2012-02-29 2018-02-11 康寧公司 低ｃｔｅ之無鹼硼鋁矽酸鹽玻璃組成物及包含其之玻璃物件
WO2013130668A1 (en) 2012-02-29 2013-09-06 Corning Incorporated High cte opal glass compositions and glass articles comprising the same
TWI564262B (zh) 2012-02-29 2017-01-01 康寧公司 高ｃｔｅ之硼矽酸鉀核心玻璃與包含其之玻璃物件
JP6214570B2 (ja) 2012-02-29 2017-10-18 コーニング インコーポレイテッド イオン交換可能な低ｃｔｅガラス組成物および該ガラス組成物を含むガラス物品
US9359251B2 (en) 2012-02-29 2016-06-07 Corning Incorporated Ion exchanged glasses via non-error function compressive stress profiles
US9796616B2 (en) 2012-05-24 2017-10-24 Corning Incorporated Apparatus and method for producing laminated glass sheet
US8646291B2 (en) * 2012-05-24 2014-02-11 Corning Incorporated Apparatus and method for control of glass streams in laminate fusion
US9556052B2 (en) * 2012-05-24 2017-01-31 Corning Incorporated Laminate fusion draw apparatus and method of use thereof
US9193617B2 (en) 2012-05-24 2015-11-24 Corning Incorporated Refractory liner structure and use in glass fusion draw
US9145333B1 (en) * 2012-05-31 2015-09-29 Corning Incorporated Chemically-strengthened borosilicate glass articles
CN104428261B (zh) 2012-07-13 2018-09-11 康宁股份有限公司 制备层压玻璃片的方法和设备
US9701560B2 (en) 2012-08-01 2017-07-11 Corning Incorporated Muffle gap seal for glass laminate machine
KR102173670B1 (ko) 2012-10-04 2020-11-04 코닝 인코포레이티드 세라믹 상을 갖는 적층 유리 제품 및 이의 제조방법
CN104936912A (zh) * 2012-10-04 2015-09-23 康宁股份有限公司 具有玻璃层和玻璃陶瓷层的制品以及该制品的制造方法
JP6549987B2 (ja) 2012-10-04 2019-07-24 コーニング インコーポレイテッド 感光性ガラスを通じて圧縮応力が加えられた積層ガラス物品およびその物品の製造方法
US9212081B2 (en) 2012-11-21 2015-12-15 Corning Incorporated Methods of cutting a laminate strengthened glass substrate
US9790119B2 (en) * 2012-11-26 2017-10-17 Corning Incorporated Thermal control of the bead portion of a glass ribbon
TWI574930B (zh) * 2012-12-21 2017-03-21 康寧公司 具有改良的總節距穩定性之玻璃
US9308616B2 (en) 2013-01-21 2016-04-12 Innovative Finishes LLC Refurbished component, electronic device including the same, and method of refurbishing a component of an electronic device
KR20150143416A (ko) 2013-01-26 2015-12-23 코닝 인코포레이티드 적층된 유리 구조체 및 이의 제조 방법
DE102013202256B3 (de) * 2013-02-12 2014-07-17 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung von Titan-dotiertem synthetischen Quarzglas und dessen Verwendung
US9434632B2 (en) 2013-02-26 2016-09-06 Corning Incorporated Glass forming apparatus and method
US9340451B2 (en) 2013-02-28 2016-05-17 Corning Incorporated Machining of fusion-drawn glass laminate structures containing a photomachinable layer
US9393760B2 (en) 2013-02-28 2016-07-19 Corning Incorporated Laminated glass articles with phase-separated claddings and methods for forming the same
EP2978600A1 (en) 2013-03-25 2016-02-03 Corning Incorporated Textured glass laminates using low-tg clad layer
KR102225583B1 (ko) 2013-04-29 2021-03-10 코닝 인코포레이티드 광기전력 모듈 패키지
TWI627141B (zh) 2013-04-30 2018-06-21 康寧公司 用於沿等壓管堰控制熔融玻璃流的設備與方法
US9914657B2 (en) 2013-04-30 2018-03-13 Corning Incorporated Apparatus and method for thermal profile control in an isopipe
KR20160020511A (ko) 2013-06-14 2016-02-23 코닝 인코포레이티드 향상된 엣지 조건을 갖는 적층 유리 제품을 제조하는 방법
JP6666838B2 (ja) * 2013-06-14 2020-03-18 コーニング インコーポレイテッド ラミネート封着シート
US20160114564A1 (en) * 2013-06-14 2016-04-28 Corning Incorporated Laminated glass article with scratch resistant surface
US11079309B2 (en) 2013-07-26 2021-08-03 Corning Incorporated Strengthened glass articles having improved survivability
EP3027568B1 (en) * 2013-07-31 2019-02-20 Corning Incorporated Muffle gap seal for glass laminate machine
CN105980147B (zh) 2013-08-15 2020-07-24 康宁公司 中至高cte玻璃以及包含其的玻璃制品
EP3033310B1 (en) 2013-08-15 2021-03-10 Corning Incorporated Alkali-doped and alkali-free boroaluminosilicate glass
US10202300B2 (en) 2013-08-23 2019-02-12 Corning Incorporated Strengthened glass articles, edge-strengthened laminated glass articles, and methods for making the same
CN105849054B (zh) 2013-11-01 2019-10-18 康宁股份有限公司 用于形成玻璃板的设备和方法
TWI656022B (zh) 2013-11-13 2019-04-11 美商康寧公司 疊層玻璃物件及其製造方法
JP6075719B2 (ja) * 2013-11-19 2017-02-08 日本電気硝子株式会社 強化ガラス板、及び強化ガラス板の製造方法
US10138155B2 (en) 2013-12-03 2018-11-27 Corning Incorporated Apparatus and method for severing a moving ribbon of inorganic material
CN105939973B (zh) 2013-12-03 2019-08-20 康宁股份有限公司 用于切断玻璃板的设备和方法
CN104960282B (zh) * 2014-01-29 2019-07-30 康宁股份有限公司 制造具有受控的强度的玻璃层叠的方法
US9517968B2 (en) 2014-02-24 2016-12-13 Corning Incorporated Strengthened glass with deep depth of compression
TWI664153B (zh) 2014-03-13 2019-07-01 美商康寧公司 玻璃物件及形成該玻璃物件之方法
KR102421511B1 (ko) * 2014-03-27 2022-07-15 코닝 인코포레이티드 유리 제품
US10112862B2 (en) 2014-04-25 2018-10-30 Corning Incorporated Apparatus and method of manufacturing composite glass articles
CN117103131A (zh) 2014-04-29 2023-11-24 康宁股份有限公司 用于形成层压玻璃结构的研磨射流
US10144198B2 (en) 2014-05-02 2018-12-04 Corning Incorporated Strengthened glass and compositions therefor
TWI649277B (zh) 2014-05-07 2019-02-01 美商康寧公司 成形玻璃物件及其形成方法
US10399304B2 (en) 2014-05-07 2019-09-03 Corning Incorporated Laminated glass article and method for forming the same
US10399890B2 (en) 2014-05-21 2019-09-03 Corning Incorporated Alkali-doped and alkali-free boroaluminosilicate glass
TWI697403B (zh) 2014-06-19 2020-07-01 美商康寧公司 無易碎應力分布曲線的玻璃
TWI667130B (zh) 2014-06-26 2019-08-01 美商康寧公司 絕緣玻璃單元
US20170226000A1 (en) * 2014-08-13 2017-08-10 Corning Incorporated Intermediate cte glasses and glass articles comprising the same
KR20170047291A (ko) 2014-08-21 2017-05-04 코닝 인코포레이티드 적층 유리 제품에서 기포를 방지하는 방법 및 이로부터 형성된 적층 유리 제품
CN106687420B (zh) 2014-08-28 2020-03-27 康宁股份有限公司 用于切割玻璃板的设备和方法
CN115504681A (zh) 2014-10-07 2022-12-23 康宁股份有限公司 具有确定的应力分布的玻璃制品及其生产方法
TWI749406B (zh) 2014-10-08 2021-12-11 美商康寧公司 含有金屬氧化物濃度梯度之玻璃以及玻璃陶瓷
US10150698B2 (en) 2014-10-31 2018-12-11 Corning Incorporated Strengthened glass with ultra deep depth of compression
JP6839077B2 (ja) 2014-11-04 2021-03-03 コーニング インコーポレイテッド 深部非脆弱性応力プロファイル及びその作成方法
US9580350B2 (en) 2014-11-19 2017-02-28 Corning Incorporated High hydroxyl TiO2-SiO2 glass
CN107207330B (zh) * 2014-11-28 2020-06-09 康宁股份有限公司 生产具有形状的玻璃制品的方法
JP6671368B2 (ja) * 2014-12-08 2020-03-25 コーニング インコーポレイテッド 低圧密の積層ガラス物品および形成方法
WO2016126657A1 (en) 2015-02-02 2016-08-11 Corning Incorporated Methods for strengthening edges of laminated glass articles and laminated glass articles formed therefrom
CN107428582B (zh) 2015-02-04 2021-02-26 康宁股份有限公司 用于形成玻璃制品的系统
US11773004B2 (en) * 2015-03-24 2023-10-03 Corning Incorporated Laser cutting and processing of display glass compositions
KR20170139680A (ko) 2015-04-28 2017-12-19 코닝 인코포레이티드 출구 희생 커버 층을 사용하여 기판에 쓰루 홀을 레이저 드릴링하는 방법 및 이에 상응하는 피가공재
CN107531538A (zh) 2015-05-01 2018-01-02 康宁股份有限公司 用于控制玻璃片厚度的方法和设备
US10538449B2 (en) 2015-06-10 2020-01-21 Corning Incorporated Apparatus and method for conditioning molten glass
WO2017007868A1 (en) 2015-07-07 2017-01-12 Corning Incorporated Apparatuses and methods for heating moving glass ribbons at separation lines and/or for separating glass sheets from glass ribbons
US11613103B2 (en) 2015-07-21 2023-03-28 Corning Incorporated Glass articles exhibiting improved fracture performance
US10579106B2 (en) 2015-07-21 2020-03-03 Corning Incorporated Glass articles exhibiting improved fracture performance
EP3362417A1 (en) 2015-10-14 2018-08-22 Corning Incorporated Laminated glass article with determined stress profile and method for forming the same
EP3377453A1 (en) 2015-11-20 2018-09-26 Corning Incorporated Laminated glass ribbons and apparatuses for forming laminated glass ribbons
KR102393206B1 (ko) 2015-12-11 2022-05-03 코닝 인코포레이티드 금속 산화물 농도 구배를 포함하는 융합-형성가능한 유리계 제품
US10017417B2 (en) 2016-04-08 2018-07-10 Corning Incorporated Glass-based articles including a metal oxide concentration gradient
KR20240019381A (ko) 2016-04-08 2024-02-14 코닝 인코포레이티드 두 영역을 포함하는 응력 프로파일을 포함하는 유리-계 물품, 및 제조 방법
US10889520B2 (en) 2016-04-19 2021-01-12 Corning Incorporated Glass forming apparatuses and methods for making glass ribbons
CN109071318B (zh) 2016-05-04 2022-09-27 康宁股份有限公司 着色硅铝酸盐玻璃组合物及包含该玻璃组合物的玻璃制品
US10410883B2 (en) 2016-06-01 2019-09-10 Corning Incorporated Articles and methods of forming vias in substrates
US10794679B2 (en) 2016-06-29 2020-10-06 Corning Incorporated Method and system for measuring geometric parameters of through holes
US10134657B2 (en) 2016-06-29 2018-11-20 Corning Incorporated Inorganic wafer having through-holes attached to semiconductor wafer
US11506938B2 (en) 2016-07-15 2022-11-22 Corning Incorporated Lighting unit with laminate structure
JP2019522821A (ja) 2016-07-15 2019-08-15 コーニング インコーポレイテッド 積層構造を有する光導波路物品およびそれを形成する方法
US11078112B2 (en) 2017-05-25 2021-08-03 Corning Incorporated Silica-containing substrates with vias having an axially variable sidewall taper and methods for forming the same
US10580725B2 (en) 2017-05-25 2020-03-03 Corning Incorporated Articles having vias with geometry attributes and methods for fabricating the same
TWI766041B (zh) * 2017-06-14 2022-06-01 美商康寧公司 控制壓實的方法
TW201936376A (zh) 2017-12-21 2019-09-16 美商康寧公司 包含低cte玻璃層的多層隔熱玻璃單元
US11554984B2 (en) 2018-02-22 2023-01-17 Corning Incorporated Alkali-free borosilicate glasses with low post-HF etch roughness
DE102018112069A1 (de) * 2018-05-18 2019-11-21 Schott Ag Verwendung eines Flachglases in elektronischen Bauteilen
EP3907199B1 (de) * 2020-05-08 2023-08-23 Schott Ag Vorspannung durch einsatz eines gradientenmaterials

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3673049A (en) 1970-10-07 1972-06-27 Corning Glass Works Glass laminated bodies comprising a tensilely stressed core and a compressively stressed surface layer fused thereto
US4405672A (en) 1982-03-15 1983-09-20 Corning Glass Works Composite photochromic glass article and method of making
US5342426A (en) 1993-07-16 1994-08-30 Corning Incorporated Making glass sheet with defect-free surfaces and alkali metal-free soluble glasses therefor

Family Cites Families (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB479173A (en) 1935-09-24 1938-01-31 Corning Glass Works Improvements in tempered glass articles
NL257758A (ko) 1958-12-02
US3338696A (en) 1964-05-06 1967-08-29 Corning Glass Works Sheet forming apparatus
BE757057A (fr) 1969-10-06 1971-04-05 Corning Glass Works Procede et appareil de controle d'epaisseur d'une feuille de verre nouvellement etiree
US4214886A (en) 1979-04-05 1980-07-29 Corning Glass Works Forming laminated sheet glass
US4394453A (en) 1981-09-08 1983-07-19 Corning Glass Works Envelopes for tungsten-halogen lamps
US4634684A (en) 1985-10-23 1987-01-06 Corning Glass Works Strontium aluminosilicate glass substrates for flat panel display devices
US4666868A (en) 1985-10-23 1987-05-19 Corning Glass Works Strontium aluminosilicate glass substrates for flat panel display devices
US4666869A (en) 1985-10-23 1987-05-19 Corning Glass Works Barium and/or strontium aluminosilicate crystal-containing glasses for flat panel display devices
US4634683A (en) 1985-10-23 1987-01-06 Corning Glass Works Barium and/or strontium aluminosilicate crystal-containing glasses for flat panel display devices
JP2644622B2 (ja) 1990-10-24 1997-08-25 ホーヤ株式会社 液晶ディスプレイ基板用ガラス
JP2871163B2 (ja) 1991-04-26 1999-03-17 日本板硝子株式会社 無アルカリガラス
US5116787A (en) 1991-08-12 1992-05-26 Corning Incorporated High alumina, alkaline earth borosilicate glasses for flat panel displays
US5116789A (en) 1991-08-12 1992-05-26 Corning Incorporated Strontium aluminosilicate glasses for flat panel displays
US5116788A (en) 1991-08-12 1992-05-26 Corning Incorporated Alkaline earth aluminoborosilicate glasses for flat panel displays
FR2692883B1 (fr) 1992-06-25 1994-12-02 Saint Gobain Vitrage Int Verres thermiquement stables et chimiquement résistants.
US5374595A (en) 1993-01-22 1994-12-20 Corning Incorporated High liquidus viscosity glasses for flat panel displays
US5326730A (en) 1993-01-22 1994-07-05 Corning Incorporated Barium aluminosilicate glasses
US5508237A (en) 1994-03-14 1996-04-16 Corning Incorporated Flat panel display
US5489558A (en) 1994-03-14 1996-02-06 Corning Incorporated Glasses for flat panel display
EP0714862B1 (en) 1994-11-30 1999-03-31 Asahi Glass Company Ltd. Alkali-free glass and flat panel display
JP2719504B2 (ja) 1995-02-27 1998-02-25 ホーヤ株式会社 液晶ディスプレイ基板用ガラス
US5741746A (en) 1995-03-02 1998-04-21 Kohli; Jeffrey T. Glasses for display panels
KR100262116B1 (ko) 1995-09-28 2000-07-15 기시다 기요사쿠 무알칼리유리기판
DE19680967B3 (de) 1995-09-28 2012-03-01 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkalifreies Glassubstrat
JPH09110460A (ja) 1995-10-18 1997-04-28 Central Glass Co Ltd 無アルカリガラス
JP3858293B2 (ja) 1995-12-11 2006-12-13 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス基板
DE19601922C2 (de) 1996-01-13 2001-05-17 Schott Glas Zinn- und zirkonoxidhaltige, alkalifreie Erdalkali-Alumo-Borosilicatgläser und deren Verwendung
DE19603698C1 (de) 1996-02-02 1997-08-28 Schott Glaswerke Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung
JP3988209B2 (ja) 1996-06-03 2007-10-10 旭硝子株式会社 無アルカリガラスおよび液晶ディスプレイパネル
JP3800438B2 (ja) 1996-07-09 2006-07-26 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス及びその製造方法
JP3897194B2 (ja) 1997-07-24 2007-03-22 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス及びその製造方法
JP3861272B2 (ja) 1996-12-18 2006-12-20 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス及びその製造方法
JP3861271B2 (ja) 1996-08-21 2006-12-20 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス及びその製造方法
JP3800443B2 (ja) 1996-10-22 2006-07-26 日本電気硝子株式会社 ディスプレイ用無アルカリガラス基板及びその製造方法
JPH10139467A (ja) 1996-11-12 1998-05-26 Asahi Glass Co Ltd 無アルカリガラス及びフラットディスプレイパネル
US6060168A (en) 1996-12-17 2000-05-09 Corning Incorporated Glasses for display panels and photovoltaic devices
JP4739468B2 (ja) 1997-05-20 2011-08-03 旭硝子株式会社 無アルカリガラスおよびその清澄方法
DE19739912C1 (de) 1997-09-11 1998-12-10 Schott Glas Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung
JPH11292563A (ja) 1998-04-03 1999-10-26 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラス基板
CN1160268C (zh) 1998-11-30 2004-08-04 康宁股份有限公司 用于平板显示器的玻璃
JP4000500B2 (ja) * 1999-08-02 2007-10-31 日本電気硝子株式会社 Ｌｉ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系結晶化ガラス及び結晶性ガラス
JP2002003240A (ja) 2000-06-19 2002-01-09 Nippon Electric Glass Co Ltd 液晶ディスプレイ用ガラス基板
DE10034985C1 (de) 2000-07-19 2001-09-06 Schott Glas Verfahren zur Herstellung von Aluminosilicatgläsern, Aluminosilicatgläser sowie deren Verwendungen
JP2002258007A (ja) * 2000-12-27 2002-09-11 Hoya Corp 屈折率分布型ロッド状レンズ、その製造方法及びロッド状レンズアレイ
DE10114581C2 (de) * 2001-03-24 2003-03-27 Schott Glas Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und Verwendungen
US7514149B2 (en) * 2003-04-04 2009-04-07 Corning Incorporated High-strength laminated sheet for optical applications
US20050001201A1 (en) * 2003-07-03 2005-01-06 Bocko Peter L. Glass product for use in ultra-thin glass display applications
JP2006056768A (ja) * 2004-07-23 2006-03-02 Nippon Sheet Glass Co Ltd 屈折率分布型ロッドレンズ用クラッドガラス組成物、およびそれを用いた屈折率分布型ロッドレンズ母ガラスロッド、ならびに屈折率分布型ロッドレンズ、およびその製造方法
US7201965B2 (en) * 2004-12-13 2007-04-10 Corning Incorporated Glass laminate substrate having enhanced impact and static loading resistance

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3673049A (en) 1970-10-07 1972-06-27 Corning Glass Works Glass laminated bodies comprising a tensilely stressed core and a compressively stressed surface layer fused thereto
US4405672A (en) 1982-03-15 1983-09-20 Corning Glass Works Composite photochromic glass article and method of making
US5342426A (en) 1993-07-16 1994-08-30 Corning Incorporated Making glass sheet with defect-free surfaces and alkali metal-free soluble glasses therefor

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160045099A (ko) * 2013-08-22 2016-04-26 코닝 인코포레이티드 용융된 유리 처리 기기 및 그 방법
KR102200447B1 (ko) * 2013-08-22 2021-01-11 코닝 인코포레이티드 용융된 유리 처리 기기 및 그 방법

Also Published As

Publication number Publication date
WO2007095114A1 (en) 2007-08-23
JP2009525941A (ja) 2009-07-16
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CN101400613A (zh) 2009-04-01

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