KR20160020511A - 향상된 엣지 조건을 갖는 적층 유리 제품을 제조하는 방법 - Google Patents

향상된 엣지 조건을 갖는 적층 유리 제품을 제조하는 방법 Download PDF

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토마스 마이클 클리어리
마이클 토마스 갤러거
폴 존 슈스탁
마크 오웬 웰러
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Abstract

적층 유리 제품을 제조하는 방법은 코어층의 엣지를 노출함으로써, 제1 클래드층, 제2 클래드층, 및 상기 제1 클래드층과 제2 클래드층 사이에 상기 코어층을 가진다. 에칭제는 리세스를 형성하기 위해 상기 적층 유리 제품의 엣지에 적용될 수 있다. 그 후 상기 리세스는 필링될 수 있다.

Description

향상된 엣지 조건을 갖는 적층 유리 제품을 제조하는 방법 {METHOD OF MANUFACTURING LAMINATED GLASS ARTICLES WITH IMPROVED EDGE CONDITION}
본 출원은 2013년 6월 14일에 제출된 미국 가출원 번호 제61/835115호의 35 U.S.C. § 119 하에 우선권을 주장하고, 상기 가출원의 내용은 믿을 수 있고, 전체로 참조에 의해 본 명세서에 병합된다.
본 명세서는 일반적으로 적층 유리 제품에 관한 것이고, 보다 구체적으로 향상된 엣지를 가지는 적층 유리 시트 또는 튜브, 및 향상된 엣지를 가지는 적층 유리 시트 또는 튜브를 만드는 방법에 관한 것이다.
유리 시트는 자동차 글레이즈 유리 또는 건축 글레이즈 유리로서 이용될 수 있다. 추가적으로, 커버 유리, 유리 백플레인 등과 같은 유리 시트는 LCD 및 LED 디스플레이와 같은 소비자 및 상업적 전자 디바이스, 컴퓨터 모니터, 현금 자동 입출금기 (automated teller machines, ATMs) 등에서 이용된다. 이러한 유리 시트 중 일부는 "터치 (touch)" 기능성을 포함하고, 이는 유리 시트가 사용자의 손가락 및 스타일러스 (stylus) 디바이스를 포함하는 다양한 물체에 의해 접촉되고, 그러한 것과 같이, 상기 유리는 손상 없이 잦은 접촉을 견디기 위해 충분히 튼튼해야 하는 필요성이 있다. 게다가, 그러한 유리 시트는 휴대폰, 개인 미디어 플레이어, 및 테블릿 컴퓨터와 같은 휴대용 전자 디바이스, 자동차 또는 빌딩에 또한 병합될 수 있다. 이러한 장치에 병합된 상기 유리 시트는 관련된 장치의 수송 및/또는 사용 동안 손상에 민감할 수 있다. 따라서, 다양한 장치에 사용된 유리 시트는 실제 사용으로부터 일상의 "터치" 접촉뿐만 아니라 디바이스가 수동될 때 발생할 수 있는 우연한 접촉 및 충격을 버틸 수 있는 강화된 강도를 요구한다.
적층 유리 시트에서, 시트의 표면은 예를 들면, 적층 유리 시트의 코어층 (core layer)과 클래드층 (clad layers) 사이에 열 팽창 계수 (CTE)의 부조화 (mismatch)에 의해 만들어진 압축 응력 (compressive stresses)을 통해 강화될 수 있다. 그러나 압축 응력을 통한 표면의 강화는 일반적으로 코어층에서 높은 인장응력 (tensile stress)을 만들 것이고, 이는 상기 유리 시트가 커트될 때 노출될 수 있다. 만약 노출된 유리 코어층은 결함을 가지거나 손상 사건을 당하면, 유리 시트의 파괴 또는 파손이 발생할 수 있다.
따라서, 적층 유리 시트의 노출된 엣지를 강화할 필요성이 존재한다.
본 발명은 향상된 엣지를 가지는 적층 유리 시트 또는 튜브, 및 향상된 엣지를 가지는 적층 유리 시트 또는 튜브를 만드는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
하나의 관점에서, 적층 유리 제품을 제조하는 방법이 개시된다. 상기 방법은 제1 클래드층, 제2 클래드층, 상기 제1 클래드층과 제2 클래드층 사이에 코어층, 및 코어층이 노출되는 엣지를 가지는 적층 유리 제품을 형성하는 단계를 포함한다. 에칭제 (etchant)는 상기 코어층의 적어도 일 부분을 에칭제로 제거함으로써 상기 적층 유리 제품의 엣지에 리세스 (recess)를 형성하기 위해 상기 적층 유리 제품의 엣지에 적용될 수 있다. 상기 리세스는 상기 제1 클래드층과 상기 제2 클래드층 사이에 배치되고, 상기 제1 클래드층과 상기 제2 클래드층 사이를 연장 (span)할 수 있고, 필러 물질로 필링 (filling)될 수 있다.
또 다른 관점에서, 적층 유리 제품은 제1 클래드층, 제2 클래드층, 상기 제1 클래드층과 제2 클래드층 사이에 코어층, 및 코어층이 노출되는 엣지를 포함한다. 에칭제는 상기 적층 유리 제품의 엣지에 적용될 수 있고, 리세스는 상기 코어층의 적어도 일 부분을 에칭제로 제거함으로써 상기 적층 유리 제품의 엣지에 형성될 수 있다. 상기 리세스는 상기 제1 클래드층과 상기 제2 클래드층 사이에 배치되고 제1 클래드층과 상기 제2 클래드층 사이를 연장할 수 있고, 그것은 보호 폴리머층 (protective polymer layer)으로 필링될 수 있다.
또 다른 구체 예에서, 적층 유리 제품은 제1 클래드층, 제2 클래드층, 상기 제1 클래드층과 제2 클래드층 사이에 코어층, 및 코어층이 노출되는 엣지를 포함한다. 에칭제는 상기 적층 유리 제품의 엣지에 적용될 수 있다. 리세스는 상기 코어층의 적어도 일 부분을 에칭제로 제거함으로써 상기 적층 유리 제품의 엣지에 형성될 수 있다. 상기 리세스는 상기 제1 클래드층과 상기 제2 클래드층 사이에 배치되고 상기 제1 클래드층과 상기 제2 클래드층 사이를 연장할 수 있고, 상기 제1 클래드층과 상기 제2 클래드층 중 적어도 하나는 리세스를 필링하기 위해 조작된다 (manipulate).
추가적인 특징 및 장점은 다음의 상세한 설명에서 설명될 것이고, 부분적으로 상기 설명으로부터 해당 분야의 통상의 기술자에게 자명하거나, 다음의 상세한 설명, 청구항뿐만 아니라 첨부된 도면을 포함하는 본 명세서에 기재된 구체 예를 실시함으로써 인식될 수 있다.
전술한 일반적인 설명 및 후술할 상세한 설명 모두는 다양한 구체 예를 기재하고 청구된 주제의 속성 및 특성을 이해하기 위한 개요 또는 틀을 제공하기 위해 의도된 것으로 이해된다. 첨부된 도면은 다양한 구체 예의 추가적인 이해를 제공하기 위해 의도되고, 본 명세서의 일 부분에 병합되고 본 명세서의 일 부분을 구성한다. 상기 도면은 본 명세서에 기재된 다양한 구체 예를 도시하고, 상세한 설명과 함께 청구된 주제의 원리 및 작동을 설명하기 위해 제공된다.
도 1은 본 명세서에서 보여지고 기재된 하나 이상의 구체 예에 따른 적층 유리 구조체의 단면도를 개략적으로 도시한다;
도 2는 본 명세서에서 보여지는 기재된 하나 이상의 구체 예에 따른 적층 유리 시트를 만들기 위한 융합 인발 공정 (fusion draw process)을 개략적으로 도시한다;
도 3은 에칭 후에 적층 유리 구조체의 단면도를 개략적으로 도시한다;
도 4는 에칭 후에 폴리머 필러 물질로 필링된 리세스를 갖는 적층 유리 구조체의 단면도를 개략적으로 도시한다; 및
도 5는 에칭 후에 필러 물질로서 클래드층으로 필링된 리세스를 갖는 적층 유리 구조체의 단면도를 개략적으로 도시한다.
참조는 지금 향상된 엣지 표면을 가지는 적층 유리 시트 및 이를 만드는 방법의 구체 예에 대해 상세히 만들어질 것이다. 도 4는 적층 유리 시트의 하나의 구체 예의 단면도를 개략적으로 도시한다. 적층 유리 시트는 일반적으로 유리 코어층 및 상기 유리 코어층에 융합된 적어도 하나의 유리 클래드층을 포함한다. 상기 적층 유리 시트는 또한 적어도 하나의 엣지를 포함하고, 여기서 상기 적층 유리 시트가 예를 들면, 최종 사용을 위해 적절한 크기 및 형태로 커트될 때, 상기 유리 코어층은 노출된다. 상기 노출된 유리 코어층의 부분은 제거될 수 있고, 필러 물질은 상기 유리 코어층의 노출된 부분을 커버하기 위해 적층 유리 시트의 엣지에 적용될 수 있다. 적층 유리 시트 및 적층 유리 시트를 만들기 위한 방법의 다양한 구체 예는 첨부된 도면에 특정 참조와 함께 본 명세서에서 더 상세히 기재될 것이다.
본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 "CTE"는 약 20℃ 내지 약 300℃ 범위의 온도에 관하여 평균을 낸 유리 조성물의 열 팽창 계수를 나타낸다.
유리 조성물에서 특정 성분의 부재를 기재하기 위해 사용될 때, 용어 "실질적으로 없는 (substantially free)"은 상기 성분이 오염 물질로서 약 1 중량% 미만, 일부 경우에서 약 0.5 중량% 미만의 극미량 (trace amount)이 상기 유리 조성물에 존재하는 것을 의미한다.
본 명세서에 기재된 유리 조성물의 구체 예에서, 구성 성분 (예를 들면, SiO2, Al2O3, LiO2 등)의 농도는 달리 명시되지 않으면, 산화물 기준 중량 퍼센트 (중량%)로 주어진다.
본 명세서에서 사용된 바와 같이, "필러 물질 (filler material)"은 적층 유리 시트로부터 코어층의 적어도 일부분을 제거함으로써 형성된 리세스 속으로 필링될 수 있는 임의의 물질을 나타낸다. 다양한 구체 예에서, 상기 필러 물질은 폴리머 물질, 프리-폴리머 물질 (pre-polymeric material), 유리 프릿 (glass frit) 또는 상기 클래드층의 일 부분 또는 이들의 조합일 수 있다.
본 명세서에서 사용된 바와 같이, "첨가제 (additive)”는 폴리머 또는 프리 폴리머 물질의 다양한 특성에 영향을 줄 수 있는 폴리머 또는 프리 폴리머 물질에 첨가될 수 있는 성분을 나타낸다.
적층 유리 제품
지금 도 1과 관련하여, 적층 유리 구조체의 단면도가 개략적으로 도시된다. 상기 적층 유리 구조체는 예를 들면, 적층 유리 시트, 적층 유리 튜브, 또는 또 다른 적층 유리 제품과 같은 적층 유리 제품을 나타낸다. 상기 적층 유리 제품은 도 1에서 보여지는 적층 유리 구조체를 포함한다. 예를 들면, 상기 적층 유리 제품은 적층 유리 구조체를 포함하는 적층 유리 시트 (100)를 포함한다. 상기 적층 유리 시트 (100)는 일반적으로 유리 코어층 (102)와 적어도 하나의 유리 클래드층을 포함한다. 도 1에 도시된 구체 예에서, 상기 적층 유리 시트는 한 쌍의 유리 클래드층 (104a, 104b)를 포함한다. 상기 유리 코어층 (102)은 일반적으로 제1 표면과 제1 표면의 반대편에 있는 반대편 제2 표면을 포함한다. 구체 예의 하나의 세트에서, 상기 유리 클래드층 (104a, 104b)은 상기 유리 코어층 (102)와 유리 클래드층 (104a, 104b) 사이에 배치된, 접착제 (adhesive), 중간층, 코팅층 등과 같은 임의의 추가적인 물질 없이 유리 코어층 (102)에 융합된다.
일부 구체 예에서, 적층 유리 제품은 도 1에서 보여지는 적층 유리 구조체를 포함하는 적층 유리 튜브를 포함한다. 예를 들면, 상기 적층 유리 구조체는 상기 적층 유리 튜브의 부분적인 세로 방향의 단면도를 나타낸다. 상기 적층 유리 튜브는 유리 코어층과 적어도 하나의 유리 클래드층을 포함한다. 예를 들면, 상기 적층 유리 튜브는 적층 유리 시트 (100)에 관하여 본 명세서에서 기재된 바와 같이, 한 쌍의 유리 클래드 층과 상기 클래드층들 사이에 배치된 유리 코어층을 포함한다. 상기 유리 코어층 및 상기 유리 클래드층 각각은 적절한 가로의 (transverse) 단면도 형태 (예를 들면, 원형, 타원형, 삼각형, 직사각형, 또는 또 다른 다각형 또는 비 다각형 형태)를 가진 관 모양의 층을 포함한다. 예를 들면, 일부 구체 예에서, 적층 유리 튜브는 원통형 튜브를 포함하고, 여기서 상기 유리 코어층 및 상기 유리 클래드층은 원통형 튜브의 동심원의 원통형층을 포함한다. 일부 구체 예에서, 적층 유리 튜브의 엣지 (예를 들면, 상기 튜브의 하나의 또는 모든 끝에서)는 적층 유리 시트 (100)에 관하여 본 명세서에서 기재된 바와 같이, 보호된다.
예시적인 구체 예에서, 하나 이상의 클래드층 및 유리 코어층을 포함할 수 있는, 적층 유리 시트는 4 mm 이하, 2.5 mm 이하, 또는 심지어 2.0 mm 이하의 두께를 가질 수 있다. 다른 구체 예에서, 상기 적층 유리 시트는 약 1.5 mm 이하, 또는 심지어 1.0 mm 이하의 두께를 가질 수 있다. 구체 예에서, 상기 적층 유리 시트는 0.2 mm 이상, 또는 심지어 0.3 mm 이상의 두께를 가질 수 있다. 다른 구체 예에서, 상기 적층 유리 시트는 0.4 mm 이상의 두께를 가질 수 있다. 상기 클래드층은 얇은 층일 수 있다. 구체 예에서, 상기 클래드층 각각은 200 ㎛, 또는 심지어 150 ㎛ 미만의 두께를 가질 수 있다. 다른 구체 예에서, 상기 클래드층 각각은 약 100 ㎛ 미만의 두께를 가질 수 있다. 예시적인 구체 예에서, 상기 클래드층 각각은 10 ㎛ 이상, 또는 심지어 15 ㎛ 이상의 두께를 가질 수 있다. 여전히 다른 구체 예에서, 상기 클래드층 각각은 20 ㎛ 이상, 또는 심지어 25 ㎛ 이상의 두께를 가질 수 있다.
본 명세서에 기재된 적층 유리 시트 (100)는 적층된 결과로서 유사한 물질로 이루어진 개별적인 시트에 관하여 향상된 강도를 가질 수 있다. 예를 들면, 일부 구체 예에서, 유리 클래드층 (104a, 104b)은 유리 코어층 (102)보다 더 낮은 평균 열 팽창 계수 (CTE)를 가지는 유리 조성물로부터 형성된다. 상대적으로 낮은 평균 CTE를 가지는 유리 조성물로부터 형성된 유리 클래드층은 적층 공정 동안 더 높은 평균 CTE를 가진 유리 조성물로부터 형성된 유리 코어층과 쌍이 될 때, 상기 유리 코어층과 상기 유리 클래드층의 CTE 차이는 냉각하자마자 유리 클래드층에서 압축 응력의 형성을 이끈다. 본 명세서에서 기재된 일부 구체 예에서, 상기 유리 클래드층은 20℃ 내지 300℃ 범위에 걸쳐 평균을 낸 약 95×10-7/℃ 이하의 평균 CTE를 가지는 유리 조성물로부터 형성된다. 일부 구체 예에서, 유리 조성물의 평균 CTE는 20℃ 내지 300℃ 범위에 걸쳐 평균을 낸 약 65×10-7/℃ 이하일 수 있다. 아직 다른 구체 예에서, 유리 조성물의 평균 CTE는 20℃ 내지 300℃ 범위에 걸쳐 평균을 낸 약 35×10-7/℃ 이하일 수 있다. 그러나, 예시적인 구체 예에서 상기 클래드층의 평균 CTE는 그들과 쌍을 이루는 유리 코어층의 평균 CTE 미만의 임의의 값을 가질 수 있다.
유리 코어층 (102)는 적층 유리 시트의 강도를 향상시키기 위해 유리 클래드층 (104a, 104b)에 비교하여 높은 평균 CTE를 가지는 유리 조성물로부터 형성될 수 있다. 일부 구체 예에서, 상기 유리 코어층은 20℃ 내지 300℃ 범위에서 약 40×10-7/℃ 이상인 평균 열 팽창 계수 (CTE)를 가지는 유리 조성물로부터 형성될 수 있다. 이러한 구체 예의 일부에서, 상기 유리 코어층의 유리 조성물의 평균 CTE는 20℃ 내지 300℃ 범위에서 약 60×10-7/℃ 이상일 수 있다. 아직 다른 구체 예에서, 상기 유리 코어층의 유리 조성물의 평균 CTE는 20℃ 내지 300℃ 범위에 걸쳐 평균을 낸 약 90×10-7/℃ 이상일 수 있다.
유리 클래드층의 CTE가 유리 코어층의 CTE 보다 낮은 구체 예에서, 유리 코어층의 적어도 일부분은 상기 유리 클래드층과 유리 코어층 사이에 부조화된 CTE 값의 결과로서, (유리 코어층이 중심 장력의 영역을 가지는 곳과 같이) 장력에 있을 수 있다. 상기 유리 코어층 (102)이 (예를 들면, 적층 시트의 커팅에 의해) 유리 시트의 엣지에 노출되는 구체 예에서, 상기 유리 시트의 중심 장력 영역이 노출되고, 이는 상기 유리 시트의 노출된 엣지에서 발생하는 사소한 흠 또는 손상 사건으로부터 파괴 또는 파손에 민감한 유리 시트를 만든다. 특히, 유리 코어층 (102)에서 증가된 인장 응력 때문에, 유리의 낙하로부터 쇼크 또는 상기 유리 상에 일부 다른 형태의 힘은 유리가 산산조각나는 것을 야기할 수 있다. 따라서, 본 명세서에 기재된 구체 예에서, 유리 코어층이 노출되는 유리 시트의 엣지는 그러한 파괴를 방지하기 위해 향상된다.
다양한 공정은 융합 적층 공정 (fusion lamination process), 슬롯-인발 적층 공정 (slot-draw lamination processes), 및 플로트 유리 공정 (float glass processes)을 포함하지만, 이에 한정되지는 않는 본 명세서에 기재된 적층된 유리 시트를 형성하는데 사용할 수 있고, 여기서 적층은 용융 및 형성과 함께 동시에 발생할 수 있다. 택일적으로, 적층은 시트 형성 후 별개의 공정 단계일 수 있다.
특정 구체 예에서, 적층 유리 시트 (100)는 미국 특허 제4,214,886호에 기재된 것과 같이 융합 적층 공정에 의해 형성될 수 있고, 이는 전체로 참조에 의해 본 명세서에 병합된다. 실시 예로서 도 2와 관련하여, 적층 유리 시트를 형성하기 위해 적층 융합 인발 장치 (200)는 하부 아이소파이프 (lower isopipe, 204) 위에 위치한 상부 아이소파이프 (upper isopipe, 202)를 포함한다. 상기 상부 아이소파이프 (202)는 트로프 (trough, 210)을 포함하고, 용융된 유리 클래드 조성물 (206)가 용융기 (melter)(미도시)로부터 트로프 (210) 속으로 공급된다. 유사하게, 하부 아이소파이프 (204)는 트로프 (212)를 포함하고, 용융된 유리 코어 조성물 (208)은 용융기 (미도시)로부터 트로프 (212) 속으로 공급된다.
용융된 유리 코어 조성물 (208)은 트로프 (212)를 필링하면서, 그것은 트로프 (212)를 넘쳐 흐르고, 하부 아이소파이프 (204)의 외부를 형성하는 표면 (216, 218) 위로 흐른다. 하부 아이소파이프 (204)의 외부를 형성하는 표면 (216, 218)은 루트 (220)에서 모여든다. 따라서, 외부를 형성하는 표면 (216, 218) 위에 흐르는 용융된 유리 코어 조성물 (208)은 하부 아이소파이프 (204)의 루트 (220)에서 재결합하고, 이에 의해 적층 유리 시트의 유리 코어층 (102)를 형성한다.
동시에, 용융된 유리 클래드 조성물 (206)은 상부 아이소파이프 (202)에서 형성된 트로프 (210)을 넘쳐 흐르고, 상부 아이소파이프 (202)의 외부를 형성하는 표면 (222, 224) 위에 흐른다. 상기 용융된 유리 클래드 조성물 (206)은 상부 아이소파이프 (202)에 의해 바깥쪽으로 방향이 바뀌고, 그 결과 용융된 유리 클래드 조성물 (206)은 하부 아이소파이프 (204) 주위로 흐르고, 하부 아이소파이프의 외부를 형성하는 표면 (216, 218)에 걸쳐 흐르고 용융된 유리 코어 조성물에 융합하고 유리 코어층 (102) 주위에 유리 클래드층 (104a, 104b)를 형성하는 용융된 유리 코어 조성물 (208)과 접촉한다.
본 명세서의 위에서 언급된 바와 같이, 일부 구체 예에서, 용융된 유리 코어 조성물 (208)은 용융된 유리 클래드 조성물 (206)의 평균 열 팽창 계수 CTEclad보다 큰 평균 열 팽창 계수 CTEcore를 가진다. 따라서, 유리 코어층 (102) 및 유리 클래드층 (104a, 104b)가 냉각하면서, 유리 코어층 (102)와 유리 클래드층 (104a, 104b)의 평균 열 팽창 계수의 차이는 유리 클래드층 (104a, 104b)에서 발달하는 압축 응력을 야기한다. 상기 압축 응력은 심지어 이온-교환 처리 또는 열 템퍼링 처리 없이 결과적인 적층 유리 시트의 강도를 증가시킨다.
유리 클래드층 (104a, 104b)는 유리 코어층 (102)에 융합되고 이에 의해 적층 유리 시트 (100)을 형성하면, 상기 적층 유리 시트 (100)는 적절한 방법에 의해 최종 치수로 커트될 수 있다. 예를 들면, 상기 적층 유리 시트 (100)은 레이저에 의해 또는 "스크라이브 및 브레이크 (scribe and break)" 기술을 사용하여 커트될 수 있다. 적층 유리 시트의 커팅은 노출된 유리 시트의 엣지를 야기하고 그 결과 상기 유리 코어층 (102) 내의 인장 구역은 엣지 상에 노출되고, 그러므로 손상에 민감할 수 있다.
구체 예에 따라, 유리 시트의 엣지는 유리 코어층 (102)의 노출된 부분의 적어도 일 부분 및 일부 구체예에서는 전체를 필러 물질로 커버함으로써 향상되고, 그 결과 상기 유리 코어층 (102)은 상기 유리 시트의 엣지를 따라 노출되지 않는다. 상기 유리 코어층 (102)의 노출된 부분을 커버하는 것은 높은 인장 응력을 가질 수 있는 상기 유리 코어층 (102)이 직접적으로 노출되거나 충격 또는 힘의 대상이 될 수 있는 개연성을 감소시킴으로써, 적층 유리 시트 (100)을 파괴 또는 파손으로부터 보호한다. 상기 유리 코어층이 노출된 후에 상기 유리 코어층의 노출된 부분이 임의의 지점에서 필러 물질로 커버될 수 있지만, 일부 구체 예에서, 상기 노출된 유리 코어층이 필러 물질로 커버되기 전에 상기 유리 코어층의 부분은 적층 유리 시트로부터 제거될 수 있다.
유리 코어층의 노출된 부분을 제거하는 것은 제1 클래드층과 제2 클래드층 사이에 배치되고 상기 제1 클래드층과 상기 제2 클래드층 사이를 연장할 수 있는 적층 유리 시트의 엣지에서 리세스를 만든다. 적층 유리 시트의 표면에서 유리 코어층의 부분은 제거될 수 있고, 그 후 필러 물질은 노출된 유리 코어층의 부분을 커버하기 위해 리세스 속으로 적용될 수 있다. 상기 유리 코어층의 노출된 부분은 임의의 적절한 방법에 의해 제거될 수 있다. 예를 들면, 상기 유리 코어층의 노출된 부분은 기계 가공 (machining) 또는 레이져 어블레이션 등과 같이 기계적으로 제거될 수 있다. 택일적으로 또는 추가적으로, 상기 유리 코어층의 노출된 부분은 화학적 에칭과 같은 화학적 수단에 의해 제거될 수 있고, 상기 유리 시트가 특별히 얇은 것 같을 때, 예를 들면, 기계적 수단에 의해 상기 유리 코어층의 노출된 부분을 제거하는 것은 적층된 유리 시트에 균열을 야기할 수 있고, 이에 의해 원치 않는 생산물 손실을 만든다.
화학적 에칭은 적층 유리 시트의 두께 또는 유리 코어층의 두께에 관한 클래드층의 두께에 관계없이 상가 유리 코어층의 부분을 제거하는데 사용될 수 있다. 그러나, 위에서 언급된 바와 같이, 임의의 적층 유리 시트, 클래드층, 또는 유리 코어층이 얇은 구체 예에서, 화학적 에칭은 (하나 이상의 층의 균열을 이끌 수 있는 기계적인 제거와는 대조적으로) 적층 유리 시트의 균열을 방지할 수 있다. 구체 예에서, 적층 유리 시트의 전체 엣지는 에칭제에 노출될 수 있다. 따라서, 유리 코어층뿐만 아니라 클래드층도 에칭제에 노출될 수 있고, 이는 유리 코어층의 부분과 마찬가지로 클래드층의 부분을 제거하는 것을 이끌 수 있다. 따라서, 만약 상기 클래드층은 에칭제에 유리 코어층만큼 용해할 수 있거나 더 용해할 수 있는 물질로 구성된다면, 위에서 나타난 클래드층들 사이에 리세스는 형성되지 않을 것이고, 나중의 경우에는, 상기 유리 코어층의 더 큰 부분이 노출될 수 있다. 따라서, 리세스를 형성하는데 적절한 일부 구체 예에서, 상기 유리 코어층은 상기 클래드층보다 에칭제에 적어도 5배 더 용해될 수 있거나 심지어 상기 클래드층보다 에칭제에 적어도 25배 더 용해될 수 있다. 다른 구체 예에서, 상기 유리 코어층은 상기 클래드층보다 에칭제에 적어도 50배 더 용해될 수 있거나 심지어 상기 클래드층보다 에칭제에 적어도 75배 더 용해될 수 있다. 여전히 다른 구체 예에서, 상기 유리 코어층은 상기 클래드층보다 에칭제에 적어도 100배 더 용해될 수 있다. 일부 구체 예에서, 에칭제는 상기 클래드층보다 적어도 2배 더 빠르게, 상기 클래드층보다 적어도 5배 더 빠르게, 상기 클래드층보다 적어도 25배 더 빠르게, 상기 클래드층보다 적어도 50배 더 빠르게, 상기 클래드층보다 적어도 75배 더 빠르게, 또는 상기 클래드층보다 적어도 100배 더 빠르게 상기 유리 코어층을 에칭한다. 따라서, 상기 에칭제는 상기 클래드층보다 우선적으로 상기 코어층을 에칭한다.
용해 속도는 다음의 식에 따라 측정될 수 있다:
Figure pct00001
여기서 Wi는 유리 시트의 최초 중량 (그램 (grams))이고, Wf는 유리 시트의 최종 중량 (그램)이고, ρ는 유리의 밀도 (g/㎤)이고, As는 에칭제에 노출된 유리의 표면 면적 (㎠)이며, 그리고 t는 시간 (분)이다.
유리 코어층은 클래드층보다 에칭제에 더 용해될 수 있지만, 일부 구체 예에서, 상기 유리 코어층 및 클래드층은 융합 인발 방법으로 처리할 수 있는 물질을 포함할 수 있다. 따라서, 일부 구체 예에서, 상기 유리 코어층 및 상기 유리 클래드층 모두에 대한 유리 조성물의 성분은 융합 인발 방법으로 처리할 수 있는 유리를 제공하고 상기 클래드층보다 에칭제에 더 용해되는 유리 코어층을 제공하기 위해 균형이 유지될 수 있다.
유리 코어층
본 명세서에서 기재된 적층 유리 시트 (100)의 일부 구체 예에서, 상기 유리 코어층 (102)을 형성하는 유리 조성물은 융합 형성에 적합한 액상 점도 및 액상 온도를 가진다. 예를 들면, 상기 유리 코어층 (102)을 형성할 수 있는 유리 조성물은 약 35 kPoise 이상의 액상 점도를 가진다. 일부 구체 예에서, 상기 유리 코어층 (102)을 형성할 수 있는 유리 조성물의 액상 점도는 100 kPoise 이상 또는 심지어 200 kPoise 이상일 수 있다. 일부 구체 예에서, 상기 유리 코어층 (102)을 형성할 수 있는 유리 조성물의 액상 온도는 약 1400℃ 이하이다. 일부 구체 예에서, 상기 액상 온도는 약 1350℃ 이하 또는 심지어 1300℃ 이하이다. 여전히 다른 구체 예에서, 상기 액상 온도는 약 1200℃ 이하 또는 심지어 1100℃ 이하이다.
예시적인 코어 유리 조성물에서, SiO2는 가장 큰 구성성분이고, 그러한 바와 같이, SiO2는 유리 조성물로부터 형성된 유리 네트워크의 주된 구성성분이다. 순수한 SiO2는 상대적으로 낮은 CTE를 가지고, 알칼리가 없다. 그러나, 순수한 SiO2는 극도로 높은 용융점을 가진다. 따라서, 유리 조성물에서 SiO2의 농도가 너무 높다면, 결국 유리 형성 능력에 역으로 영향을 미치는, 더 높은 SiO2의 농도가 유리 용융의 어려움을 증가시키면서, 유리 조성물의 형성 능력은 줄어들 수 있다. 일부 구체 예에서, 유리 조성물은 약 40 중량% 내지 약 60 중량% 농도 또는 일부 구체 예에서 약 45 중량% 내지 약 55 중량% 농도의 SiO2를 포함한다. 다른 구체 예에서, 유리 조성물은 약 50 중량%의 농도의 SiO2를 포함한다.
코어 유리층 조성물은 Al2O3를 더 포함할 수 있다. Al2O3는 SiO2와 유사하게 유리 네트워크 형성제로서 제공될 수 있다. Al2O3는 적절하게 디자인된 유리 조성물로부터 형성된 유리 용융물에서 그것의 4면체 배위 때문에 유리 조성물의 점도를 증가시킬 수 있다. 그러나 Al2O3의 농도가 유리 조성물에서 SiO2의 농도 및 알칼리 산화물의 농도에 대비하여 균형을 유지할 때, Al2O3는 유리 용융물의 액상 온도를 감소시킬 수 있고, 이에 의해 액상 점도를 높이고, 융합 형성 공정과 같은 특정 형성 공정과 유리 조성물의 양립가능성을 향상한다.
일부 구체 예에서, Al2O3는 적어도 약 12 중량%의 농도, 일부 구체 예에서 적어도 약 20 중량%의 농도로 존재할 수 있다. 구체 예의 하나의 세트에서, Al2O3 함량은 용융 및 형성을 위한 바람직한 유리 점도를 달성하기 위해 약 35 중량%를 초과하지 않는다. 일부 구체 예에서, Al2O3 함량은 약 15 중량% 내지 약 35 중량%, 및 일부 구체 예에서 약 17 중량% 내지 약 30 중량%이다.
Na2O는 이의 용융력 (meltability) 및 형성력 (formability)을 향상시키기 위해 유리의 점도를 더 낮출 수 있는 성분이다. 일부 구체 예에서, Na2O는 적어도 약 12 중량%의 농도로 코어 유리 조성물에 존재할 수 있다. Na2O의 함량이 너무 클 때, 상기 유리의 열 팽창 계수는 너무 크게 되고, 상기 유리의 열 충격 저항성 (thermal shock resistance)은 낮춰질 수 있다. 일부 구체 예에서, 코어 유리 조성물에 Na2O의 농도는 약 25 중량% 미만 일 수 있다. 일부 구체 예에서, Na2O는 약 15 중량% 내지 약 20 중량% 농도, 및 일부 구체 예에서 약 16 중량% 농도로 상기 코어 유리 조성물에 존재할 수 있다.
B2O3는 유리의 점도 및 액상 온도를 감소시키기 위해 코어 유리 조성물에 첨가될 수 있다. B2O3 농도의 증가는 B2O3 몰% 당 18℃ 내지 22℃ 만큼 유리 조성물의 액상 온도를 낮출 수 있다. 그러한 바와 같이, B2O3는 그것이 유리 조성물의 액상 점도를 감소시키는 것보다 더 빨리 유리 조성물의 액상 온도를 감소시킨다. B2O3는 유리 네트워크를 연화하기 위해 또한 유리 조성물에 첨가될 수 있다. 일부 구체 예에서, B2O3는 유리 조성물에 존재할 수 있다. 일부 구체 예에서, B2O3는 약 4 중량% 이상의 농도로 유리 조성물에 존재한다. 일부 구체 예에서, 일부 구체 예에서, B2O3는 약 5 중량% 이상 및 13 중량% 이하의 농도로 유리 조성물에 존재한다. 이러한 구체 예 중 일부에서, 유리 조성물에 B2O3의 농도는 약 7 중량% 이하, 또는 심지어 약 6 중량% 이하이다.
일부 구체 예에서, 상기 코어 유리 조성물은 약 0.1 내지 약 15 중량% 범위 양의, 예를 들면, K2O 등의 다른 알칼리 금속 산화물과 같은 다른 원소를 포함한다. 일부 구체 예에서, 코어 유리는 또한 MgO, CaO, SrO, 및 BaO와 같은 약 0.1 내지 5 중량%의 알칼리 토 금속 산화물, 및 일부 구체 예에서 약 0.1 내지 약 1 중량%의 SnO2 또는 Fe2O3를 함유한다.
일부 구체 예에서, 유리 코어층의 조성물은 클래드층 중 하나 또는 모두 보다 예를 들면, 플루오르화수소산 (hydrofluoric acid), 염산, 인산, 황산, 또는 이플루오르화 암모늄 (ammonium bifluoride)과 같은 에칭제에 더 용해될 수 있기 위해 선택될 수 있다. 일부 구체 예에서, 상기 유리 코어층은 약 2.00 ㎛/min 내지 약 5.00 ㎛/min, 및 일부 구체 예에서 약 3.00 ㎛/min 내지 약 4.00 ㎛/min의 에칭 속도를 가진다. 일부 구체 예에서, 상기 유리 코어층은 약 3.25 ㎛/min 내지 약 3.85 ㎛/min, 및 일부 구체 예에서 약 3.30 ㎛/min 내지 약 3.60 ㎛/min의 에칭 속도를 가진다.
일부 구체 예에서, 액상 점도 및 액상 온도 및 에칭 속도는 약 40 중량% 내지 약 55 중량%의 SiO2; 약 25 중량% 내지 30 중량%의 Al2O3; 약 12 중량% 내지 20 중량%의 Na2O; 약 0.1 중량% 내지 약 1.0 중량%의 K2O; 약 0　중량% 내지 약 13 중량%의 B2O3; 약 0 중량% 내지 약 0.5 중량%의 MgO; 약 0 중량% 내지 약 0.5 중량%의 CaO; 및 약 0 중량% 내지 약 1 중량%의 SnO2를 포함하는 유리 조성물로부터 형성된 유리 코어층과 함께 이루어질 수 있다.
참조는 본 명세서에서 유리 코어층 (102)를 형성하는데 사용된 특정 유리 조성물에서 만들어졌지만, 유리 조성물이 에칭으로 처리할 수 있고, 또한 일부 구체 예에서 융합 형성으로 처리할 수 있기만 하면, 다른 유리 조성물이 적층 유리 시트 (100)의 유리 코어층 (102)를 형성하는데 사용될 수 있는 것으로 이해되어야 한다.
유리 글래드층
일부 구체 예에서, 글래드층은 유리 코어층보다 에칭제에서 덜 용해될 수 있다. 상기 유리 코어층과 같이, 상기 클래드층은 또한 융합 인발 방법으로 처리할 수 있는 물질로 구성될 수 있다. 따라서, 일부 구체 예에서, 유리 클래드층의 조성물은 융합 인발 방법으로 처리될 수 있는 유리를 제공하고, 상기 유리 코어층이 상기 클래드층보다 에칭제에서 더 용해되기 위해 균형이 유지될 수 있다. 하나 이상의 클래드층을 포함하는 구체 예에서, 상기 클래드층은 동일 또는 다른 조성물을 가질 수 있다. 일부 구체 예에서, 적층 유리 시트는 다른 조성물을 가지는 다수의 클래드층 (2 이상 클래드층)을 포함하고 (또는 적어도 하나의 상기 클래드층은 하나 이상의 다른 클래드층과 다른 조성물을 가짐), 여기서 상기 클래드층의 각각은 상기 유리 코어층보다 에칭제에 덜 용해된다.
다시 도 1과 관련하여, 유리 클래드층 (104a, 104b)은 상기 유리 클래드층 (104a, 104b)의 조성물이 유리 코어층 (102)에 융합될 수 있고, 상기 유리 코어층 (102)보다 에칭제에 덜 용해할 수 있기만 하면 다양한 다른 유리 조성물로부터 형성될 수 있다. 일부 구체 예에서, 상기 유리 클래드층은 알칼리 금속 및/또는 알칼리 금속을 함유하는 화합물을 포함할 수 있지만, 다른 구체 예에서, 상기 유리 클래드층은 알칼리 금속 및/또는 알칼리 금속을 함유하는 화합물이 없거나 실질적으로 없을 수 있다.
일부 구체 예에서, SiO2는 클래드층 조성물의 가장 큰 구성성분이다. 일부 구체 예에서, 상기 클래드층 조성물은 약 50 중량% 내지 약 75 중량%, 및 일부 구체 예에서, 약 55 중량% 내지 약 70 중량% 농도의 SiO2를 포함한다. 다른 구체 예에서, 클래드층 조성물은 약 58 중량% 내지 약 65 중량% 및 일부 구체 예에서 약 60 중량% 농도의 SiO2를 포함한다.
클래드층 조성물은 Al2O3를 더 포함할 수 있다. 일부 구체 예에서, Al2O3는 적어도 약 7 중량%, 또는 적어도 약 10 중량%의 농도로 존재한다. 일부 구체 예에서, Al2O3 함량은 용융 및 형성을 위한 바람직한 유리 점도를 달성하기 위해 약 25 중량%를 초과하지 않는다. 일부 구체 예에서, 클래드층의 Al2O3 함량은 약 12 중량% 내지 약 20 중량%, 또는 약 15 중량% 내지 약 17 중량%일 수 있다.
Na2O는 일부 구체 예에서 적어도 약 5 중량% 농도로 클래드층 조성물에서 존재할 수 있다. 일부 구체 예에서, 상기 클래드층 조성물에서 Na2O의 농도는 약 15 중량% 미만이다. 일부 구체 예에서, Na2O는 약 7 중량% 내지 약 13 중량%, 및 일부 구체 예에서 약 12 중량%의 농도로 상기 클래드층 조성물에 존재한다. 일부 구체 예에서, Na2O는 상기 클래드층 조성물 (또는 조성물들)로부터 부재할 수 있다.
K2O는 용융력 및 형성력을 높이기 위해 높은 온도 점도를 낮추는 효과를 가질 수 있는 성분이다. 일부 구체 예에서 클래드층 조성물에서 K2O의 함량은 약 0 내지 약 5 중량%이다. 만약 K2O의 함량이 너무 크면, 유리의 CTE가 클 수 있고, 그리고 상기 유리의 열 충격 저항성이 낮춰질 수 있다. 일부 구체 예에서, K2O는 4% 이하, 또는 심지어 2 중량% 이하 농도로 클래드층 조성물에서 존재하고, 다른 구체 예에서 K2O는 상기 클래드층 조성물 (또는 조성물들)로부터 부재한다.
일부 구체 예에서, 클래드층 조성물은 약 0.1 내지 약 5 중량%의, 예를 들면, MgO, CaO, SrO, 및 BaO의 알칼리 토 금속 산화물, 및 약 0.1 내지 약 1 중량%의 SnO2 또는 Fe2O3와 같은 다른 원소를 함유한다. 다른 구체 예에서, 클래드층 또는 층들은 알칼리 토 금속 산화물이 없거나 실질적으로 없다. 다른 구체 예에서, 상기 클래드층 또는 층들은 SnO2 또는 Fe2O3, 또는 모두가 없거나 실질적으로 없다.
일부 구체 예에서, 유리 클래드층 (104a, 104b)은 Li+, Na+, 및 K+와 같은 알칼리 이온을 함유하는 유리 조성물로부터 형성된다. 이러한 구체 예에서, 상기 알칼리 이온의 존재는 이온 교환에 의해 유리를 화학적으로 강화하는 것을 촉진할 수 있고, 이에 의해 적층 유리 시트의 강도는 향상된다.
일부 구체 예에서, 유리 클래드층 (104a, 104b)은 Li+, Na+, 및 K+와 같은 알칼리 이온이 없거나 실질적으로 없는 유리 조성물로부터 형성된다. 그러한 구체 예에서, 상기 유리의 표면은 CTE 메커니즘을 통한 압축에 위치될 수 있고, 여기서 유리 클래드층은 유리 코어층보다 더 낮은 CTE를 가진다. 상기 유리 클래드은 알카리 이온이 없거나 실질적으로 없는 구체 예에서, 상기 적층 유리 시트는 디스플레이 유리 또는 터치 센서 기판과 같은, 전자 기판으로서 실행될 수 있고, 여기서 상기 클래드층 표면 상에 증착된 박막층의 전자 기능은 상대적으로 알칼리-부재 표면 환경에 의해 높아지거나 유지된다.
클래드층의 조성물은 상기 클래드층 조성물이 예를 들면, 플루오르화수소산, 염산, 질산, 황산, 인산, 또는 이플루오르화 암모늄과 같은 에칭제에서 유리 코어층보다 덜 용해되도록 선택될 수 있다. 일부 구체 예에서, 상기 클래드층은 약 0.10 ㎛/min 내지 약 1.00 ㎛/min, 및 일부 구체 예에서 약 0.20 ㎛/min 내지 약 0.90 ㎛/min의 에칭 속도를 가진다. 일부 다른 구체 예에서, 상기 클래드층은 약 0.40 ㎛/min 내지 약 0.50 ㎛/min의 에칭 속도를 가진다.
일부 구체 예에서, 액상 점도 및 액상 온도 및 에칭 속도는 약 55 중량% 내지 약 65 중량%의 SiO2; 약 15 중량% 내지 약 20 중량%의 Al2O3; 약 10 중량% 내지 약 15 중량%의 Na2O; 약 0.1 중량% 내지 약 7 중량%의 K2O; 약 0　중량% 내지 약 2 중량%의 BaO; 약 0 중량% 내지 약 5 중량%의 MgO; 약 0 중량% 내지 약 1 중량%의 CaO; 약 0 중량% 내지 약 5 중량%의 B2O3; 및 약 0 중량% 내지 약 1 중량%의 SnO2를 포함하는 유리 조성물로부터 형성된 하나 이상의 유리 클래드층과 함께 이루어질 수 있다.
참조는 본 명세서에서 유리 클래드층 (104a, 104b)를 형성하는데 사용된 특정 유리 조성물에서 만들어졌지만, 유리 조성물이 에칭으로 쉽게 처리할 수 없고, 또한 일부 구체 예에서 융합 적층 공정에 의한 형성으로 처리할 수 있기만 하면, 다른 유리 조성물은 적층 유리 시트 (100)의 유리 클래드층 (104a, 104b)를 형성하는데 사용될 수 있다.
적층 유리 제품 에칭
임의의 적절한 에칭제는 유리 코어층의 부분을 제거하는데 사용될 수 있다. 예시적인 에칭제는 플루오르화수소산, 염산, 이플루오르화 암모늄 (ammonium bifluoride), 및 이들의 혼합물을 포함한다. 일부 구체 예에서, 상기 에칭제는 예를 들면, HF, 또는 NaF, KF 등과 같은 플루오르화 염과 결합된 HF와 같은 산을 포함하는 산 용액이다. 게다가, H2SO4, HCl, H3PO4, HNO3, CH3COOH 등과 같은 다른 산은 부산물 에칭의 에칭 속도 및 용해성을 높이기 위해 HF 용액에 첨가될 수 있다. 일부 구체 예에서, 적층 유리 시트의 엣지는 알칼리 액체 용액을 사용하여 에칭될 수 있다. 그러한 알칼리 용액은 KOH, NH4OH, NH4HF2, TMAH (테트라 메틸 암모늄 하이드록사이드 (tetra methyl ammonium hydroxide))를 포함하지만, 이에 한정되지는 않는다. 일부 구체 예에서, 알칼리 에칭제는 에칭 속도를 높이기 위해, 약 25℃ 내지 약 65℃, 또는 약 25℃ 내지 약 50℃ 범위의 온도까지 가열된다. 에칭제의 타입은 유리 코어층의 조성물 및 클래드층의 조성물에 기초하여 선택될 수 있다. 일부 구체 예에서, 에칭제는 1:1 부피비로 혼합된 플루오르화수소산 및 염산의 혼합물이다. 일부 구체 예에서, 에칭제는 1:2 내지 1:10의 부피비로 혼합된 플루오르수소산 및 염산의 혼합물이다.
에칭제는 임의의 적절한 방법에 의해 적층 유리 시트의 엣지에 적용될 수 있다. 상기 유리 시트의 엣지에 에칭제를 적용하기 위한 예시적인 방법은 팁 코팅, 스프레이 코팅, 롤 코팅 등을 포함할 수 있다. 일부 구체 예에서, 상기 에칭제는 겔의 점도를 가지고, 그에 의해 상기 에칭제는 상기 적층 유리 시트에 더 선택적으로 적용되고, 예를 들면, 상기 에칭제는 단지 상기 적층 유리 시트의 엣지에 걸쳐 정확하게 적용될 수 있다. 상기 적층 유리 시트에 적용에 대한 상기 에칭제의 온도는 상기 유리 코어층의 조성물, 상기 클래드층의 조성물, 또는 적용 방법에 따라 선택될 수 있다. 일부 구체 예에서, 에칭제의 온도는 약 25℃ 내지 약 65℃, 또는 약 25℃ 내지 약 50℃이다. 상기 에칭제 적용의 기간은 상기 유리 코어층 및 클래드층에 대한 에칭제의 에칭 속도 및 리세스의 바람직한 깊이에 의존할 것이다.
도 3은 포스트-에칭 적층 유리 시트의 하나의 구체 예의 개략적 그림을 나타낸다. 유리 코어층 (102)는 2개의 유리 클래드층 (104a, 104b) 사이에 위치된다. 리세스 (301)은 예를 들면, 본 명세서에 기재된 화학적 에칭 방법에 의해, 유리 코어층 (102)의 부분을 제거함으로써, 클래드층 (104a) 및 클래드층 (104b) 사이에 만들어졌다. 상기 리세스는 상기 적층 유리 시트의 엣지에서 적층 유리 시트의 센터까지 측정된 것으로 임의의 적절한 깊이를 가질 수 있다. 일부 구체 예에서, 상기 리세스는 약 5 ㎛ 내지 약 100 ㎛, 또는 일부 구체 예에서 약 15 ㎛ 내지 약 90 ㎛의 깊이를 가진다. 일부 구체 예에서, 상기 리세스는 약 25 ㎛ 내지 약 80 ㎛, 또는 일부 구체 예에서 약 35 ㎛ 내지 약 70 ㎛의 깊이를 가진다.
적층 유리 시트의 엣지에서 유리 코어층 (102)의 부분을 제거하고, 그 후에 상기 적층 유리 시트의 엣지에서 필러 물질을 리세스에 적용하는 것은 상기 유리 코어층의 완전한 인클로저 (enclosure)를 허용한다. 예를 들면, 필러 물질이 상기 리세스 (301)을 완전하게 필링하는 것을 허용하는 것은 상기 유리 코어층의 커버리지 (coverage)를 제공할 것이고, 이에 의해 상기 적층 유리 시트의 파손을 야기할 수 있는 힘으로부터 높은-인장 응력 유리 코어층을 보호한다. 상기 유리 시트의 끝 적용에 적합한 필러 물질은 상기 유리 시트의 엣지를 커버하는데 사용될 수 있다.
일부 구체 예에서, 마스크층은 에칭되지 않은 클래드층의 부분에 적용될 수 있다. 에칭제에 의해 야기된 에칭을 막는 임의의 종래 마스크 물질이 사용될 수 있고, 임의의 종래 공정에 의해 적용될 수 있다.
리세스 필링
도 4는 구체 예를 개략적으로 도시하고, 여기서 리세스 (301)은 폴리머 또는 프리-폴리머 필러 물질 (401)로 필링된다. 도 4에서 도시된 것과 같이 구체 예에서, 클래드층 (104a, 104b)은 개질될 필요가 없고, 폴리머 또는 프리-폴리머 필러 물질 (401)은 클래드층 (104a, 104b) 사이에 적층 유리 시트 (100)에서 형성된 리세스 (301) 속으로 삽입될 수 있다. 폴리머 또는 프리-폴리머 코팅 물질의 다양한 타입은 상기 적층 유리 시트의 엣지를 커버하기 위해 필러 물질로서 사용될 수 있다. 일부 구체 예에서, 상기 필러 물질은 액체로서 상기 적층 유리 시트의 엣지에 적용되고, 그 후 고체로 건조된다. 액체 코팅은 딥 코팅, 스프레이 코팅, 제팅 (jetting), 디스펜싱 (dispensing), 롤 코팅, 브러쉬 또는 스폰지 적용 등과 같은 임의의 적절한 방법에 의해 적용될 수 있다. 상기 액체 필러 물질이 바람직한 양으로 상기 적층 유리 시트의 엣지에 적용된 후에, 상기 필러 물질은 적절한 방법에 의해 건조된다. 임의의 구체 예에서, 상기 폴리머 또는 프리-폴리머 필러 물질은 예를 들면, 폴리머 시스템으로부터 용매를 냉각, 증발시키거나 프리-폴리머 물질을 경화함으로써 건조된다.
냉각에 의해 고체화된 폴리머는 고온 용융 폴리머로서 나타낼 수 있다. 고온 용융 폴리머는 냉각에 의해 액체를 고체로 빠르게 전환하는 장점을 가지고, 고체화를 위해 폴리머에 대해 증발될 필요가 있는 용매 또는 용액을 함유하지 않는다. 그러나, 고온 용융은 심지어 그들의 액체 상태에서 상대적으로 높은 점도를 가질 수 있고, 너무 빨리 냉각될 수 있어서 그들이 노출된 유리 코어층을 완전하게 커버하기 위해 빽빽한 공간 속으로 흐를 수 없다. 추가로, 많은 고온 용융 폴리머는 그들이 고체화된 후에 열 가소성 특성을 가지고, 이는 높은 온도에 노출된다면 연화를 이끌 수 있다. 예시적인 고온 용융 폴리머는 폴리비닐 아세테이트 (polyvinyl acetate), 폴리에틸렌 아크릴레이트 (polyethylene acrylate), 폴리아마이드 (polyamides), 폴리에스테르 (polyesters), 폴리에틸렌 비닐 아세테이트 ( polyethylene vinyl acetate), 폴리올레핀 (polyolefins), 스티렌 블록 코폴리머 (styrene block copolymers), 및 폴리우레탄 (polyurethanes)을 포함하지만, 이에 한정되지는 않는다. 고온 용융 폴리머는 예를 들면 약 80℃ 초과, 또는 심지어 약 100℃ 초과의 온도에서 임의의 적절한 방법에 의해 적용될 수 있다. 일부 예시적인 고온 용융 폴리머는 약 150℃ 초과, 또는 심지어 약 200℃ 초과의 온도에서 임의의 적절한 방법에 의해 적용될 수 있다. 그들의 연화 온도 위로 가열될 수 있는, 고온 용융 폴리머는 리세스 속으로의 노즐로부터 배출될 수 있다. 다른 구체 예에서, 상기 고온 용융 폴리머는 그것의 연화점 위에서 잘 가열될 수 있고, 블레이드 또는 나이프와 같은 도구에 의해 리세스 (301)에 적용될 수 있다. 고온 용융 폴리머를 상기 리세스에 적용하는 다른 방법은 활용될 수 있다. 예시적인 고온 용융 폴리머는 그들의 적용온도 아래의 온도에서 그들의 고체 상태로 빠르게 돌아오고, 적용온도는 적용 동안, 주위 온도일 수 있다. 따라서, 고온 용융 폴리머는 용매를 추가적으로 고체화하거나 증발하지 않고 견고한 보호층을 제공할 수 있다. 그러나, 고온 용융 폴리머는 증가된 온도에 노출에 의해 연화될 수 있고, 이는 상기 적층 유리 시트 (100)의 엣지에서 유리 코어층 (102)를 노출할 수 있는 필러 물질 (401)의 변화를 이끌 수 있다.
다른 구체 예에서, 상기 필러 물질 (401)은 폴리머 용액 또는 에멀전 (emulsion)으로서 적층 유리 시트의 엣지에 적용될 수 있다. 폴리머 용액 또는 에멀전은 낮은 점도를 가질 수 있고, 이는 폴리머 용액 또는 에멀전이 상기 유리 코어층의 노출된 부분을 완전하게 커버하는 것을 유익하게 허용할 수 있다. 따라서, 상기 폴리머 용액 또는 에멀전은 폴리머 에멀전을 적층 유리 시트 (100)의 리세스 (301) 속으로 스프레이 코팅, 딥 코팅, 또는 드랍핑과 같은 임의의 적절한 방법에 의해 적층 유리 시트의 엣지에 적용될 수 있다.
폴리머 에멀전은 초기에 물 (또는 다른 용매), 폴리머 및 계면 활성제를 포함할 수 있고, 여기서 상기 폴리머는 물의 연속 상에서 계면 활성제로 에멀전화된다. 구체 예에서, 상기 계면활성제는 지방산, 소듐 라우릴 설페이트 (sodium lauryl sulfates), 및 알파 올레핀 설포네이트 (alpha olefin sulfonate)을 포함할 수 있다. 일부 구체 예에서, 하이드록시에틸 셀룰로오스 (hydroxyethyl cellulose) 또는 특정 폴리비닐 알코올과 같은 수용성 폴리머는 계면활성제에 더하여 또는 계면활성제 대신에, 최초 혼합물에 포함될 수 있다. 일부 구체 예에서, 상기 초기 혼합물에 존재하는 상기 폴리머는 하나 이상의 다음 단량체로부터 형성된 폴리머를 포함할 수 있다: 에틸렌; 비닐 클로라이드; 프로필렌; 비닐 아세테이트; 아크릴로니트릴 (acrylonitrile); 스티렌; 비닐 알코올; 부타디엔; 이소프렌; 클로로프렌; 비닐리딘 플루오라이드 (vinylidene fluoride); 테트라플루오로에틸렌 (tetrafluoroethylene); 이소부텐; 아크릴류 (acrylics); 폴리에스테르; 알키드 (alkyds); 에폭시 (epoxies); 및 이의 혼합물. 폴리머 에멀전은 폴리머화 전에, 폴리머화 동안, 폴리머화 후에, 또는 이들의 일부 조합에서 적층 유리 시트의 리세스 (301)에 적용될 수 있다. 물 또는 용매는 상기 폴리머가 상기 적층 유리 시트 (100)에서 리세스 (301)을 필링하는 것을 허용하기 위해 제거되어야 한다. 상기 폴리머 에멀전으로부터 물 또는 용매를 제거하는 것은 예를 들면, 오븐 또는 가마 (kiln)에서 전체 적층 유리 시트 (100)를 가열하는 것을 포함할 수 있고, 예를 들면, 블로우 건조 또는 집중된 방사 가열 (focused radiant heating)에 의해 예를 들면 단지 폴리머 에멀전 또는 용액의 국부 가열을 포함할 수 있다.
그러나, 폴리머 에멀전에서 물 또는 용매가 폴리머 에멀전 시스템의 부피 대부분을 포함할 수 있기 때문에, 형성된 폴리머로 리세스 (301)을 완전하게 필링하는 것은 어려울 수 있다. 따라서, 상기 리세스 (301)가 폴리머 에멀전으로 필링되고, 물 또는 용매가 그 뒤에 제거될 때, 상기 폴리머는 단지 상기 리세스의 부분을 필링할 수 있다. 따라서, 폴리머 에멀전 또는 용액을 사용하는 것은 상기 폴리머 에멀전 또는 용액을 상기 리세스에 다수의 적용을 요구할 수 있고, 다수의 건조 사이클을 요구할 수 있고, 이에 의해 향상된 엣지를 가진 적층 유리 시트의 형성에 길이 및 비용을 추가한다.
일부 구체 예에서, 필러 물질은 적층 유리 시트의 엣지를 액체 프리-폴리머 물질로 코팅하고, 그 후 폴리머 필러 물질 코팅을 형성하기 위해 프리-폴리머 물질을 화학적으로 반응시키는 것을 포함하는 폴리머 코팅 시스템에 의해 적용될 수 있다. 비록 그러한 폴리머 코팅 시스템은 물 또는 용매를 포함하지만, 상기 물 또는 용매는 최소한의 양으로 존재할 수 있다. 특정 구체 예에서, 물 또는 용매는 10 중량% 미만의 농도, 심지어 8 중량% 미만의 농도로 폴리머 코팅 시스템에서 존재할 수 있다. 일부 구체 예에서, 물 또는 용매는 6 중량% 미만의 농도, 심지어 4 중량% 미만의 농도로 폴리머 코팅 시스템에서 존재할 수 있다.
일부 구체 예에서, 폴리머 코팅 시스템이 경화될 때, 열경화성 폴리머가 형성되고, 이에 의해 폴리머 필러 물질의 크리프 및 변화를 감소시키기 위해 선택될 수 있다. 예시적인 폴리머 코팅 시스템은 2액형 에폭시 (2-part epoxies), 2액형 우레탄 (2-part urethanes), 2액형 아크릴류 (2-part acrylics), 2액형 실리콘 (2-part silicone), 수분-경화성 우레탄 (moisture-cure urethanes), 또는 에폭시 (moisture-cure epoxies), 페놀류 (phenolics), 노볼락 (novolacs), 우레아 포름알데히드 (urea formaldehyde), 멜라민 포름알데히드 (melamine formaldehyde), 가교 아크릴류 (crosslinking acrylics), 또는 가교 비닐 (crosslinking vinyls), 알키드 (alkyds), 불포화 폴리에스테르 (unsaturated polyesters), 폴리이미드 (polyimides), 및 폴리아마이드 (polyamides)를 포함하지만, 이에 한정되지는 않는다.
일부 구체 예에서, 프리-폴리머 물질은 광-또는-전자-빔-경화성이다. 광 또는 전자 빔 경화성 프리-폴리머는 아크릴레이트와 같은 자유 라디칼 첨가 폴리머화할 수 있는 프리-폴리머 물질; 티올-렌과 같은 자유 라디칼 단계 성장 폴리머화 할 수 있는 프리-폴리머 물질; 및 에폭시 호모폴리머와 같은 양이온 첨가 폴리머화 할 수 있는 프리-폴리머 물질로부터 선택될 수 있다. 위의 화학 물질의 혼합물은 또한 광 또는 전자 빔 경화성 프리-폴리머에 사용될 수 있다.
광 또는 전자 빔 경화성 프리-폴리머 시스템은 상기 프리-폴리머가 액체, 페이스트 또는 겔의 상으로 있을 때, 적층 유리 시트 (100)의 리세스에 적용될 수 있다. 따라서, 일부 구체 예에서, 상기 광 또는 전자 빔 경화성 프리-폴리머 시스템은 롤 코팅에 의해, 또는 스폰지, 니들 디스펜스 (needle dispense), 스프레이, 딥, 잉크 젯, 브러쉬 또는 블레이드로 적용에 의해 적용될 수 있다. 상기 광 또는 전자 빔 경화성 프리-폴리머 시스템이 적층 유리 시트의 리세스에 적용된 후에, 상기 광 또는 전자 빔 경화성 프리-폴리머는 예를 들면, 프리-폴리머의 폴리머화 및 경화를 야기하는 에너지의 형태에 노출됨으로써 폴리머화 및 경화될 수 있고, 이에 의해 유리 코어층의 노출된 부분에 걸쳐 보호 장벽을 형성한다. 상기 광 또는 전자 빔 경화성 프리-폴리머는 임의의 종래 전자 빔 또는 광 경화 장치에 의해 경화될 수 있다. 상기 광 또는 전자 빔 경화성 프리-폴리머는 상기 적층 유리 시트의 리세스에서 경화될 때 (즉, 고체 상태), 상기 광 또는 전자 빔 경화성 프리-폴리머는 그것의 액체, 페이스트 또는 겔 상에서와 같이 동일 또는 거의 동일한 부피를 가질 수 있거나, 그것의 경화된 상태에서 현저한 수축을 경험할 수 있다. 따라서, 전자 빔 또는 광 경화성 프리-폴리머의 다수의 적용 및 다수의 경화 단계는 요구될 수 없고, 이는 처리 시간 및 비용을 감소시킬 수 있다.
일부 구체 예에서, 폴리머 필러 물질은 적층 유리 시트의 바람직한 사용 및 보호 엣지의 동반하는 요구에 기초하여 선택될 수 있다. 예를 들면, 충격으로부터 적층 유리 시트를 보호하는 폴리머 코팅을 위해, 우레탄 아크릴레이트와 같은 우레탄-계 조성물은 폴리머 필러 물질로서 사용될 수 있다. 다른 구체 예에서 에폭시-계 폴리머 필러 물질은 스크레치로부터 보호를 돕는데 사용될 수 있다.
다양한 구체 예에서, 첨가제는 필러 물질의 바람직한 특성을 달성하기 위해 폴리머 필러 물질에 첨가될 수 있다. 예를 들면, 상기 폴리머 필러 물질은 충격 저항성을 향상시키기 위해 실리카, 알루미나, 석영, 크리스토발라이트 (cristobalite) 등을 포함할 수 있다. 일부 구체 예에서, 폴리머 필러 물질은 실란, 지르코네이트 (zirconates), 티타네이트 (titanates) 및 산 작용 물질과 같은 접착 프로모터를 포함한다. 폴리머 필러 물질에서 접착제는 높은 첨가 하중 수준 (additive load levels)에서 명확성을 족진하기 위해 나노-크기의 접착제로서 존재할 수 있다.
일부 구체 예에서, 필러 물질은 유리 코어층을 제거함으로써 형성되는 리세스 속으로 삽입될 수 있는 유리 프릿 (frit)이다. 상기 유리 프릿은 임의의 적절한 공정에 의해 상기 리세스 속으로 삽입될 수 있다. 상기 유리 프릿의 크기는 유리 프릿이 상기 리세스에 들어가도록 허용된 크기이면 한정되지 않는다. 상기 유리 프릿이 상기 리세스 속으로 삽입된 후에, 상기 유리 프릿은 상기 리세스에서 상기 유리 코어층을 밀봉하기 위해 레이저에 의해 용융될 수 있다. 상기 유리 프릿의 조성물은 특별히 한정되지 않고, 상기 유리 코어층 또는 상기 클래드층의 조성물과 동일하거나 다를 수 있다.
도 5는 적층 유리 시트 (100)을 개략적으로 도시하고, 여기서 리세스는 하나 이상의 클래드층 (104a, 104b)로 필링된다. 도 3에서 보여진 바와 같이, 상기 리세스 (301)은 상기 유리 코어층의 부분을 제거함으로써 클래드층 (104a, 104b) 사이에 형성된다. 이는 리세스 (301) 너머 또는 위에 돌출된 클래드층 (104a, 104b)의 부분을 이끈다 (이하에서, "돌출부 (protrusion)"로 나타냄). 일부 구체 예에서, 리세스 (301)을 필링하는 필러 물질은 상기 리세스 (301) 속으로 돌출부를 조작함으로써 형성될 수 있다.
일부 구체 예에서, 유리 코어층 (102)의 부분이 리세스 (301)을 형성하기 위해 제거된 후에, 돌출부는 예를 들면, 옥시 토치 (oxy torch)로부터의 불꽃, 또는 레이저 빔과 같은 방법에 의해, 돌출부의 표면이 용융되고 그것을 유연하게 하는 온도에서 가열될 수 있다. 그 후에, 유연한 돌출부는 예를 들면, 중력 또는 기계적 수단에 의해 상기 리세스 속으로 조작될 수 있다. 상기 돌출부가 리세스 속으로 조작되면, 가열된 물질은 주위 온도에서 냉각함으로써 고체화된다. 추가적인 파이어-폴리싱 (fire-polishing) 단계는 상기 적층 유리 시트의 엣지 표면을 매끈하게 하기 위해 수행될 수 있다.
도 4 및 도 5는 각각 폴리머 필러 물질 또는 클래드층 필러 물질로 필링된 모든 리세스를 나타내지만, 일부 구체 예에서, 상기 적층 유리 시트의 단지 하나의 리세스는 필러 물질로 필링될 수 있다. 추가로, 리세스는 적층 유리 시트의 특정 엣지 상에 형성되지 않을 수 있거나, 필러 물질은 적층 유리 시트의 특정 엣지 상에 형성된 리세스 속으로 삽입될 필요가 없다. 예를 들면, 적층 유리 시트의 최종 사용은 디바이스 속에 맞는 적층 유리 시트가 되도록 접근 가능한 상기 적층 유리 시트의 리세스를 요구하는 디바이스에 있고, 상기 리세스는 필러 물질로 필링될 필요가 없을 수 있다.
본 명세서에 기재된 유리 제품은 다음을 포함하는 다양한 적용을 위해 사용될 수 있다: 예를 들면, LCD, LED, OLED, 및 양자점 디스플레이 (quantum dot display)를 포함하는 소비자 또는 상업적 전자 디바이스, 컴퓨터 모니터, 사운드 바, 및 현금 자동 입출금기 (ATMs)에서 커버 유리 또는 유리 백플레인 (back plane) 적용; 예를 들면, 휴대폰, 개인 미디어 플레이어, 및 테블릿 컴퓨터를 포함하는 휴대용 전자 디바이스용 터치 스크린 또는 터치 센서 적용; 예를 들면, 반도체 웨이퍼를 포함하는 집적 회로 적용; 광전지 적용; 건축 유리 적용; 예를 들면, 윈도우, 조명, 기구, 및 헬멧 바이저 (helmet visor)를 포함하는 자동차 또는 차량과 관련된 유리 적용; 상업적 또는 가정용 전기 제품 적용; 조명 또는 신호 (예를 들면, 정적 또는 동적 신호) 적용; 예를 들면, 레일을 포함하는 수송 적용 및 항공 적용; 또는 향균 적용을 위한 용도.
다양한 생산물은 본 명세서에 기재된 유리 제품을 병합할 수 있다. 일부 구체 예에서, 예를 들면, LCD, LED, OLED, 또는 양자점 디스플레이와 같은 전자 디바이스 (예를 들면, 소비자 또는 상업적 전자 디바이스)는 하나 이상의 유리 제품을 포함하고, 이는 커버 유리, 또는 유리 백플레인으로서 배치될 수 있다. 일부 구체 예에서, 예를 들면, 반도체 웨이퍼와 같은 집적 회로는 하나 이상의 유리 제품을 포함한다. 일부 구체 예에서, 광전지는 하나 이상의 유리 제품을 포함한다. 일부 구체 예에서, 건축 판유리 (pane)는 하나 이상의 유리 제품을 포함한다. 일부 구체 예에서, 예를 들면, 글레이징 또는 윈도우, 조명, 또는 기구는 하나 이상의 유리 제품을 포함한다. 일부 구체 예에서, 헬멧 바이저는 하나 이상의 유리 제품을 포함한다. 일부 구체 예에서, 전기 제품 (예를 들면, 가정용 또는 상업용 전기 제품)은 하나 이상의 유리 제품을 포함한다. 일부 구체 예에서, 조명 또는 신호는 하나 이상의 유리 제품을 포함한다.
실시 예
구체 예는 다음의 실시 예에 의해 추가적으로 명확해질 것이다.
유리 코어층으로서 사용에 적합한 유리 시트는 아래 표 1에서 개요를 서술한 조성물로 생산되었다.
Figure pct00002
위에서 개요를 서술한 조성물을 갖는 유리 시트는 아래 표 2에서 보여지는 바와 같이 HF, 또는 HF 및 HCl의 혼합물을 포함하는 네가지 에칭제로 에칭되었다. 상기 네가지 에칭제의 에칭에 대한 에칭 속도 또한 아래 표 2에서 보여진다.
Figure pct00003
표 2에서 보여지는 바와 같이 네가지 에칭제 이외에, 다양한 양의 HF 및 HNO3를 포함하는 네가지 에칭제는 또한 표 1에서 보여지는 유리 코어 시트 조성물 상에 사용되었다. 이러한 에칭제 및 에칭 시간은 아래 표 3에서 보여진다.
Figure pct00004
유리 클래드층으로서 사용에 적합한 유리 시트는 아래 표 4에서 개요를 서술한 조성물로 생산되었다.
Figure pct00005
위의 표 4에서 개요를 서술한 조성물을 갖는 유리 시트는 아래 표 5에서 보여지는 바와 같이, HF 또는 HF 및 HCl의 혼합물을 포함하는 네가지 에칭제로 에칭된다. 네가지 에칭제의 에칭에 대한 에칭 속도는 또한 표 5에서 보여진다.
Figure pct00006
표 5에서 보여지는 바와 같은 네가지 에칭제 이외에, 다양한 양의 HF 및 HNO3를 포함하는 네가지 에칭제는 또한 표 4에서 보여지는 유리 클래드 시트 조성물 상에 사용되었다. 이러한 에칭제 및 에칭 속도는 아래 표 6에서 보여진다.
Figure pct00007
표 2, 3, 5, 및 6에서 보여지는 에칭속도가 확인해주는 바와 같이, 표 1에서 제공된 유리 조성물은 표 4에서 제공된 유리 조성물보다 훨씬 더 큰 에칭 속도를 가진다. 구체 예 중 하나의 세트에서, 표 1에서 제공된 유리 조성물은 유리 코어층으로서 사용에 적합할 수 있고, 표 4에서 제공된 유리 조성물은 적층 유리 시트에서 대응하는 클래드층으로서 사용에 적합할 수 있다.
청구된 주제의 사상 및 범위로부터 벗어남이 없이, 다양한 변경 및 변형은 본 명세서에 기재된 구체 예에서 만들어질 수 있다는 것은 해당 기술 분야의 통상의 기술자에게 자명할 것이다. 따라서, 그러한 변경 및 변형이 첨부된 청구항 및 그들의 균등물 범위 내에서 온다면, 명세서는 본 명세서에 기재된 다양한 구체 예의 변경 및 변형을 커버하는 것으로 의도된다.

Claims (46)

  1. 적층 유리 제품을 제조하는 방법으로서, 상기 방법은,
    제1 클래드층 (clad layer), 제2 클래드층, 제1 클래드층과 제2 클래드층 사이에 코어층, 및 엣지를 포함하는 적층 유리 제품을 형성하는 단계, 여기서 상기 코어층은 상기 엣지에 노출됨;
    상기 적층 유리 제품의 엣지에 에칭제 (etchant)를 적용하는 단계;
    상기 코어층의 적어도 일 부분을 에칭제로 제거함으로써 상기 적층 유리 제품의 엣지에 리세스 (recess)를 형성하는 단계, 여기서 상기 리세스는 제1 클래드층과 제2 클래드층 사이를 연장함 (span); 및
    상기 리세스를 필링하는 (filling) 단계를 포함하는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 에칭제는 상기 제1 클래드층 및 상기 제2 클래드층보다 더 빠르게 상기 코어층을 에칭하는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  3. 청구항 1 또는 2에 있어서,
    상기 코어층은 상기 제1 클래드층 및 상기 제2 클래드층보다 상기 에칭제에 적어도 약 5배 더 용해할 수 있는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  4. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 적층 유리 제품의 두께는 약 4 mm 이하인 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  5. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 클래드층과 상기 제2 클래드층 각각의 두께는 약 10 ㎛ 내지 약 200 ㎛인 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  6. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 코어층은 상기 제1 클래드층과 상기 제2 클래드층과 동일하거나, 상기 제1 클래드층과 상기 제2 클래드층보다 더 큰 열 팽창 계수를 가지는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  7. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 클래드층과 상기 제2 클래드층의 에칭 속도는 약 0.10 ㎛/min 내지 약 1.00 ㎛/min이고, 상기 코어층의 에칭 속도는 약 2.00 ㎛/min 내지 약 5.00 ㎛/min인 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  8. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 에칭제는 플루오르화수소산 (hydrofluoric acid), 염산, 질산, 황산, 인산, 이플루오르화 암모늄 (ammonium bifluoride), 또는 이들의 혼합물을 포함하는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  9. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 필링하는 단계는 상기 리세스를 필러 물질 (filler material)로 필링하는 단계를 포함하는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  10. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 필링하는 단계는 상기 리세스를 폴리머 필러 물질로 필링하는 단계를 포함하는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  11. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 필링하는 단계는 리세스를 필링하기 위해 상기 제1 클래드층 및 상기 제2 클래드층 중 적어도 하나를 조작하는 단계 (manipulating)를 포함하는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  12. 적층 유리 제품을 제조하는 방법으로서,
    상기 적층 유리 제품은 제1 클래드층, 제2 클래드층, 및 제1 클래드층과 제2 클래드층 사이에 코어층을 포함하고, 상기 방법은,
    상기 적층 유리 제품의 엣지에 에칭제를 적용하는 단계, 여기서 상기 코어층은 엣지에 노출됨;
    상기 코어층의 적어도 일 부분을 에칭제로 제거함으로써 상기 적층 유리 제품의 엣지에 리세스를 형성하는 단계, 여기서 상기 리세스는 상기 제1 클래드층과 상기 제2 클래드층 사이를 연장함; 및
    상기 리세스를 보호 폴리머층 (protective polymer layer)으로 필링하는 단계를 포함하는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 코어층은 상기 제1 클래드층 및 상기 제2 클래드층보다 에칭제에 적어도 약 5배 더 용해할 수 있는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  14. 청구항 12 또는 13에 있어서,
    상기 폴리머는 2액형 에폭시 (2-part epoxies), 2액형 우레탄 (2-part urethanes), 2액형 아크릴류 (2-part acrylics), 2액형 실리콘 (2-part silicone), 수분-경화성 우레탄 (moisture-cure urethanes), 수분-경화성 에폭시 (moisture-cure epoxies), 페놀류 (phenolics), 노볼락 (novolacs), 우레아 포름알데히드 (urea formaldehyde), 멜라민 포름알데히드 (melamine formaldehyde), 가교 아크릴류 (crosslinking acrylics), 가교 비닐 (crosslinking vinyls), 알키드 (alkyds), 불포화 폴리에스테르 (unsaturated polyesters), 폴리이미드 (polyimides), 및 폴리아마이드 (polyamides)로 이루어진 군으로부터 선택된 멤버 (member)를 포함하는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  15. 청구항 12 내지 14 중 어느 한 항에 있어서, 상기 필링하는 단계는,
    액체 프리-폴리머 (pre-polymeric) 물질을 상기 적층 유리 제품의 적어도 하나의 엣지에 적용하는 단계; 및
    상기 보호 폴리머층을 형성하기 위해 상기 액체 프리-폴리머 물질을 경화하는 단계를 포함하는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  16. 청구항 15에 있어서,
    상기 경화하는 단계는 광 경화 또는 전자 빔 경화를 포함하는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  17. 청구항 15 또는 16에 있어서,
    상기 프리-폴리머 물질은 자유 라디칼 첨가 폴리머화 할 수 있는 프리-폴리머 물질, 자유 라디칼 단계 성장 폴리머화 할 수 있는 프리-폴리머 물질, 및 양이온 첨가 폴리머화 할 수 있는 프리-폴리머 물질로 이루어진 군으로부터 선택되는 물질인 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  18. 청구항 15 내지 17 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 프리-폴리머 물질은 실리카, 알루미나, 석영, 크리스토발라이트 (cristobalite), 실란, 지르코네이트 (zirconates), 티타네이트 (titanates) 및 산 작용 물질로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 첨가제를 포함하는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  19. 적층 유리 제품을 제조하는 방법으로서,
    상기 적층 유리 제품은 제1 클래드층, 제2 클래드층, 및 제1 클래드층과 제2 클래드층 사이에 코어층을 포함하고, 상기 방법은,
    상기 적층 유리 제품의 엣지에 에칭제를 적용하는 단계, 여기서 상기 코어층은 엣지에 노출됨;
    상기 코어층의 적어도 일 부분을 에칭제로 제거함으로써 상기 적층 유리 제품의 엣지에 리세스를 형성하는 단계, 여기서 상기 리세스는 제1 클래드층과 제2 클래드층 사이를 연장함; 및
    상기 리세스를 필링하기 위해 상기 제1 클래드층 및 상기 제2 클래드층 중 적어도 하나를 조작하는 단계를 포함하는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  20. 청구항 19에 있어서,
    상기 코어층은 상기 제1 클래드층 및 상기 제2 클래드층보다 에칭제에 적어도 약 10배 더 용해할 수 있는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  21. 청구항 19 또는 20에 있어서,
    상기 조작하는 단계는 상기 제1 클래드층 및 상기 제2 클래드층 중 적어도 하나의 부분이 적어도 부분적으로 상기 리세스를 필링하기 위해 상기 제1 클래드층 및 상기 제2 클래드층 중 적어도 하나의 부분을 연화하는 단계를 포함하는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  22. 청구항 21에 있어서,
    상기 제1 클래드층과 상기 제2 클래드층 중 적어도 하나의 부분은 파이어 폴리싱 또는 레이저 처리에 의해 연화되는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  23. 적층 유리 제품을 제조하는 방법으로서,
    상기 적층 유리 제품은 제1 클래드층, 제2 클래드층, 및 제1 클래드층과 제2 클래드층 사이에 코어층을 포함하고, 상기 방법은,
    엣지를 따라 리세스를 형성하기 위해 상기 적층 유리 제품의 엣지에 코어층의 적어도 일 부분을 노출시키는 단계, 여기서 상기 리세스는 상기 제1 클래드층과 상기 제2 클래드층 사이에 배치됨; 및
    상기 리세스를 필러 물질로 필링하는 단계를 포함하는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  24. 청구항 23에 있어서,
    상기 노출시키는 단계는 상기 적층 유리 시트의 엣지에 에칭제를 적용함으로써 상기 코어층을 에칭하는 단계를 포함하는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  25. 청구항 24에 있어서,
    상기 코어층은 상기 제1 클래드층 및 상기 제2 클래드층보다 에칭제에 더 용해할 수 있는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  26. 청구항 23 내지 25 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 코어층은 상기 제1 클래드층의 열 팽창 계수 및 상기 제2 클래드층의 열 팽창 계수와 동일하거나 상기 제1 클래드층의 열 팽창 계수 및 상기 제2 클래드층의 열 팽창 계수보다 더 큰 주어진 온도 범위에서 열 팽창 계수를 가지는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  27. 청구항 24 내지 26 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 클래드층과 상기 제2 클래드층의 에칭 속도는 약 0.10 ㎛/min 내지 약 1.00 ㎛/min이고, 상기 코어층의 에칭 속도는 약 2.00 ㎛/min 내지 약 5.00 ㎛/min인 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  28. 청구항 24 또는 25에 있어서,
    상기 에칭제는 플루오르화수소산, 염산, 질산, 황산, 인산, 이플루오르화 암모늄, 또는 이들의 혼합물을 포함하는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  29. 청구항 23 내지 28 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 필링하는 단계는 상기 리세스를 폴리머 필러 물질로 필링하는 단계를 포함하는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  30. 청구항 23 내지 29 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 필링하는 단계는 상기 리세스를 필링하기 위해 상기 제1 클래드층 및 상기 제2 클래드층 중 적어도 하나를 조작하는 단계를 포함하는 적층 유리 제품을 제조하는 방법.
  31. 적층 유리 제품으로서,
    제1 클래드층;
    제2 클래드층;
    상기 제1 클래드층과 상기 제2 클래드층 사이에 코어층;
    상기 제1 클래드층과 상기 제2 클래드층 사이에 배치된, 상기 적층 유리 제품의 엣지에 리세스; 및
    상기 리세스 내에 배치된 필러 물질을 포함하는 적층 유리 제품.
  32. 청구항 31에 있어서,
    상기 적층 유리 시트의 두께는 약 4 mm 이하인 적층 유리 제품.
  33. 청구항 31 또는 32에 있어서,
    상기 제1 클래드층과 상기 제2 클래드층 각각의 두께는 약 10 ㎛ 내지 약 200 ㎛인 적층 유리 제품.
  34. 청구항 31 내지 33 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 코어층은 상기 제1 클래드층 및 상기 제2 클래드층보다 동일하거나 더 큰 열 팽창 계수를 가지는 적층 유리 제품.
  35. 청구항 31 내지 34 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 필러 물질은 폴리머 필러 물질을 포함하는 적층 유리 제품.
  36. 청구항 35에 있어서,
    상기 폴리머 필러 물질은 2액형 에폭시, 2액형 우레탄, 2액형 아크릴류, 2액형 실리콘, 수분-경화성 우레탄, 수분-경화성 에폭시, 페놀류, 노볼락, 우레아 포름알데히드, 멜라민 포름알데히드, 가교 아크릴류, 가교 비닐, 알키드, 불포화 폴리에스테르, 폴리이미드, 및 폴리아마이드로 이루어진 군으로부터 선택된 멤버를 포함하는 적층 유리 제품.
  37. 청구항 31 내지 36 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 적층 유리 제품은 적층 유리 시트를 포함하는 적층 유리 제품.
  38. 청구항 31 내지 36 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 적층 유리 제품은 적층 유리 튜브를 포함하는 적층 유리 제품.
  39. 청구항 1 내지 30 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 적층 유리 제품 또는 청구항 31 내지 38 중 어느 한 항의 적층 유리 제품의 용도로서,
    LCD, LED, OLED, 및 양자점 디스플레이 (quantum dot display)를 포함하는 소비자 또는 상업적 전자 디바이스, 컴퓨터 모니터, 사운드 바, 및 현금 자동 입출금기 (ATMs)에서 커버 유리 또는 유리 백플레인 적용; 휴대폰, 개인 미디어 플레이어, 및 테블릿 컴퓨터를 포함하는 휴대용 전자 디바이스용 터치 스크린 또는 터치 센서 적용; 반도체 웨이퍼를 포함하는 집적 회로 적용; 광전지 적용; 건축 유리 적용; 윈도우, 조명, 기구, 및 헬멧 바이저 (helmet visor)를 포함하는 자동차 또는 차량과 관련된 유리 적용; 상업적 또는 가정용 전기 제품 적용; 조명 또는 신호 적용; 레일을 포함하는 수송 적용 및 항공 적용; 또는 향균 적용을 위한 용도.
  40. 청구항 1 내지 30 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 적층 유리 제품 또는 청구항 31 내지 38 중 어느 한 항의 적층 유리 제품이 포함된 커버 유리를 포함하는 전자 디바이스.
  41. 청구항 1 내지 30 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 적층 유리 제품 또는 청구항 31 내지 38 중 어느 한 항의 적층 유리 제품이 포함된 유리 백플레인을 포함하는 전자 디바이스.
  42. 청구항 1 내지 30 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 적층 유리 제품 또는 청구항 31 내지 38 중 어느 한 항의 적층 유리 제품이 포함된 디스플레이를 포함하는 전자 디바이스.
  43. 청구항 1 내지 30 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 적층 유리 제품 또는 청구항 31 내지 38 중 어느 한 항의 적층 유리 제품을 포함하는 건축 유리 판 (pane).
  44. 청구항 1 내지 30 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 적층 유리 제품 또는 청구항 31 내지 38 중 어느 한 항의 적층 유리 제품을 포함하는 자동차 글레이징 (glazing).
  45. 청구항 1 내지 30 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 적층 유리 제품 또는 청구항 31 내지 38 중 어느 한 항의 적층 유리 제품을 포함하는 차량 관련 유리 멤버.
  46. 청구항 1 내지 30 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 적층 유리 제품 또는 청구항 31 내지 38 중 어느 한 항의 적층 유리 제품을 포함하는 전기 제품.
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