KR101118900B1 - 기화 장치 및 반도체 처리 시스템 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (20)
- 액체 원료로부터 처리 가스를 얻기 위한 기화 장치이며,상기 기화 장치의 기화 공간을 규정하는 기화 용기와,상기 기화 공간 내에 상기 액체 원료를 안개 형상으로 분출하도록 상기 기화 용기에 설치된 인젝터와,상기 기화 공간 내에 분출된 상기 액체 원료를 가열하도록 상기 기화 용기에 설치된 히터와,상기 액체 원료로부터 얻게 된 생성 가스를 상기 기화 공간으로부터 도출하도록 상기 기화 용기에 접속된 가스 도출로와,상기 가스 도출로 내 또는 상기 가스 도출로와 상기 기화 공간 사이에 배치된 상기 생성 가스 중의 미스트를 포착하는 필터와,상기 필터에 적외선을 조사하는 적외선 조사 기구와,상기 필터의 주연부를 가열하는 보조 히터를 구비하며,상기 적외선 조사 기구는 상기 필터에 대해 동심형으로 적외선을 조사하도록 구성되는 기화 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 적외선 조사 기구는 상기 필터의 상류측 표면에 적외선을 조사하도록 배치되는 기화 장치.
- 삭제
- 제1항에 있어서, 상기 필터 및 상기 적외선 조사 기구는 상기 기화 용기에 제공되는 기화 장치.
- 제4항에 있어서, 상기 가스 도출로는 상기 기화 용기의 하부 측면에 접속되어, 상기 생성 가스를 횡방향으로 도출하는 기화 장치.
- 제5항에 있어서, 상기 필터는 상기 가스 도출로에 대응하여 상기 기화 용기의 일측부에 형성된 도출 포트에 설치되고, 상기 적외선 조사 기구는 상기 도출 포트에 대향하는 상기 기화 용기의 타측부에 형성된 투과 창과, 상기 투과 창의 외측에 배치된 적외선 광원을 구비하는 기화 장치.
- 제4항에 있어서, 상기 인젝터는 상기 기화 용기의 상부에 배치되고 또한 상기 기화 용기 내에 상기 액체 원료를 하방을 향해 분출하는 기화 장치.
- 제7항에 있어서, 상기 인젝터는 내관 및 외관으로 이루어지는 이중관 구조를 갖고, 상기 내관으로부터 상기 액체 원료가 공급되고, 상기 외관으로부터 안개화용 가스가 공급되는 기화 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 기화 장치는 상기 기화 용기로부터 이격되어 상기 가 스 도출로 상에 배치된 상기 생성 가스가 통과하는 필터 용기를 더 구비하고, 상기 필터 및 상기 적외선 조사 기구는 상기 필터 용기에 제공되는 기화 장치.
- 제9항에 있어서, 상기 필터는 상기 필터 용기의 일측부에 형성된 상기 생성 가스의 출구에 설치되고, 상기 적외선 조사 기구는 상기 출구에 대향하는 상기 필터 용기의 타측부에 형성된 투과 창과, 상기 투과 창의 외측에 배치된 적외선 광원을 구비하는 기화 장치.
- 반도체 처리 시스템이며,피처리 기판을 수납하는 처리실과,상기 처리실 내에서 상기 피처리 기판을 지지하는 지지 부재와,상기 처리실 내의 상기 피처리 기판을 가열하는 히터와,상기 처리실 내를 배기하는 배기계와,액체 원료로부터 처리 가스를 얻기 위한 기화 장치를 구비하고, 상기 처리실 내에 처리 가스를 공급하는 가스 공급계를 포함하고,상기 기화 장치는,상기 기화 장치의 기화 공간을 규정하는 기화 용기와,상기 기화 공간 내에 상기 액체 원료를 안개 형상으로 분출하도록 상기 기화 용기에 설치된 인젝터와,상기 기화 공간 내에 분출된 상기 액체 원료를 가열하도록 상기 기화 용기에 설치된 히터와,상기 액체 원료로부터 얻게 된 생성 가스를 상기 기화 공간으로부터 도출하도록 상기 기화 용기에 접속된 가스 도출로와,상기 가스 도출로 내 또는 상기 가스 도출로와 상기 기화 공간 사이에 배치된 상기 생성 가스 중의 미스트를 포착하는 필터와,상기 필터에 적외선을 조사하는 적외선 조사 기구와,상기 필터의 주연부를 가열하는 보조 히터를 구비하며,상기 적외선 조사 기구는 상기 필터에 대해 동심형으로 적외선을 조사하도록 구성되는, 반도체 처리 시스템.
- 제11항에 있어서, 상기 적외선 조사 기구는 상기 필터의 상류측 표면에 적외선을 조사하도록 배치되는 반도체 처리 시스템.
- 삭제
- 제11항에 있어서, 상기 필터 및 상기 적외선 조사 기구는 상기 기화 용기에 제공되는 반도체 처리 시스템.
- 제14항에 있어서, 상기 가스 도출로는 상기 기화 용기의 하부 측면에 접속되어, 상기 생성 가스를 횡방향으로 도출하는 반도체 처리 시스템.
- 제15항에 있어서, 상기 필터는 상기 가스 도출로에 대응하여 상기 기화 용기의 일측부에 형성된 도출 포트에 설치되고, 상기 적외선 조사 기구는 상기 도출 포트에 대향하는 상기 기화 용기의 타측부에 형성된 투과 창과, 상기 투과 창의 외측에 배치된 적외선 광원을 구비하는 반도체 처리 시스템.
- 제14항에 있어서, 상기 인젝터는 상기 기화 용기의 상부에 배치되고 또한 상기 기화 용기 내에 상기 액체 원료를 하방을 향해 분출하는 반도체 처리 시스템.
- 제17항에 있어서, 상기 인젝터는 내관 및 외관으로 이루어지는 이중관 구조를 갖고, 상기 내관으로부터 상기 액체 원료가 공급되고, 상기 외관으로부터 안개화용 가스가 공급되는 반도체 처리 시스템.
- 제11항에 있어서, 상기 기화 장치는 상기 기화 용기로부터 이격되어 상기 가스 도출로 상에 배치된 상기 생성 가스가 통과하는 필터 용기를 더 구비하고, 상기 필터 및 상기 적외선 조사 기구는 상기 필터 용기에 제공되는 반도체 처리 시스템.
- 제19항에 있어서, 상기 필터는 상기 필터 용기의 일측부에 형성된 상기 생성 가스의 출구에 설치되고, 상기 적외선 조사 기구는 상기 출구에 대향하는 상기 필터 용기의 타측부에 형성된 투과 창과, 상기 투과 창의 외측에 배치된 적외선 광원 을 구비하는 반도체 처리 시스템.
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