KR101049428B1 - 투명막 - Google Patents

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후지오 미즈카미
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도꾸리쯔교세이호진 상교기쥬쯔 소고겡뀨죠
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Abstract

본 발명은 포장재, 밀봉재, 디스플레이재의 기술 분야에 있어서 열 안정성이 높고, 또한 유연성, 표면 평탄성, 치수 안정성 및 가스 배리어성이 우수한 투명한 신소재·신기술을 제공한다. 본 발명은 투명성이 높은 무기 층상 화합물과 소량의 투명성이 높은 물가용성 고분자를 물 또는 물을 주성분으로 하는 액에 분산시키고, 기포를 함유하지 않는 균일한 분산액을 얻은 후, 이 분산액을 표면이 평탄하고 표면이 발수성인 지지체에 도포하여 무기 층상 화합물 입자를 침적시킴과 아울러, 분산매인 액체를 다양한 고액 분리 방법, 예를 들면 원심 분리, 여과, 진공 건조, 동결 진공 건조 또는 가열 증발법 등으로 분리하여 막형상으로 성형한 후, 이것을 필요에 따라 건조·가열·냉각하거나 하는 방법에 의해 지지체로부터 박리함으로써 얻어진, 무기 층상 화합물 입자가 배향되고, 표면 평탄성이 높으며, 치수 안정성이 높고, 투명성이 높으며, 유연성이 뛰어나고, 가스 배리어성이 우수하며, 내열성이 높은 무기 층상 화합물 막에 관한 것이다.
투명막

Description

투명막{TRANSPARENT FILM}
본 발명은 무기 층상 화합물을 주요 구성 성분으로 하는 막으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 투명재에 관한 것이며, 더욱 상세하게는 자립막으로서 이용 가능한 기계적 강도를 갖고, 내열성을 가지며, 가스 배리어성을 갖고, 무기 층상 화합물 입자의 적층을 고도로 배향시킨 투명재에 관한 것이다. 포장재, 밀봉재, 디스플레이재의 기술 분야에 있어서 종래 가스 차폐성이 높고, 투명하며, 유연하고, 게다가 고온하에서 사용 가능한 내열성 재료의 개발이 강하게 요청되고 있다. 이것을 근거로 해서 본 발명은 열 안정성이 높고, 또한 유연성 및 가스 배리어성이 뛰어난 투명한 신소재·신기술을 제공하는 것이다.
브라운관 방식을 대신하는 에너지 절약 디스플레이로서 액정, 유기 EL 등이 개발되고, 전자 페이퍼 등의 용도도 포함해서 디스플레이 전체의 플렉시블화가 다음 목표로 되어 있으며, 이를 위한 유연한 내열성 투명 필름이 요구되고 있다. 그러나 종래 재료, 예를 들면 플라스틱 필름은 유연하지만 그 내열성 및 가스 배리어성은 충분하다고는 말할 수 없고, 박판 유리는 광 투과성·내열성이 뛰어나지만 유연성이 충분하지 않다는 문제가 있다. 또, 박판 유리에는 그 두께를 0.4㎜ 정도로까지 밖에 할 수 없으므로, 유연성에 더해서 경량화가 어렵다는 문제가 있다. 그 때문에 유연성·내열성·투명성·가스 배리어성을 아울러 갖는 필름형상 재료의 개발이 강하게 요구되고 있다. 특히, 유연성 및 경량화의 실현을 위해 필름을 최대한 얇게 하는 것이 요구되고 있고, 또한 필름 기판에 대해서는 표면 평활성, 내약품성, 치수 안정성, 또는 저팽창률성이 요구된다.
팽윤성 점토 등의 무기 층상 화합물을 물이나 알콜에 분산하여 그 분산액을 유리판 상에 퍼지게 하고, 정치, 건조시킴으로써 입자의 배향이 갖추어진 막이 얻어지는 것이 알려져 있으며, 이 막 형성에 의해 X선 회절용 정방위 시료가 조제되어 왔다(비특허문헌1 참조). 그러나, 유리판 상에 막을 형성한 경우 유리판으로부터 무기 층상 화합물 박막을 벗기는 것이 곤란하며, 벗길 때에 막에 균열이 생기는등, 자립막으로서 얻는 것이 어렵다는 문제가 있었다. 또, 막을 벗길 수 있었다고 해도 얻어진 막이 무르고, 강도 부족이며, 지금까지 핀홀이 없는 가스 배리어성이 뛰어난 균일한 두께의 막을 조제하는 것은 곤란했다.
한편, 다양한 고분자 수지는 성형 재료 외 분산제, 증점제, 결합제로서 무기 재료에 배합하여 가스 배리어 재료로서 사용되고 있다. 예를 들면, 폴리아크릴산 등의 분자 중에 2개 이상의 카르복실기를 갖는 카르복실기함유 고수소 가스 결합성 수지(A)와, 전분류 등의 분자쇄 중에 2개 이상의 수산기를 갖는 수산기함유 고수소 가스 결합성 수지(B)의 중량비 A/B＝80/20~60/40의 혼합물 100중량부와, 점토 광물 등의 무기 층상 화합물 1~10중량부로 조성물을 형성하고, 이 조성물로 제작한 두께 0.1~50㎛의 피막에 열 처리·전자선 처리하면 그 피막은 가스 배리어성을 나타내는 것이 알려져 있다(특허문헌1 참조). 그러나, 이 경우에는 물가용성 고분자 수지가 주성분이며, 내열성이 높지 않다는 문제가 있다.
또한, 2개의 폴리올레핀계 수지층의 사이에 무기 층상 화합물과 수지를 함유하는 수지 조성물로 이루어지는 층을 적층함으로써 방습성이나 가스 배리어성이 뛰어나고, 식품 포장에 적용 가능한 적층 필름을 얻을 수 있다(특허문헌2 참조). 그러나, 이 경우에는 무기 층상 화합물을 함유하는 수지 조성물의 층은 다층막의 일부로서 사용되고 있는 것에 지나지 않고, 자립막으로서 단독으로 사용되는 것은 아니다. 또, 이 종류의 적층막의 내열성은 함유되는 가장 내열성이 낮은 유기물 재료, 즉 이 경우에는 폴리올레핀에 의해 결정되므로 이 종류의 재료는 일반적으로는 고내열성으로는 될 수 없다.
최근, 랭뮤어 블로젯법(Langmuir-Blodgett Method)을 응용한 무기 층상 화합물 박막의 제작이 행해지고 있다(예를 들면 비특허문헌2 참조). 그러나, 이 방법에서는 무기 층상 화합물 박막은 유리 등의 재료로 이루어진 기판 표면 상에 형성되는 것이며, 자립막으로서의 강도를 갖는 무기 층상 화합물 박막은 얻어지지 않았다. 그 외에도, 종래부터 기능성 무기 층상 화합물 박막 등을 조제하는 방법이 다양하게 보고되어 있다. 예를 들면, 하이드로탈사이트계 층간 화합물의 수분산액을 막형상화해서 건조하는 것으로 이루어지는 점토 박막의 제조 방법(특허문헌3 참조), 점토 광물과 인산 또는 인산기의 반응을 이용하고, 그 반응을 촉진시키는 열 처리를 실시함으로써 점토 광물이 갖는 결합 구조를 배향 고정한 점토 광물 박막의 제조 방법(특허문헌4 참조), 스멕타이트계 점토 광물과 2가 이상의 금속의 착화합물을 함유하는 피막처리용 수성 조성물(특허문헌5 참조) 등을 비롯하여 다수의 사례가 존재한다. 그러나, 어느 방법에 있어서나 지금까지 자립막으로서 이용 가능한 기계적 강도를 갖고, 점토 입자의 적층을 고도로 배향시켜서 가스 배리어성을 부여한 무기 층상 화합물 배향 자립막은 얻어지지 않았다.
한편, 화장품 및 의약품 분야에 있어서 바람직한 구형상의 유기 복합 점토 광물(예를 들면 특허문헌6 및 특허문헌7 참조), 점토 광물과 산과 효소를 혼합한 습윤성 무좀의 치료약의 제조(예를 들면 특허문헌8 및 특허문헌9 참조) 등, 무기 층상 화합물과 유기 화합물을 복합화시키는 것이 제안되어 있었다. 그러나, 이들 유기 복합 점토 광물을 자립막으로서 사용하는 것은 이루어지지 않는 것이 실정이며, 상기 기술 분야에서는 자립막으로서 이용 가능한 기계적 강도를 갖는 새로운 무기 층상 화합물 막을 개발하여 실용화하는 것이 강하게 요구되고 있었다.
[특허문헌1 : 일본 특허 공개 평10-231434호 공보]
[특허문헌2 : 일본 특허 공개 평7-251489호 공보]
[특허문헌3 : 일본 특허 공개 평6-95290호 공보]
[특허문헌4 : 일본 특허 공개 평5-254824호 공보]
[특허문헌5 : 일본 특허 공개 2002-30255호 공보]
[특허문헌6 : 일본 특허 공개 소63-64913호 공보]
[특허문헌7 : 일본 특허 공고 평07-17371호 공보]
[특허문헌8 : 일본 특허 공개 소52-15807호 공보]
[특허문헌9 : 일본 특허 공고 소61-3767호 공보]
[비특허문헌1 : 시로즈 하루오「점토 광물학-점토 과학의 기초-」, 아사쿠라 서점, p.57(1988)]
[비특허문헌2 : 우메자와 야스시, 점토 과학, 제 42 권, 제 4 호, 218-222(2003)]
이러한 상황 속에서 본 발명자들은 상기 종래 기술을 감안하여 자립막으로서 이용 가능한 기계적 강도를 갖고, 투명하며, 또한 뛰어난 유연함을 갖고, 200℃를 초과하는 고온도 조건하에서 사용할 수 있는 새로운 가스 배리어 막을 개발하는 것을 목표로 해서, 예의 연구를 거듭하는 과정에서 투명성이 높은 무기 층상 화합물과, 소량의 투명성이 높은 물가용성 고분자를 물 또는 물을 주성분으로 하는 액에 분산시켜 기포를 함유하지 않는 균일한 분산액을 얻은 후, 이 분산액을 표면이 평탄하고 표면이 발수성인 지지체에 도포하여 무기 층상 화합물 입자를 침적시킴과 아울러, 분산매인 액체를 다양한 고액 분리 방법, 예를 들면 원심 분리, 여과, 진공 건조, 동결 진공 건조 또는 가열 증발법 등으로 분리하여 막형상으로 성형한 후 이것을 필요에 따라 건조·가열·냉각하거나 하는 방법에 의해 지지체로부터 박리함으로써 무기 층상 화합물 입자가 배향되고, 투명성이 높으며, 유연성이 뛰어나고, 가스 배리어성이 뛰어나며, 내열성도 높은 무기 층상 화합물 막이 얻어지는 것을 발견하고, 더욱 연구를 거듭해서 바람직한 무기 층상 화합물과 이것에 바람직한 물가용성 고분자, 무기 층상 화합물과 물가용성 고분자의 최적 혼합 비율, 분산액의 최적 고액비, 바람직한 지지체 재료, 바람직한 분산 방법 등을 발견하여 막의 유연성, 투명성 및 내열성을 향상시키는 것을 달성해서 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 본 발명은 무기 층상 화합물을 배향시켜 치밀하게 적층시킴으로써 자립막으로서 이용 가능한 기계적 강도를 갖고, 또한 광 투과성을 가지며, 열 안정성이 뛰어난 유연한 투명재를 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명은 이하의 기술적 수단으로 구성된다.
(1) 무기 층상 화합물을 주요 구성 성분으로 하는 막이 1) 무기 층상 화합물과 물가용성 수지로 구성되고, 2) 무기 층상 화합물의 전체 고체에 대한 중량비가 70% 이상이며, 3) 전체 광선 투과율이 80%를 넘고, 4) 가스 배리어성을 갖는, 및 5) 자립막으로서 이용 가능한 기계적 강도를 갖고, 6) 상기 무기 층상 화합물이 층상 규산 또는 그들의 염인 것을 특징으로 하는 투명재.
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(2) 무기 층상 화합물은 운모, 버미큘라이트, 몬모릴로나이트, 베이델라이트, 사포나이트, 헥토라이트, 스티븐사이트, 마가다이트, 일러라이트 및 카네마이트 중 1종 이상인 것을 특징으로 하는 상기 (1)에 기재된 투명재.
(3) 물가용성 수지는 셀룰로오스계 수지, 알키드 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지, 메타크릴 수지, 페놀 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리비닐 수지, 아크릴산 수지 중 1종 이상인 것을 특징으로 하는 상기 (1)에 기재된 투명재.
(4) 가열, 또는 광조사의 방법에 의해 상기 물가용성 수지 첨가물 분자 내, 동 첨가물 분자 사이, 동 첨가물과 무기 층상 화합물 사이 또는 무기 층상 화합물 결정 사이에 있어서 부가 반응, 축합 반응 또는 중합 반응의 화학 반응을 행하게 하여, 이들의 화학반응에 의한 새로운 화학 결합을 생기게 해서 광 투과성, 가스 배리어성, 또는 기계적 강도를 개선시킨 것을 특징으로 상기 (1)에 기재된 투명재.
(5) 두께가 0.2㎜ 이하인 것을 특징으로 하는 상기 (1)에 기재된 투명재.
(6) 자외 가시 분광기에 의한 500㎚의 광선 투과율이 80% 이상인 것을 특징으로 하는 상기 (1)에 기재된 투명재.
(7) 통상 공기 조건하에서 200℃ 1시간 가열한 후, 자외 가시 분광기에 의한 500㎚의 광선 투과율이 75% 이상인 것을 특징으로 하는 상기 (1)에 기재된 투명재.
(8) 시차열 분석에 있어서 200℃~450℃의 온도 범위에 있어서의 중량 감소가 건조 고체 기준에서 20% 미만이고, 투명재를 구성하는 무기 층상 화합물의 기본 구조가 변화되지 않는 것을 특징으로 하는 상기 (1) 내지 (7) 중 어느 하나에 기재된 투명재.
(9) 산소 가스에 대한 투과 계수가 실온에 있어서 3.2×10-11㎠s-1㎝Hg-1 미만인 것을 특징으로 하는 상기 (1) 내지 (8) 중 어느 하나에 기재된 투명재.
(10) 300℃에서 1시간 가열 처리한 후에 산소 가스의 실온에 있어서의 가스 투과 계수가 3.2×10-11㎠s-1㎝Hg-1 미만인 것을 특징으로 하는 상기 (1) 내지 (9) 중 어느 하나에 기재된 투명재.
(11) 굴곡 반경 6㎜라도 크랙이 발생하지 않고 사용이 가능한 것을 특징으로 하는 상기 (1) 내지 (10) 중 어느 하나에 기재된 투명재.
(12) 원자간력 현미경으로 측정한 평균 표면 조도가 20㎚ 이하인 것을 특징으로 하는 상기 (1) 내지 (11) 중 어느 하나에 기재된 투명재.
(13) -100℃~+200℃의 평균 선팽창계수가 -10~10ppmK-1의 사이인 것을 특징으로 하는 상기 (1) 내지 (12) 중 어느 하나에 기재된 투명재.
(14) 투명재가 밀봉재, 포장재, 보호재, 플렉시블 기판, 또는 디스플레이재인 상기 (1) 내지 (13) 중 어느 하나에 기재된 투명재.
다음에 본 발명에 대해서 더욱 상세하게 설명한다.
본 발명자들은 투명성이 높은 무기 층상 화합물과, 소량의 투명성이 높은 물가용성 고분자를 물 또는 물을 주성분으로 하는 액에 분산시켜 기포를 함유하지 않는 균일한 분산액을 얻은 후, 이 분산액을 표면이 평탄하고 표면이 발수성인 지지체에 도포하여 무기 층상 화합물 입자를 침적시킴과 아울러, 분산매인 액체를 다양한 고액 분리 방법, 예를 들면 원심 분리, 여과, 진공 건조, 동결 진공 건조 또는 가열 증발법 등으로 분리하여 막형상으로 성형한 후, 이것을 필요에 따라 건조·가열·냉각하거나 하는 방법에 의해 지지체로부터 박리함으로써 무기 층상 화합물 입자가 배향되고, 투명성이 높으며, 유연성이 뛰어나고, 가스 배리어성이 우수하며, 내열성도 높은 무기 층상 화합물 막이 얻어지는 것을 발견했고, 더욱 연구를 거듭해서 바람직한 무기 층상 화합물과 물가용성 고분자, 무기 층상 화합물과 물가용성 고분자의 최적 혼합 비율, 분산액의 최적 고액비, 바람직한 지지체 재료, 바람직한 분산 방법 등을 발견하여 막의 유연성, 투명성 및 내열성을 향상시키는 것을 달성해서 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉, 본 발명은 투명성이 높은 무기 층상 화합물 및 소량의 투명성이 높은 물가용성 고분자를 사용하여 표면을 평탄하게 성형하고, 무기 층상 화합물을 배향해서 치밀하게 적층하며, 내부 크랙이나 기포에 기인하는 불균일성을 최소한으로 억제하여 균일한 두께로 자립막으로서 이용할 수 있는 기계적 강도를 얻기 위한 제조 조건을 채용함으로써 광 투과성을 갖고, 열 안정성, 가스 배리어성이 뛰어난 유연한 투명재를 자립막으로서 얻는 것을 특징으로 하는 것이다. 더해서, 일반적인 투명 수지의 선팽창계수는 50-70ppm K-1 정도인 것에 대하여 본 발명의 막은 점토를 주성분으로 하기 때문에 선팽창계수가 매우 작은 것을 특징으로 한다.
본 발명에서 사용하는 무기 층상 화합물로서는 천연 또는 합성물, 바람직하게는 예를 들면 운모, 버미큘라이트, 몬모릴로나이트, 베이델라이트, 사포나이트, 헥토라이트, 스티븐사이트, 마가다이트, 일러라이트, 카네마이트 중 1종 이상, 더욱 바람직하게는 그들의 합성물 중 어느 하나 또는 그들의 혼합물이 예시된다. 또한, 본 발명에서 사용하는 물가용성 고분자로서는 주쇄 또는 측쇄에 극성기를 갖고, 그 때문에 친수성이며, 또는 양이온성 음이온성 또는 비이온성이며, 물로의 용해성이 높은 것이면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 바람직하게는 예를 들면 셀룰로오스계 수지, 알키드 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지, 메타크릴 수지, 페놀 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리비닐 수지, 아크릴산 수지 등 중 1종 이상이 예시된다. 본 발명에서 사용하는 무기 층상 화합물도 또한 친수성이며, 물에 잘 분산된다. 이러한 물가용성 고분자와 무기 층상 화합물은 서로의 친화성이 있어 양자를 물속에서 혼합하면 용이하게 결합되어 복합화된다.
본 발명의 투명재의 제조 방법에 있어서는, 처음에 물 또는 물을 주성분으로 하는 분산매인 액체에 무기 층상 화합물 및 물가용성 고분자를 첨가한 균일한 분산액을 조제해야 한다. 이 분산액의 조제 방법으로서는 무기 층상 화합물을 분산시키고나서 물가용성 고분자를 첨가하는 방법, 물가용성 고분자를 함유하는 용액에 무기 층상 화합물을 분산시키는 방법 및 무기 층상 화합물 및 물가용성 고분자를 동시에 상기 분산매에 첨가해서 분산액으로 하는 방법 중 어느 것이나 좋지만, 분산의 용이함을 위해 무기 층상 화합물을 물 또는 물을 주성분으로 하는 분산매인 액체에 분산시키고나서 물가용성 고분자를 첨가하는 것이 바람직하다. 이 경우, 우선 무기 층상 화합물을 물 또는 물을 주성분으로 하는 분산매인 액체에 첨가하여 희박하고 균일한 무기 층상 화합물 분산액을 조제한다. 이 무기 층상 화합물 분산액에 있어서의 무기 층상 화합물 농도는 바람직하게는 0.3~10중량%, 보다 바람직하게는 0.5~1중량%이다. 이 때, 무기 층상 화합물 농도가 지나치게 낮을 경우 건조에 있어서 지나치게 시간이 걸린다는 문제가 있다. 또, 무기 층상 화합물 농도가 지나치게 높을 경우 무기 층상 화합물이 양호하게 분산되지 않기 때문에 무기 층상 화합물 입자의 배향이 나쁘고, 균일한 막이 불가능하다는 문제가 있다. 또한, 무기 층상 화합물 농도가 지나치게 짙을 경우 건조시에 수축에 의한 크랙이나 표면 거칠어짐, 막 두께의 불균일성 등이 생긴다는 문제가 있다.
다음에, 물가용성 고분자 또는 그것을 함유하는 용액을 칭량해서 상기 무기 층상 화합물 분산액에 첨가하여, 무기 층상 화합물 및 물가용성 고분자를 함유하는 균일한 분산액을 조제한다. 상술과 같이 무기 층상 화합물 및 물가용성 고분자는 모두 친수성이며, 물에 잘 분산된다. 또, 무기 층상 화합물 및 물가용성 고분자는 서로의 친화성이 있으므로, 양자는 물 속에서 혼합되면 용이하게 결합되어 복합화된다. 물가용성 고분자의 전체 고체에 대한 중량 비율은 30% 미만이며, 바람직하게는 5%~20%이다. 이 때, 물가용성 고분자의 비율이 지나치게 낮을 경우 사용의 효과가 나타나지 않고, 물가용성 고분자의 비율이 지나치게 높을 경우 얻어지는 막의 내열성이 저하된다. 분산 방법으로서는 가능한 한 심하게 분산할 수 있는 방법이면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 교반 날개를 구비한 교반 장치, 진탕 교반 장치, 호모지나이저 등이 있고, 특히 작은 기포를 없애기 위해서는 분산의 최종 단계에서 호모지나이저를 사용하는 방법이 바람직하다. 기포가 분산액에 잔존하고 있을 경우, 막 표면의 거칠어짐 또는 막 조성의 불균일의 원인으로 되고, 광의 표면 산란 또는 광의 내부 산란의 원인으로 된다.
다음에, 무기 층상 화합물 및 물가용성 고분자를 함유하는 분산액을 탈기한다. 탈기의 방법은 진공 처리, 가열, 원심 등이 있지만 진공 처리를 포함하는 방법이 보다 바람직하다. 탈기 후, 원심 분리 등에 의해 잔 기포를 제거하는 것이 막의 투명성을 향상시키는데 유효하다. 원심 분리의 조건으로서는, 예를 들면 5500 회전, 20분간이다. 탈기한 분산액을 지지체 표면에 일정 두께로 도포한다. 다음에 분산매인 액체를 천천히 증발시켜 막형상으로 성형한다. 건조 방법으로서는, 이렇게 해서 형성된 복합 무기 층상 화합물 막은, 바람직하게는 예를 들면 원심 분리, 여과, 진공 건조, 동결 진공 건조 및 가열 증발법 중 어느 하나, 또는 이들 방법을 조합한다. 이들 방법 중, 예를 들면 가열 증발법을 이용할 경우, 진공 처리에 의해 사전에 탈기 처리된 분산액을 평탄한 트레이, 바람직하게는 폴리프로필렌, 테플론(등록 상표) 등의 발수성 재료로 되어 있는 트레이 등의 지지체에 도포하고, 수평을 유지한 상태에서 강제 송풍식 오븐 속에서 30℃~90℃의 온도 조건하, 바람직하게는 30℃~50℃의 온도 조건하에서 10분~3시간 정도, 바람직하게는 20분~1시간 건조해서 물가용성 고분자 복합 무기 층상 화합물 막을 얻는다. 이 때, 지지체 표면은 폴리프로필렌, 테플론(등록 상표) 등의 발수성 재료 외, 티타니아 코팅 등의 발수 처리를 행한 재료가 바람직하게 사용된다. 지지체 표면이 발수성이 아닌 경우는 막이 지지체에 접합된 상태로 되어 박리시키는 것이 곤란해진다는 문제점이 있다. 지지체 표면은 가능한 한 평탄한 것이 바람직하다. 평탄하지 않을 경우에는 막 표면에 지지체 표면의 거칠어짐이 전사되어 광이 표면 산란되는 원인으로 된다.
무기 층상 화합물 및 물가용성 고분자를 함유하는 분산액을 사전에 탈기 처리하지 않을 경우는, 얻어지는 복합 무기 층상 화합물 막에 기포에 유래하는 구멍이 생기기 쉬워진다는 문제가 생기는 경우가 있다. 복합 무기 층상 화합물 막에 기포가 함유될 경우 광의 내부 산란의 원인으로 되어 막이 흐려진다는 문제점이 있다. 또, 건조 조건은 액체분을 증발에 의해 제거하는데 충분하도록 설정된다. 이 때, 온도가 지나치게 낮으면 건조에 시간이 걸린다는 문제가 있다. 또, 온도가 지나치게 높으면 분산액의 대류가 일어나 막이 균일한 두께로 되지 않고, 또한 무기 층상 화합물 입자의 배향도가 저하된다는 문제가 있다. 본 발명의 물가용성 고분자 복합 무기 층상 화합물 막의 두께에 대해서는 분산액에 사용하는 고체량을 조정함으로써 임의의 두께의 막을 얻을 수 있다. 두께에 대해서는 얇게 성막한 쪽이 표면 거칠어짐이 일어나지 않아 광 투과성이 우수한 경향이 있다. 그 외, 막이 두꺼워짐으로써 유연성이 저하된다는 문제가 있고, 두께는 0.2㎜ 이하인 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서, 무기 층상 화합물 입자의 적층을 고도로 배향시킨다란, 무기 층상 화합물 입자의 단위 구조층(두께 약 1㎚)을, 층면의 방향을 하나로 해서 적층하여 층면에 수직인 방향으로 높은 주기성을 갖게 하는 것을 의미한다. 이러한 무기 층상 화합물 입자의 배향을 얻기 위해서는, 무기 층상 화합물 및 물가용성 고분자를 함유하는 희박하고 균일한 분산액을 지지체에 도포하고, 분산매인 액체를 천천히 증발시켜 무기 층상 화합물 입자가 치밀하게 적층된 막형상으로 성형하는 것이 중요하다. 이 프로세스에 있어서의 바람직한 제조 조건을 나타내면, 무기 층상 화합물 분산액 속의 무기 층상 화합물의 농도는 바람직하게는 0.3~10중량%, 보다 바람직하게는 0.5~1중량%이며, 또한 가열 건조법에 의한 건조 조건은 바람직하게는 강제 송풍식 오븐 속에서 30℃~90℃의 온도 조건하, 보다 바람직하게는 30℃~50℃의 온도 조건하에서 10분~3시간 정도의 건조, 보다 바람직하게는 20분~1시간 정도의 건조이다.
또한, 물가용성 고분자 복합 무기 층상 화합물 막이 트레이 등의 지지체로부터 자연히 박리되지 않을 경우는, 바람직하게는 예를 들면 약 80℃~200℃의 온도 조건하에서 건조시켜 박리를 용이하게 해서 자립막을 얻는다. 건조는 1시간이면 충분하다. 이 때, 온도가 지나치게 낮을 경우에는 박리가 일어나기 어렵다는 문제가 있다. 온도가 지나치게 높을 경우에는 물가용성 고분자가 열화되고, 결과적으로 막의 착색이 일어나거나, 기계적 강도가 저감되거나, 가스 배리어성이 저감되거나 하는 문제가 생긴다.
본 발명의 점토막 자체는 무기 층상 화합물을 주원료(70중량%~)로서 사용하고, 기본 구성으로서 바람직하게는 예를 들면 층 두께 약 1㎚, 입자 지름~1㎛, 합성의 무기 층상 화합물이 70중량%~와, 분자의 크기~수㎚의 천연 또는 합성의 저분자·고분자의 첨가물이 ~30중량%인 구성이 예시된다. 이 점토막은, 예를 들면 두께 약 1㎚의 층상 결정을 같은 방향으로 배향시켜서 쌓아 치밀하게 적층함으로써 제작된다. 얻어진 막은 막 두께가 3~200㎛, 바람직하게는 3~200㎛이며, 가스 배리어 성능은 두께 25㎛이고 산소 투과도 0.1㏄/㎡·24hr·atm 미만이며, 광 투과성은 가시광(파장 500㎚)의 투과도가 80% 이상이고, 300℃, 1시간 가열 후의 가시광(파장 500㎚)의 투과도가 80% 이상이며, 파장 350㎚의 투과도가 80% 이상이고, 면적은 100×40㎝ 이상으로 대면적화될 수 있으며, 고내열성을 갖고, 300℃에서 1시간 가열 처리 후에도 가스 배리어성의 저하는 보이지 않는다. 선팽창계수는 -100~100℃에서 -2ppm K-1, 100~200℃에서 0ppm K-1이다. 인장 강도는 23.6㎫이다. 인열 강도는 20.1N/㎜이다. 열 확산율은 2.7×10-7㎡/s이다. 연소 시험에 있어서의 산소 지수는 94 이상이다.
이와 같이, 본 발명의 무기 층상 화합물 막은 무기 층상 화합물 입자의 적층이 고도로 배향되고, 자립막으로서 사용할 수 있으며, 유연함이 뛰어나고, 핀홀이 존재하지 않으며, 200℃ 이상 300℃까지의 고온에 있어서도 기체·액체의 배리어성을 유지하는 것을 특징으로 하는 것이다. 또, 본 발명의 무기 층상 화합물 막은 예를 들면 가위, 커터 등으로 용이하게 원, 정사각형, 직사각형 등의 임의의 크기, 형상으로 잘라낼 수 있다.
따라서, 본 발명의 무기 층상 화합물 막은 고온 조건하에서 유연함이 뛰어나고, 가스 배리어성이 우수한 자립막으로서 광범위하게 사용할 수 있으며, 예를 들면 200℃를 넘는 고온에 있어서도 화학적으로 안정적이고 투명성을 유지하거나, 유연한 디스플레이 재료·포장 재료·전자 디바이스 밀봉 재료 등으로서 사용할 수 있다. 또, 물가용성 고분자는 극성 고분자이며, 마찬가지로 극성을 갖는 무기 층상 화합물과 상호 작용하여 유연함, 강도, 투명성의 점에서 뛰어난 박막을 생성한다. 그 때문에, 무기 층상 화합물 박막의 인장, 비틀어짐 등에 의한 용이한 파괴가 억제되고, 그것에 의해 자립막으로서 이용 가능한 뛰어난 특성을 갖는 무기 층상 화합물 막이 얻어진다. 또한, 본 발명의 무기 층상 화합물 막은 LCD용 기판 필름, 유기 EL용 기판 필름, 전자 페이퍼용 기판 필름, 전자 디바이스용 밀봉 필름, 렌즈 필름, 도광판용 필름, 프리즘 필름, 위상 차판·편광판용 필름, 시야각 보정 필름, PDP용 필름, LED용 필름, 광 통신용 부재, 터치 패널용 투명 필름, 각종 기능성 필름의 기판 필름, 내부가 들여다 보이는 구조의 전자기기용 필름, 비디오디스크·CD/CD-R/CD-RW/DVD/MO/MD·상변화 디스크·광 카드를 포함하는 광 기록 미디어용 필름, 연료 전지용 밀봉 필름, 태양 전지용 필름 등으로서 사용할 수도 있다.
상기 무기 층상 화합물 막을 다른 부재에 접착하는 일례로서 다층화가 예시된다. 즉, 무기 층상 화합물 복합막을 다른 재료로 제작된 막B와 다층화함으로써 기체 배리어 성능 및 기계적 강도를 향상시켜서 사용할 수 있다. 예를 들면, 무기 층상 화합물 복합막과 플라스틱 막의 1종으로서 불소 수지 필름을 접착제에 의해 접합해서 다층화된 막이 예시된다. 불소 수지 필름은 저투습성이므로, 불소 수지 필름과 무기 층상 화합물 복합막의 다층막은 고차습(遮濕)성 및 고가스 배리어성의 막으로서 이용 가능하다. 여기서, 막B의 재질로서는 점토막과의 다층막의 성형성이 양호하면 특별히 제한은 없지만, 바람직하게는 예를 들면 금속박, 박판 유리, 각종 플라스틱 막, 종이 등이 예시된다. 또, 무기 층상 화합물 복합막을 포함하는 3층 이상의 다층막을 사용할 수도 있다.
투명한 내열성 필름으로서는 박판 유리가 있지만, 이것은 얇아도 0.4㎜ 정도가 한계이다. 한편, 본 무기 층상 화합물 복합막은 0.2㎜~3㎛ 정도까지 얇게 제작할 수 있으며, 디바이스 전체의 유연함 및 경량화를 도모할 수 있다.
플렉시블 디바이스 재료나 전자 디바이스 밀봉 재료로서는 막의 유연함이 중요한 특성이다. 본 층상 화합물 복합막은 반경 6㎜로 구부려도 크랙 등이 발생하지 않고, 플렉시블 디바이스에 광범위하게 사용할 수 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 막은 유연함, 가공성이 우수하므로 롤 투 롤 프로세스의 적용도 가능하다고 생각된다.
본 발명의 막의 자외선의 흡수는 약간이며(도 2), 경시적인 착색이 억제되고, 내광성이 높다고 생각된다.
본 발명의 막은 다른 재료로의 접착이 용이하며, 일반적인 접착제를 사용할 수 있으며, 표면 코팅이 가능하고, 표면 코팅 및 라미네이트함으로써 수증기 배리어성·내수성의 향상이 가능하다.
<발명의 효과>
본 발명에 의해 (1) 무기 층상 화합물 입자의 배향이 갖추어진 투명한 무기 층상 화합물 막을 제공할 수 있고, (2) 상기 무기 층상 화합물 막은 자립막으로서 사용할 수 있으며, 예를 들면 200℃를 넘는 고온에 있어서도 화학적으로 안정적이고 투명성을 유지하는, 유연한 디스플레이 재료·포장 재료·전자 디바이스 밀봉 재료 등으로서 사용할 수 있다는 특별한 효과가 나타내어진다.
도 1은, 본 발명의 합성 스멕타이트 및 카르복시메틸셀룰로오스나트륨염을 이용하여 조제한 복합 무기 층상 화합물 박막(사용된 카르복시메틸셀룰로오스나트륨염의 전체 고체에 대한 중량 비율은 TPSACMC10-10이 10%, TPSACMC20-10이 20%, TPSACMC30-10이 30%이다)의 X선 회절 차트를 나타내는 도면이다.
도 2는, 본 발명의 합성 스멕타이트 및 카르복시메틸셀룰로오스나트륨염을 이용하여 조제한 복합 무기 층상 화합물 박막(사용한 카르복시메틸셀룰로오스나트 륨염의 전체 고체에 대한 중량 비율은 TPSACMC10-10이 10%, TPSACMC20-10이 20%, TPSACMC30-10이 30%이다)의 가시 자외 흡수 스펙트럼을 나타내는 도면이다.
다음에 실시예에 기초하여 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 조금도 한정되는 것은 아니다.
<실시예1>
(1) 무기 층상 화합물 박막의 제조
점토로서, 0.9g의 합성 사포나이트인 「스멕톤」(쿠니미네 고교 가부시키가이샤제)을 100㎤의 증류수에 첨가하여 플라스틱제 밀봉 용기에 테플론(등록 상표) 회전자와 함께 넣어 25℃에서 2시간 심하게 진탕시켜 균일한 분산액을 얻었다. 이 분산액에 첨가물로서 시판 중인 카르복시메틸셀룰로오스나트륨염을 0.1g 첨가하여 심하게 진탕시켜 합성 사포나이트 및 카르복시메틸셀룰로오스나트륨염을 함유하는 균일한 분산액을 얻었다. 다음에, 진공 탈포 장치에 의해 이 점토 페이스트의 탈기를 행했다. 다음에, 이 점토 페이스트를 표면이 평탄한 폴리프로필렌제 트레이에 도포했다. 도포에는 스테인레스제 주걱을 사용했다. 스페이서를 가이드로서 이용하여 균일한 두께의 점토 페이스트 막을 성형했다. 이 트레이를 강제 송풍식 오븐 속에서 60℃의 온도 조건하에서 1시간 건조시킴으로써 두께 약 10㎛의 균일한 첨가물 복합 점토 박막을 얻었다. 생성된 점토막을 트레이로부터 박리해서 투명도가 높은 자립한 유연함이 우수한 막(TPSACMC10-10)을 얻었다.
(2) 무기 층상 화합물 박막의 특성
TPSACMC10-10을 반경 6㎜로 구부려도 크랙 등이 발생하지 않았고, 아무런 결함도 생기지 않았다. 가시 자외 분광 광도계에 의해 측정된 이 막의 파장 500㎚에 있어서의 투과율은 81.7%였다. 이 막의 JIS K7105:1981 「플라스틱의 광학적 특성 시험 방법」에 기초하는 전체 광선 투과율은 91.5%이며, 헤이즈(헤이즈값)는 14.2%였다. 이 막의 산소의 투과 계수를 니혼분코 가부시키가이샤제 Gasperm-100으로 측정했다. 그 결과, 실온에 있어서의 산소 가스의 투과 계수가 0.148㏄/㎡·24hr·atm인 것이 확인되어 가스 배리어 성능을 나타내는 것을 알 수 있었다.
(3) 무기 층상 화합물 박막의 구조
TPSACMC10-10의 X선 회절 차트를 도 1에 나타낸다. 이 X선 회절 차트에 있어서 저면 반사 피크 001이 d＝1.48㎚로 관찰되었다. 이 결과로부터, TPSACMC10-10에 있어서 점토 층상 결정이 배향해서 적층되어 있는 것을 알 수 있다. 카르복시메틸셀룰로오스나트륨염을 첨가하지 않은 스멕타이트만의 막은 저면 반사 피크 001이 d＝1.24㎚로 관찰되었다. 복합체로 함으로써 저면 간격이 넓혀지고, 카르복시메틸셀룰로오스나트륨염이 스멕타이트의 층 사이에 들어간 나노 복합화 재료로 되어 있는 것을 알 수 있다. TPSACMC10-10의 열 분석(승온 속도 5℃/분, 공기 분위기하)을 행했다. TG 곡선에서, 실온으로부터 200℃까지 흡착수의 탈수에 의한 중량 감소가 관찰되고, 또한 272℃~450℃에 걸쳐서 카르복시메틸셀룰로오스나트륨염의 열 분해에 수반되는 중량 감소가 관찰되었다. 이 무기 층상 화합물 박막의 시차 열 분석(승온 속도 5℃/분)에 있어서, 200℃~450℃의 온도 범위에 있어서의 건조 고체 기준의 중량 감소는 6.7%였다.
(4) 무기 층상 화합물 박막의 내열성
TPSACMC10-10을 전기로에서 가열했다. 실온으로부터 200℃까지 매시 100℃의 속도로 가열했다. 다음에 200℃에서 1시간 유지했다. 그 후, 전기로 내에서 방랭했다. 이 가열 처리 후, 육안으로 광 투과도의 감소, 핀홀·크랙의 발생 등의 이상은 관찰되지 않았다. 가시 자외 분광 광도계에 의해 측정된 이 막의 파장 500㎚에 있어서의 광 투과율은 78.7%였다(도 2).
<실시예2>
(1) 무기 층상 화합물 박막의 제조
점토로서, 0.8g의 합성 사포나이트인 「스멕톤」(쿠니미네 고교 가부시키가이샤제)을 100㎤의 증류수에 첨가하여, 플라스틱제 밀봉 용기에 테플론(등록 상표) 회전자와 함께 넣어 25℃에서 2시간 심하게 진탕시켜 균일한 분산액을 얻었다. 이 분산액에 첨가물로서 시판 중인 카르복시메틸셀룰로오스나트륨염을 0.2g 첨가하고, 심하게 진탕시켜 합성 사포나이트 및 카르복시메틸셀룰로오스나트륨염을 함유하는 균일한 분산액을 얻었다. 다음에, 진공 탈포 장치에 의해 이 점토 페이스트의 탈기를 행했다. 다음에, 이 점토 페이스트를 표면이 평탄한 폴리프로필렌제 트레이에 도포했다. 도포에는 스테인레스제 주걱을 사용했다. 스페이서를 가이드로서 이용하여 균일 두께의 점토 페이스트 막을 성형했다. 이 트레이를 강제 송풍식 오븐 속에서 60℃의 온도 조건하에서 1시간 건조시킴으로써 두께 약 10㎛의 균일한 첨가물 복합 점토 박막을 얻었다. 생성된 점토막을 트레이로부터 박리해서 투명도가 높은 자립한 유연함이 우수한 막(TPSACMC20-10)을 얻었다.
(2) 무기 층상 화합물 박막의 특성
TPSACMC20-10을 반경 6㎜로 구부려도 크랙 등이 발생하지 않았고, 아무런 결함도 생기지 않았다. JIS1096:1999A에 준거한 굴곡 반발성 시험에 있어서 강연(剛軟)도는 표면 0.008mN, 이면 0.009mN으로 측정되었다. 가시 자외 분광 광도계에 의해 측정된 이 막의 파장 500㎚에 있어서의 투과율은 83.6%였다(도 2).
(3) 무기 층상 화합물 박막의 구조
TPSACMC20-10의 X선 회절 차트를 도 1에 나타낸다. 이 X선 회절 차트에 있어서 저면 반사 피크 001이 d＝1.51㎚로 관찰되었다. 이 결과로부터, TPSACMC20-10에 있어서 점토 층상 결정이 배향되어 적층되어 있는 것을 알 수 있다. 카르복시메틸셀룰로오스나트륨염을 첨가하지 않은 스멕타이트만의 막은 저면 반사 피크 001이 d＝1.24㎚로 관찰되었다. 복합체로 함으로써 저면 간격이 넓혀지고, 카르복시메틸셀룰로오스나트륨염이 스멕타이트의 층 사이에 들어간 나노 복합화 재료로 되어 있는 것을 알 수 있다. TPSACMC20-10의 열 분석(승온 속도 5℃/분, 공기 분위기하)을 행했다. TG 곡선에서, 실온으로부터 200℃까지 흡착수의 탈수에 의한 중량 감소가 관찰되고, 또한 262℃~450℃에 걸쳐서 카르복시메틸셀룰로오스나트륨염의 열 분해에 수반되는 중량 감소가 관찰되었다. 이 무기 층상 화합물 박막의 시차 열 분석(승온 속도 5℃/분)에 있어서 200℃~450℃의 온도 범위에 있어서의 건조 고체 기준의 중량 감소는 10.5%였다.
<실시예3>
(1) 무기 층상 화합물 박막의 제조
점토로서, 0.7g의 합성 사포나이트인 「스멕톤」(쿠니미네 고교 가부시키가이샤제)을 100㎤의 증류수에 첨가하고, 플라스틱제 밀봉 용기에 테플론(등록 상표) 회전자와 함께 넣어 25℃에서 2시간 심하게 진탕시켜 균일한 분산액을 얻었다. 이 분산액에 첨가물로서 시판 중인 카르복시메틸셀룰로오스나트륨염을 0.3g 첨가하고, 심하게 진탕시켜 합성 사포나이트 및 카르복시메틸셀룰로오스나트륨염을 함유하는 균일한 분산액을 얻었다. 다음에, 진공 탈포 장치에 의해 이 점토 페이스트의 탈기를 행했다. 다음에, 이 점토 페이스트를 표면이 평탄한 폴리프로필렌제 트레이에 도포했다. 도포에는 스테인레스제 주걱을 사용했다. 스페이서를 가이드로서 이용하여 균일 두께의 점토 페이스트 막을 성형했다. 이 트레이를 강제 송풍식 오븐 속에서 60℃의 온도 조건하에서 1시간 건조시킴으로써 두께 약 10㎛의 균일한 첨가물 복합 점토 박막을 얻었다. 생성된 점토막을 트레이로부터 박리해서 투명도가 높은 자립한 유연함이 우수한 막(TPSACMC30-10)을 얻었다.
(2) 무기 층상 화합물 박막의 특성
TPSACMC30-10을 반경 6㎜로 구부려도 크랙 등이 발생하지 않았고, 아무런 결함도 생기지 않았다. 가시 자외 분광 광도계에 의해 측정된 이 막의 파장 500㎚에 있어서의 투과율은 84.2%였다(도 2). 이 막의 JIS K7105:1981 「플라스틱의 광학적 특성 시험 방법」에 기초하는 전체 광선 투과율은 92.5%이며, 헤이즈(헤이즈값)는 10.1%였다. 이 막의 산소의 투과 계수를 니혼분코 가부시키가이샤제 Gasperm-100로 측정했다. 그 결과, 실온에 있어서의 산소 가스의 투과 계수가 0.017㏄/㎡·24hr·atm인 것이 확인되어 가스 배리어 성능을 나타내는 것을 알 수 있었다.
(3) 무기 층상 화합물 박막의 구조
TPSACMC30-10의 X선 회절 차트를 도 1에 나타낸다. 이 X선 회절 차트에 있어서 저면 반사 피크 001이 d＝1.72㎚에서 관찰되었다. 이 결과로, TPSACMC30-10에 있어서 점토 층상 결정이 배향해서 적층되어 있는 것을 알 수 있다. 카르복시메틸셀룰로오스나트륨염을 첨가하지 않은 스멕타이트만의 막은 저면 반사 피크 001가 d＝1.24㎚에서 관찰되었다. 복합체로 함으로써 저면 간격이 넓혀지고, 카르복시메틸셀룰로오스나트륨염이 스멕타이트의 층 사이에 들어간 나노 복합화 재료로 되어 있는 것을 알 수 있다. TPSACMC30-10의 열 분석(승온 속도 5℃/분, 공기 분위기하)을 행했다. TG 곡선에서, 실온으로부터 200℃까지 흡착수의 탈수에 의한 중량 감소가 관찰되었고, 또한 251℃~450℃에 걸쳐서 카르복시메틸셀룰로오스나트륨염의 열 분해에 수반되는 중량 감소가 관찰되었다. 이 무기 층상 화합물 박막의 시차 열 분석(승온 속도 5℃/분)에 있어서 200℃~450℃의 온도 범위에서의 건조 고체 기준의 중량 감소는 15.7%였다.
<실시예4>
(1) 무기 층상 화합물 박막의 제조
점토로서, 0.9g의 합성 사포나이트인 「스멕톤」(쿠니미네 고교 가부시키가이샤제)을 100㎤의 증류수에 첨가하고, 플라스틱제 밀봉 용기에 테플론(등록 상표) 회전자와 함께 넣어 25℃에서 2시간 심하게 진탕시켜 균일한 분산액을 얻었다. 이 분산액에 첨가물로서 시판 중인 폴리초산비닐을 0.1g 첨가하고, 심하게 진탕시켜 합성 사포나이트 및 폴리초산비닐을 함유하는 균일한 분산액을 얻었다. 다음에, 진 공 탈포 장치에 의해 이 점토 페이스트의 탈기를 행했다. 다음에 이 점토 페이스트를 표면이 평탄한 폴리프로필렌제 트레이에 도포했다. 도포에는 스테인레스제 주걱을 사용했다. 스페이서를 가이드로서 이용하여 균일 두께의 점토 페이스트 막을 성형했다. 이 트레이를 강제 송풍식 오븐 속에서 60℃의 온도 조건하에서 1시간 건조시킴으로써 두께 약 10㎛의 균일한 첨가물 복합 점토 박막을 얻었다. 생성된 점토막을 트레이로부터 박리해서 투명도가 높은, 자립한 유연함이 우수한 막을 얻었다.
<비교예1>
(1) 무기 층상 화합물 박막의 제조
점토로서, 1.0g의 합성 사포나이트인 「스멕톤」(쿠니미네 고교 가부시키가이샤제)을 100㎤의 증류수에 첨가하고, 플라스틱제 밀봉 용기에 테플론(등록 상표) 회전자와 함께 넣어 25℃에서 2시간 심하게 진탕시켜 균일한 분산액을 얻었다. 다음에, 진공 탈포 장치에 의해 이 점토 페이스트의 탈기를 행했다. 다음에, 이 점토 페이스트를 표면이 평탄한 폴리프로필렌제 트레이에 도포했다. 도포에는 스테인레스제 주걱을 사용했다. 스페이서를 가이드로서 이용하여 균일 두께의 점토 페이스트 막을 성형했다. 이 트레이를 강제 송풍식 오븐 속에서 60℃의 온도 조건하에서 1시간 건조시킴으로써 두께 약 10㎛의 균일한 첨가물 복합 점토 박막을 얻었다. 생성된 점토막을 트레이로부터 박리해서 투명도가 높은, 자립한 유연함이 우수한 막(TPSA0-10)을 얻었다.
(2) 무기 층상 화합물 박막의 특성
TPSA0-10을 반경 6㎜로 구부리면 크랙이 발생하는 경우가 관찰되었다. 가시 자외 분광 광도계에 의해 측정된 이 막의 파장 500㎚에 있어서의 투과율은 62.8%였다. 이상과 같이, 유기 첨가물이 없을 경우는 높은 유연성 및 광 투과성이 얻어지지 않았다.
<실시예5>
본 실시예는 참고예로서 기재한 것이다.
(1) 무기 층상 화합물 박막의 제조
점토로서, 0.9g의 천연 스멕타이트인 「쿠니피아P」(쿠니미네 고교 가부시키가이샤제)를 100㎤의 증류수에 첨가하고, 플라스틱제 밀봉 용기에 테플론(등록 상표) 회전자와 함께 넣어 25℃에서 2시간 심하게 진탕시켜 균일한 분산액을 얻었다. 이 분산액에 첨가물로서 시판 중인 엡실론 카프로락탐을 0.1g 첨가하고, 심하게 진탕시켜 천연 스멕타이트 및 엡실론 카프로락탐을 함유하는 균일한 분산액을 얻었다. 다음에, 진공 탈포 장치에 의해 이 점토 페이스트의 탈기를 행했다. 다음에, 이 점토 페이스트를 놋쇠판에 도포했다. 도포에는 스테인레스제 주걱을 사용했다. 스페이서를 가이드로서 이용하여 균일 두께의 점토 페이스트 막을 성형했다. 이 트레이를 강제 송풍식 오븐 속에서 60℃의 온도 조건하에서 1시간 건조시킴으로써 두께 약 10㎛의 균일한 첨가물 복합 점토 박막을 얻었다. 생성된 점토막을 트레이로부터 박리해서 자립한 유연함이 우수한 막을 얻었다. 가시 자외 분광 광도계에 의해 측정된 이 막의 파장 500㎚에 있어서의 광 투과율은 13.1%였다.
(2) 무기 층상 화합물 박막의 특성
이 막을 반경 6㎜로 구부려도 크랙 등이 발생하지 않고, 아무런 결함도 생기지 않았다. 이 막의 JIS K7105:1981 「플라스틱의 광학적 특성 시험 방법」에 기초 하는 전체 광선 투과율은 86.9%이며, 헤이즈(헤이즈값)는 78.2%였다.
<실시예6>
본 실시예는 참고예로서 기재한 것이다.
(1) 무기 층상 화합물 박막의 제조
점토로서, 0.91부의 천연 스멕타이트인 「쿠니피아P」(쿠니미네 고교 가부시키가이샤제)를 증류수에 첨가하고, 플라스틱제 밀봉 용기에 테플론(등록 상표) 회전자와 함께 넣어 25℃에서 2시간 심하게 진탕시켜 균일한 분산액을 얻었다. 이 분산액에 첨가물로서 시판 중인 엡실론 카프로락탐을 0.09부 첨가하고, 심하게 진탕시켜 천연 스멕타이트 및 엡실론 카프로락탐을 함유하는 균일한 분산액을 얻었다. 다음에, 진공 탈포 장치에 의해 이 점토 페이스트의 탈기를 행했다. 다음에, 이 점토 페이스트를 놋쇠판에 도포했다. 도포에는 스테인레스제 주걱을 사용했다. 스페이서를 가이드로서 이용하여 균일 두께의 점토 페이스트 막을 성형했다. 이 트레이를 강제 송풍식 오븐 속에서 60℃의 온도 조건하에서 1시간 건조시킴으로써 두께 약 80㎛의 균일한 첨가물 복합 점토 박막을 얻었다. 생성된 점토막을 트레이로부터 박리해서 자립한 유연함이 우수한 막을 얻었다.
(2) 무기 층상 화합물 박막의 특성
이 막을 반경 6㎜로 구부려도 크랙 등이 발생하지 않고, 아무런 결함도 생기지 않았다. 이 막의 선팽창계수는 -100℃~100℃의 온도 영역에서 10ppm K-1이며, 100℃~200℃의 온도 영역에서 -6ppm K-1이었다. 이 막의 산소의 투과 계수를 니혼분코 가부시키가이샤제 Gasperm-100으로 측정했다. 그 결과, 실온에 있어서의 산소 가스의 투과 계수가 3.2×10-11㎠s-1㎝Hg-1 미만인 것이 확인되어 가스 배리어 성능을 나타내는 것을 알 수 있었다. 이 박막을 300℃에서 24시간 가열한 후에 있어서도, 막의 실온에서의 산소의 투과 계수는 3.2×10-11㎠s-1㎝Hg-1 미만인 것이 확인되어 고온 처리 후에도 가스 배리어 성능을 나타내는 것을 알 수 있었다.
<비교예2>
(1) 무기 층상 화합물 박막의 제조
점토로서, 0.95g의 합성 사포나이트인 「스멕톤」(쿠니미네 고교 가부시키가이샤제)을 100㎤의 증류수에 첨가하고, 플라스틱제 밀봉 용기에 테플론(등록 상표) 회전자와 함께 넣어 25℃에서 2시간 심하게 진탕시켜 균일한 분산액을 얻었다. 이 분산액에 첨가물로서 시판 중인 폴리아크릴산나트륨을 0.05g 첨가하고, 심하게 진탕시켜 합성 사포나이트 및 폴리아크릴산나트륨을 함유하는 균일한 분산액을 얻었다. 다음에, 진공 탈포 장치에 의해 이 점토 페이스트의 탈기를 행했다. 다음에, 이 점토 페이스트를 불소 수지 시트를 저면에 깐 용기에 흘려 넣어 균일 두께의 점토 페이스트 막을 성형했다. 이 트레이를 강제 송풍식 오븐 속에서 60℃의 온도 조건하에서 24시간 건조시킴으로써 두께 약 100㎛의 균일한 첨가물 복합 점토 박막을 얻었다. 생성된 점토막을 불소 수지 시트로부터 박리해서 자립한 유연함이 우수한 막을 얻었다.
(2) 무기 층상 화합물 박막의 특성
이 막을 반경 20㎜로 구부렸을 때에 크랙은 발생하지 않았지만, 6㎜로 구부 렸을 때에 크랙이 발생했다. 가시 자외 분광 광도계에 의해 측정된 이 막의 파장 500㎚에 있어서의 광 투과율은 86.6%였다. 또, 이 막의 시차 열 분석(승온 속도 5℃/분, 공기 분위기하)에서, 실온으로부터 120℃까지 흡착수의 탈수에 의한 중량 감소가 관찰되었고, 점토 박막 중의 폴리아크릴산나트륨의 열 분해 온도는 466℃였다. 또한, 200℃~550℃의 온도 범위에 있어서의 건조 고체 기준의 중량 감소는 4.9%였다. 측정 범위를 1㎛ 평방으로 한 원자간력 현미경으로 측정한 건조시 대기측에 면한 측의 평균 표면 조도는 14.3㎚였다.
<실시예7>
(1) 무기 층상 화합물 박막의 제조
점토로서, 0.9g의 합성 사포나이트인 「스멕톤」(쿠니미네 고교 가부시키가이샤제)을 100㎤의 증류수에 첨가하고, 플라스틱제 밀봉 용기에 테플론(등록 상표) 회전자와 함께 넣어 25℃에서 2시간 심하게 진탕시켜 균일한 분산액을 얻었다. 이 분산액에 첨가물로서 시판 중인 폴리아크릴산나트륨을 0.1g 첨가하고, 심하게 진탕시켜 합성 사포나이트 및 폴리아크릴산나트륨을 함유하는 균일한 분산액을 얻었다. 다음에, 진공 탈포 장치에 의해 이 점토 페이스트의 탈기를 행했다. 다음에, 이 점토 페이스트를 불소 수지 시트를 저면에 깐 용기에 흘려 넣어 균일 두께의 점토 페이스트 막을 성형했다. 이 트레이를 강제 송풍식 오븐 속에서 60℃의 온도 조건하에서 24시간 건조시킴으로써 두께 약 100㎛의 균일한 첨가물 복합 점토 박막을 얻었다. 생성된 점토막을 불소 수지 시트로부터 박리해서 자립한 유연함이 우수한 막을 얻었다.
(2) 무기 층상 화합물 박막의 특성
이 막을 반경 2㎜로 구부려도 크랙 등이 발생하지 않았고, 아무런 결함도 생기지 않았다. 가시 자외 분광 광도계에 의해 측정된 이 막의 파장 500㎚에 있어서의 광 투과율은 90.3%였다. 또, 이 막의 시차 열 분석(승온 속도 5℃/분, 공기 분위기하)에서, 실온으로부터 120℃까지 흡착수의 탈수에 의한 중량 감소가 관찰되었고, 점토 박막 중의 폴리아크릴산나트륨의 열 분해 온도는 466℃였다. 또한, 200℃~550℃의 온도 범위에 있어서의 건조 고체 기준의 중량 감소는 8.2%였다. 측정 범위를 1㎛ 평방으로 한 원자간력 현미경으로 측정한 건조시 대기측에 면한 측의 평균 표면 조도는 4.4㎚였다.
<실시예8>
(1) 무기 층상 화합물 박막의 제조
점토로서, 0.85g의 합성 사포나이트인 「스멕톤」(쿠니미네 고교 가부시키가이샤제)을 100㎤의 증류수에 첨가하고, 플라스틱제 밀봉 용기에 테플론(등록 상표) 회전자와 함께 넣어 25℃에서 2시간 심하게 진탕시켜 균일한 분산액을 얻었다. 이 분산액에 첨가물로서 시판 중인 폴리아크릴산나트륨을 0.15g 첨가하고, 심하게 진탕시켜 합성 사포나이트 및 폴리아크릴산나트륨을 함유하는 균일한 분산액을 얻었다. 다음에, 진공 탈포 장치에 의해 이 점토 페이스트의 탈기를 행했다. 다음에, 이 점토 페이스트를 불소 수지 시트를 저면에 깐 용기에 흘려 넣어 균일 두께의 점토 페이스트 막을 성형했다. 이 트레이를 강제 송풍식 오븐 속에서 60℃의 온도 조건하에서 24시간 건조시킴으로써 두께 약 100㎛의 균일한 첨가물 복합 점토 박막을 얻었다. 생성된 점토막을 불소 수지 시트로부터 박리해서 자립한 유연함이 우수한 막을 얻었다.
(2) 무기 층상 화합물 박막의 특성
이 막을 반경 2㎜로 구부려도 크랙 등이 발생하지 않았고, 아무런 결함도 생기지 않았다. 가시 자외 분광 광도계에 의해 측정된 이 막의 파장 500㎚에 있어서의 광 투과율은 90.7%였다. 또, 이 막의 시차 열 분석(승온 속도 5℃/분, 공기 분위기하)에서, 실온으로부터 120℃까지 흡착수의 탈수에 의한 중량 감소가 관찰되었고, 점토 박막 중의 폴리아크릴산나트륨의 열 분해 온도는 466℃였다. 또한, 200℃~550℃의 온도 범위에 있어서의 건조 고체 기준의 중량 감소는 9.8%였다. 측정 범위를 1㎛ 평방으로 한 원자간력 현미경으로 측정한 건조시 대기측에 면한 측의 평균 표면 조도는 6.5㎚였다.
<실시예9>
(1) 무기 층상 화합물 박막의 제조
점토로서, 0.8g의 합성 사포나이트인 「스멕톤」(쿠니미네 고교 가부시키가이샤제)을 100㎤의 증류수에 첨가하고, 플라스틱제 밀봉 용기에 테플론(등록 상표) 회전자와 함께 넣어 25℃에서 2시간 심하게 진탕시켜 균일한 분산액을 얻었다. 이 분산액에 첨가물로서 시판 중인 폴리아크릴산나트륨을 0.2g 첨가하고, 심하게 진탕시켜 합성 사포나이트 및 폴리아크릴산나트륨을 함유하는 균일한 분산액을 얻었다. 다음에, 진공 탈포 장치에 의해 이 점토 페이스트의 탈기를 행했다. 다음에, 이 점토 페이스트를 불소 수지 시트를 저면에 깐 용기에 흘려 넣어 균일 두께의 점토 페 이스트 막을 성형했다. 이 트레이를 강제 송풍식 오븐 속에서 60℃의 온도 조건하에서 24시간 건조시킴으로써 두께 약 100㎛의 균일한 첨가물 복합 점토 박막을 얻었다. 생성된 점토막을 불소 수지 시트로부터 박리해서 자립한 유연함이 우수한 막을 얻었다.
(2) 무기 층상 화합물 박막의 특성
이 막을 반경 2㎜로 구부려도 크랙 등이 발생하지 않았고, 아무런 결함도 생기지 않았다. 가시 자외 분광 광도계에 의해 측정된 이 막의 파장 500㎚에 있어서의 광 투과율은 89.4%였다. 또, 이 막의 시차 열 분석(승온 속도 5℃/분, 공기 분위기하)에서, 실온으로부터 120℃까지 흡착수의 탈수에 의한 중량 감소가 관찰되었고, 점토 박막 중의 폴리아크릴산나트륨의 열 분해 온도는 465℃였다. 또한, 200℃~550℃의 온도 범위에 있어서의 건조 고체 기준의 중량 감소는 14.1%였다. 측정 범위를 1㎛ 평방으로 한 원자간력 현미경으로 측정한 건조시 대기측에 면한 측의 평균 표면 조도는 7.5㎚였다.
<실시예10>
(1) 무기 층상 화합물 박막의 제조
점토로서, 0.75g의 합성 사포나이트인 「스멕톤」(쿠니미네 고교 가부시키가이샤제)을 100㎤의 증류수에 첨가하여, 플라스틱제 밀봉 용기에 테플론(등록 상표) 회전자와 함께 넣어 25℃에서 2시간 심하게 진탕시켜 균일한 분산액을 얻었다. 이 분산액에 첨가물로서 시판 중인 폴리아크릴산나트륨을 0.25g 첨가하고, 심하게 진탕시켜 합성 사포나이트 및 폴리아크릴산나트륨을 함유하는 균일한 분산액을 얻었 다. 다음에, 진공 탈포 장치에 의해 이 점토 페이스트의 탈기를 행했다. 다음에, 이 점토 페이스트를 불소 수지 시트를 저면에 깐 용기에 흘려 넣어 균일 두께의 점토 페이스트 막을 성형했다. 이 트레이를 강제 송풍식 오븐 속에서 60℃의 온도 조건하에서 24시간 건조시킴으로써 두께 약 100㎛의 균일한 첨가물 복합 점토 박막을 얻었다. 생성된 점토막을 불소 수지 시트로부터 박리해서 자립한 유연함이 우수한 막을 얻었다.
(2) 무기 층상 화합물 박막의 특성
이 막을 반경 2㎜로 구부려도 크랙 등이 발생하지 않았고, 아무런 결함도 생기지 않았다. 가시 자외 분광 광도계에 의해 측정된 이 막의 파장 500㎚에 있어서의 광 투과율은 88.2%였다. 또, 이 막의 시차 열 분석(승온 속도 5℃/분, 공기 분위기하)에서, 실온으로부터 120℃까지 흡착수의 탈수에 의한 중량 감소가 관찰되었고, 점토 박막 중의 폴리아크릴산나트륨의 열 분해 온도는 464℃였다. 또한, 200℃~550℃의 온도 범위에 있어서의 건조 고체 기준의 중량 감소는 16.3%였다. 측정 범위를 1㎛ 평방으로 한 원자간력 현미경으로 측정한 건조시 대기측에 면한 측의 평균 표면 조도는 12.8㎚였다.
<실시예11>
(1) 무기 층상 화합물 박막의 제조
점토로서, 0.7g의 합성 사포나이트인 「스멕톤」(쿠니미네 고교 가부시키가이샤제)을 100㎤의 증류수에 첨가하고, 플라스틱제 밀봉 용기에 테플론(등록 상표) 회전자와 함께 넣어 25℃에서 2시간 심하게 진탕시켜 균일한 분산액을 얻었다. 이 분산액에 첨가물로서 시판 중인 폴리아크릴산나트륨을 0.3g 첨가하고, 심하게 진탕시켜 합성 사포나이트 및 폴리아크릴산나트륨을 함유하는 균일한 분산액을 얻었다. 다음에, 진공 탈포 장치에 의해 이 점토 페이스트의 탈기를 행했다. 다음에, 이 점토 페이스트를 불소 수지 시트에 도포했다. 스페이서를 가이드로서 이용하여 균일 두께의 점토 페이스트 막을 성형했다. 이 트레이를 강제 송풍식 오븐 속에서 60℃의 온도 조건하에서 24시간 건조시킴으로써 두께 약 100㎛의 균일한 첨가물 복합 점토 박막을 얻었다. 생성된 점토막을 불소 수지 시트로부터 박리해서 자립한 유연함이 우수한 막을 얻었다.
(2) 무기 층상 화합물 박막의 특성
이 막을 반경 2㎜로 구부려도 크랙 등이 발생하지 않았고, 아무런 결함도 생기지 않았다. 가시 자외 분광 광도계에 의해 측정된 이 막의 파장 500㎚에 있어서의 광 투과율은 86.6%였다. 또, 이 막의 시차 열 분석(승온 속도 5℃/분, 공기 분위기하)에서, 실온으로부터 120℃까지 흡착수의 탈수에 의한 중량 감소가 관찰되었고, 점토 박막 중의 폴리아크릴산나트륨의 열 분해 온도는 460℃였다. 또한, 200℃~550℃의 온도 범위에 있어서의 건조 고체 기준의 중량 감소는 21.3%였다. 200℃~450℃의 온도 범위에 있어서의 건조 고체 기준의 중량 감소는 9.5%였다. 측정 범위를 1㎛ 평방으로 한 원자간력 현미경으로 측정한 건조시 대기측에 면한 측의 평균 표면 조도는 16.1㎚였다.
<비교예3>
(1) 무기 층상 화합물 박막의 제조
점토로서, 0.8g의 합성 사포나이트인 「스멕톤」(쿠니미네 고교 가부시키가이샤제)을 100㎤의 증류수에 첨가하고, 플라스틱제 밀봉 용기에 테플론(등록 상표) 회전자와 함께 넣어 25℃에서 2시간 심하게 진탕시켜 균일한 분산액을 얻었다. 이 분산액에 첨가물로서 시판 중인 카르복시메틸셀룰로오스나트륨염을 0.2g 첨가하고, 심하게 진탕시켜 합성 사포나이트 및 카르복시메틸셀룰로오스나트륨염을 함유하는 균일한 분산액을 얻었다. 다음에, 진공 탈포 장치에 의해 이 점토 페이스트의 탈기를 행했다. 다음에, 이 점토 페이스트를 표면이 까칠까칠한 불소 수지로 만든 기판에 도포했다. 도포에는 스테인레스제 주걱을 사용했다. 스페이서를 가이드로서 이용하여 균일 두께의 점토 페이스트 막을 성형했다. 이 트레이를 강제 송풍식 오븐 속에서 60℃의 온도 조건하에서 1시간 건조시킴으로써 두께 약 10㎛의 균일한 첨가물 복합 점토 박막을 얻었다. 생성된 점토막을 트레이로부터 박리해서 자립한 유연함이 우수한 막을 얻었다.
(2) 무기 층상 화합물 박막의 특성
가시 자외 분광 광도계에 의해 측정된 이 막의 파장 500㎚에 있어서의 투과율은 68.1%였다. 이상과 같이, 기판 표면이 평탄하지 않을 경우는 막 표면이 거칠어져 광이 표면 산란되어 광 투과성이 저하되었다.
<실시예12>
(1) 무기 층상 화합물 박막의 제조
점토로서, 0.8g의 합성 사포나이트인 「스멕톤」(쿠니미네 고교 가부시키가이샤제)을 100㎤의 증류수에 첨가하고, 플라스틱제 밀봉 용기에 테플론(등록 상표) 회전자와 함께 넣어 25℃에서 2시간 심하게 진탕시켜 균일한 분산액을 얻었다. 이 분산액에 첨가물로서 시판 중인 폴리아크릴산나트륨을 0.2g 첨가하고, 심하게 진탕시켜 합성 사포나이트 및 폴리아크릴산나트륨을 함유하는 균일한 분산액을 얻었다. 다음에, 진공 탈포 장치에 의해 이 점토 페이스트의 탈기를 행했다. 다음에, 이 점토 페이스트를 불소 수지 시트를 저면에 깐 용기에 흘려 넣어 균일 두께의 점토 페이스트 막을 성형했다. 이 트레이를 강제 송풍식 오븐 속에서 60℃의 온도 조건하에서 24시간 건조시킴으로써 두께 약 10㎛의 균일한 첨가물 복합 점토 박막을 얻었다. 생성된 점토막을 불소 수지 시트로부터 박리해서 자립한 유연함이 우수한 막을 얻었다.
(2) 무기 층상 화합물 박막의 특성
이 막의 파장 500㎚에 있어서의 광 투과율은 90.3%였다. 또, 이 막을 300℃, 1시간 열 처리한 후에 있어서의 파장 500㎚에 있어서의 광 투과율은 89.3%였다.
<실시예13>
(1) 무기 층상 화합물 박막의 제조
점토로서, 0.8g의 합성 사포나이트인 「스멕톤」(쿠니미네 고교 가부시키가이샤제)을 100㎤의 증류수에 첨가하고, 플라스틱제 밀봉 용기에 테플론(등록 상표) 회전자와 함께 넣어 25℃에서 2시간 심하게 진탕시켜 균일한 분산액을 얻었다. 이 분산액에 첨가물로서 시판 중인 폴리아크릴산나트륨을 0.2g 첨가하고, 심하게 진탕시켜 합성 사포나이트 및 폴리아크릴산나트륨을 함유하는 균일한 분산액을 얻었다. 다음에, 진공 탈포 장치에 의해 이 점토 페이스트의 탈기를 행했다. 다음에, 이 점 토 페이스트를 불소 수지 시트를 저면에 깐 용기에 흘려 넣어 약 5㎜ 두께의 점토 페이스트 막을 성형했다. 이 트레이를 강제 송풍식 오븐 속에서 60℃의 온도 조건하에서 48시간 건조시킴으로써 두께 약 200㎛의 균일한 첨가물 복합 점토 박막을 얻었다. 생성된 점토막을 불소 수지 시트로부터 박리해서 자립한 유연함이 우수한 막을 얻었다.
(2) 무기 층상 화합물 박막의 제조
점토로서, 0.8g의 합성 사포나이트인 「스멕톤」(쿠니미네 고교 가부시키가이샤제)을 100㎤의 증류수에 첨가하고, 플라스틱제 밀봉 용기에 테플론(등록 상표) 회전자와 함께 넣어 25℃에서 2시간 심하게 진탕시켜 균일한 분산액을 얻었다. 이 분산액에 첨가물로서 시판 중인 폴리아크릴산나트륨을 0.2g 첨가하고, 심하게 진탕시켜 합성 사포나이트 및 폴리아크릴산나트륨을 함유하는 균일한 분산액을 얻었다. 다음에, 진공 탈포 장치에 의해 이 점토 페이스트의 탈기를 행했다. 다음에, 이 점토 페이스트를 불소 수지 시트를 저면에 깐 용기에 흘려 넣어 균일 두께의 점토 페이스트 막을 성형했다. 이 트레이를 강제 송풍식 오븐 속에서 60℃의 온도 조건하에서 24시간 건조시킴으로써 두께 약 10㎛의 균일한 첨가물 복합 점토 박막을 얻었다. 생성된 점토막을 불소 수지 시트로부터 박리해서 자립한 유연함이 우수한 막을 얻었다.
(3) 무기 층상 화합물 박막의 특성
이 막의 -100℃~+200℃의 평균 선팽창계수는 -1ppm이었다.
이상 상세하게 설명한 바와 같이, 본 발명은 무기 층상 화합물을 주요 구성 성분으로 하는 막인 것을 특징으로 하는 투명재이며, 자립막으로서 이용 가능한 기계적 강도를 갖고, 무기 층상 화합물 입자의 배향 적층을 고도로 향상시킨 투명재에 관한 것이며, 본 발명의 무기 층상 화합물 막은 자립막으로서 사용할 수 있고, 또한 200℃를 넘는 고온 조건하에서 사용할 수 있으며, 또 유연함이 뛰어나고, 또한 핀홀이 존재하지 않는 치밀한 재료이며, 가스 배리어성이 우수하다는 특징을 갖는 것이다. 따라서, 본 발명의 무기 층상 화합물 막은 생산 또는 가공시의 고온 조건에 견디는 부재이며, 유연함이 우수한 투명 필름으로서 광범위하게 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 무기 층상 화합물 막은 고온 조건 하에서 유연함이 우수한 투명 필름으로서 광범위하게 사용할 수 있다. 또, 본 발명의 무기 층상 화합물 막은 높은 가스 배리어성이 요구되는 투명 필름으로서 광범위하게 사용할 수 있다. 그 때문에 본 발명의 무기 층상 화합물 막은 많은 제품에 이용할 수 있다. 제품예로서는 LCD용 기판 필름, 유기 EL용 기판 필름, 전자 페이퍼용 기판 필름, 전자 디바이스용 밀봉 필름, 렌즈 필름, 도광판용 필름, 프리즘 필름, 위상차판·편광판용 필름, 시야각 보정 필름, PDP용 필름, LED용 필름, 광 통신용 부재, 터치 패널용 투명 필름, 각종 기능성 필름의 기판 필름, 내부가 들여다 보이는 구조의 전자기기용 필름, 비디오디스크·CD/CD-R/CD-RW/DVD/MO/MD·상변화 디스크·광 카드를 포함하는 광 기록 미디어용 필름, 연료 전지용 밀봉 필름, 태양 전지용 필름 등을 들 수 있다.

Claims (15)

  1. 무기 층상 화합물을 주요 구성 성분으로 하는 막은 (1) 무기 층상 화합물과 물가용성 수지로 구성되고, (2) 무기 층상 화합물의 전체 고체에 대한 중량비가 70% 이상이며, (3) 전체 광선 투과율이 80%를 넘고, (4) 가스 배리어성을 가지며, (5) 자립막으로서 이용 가능한 기계적 강도를 갖고, (6) 상기 무기 층상 화합물은 층상 규산 또는 그의 염인 것을 특징으로 하는 투명재.
  2. 제 1 항에 있어서, 무기 층상 화합물은 운모, 버미큘라이트, 몬모릴로나이트, 베이델라이트, 사포나이트, 헥토라이트, 스티븐사이트, 마가다이트, 일러라이트 및 카네마이트 중 1종 이상인 것을 특징으로 하는 투명재.
  3. 제 1 항에 있어서, 물가용성 수지는 셀룰로오스계 수지, 알키드 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지, 메타크릴 수지, 페놀 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리비닐 수지, 아크릴산 수지 중 1종 이상인 것을 특징으로 하는 투명재.
  4. 제 1 항에 있어서, 가열, 또는 광조사의 방법에 의해 상기 물가용성 수지 첨가물 분자 내, 동 첨가물 분자 사이, 동 첨가물과 무기 층상 화합물 사이 또는 무기 층상 화합물 결정 사이에 있어서 부가 반응, 축합 반응 또는 중합 반응의 화학 반응을 행하게 하여, 이들의 화학반응에 의한 새로운 화학 결합을 생기게 해서 광 투과성, 가스 배리어성, 또는 기계적 강도를 개선시킨 것을 특징으로 하는 투명재.
  5. 제 1 항에 있어서, 두께는 0.2㎜ 이하인 것을 특징으로 하는 투명재.
  6. 제 1 항에 있어서, 자외 가시 분광기에 의한 500㎚의 광선 투과율은 80% 이상인 것을 특징으로 하는 투명재.
  7. 제 1 항에 있어서, 통상 공기 조건하에서 200℃ 1시간 가열 후, 자외 가시 분광기에 의한 500㎚의 광선 투과율은 75% 이상인 것을 특징으로 하는 투명재.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 시차 열 분석에서 200℃~450℃의 온도 범위에 있어서의 중량 감소는 건조 고체 기준으로 20% 미만이고, 투명재를 구성하는 무기 층상 화합물의 기본 구조는 변화되지 않는 것을 특징으로 하는 투명재.
  9. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 산소 가스에 대한 투과 계수는 실온에 있어서 3.2×10-11㎠s-1㎝Hg-1 미만인 것을 특징으로 하는 투명재.
  10. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 300℃에서 1시간 가열 처리한 후에 산소 가스의 실온에 있어서의 가스 투과 계수는 3.2×10-11㎠s-1㎝Hg-1 미만인 것을 특징으로 하는 투명재.
  11. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 굴곡 반경 6㎜에서도 크랙이 발생하지 않고 사용 가능한 것을 특징으로 하는 투명재.
  12. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 원자간력 현미경으로 측정한 평균 표면 조도는 20㎚ 이하인 것을 특징으로 하는 투명재.
  13. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, -100℃~+200℃의 평균 선팽창계수는 -10~10ppmK-1의 사이인 것을 특징으로 하는 투명재.
  14. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 투명재는 밀봉재, 포장재, 보호재, 플렉시블 기판, 또는 디스플레이재인 것을 특징으로 하는 투명재.
  15. 삭제
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Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5283210B2 (ja) * 2008-01-18 2013-09-04 本田技研工業株式会社 燃料電池
US8206814B2 (en) * 2008-02-11 2012-06-26 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Film made from denatured clay
JP5375055B2 (ja) * 2008-12-02 2013-12-25 電気化学工業株式会社 太陽光発電モジュール用保護シート及びその製造方法、太陽光発電モジュール及びその保護方法、並びに太陽光発電システム
KR100975565B1 (ko) * 2008-12-24 2010-08-13 한국과학기술원 투습률 및 투산소율이 낮은 플렉시블 디스플레이 기판의 제조 방법
US20120237761A1 (en) * 2009-11-24 2012-09-20 Kao Corporation Membrane structure, process for making membrane structure, and aqueous dispersion for forming membrane structure
KR101332428B1 (ko) 2009-12-07 2013-11-22 제일모직주식회사 무기입자 필러가 함유된 디스플레이용 플렉서블 기판
KR100985782B1 (ko) * 2009-12-28 2010-10-06 한국과학기술원 습기 및 산소 배리어 기판 및 음식 포장재를 위한 플렉시블 박막 제조 방법
US9228113B2 (en) 2010-06-03 2016-01-05 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Water vapor barrier film and method for producing same
EP2433704A1 (en) * 2010-09-27 2012-03-28 Stichting IMEC Nederland Humidity barrier
RU2470981C2 (ru) * 2010-10-27 2012-12-27 Юрий Николаевич Пархоменко Способ получения тонкопленочного люминесцентного материала, содержащего наночастицы кремния на подложке
GB201106677D0 (en) * 2011-04-20 2011-06-01 Kritis Plastika Multilayer plastic film with separable layers for covering of inflated greenhouse
BR112013028402A2 (pt) * 2011-05-04 2020-08-04 Kth Holding Ab barreira de oxigênio para aplicações em embalagens
WO2012175431A2 (de) 2011-06-20 2012-12-27 Bayer Intellectual Property Gmbh Herstellung von folien mit flexiblen barrierebeschichtungen enthaltend schichtsilicate
WO2012175427A2 (de) 2011-06-20 2012-12-27 Bayer Intellectual Property Gmbh Herstellung von folien mit flexiblen barrierebeschichtungen enthaltend schichtsilicate
JP2013010662A (ja) * 2011-06-29 2013-01-17 Asahi Kasei Corp 層状無機化合物分散液
KR20140097472A (ko) * 2011-12-31 2014-08-06 디아이씨 가부시끼가이샤 접착제용 운모-함유 수지 조성물 및 접착제
US8691915B2 (en) 2012-04-23 2014-04-08 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Copolymers and polymer blends having improved refractive indices
US11905389B2 (en) 2014-07-28 2024-02-20 Texas State University—San Marcos Molecularly self-assembling nanocomposite barrier coating for gas barrier application and flame retardancy
KR102334395B1 (ko) 2014-12-05 2021-12-01 삼성전자주식회사 배리어 코팅 조성물, 그로부터 제조되는 복합체, 및 이를 포함하는 양자점-폴리머 복합체 물품
CN105126641B (zh) * 2015-08-04 2017-10-24 东华大学 一种柔性凹凸棒土膜及其制备方法
TWI551628B (zh) 2015-12-25 2016-10-01 財團法人工業技術研究院 分散液及其製法及有機／無機混成材料
CN105961105A (zh) * 2016-02-24 2016-09-28 叶集试验区华农种植专业合作社 一种梨树的分枝方法
CN109456503B (zh) * 2017-09-06 2021-06-25 中国海洋大学 一种鱼精dna/壳聚糖共混薄膜及其制备方法
CN110757849B (zh) * 2019-09-12 2021-04-13 界首市楷讯塑胶科技有限公司 一种耐腐蚀改性高分子塑料薄膜的制备工艺
US11913174B2 (en) 2020-07-30 2024-02-27 The Procter & Gamble Company Recyclable paper barrier laminate
WO2022077009A1 (en) 2020-10-09 2022-04-14 The Procter & Gamble Company Methods of producing biodegradable and recyclable barrier paper laminate
CN116157268A (zh) 2020-10-09 2023-05-23 宝洁公司 可生物降解且可回收的阻隔纸层合体
CN116082953A (zh) * 2022-12-30 2023-05-09 东莞希乐斯科技有限公司 一种高触变性阻燃型uv固化三防漆及其制备方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005200290A (ja) * 2003-12-17 2005-07-28 National Institute Of Advanced Industrial & Technology ナイロン複合粘土膜及びその製造方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5215807A (en) 1975-07-29 1977-02-05 Masataro Sato Method for preparing powders for treating athlet#s foot
JPS613767A (ja) 1984-06-18 1986-01-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 活字式プリンタ−
JPH0717371B2 (ja) 1986-09-05 1995-03-01 株式会社資生堂 球状の有機複合粘土鉱物及びその製造法
FR2668994B1 (fr) 1990-11-13 1993-01-15 Bendix Europ Services Tech Servofrein pneumatique.
JP3302394B2 (ja) 1992-03-12 2002-07-15 科学技術振興事業団 層状粘土鉱物薄膜の製造方法
JPH0695290A (ja) 1992-09-10 1994-04-08 Tdk Corp 粘土薄膜およびその製造方法
JPH07251489A (ja) 1994-01-25 1995-10-03 Sumitomo Chem Co Ltd 防湿性積層フィルム
JPH10231434A (ja) 1997-02-20 1998-09-02 Asahi Chem Ind Co Ltd ガスバリア性樹脂組成物、多層構造体及びその製造方法
JP2002030255A (ja) 2000-07-14 2002-01-31 Nippon Parkerizing Co Ltd 皮膜処理用水性組成物及び形成皮膜を有する工業材料
US7160942B2 (en) 2002-07-12 2007-01-09 Uchicago Argonne, Llc Polymer-phyllosilicate nanocomposites and their preparation
US7799395B2 (en) * 2003-09-08 2010-09-21 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Clay film
JP4366498B2 (ja) * 2003-10-06 2009-11-18 独立行政法人産業技術総合研究所 ペルオキシダーゼ複合粘土膜及びその製造方法
US8178194B2 (en) 2004-12-10 2012-05-15 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Clay film product

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005200290A (ja) * 2003-12-17 2005-07-28 National Institute Of Advanced Industrial & Technology ナイロン複合粘土膜及びその製造方法

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