JP5233086B2 - 有機無機複合材料 - Google Patents
有機無機複合材料 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5233086B2 JP5233086B2 JP2006171032A JP2006171032A JP5233086B2 JP 5233086 B2 JP5233086 B2 JP 5233086B2 JP 2006171032 A JP2006171032 A JP 2006171032A JP 2006171032 A JP2006171032 A JP 2006171032A JP 5233086 B2 JP5233086 B2 JP 5233086B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- organic
- resin
- inorganic composite
- composite material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/04—Reinforcing macromolecular compounds with loose or coherent fibrous material
- C08J5/0405—Reinforcing macromolecular compounds with loose or coherent fibrous material with inorganic fibres
- C08J5/043—Reinforcing macromolecular compounds with loose or coherent fibrous material with inorganic fibres with glass fibres
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
- H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
- H10K77/111—Flexible substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
すなわち本発明は、下記の発明を提供するものである。
<1>ガラス状物質と樹脂とが混合されてなり、該ガラス状物質が、アルキル基および/またはアリール基とSiおよびOとを含有する物質であることを特徴とする有機無機複合材料。
<2>ガラス状物質が、さらにPを含有する物質である前記<1>記載の有機無機複合材料。
<3>ガラス状物質が、式xR1R2SiO・(1/3)yP2O5・(2−(2/3)y)H3PO4(ただし、xは1以上4以下の範囲の値であり、yは0以上3以下の範囲の値であり、R1およびR2はそれぞれ独立に、炭素数1〜12のアルキル基および炭素数6〜12のアリール基から選ばれる基を示す。)で示される組成を有する物質である前記<1>または<2>に記載の有機無機複合材料。
<4>ガラス状物質が、式(a−b)R1R2SiO・(1/3)cP2O5・bMO・(2−(2/3)c)H3PO4(ただし、aは2以上3以下の範囲の値であり、bは0以上1.5以下の範囲の値であり、cは0以上3以下の範囲の値であり、R1およびR2は、上記と同じ意味を有し、Mは金属元素を示す。)で示される組成を有するガラス状物質である前記<1>または<2>に記載の有機無機複合材料。
<5>R1およびR2のうち少なくとも1つがフェニル基である前記<3>または<4>に記載の有機無機複合材料。
<6>Mが2価のSnである前記<4>に記載の有機無機複合材料。
<7>樹脂が熱可塑性樹脂である前記<1>〜<6>のいずれかに記載の有機無機複合材料。
<8>形状が、シート状である前記<1>〜<7>のいずれかに記載の有機無機複合材料。
<9>前記<1>〜<8>のいずれかに記載の有機無機複合材料を有する基板。
<10>前記<9>記載の基板を有する装置。
<11>アルキル基および/またはアリール基とSiおよびOとを含有するガラス状物質と有機溶媒(A)とを含有するガラス形成液と、樹脂と有機溶媒(B)とを含有する樹脂形成液とを混合し、得られる液状物質を塗布板上に塗布し、次いで乾燥させ、塗布板上に得られたシート状有機無機複合材料を剥離することを特徴とするシート状有機無機複合材料の製造方法。
xR1R2SiO・(1/3)yP2O5・(2−(2/3)y)H3PO4 (1)
(ただし、xは1以上4以下の範囲の値であり、yは0以上3以下の範囲の値であり、R1およびR2はそれぞれ独立に、炭素数1〜12のアルキル基および炭素数6〜12のアリール基から選ばれる基を示す。)
(a−b)R1R2SiO・(1/3)cP2O5・bMO・(2−(2/3)c)H3PO4 (2)
(ただし、aは2以上3以下の範囲の値であり、bは0以上1.5以下の範囲の値であり、cは0以上3以下の範囲の値であり、R1およびR2は、上記と同じ意味を有し、Mは2価の金属元素を示す。)
本発明におけるガラス状物質は、アルキル基および/またはアリール基を有するクロロシランを用いて製造することができる。さらには、該クロロシランとリン酸または亜リン酸とを反応させることにより、Pを含有するガラス状物質を製造することができる。該ガラス状物質が、Ge、Ca、Mg、Sr、Ba、Ga、Sn、Zn、Sb、Biを含有する場合にはそれぞれの塩化物を反応中に共存させればよい。またBを含有する場合にはホウ酸を共存させればよい。
有機溶媒(B)は有機溶媒(A)との相溶性の観点から、ケトン類およびトルエンからなる群より選ばれる1種以上が好ましく、トルエン、アセトン、2−ペンタノンおよび2−ヘプタノンからなる群より選ばれる1種以上がより好ましい。有機溶媒(A)と有機溶媒(B)とは同じであるのがよい。
実施例1
・ガラス形成液の製造
ガラス状物質の原料としてフェニルメチルジクロロシラン(PhMeSiCl2、信越化学株式会社)とリン酸(H3PO4、和光純薬株式会社製)を用いた。両者の混合比はモル比で3:2(Si−ClとH−POが全量反応する量論比)とした。攪拌羽根を有する反応容器を用いて、窒素雰囲気下で、容器内にリン酸を投入した。50℃に加熱し、攪拌しながらフェニルジクロロシランをリン酸に滴下した。反応物は極めて粘調で白濁した発泡体となった。その後100℃、150℃、200℃で順次それぞれ1時間保持し、試料中のHClガスを除去し、透明な粘調液体を得た。この試料を室温まで冷却し、3MePhSiO・P2O5で表される組成を有するガラス状物質を得た。該ガラス状物質を破砕し粉末状にした後、粉末と同重量のトルエンを添加し、窒素雰囲気下で攪拌することによりガラス形成液1を製造した。
・樹脂形成液の製造
500mL容器に、シクロオレフィンポリマー(以下、COPという。JSR株式会社製、商品名アートンF5023)30gと、トルエン70gとを入れ、80℃にて1時間攪拌し、COPの30重量%トルエン溶液である樹脂形成液2を製造した。
・液状物質の製造
2.6gのガラス形成液1と7.4gの樹脂形成液2とを、攪拌3分、脱泡2分行うことにより混合し、透明の液状物質3を得た。
・シート状有機無機複合材料の製造
バーコータによるコーティング法を用いてガラス基板(塗布板)上に、液状物質3(塗工液)を塗布し、オーブンにより130℃窒素雰囲気下で乾燥し、シート状有機無機複合材料をガラス基板上に得た。さらにオーブンにより250℃窒素雰囲気下で加熱処理を行い、シート状有機無機複合材料1をガラス基板から剥離した。
・シート状有機無機複合材料の評価
シート状有機無機複合材料1を、熱分析装置(セイコーインスツルメント株式会社製、熱分析システムSSC5000型)を用い、昇温速度を10℃/分として線膨張率を測定(JIS K−7197)したところ、40℃〜80℃の平均線膨張率は26ppm/℃(26×10-6/℃)であり、線膨張率が小さいことがわかった。また、シート状有機無機複合材料1は、透明であり、可撓性を有していたことから、フレキシブルディスプレイ用の基板として有用であることがわかる。
塗工液として樹脂形成液2を用いた以外は、実施例1と同様にして、COPからなるシート状樹脂を得た。実施例1と同様の方法で、線膨張率を測定したところ、40℃〜80℃の平均線膨張率は80ppm/℃(80×10-6/℃)であり、線膨張率が大きいことがわかった。
Claims (9)
- ガラス状物質が樹脂中に分散している状態で存在してなり、該ガラス状物質が、式xR 1 R 2 SiO・(1/3)yP 2 O 5 ・(2−(2/3)y)H 3 PO 4 (ただし、xは1以上4以下の範囲の値であり、yは0以上3以下の範囲の値であり、R 1 およびR 2 はそれぞれ独立に、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、フェニル基、o−メチルフェニル基、m−メチルフェニル基、p−メチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、1,3,5−トリメチルフェニル基、o−エチルフェニル基、m−エチルフェニル基、p−エチルフェニル基、2,4−ジエチルフェニル基、1,3,5−トリエチルフェニル基、α−ナフチル基およびβ−ナフチル基からなる群から選ばれる基を示す。)で示される組成を有する物質であることを特徴とする有機無機複合材料。
- 前記xが3であり、前記yが3である、請求項1に記載の有機無機複合材料。
- R1およびR2のうち少なくとも1つがフェニル基である請求項1または2に記載の有機無機複合材料。
- 樹脂が熱可塑性樹脂である請求項1〜3のいずれかに記載の有機無機複合材料。
- 形状が、シート状である請求項1〜4のいずれかに記載の有機無機複合材料。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の有機無機複合材料を有する基板。
- 請求項6記載の基板を有する装置。
- 式xR 1 R 2 SiO・(1/3)yP 2 O 5 ・(2−(2/3)y)H 3 PO 4 (ただし、xは1以上4以下の範囲の値であり、yは0以上3以下の範囲の値であり、R 1 およびR 2 はそれぞれ独立に、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、フェニル基、o−メチルフェニル基、m−メチルフェニル基、p−メチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、1,3,5−トリメチルフェニル基、o−エチルフェニル基、m−エチルフェニル基、p−エチルフェニル基、2,4−ジエチルフェニル基、1,3,5−トリエチルフェニル基、α−ナフチル基およびβ−ナフチル基からなる群から選ばれる基を示す。)で示される組成を有するガラス状物質と有機溶媒(A)とを含有するガラス形成液と、樹脂と有機溶媒(B)とを含有する樹脂形成液とを含む組成物。
- 式xR 1 R 2 SiO・(1/3)yP 2 O 5 ・(2−(2/3)y)H 3 PO 4 (ただし、xは1以上4以下の範囲の値であり、yは0以上3以下の範囲の値であり、R 1 およびR 2 はそれぞれ独立に、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、フェニル基、o−メチルフェニル基、m−メチルフェニル基、p−メチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、1,3,5−トリメチルフェニル基、o−エチルフェニル基、m−エチルフェニル基、p−エチルフェニル基、2,4−ジエチルフェニル基、1,3,5−トリエチルフェニル基、α−ナフチル基およびβ−ナフチル基からなる群から選ばれる基を示す。)で示される組成を有するガラス状物質と有機溶媒(A)とを含有するガラス形成液と、樹脂と有機溶媒(B)とを含有する樹脂形成液とを混合し、得られる液状物質を塗布板上に塗布し、次いで乾燥させ、塗布板上に得られた、ガラス状物質が樹脂中に分散している状態で存在しているシート状有機無機複合材料を剥離することを特徴とするシート状有機無機複合材料の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006171032A JP5233086B2 (ja) | 2006-06-21 | 2006-06-21 | 有機無機複合材料 |
PCT/JP2007/062192 WO2007148637A1 (ja) | 2006-06-21 | 2007-06-12 | 複合材料、基板及び複合材料の製造方法 |
TW096121687A TWI414552B (zh) | 2006-06-21 | 2007-06-15 | 複合材料、基板及複合材料之製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006171032A JP5233086B2 (ja) | 2006-06-21 | 2006-06-21 | 有機無機複合材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008001765A JP2008001765A (ja) | 2008-01-10 |
JP5233086B2 true JP5233086B2 (ja) | 2013-07-10 |
Family
ID=38833379
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006171032A Active JP5233086B2 (ja) | 2006-06-21 | 2006-06-21 | 有機無機複合材料 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5233086B2 (ja) |
TW (1) | TWI414552B (ja) |
WO (1) | WO2007148637A1 (ja) |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0594147A1 (de) * | 1992-10-24 | 1994-04-27 | Hoechst Aktiengesellschaft | Cycloolefin-Copolymerisate (COC) als Substratmaterial für Flüssigkristalldisplays |
JP4046963B2 (ja) * | 2001-09-18 | 2008-02-13 | セントラル硝子株式会社 | 有機−無機ハイブリッド低融点ガラス及びその製法 |
JP4109027B2 (ja) * | 2002-07-11 | 2008-06-25 | セントラル硝子株式会社 | 有機−無機ハイブリッド低融点ガラスおよびその製造方法 |
JP2004307845A (ja) * | 2003-03-24 | 2004-11-04 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 透明複合体組成物 |
JP2004307659A (ja) * | 2003-04-08 | 2004-11-04 | Olympus Corp | 光学素子および光学素子形成用の有機無機複合材料 |
JP2004354547A (ja) * | 2003-05-28 | 2004-12-16 | Kri Inc | 光学素子および光学素子形成用の有機無機複合材料 |
JP4356378B2 (ja) * | 2003-07-10 | 2009-11-04 | 住友ベークライト株式会社 | プラスチック複合シート及びそれを使用した表示素子 |
JP4687452B2 (ja) * | 2004-12-27 | 2011-05-25 | 住友化学株式会社 | 積層体 |
-
2006
- 2006-06-21 JP JP2006171032A patent/JP5233086B2/ja active Active
-
2007
- 2007-06-12 WO PCT/JP2007/062192 patent/WO2007148637A1/ja active Application Filing
- 2007-06-15 TW TW096121687A patent/TWI414552B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008001765A (ja) | 2008-01-10 |
WO2007148637A1 (ja) | 2007-12-27 |
TWI414552B (zh) | 2013-11-11 |
TW200806729A (en) | 2008-02-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101049428B1 (ko) | 투명막 | |
Ebina et al. | Flexible Transparent Clay Films with Heat‐Resistant and High Gas‐Barrier Properties | |
JP5648814B2 (ja) | 水蒸気バリア性フィルム及びその製造方法 | |
CN103732391B (zh) | 透明层叠膜 | |
CN102341472B (zh) | 压敏粘合剂混合物 | |
JP4834758B2 (ja) | フレキシブル電子デバイスに適用される基板構造およびその作製方法 | |
EP3272513B1 (en) | Molded body | |
CN102341423B (zh) | 压敏粘合剂混合物 | |
CN103221461B (zh) | 透明柔性膜及其制造方法 | |
JP5553330B2 (ja) | 電子デバイス用防湿フィルム及びその製造方法 | |
US9598555B2 (en) | Flame retardant material and use thereof | |
CN105793644A (zh) | 量子点保护膜、使用了该量子点保护膜的量子点膜及背光单元 | |
TW201347984A (zh) | 具有改進之釋離及抗黏特性的聚矽氧離形膜 | |
JP2007022075A (ja) | 層構造体及びその製造方法 | |
TW200623266A (en) | Low temperature curable materials for optical applications | |
CN102574370A (zh) | 透明基板 | |
JP2015533696A (ja) | ポリエステル積層フィルム | |
JP5582355B2 (ja) | 複合材料、これにより製造された複合フィルムおよび複合フィルムの製造方法 | |
JP5233086B2 (ja) | 有機無機複合材料 | |
JP2004043242A (ja) | 有機−無機ハイブリッド低融点ガラスおよびその製造方法 | |
JP4687452B2 (ja) | 積層体 | |
JP2006082239A (ja) | バリア性積層フィルム及びその製造方法 | |
US20070059519A1 (en) | Barrier coating composition containing an inorganic flake material as well as a device containing this barrier coating composition | |
KR101251249B1 (ko) | 투명 복합 재료, 이로 제조된 투명 복합체 필름 및 투명 복합체 필름의 제조방법 | |
JPWO2017002780A1 (ja) | ポリエステルフィルム及び調光フィルム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20080201 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20080515 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090511 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120821 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121005 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130226 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130311 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5233086 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160405 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |