KR100554863B1 - 메탈로세닐-프탈로시아닌 및 이를 포함하는 광학 기록 매체 - Google Patents
메탈로세닐-프탈로시아닌 및 이를 포함하는 광학 기록 매체 Download PDFInfo
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 28
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 56
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 28
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 81
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 29
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 18
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 16
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 claims description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 9
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 claims description 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 8
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 6
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 claims description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 4
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003860 C1-C20 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003358 C2-C20 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 3
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GJVFBWCTGUSGDD-UHFFFAOYSA-L pentamethonium bromide Chemical compound [Br-].[Br-].C[N+](C)(C)CCCCC[N+](C)(C)C GJVFBWCTGUSGDD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 claims 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 abstract description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 5
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 abstract 1
- -1 11-ferrocenylundecyl Chemical group 0.000 description 79
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 66
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 54
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 43
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 150000003254 radicals Chemical group 0.000 description 32
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 31
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical class CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- MCTALTNNXRUUBZ-UHFFFAOYSA-N molport-000-691-724 Chemical compound [Pd+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 MCTALTNNXRUUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 23
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 21
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 19
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 description 18
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 18
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 17
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 15
- 239000000047 product Substances 0.000 description 15
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 12
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 12
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 12
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 12
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 12
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 11
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 10
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- GPRSOIDYHMXAGW-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene cyclopentanecarboxylic acid iron Chemical compound [CH-]1[CH-][CH-][C-]([CH-]1)C(=O)O.[CH-]1C=CC=C1.[Fe] GPRSOIDYHMXAGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 9
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 8
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 8
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical group [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 7
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 6
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 description 6
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 6
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 5
- 238000003818 flash chromatography Methods 0.000 description 5
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 5
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 4
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- QFMZQPDHXULLKC-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(diphenylphosphino)ethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)CCP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QFMZQPDHXULLKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphine Chemical compound C=1C=CC=CC=1PC1=CC=CC=C1 GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical group ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 3
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 2
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000003556 assay Methods 0.000 description 2
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 125000001162 cycloheptenyl group Chemical group C1(=CCCCCC1)* 0.000 description 2
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000522 cyclooctenyl group Chemical group C1(=CCCCCCC1)* 0.000 description 2
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N cyclopentanol Chemical compound OC1CCCC1 XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 2
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 2
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- JIKUXBYRTXDNIY-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-phenylformamide Chemical compound O=CN(C)C1=CC=CC=C1 JIKUXBYRTXDNIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005484 neopentoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 2
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 2
- 229940079827 sodium hydrogen sulfite Drugs 0.000 description 2
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 125000006318 tert-butyl amino group Chemical group [H]N(*)C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004890 (C1-C6) alkylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006656 (C2-C4) alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006650 (C2-C4) alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000081 (C5-C8) cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005918 1,2-dimethylbutyl group Chemical group 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Natural products C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoropropan-1-ol Chemical compound OCC(F)(F)C(F)F NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003542 3-methylbutan-2-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- KHXKYJYWAPRBDH-UHFFFAOYSA-L 3h-dithiole-3-carboxylate;nickel(2+) Chemical compound [Ni+2].[O-]C(=O)C1SSC=C1.[O-]C(=O)C1SSC=C1 KHXKYJYWAPRBDH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound CC1CCC(=O)CC1 VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018085 Al-F Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018179 Al—F Inorganic materials 0.000 description 1
- 241001589086 Bellapiscis medius Species 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000882 C2-C6 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 0 CC(*)OC(*C1=CC=CC1)=O Chemical compound CC(*)OC(*C1=CC=CC1)=O 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNZYKNKBJPZETN-WELNAUFTSA-N Dialdehyde 11678 Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C2=C1[C@H](C[C@H](/C(=C/O)C(=O)OC)[C@@H](C=C)C=O)NCC2 ZNZYKNKBJPZETN-WELNAUFTSA-N 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003691 SiBr Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910008449 SnF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLGBZMMZGDRARJ-UHFFFAOYSA-N Triphenylene Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C3C2=C1 SLGBZMMZGDRARJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007926 ZrCl Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004054 acenaphthylenyl group Chemical group C1(=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical group 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003828 azulenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052729 chemical element Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000004090 cyclononenyl group Chemical group C1(=CCCCCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000006547 cyclononyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 1
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 1
- 125000003493 decenyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 125000005066 dodecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005980 hexynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001298 n-hexoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001196 nonadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005187 nonenyl group Chemical group C(=CCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 1
- 125000005064 octadecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- CFHIDWOYWUOIHU-UHFFFAOYSA-N oxomethyl Chemical compound O=[CH] CFHIDWOYWUOIHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 125000001792 phenanthrenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C=CC12)* 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- YLOVYOQKFPEOLM-UHFFFAOYSA-N phosphooxychloride Chemical compound ClOP(=O)=O YLOVYOQKFPEOLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003711 photoprotective effect Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 229940103406 seequin Drugs 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005063 tetradecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- CMJCEVKJYRZMIA-UHFFFAOYSA-M thallium(i) iodide Chemical compound [Tl]I CMJCEVKJYRZMIA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005040 tridecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004072 triols Chemical class 0.000 description 1
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005065 undecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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Abstract
본 발명에 의해, 프탈로시아닌의 4개의 페닐환 중 하나 이상이, -CH2-, -C(=O)-, -CH(C1-C4알킬)-, -C(C1-C4알킬)2-, -NH-, -S-, -O- 및 -CH=CH-로 이루어진 그룹으로부터 선택된 둘 이상의 원자 또는 원자 그룹의 쇄로 이루어진 브릿지 단위 E를 통해 결합된 하나 이상의 메탈로센 라디칼을 치환체로서 포함하는 메탈로세닐-프탈로시아닌 또는 이의 2가 금속, 옥소금속, 할로게노금속 또는 하이드록시금속과의 금속 착물, 및 특히 이성체를 포함하는 신규한 화합물의 혼합물, 제조방법, 용도 및 신규한 화합물을 포함하는 기록 매체가 밝혀졌다.
프탈로시아닌, 메탈로센, 페로센, 광학 기록 매체, 금속 착물, 염료, 기록층, 보호층, 반사층, 에스테르화, 기록 속도.
Description
본 발명은 신규한 메탈로세닐-프탈로시아닌, 이의 제조방법 및 이의 용도에 관한 것이다.
본 발명은 기록된 위치 및 기록되지 않은 위치상에서 염료의 상이한 광학 특성에 의하여 정보가 기록되는, 기록가능한 기록 매체용 정보의 광학 기록 분야에 관한 것이다. 상응하는 기록 매체는 예를 들면, "WORM" 시스템(write once read many)이란 명칭으로 공지되어 있으며, "CD-R" 또는 "DVD-R" 등으로 더욱 분류된다.
WORM 시스템내에 정보를 기록하기 위해 근적외선 범위(NIR 범위)의 방사선을 흡수하는 염료의 용도가 문헌에 기재되어 있다[참조: M. Emmelius, Angewandte Chemie, No. 11, pages 1475-1502(1989)]. 이와 같은 기록 물질에 레이저를 조사시킴으로써 물리적 변화(예를 들면, 승화 또는 확산) 또는 화학적 변화(예를 들면, 염료의 광변색, 이성체화 또는 열분해)에 의해 2진법 형태로 정보를 기록하기 위해 요구되는 흡광도를 변화시킬 수 있다.
치환된 프탈로시아닌은 이들이 상응하게 치환되는 경우, 통상 존재하는 중심 원자에 따라 700 ㎚ 내지 900 ㎚ 범위에서 높은 NIR 흡광도를 갖기 때문에 이와 같은 WORM 시스템에 사용하기 위한 중요한 염료 부류이다.
가장 중요한 요구조건은 사용되는 기록층에 부과되는데, 가장 중요하게는 최적의 기록 성능하에서 목적하는 값에 대한 피트(pit)의 매우 낮은 통계적 지터 뿐만 아니라, 높은 굴절률, 높은 초기 반사율, 고체 상태내의 좁은 흡수 밴드, 상이한 펄스 지속기간에서의 기록 폭의 균일성, 강한 레이저 방사선에 대한 높은 감도(새김)와 함께 약한 레이저 방사선하(판독) 뿐만 아니라 일광에 대한 높은 광 안정성, 저소음 및 고해상도 등이 있다.
기록층은 대개 통상적으로 스핀-피복에 의해 용액으로부터 도포되므로, 염료는 통상적인 용매, 특히, EP-A 제511 598호에 기재된 용매에 용이하게 용해될 수 있어야 한다(극성 용매와 비극성 용매의 구별과 무관하게).
하나 이상의 페로센 단위를 치환체로서 포함하는 프탈로시아닌 화합물이 공지되어 있다. 예를 들면, 문헌[참조: J. Organomet. Chem. 468(1-2)(1994), 205-212]에는 1,1'',1'''', 1''''''-(29H,31H-프탈로시아닌-2,9,16,23-테트라일)테트라키스-페로센이, 문헌[참조: Quin. Chem. Lett. 4(4)(1993) 339-342]에는 [1-(11-페로세닐운데실)-1'-[4-[4-[[9,16,23-트리스(2,2-디메틸프로폭시)-29H,31H-프탈로시아닌-2-일]옥시]페녹시]부틸]-4,4'-비피리디니우메이토(2-)-N29,N30,N31,N32]-아연 디브로마이드가, 문헌[참조: New J. Chem. 21(2)(1997) 267-271]에는 1,1"-[[9,23-비스(도데실티오)-29H,31H-프탈로시아닌-2,16-디일]비스(니트릴로메틸리딘)]비스페로센이, 문헌[참조: J. Organomet. Chem. 541(1-2)(1997) 441-443]에는 [Cp(dppe)Fe-CN-MnPc]2O의 합성(여기서, dppe는 1,2-에탄디일비스(디페닐포스핀)이고, Cp는 사이클로펜타디에닐이고, Pc는 프탈로시아닌이다)이 기재되어 있다.
문헌(참조: J. Chem. Soc., Chem. Commun. 1995, 1715-1716)에는 페로센카보닐 클로라이드가 하이드록시 그룹 치환된 금속 비함유 프탈로시아닌 그룹과 반응하여 상응하는 에스테르 화합물을 형성하는 액정 페로세닐-프탈로시아닌의 제조방법이 기재되어 있다.
문헌(참조: Inorg. Chem. 37(1998) 411-417)에는 페로센 단위가 중심 원자에 결합된 비스(페로센카복실레이토)-(프탈로시아니네이토)실리슘의 합성이 기재되어 있다.
문헌(참조: WO-A 제9723354호)에는 특히 중심 원자에 결합된 페로센 단위를 치환체로서 포함하는 프탈로시아닌계 광학 기록 물질이 기재되어 있다.
컴퓨터 데이타의 보관 및 백-업 매체로서 CD-R의 사용은 점점 더욱 빠른 쓰기 속도를 필요로 한다. 반대로, 오디오 매체로서의 사용은 좀 더 느린(1 배속) 속도가 필요하다. 따라서, 기록층은 와이드-밴드 거동(현재는 1 배속 내지 8 배속)에 대해 최적화될 필요가 계속 있고, 이는 사용되는 기록층에 대해 대단히 강한 요구조건이 된다. 프탈로시아닌을 포함하는 기록층은 고속(2 배속 내지 6 배속)에서 매우 우수한 측정값을 나타내지만, 기준으로부터의 피트 및 랜드의 길이 편차 및 또한 지터에 대해서는 덜 바람직한 1 배속-값을 나타내는 것으로 공지되어 있다. 사실상 지터는 피트 또는 표시 범위가 너무 짧거나 또는 너무 길어짐에 따른 시그널의 변화에서의 시간 에러인 것으로 이해된다. CD-R 상에서, 예를 들면, 피트의 길이는 3T 내지 11T(1T = 231,4 ns)내에서 변화될 수 있다. 예를 들면, 3T 피트의 길이가 심지어 조금 모자라거나 또는 초과되는 경우, 이들은 BLER 수(=블록 오류율, CD상에서의 물리적 오류의 수를 나타냄)를 증가시킬 수 있으며, 따라서, 품질을 손상시킬 수 있다. 오류율(BLER)은 대개 220/초 미만이어야 한다.
프탈로시아닌을 사용하는 경우의 열거한 어려움을 해결하기 위해 여러가지 제안들이 있어 왔으며; 특히 다른 염료 부류, 특히 시아닌의 분해 온도보다 높은 분해 온도를 낮추기 위한 시도가 있어 왔다.
예를 들면, DE-A 제4 112 402호에는 기록 필름으로서, 프탈로시아닌 및 상술한 파장 범위에서 흡수하는 시아닌(흡광제 성분으로서)으로 이루어진 혼합물의 사용이 제안되었다. 그러나, 또한 본 예에서 반복된 정보 판독은 흡광제를 파괴하므로 목적하는 특성이 수득되지 않는다. 또한, 시아닌 염료는 내광성이 아니므로 일반적으로 안정화제를 첨가할 필요가 있다.
EP-A 제600 427호에는 기록층이 프탈로시아닌 및 첨가제, 예를 들면, 페로센 유도체, 금속 아세틸아세토네이트 또는 노킹 억제용 첨가제를 포함하는, 광학 기록 매체가 기재되어 있다. 이 특허 문헌에 따르면, 열거된 첨가제를 첨가하면 기록의 질이 향상된다. 그러나, 첨가제 형태로 추가 물질을 사용해야 하고, 염료를 재사용하기 위해서는 첨가제를 제거하거나 양을 재조정해야 하기 때문에, 기록층의 제조시 수득된 염료의 회수가 곤란하다는 단점이 있다.
JP-A 제8-118800호에는 기록층이 페로센 단위로 치환된 아조 화합물을 포함하는, 광학 기록 매체가 기재되어 있다. 또한, 이러한 아조 화합물과 특히, 프탈로시아닌 및 펜타메틴시아닌과의 혼합물이 기재되어 있다. 본 경우의 단점은 아조 화합물이나 프탈로시아닌 어느 것을 사용해도 자체로 만족스러운 기록층을 얻을 수 없다는 점이다.
따라서, 본 발명의 목적은 메탈로센 단위로 치환된 추가의 프탈로시아닌을 제공하는 것이며, 광학 기록 매체를 제조하고 광학 기록 매체에 사용하기 위한 프탈로시아닌계의 개선된 기록 물질을 제공하는 것이다. 특히, 광학적 정보 기록 매체, 바람직하게는 CD-R의 기록 물질로서 사용된 메탈로세닐-프탈로시아닌은 목적하는 와이드-밴드 거동(1 배속 내지 8 배속)을 충족시켜야 하며, 반도체 레이저 파장(770 내지 790 nm)내에서 탁월한 기록 및 재생 특성을 가져야 한다.
또한, 바람직한 지터 값은 ±35 ns 범위에서 유지되어야 하며, 길이 편차는 ±40 ns(T3 피트/랜드) 내지 ±60 ns(T11 피트/랜드) 범위에서 유지되어야 한다.
또한, 기록층의 제조시 사용된 염료를 회수하기 위한 개선된 방법을 찾아야 한다. 또한, 기록 물질로서 메탈로세닐-프탈로시아닌 그 자체, 즉, 추가의 첨가제 없이 사용가능해야 한다.
따라서, 프탈로시아닌의 4개의 페닐환 중 하나 이상이, -CH2-, -C(=O)-, -CH(C1-C4알킬)-, -C(C1-C4알킬)2-, -NH-, -S-, -O- 및 -CH=CH-로 이루어진 그룹으로부터 선택된 둘 이상의 원자 또는 원자 그룹의 쇄로 이루어진 브릿지 단위 E를 통해 결합된 하나 이상의 메탈로센 라디칼을 치환체로서 포함하는 메탈로세닐-프탈로시아닌 또는 이의 2가 금속, 옥소금속, 할로게노금속 또는 하이드록시금속과의 금속 착물이 밝혀졌다.
또한, 특히 이성체를 포함하는 신규한 화합물의 혼합물, 이들의 제조방법 뿐 만 아니라 이들의 용도 및 신규한 화합물을 포함하는 광학 기록 매체가 밝혀졌다.
본 발명의 바람직한 양태는 화학식 I의 메탈로세닐-프탈로시아닌에 관한 것이다.
상기 화학식 I에서,
M1은 2가 금속, 옥소금속 그룹, 할로게노금속 그룹 또는 하이드록시금속 그룹, 또는 2개의 수소 원자이며,
X는 염소, 브롬 또는 요오드, 바람직하게는 염소 또는 브롬, 특히 바람직하게는 브롬과 같은 할로겐이며,
Y1은 -OR1, -OOC-R2, -NHR1, -N(R1)R2, 바람직하게는 -OR1이며,
Y2는 -SR1이며,
R3은 , 바람직하게는 , , 또는 [여기서, R4 및 R5는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-C4알킬일 수 있으며, n은 1 내지 4일 수 있으며, R6 및 R7은 각각 독립적으로 수소; 불소, 염소, 브롬 또는 요오드와 같은 할로겐; C1-C4알킬; C1-C4알콕시; 아미노-C1-C4알킬; 디아릴포스핀; 또는 -CH2-PAr2 또는 -CH(Me)-PAr2(여기서, Ar은 비치환되거나 치환된 페닐이다)와 같은 인-함유 C1-C4알킬이며, R8은 -O-R9-, -C(=O)-O-R9 또는 -O-C(=O)-R9-(여기서, R9는 단일 결합, C1-C4알킬렌 또는 C2-C4알킬렌이다)일 수 있으며, M2는 2가 전이 금속이며, R12는 수소 또는 메틸이며, R13은 단일결합, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH=CH-, -CH2-C(=O)- 또는 -CH2CH2-C(=O)-이다]이며,
x는 0 내지 8, 바람직하게는 0 내지 5, 특히 바람직하게는 0 내지 3의 유리수일 수 있으며,
y1 및 y2는 각각 독립적으로 0 내지 6의 유리수일 수 있으며, y1은 바람직하게는 1 내지 6의 정수, 특히 바람직하게는 3 내지 5의 정수, 특히 바람직하게는 4이며, y2는 바람직하게는 0 내지 2.0의 유리수일 수 있으며,
z는 1 내지 4, 바람직하게는 1 내지 3, 특히 바람직하게는 1 내지 2이며,
(x+y1+y2+z)는 16 이하이며,
R1 및 R2는 각각 독립적으로 비치환되거나, 할로겐, 하이드록시, C1-C20알콕시, C1-C20알킬아미노 또는 C2-C20디알킬아미노로 치환되며, -O-, -S-, -NH- 또는 -NR10-(여기서, R10은 C1-C6알킬, C5-C20사이클로알킬, C2-C20알케닐, C5-C12사이클로알케닐, C2-C20알키닐, C6-C18아릴 또는 C7-C18아르알킬일 수 있다)에 의해 차단될 수 있는 C1-C20알킬일 수 있으며,
하나 또는 두개의 리간드는 2가 금속 원자, 옥소금속 그룹, 할로게노금속 또는 하이드록시금속 그룹과 임의로 결합할 수 있다.
치환체 X, Y1, Y2 및 R3은 바람직하게는 화학식 I의 메탈로세닐-프탈로시아닌의 벤젠 핵에 위치한다.
사용된 2가 금속은 2가의 전이 금속 양이온, 특히 구리, 아연, 니켈, 팔라듐, 백금, 망간 또는 코발트일 수 있으며, 바람직하게는 팔라듐 또는 구리이다.
사용된 옥소금속 그룹은 V0, MnO 또는 TiO일 수 있다.
사용된 할로게노금속 그룹은 Al-Cl, Al-Br, Al-F, Al-I, Ga-Cl, Ga-F, Ga-I, Ga-Br, In-Cl, In-F, In-I, In-Br, Tl-Cl, Tl-F, Tl-I, Tl-Br, FeCl, 또는 RuCl 및 또한 CrCl2, SiCl2, SiBr2, SiF2, SiI2, ZrCl2, GeCl2, GeBr2, GeI2, GeF2, SnCl2, SnBr2, SnI2, SnF2, TiCl2, TiF2, TiBr2일 수 있다.
하이드록시금속 그룹은 MnOH, Si(OH)2, Ge(OH)2, Zr(OH)2, Mn(OH)2
, AlOH 또는 Sn(OH)2일 수 있다.
C1-C20알킬은 예를 들면, 메틸, 에틸, n-, i-프로필, n-, 2급, i-, 3급-부틸, n-, 네오펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 옥타데실, 노나데실, 에이코실, 바람직하게는 메틸, 에틸, n-, i-프로필, n-, 2급-, i-, 3급-부틸, n-, 네오펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실과 같은 C1-C12알킬, 특히 i-프로필, 2급-, i-, 3급-부틸, 네오펜틸, 1,2-디메틸프로필, 1,3-디메틸부틸, 1-이소프로필-프로필, 1,2-디메틸부틸, 1,4-디메틸펜틸, 2-메틸-1-이소-프로필프로필, 1-에틸-3-메틸부틸, 3-메틸-1-이소프로필부틸, 2-메틸-1-이소프로필부틸, 또는 1-3급-부틸-2-메틸프로필과 같은 분지된 C3-C12알킬, 및 메틸, 에틸, n-, i-프로필, n-, 2급-, i-, 3급-부틸, n-, 네오펜틸, n-헥실, 2,2-디메틸헥실과 같은 C1-C6알킬, 특히 바람직하게는 메틸, 에틸, n-, i-프로필, n-, 2급-, i-, 3급-부틸 및 2,4-디메틸-3-펜틸과 같은 C1-C4알킬이다. C5-C20사이클로알킬은 예를 들면, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로헵틸, 사이클로옥틸, 사이클로노닐, 사이클로데실, 사이클로운데실, 사이클로도데실, 사이클로트리데실, 사이클로테트라데실, 사이클로펜타데실, 사이클로헥사데실, 사이클로헵타데실, 사이클로옥타데실, 사이클로노나데실, 사이클로 에이코실이며, 바람직하게는 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로헵틸, 사이클로옥틸과 같은 C5-C8-사이클로알킬이다.
C2-C20알케닐은 예를 들면, 에테닐, n-, i-프로페닐, n-, 2급-, i-, 3급-부테닐, n-, 네오펜틸, 헥세닐, 헵테닐, 옥테닐, 노네닐, 데세닐, 운데세닐, 도데세닐, 트리데세닐, 테트라데세닐, 펜타데세닐, 헥사데세닐, 헵타데세닐, 옥타데세닐, 노나데세닐, 에이코세닐이며, 바람직하게는 에테닐, n-, i-프로페닐, n-, 2급-, i-, 3급-부테닐, n-, 네오펜테닐, n-헥세닐과 같은 C2-C6알케닐, 특히 바람직하게는 에테닐, n-, i-프로페닐, n-, 2급-, i-, 3급-부테닐과 같은 C2-C4알케닐이다.
C5-C12사이클로알케닐은 예를 들면, 사이클로펜테닐, 사이클로헥세닐, 사이클로헵테닐, 사이클로옥테닐, 사이클로노네닐, 사이클로데세닐, 사이클로운데세닐, 사이클로도데세닐이며, 바람직하게는 사이클로펜테닐, 사이클로헥세닐, 사이클로헵테닐, 사이클로옥테닐과 같은 C5-C8사이클로알케닐이다.
C2-C20알키닐은 예를 들면, 에티닐, n-, i-프로피닐, n-, 2급-, i-, 3급-부티닐, n-, 네오펜티닐, 헥시닐, 헵티닐, 옥티닐, 노니닐, 데시닐, 운데시닐, 도데시닐, 트리데시닐, 테트라데시닐, 펜타데시닐, 헥사데시닐, 헵타데시닐, 옥타데시닐, 노나데시닐, 에이코시닐이며, 바람직하게는 에티닐, n-, i-프로피닐, n-, 2급-, i-, 3급-부티닐, n-, 네오-펜티닐, n-헥시닐과 같은 C2-C6알키닐, 특히 바람직하게는 에티닐, n-, i-프로피닐, n-, 2급-, i-, 3급-부티닐과 같은 C2-C4알키닐이다.
C6-C18아릴은 예를 들면, 페닐, 1-, 2-나프틸, 인데닐, 아줄레닐, 아세나프틸레닐, 플루오레닐, 펜안트레닐, 안트라세닐, 트리페닐렌이며, 바람직하게는 페닐이다.
C7-C18아르알킬은 예를 들면, 벤질, 펜에틸, 페닐-(CH2)3-12-이며, 바람직하게는 벤질이다.
C1-C20알콕시는 예를 들면, 메톡시, 에톡시, n-, i-프로폭시, n-, 2급, i-, 3급-부톡시, n-, 네오-펜톡시, 헥속시, 헵톡시, 옥톡시, 노녹시, 데콕시, 운데콕시, 도데콕시, 트리데콕시, 테트라데콕시, 펜타데콕시, 헥사데콕시, 헵타데콕시, 옥타데콕시, 노나데콕시, 에이코속시이며, 바람직하게는 메톡시, 에톡시, n-, i-프로폭시, n-, 2급-, i-, 3급-부톡시, n-, 네오펜톡시, n-헥속시, 2,2-디메틸헥속시와 같은 C1-C6알콕시이며, 특히 바람직하게는 메톡시, 에톡시, n-, i-프로폭시, n-, 2급-, i-, 3급-부톡시와 같은 C1-C4알콕시이다.
C1-C20알킬아미노는 예를 들면, 메틸아미노, 에틸아미노, n-, i-프로필아미노, n-, 2급-, i-, 3급-부틸아미노, n-, 네오펜틸아미노, 헥실아미노, 헵틸아미노, 옥틸아미노, 노닐아미노, 데실아미노, 운데실아미노, 도데실아미노, 트리데실아미노, 테트라데실아미노, 펜타데실아미노, 헥사데실아미노, 헵타데실아미노, 옥타데실아미노, 노나데실아미노, 에이코실아미노이며, 바람직하게는 메틸아미노, 에틸아 미노, n-, i-프로필아미노, n-, 2급-, i-, 3급-부틸아미노, n-, 네오펜틸아미노, n-헥실아미노와 같은 C1-C6알킬아미노이며, 특히 바람직하게는 메틸아미노, 에틸아미노, n-, i-프로필아미노, n-, 2급-, i-, 3급-부틸아미노와 같은 C1-C4알킬아미노이다.
C2-C20디알킬아미노는 예를 들면, 디메틸아미노, 디에틸아미노, n-, i-디프로필아미노, n-, 2급, i-, 3급-디부틸아미노, n-, 네오디펜틸아미노, 디헥실아미노, 디헵틸아미노, 디옥틸아미노, 디노닐아미노, 디데실아미노, 디운데실아미노, 디도데실아미노, 디트리데실아미노, 디테트라데실아미노, 디펜타데실아미노, 디헥사데실아미노, 디헵타데실아미노, 디옥타데실아미노, 디노나데실아미노, 디에이코실아미노이며, 바람직하게는 디메틸아미노, 디에틸아미노, n-, i-디프로필아미노, n-, 2급-, i-, 3급-디부틸아미노, n-, 네오디펜틸아미노, n-디헥실아미노와 같은 C1-C6알킬아미노, 특히 바람직하게는 디메틸아미노, 디에틸아미노, n-, i-디프로필아미노, n-, 2급-, i-, 3급-디부틸아미노와 같은 C1-C4알킬아미노이다.
인-함유 C1-C4알킬은 바람직하게는 -CH2-PAr2 또는 -CH(Me)-PAr
2(여기서, Ar은 비치환되거나 치환된 페닐이다)와 같은 디페닐포스핀 라디칼-치환된 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌 또는 부틸렌일 수 있다.
디아릴포스핀은 예를 들면, 디페닐포스핀 및 치환된 디페닐포스핀일 수 있다.
M2는 예를 들면, 티탄, 철, 루테늄, 오스뮴 또는 니켈, 바람직하게는 철과 같은 전이 금속의 양이온이다.
R3은 특히 바람직하게는 라디칼 , , , (여기서, R12는 수소 또는 메틸일 수 있으며, R13은 단일 결합, -CH2-, -CH2CH2-, -CH=CH-, -CH2-C(=O)- 또는 -CH2CH2-C(=O)-일 수 있다) 중의 하나이다.
매우 특히 바람직한 라디칼 R3은 -C(=O)-O-CH2-Cp-FeCp, -CH2-O-C(=O)-CH2-CH2-C(=O)-Cp-FeCp, -CH2-O-C(=O)-Cp-FeCp 또는 -CH2-O-C(=O)-CH2-Cp-FeCp이다.
본 발명의 또 다른 바람직한 양태는 화학식 II의 메탈로세닐-프탈로시아닌에 관한 것이다.
상기 화학식 II에서,
R11은 C1-C12알킬이며, 특히 바람직하게는 분지된 C3-C12알킬, 보다 바람직하게는 2,4-디메틸-3-펜틸이며,
M3은 팔라듐 또는 구리이며,
z는 1 또는 2이며,
R3은 특히 또는 매우 특히 바람직하게는 상기 언급한 라디칼이다.
라디칼 -OR11은 1번 내지 16번 위치에 존재할 수 있으며; 4개의 라디칼 -OR11은 바람직하게는 각각 1번, 5번, 9번, 13번 또는 2번, 6번, 10번, 14번 위치에 존재하고, x개의 할로겐 라디칼 X 및 z개의 라디칼 R3은 나머지 자유 위치에 존재하는데, 바람직하게는 -OR11 라디칼에 대해 파라-위치에 존재한다. 특히 바람직하게는, 4개의 라디칼 -OR11은 1번, 5번, 9번, 13번("C4h") 위치(P1)이며, X는 x에 따라, 바람직하게는 4번, 8번, 12번 및 16번으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 위치에 존재하며, z개의 라디칼 R3은 OR11 라디칼 중 하나에 대하여 파라-위치, 즉, 예를 들면, X에 의해 점유되지 않은 4번, 8번, 12번 또는 16번 위치 중 하나에 존재할 수 있다. X는 또한 2번, 3번, 6번, 7번, 10번, 11번, 14번 또는 15번 위치에 존재할 수 있다.
또한, 본 발명은 이성체 및 이성체 혼합물을 포함한다. -OR11 라디칼은 예를 들면, 1번, 8번, 9번, 16번("D2h") 위치(P2) 또는 1번, 5번, 12번, 16번("C2v") 위치(P3) 또는 1번, 5번, 9번, 16번("Cs") 위치(P4)일 수 있다. 따라서, 본 발명의 바람직한 양태는 이성체형 P1, P3 또는 P4의 2개 이상, 특히 바람직하게는 3개를 포함하는 이성체 혼합물에 관한 것이다.
하기 화학식 II의 화합물은 실례이다.
상기 화학식에서,
또한, 기타 이성체는 인접한 OR11 라디칼에 마주하는 R3(언제나 동일한 벤젠 핵의 -OR11 라디칼에 대해 파라-위치에 존재한다는 조건하에)(예: R3은 5번 위치에 존재하고, -OR11 라디칼은 4번 위치에 존재한다) 또는 임의의 인접한 -OR11 라디칼에 마주하지 않는 R3(예: R3은 5번 위치에 존재하고, 4번 위치에는 어떠한 -OR11 라디칼도 없다)으로부터 생성된다. 따라서, 배열 P1(C4h)에서는 R3에 대해 인접한 위치만이 존재하는 반면, 아마도 -OR11 라디칼의 입체 장애 때문에 실제로는 발견되지 않는 배열 P2(D2h)에서는 점유할 어떠한 인접한 위치도 존재하지 않는다. 그러나, 배열 P3 및 P4(C2v 및 Cs)내에서는, R3에 대해 두개의 인접한 위치 및 두개의 비-인접한 위치가 존재한다. 할로겐 원자 X의 배열이 추가로 이성체 수를 증가시킴은 자명한 일이다.
본 발명의 바람직한 양태는 R3 1개 또는 R3 2개를 포함하는 화학식 II의 화합물, 및 R3을 1개 포함하는 하나의 화학식 II의 화합물과 R3을 2개 포함하는 하나의 화학식 II의 화합물을 포함하는 혼합물에 관한 것이다. 바람직한 혼합물은 R3을 2개 포함하는 화학식 II의 화합물을 1 내지 25 몰%, 특히 바람직하게는 5 내지 20 몰%, 매우 특히 바람직하게는 5 내지 10 몰% 포함하며, R3을 1개 포함하는 화학식 II의 화합물을 99 내지 75 몰%, 특히 바람직하게는 95 내지 80 몰%, 매우 특히 바람직하게는 95 내지 90 몰% 포함하는 것이다(여기서, -OR11, R3, X 및 M3 그룹은 두개의 화학식 II의 화합물에서 동일하다).
본 발명의 매우 특히 바람직한 양태는 화학식 III의 메탈로세닐-프탈로시아닌에 관한 것으로, 하기 제시된 화학식 III은 가능한 이성체 화합물 중 하나(즉, -OR11 라디칼의 P1(C4h) 배열, 상술한 정의 참조)만을 나타낸다.
상기 화학식 III에서,
E는 -CH2O-C(=O)- 또는 -C(=O)-OCH2-이다.
삭제
따라서, 본 발명은 P3 또는 P4(C2v 또는 Cs) 배열을 갖는 이성체 화합물, 특히 -OR11 라디칼의 P1, P3 및 P4 배열을 갖는 3개의 이성체 화합물을 포함하는 혼합물(여기서, (z-1)은 0 초과, 예를 들면, 1, 2 또는 3이며, 바람직하게는 1이다)을 포함한다.
본 발명의 매우 특히 바람직한 양태는
(여기서, x는 2.6 내지 3.0, 바람직하게는 2.7 내지 2.9, 보다 바람직하게는 2.8이다)
및
(여기서, x는 0 내지 0.5이다)에 관한 것이다.
본 발명의 또 다른 바람직한 양태는 하나 이상의 화학식 II의 화합물을 포함하는 혼합물, 바람직하게는 R3을 1개 포함하는 하나의 화학식 II의 화합물, R3을 2개 포함하는 하나의 화학식 II의 화합물 및 하나의 화학식 IV의 화합물로 이루어진 혼합물에 관한 것이다.
상기 화학식 IV에서,
R14는 -CHO, -CH2OH, -COOH, -CH2OC(O)-C1-C4알킬 또는 -CH(O-C1-C4알킬)2와 같은 아세탈일 수 있으며,
z는 1 또는 2일 수 있다.
본 발명의 특히 바람직한 양태는 (a) R3을 1개(즉, z=1) 포함하는 화학식 II의 화합물 60 내지 95몰%, 바람직하게는 80 내지 95몰%,
(b) R3을 2개(즉, z=2) 포함하는 화학식 II의 화합물 5 내지 20몰%, 바람직하게는 5 내지 10몰%, 및
(c) 화학식 IV의 화합물 0 내지 25몰%, 바람직하게는 0 내지 10몰%(몰%를 합한 총량은 100%이다)를 포함하는 혼합물에 관한 것이다(여기서, -OR11, R3 = R14, X 및 M3은 화학식 II 및 화학식 IV에서 동일한 의미를 갖는다).
본 발명의 추가의 바람직한 양태는 (a) R11이 C1-C12 알킬이고 M3이 팔라듐 또는 구리이며, z가 1인 화학식 II의 화합물 60 내지 95몰%, 바람직하게는 80 내지 95몰%,
(b) R3을 2개(즉, z=2) 포함하는 화학식 II의 화합물 5 내지 20몰%, 바람직하게는 5 내지 10몰%, 및
(c) R14가 -CHO, -CH2OH, -COOH, -CH2OC(O)-C1-C4알킬 또는 아세탈이고, z가 1 또는 2인 화학식 IV의 화합물 0 내지 25몰%, 바람직하게는 0 내지 10몰%(몰%를 합한 총량은 100 %이다)를 포함하는 혼합물에 관한 것이다(여기서, -OR11, R3 = R14, X 및 M3은 화학식 II 및 화학식 IV에서 동일한 의미를 갖는다).
본 발명의 추가의 바람직한 양태는 (a) R11이 C1-C12 알킬이고 M3이 팔라듐 또는 구리이며, z가 1인 화학식 II의 화합물 60 내지 95몰%, 바람직하게는 80 내지 95몰%,
(b) R3을 2개(즉, z=2) 포함하는 화학식 II의 화합물 5 내지 20몰%, 바람직하게는 5 내지 10몰%, 및
(c) R14가 -CHO, -CH2OH, -COOH, -CH2OC(O)-C1-C4알킬 또는 아세탈이고, z가 1 또는 2인 화학식 IV의 화합물 0 내지 25몰%, 바람직하게는 0 내지 10몰%(몰%를 합한 총량은 100 %이다)를 포함하는 혼합물에 관한 것이다(여기서, -OR11, R3 = R14, X 및 M3은 화학식 II 및 화학식 IV에서 동일한 의미를 갖는다).
본 발명의 또 다른 바람직한 양태는 하나 이상의 화학식 III의 화합물, 바람직하게는 라디칼 -E-[CpFeCp]를 1개(즉, z=1) 포함하는 하나의 화학식 III의 화합물, 라디칼 -E-[CpFeCp]를 2개(즉, z=2) 포함하는 하나의 화학식 III의 화합물 및 하나의 화학식 IV의 화합물로 이루어진 혼합물에 관한 것이다.
따라서, 본 발명의 특히 바람직한 양태는 또한 (a) 라디칼 -E-[CpFeCp]를 1개(즉, z=1) 포함하는 화학식 III의 화합물 60 내지 95 몰%, 바람직하게는 80 내지 95 몰%,
(b) 라디칼 -E-[CpFeCp]를 2개(즉, z=2) 포함하는 화학식 III의 화합물 5 내지 20 몰%, 바람직하게는 5 내지 10몰% 및
(c) 화학식 IV의 화합물 1 내지 25몰%, 바람직하게는 1 내지 10몰%를 포함하는 혼합물에 관한 것이다(여기서, -OR11은 화학식 IV의 화합물에서 -OCH(CHMe2)2이며, X는 Br이며, M3은 화학식 III 및 화학식 IV에서 동일한 의미이며, 몰%를 합한 총량은 100%이다).
본 발명의 화합물은 통상적으로, 예를 들면, 문헌(참조: J. Chem. Soc., Chem. Commun.(1995) 1715-1716)에 기재된 방법과 유사하게, 화학식 V의 프탈로시아닌을 메탈로센 유도체로 에스테르화시킴으로써 수득되는데, 이때 사용되는 메탈로센 유도체는 하이드록시-, 카복시- 및 산염화물-함유 메탈로센, 바람직하게는 메탈로센카보닐 클로라이드(CpM2Cp'-COCl), 메탈로센-카복실산(CpM2Cp'-COOH)(여기서, Cp는 이고, Cp'는 이며, R6 및 R7은 상기한 바와 같다) 및 메탈로센 알코올로 이루어진 그룹으로부터 선택되며, 상기 에스테르화 반응은 하이드록시-함유 라디칼을 포함하는 화학식 V의 프탈로시아닌(또는 메탈로센)을 카복시- 또는 산염화물-함유 라디칼을 포함하는 상응하는 메탈로센(또는 프탈로시아닌)과 반응시킴으로써 그 자체가 공지된 방법으로 수행된다.
삭제
상기 화학식 V에서,
R15는 하이드록시-, 카복시- 또는 산염화물-함유 라디칼, 바람직하게는 -CH2OH, -CH(Me)OH, -COOH 또는 -COCl이다.
상술한 기타 가능한 R3 라디칼은 바람직하게는 유사한 방법에 의해 수득가능하다.
화학식 V의 출발 화합물이 -OH-수반 치환체인 경우, 이들은 일반적으로 상응하는 포르밀 화합물, 바람직하게는 상응하는 알데히드로부터, 예를 들면, WO 제98/14520호에 기재된 방법에 의해 환원시킴으로써 수득가능하다. 알데히드 환원은 바람직하게는 수소화붕소나트륨과 같은 금속 수소화물 착물을 사용하여 수행된다. 특히 바람직하게는 환원은 제올라이트, 여과 보조제, 실리케이트, 산화알루미늄(알록스)과 같은 불활성 지지 물질에 기초한 금속 수소화물 착물을 사용하여 수행되며, 매우 특히 바람직하게는 알록스 상의 수소화붕소나트륨을 사용하여 수행된다. 카복실 그룹은 상응하는 포르밀 화합물 및, 경우에 따라, 상응하는 산염화물이 수득될 수 있는 포르밀 화합물을 자체로 공지된 방법으로 산화시킴으로써 수득할 수 있다.
또한, 포르밀 화합물은 예를 들면, WO 98/14520에 기재된 방법에 따라, 특히, EP-B 373 643에 공지된 화학식 VI의 프탈로시아닌을 포스포록시 클로라이드/디메틸포름아미드 또는 포스포록시 클로라이드/N-메틸포름아닐라이드와 반응시킴으로써 수득된다.
상응하는 화학식 I 내지 V의 할로겐화 화합물(x ≠0)은 예를 들면, 상응하는 포르밀 화합물을 상응하는 화학식 V의 알코올 화합물로 환원시키기 전에 할로겐화시킴으로써 수득된다.
할로겐화는 EP-A 513,370 또는 EP-A 519,419에 기재된 것과 같은 통상적인 방법에 의해, 예를 들면, 경우에 따라, 가열하면서, 상응하게 치환된 화학식 V 또는 VI의 프탈로시아닌인 화합물을 포화 탄화수소, 에테르 또는 할로겐화 탄화수소와 같은 유기 용매내에서 또는 EP-A 703,281에 기재된 방법과 같이 물 및 본질적으로 물과 불혼화성인 할로겐화 방향족 용매로 이루어진 2상계내에서 브롬을 충전시킴으로써 수행될 수 있다.
사용된 메탈로센카보닐 화합물은 바람직하게는 페로센카보닐 클로라이드 및
메탈로센카보닐 화합물은 통상적으로 시판되거나 또는 문헌(참조: Org. Synthesis 56(1997) 28-31)에 기재된 것과 같은 공지된 지침에 따라 수득가능하다.
메탈로센카보닐 화합물 대 화학식 V의 화합물의 몰비는 목적하는 에스테르화도에 따라 좌우된다. 바람직하게는 5:1 내지 0.5:1, 특히 바람직하게는 2:1 내지 1:1의 범위로 선택된다.
반응은 통상적으로 용매를 사용하여 수행된다. 사용되는 용매로는 예를 들면, 피리딘, 클로로벤젠, 톨루엔, 테트라하이드로푸란, 클로로포름, 염화메틸렌 또는 에틸 아세테이트, 또는 이들의 혼합물과 같은 비양성자성 유기 용매가 있다.
피리딘과 같은 비-친핵성 염기, 또는 트리에틸아민과 같은 3급 알킬아민을 첨가하는 것이 바람직한 경우, 특히 에스테르화가 피리딘 또는 3급 아민과 같은 산염화물을 사용하여 수행되는 경우, 예를 들면, 문헌(참조: "Techniques of Chemistry", Vol. II, organic solvents, phys. properties and methods of purification, J.A.Riddick, W.B.Bunger, Th.K.Sakano, J.Wiley-Interscience Publication, 1986)에 예시된 것과 같은 염기성 용매를 사용하는 것이 바람직하다. 염기 대 산염화물의 비는 통상적으로 1:1 내지 10:1의 범위내에서 선택된다.
용매 대 화학식 V의 화합물의 비는 통상적으로 2:1 내지 30:1, 바람직하게는 5:1 내지 20:1의 범위내에서 선택된다.
반응 온도는 통상적으로 대기압하에서 0 ℃ 내지 환류 온도, 바람직하게는 실온 내지 100 ℃의 범위내에서 선택된다.
지금까지의 연구 결과에 따르면, 반응 압력은 본 발명의 성공에 중요하지 않다. 통상적으로 70 kPa 내지 5 MPa, 바람직하게는 90 내지 120 kPa의 범위내에서 선택된다.
반응은 바람직하게는 질소와 같은 불활성 기체, 또는 네온 또는 아르곤과 같은 영족 기체하에서 수행된다.
본 발명의 화합물은 또한 화학식 VI의 프탈로시아닌으로부터 WO 제98/14520호에 기재된 방법에 따라 수득할 수 있는 포르밀 화합물을 예를 들면, 수소화붕소나트륨을 사용하여 상응하는 알코올 화합물로 환원시킨 다음, 이들을 메탈로세닐 라디칼로 에스테르화시키고, 계속해서 할로겐화시킴으로써 수득할 수 있다.
또한, 우선 포르밀 화합물을 할로겐화시킨 다음, 포르밀 라디칼을 카복실산으로 산화시키고, 계속해서 이로부터 산염화물을 제조한 다음, 메탈로세닐 라디칼을 사용하여 에스테르화를 수행하는 것도 가능하다.
마지막으로, 포르밀 화합물을 상응하는 카복실산-함유 프탈로시아닌으로 산화시키고, 카복실산 단위를 카복실산 클로라이드 단위로 반응시킨 다음, 메탈로세닐 라디칼과 에스테르화시키고, 할로겐화시킬 수 있다.
또한, 본 발명은 기판, 기록층, 반사층 또는 부분 반사층 및, 경우에 따라, 보호층을 포함하는 광학 기록 매체에 관한 것이며, 기록층은 본 발명의 프탈로시아닌을 함유한다.
경우에 따라, 본 발명의 광학 기록 매체는 또한 하나 이상의 기록층 및/또는 하나 이상의 반사층 또는 부분 반사(반투명)층을 포함할 수 있다.
도포된 층의 지지체로서 작용하는 기판은 통상적으로 반투명(즉, 투명도(T)가 10 % 이상)하거나, 바람직하게는 투명하다(T가 90 % 이상). 지지체의 두께는 0.01 내지 10 ㎜, 바람직하게는 0.1 내지 5 ㎜이다.
기록층은 바람직하게는 투명한 기판과 반사층 사이에 배열된다. 기록층의 두께는 통상적으로 10 내지 1000 nm, 바람직하게는 50 내지 500 nm, 특히 바람직하게는 약 100 nm, 예를 들면, 80 내지 150 nm이다. 기록층의 흡광도는 최대 흡광도에서 통상적으로 0.1 내지 2.0, 바람직하게는 0.5 내지 2.0이다. 매우 특히 바람직하게는, 층 두께는 판독 파장에서의 기록되지 않은 상태 또는 기록된 상태에서의 각각의 굴절률에 좌우되며, 기록되지 않은 상태에서는 보강 간섭이 일어나고, 기록된 상태에서는 상쇄 간섭이 일어나거나, 또는 그 역으로 일어나도록 공지된 방식으로 선택된다.
통상적으로 두께가 10 내지 150 nm일 수 있는 반사층은, 바람직하게는 낮은 투명도(T가 10% 이하)와 더불어 높은 반사율(R이 70% 이상)을 갖는다.
층 구조에 가장 많이 좌우되는 층, 예를 들면 반사층 또는 기록층에는 바람직하게는 일반적으로 0.1 내지 1000 ㎛, 바람직하게는 0.1 내지 50 ㎛, 특히 바람직하게는 0.5 내지 15 ㎛ 범위의 두께를 가질 수 있는 보호층이 추가로 제공될 수 있다. 이러한 보호층은 경우에 따라, 바람직하게는 0.1 내지 5 ㎜ 두께를 가지며, 지지 기판과 동일한 물질로 이루어진, 당해 보호층에 도포된 제2 기판층의 접착 증진제로서의 역할을 할 수 있다.
전체 기록 매체의 반사율은 사용된 레이저의 기록 파장에서 바람직하게는 60 % 이상, 특히 바람직하게는 65 % 이상이다.
적합한 기판의 예로는 유리, 미네랄, 세라믹 및 열경화성물 또는 열가소성물이 있다. 바람직한 지지체로는 유리 및 단독- 또는 공중합체성 플라스틱이 있다. 적합한 플라스틱의 예로는 열가소성 폴리카보네이트, 폴리아미드, 폴리에스테르, 폴리아크릴레이트 및 폴리메타크릴레이트, 폴리우레탄, 폴리올레핀, 폴리비닐 클로라이드, 폴리비닐리덴 플루오라이드, 폴리이미드, 듀로플라스틱 폴리에스테르 및 에폭시 수지가 있다. 기판은 순수한 형태일 수 있거나 통상적인 첨가제, 예를 들면, 특히 JP 제04/167,239호에 기록층의 광보호용으로서 제시된 자외선 흡수제 또는 염료를 포함할 수 있다. 후자의 경우, 기록층의 염료에 대하여 10 ㎚ 이상, 바람직하게는 20 ㎚ 이상 단파장 쪽으로 이동하는(hypsochromically shifted) 최대 흡광도를 갖도록 지지 기판에 염료를 첨가하는 것이 편리할 수 있다.
기판은 바람직하게는 600 내지 830 ㎚ 범위 중의 적어도 일부에서 투명하므로, 기록 또는 판독 파장의 입사광을 90% 이상 투과시킬 수 있다. 피복 관점에서, 기판은 바람직하게는 일반적으로 홈 깊이가 50 내지 500 ㎚이며, 일반적으로 홈 폭이 0.2 내지 0.8 ㎛이며, 일반적으로 2개의 인접한 회전 사이의 방사상 거리가 0.4 내지 1.6 ㎛이며, 특히 바람직하게는 홈 깊이가 100 내지 300 ㎚이며, 홈 폭이 0.3 내지 0.6 ㎛인 나선형 유도 홈을 갖는다.
기판 대신에, 기록층 자체가, 특히 EP-A 제392 531호에 기재된 바와 같이 유도 홈을 가질 수 있다.
기록층은 바람직하게는 단독으로 또는 필수적으로 본 발명의 하나 이상의 프탈로시아닌으로 이루어진다. 그러나, 추가로 안정성을 향상시키기 위해서, 경우에 따라, 예를 들면 광 안정화제로서 JP 제04/025 493호에 기재된 바와 같은 니켈 디티올레이트와 같은 공지된 안정화제를 통상적인 양으로 첨가하는 것이 가능할 수 있다. 비록 이와 같은 염료의 양이 편리하게 기록층에 대하여 50 중량% 이하, 바람직하게는 10 중량% 이하이더라도, 추가의 염료를 임의로 첨가할 수 있다. 신규한 기록 매체의 이점은 신규한 프탈로시아닌에 기초하므로, 임의로 첨가된 염료가 신규한 프탈로시아닌에 비하여 단파장 쪽으로 이동된 최대 흡광도를 갖도록 하고, 첨가된 염료의 양을 작게 유지시켜, 600 내지 830 ㎚ 영역에서 기록층 전체 흡광도내의 추가된 염료 비율이 20% 이하, 바람직하게는 10% 이하이도록 하는 것이 유용하다. 그러나, 어떠한 추가 염료도 첨가하지 않는 것이 특히 바람직하다.
반사층에 특히 적합한 반사 물질로는 기록 및 재생용으로 사용된 레이저 방사선의 우수한 반사체인 금속, 예를 들면, 화학 원소 주기율표의 제3, 제4 및 제5 주족 및 아족 금속이 있다. 특히 적합한 금속으로는 Al, In, Sn, Pb, Sb, Bi, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Hg, Sc, Y, La, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd, Os, Ir, Pt 및 란탄족 금속 Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb 및 Lu, 및 또한 이들의 혼합물 및 합금이 있다. 높은 반사율 및 제조의 용이성때문에, 알루미늄, 은, 구리, 금 또는 이들의 합금으로 이루어진 반사층이 특히 바람직하다.
직접 또는 접착층에 의하여 박막 형태로 지지층 또는 최상층에 도포될 수 있는, 보호층용으로 적합한 물질은 대개 플라스틱이다. 예를 들면, 기록과 같은 추가로 개질될 수 있는 우수한 표면 특성을 갖는 기계적 및 열적으로 안정한 플라스틱을 선택하는 것이 현명하다. 플라스틱은 열경화성물 또는 열가소성물일 수 있다. 제조하기가 특히 용이하고 경제적인 방사선-경화된(예를 들면, 자외선 방사선에 의해) 보호층이 바람직하다. 수 많은 방사선-경화가능한 물질이 공지되어 있다. 방사선-경화가능한 단량체 및 올리고머의 예로는 디올, 트리올 및 테트롤의 아크릴레이트 및 메타크릴레이트, 아미노 그룹에 대한 둘 이상의 오르토 위치에 C1-C4 알킬 그룹을 갖는 방향족 디아민 및 방향족 테트라카복실산의 폴리이미드, 및 예를 들면, 디메틸말레인이미딜 그룹과 같은 디알킬 그룹을 포함하는 올리고머가 있다.
또한, 신규한 기록 매체는 예를 들면, 간섭층과 같은 추가의 층을 특징으로 한다. 또한, 다수(예: 2개)의 기록층을 갖는 기록 매체를 제조할 수 있다. 이와 같은 물질의 제조 및 용도는 당해 기술분야의 숙련가에게 공지되어 있다. 이와 같은 층이 존재하는 경우, 간섭층은 기록층과 반사층 사이 및/또는 기록층과 기판 사이에 배열되고, 예를 들면, EP-A 제353 393호에 기재된 바와 같이, TiO2, Si3N4, ZnS 또는 실리콘 수지로 이루어진 유전체로 이루어지는 것이 바람직하다.
신규한 기록 매체는 자체로 공지된 방법에 의해 제조될 수 있으며, 사용된 물질과 이들의 기능에 따라 다양한 피복 방법을 사용할 수 있다.
적합한 피복 방법의 예로는 침지, 유동 피복, 살포, 나이프 피복 및 스핀-피복, 및 또한 고-진공 증착법이 있다. 유동 피복법을 사용하는 경우, 예를 들면, 유기 용매 중의 용액이 일반적으로 사용된다. 용매를 사용하는 경우, 사용된 지지체가 이러한 용매에 반응을 나타내지 않도록 용매를 주의해서 선택해야 한다. 심지어 순수한 화합물 또는 단지 몇몇 성분의 혼합물인 경우에도, 본 발명의 신규한 염료는 보다 덜 극성인 용매에도 용이하게 용해되므로, 아세톤과 같은 침식성 용매 및 복잡한 이성체성 혼합물 모두의 사용이 선행될 수 있도록 한다는 점이 신규한 염료의 특별한 이점이다. 적합한 피복 방법 및 용매가 특히 EP-A 제401 791호에 기재되어 있다.
기록층은 바람직하게는 염료 용액을 스핀-피복시킴으로써 도포되며, 특히 2-메톡시에탄올, 사이클로펜탄올, 이소프로판올, 이소부탄올, 디아세톤 알코올 또는 n-부탄올, 바람직하게는 사이클로펜탄올, 디아세톤 알코올, 또는 바람직하게는 2,2,2-트리플루오로에탄올 또는 2,2,3,3-테트라플루오로-1-프로판올과 같은 불소화 알코올과 같은 알코올 및 사이클로헥산, 메틸사이클로헥산 및 디이소부틸 케톤, 또는 이들의 혼합물이 적합한 용매로 밝혀졌다.
금속 반사층은 바람직하게는 진공하에서 스퍼터링 또는 증기 침착시킴으로써 도포된다. 금속 반사층 도포용 지지체에 대한 높은 접착도 때문에 스퍼터링 기술이 특히 바람직하다. 본 기술은 선행 기술 문헌(예: EP-A 제712 904호) 뿐만 아니라 교재(참조: J.L.Vossen and W. Kern, "Thin Film Processes", Academic Press, 1978)에 상세히 기재되어 있어서, 어떠한 추가 설명도 본원에 기재될 필요는 없다.
신규한 기록 매체의 구조는 대개 판독 방법에 좌우되며; 공지된 기능상 원리는 투과율 또는 바람직하게는 반사율 변화의 측정이다.
기록 물질이 반사율 변화에 따라 제조되는 경우, 사용될 수 있는 구조물의 예로는 투명한 지지체/기록층(하나 이상의 층)/반사층 및 유용한 경우, 보호층(반드시 투명할 필요는 없음), 또는 지지체(반드시 투명할 필요는 없음)/반사층/기록층 및 유용한 경우, 투명한 보호층이 있다. 전자의 경우, 빛은 지지체 면으로부터 조사되나, 후자의 경우, 방사선은 기록층 또는, 적합한 경우, 보호층 면으로부터 입사된다. 두 경우 모두, 광 감지기는 광원과 동일한 면상에 위치한다. 본 발명에 따라 사용된 기록 물질의 투명한 지지체/기록층(하나 이상의 층)/반사층 구조가 일반적으로 바람직하다.
기록 물질이 광 투과율 변화에 따라 제조되는 경우, 적합한 구조물의 예로는 투명한 지지체/기록층(하나 이상의 층) 및, 유용한 경우, 투명한 보호층의 구조가 있다. 기록용 및 판독용 빛을 지지체 면 또는 기록층 면 또는, 적합한 경우, 보호층 면으로부터 선택적으로 조사할 수 있으며, 이런 경우에 광 감지기는 언제나 반대편에 위치한다.
따라서, 본 발명의 또 다른 양태는 신규한 메탈로세닐-프탈로시아닌 또는 이들의 혼합물 또는 본 발명에 따라 제조된 메탈로세닐-프탈로시아닌을 포함하는 광학 기록 매체에 관한 것이다.
본 발명의 바람직한 양태는 투명한 기판, 신규하거나 본 발명에 따라 제조된 메탈로세닐-프탈로시아닌, 또는 이들의 혼합물을 포함하는, 기판 상의 기록층, 기록층 상의 반사층 및, 경우에 따라, 최종 보호층으로 이루어진 광학 기록 매체에 관한 것이다.
정보의 기록(새김, 쓰기) 및 판독은 바람직하게는 레이저 방사선을 사용하여 수행된다. 적합한 레이저의 예로는 시판되는 반도체 다이오드 레이저, 통상적으로 파장이 635, 650, 670, 680, 780 또는 830 nm, 또는 390 내지 430 nm인 GaAsAl, InGaAlP, GaAs 또는 GaN 레이저 다이오드, 또는 예를 들면, 파장이 602, 612, 633, 647, 또는 442 내지 457 nm인 He/Ne, Kr, HeCd 또는 Ar 레이저와 같은 가스/이온 레이저가 있다.
기록은 바람직하게는 펄스 지속-변조되며 기록층 상에 촛점이 맞추어진 레이저 방사선을 사용하여 다양한 길이를 갖는 피트를 새김으로써 수행된다. 기록 속도는 촛점 구조 및 레이저 성능에 따라 선택되며, 예를 들면, 0.01 내지 100 m/초, 바람직하게는 1 내지 10 m/초의 범위일 수 있다.
정보의 판독은 바람직하게는 낮은 용량의 레이저 방사선 및 광감지기를 사용하여 반사율 또는 투과율의 공간적 분해 측정에 의해 수행되며, 기록용 파장을 갖는 레이저 방사선을 사용할 수 있으므로, 어떠한 제2 레이저 장치도 사용할 필요가 없다는 점이 특히 유리한 점이다. 따라서, 본 발명의 바람직한 양태에서, 정보는 동일한 파장에서 기록되고 판독된다. 판독 중의 레이저의 용량은 통상적으로 기록용으로 사용된 레이저 방사선과 비교하여, 예를 들면, 10 내지 50배 감소된다. 본 발명에 따라 사용된 기록 물질내에서, 정보는 한번 또는 수회 판독될 수 있다. 적합한 광감지기에는 바람직하게는 CCD(charge-coupled devices; 전하 결합 소자) 뿐만 아니라 PIN 및 AV 광다이오드가 포함된다. 본 발명의 신규한 프탈로시아닌은 정보를 높은 신뢰성 및 내구성을 갖도록 기록할 수 있게 하며, 이러한 기록은 탁월한 기계적 및 열적 안정성, 높은 광안정성 및 광학 피트의 예리한 모서리 영역을 갖는 것을 특징으로 한다. 심지어 고속(4 배속 이상) 및 동시에 작은 지터에서도 시그널의 완벽한 기록 및 판독을 가능케 하는 높은 광학적 해상도 뿐만 아니라 높은 시그널/노이즈 비가 특히 유리한 점이다.
본 발명의 신규한 매체는 특히, WORM 형의 광학적 정보 매체이다. 예를 들면, 재생가능한 CD(compact disc)로서, 컴퓨터 및 비디오 장치용 기록 물질로서, 식별 및 보안 카드, 또는 홀로그램과 같은 회절 광학 소자 제조용으로 사용될 수 있다.
따라서, 본 발명은 또한 정보의 광학 기록, 저장 및 재생용, 회절 광학 소자 제조용 또는 홀로그램 기록용으로서의 신규한 기록 매체의 용도에 관한 것이다. 기록 및 재생은 바람직하게는 400 내지 500 nm, 특히 바람직하게는 600 내지 830 nm의 파장 범위내에서 발생된다.
신규한 염료의 사용으로 인하여, 본 발명의 신규한 기록 매체는 유리하게 균일하고, 무정형이며, 저-산란성인 기록층을 갖고 이의 흡광 에지가 고체 상에서 급경사진다. 기타 이점으로는 높은 레이저 방사선하에서의 높은 민감성과 더불어 일광 및 낮은 레이저 방사선하에서의 높은 광 안정성, 균일한 기록 폭, 우수한 열 및 저장 안정성 및 특히, 높은 광학 해상도와 매우 낮은 지터가 있다.
실시예 1
자기 교반기, 온도계, 환류 응축기, 질소 유입구 및 적하 깔대기가 장착된 250㎖ 들이 환저 3구 플라스크에 모노포르밀테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐-프탈로시아닌(WO-A 제98/14520호의 실시예 A1에 따라 제조됨) 5g(4.53 mmol), 클로로벤젠 100㎖ 및 물 50㎖를 충전하고, 이 혼합물을 교반하면서 불활성 기체 분위기하에 40℃로 가열한다. 이어서, 브롬 2.17g(13.59 mmol)을 15분에 걸쳐서 적가하고, 반응 혼합물을 60℃에서 1 시간 동안 교반한다. 이어서, 반응 혼합물을 실온으로 냉각시키고, 염화메틸렌 50㎖로 희석시킨다. 상을 분리시킨 후, 유기상을 물 80㎖로 1회, 10% NaHCO3 용액 80㎖로 1회, 4% NaHSO3 용액 80㎖로 1회 세정한다. 수득한 녹색의 용액에 실리카 겔 50g을 충전시키고, 15분 동안 교반한다. 여과한 후, 여액을 톨루엔으로 세정하고, 증발시켜 농축시킨다. 잔류물을 톨루엔 25㎖에 용해시키고, 교반하면서 메탄올 500㎖에 적가한다. 이렇게 수득한 침전물을 여과시켜 수집하고, 메탄올 100㎖로 2회 세정하고, 60℃/160 mbar에서 일야 건조시키면, 녹색 분말 형태의 브롬화 모노포르밀테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐-프탈로시아닌 5.30g(이론치의 87.3%)이 생성된다.
원소 분석: 17.18% Br;
UV(NMP): λ최대= 718 nm, ε=175670 ℓ/몰㎝;
IR: 1680 ㎝-1에서의 강력한 C=O 밴드.
실시예 2
자기 교반기, 온도계 및 질소 유입구가 장착된 500㎖ 들이 환저 3구 플라스크에 실시예 1의 브롬화 모노프르밀테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐-프탈로시아닌 5.30g(3.95 mmol)을 테트라하이드로푸란/에탄올=1:1로 이루어진 용액 250 ㎖에 용해시키고, 교반시키면서 아르곤 하에서 5℃로 냉각시킨다. 이어서, 수소화붕소나트륨 0.52g(13.84 mmol)을 첨가하고, 반응 혼합물을 실온에서 2 시간 동안 교반시킨다. 이어서, 반응 혼합물을 물 750㎖에 교반시키면서 적가하고, 수득한 침전물을 여과시켜 수집하고, 물 100㎖로 3회 세정하고, 50℃/160 mbar에서 일야 건조시키면, 녹색 분말 형태의 브롬화 모노(하이드록시메틸)테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐-프탈로시아닌 4.80g(이론치의 90.5 %)이 생성된다.
원소 분석: 17.21% Br;
UV(NMP): λ최대= 722 nm, ε= 161320 ℓ/몰㎝;
IR: C=O 밴드의 시그날 없음;
TGA: 분해 곡선의 변곡점: 320℃.
실시예 3
자기 교반기, 온도계, 환류 응축기, 질소 유입구 및 적하 깔대기가 장착된 50 ㎖ 들이 환저 3구 플라스크에 모노포르밀테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)구리-프탈로시아닌(WO-A 제98/14520호의 실시예 A2에 따라 제조됨) 1.5g(1.41 mmol), 클로로벤젠 20㎖ 및 물 10㎖를 충전하고, 이 혼합물을 교반하면서 아르곤하에 40℃로 가열한다. 이어서, 브롬 0.225g(1.41 mmol)을 5분에 걸쳐서 적가하고, 반응 혼합물을 60℃에서 1 시간 동안 교반한다. 이어서, 반응 혼합물을 실온으로 냉각시키고, 톨루엔 50㎖로 희석시킨다. 상을 분리한 후, 유기상을 물 20㎖로 1회, 10% NaHCO3 용액 20㎖로 1회, 4% NaHSO3 용액 20㎖로 1회, 포화 NaCl 용액 20㎖로 1회 세정한다. MgSO4로 건조시키고, 여과한 후, 여액을 증발시켜 농축시킨다. 잔류물을 톨루엔 25㎖에 용해시키고, 메탄올 200㎖에 교반하면서 적가한다. 수득한 침전물을 여과시켜 수집하고, 메탄올 50㎖로 2회 세정하고, 60℃/160 mbar에서 일야 건조시키면, 녹색 분말 형태의 브롬화 모노포르밀테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)구리-프탈로시아닌 1.12g(이론치의 69.7%)이 생성된다.
원소 분석: 7.07% Br;
UV(NMP): λ최대= 715 nm, ε=172900 ℓ/몰㎝;
IR: 1680 ㎝-1에서의 강력한 C=O 밴드.
실시예 4
자기 교반기, 온도계 및 질소 유입구가 장착된 100㎖ 들이 환저 3구 플라스크내에서, 실시예 3의 브롬화 모노포르밀테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)구리-프탈로시아닌 1.07g(0.95 mmol)을 테트라하이드로푸란/에탄올=1:1로 이루어진 혼합물 50㎖에 용해시키고, 교반시키면서 아르곤 하에서 5℃로 냉각시킨다. 이어서, 수소화붕소나트륨 0.126g(3.33 mmol)을 첨가하고, 반응 혼합물을 실온에서 1.5 시간 동안 교반시킨다. 이어서, 반응 혼합물을 물 200㎖에 교반시키면서 적가하고, 수득된 침전물을 여과시켜 수집하고, 물 50㎖로 3회 세정한다. 잔류물을 염화메틸렌에 용해시키고, 이어서 실리카 겔 10g을 첨가하고, 용매를 회전 증발기를 사용하여 제거한다. 실리카 겔 혼합물을 크로마토그래피(컬럼 직경 3㎝, 길이 15㎝; 헥산/에틸 아세테이트 = 9:1; 플래쉬 크로마토그래피)로 정제시키면, 녹색 분말 형태의 브롬화 모노(하이드록시메틸)테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)구리-프탈로시아닌 0.81g(이론치의 75.0%)이 생성된다.
원소 분석: 7.07% Br;
UV(NMP): λ최대= 717 nm, ε=197390 ℓ/몰㎝;
IR: C=O 밴드의 시그날 없음;
TGA: 분해 곡선의 변곡점: 330℃.
실시예 5
자기 교반기와 질소 유입구가 장착된 25㎖ 들이 환저 플라스크에, 피리딘 10㎖ 중의 모노(하이드록시메틸)테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)구리-프탈로시아닌(WO-A 제98/14520호의 실시예 A5에 따라 제조됨) 0.40g(0.376 mmol)을 충전시킨 다음, 페로센카보닐 클로라이드[문헌(참조: Macromolecules 26(1993) 1936-1940)에 따라 제조됨] 0.10g(0.414 mmol)을 첨가하고, 녹색의 용액을 불활성 기체 분위기하의 실온에서 24 시간 동안 교반한다. 이어서, 용매를 톨루엔을 사용하여 공비 혼합물로서 증류시킨다. 조생성물을 플래쉬 크로마토그래피(컬럼 직경= 2 ㎝, 헥산/에틸 아세테이트 = 5:1)로 정제시키면, (a) 비-에스테르화된, (b) 페로센카복실산으로 에스테르화된(이론적으로 100% 에스테르화된 생성물에 대해 에스테르화 양이 55 중량%인), 녹색 분말 형태의 모노(하이드록시메틸)테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)구리-프탈로시아닌(0.10g(이론치의 20.9%), Rf = 0.71)[물리적 특성: λ최대(NMP)= 716nm, ε=238590 ℓ/몰㎝(순수한, 100% 에스테르까지 외삽됨), 원소 분석: 철 함량=2.42%, TGA: 분해 곡선의 변곡점: 310℃], 및 (c) 페로센카복실산으로 에스테르화된(이론적으로 100% 에스테르화된 생성물에 대해 에스테르화 양이 26 중량%인), 녹색 분말 형태의 모노(하이드록시메틸)테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)구리-프탈로시아닌(0.30g(이론치의 62.6%), Rf = 0.28)[물리적 특성: λ최대(NMP)= 717nm, ε=234.060 ℓ/몰㎝(순수한, 100% 에스테르까지 외삽됨), 원소 분석: 철 함량=1.13%, TGA: 분해 곡선의 변곡점: 320℃]을 포함하는 생성물 혼합물이 생성된다.
실시예 6
자석 교반기와 질소 유입구가 장착된 25㎖ 들이 환저 플라스크에, 피리딘 10㎖ 중의 모노(하이드록시메틸)테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐-프탈로시아닌(WO-A 제98/14520호의 실시예 A4에 따라 제조됨) 0.50g(0.45 mmol)을 충전시킨 다음, 페로센카보닐 클로라이드 0.123g(0.49 mmol)을 첨가하고, 녹색의 용액을 불활성 기체 분위기하의 실온에서 14 시간 동안 교반한 다음, 3일 동안 실온에서 정치시킨다. 이어서, 용매를 톨루엔을 사용하여 공비 혼합물로서 증류시킨다. 잔류물을 톨루엔 50㎖에 용해시키고, 먼저 1 N HCl 20㎖로 세정하고, 이어서 10% NaHCO3 용액 20㎖로 세정하고, 이어서 포화 NaCl 용액 20㎖로 세정하고, 마지막으로 MgSO4로 건조시키고, 여과한다. 여액을 증발시켜 농축시킨 후, 조생성물을 플래쉬 크로마토그래피(컬럼 직경= 3 ㎝, 헥산/에틸 아세테이트 = 9:1)로 정제시키면, 페로센카복실산으로 에스테르화된, 44중량% 모노(하이드록시메틸)테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐-프탈로시아닌 0.269g(이론치의 45.0%)이 녹색 분말 형태로 생성된다: λ최대(NMP)= 705 nm, ε=241100 ℓ/몰㎝(순수한, 100% 에스테르까지 외삽됨), 원소 분석: 철 함량=1.88%, TGA: 분해 곡선의 변곡점: 330℃.
실시예 7
자기 교반기와 질소 유입구가 장착된 25㎖ 들이 환저 플라스크에, 피리딘 10㎖ 중의 브롬 함량이 7.07%(실시예 4)인 브롬화 모노(하이드록시메틸)테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)구리-프탈로시아닌 0.703g(0.627 mmol)을 충전시킨 다음, 페로센카보닐 클로라이드 0.174g(0.70 mmol)을 첨가하고, 녹색의 용액을 불활성 기체 분위기하의 실온에서 24 시간 동안 교반한다. 이어서, 용매를 톨루엔을 사용하여 공비 혼합물로서 증류시키고, 잔류물을 염화메틸렌 50㎖에 용해시킨 다음, 차례로 1 N HCl 15㎖, 포화 NaHCO3 용액 20㎖ 및 포화 NaCl 용액 20㎖로 2회 각각 세정하고, MgSO4로 건조시키고, 여과시킨다. 여액을 증발시켜 농축시킨 후, 생성되는 조생성물을 플래쉬 크로마토그래피(컬럼 직경= 3 ㎝, 헥산/에틸 아세테이트 = 9:1)로 정제시킨다. 생성물을 톨루엔 5㎖에 용해시키고, 이어서, 교반시키면서 메탄올 100㎖에 적가한다. 생성된 침전물을 여과시켜 수집하고, 메탄올 20㎖로 2회 세정하고, 60℃/160 mbar에서 일야 건조시키면, 페로센카복실산으로 에스테르화된, 81중량% 브롬화 모노(하이드록시메틸)테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)구리-프탈로시아닌 0.467 g(이론치의 56.9 %)이 녹색 분말 형태로 생성된다: λ최대(NMP)= 719 nm, ε=190300 ℓ/몰㎝(순수한 100% 에스테르까지 외삽됨).
삭제
원소 분석: 브롬 함량=6.74%, 철 함량=3.36%;
IR: 1700 ㎝-1에서의 C=O 밴드;
TGA: 분해 곡선의 변곡점: 260℃.
실시예 8
자기 교반기와 질소 유입구가 장착된 250 ㎖ 들이 환저 플라스크에, 피리딘 100 ㎖ 중의 브롬 함량이 17.21%(실시예 2)인 브롬화 모노(하이드록시메틸)테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐-프탈로시아닌 4.68g(3.49 mmol)을 충전시킨 다음, 페로센카보닐 클로라이드 1.30g(5.23 mmol)을 첨가하고, 녹색의 용액을 불활성 기체 분위기하의 실온에서 24 시간 동안 교반한다. 이어서, 용매를 톨루엔을 사용하여 공비 혼합물로서 증류시키고, 잔류물을 염화메틸렌 250 ㎖에 용해시키고, 차례로 1 N HCl 50 ㎖, 10% NaHCO3 용액 50 ㎖ 및 물 100 ㎖로 각각 2회 세정하고, 이어서 MgSO4로 건조시키고, 여과시킨다. 여액을 증발시켜 농축시킨 후, 조생성물을 플래쉬 크로마토그래피(컬럼 직경= 4 ㎝, 헥산/에틸 아세테이트 = 8:1)로 정제시킨다. 정제된 생성물을 톨루엔 20 ㎖에 용해시키고, 교반시키면서 메탄올 300 ㎖에 적가한다. 생성된 침전물을 여과시켜 수집하고, 메탄올 각각 100 ㎖로 2회 세정하고, 60℃/160 mbar에서 일야 건조시키면, 페로센카복실산으로 에스테르화된, 77중량% 브롬화 모노(하이드록시메틸)테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐-프탈로시아닌 4.31g(이론치의 79.4%)이 녹색 분말 형태로 생성된다:
λ최대(NMP)= 722nm, ε=180 400 ℓ/몰㎝(순수한 100% 에스테르까지 외삽됨);
원소 분석: 브롬 함량=15.25%, 철 함량=2.78%;
TGA: 분해 곡선의 변곡점: 260℃.
실시예 9
테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐-프탈로시아닌(EP 제703 280호에 따라 제조됨) 215.3g(0.20 mol)을 KPG 교반기, 내부 온도계, 환류 응축기, 적하 깔대기 및 질소 유입구가 장착된 2.5ℓ들이 설폰화 플라스크에 계량 도입하고, 이어서 클로로벤젠 320㎖ 및 N-메틸포름아닐라이드 162.2g(1.20 mol)을 아르곤하에서 첨가한다. 이렇게 수득된 녹색 용액에, 포스포록시 클로라이드 184.0g(1.20 mol)을 실온에서 30분에 걸쳐서 적가하고, 반응 용액을 수욕내에서 냉각시킨다. 이어서, 본 혼합물을 실온에서 23시간 동안 교반한다. DC(헥산/에틸 아세테이트=4:1)에 따르면, 오직 미량의 추출물만이 존재한다. 물 1.08ℓ 중의 나트륨 아세테이트 538 g(6.56 mol)을 내부 온도를 73℃로 승온시키면서, 매우 빠르게 주입한다. 이어서, 혼합물을 30분 동안 교반한다. 2-상 혼합물을 분리 깔대기로 이송하고, 반응 플라스크를 클로로벤젠 300 ㎖로 세정한다. 무색의 수성 하층상을 분리하고, 유기상에 실리카 겔 200g을 충전하고 30분 동안 교반한다. 필터 보조 장치를 통해 여과시킨 후, 여액을 클로로벤젠 200 ㎖로 3회 세정한다. 여액을 증발시켜 600g의 용액으로 농축시키고, 교반하에 아세트니트릴 4 ℓ에 붓고 10분 동안 교반한다. 침전된 생성물을 여과시키고, 필터 케이크를 아세토니트릴 400 ㎖로 3회 세정하고, 60℃, 125 torr에서 주말동안 건조시키면, 하기와 같은 분석치를 갖는, 녹색 분말 형태의 포르밀화 테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐-프탈로시아닌 203.30g(이론치의 92.0%)이 생성된다:
DC(실리카 겔 60, 헥산/에틸 아세테이트=4:1): Rf=0.69, 0.56 및 0.33; HPLC: 0.1 % 미만의 추출물(%/면적), 93.4 % 모노알데히드(%/면적), 6.6 % 디알데히드(%/면적);
UV/VIS(NMP): λ최대=702 nm, ε=163606 ℓ/몰㎝.
실시예 10
테트라(α-1,2-디메틸프로폭시)팔라듐-프탈로시아닌(EP 제703 280호에 따라 제조됨) 38.5g(0.04 mol)을 KPG 교반기, 내부 온도계, 환류 응축기, 적하 깔대기 및 질소 유입구가 장착된 350 ㎖ 들이 설폰화 플라스크에 계량 도입하고, 이어서 클로로벤젠 60 ㎖ 및 N-메틸포름아닐라이드 32.5g(0.24 mol)을 아르곤하에서 첨가한다. 이렇게 수득된 녹색 용액에, 포스포록시 클로라이드 36.8g(0.24 mol)을 실온에서 35분에 걸쳐서 적가한다. 이어서, 본 혼합물을 실온에서 23 시간 동안, 50 ℃의 내부 온도에서 21 시간 동안 교반한다. DC(헥산/에틸 아세테이트=4:1)에 따르면, 오직 미량의 추출물이 존재한다. 반응 혼합물을 내부 온도가 65℃로 승온되면 물 190 ㎖ 중의 나트륨 아세테이트 96.3 g의 용액에 교반하에 붓는다. 이어서, 혼합물을 30 분 동안 교반한다. 이어서, 2-상 혼합물을 분리 깔대기로 이송하고, 반응 플라스크를 클로로벤젠 100㎖로 세정한다. 무색의 수성 하층상을 분리하고, 유기상에 실리카 겔 50g을 충전하고 30분 동안 교반한다. 여과시킨 후, 여액을 클로로벤젠 50 ㎖로 3회 세정한다. 그 다음, 여액을 증발시켜 120g의 용액으로 농축시키고, 교반하에 아세토니트릴 1.2 ℓ에 붓고 10 분 동안 교반한다. 침전된 생성물을 여과시키고, 필터 케이크를 아세토니트릴 100 ㎖로 3회 세정하고, 60 ℃, 125 torr에서 일야 건조시키면, 하기와 같은 분석치를 갖는 녹색 분말 형태의 포르밀화 테트라(α-1,2-디메틸프로폭시)팔라듐-프탈로시아닌 29.2g(이론치의 73.7%)이 생성된다:
UV/VIS(NMP): λ최대=698 nm, ε=168940 ℓ/몰㎝;
원소 분석: 수득치: 5.68 % H 63.76 % C 11.34 % N
이론치: 5.69 % H 64.20 % C 11.30 % N
IR: 1670 ㎝-1에서의 C=O 밴드.
실시예 11
클로로벤젠 2 ℓ 중의 포르밀화 테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐-프탈로시아닌 203.0g(0.175 mol)을 아르곤하에서 KPG 교반기, 내부 온도계, 적하 깔대기, 환류 응축기 및 질소 유입구가 장착된 5 ℓ들이 설폰화 플라스크에 충전시킨다. 이어서, 물 1 ℓ를 첨가하고, 2-상 용액을 교반하에 40℃로 가열한다. 이어서, 브롬 79.69 g(0.50 mol)을 15분에 걸쳐서 적가한다. 이어서, 반응 혼합물을 60℃로 가열하고, 60분 동안 교반한다. 반응 혼합물을 실온으로 냉각시킨 후, 물 1 ℓ를 첨가하고, 이어서 교반을 중지하고, 수상을 흡인 여과시켜 제거한다(pH=1). 이어서, 물 1 ℓ를 첨가한 후, 일시적으로 교반하고, 다시 흡인 여과시킨다. 이 과정을 2회 반복한다. 최종 흡인 여과 전에, 2-상 계를 분리 깔대기로 이송하고, 소량의 클로로벤젠으로 세정한다. 상을 분리하고, 아황산수소나트륨 37g을 유기 상에 첨가하고, 10분 동안 교반한다. 이어서, 실리카 겔 200g을 첨가하고, 15분 동안 교반한다. 이어서, 혼합물을 부흐너(Buchner) 필터로 여과하고, 클로로벤젠 200 ㎖로 3회 세정한다. 여액을 증발시켜 600g의 용액으로 농축시키고, 교반하에 아세토니트릴 4 ℓ에 적하한다. 침전된 생성물을 여과시키고, 필터 케이크를 아세토니트릴 400 ㎖로 3회 세정하고, 60 ℃, 125 torr에서 일야 건조시키면, 하기와 같은 분석치를 갖는 녹색 분말 형태의 브롬화되고 포르밀화된 테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐-프탈로시아닌 209.5g(이론치의 89.3 %)이 생성된다:
DC(실리카 겔 60, 헥산/에틸 아세테이트=4:1): Rf= 0.64, 0.54, 0.48, 0.34;
원소 분석: 16.29% Br;
UV/VIS(NMP): λ최대=718 nm, ε=174170 ℓ/몰㎝.
실시예 12
클로로벤젠 350 ㎖ 중의 포르밀화 테트라(α-1,2-디메틸프로폭시)팔라듐-프탈로시아닌 29.0g(29.2 mmol)을 아르곤하에서 KPG 교반기, 내부 온도계, 적하 깔대기, 환류 응축기 및 질소 유입구가 장착된 750 ㎖ 들이 설폰화 플라스크에 충전시키고, 이어서 물 175 ㎖를 첨가하고, 2-상 용액을 교반하에 40℃로 가열한다. 이어서, 브롬 13.05g(81.66 mmol)을 15 분에 걸쳐서 적가한다. 이어서, 반응 혼합물을 60℃로 가열하고, 60분 동안 교반한다. 반응 혼합물을 실온으로 냉각시킨 후, 교반을 중지하고, 수상(pH=1)을 흡인 여과시켜 제거한다. 이어서, 물 250 ㎖를 첨가한 후, 혼합물을 일시적으로 교반하고, 다시 흡인 여과시킨다. 이 과정을 2회 반복한다. 최종 흡인 여과 전에, 2-상계를 분리 깔대기로 이송하고, 소량의 클로로벤젠으로 세정한다. 상을 분리하고, 아황산수소나트륨 3g을 유기 상에 첨가하고, 본 혼합물을 10분 동안 교반한다. 이어서, 실리카 겔 30g을 첨가하고, 15분 동안 교반한다. 이어서, 혼합물을 부흐너 필터로 여과하고, 클로로벤젠 50 ㎖로 3회 세정한다. 여액을 증발시켜 60g의 용액으로 농축시키고, 교반하에 아세토니트릴 1 ℓ에 적하한다. 침전된 생성물을 여과시켜 수집하고, 필터 케이크를 아세토니트릴 100 ㎖로 3회 세정하고, 60℃, 125 torr에서 일야 건조시키면, 하기와 같은 분석치를 갖는 녹색 분말 형태의 브롬화되고 포르밀화된 테트라(α-1,2-디메틸프로폭시)팔라듐-프탈로시아닌 24.23g(이론치의 67.6%)이 생성된다:
원소 분석: 18.93% Br;
UV/VIS(NMP): λ최대=708 nm, ε=174560 ℓ/몰㎝;
IR: 1670 ㎝-1에서의 C=O 밴드.
실시예 13
디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(순수, 무수) 22 ㎖ 중의 수소화붕소나트륨 3.69g(97.6 mmol)을 아르곤하에서 고정 교반기, 내부 온도계 및 질소 유입구가 장착된 2.5 ℓ들이 설폰화 플라스크에 충전하고, 혼합물을 교반한다. 대부분의 시약은 용해되며, 겔-유사 혼합물이 형성된다. 이어서, 알록스(중성, 활성도 1) 36.9 g을 첨가하면서, 동시에 약주걱으로 잠시 혼합시키면 즉시 고체가 형성된다. 이어서, 테트라하이드로푸란 1.1 ℓ 및 브롬화되고 포르밀화된 테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐-프탈로시아닌 109.0g(81.3 mmol)을 첨가한다. 이어서, 현탁액을 실온에서 격렬하게 교반한다. DC(헥산/에틸 아세테이트=4:1)에 의해 미량의 추출물만이 관찰될 때까지 반응시킨다. 22 시간의 반응 후, 반응 혼합물을 여과 보조 장치를 통해 여과시키고, 잔류물을 THF 100 ㎖로 3회 세정한다. 여액을 고정 교반기, 내부 온도계, 적하 깔대기 및 증류 헤드가 장착된 2.5 ℓ들이 설폰화 플라스크로 이송하고, 아세트산 25g을 적가하여 충전시키면, 소량의 기체가 증발되는 것이 관찰된다. 이 후의 pH는 약 5이다. 이어서, 톨루엔 700 ㎖를 첨가하고, THF를 오버헤드 온도가 90℃가 될때까지 130 ℃의 오일 욕내에서 증류시켜 제거한다. 혼합물을 60℃로 냉각시킨 후, 포화 NaCl 용액 250 ㎖를 주입하고, 혼합물을 10 분 동안 교반한다. 이어서, 가온된 혼합물을 분리 깔대기에 이송하고, 상을 분리시킨다. 유기상에 실리카 겔 109 g을 충전하고, 15 분 동안 교반한다. 이어서, 본 혼합물을 여과하고, 여과 생성물을 톨루엔 100 ㎖로 3회 세정한다. 회전 증발기를 사용하여, 여액을 증발시켜 300 g의 용액으로 농축시키고, 교반하에 아세토니트릴 3.0 ℓ에 붓는다. 10 분 동안 교반한 후, 침전된 생성물을 여과시켜 수집하고, 아세토니트릴 200 ㎖로 3회 세정한다. 생성물을 60℃, 125 torr에서 일야 건조시키면, 하기와 같은 분석치를 갖는 녹색 분말 형태의 브롬화되고 하이드록시메틸화된 테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐-프탈로시아닌 99.5g(이론치의 91.2%)이 생성된다:
원소 분석: 15.90% Br;
UV/VIS(NMP): λ최대=723 nm, ε=163590 ℓ/몰㎝;
IR: 알데히드(1680 ㎝-1)의 C=O 밴드 없음.
실시예 14
디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(순수, 무수) 5.6 ㎖ 중의 수소화붕소나트륨 0.95 g(25.17 mmol)을 아르곤하에서 고정 교반기, 내부 온도계, 환류 응축기 및 질소 유입구가 장착된 750 ㎖ 들이 설폰화 플라스크에 충전하고, 교반한다. 대부분의 시약은 용해되며, 겔-유사 혼합물이 형성된다. 이어서, 알록스(중성, 활성도 1) 9.5 g을 첨가하면서, 동시에 약주걱으로 일시적으로 혼합시키면 즉시 고체가 형성된다. 이어서, 테트라하이드로푸란 280 ㎖ 및 브롬화되고 포르밀화된 테트라(α-1,2-디메틸프로폭시)팔라듐-프탈로시아닌 24.1g(19.62 mmol)을 첨가한다. 이어서, 현탁액을 실온에서 격렬하게 교반한다. 박층 크로마토그래피(헥산/에틸 아세테이트=4:1)에 의해 미량의 추출물만이 관찰될 때까지 반응시킨다. 1.5 시간 동안의 반응 후, 반응 혼합물을 여과 보조 장치를 통해 여과시키고, 잔류물을 THF 50 ㎖로 3회 세정한다. 여액을 고정 교반기, 내부 온도계, 적하 깔대기 및 증류 헤드가 장착된 1.5 ℓ들이 설폰화 플라스크로 이송하고, 아세트산 10 ㎖를 적가하여 충전시키면, 소량의 기체가 증발되는 것이 관찰된다. 이 후의 pH는 약 5이다. 이어서, 톨루엔 500 ㎖를 첨가하고, THF를 오버헤드 온도가 95℃가 될때까지 150℃의 오일 욕내에서 증류시켜 제거한다. 60℃로 냉각시킨 후, 포화 NaCl 용액 250 ㎖를 붓고, 혼합물을 10분 동안 교반한다. 이어서, 가온된 혼합물을 분리 깔대기로 이송하고, 상을 분리시킨다. 유기상에 실리카 겔 30g을 충전시키고, 15분 동안 교반한다. 여과시킨 후, 여과 생성물을 톨루엔 50 ㎖로 3회 세정한다. 회전 증발기를 사용하여, 여액을 증발시켜 75g의 용액으로 농축시키고, 교반하에 아세토니트릴 1.0 ℓ에 붓는다. 10 분 동안 교반한 후, 침전된 생성물을 여과시켜 수집하고, 아세토니트릴 50 ㎖로 3회 세정한다. 생성물을 60℃, 125 torr에서 일야 건조시키면, 하기와 같은 분석치를 갖는 녹색 분말 형태의 브롬화되고 하이드록시메틸화된 테트라(α-1,2-디메틸프로폭시)팔라듐-프탈로시아닌 21.5g(이론치의 89.0%)이 생성된다:
원소 분석: 18.48% Br;
UV/VIS(NMP): λ최대=713 nm, ε=165490 ℓ/몰㎝;
IR: 알데히드(1680 ㎝-1)의 C=O 밴드 없음.
실시예 15
페로센카복실산 클로라이드[문헌(참조: Macromolecules 26(1993) 1936-1940)으로부터 약간 개질된 방법에 의해 제조됨] 38.0 g(0.152 mol), 피리딘 780 ㎖, 브롬화되고 하이드록시메틸화된 테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐-프탈로시아닌 97.3 g(72.48 mmol) 및 4-디메틸아미노피리딘 0.885 g(7.25 mmol)을 아르곤하에서 자기 교반기 및 질소 유입구가 장착된 2 ℓ들이 환저 플라스크에 충전시키고, 암녹색 용액을 실온에서 20 시간 동안 교반한다. 반응 혼합물을 격렬하게 교반시키면서, 물 8 ℓ에 붓고, 침전물을 여과시켜 수집하고, 물 200 ㎖로 3회 세정한다. 잔류물을 60 ℃, 125 torr에서 일야 건조시킨 후, 톨루엔 600 ㎖에 용해시키고, 이어서 실리카 겔 100 g을 첨가하고, 혼합물을 15분 동안 교반한다. 현탁액을 여과하고, 잔류물을 톨루엔 100 ㎖로 3회 세정한다. 회전 증발기를 사용하여, 여액을 증발시켜 370 g의 용액으로 농축시키고, 교반하에 아세토니트릴 3.7 ℓ에 붓고, 10분 동안 교반한다. 침전물을 여과시켜 수집하고, 아세토니트릴 200 ㎖로 3회 세정하고, 생성물을 60℃/125 torr에서 일야 건조시키면, 하기와 같은 분석치를 갖는 페로센카복실산으로 에스테르화된, 녹색 분말 형태의 브롬화되고 하이드록시메틸화된 테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐-프탈로시아닌 109.8g(이론치의 97.5%)이 생성된다:
원소 분석: 13.33% Br, 4.40% Fe;
UV/VIS(NMP): λ최대=722 nm, ε=170120 ℓ/몰㎝;
IR: 에스테르의 C=O 밴드 존재;
TGA: 분해 곡선의 변곡점 = 257 ℃.
실시예 16
페로센카복실산 클로라이드[문헌(참조: Macromolecules 26(1993) 1936-1940)으로부터 약간 개질된 방법에 의해 제조됨] 7.0g(28.17 mmol), 피리딘 190 ㎖, 브롬화되고 하이드록시메틸화된 테트라(α-1,2-디메틸-프로폭시)팔라듐-프탈로시아닌 16.23g(13.19 mmol) 및 4-디메틸아미노피리딘 0.172g(1.14 mmol)을 아르곤하에서 자기 교반기 및 질소 유입구가 장착된 500 ㎖ 들이 환저 플라스크에 충전시키고, 암녹색 용액을 실온에서 20 시간 동안 교반한다. 반응 혼합물을 철저히 교반시키면서, 물 1.8 ℓ에 붓고, 침전물을 여과시켜 수집하고, 물 200 ㎖로 3회 세정한다. 잔류물을 60℃, 125 torr에서 일야 건조시킨 후, 톨루엔 200 ㎖에 용해시키고, 실리카 겔 32g을 첨가하고, 혼합물을 15분 동안 교반한다. 현탁액을 여과시키고, 잔류물을 톨루엔 50 ㎖로 3회 세정한다. 회전 증발기를 사용하여, 여액을 증발시켜 60g의 용액으로 농축시키고, 교반하에 아세토니트릴 800 ㎖에 붓고, 10분 동안 교반한다. 침전물을 여과시켜 수집하고, 아세토니트릴 50 ㎖로 3회 세정하고, 60℃, 125 torr에서 일야 건조시키면, 하기와 같은 분석치를 갖는, 페로센카복실산으로 에스테르화된, 녹색 분말 형태의 브롬화되고 하이드록시메틸화된 테트라(α-1,2-디메틸프로폭시)팔라듐-프탈로시아닌 17.66g(이론치의 92.8%)이 생성된다:
원소 분석: 15.52% Br, 4.23% Fe;
UV/VIS(NMP): λ최대=711 nm, ε=163400 ℓ/몰㎝;
IR: 에스테르(1720 ㎝-1)의 C=O 밴드 존재;
TGA: 분해 곡선의 변곡점=262℃.
실시예 17
페로센 아세트산 클로라이드[문헌(참조: Macromolecules 26(1993) 1936-1940)으로부터 약간 개질된 방법과 유사하게 제조됨] 0.50 g(0.19 mmol), 피리딘 10 ㎖, 브롬화되고 하이드록시메틸화된 테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐-프탈로시아닌 1.28g(0.95 mmol) 및 4-디메틸아미노피리딘 12 ㎎(0.1 mmol)을 아르곤하에서 자기 교반기 및 질소 유입구가 장착된 50㎖ 들이 환저 플라스크에 충전시키고, 암녹색 용액을 실온에서 20시간 동안 교반한다. 이어서, 반응 혼합물을 철저히 교반시키면서, 물 100㎖에 붓고, 침전물을 여과시켜 수집하고, 물 50㎖로 4회 세정한다. 잔류물을 60℃, 125 torr에서 4시간 동안 건조시킨 후, 톨루엔 15㎖에 용해시키고, 실리카 겔 1.3g을 첨가하고, 혼합물을 10분 동안 교반한다. 현탁액을 여과시키고, 잔류물을 톨루엔 10㎖로 3회 세정한다. 회전 증발기를 사용하여, 여액을 증발시켜 4.8g의 용액으로 농축시키고, 교반하에 아세토니트릴 49㎖에 붓고, 10분 동안 교반한다. 침전물을 여과시켜 수집하고, 아세토니트릴 50㎖로 3회 세정하고, 60℃, 125 torr에서 일야 건조시키면, 하기와 같은 분석치를 갖는 녹색 분말(페로센아세트산으로 에스테르화된, 브롬화되고 하이드록시메틸화된 테트라(α-2,4-디메틸-3-펜틸옥시)팔라듐-프탈로시아닌) 1.2g(이론치의 80.5%)이 생성된다:
원소 분석: 12.71% Br, 4.49% Fe;
UV/VIS(NMP): λ최대=723 nm, ε=148170 ℓ/몰㎝;
IR: 에스테르(㎝-1)의 C=O 밴드 존재;
TGA: 분해 곡선의 변곡점=278℃.
실시예 18
메틸사이클로헥산온 및 2,6-디메틸-4-헵탄온(98:2)으로 이루어진 혼합물 중의 실시예 8의 화합물의 2 중량% 용액을 0.2 ㎛의 기공 폭을 갖는 테플론 필터를 통해 여과시키고, 회전 속도 400 rpm에서 스핀-피복법에 의해 두께가 1.2 ㎜인 홈이 있는 디스크(홈 두께 195 nm, 홈 폭 500 nm, 트랙 거리 1.6 ㎛)의 표면에 도포한다. 회전 속도를 증가시켜 과량의 용액을 원심분리에 의해 제거한다. 이어서, 균일하게 도포된 층을 70℃의 순환 공기 오븐내에서 20분 동안 건조시킨다. 진공 피복 장치내에서(Twister, Balzers), 이렇게 수득된 기록층 상에 두께가 60 nm인 금색층을 분무시킨다. 이어서, 이 층 위에 스핀-피복에 의해 자외선 경화성 광중합체[SD-220, 다이닛폰 잉크(Dainippon Ink)사]로 이루어진 5 ㎛ 두께의 보호층을 피복시킨다. 이와 같은 방법으로 제조된 디스크 상에 시판되는 HP CD-라이터(Writer) 6020을 사용하여 1 배속 기록 속도에서 상이한 비디오 서열을 기록한다. 완전 자동인 CD 테스트 시스템(CD-Cats, Audio Development)에 의해 동적 시그날 파라미터를 측정하며, 하기 표 A에 상이한 속도에 대하여 나타낸다.
실시예 19
2 배속 기록 속도를 제외하고는, 실시예 18을 반복한다. 측정 결과를 하기 표 A에 나타낸다.
실시예 20
데이타를 시판되는 기록기[야마하(Yamaha) CDR100]상에 4 배속 기록 속도로 새기는 것을 제외하고는 실시예 18을 반복한다. 측정 결과를 하기 표 A에 나타낸다.
실시예 21
데이타를 시판되는 기록기[코닥((Kodak) PCD 라이터(Writer)600]상에 6 배속 기록 속도로 새기는 것을 제외하고는 실시예 18을 반복한다. 측정 결과를 하기 표 A에 나타낸다.
기록 속도 | 1 배속 | 2 배속 | 4 배속 | 6 배속 | ||||
피트 길이 | 3T | 11T | 3T | 11T | 3T | 11T | 3T | 11T |
랜드 지터[ns] | 29 | 27 | 28 | 22 | 35 | 28 | 35 | 31 |
BLER | 6 | 3 | 4 | 7 |
실시예 22
디-n-부틸 에테르 및 2,6-디메틸-4-헵탄온(용적비 98:2)으로 이루어진 혼합물 중의 실시예 8의 화합물의 2.5 중량% 용액을 0.2 ㎜의 기공 폭을 갖는 테플론 필터를 통해 여과시키고, 회전 속도 525 rpm에서 스핀-피복법에 의해 두께가 1.2 ㎜인 홈이 있는 디스크(홈 깊이 200 nm, 홈 폭 560 nm, 트랙 거리 1.6 mm)의 표면에 도포한다. 회전 속도를 증가시켜 과량의 용액을 제거한다. 이어서, 균일하게 도포된 층을 70 ℃의 순환 공기 오븐내에서 20 분 동안 건조시킨다. 진공 피복 장치내에서(Swivel, Balzers), 이렇게 수득된 기록층 상에 60 nm 두께의 은(silver) 층을 분무 도포한다. 이어서, 이 층 위에 자외선 경화성 광중합체로 이루어진 8 ㎜ 두께의 보호층을 스핀-피복한다. 이와 같은 방법으로 제조된 디스크 상에 시판되는 기록기[필립스(Philips) CDD3610]를 사용하여 1 배속 기록 속도에서 상이한 데이타를 기록한다. 완전 자동인 CD 테스트 시스템(CD-Cats SA3, Audio Development)에 의해 동적 시그날 파라미터를 측정하며, 상이한 속도에 대한 값을 하기 표 B에 나타낸다.
실시예 23
데이타를 시판되는 기록기(야마하 CDR400)상에서 4 배속 기록 속도로 새기는 것을 제외하고는, 실시예 22를 반복한다. 측정 결과를 하기 표 B에 나타낸다.
실시예 24
데이타를 시판되는 기록기(코닥 PCD600)상에서 6 배속 기록 속도로 새기는 것을 제외하고는, 실시예 22를 반복한다. 측정 결과를 하기 표 B에 나타낸다.
실시예 25
데이타를 시판되는 기록기[산요(Sanyo) CRD-R 820]상에서 8 배속 기록 속도로 새기는 것을 제외하고는, 실시예 22를 반복한다. 측정 결과를 하기 표 B에 나타낸다.
기록 속도 | 1 배속 | 4 배속 | 6 배속 | 8 배속 | ||||
피트 길이 | 3T | 11T | 3T | 11T | 3T | 11T | 3T | 11T |
랜드 지터[ns] | 28 | 30 | 24 | 21 | 33 | 29 | 29 | 25 |
피트 지터[ns] | 23 | 23 | 28 | 26 | 28 | 22 | 25 | 23 |
BLER | 1 | 0 | 3 | 2 |
Claims (22)
- 화학식 I의 메탈로세닐-프탈로시아닌.화학식 I상기 화학식 I에서,M1은 2가 금속, 옥소금속 그룹, 할로게노금속 그룹 또는 하이드록시금속 그룹, 또는 2개의 수소 원자이며,X는 염소, 브롬 또는 요오드를 포함하는 할로겐이며,Y1은 -OR1, -OOC-R2, -NHR1 또는 -N(R1)R2이며,Y2는 -SR1이며,R3은 -CH2-, -C(=O)-, -CH(C1-C4알킬)-, -C(C1-C4알킬)2-, -NH-, -S-, -O- 및 -CH=CH-로 이루어진 그룹으로부터 선택된 둘 이상의 원자 또는 원자 그룹의 쇄로 이루어진 브릿지 단위 E를 통해 프탈로시아닌의 페닐환에 결합된 [여기서, R6 및 R7은 각각 독립적으로 수소; 불소, 염소, 브롬 또는 요오드를 포함하는 할로겐; C1-C4알킬; C1-C4알콕시; 아미노-C1-C4알킬; 디아릴포스핀; 또는 -CH2-PAr2 또는 -CH(Me)-PAr2(여기서, Ar은 비치환되거나 치환된 페닐이다)를 포함하는 인-함유 C1-C4알킬이며, M2는 2가 전이 금속이다]이며,x는 0 내지 8의 유리수일 수 있으며,y1 및 y2는 각각 독립적으로 0 내지 6의 유리수일 수 있으며,z는 1 내지 4이며,(x+y1+y2+z)는 16 이하이며,R1 및 R2는 각각 서로 독립적으로 비치환되거나, 할로겐, 하이드록시, C1-C20알콕시, C1-C20알킬아미노 또는 C2-C20디알킬아미노로 치환되며, -O-, -S-, -NH- 또는 -NR10-(여기서, R10은 C1-C6알킬, C5-C20사이클로알킬, C2-C20알케닐, C5-C12사이클로알케닐, C2-C20알키닐, C6-C18아릴 또는 C7-C18아르알킬일 수 있다)에 의해 차단될 수 있는 C1-C20알킬일 수 있다.
- (a) 제4항에 따르는 화학식 II의 화합물(여기서, R11은 C1-C12알킬이며, M3은 팔라듐 또는 구리이며, z 는 1이다) 60 내지 95몰%,(b) R3을 2개(z=2) 포함하는 제4항에 따르는 화학식 II의 화합물 5 내지 20몰%, 및(c) 제4항에 따르는 화학식 IV의 화합물(여기서, R14는 -CHO, -CH2OH, -COOH, -CH2OC(O)-C1-C4알킬 또는 아세탈이며, z는 1 또는 2일 수 있다) 0 내지 25몰%를 포함하는 혼합물(여기서, -OR11, R3 = R14, X 및 M3은 화학식 II 및 화학식 IV에서 동일한 의미이고 제1항에 따르는 화학식 I에 대해 정의한 바에 상응하며, 몰%를 합한 총량은 100%이다).
- 화학식 V의 프탈로시아닌을, 메탈로센카보닐 클로라이드(CpM2Cp'-COCl), 메탈로센-카복실산(CpM2Cp'-COOH)(여기서, Cp는 이고, Cp'는 이며, M2, R6 및 R7은 제1항에 정의한 바와 같다) 및 메탈로센 알코올로 이루어진 그룹으로부터 선택된 메탈로센 유도체로 에스테르화시킴으로써 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 따르는 메탈로세닐-프탈로시아닌을 제조하는 방법으로서, 상기 에스테르화 반응이 하이드록시-함유 라디칼을 포함하는 화학식 V의 프탈로시아닌(또는 메탈로센)을 카복시- 또는 산염화물-함유 라디칼을 포함하는 상응하는 메탈로센(또는 프탈로시아닌)과 반응시킴으로써 자체가 공지된 방법으로 수행되는 방법.화학식 V상기 화학식 V에서,R15는 -CH2OH, -CH(Me)OH, -COOH 또는 -COCl이고,기타 라디칼들은 제1항에서 정의한 바와 같다.
- 삭제
- 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 따르는 메탈로세닐-프탈로시아닌 또는 제4항 또는 제5항에 따른 혼합물을 포함하는 광학 기록 매체.
- 투명한 기판; 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 따른 메탈로세닐-프탈로시아닌 또는 제4항 또는 제5항에 따른 혼합물을 포함하는, 투명 기판 상의 기록층; 및 기록층 상의 반사층으로 이루어지거나, 최종 보호층을 추가로 포함하여 이루어진 광학 기록 매체.
- 제8항에 있어서, 정보의 광학 기록, 저장 및 재생, 회절 광학 소자의 제조 또는 홀로그램 기록용 광학 기록 매체.
- 삭제
- 제1항에 있어서,X가 염소 또는 브롬이고,Y1이 -OR1이고,R3이 , , 또는 [여기서, R4 및 R5는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-C4알킬일 수 있으며, n은 1 내지 4일 수 있으며, R6 및 R7은 각각 독립적으로 수소; 불소, 염소, 브롬 또는 요오드를 포함하는 할로겐; C1-C4알킬; C1-C4알콕시; 아미노-C1-C4알킬; 디아릴포스핀; 또는 -CH2-PAr2 또는 -CH(Me)-PAr2(여기서, Ar은 비치환되거나 치환된 페닐이다)를 포함하는 인-함유 C1-C4알킬이며, R8은 -O-R9-, -C(=O)-O-R9 또는 -O-C(=O)-R9-(여기서, R9는 단일 결합, C1-C4알킬렌 또는 C2-C4알케닐렌이다)일 수 있으며, M2는 2가 전이 금속이며, R12는 수소 또는 메틸이며, R13은 단일결합, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH=CH-, -CH2-C(=O)- 또는 -CH2CH2-C(=O)-이다]이며,x가 0 내지 5의 유리수일 수 있고,y1이 1 내지 6의 정수일 수 있고,y2가 0 내지 2.0의 유리수일 수 있고,z가 1 내지 3일 수 있는 화학식 I의 메탈로세닐-프탈로시아닌.
- 제12항에 있어서,X가 브롬이고,x가 0 내지 3의 유리수일 수 있고,y1이 3 내지 5의 정수일 수 있고,z가 1 내지 2일 수 있는 화학식 I의 메탈로세닐-프탈로시아닌.
- 제13항에 있어서, y1이 정수 4일 수 있는 화학식 I의 메탈로세닐-프탈로시아닌.
- 제2항에 있어서, x가 2.7 내지 2.9인 메탈로세닐-프탈로시아닌.
- 제15항에 있어서, x가 2.8인 메탈로세닐-프탈로시아닌.
- 제4항에 있어서,(a) 라디칼 R3을 1개(z=1) 포함하는 화학식 II의 화합물 80 내지 95몰%,(b) 라디칼 R3을 2개(z=2) 포함하는 화학식 II의 화합물 5 내지 10몰% 및(c) 화학식 IV의 화합물 0 내지 10몰%(몰%를 합한 총량은 100%이다)를 포함하는 혼합물.
- 제5항에 있어서,(a) 제4항에 따르는 화학식 II의 화합물(여기서, R11은 C1-C12알킬이며, M3은 팔라듐 또는 구리이며, z 는 1이다) 80 내지 95몰%,(b) R3을 2개(z=2) 포함하는 제4항에 따르는 화학식 II의 화합물 5 내지 10몰%, 및(c) 제4항에 따르는 화학식 IV의 화합물(여기서, R14는 -CHO, -CH2OH, -COOH, -CH2OC(O)-C1-C4알킬 또는 아세탈이며, z는 1 또는 2일 수 있다) 0 내지 10몰%(몰%를 합한 총량은 100%이다)를 포함하는 혼합물.
- 삭제
- 제6항에 따라 제조된 메탈로세닐-프탈로시아닌을 포함하는 광학 기록 매체.
- 투명한 기판; 제6항에 따라 제조된 메탈로세닐-프탈로시아닌을 포함하는, 투명 기판 상의 기록층; 및 기록층 상의 반사층으로 이루어지거나, 최종 보호층을 추가로 포함하여 이루어진 광학 기록 매체.
- 제20항에 있어서, 정보의 광학 기록, 저장 및 재생, 회절 광학 소자의 제조 또는 홀로그램 기록용 광학 기록 매체.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH165398 | 1998-08-11 | ||
CH1653/98 | 1998-08-11 | ||
PCT/EP1999/005430 WO2000009522A1 (en) | 1998-08-11 | 1999-07-29 | Metallocenyl-phthalocyanines |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20010072394A KR20010072394A (ko) | 2001-07-31 |
KR100554863B1 true KR100554863B1 (ko) | 2006-02-24 |
Family
ID=4215498
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR20017001760A KR100554863B1 (ko) | 1998-08-11 | 1999-07-29 | 메탈로세닐-프탈로시아닌 및 이를 포함하는 광학 기록 매체 |
Country Status (18)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6399768B1 (ko) |
EP (1) | EP1104431B1 (ko) |
JP (3) | JP3455183B2 (ko) |
KR (1) | KR100554863B1 (ko) |
CN (1) | CN1231488C (ko) |
AT (1) | ATE227301T1 (ko) |
AU (1) | AU5507799A (ko) |
BR (1) | BR9912905A (ko) |
CA (1) | CA2337480A1 (ko) |
DE (1) | DE69903830T2 (ko) |
DK (1) | DK1104431T3 (ko) |
ES (1) | ES2186399T3 (ko) |
HK (1) | HK1036281A1 (ko) |
IN (2) | IN211954B (ko) |
MY (1) | MY118959A (ko) |
PT (1) | PT1104431E (ko) |
TW (2) | TW570924B (ko) |
WO (1) | WO2000009522A1 (ko) |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2110233C (en) | 1992-12-02 | 1999-01-12 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Optical information recording medium and composition for optical information recording film |
MY118959A (en) * | 1998-08-11 | 2005-02-28 | Ciba Holding Inc | Metallocenyl-phthalocyanines |
DE10039372C2 (de) * | 2000-08-11 | 2003-05-15 | Tesa Scribos Gmbh | Holographischer Datenspeicher |
CZ2003832A3 (cs) | 2000-09-21 | 2003-06-18 | Bayer Aktiengesellschaft | Optické nosiče dat, obsahující Co-ftalocyaninový komplex ve světlem popisovatelné informační vrstvě |
JP2004509785A (ja) * | 2000-09-21 | 2004-04-02 | バイエル アクチェンゲゼルシャフト | 情報層中にフタロシアニン染料を光吸収性化合物として含有する光学媒体 |
CN1659640A (zh) * | 2001-03-28 | 2005-08-24 | 拜尔公司 | 在信息层中含有作为光吸收化合物的染料的光数据载体 |
WO2002080162A1 (de) | 2001-03-28 | 2002-10-10 | Bayer Aktiengesellschaft | Optische datenspeicher enthaltend ein axial substituiertes co-phthalocyanin in der mit licht beschreibbaren informationsschicht |
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EP1435094A2 (en) * | 2001-10-04 | 2004-07-07 | Bayer Chemicals AG | Optical data medium containing; in the information layer, a dye as a light-absorbing compound |
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- 1999-07-29 MY MYPI99003211A patent/MY118959A/en unknown
- 1999-07-29 EP EP99941476A patent/EP1104431B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 PT PT99941476T patent/PT1104431E/pt unknown
- 1999-07-29 CA CA002337480A patent/CA2337480A1/en not_active Abandoned
- 1999-07-29 DE DE69903830T patent/DE69903830T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 CN CNB99809479XA patent/CN1231488C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-07-29 IN IN146CH2001 patent/IN211954B/en unknown
- 1999-07-29 AU AU55077/99A patent/AU5507799A/en not_active Abandoned
- 1999-07-29 KR KR20017001760A patent/KR100554863B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-07-29 WO PCT/EP1999/005430 patent/WO2000009522A1/en active IP Right Grant
- 1999-07-29 BR BR9912905-1A patent/BR9912905A/pt not_active Application Discontinuation
- 1999-07-29 DK DK99941476T patent/DK1104431T3/da active
- 1999-07-29 AT AT99941476T patent/ATE227301T1/de active
- 1999-07-29 JP JP2000564973A patent/JP3455183B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-07-29 ES ES99941476T patent/ES2186399T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-08-02 US US09/365,471 patent/US6399768B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-08-09 TW TW091112342A patent/TW570924B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-08-09 TW TW088113556A patent/TW502039B/zh not_active IP Right Cessation
-
2001
- 2001-09-27 HK HK01106847A patent/HK1036281A1/xx not_active IP Right Cessation
- 2001-10-22 US US10/037,106 patent/US6790593B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-06-17 JP JP2003171635A patent/JP3892417B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-06-17 JP JP2003171634A patent/JP3768979B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-07-27 IN IN1710CH2005 patent/IN2005CH01710A/en unknown
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---|---|
EP1104431A1 (en) | 2001-06-06 |
JP2004090616A (ja) | 2004-03-25 |
US6790593B2 (en) | 2004-09-14 |
TW502039B (en) | 2002-09-11 |
JP3892417B2 (ja) | 2007-03-14 |
BR9912905A (pt) | 2001-05-08 |
JP3455183B2 (ja) | 2003-10-14 |
AU5507799A (en) | 2000-03-06 |
KR20010072394A (ko) | 2001-07-31 |
IN2001CH00146A (ko) | 2007-03-09 |
DE69903830T2 (de) | 2003-08-28 |
CA2337480A1 (en) | 2000-02-24 |
US6399768B1 (en) | 2002-06-04 |
IN2005CH01710A (ko) | 2007-07-06 |
DK1104431T3 (da) | 2003-03-03 |
ATE227301T1 (de) | 2002-11-15 |
JP2004137453A (ja) | 2004-05-13 |
JP3768979B2 (ja) | 2006-04-19 |
HK1036281A1 (en) | 2001-12-28 |
DE69903830D1 (de) | 2002-12-12 |
WO2000009522A1 (en) | 2000-02-24 |
CN1231488C (zh) | 2005-12-14 |
US20020099204A1 (en) | 2002-07-25 |
JP2002522550A (ja) | 2002-07-23 |
PT1104431E (pt) | 2003-03-31 |
IN211954B (ko) | 2008-01-11 |
CN1312816A (zh) | 2001-09-12 |
EP1104431B1 (en) | 2002-11-06 |
TW570924B (en) | 2004-01-11 |
MY118959A (en) | 2005-02-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
A302 | Request for accelerated examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
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|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |