KR100515548B1 - 에칭 종점 검출 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (6)
- 피처리체를 플라즈마를 이용하여 에칭할 때, 광 검출 수단에 의해 플라즈마의 발광 스펙트럼을 순차적으로 검출하고, 발광 스펙트럼의 변화에 근거하여 에칭의 종점을 검출하는 방법에 있어서,상기 피처리체의 에칭에 앞서 미리 상기 피처리체의 샘플(동종의 피처리체)을 에칭하고 그 때의 플라즈마의 풀 스펙트럼을 순차적으로 측정하는 단계와,상기 샘플의 에칭 종료까지 축적된 각 풀 스펙트럼의 전 파장을 각각의 발광 강도에 따라서 중량 측정을 시행한 중량 계수를 각 파장마다 구하는 단계를 포함하며,상기 피처리체의 에칭시에는 순차적으로 측정된 풀 스펙트럼마다 전 파장의 발광 강도를 각각의 상기 중량 계수를 가미하여 가산하는 단계와,순차적으로 측정된 풀 스펙트럼마다의 발광 강도의 가산치의 변화의 정도에 근거하여 에칭의 종점을 검출하는 에칭 종점 검출 단계를 갖는 것을 특징으로 하는에칭 종점 검출 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 에칭 종점 검출 단계에 있어서의 가산치의 변화의 정도는, 상기 가산치의 미분값에 근거하여 판정하고, 가장 크게 변화되는 시점을 에칭의 종점으로서 검출하는 것을 특징으로 하는에칭 종점 검출 방법.
- 제 2 항에 있어서,상기 에칭 종점 검출 단계에 있어서의 가산치의 변화의 정도에 있어서, 상기 가산치의 미분값에 2곳에서 큰 변화가 보여지는 경우에는, 후반의 변화를 에칭의 종점으로서 검출하는 것을 특징으로 하는에칭 종점 검출 방법.
- 피처리체를 플라즈마를 이용하여 에칭할 때, 광 검출 수단에 의해 플라즈마의 발광 스펙트럼을 순차적으로 검출하고, 발광 스펙트럼의 변화에 근거하여 에칭의 종점을 검출하는 방법에 있어서,상기 피처리체의 에칭에 앞서 미리 상기 피처리체의 샘플(동종의 피처리체)을 에칭하고 그 때의 플라즈마의 풀 스펙트럼을 순차적으로 측정하는 단계와,상기 샘플의 에칭 종료까지 축적된 각 풀 스펙트럼의 전 파장을 각각의 발광 강도를 이용하여 주성분 분석하는 단계를 포함하며,상기 피처리체의 에칭시에는 순차적으로 측정된 풀 스펙트럼마다 각각의 전 파장의 발광 강도와 상기 주성분 분석으로 얻어진 주성분식에 근거한 주성분 득점을 구하는 단계와,순차적으로 측정된 풀 스펙트럼마다의 주성분 득점의 변화의 정도에 근거하여 종점을 검출하는 단계를 갖는 것을 특징으로 하는에칭 종점 검출 방법.
- 제 4 항에 있어서,상기 주성분 득점은 고유치 및 고유 벡터로부터 구한 제 1 주성분 득점인 것을 특징으로 하는에칭 종점 검출 방법.
- 제 5 항에 있어서,상기 종점 검출 단계에 있어서의 가산치의 변화의 정도는, 상기 가산치의 미분값에 근거하여 판정하고 미분값의 기울기가 변화된 시점을 종점으로서 검출하는 것을 특징으로 하는에칭 종점 검출 방법.
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