KR100444412B1 - 광학막및액정표시장치 - Google Patents

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Abstract

광학 베이스 막의 단면 또는 양면 상에 압감 접착층의 복수층을 갖는 광학 베이스 막을 포함하는 광학 막에 있어서, 상기 복수층은 각각이 상이한 응력(stress) 완화 시간을 갖는 압감 접착층의 조합을 포함하고, 가장 긴 응력 완화 시간을 갖는 압감 접착층이 가장 밖의 위치에 배치되고, 이들의 두께는 압감 접착층의 전체 두께의 80% 이하이다.
상기 광학 막은 내열성과 내습성이 우수하고, 고온 및 고습 분위기에서 사용하는 경우에도 액정 셀과 막 사이의 경계면에서 발포 및 박리가 일어나지 않고, 액정 셀 표시 장치를 제공하는데 적합하다.

Description

광학 막 및 액정 표시 장치
(발명의 분야)
본 발명은 내열성 및 내습성이 우수하고, 고온 및 고습 분위기에서조차 발포 및 박리가 생기지 않고, 액정 표시 장치의 형성에 적합한 압감 접착층(pressure-sensitive adhesive layer)을 갖는 광학 막에 관한 것이다.
(발명의 배경)
종래, 액정 셀에 부착시키기 위해 편광막, 지연막(retardation film), 또는이들 막을 적층시켜 형성된 타원 편광막 등과 같은 광학 베이스 막 위에 아크릴계 압감 접착층과 같은 다양한 압감 접착층을 형성함으로써 형성되는, 액정 표시 장치(LCD)용의 광학 막이 제안되어 왔다. 이와 같은 광학 막은, LCD 조립의 효율성을 높이고, 품질의 불균일 발생을 방지할 목적으로, 광 베이스 막 위의 액정 셀에 부착하기 위한 압감 접착층을 사전에 형성함으로써 형성된다.
상술한 LCD용 광학 막들에 있어서, 전자 시계, 텔레비전, 자동차 탑재용 기기 등과 같은 다양한 분야에서의 LCD의 폭넓은 사용의 증가, 특히 최근의 LCD의 고성능화와 대형화로, 광학 막이 LCD에 장착되어 있는 상태에서 개선된 내열성 및 내습성과 같은 특성, 즉 가열 및 가습 처리 등과 같은 고온 및 고습 분위기에서 사용될 때조차 발포나 박리가 생기지 않는 특성을 갖는 것이 요구되어 왔다.
그러나, 종래의 광학 막들은, 이들 막이 내열성 및 내습성에 약하고, 이들이 고온 및 고습 분위기에서 사용될 때 예컨대 액정 셀과 광학 막 사이의 경계면에서 발포 및 박리가 일어나서, 표시 장치의 시인성(visual recognition property)을 열화시킨다는, 문제점을 갖는다.
(발명의 요약)
본 발명의 목적은 내열성 및 내습성이 우수하고 예컨대 액정 셀과 광학 막 사이의 경계면에서 고온 및 고습 분위기에서 사용 중 발포 및 박리가 일어나지 않으며, 광학 막을 사용하는 시인성(visual recognition property)을 떨어뜨리지 않는 광학 막을 제공하는 것이다.
본 발명에 따라서, 광학 베이스 막의 단면 또는 양면 상에 압감 접착층의 복수층들을 갖는 광학 베이스 막을 포함하고, 상기 복수층들은 각각이 상이한 응력 완화 시간을 갖는 압감 접착층들의 조합을 포함하고, 가장 긴 응력 완화 시간을 갖는 압감 접착층은 가장 밖의 위치에 배치되고, 가장 긴 응력 완화 시간을 갖는 압감층은 압감 접착층의 전체 두께의 80% 이하의 두께를 갖는 광학 막이 제공된다.
광학 막을 복수층 구조를 갖는 압감층을 통해 액정 셀에 접착시킴으로써, 고품질이며 내구력이 우수하고, 내열성 및 내습성이 우수하고, 고온 분위기에서도 접착 경계면에서 발포 및 박리가 일어나지 않는 액정 표시 장치가 얻어질 수 있다.
압감 접착층의 복수층을 형성함으로써 이와 같은 뛰어난 장점을 생성시키는 메카니즘은 아직까지 명백하지는 않다. 이는 지금까지 일본 특허 61-34760에서 설명된 바와 같이, 벗겨지는 것을 방지하기 위하여, 짧은 응력 완화 시간을 갖고 응력을 완화해야만 하는 압감 접착층이 유용한 것으로 간주되었기 때문이다. 따라서 상기의 압감 접착층은 발포를 방지하는 데 유용한 긴 응력 완화 시간을 갖는 압감 접착층과 양립시키기 어렵게 되어 있었다. 그러므로, 가장 긴 응력 완화 시간을 갖고 점성에 의한 유동 변형을 야기하지 않는 압감 접착층이 압감 접착층의 복수층 중 가장 밖에 배열되고 이 압감 접착층이 액정 셀 등과 같은 피접착층에 접착되는 본 발명의 상기 구조에 기초한 상기 장점을 야기하는 메카니즘은 상기의 종래의 고찰로는 설명되기 어렵다.
도 1은 본 발명의 광학 막의 한 예를 도시하는 단면도.
도 2는 본 발명의 광학 막의 다른 예를 도시하는 단면도.
도 3은 본 발명의 액정 표시 장치의 한 예를 도시하는 단면도.
도 4는 본 발명의 액정 표시 장치의 다른 예를 도시하는 단면도.
* 도면에 사용된 주요 부호의 설명 *
1 : 보호막 2 : 광학 베이스 막
3 : 복수층 5 : 액정 셀
본 발명의 광학 막은 광 베이스 막의 단면 또는 양면에 압감 접착층의 복수층들을 갖는 광 베이스 막을 포함하고, 상기 복수층들은 각각이 상이한 응력 완화 시간을 갖는 압감 접착층들의 조합을 포함하고, 가장 긴 응력 완화 시간을 갖는 압감 접착층은 상기 복수층들의 가장 밖의 위치에 배치되고, 이 압감 접착층은 압감 접착층들의 전체 두께의 80% 이하의 두께를 갖는다.
본 발명의 광학 막의 예들은 도 1 및 도 2에 도시되며, 번호 2는 광학 베이스 막을, 3은 압감 접착층(31 및 32)의 복수층들을 나타낸다. 또한 도 2에 있어서, 21은 편광막을, 22는 지연막을 도시하고, 광학 베이스 막(2)으로서의 타원 편광막은 압감 접착층의 복수층(3)을 통해 이들 막을 적층시켜 형성된다. 덧붙여, 도 1 및 도 2에 있어서, 번호 1은 보호막을, 4는 분리층(separator)을 나타낸다.
사용될 수 있는 광학 베이스 막은 편광막, 지연막, 편광막과 지연막을 적층시켜 형성되는 타원 편광막, 반사형의 편광막, 및 반사형의 편광막을 사용하여 형성되는 타원 편광막과 같은 액정 표시 장치 등에 사용되는 막들이다. 광학 베이스 막의 종류에는 특별한 제한이 없다. 덧붙여, 타원 편광막과 같은 적층된 층 형태의 광학 베이스 막의 경우, 본 발명의 압감 접착층은 내열성과 내습성 때문에 층의 적층에 사용되는 접착 수단으로서 바람직하다.
편광막의 예들은 폴리비닐 알콜막, 부분적으로 포말레이트된 폴리비닐 알콜막, 에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체의 부분 가수분해막, 또는 셀룰로우스막과 같은 친수성(親水性) 중합체막에 요오드 및/또는 이색성(二色性)의 염료를 흡착시킴으로써 신장시킨 것, 폴리비닐 알콜의 탈수 처리막 또는 폴리비닐 염화물의 탈수소염소산 처리된 생성물 막 등의 폴리엔 배향막 등을 들 수 있다. 편광막의 두께는주로 5 내지 80 μm이지만, 두께는 이들 값에 국한되지는 않는다.
반사형 편광막은 시인측(표시측)으로부터 입사광을 반사시킴으로써 표시하는 형태의 액정 표시 장치를 구성하기 위한 것이고, 백라이트와 같은 광원이 생략될 수 있어 액정 표시 장치의 두께를 줄일 수 있는 장점을 갖는다.
반사형의 편광막은 필요하다면 투명 수지층 등을 통해 편광막의 단면위에 금속 등을 포함하는 반사층을 형성하는 방법과 같은 적절한 방법에 의해 형성될 수 있다. 필요할 경우 형성되는 상기 투명 수지층은, 도 1 또는 도 2에 도시된 보호막(1)으로서도 작용할 수 있다. 따라서, 상기 편광막은 단면 또는 양면에 투명의 보호막을 형성시킨 것이 될 수 있다.
반사형 편광막의 특정 예는 예컨대, 필요하다면, 무광 처리된 보호막과 같은 투명 수지층의 한 면 위에 알루미늄과 같은 반사 금속을 포함하는 포일 또는 증착막을 형성함으로써 준비되는 막이 될 수 있다. 또한 표면을 미세 요철 구조로 만들기 위하여 상기 투명 수지층에 미세 입자를 포함시키고, 미세 요철 구조(finely uneven structure)의 반사층을 그 위에 형성시킴으로써 막이 준비된다. 이 반사막은, 반사 표면이 산화에 의해 반사율의 감소를 방지하는, 즉, 초기 반사율을 오래 유지하는 관점과 보호막 등의 추가형성을 피하는 관점으로부터 투명 수지층, 편광막 또는 이와 유사한 막으로 덮이는 상태에서 바람직하게 사용된다.
상기의 미세 요철 구조의 반사층은 확산 반사에 의해 입사광을 확산시킴으로써, 직접 반사와 반짝임을 방지하여 보기 좋게 할 수 있고 명암의 불균일을 방지할 수 있는 장점을 갖는다. 또한, 미세 입자를 포함하는 투명 수지막은 입사광과 반사광을 층을 통과하는 도중에 확산시킴으로써 명암의 불균일을 제한할 수 있는 장점을 갖는다.
투명 수지층의 표면 미세 요철 구조를 반영시키는 미세 요철 구조의 반사층은 진공 증착, 이온 플레이팅, 또는 스퍼터링, 또는 플레이팅과 같은 적절한 방법과 같은 증착에 의해 투명 수지층의 표면 위에 금속을 직접 형성하는 방법에 의해 형성될 수 있다.
보호막 및 투명 보호층의 형성에 대해서는, 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 차습성 등에서 뛰어난 플라스틱 등이 바람직하게 사용된다. 플라스틱의 예로서는 폴리에스테르 수지, 아세테이트 수지, 폴리에테르 술폰 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리올레핀 수지, 아크릴 수지, 및 아크릴, 우레탄, 아크릴우레탄, 에폭시, 및 실리콘 열경화 또는 자외선 경화 수지 등이 있다.
투명 보호층은 플라스틱의 코팅 방법 또는 막의 적층 방법과 같은 적절한 방법에 의해 형성될 수 있다. 층의 두께는 적절하게 결정될 수 있지만, 일반적으로 5mm 이하이며 , 바람직하게는 1mm이하이고, 1 내지 500㎛가 더 선호된다.
표면의 미세 요철 구조의 투명 수지층의 형성에 사용되는 미세 입자는 이산화규소, 알루미나, 이산화 티타늄, 산화 지르코늄, 산화 주석, 산화 인듐, 산화 카드뮴, 또는 산화 안티몬과 같은 예컨대 0.5 내지 5 μm의 평균 입자 크기를 갖는 무기물 미세 입자 및 투명 수지층 내에서 투명도를 보이는 예컨대 교차 결합되거나 교차 결합되지 않은 중합체의 유기물 미세 입자이다. 사용된 미세 입자의 양은 일반적으로 투명 수지의 100 중량부당 2 내지 25 중량부이고 바람직하게는 5 내지 20 중량부이다.
광학 막의 기본 재질인 지연막의 예로서는 폴리카보네이트, 폴리비닐알콜, 폴리스티렌, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리프로필렌, 폴리올레핀, 폴리아크릴레이트, 또는 폴리아미드와 같은 적절한 플라스틱의 막을 신장함으로써 얻어진 복굴절성 막이다. 지연막은 지연과 같은 광 특성을 제어하기 위하여 두 종류 이상의 지연막을 적층시켜 형성될 수 있다.
광학 베이스 막인 타원 편광막 또는 반사형 타원 편광막은 편광막 또는 반사형 편광막 및 지연막을 적절한 조합으로 적층시켜 얻을 수 있는 막이고, 이와 같은 타원 편광막 등은 (반사형의) 편광막과 지연막을, 이들 막이 (반사형의) 편광막과 지연막의 조합을 형성하도록, 액정 표시 장치의 제조공정 중에 연속적으로 또한 별도로 적층시킴으로써 형성될 수 있다. 그러나 상술한 바와 같이 이전에 형성된 타원 편광막은 품질의 안정성과 적층 가공성 등에서 뛰어나고, 이는 액정 표시 장치의 생산 효율을 향상시킬 수 있다.
덧붙여, 편광막, 지연막, 보호막, 투명 보호층 등과 같은 광학 막형성층은 살리실 산 에스테르 혼합물, 벤젠 페놀 혼합물, 벤젠 트리아졸 혼합물, 시아노 아크릴 혼합물, 및 니켈 착염 혼합물 등과 같은 자외선 흡수재로 층을 처리하는 방법에 의해 자외선 흡수도가 부여될 수 있다.
광학 베이스 막의 단면 또는 양면에 형성된 압감 접착층들은 각각이 다른 응력 완화 시간을 갖는 압감 접착층의 조합을 포함하는 적층된 층들로서 형성되고,가장 긴 응력 완화 시간을 갖는 압감 접착층은 가장 밖의 위치에 배열된다. 층들의 수는 2개의 층 또는 3 이상의 층과 같은 적절한 수로 될 수 있다. 압감 접착층이 3 개 이상의 층의 복수층일 때, 광학 막의 가장 밖의 위치에 배열된 압감 접착층은 가장 긴 응력 완화 시간을 갖는 압감 접착층이다.
압감 접착층들이 3 개 이상의 층의 복수층일 때, 내부층에 대한 특별한 제한은 없다. 예컨대, 각 압감 접착층의 응력 완화 시간이 가장 밖의 압감 접착층의 가장 긴 완화 시간으로부터 연속적으로 줄어드는 복수층의 구조 또는 가장 짧은 응력 완화 시간을 갖는 압감 접착층이 복수층의 중간층으로 사용되는 복수층 구조와 같은 적절한 복수층 구조가 사용될 수 있다.
내열성과 내습성의 관점으로부터 양호한 복수층의 압감 접착층은 23℃에서 압감 접착층의 응력 완화 시간에 기초한 것이고, 가장 밖의 압감 접착층의 응력 완화 시간은 적어도 100초이고, 양호하게는 150 내지 1,000초, 보다 양호하게는 200 내지 500초이고, 가장 밖의 층 바로 아래의 압감 접착층의 응력 완화 시간은 300초 이하이고, 가장 밖의 압감 접착층의 응력 완화시간과 가장 밖의 층 바로 아래의 압감 접착층의 응력 완화 시간 사이의 차이는 적어도 50초이고, 양호하게는 적어도 60초이다.
복수층의 압감 접착층의 두께는 사용 목적에 따라 적절하게 결정될 수 있고 1mm를 초과할 수 있다. 그러나 광 특성과 형성 가공성의 관점으로부터 이의 두께는 일반적으로 3 내지 500㎛이고, 양호하게는 10 내지 100㎛이고, 보다 양호하게는 15 내지 30㎛이다. 이 경우에 있어서, 내열성과 내습성 등의 관점으로부터, 가장 밖의압감 접착층의 두께와 복수층 압감 접착층의 전체 두께에 대한 비율은 80% 이하이고, 양호하게는 2/3 이하이고, 보다 양호하게는 1/2 이하이고, 가장 양호하게는 1/10 내지 2/5 이다.
본 발명에 있어서, 압감 접착층은 각각이 다른 응력 완화 시간을 갖는 압감 접착층의 복수층으로서 형성된다. 압감 접착층의 형성을 위하여, 적절한 압감 접착층이 사용될 수 있고, 사용되는 압감 접착제의 종류에는 특별한 제한이 없다. 예컨대, 고무 압감 접착제, 아크릴 압감 접착제, 실리콘 압감 접착제, 우레탄 압감 접착제, 비닐 알킬 에테르 압감 접착제, 폴리비닐 알콜 압감 접착제, 폴리비닐 피롤리던 압감 접착제, 폴리아크릴아미드 압감 접착제, 및 셀룰로우스 압감 접착제 등이 있다. 특히, 아크릴 압감 접착제는 투명도, 내후성, 내열성 등에 뛰어나고, 양호하게 사용된다. 복수층 구조를 형성하는 압감 접착제 층은 동일 종류 또는 다른 종류의 적절한 조합을 포함할 수 있다.
아크릴 압감 접착제로서, 종래의 재질이 사용될 수 있다. 특히 아크릴 산을 포함하는 한 종류 이상의 아크릴 산 알킬 에스테르, 또는 n-부틸, t-부틸, 이소부틸, 아밀, 이소아밀, 헥실, 헵틸, 시클로헥실, 2-에틸헥실, 옥틸, 이소옥틸, 노닐, 이소노닐, 데실, 운데실, 라우릴, 트리데크릴, 테트라데크릴, 스테아릴, 및 옥타데실 등과 같은 직쇄 또는 4 내지 18 개의 탄소 원자를 갖는 분기 알킬기를 갖는 메타크릴릭 산 에스테르를 사용한 아크릴 중합체를 기본 중합체로서 사용하는 아크릴 압감 접착제는 압감 접착제 특성의 관점 으로부터 선호된다.
아크릴 중합체의 중량 평균 분자량은 양호하게 적어도 300,000 이고, 압감접착제 특성의 관점으로부터 보다 양호하게는 300,000 내지 1,500,000이다. 아크릴 중합체는 필요하다면, 기능기 또는 극성기의 도입에 의해 접착 특성을 개선하고, 형성된 공중합체의 유리 천이 온도를 제어함으로써 접착력과 내열성을 개선하고, 분자량의 증가와 같은 압감 접착제 특성을 수정하기 위한 목적을 위하여 교차 결합 반응성 등을 부여함으로써 상기 아크릴 산 알킬 에스테르 이외의 1 개 이상의 다른 종류의 적절한 모노머 성분과 공중합될 수 있다. 따라서, 사용되는 공중합을 위한 모노머 성분에 대한 특별한 제한은 없고, 아크릴 산 알킬 에스테르와 공중합될 수 있는 임의의 모노머 성분이 사용될 수 있다. 사용되는 양은 전체 모노머의 중량에 기초하여, 중량으로 50% 이하가 선호되고, 중량으로 40% 이하가 보다 더 선호된다.
모노머 성분의 예는 아크릴 산, 메타크릴 산, 카르복시에틸 아크릴레이트, 카르복시펜틸 아크릴레이트, 이타코닉 산, 말레익 산, 푸마르산, 크로토닉 산 등과 같은 모노머 및 말레익 무수물(無水物), 이타코닉 무수물 등과 같은 무수물 산 모노머를 포함하는 카르복시기 등이 있다. 사용되는 양은 압감 접착제 특성 등의 관점으로부터 양호하게 아크릴 산 알킬 에스테르의 100 중량부 당 20 중량부 이하가 선호된다.
또한, 수정을 위한 모노머 성분의 예로서 2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메트)아크릴레이트, 6-히드록시헥실 (메트)아크릴레이트, 8-히드록시옥틸 (메트)아크릴레이트, 10-히드록시데실 (메트)아크릴레이트, 12-히드록시라우릴 (메트)아크릴레이트, (4-히드록시-메틸시클로헥실)메틸 아크릴레이트 등과 같은 히드록시기 함유 모노머들과, 스티렌술포닉산, 알릴술포닉산, 2-(메트)아크릴아미도-2-메틸프로판술포닉산, (메트)아크릴아미도프로판 술포닉산, 술폰프로필(메트)아크릴, (메트)아크릴옥시나프탈렌술포닉산 등과 같은 술포닉산기 함유 모노머와, 2-히드록시에틸아크릴로일 인산염 등과 같은 인산기 함유 모노머가 있다.
더욱이, 수정을 위한 모노머 성분의 예로서, (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸 (메트)아크릴아미드, N-부틸 (메트)아크릴아미드, N-메틸롤 (메트)아크릴아미드, N-메틸롤프로판 (메트)아크릴아미드 등과 같은 (N-치환된)아미드 모노머와, 아미노에틸 (메트)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸 (메트)아크릴레이트, t-부틸아미노에틸 (메트)아크릴레이트 등과 같은 알킬아미노알킬 (메트)아크릴레이트 모노머와, 메톡시에틸 (메트)아크릴레이트, 에톡시에틸 (메트)아크릴레이트 등과 같은 알콕시알킬 (메트)아크릴레이트 모노머와, N-시클로헥실-말레이미드, N-이소프로필말레이미드, N-페닐말레이미드 등과 같은 말레이미드 모노머와, N-메틸이타콘이미드, N-에틸이타콘이미드, N-부틸이타콘이미드, N-옥틸이타콘이미드, N-2-에틸헥실이타콘이미드, N-시클로헥실이타콘이미드, N-라우릴이타콘이미드 등과 같은 이타콘이미드 모노머와, N-(메트)아크릴로일-6-옥시 헥사메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일-8-옥시옥타메틸렌숙신이미드 등과 같은 숙신이미드 모노머가 있다.
게다가, 에틸, n-프로필, 이소프로필 등과 같은 저알킬기를 갖는 알킬아크릴 에스테르 모노머와, 비닐 아세테이트, 비닐 프로피오네이트, N-비닐피롤리돈, 메틸비닐피롤리돈, 비닐피리딘, 비닐피퍼리돈, 비닐피리미딘, 비닐피퍼라진, 비닐피라진, 비닐피롤, 비닐이미다졸, 비닐옥사졸, 비닐모폴린, N-비닐카르복실 산 아미드,스티렌, α-메틸스티렌, N-비닐카프롤락탐 등과 같은 비닐 모노머와, 아크릴로니트릴, 메틸아크릴로니트릴 등과 같은 시아노아크릴레이트 모너머와, 글리시딜 (메트)아크릴레이트 등과 같은 에폭시기 함유 아크릴 모노머와, 폴리에틸렌 글리콜 (메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌 글리콜 (메트)아크릴레이트, 메틸옥시에틸렌 글리콜 (메트)아크릴레이트 등과 같은 글리콜 아크릴 에스테르 모노머와, 테트라히드록시푸르푸릴 (메트)아크릴레이트, 2-메톡시에틸 아크릴레이트 등과 같은 아크릴 산 에스테르 모노머도 수정을 위한 모노머 성분의 예가 될 수 있다.
수정을 위하여 사용된 모노머 성분의 양은 압감 접착제 특성 등의 관점으로부터 아크릴 산 알킬 에스테르의 100 중량부당 양호하게 50 중량부 이하이다.
한편, 필요하다면, 공중합을 위한 모노머 성분로서 다기능 아크릴 모노머 등이 사용될 수 있다. 이와 같은 다기능 아크릴레이트 모노머의 사용은 후교차 결합 동작에 의한 교차 결합 작용제의 추가 없이 전자선 등과 같은 방사물의 조사에 의해 교차 결합 처리를 적용할 수 있도록 한다.
다기능 아크릴 모노머의 예는 헥사네디올 (메트)아크릴레이트, (폴리)에틸렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, (폴리)프로필렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메트)아크릴레이트, 트리메틸롤프로판 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 폴리에스테르 아크릴레이트, 및 우레탄 아크릴 이다. 다기능 아크릴레이트 모노머는 단독 또는 2 종류 이상의 혼합물로서 사용될 수 있다. 사용되는 양은, 압감 접착제 특성, 아크릴중합체의 특성 유지 등의 관점으로부터, 전체 모노머의 중량에 기초하여 중량의 30 % 이하이다.
상기 한 종류의 모노머 또는 2 종류 이상의 혼합물에 대하여, 용액 중합 방법, 에멀전 중합, 벌크 중합 방법, 현탁 중합 방법 등과 같은 적절한 방법을 적용함으로써 아크릴 중합체가 준비될 수 있다. 벌크 중합 방법에 있어서, 자외선 조사에 의한 중합 방법이 양호하게 적용될 수 있다. 본 발명에서 양호하게 사용될 수 있는 아크릴 중합체의 중량 평균 분자량은 내열성, 내습성 등의 관점으로부터 적어도 100,000 이고, 양호하게는 400,000 내지 2,000,000 이다.
아크릴 중합체의 준비에 있어서, 필요하다면, 중합 개시제가 사용될 수 있다. 사용되는 양은 적절하게 결정될 수 있지만, 일반적으로 모노머의 전체 중량에 대하여 0.001 내지 5 % 중량이다. 중합 개시제로서 열중합 개시제, 광중합 개시제 등과 같은 적절한 개시제가 래디컬 중합(radical polymerization) 등과 같은 중합 방법에 따라서 사용될 수 있다.
열중합 개시제의 예는 벤졸 과산화물, t-부틸 퍼벤조에이트, 쿠멘 과산화물, 이소부틸퍼옥시 디카보네이트, 디-n-프로필퍼옥시 디카보네이트, 디(2-에톡시에틸)퍼옥시 디카보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카네이트, t-부틸퍼옥시 피발레이트, 디아세틸 과산화물 등과 같은 유기물의 과산화물이다.
또한 2,2'-아조비스이소부티로-니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카본니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸-발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸-4-메톡시발레로-니트릴), 디메틸2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 4,4'-아조비스(4-시아노발레릭산), 2,2'-아조비스(2-히드록시메틸-프로피오니트릴), 2,2'-아조비스[2-(2-이미다졸린-2-일)프로판], 등과 같은 아조 화합물이 열중합 개시제로서 사용될 수 있다.
한편, 광중합 개시제의 예는 4-(2-히드록시에톡시)페닐(2-히드록시-2-프로필)케톤, α-히드록시-α,α'-디메틸아세토페논, 에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 1-히드록시-시클로헥실 핀닐 케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)펜닐]-2-모폴리노포르판-1 등과 같은 아세토페논 개시제와 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 프로필 에테르, 아니조인 메틸 에테르 등과 같은 벤조인 에테르 개시제가 있다.
또한 2-메틸-2-히드록시프로피오페논 등과 같은 α-케톨 화합물과, 벤질메틸케탈 등과 같은 케탈 화합물과, 2-나프탈렌술포닐 클로라이드 등과 같은 아로마틱 술포닐 클로라이드 화합물과, 1-페논-1,1-프로파네디온-2-(o-에톡시-카르보닐)옥시메 등과 같은 광감응 옥시메 화합물과, 벤조일 벤조네이트, 3-3'-디메틸-4-메톡시벤조페논 등과 같은 벤조페논 화합물과, 티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2,4-디메틸티옥산톤, 이소프로필티옥산톤, 2,4-디클로로-티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디이소프로필-티옥산톤 등과 같은 티옥산톤 화합물과, 캄포르퀴논, 할로겐화 케톤, 아크릴포스폰옥사이드, 아크릴포스포네이트 등이 광중합 개시제로서 사용될 수 있다.
다른 중합 개시제의 예는 칼륨 퍼술페이트, 암모늄 퍼술페이트, 하이드로겐 퍼옥사이드, 및 이들 화합물 및 환원제를 사용하는 레독스 개시제가 있다.
상기와 같이, 본 발명에 있어서, 압감 접착층들은 내부 교차 결합 방법, 외부 교차 결합 방법 등과 같은 적절한 방법에 의한 교차 결합 처리를 할 수 있다. 내부 교차 결합된 아크릴 중합체는, 예컨대 다기능 모노머 성분을 사용하는 열중합 개시제에 의한 래디컬 중합 방법, 광중합 개시제에 의한 방사선 중합 방법을 적용함으로써, 준비될 수 있다. 한편, 외부 교차 결합은 압감 접착제에서 분자간 교차 결합 작용제를 혼합하는 방법, 압감 접착층을 방사선에 의해 조사하는 방법 등에 의해 수행될 수 있다. 외부 교차 결합 방법의 경우에 있어서도, 교차 결합 효율은 아크릴 중합체 내의 다기능 모노머 성분을 공중합시킴으로써 개선될 수 있다.
분자간 교차 결합 작용제로서, 적절한 교차 결합 작용제가, 분자간 교차 결합에 기여하는, 아크릴 중합체 등과 같은 기본 중합체 내의 기능기의 종류 등에 따라 사용될 수 있고, 분자간 교차 결합 작용제에 대해서는 특별한 제한이 없다. 따라서, 종래의 분자간 교차 결합 작용제들이 사용될 수 있다. 이의 예는 톨리렌 디이소시안트, 트리메틸롤프로판톨리렌 디이소시안네이트, 디페닐메탄 트리이소시안네이트 등과 같은 다기능 이소시안네이트 교차 결합 작용제와; 폴리에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 디글리시딜 에테르, 트리메틸롤프로판 트리글리시딜 에테르 등과 같은 에폭시 교차 결합 작용제와 멜라민 수지 교차 결합 작용제와, 금속 첼레이트 교차 결합 작용제와, 아미노 수지 교차 결합 작용제와, 퍼옥사이드 교차 결합 작용제 등을 들 수 있다.
사용된 분자간 교차 결합 작용제의 양은 교차 결합 효율, 압감 접착 특성 등에 따라 적절하게 결정될 수 있고, 양에 대한 특별한 제한은 없다. 그러나 이의 양은 일반적으로 기본 중합체의 중량에 기초하여 중량으로 20%이하이고, 양호하게는 중량으로 15%이하, 보다 양호하게는 중량으로 0.5 내지 10 %이다.
본 발명의 압감 접착층들은 필요하다면, 천연 또는 합성 수지, 택키파이어(tackifier), 가소제, 연화제, 글라스 파이버, 글라스 비드, 금속 분말, 칼슘 카보네이트와 점토 등과 같은 무기물 분말을 포함하는 충전제, 안료, 착색제, 산화 방지제 등과 같은 압감 접착제에 일반적으로 사용되는 다양한 첨가제와 혼합될 수 있다. 또한, 미세 입자들은 광 확산 특성을 나타내는 압감 접착층을 제공하기 위해 압감 접착층에 포함될 수 있다. 이들 첨가제들에서, 택키파이어는 접착력을 향상시키는데 유용하다. 적절한 종래의 택키파이어가 본 택키파이어로서 사용될 수 있다.
실온에서 접착력을 유지하고 상기의 저온 접착력을 개선하는 경우에 있어서, 가소제 또는 연화제의 사용이 유용하다. 가소제와 연화제로서, 종래 및 적절한 것이 사용될 수 있다. 특히 , 낮은 휘발성과 높은 비등점을 갖는 가소제와 연화제가 선호된다. 가소제와 연화제의 예로는 디메틸 프탈레이트, 디에틸 프탈레이트, 디부틸 프탈레이트, 디헵틸 프탈레이트, 디-2-에틸헥실 프탈레이트, 디이소노닐 프탈레이트, 디이소데실 프탈레이트, 디부틸벤질 프탈레이트, 디옥틸 프탈레이트, 부틸프탈리부틸 글리콜레이트 등과 같은 프탈 산 화합물과 트리부틸 트리멜리테이트, 트리-2-에틸헥실 트리멜리테이트, 트리-n-옥틸 트리멜리테이트, 트리이소데실 트리멜리테이트 등과 같은 트리멜리트 산 화합물을 들 수 있다.
또한, 디부틸 푸마르, 디부틸 말리에이트, 디-2-에틸헥실 말리에이트, 디이소부틸 아디페이트, 디이소노닐 아디페이트, 디이소데실 아디페이트, 디부톡시에틸 아디페이트, 디부틸 세바케이트, 디-2-에틸헥실 세바케이트 등과 같은 지방성의 2염기산 에스테르 화합물과, 트리에틸 인산염, 트리페닐 인산염, 트리크레실 인산염, 트리크실fp닐 인산염, 크레실페닐 인산염 등과 같은 인산 에스테르 화합물과, 디이소데실-4,5-에폭시테트라히드로 프탈레이트 등과 같은 에폭시 화합물과, 부틸 유산염과, 염화 파라핀과, 폴리부텐과, 폴리이소부틸렌 등이 가소제와 연화제의 예이다.
압감 접착층은 적절한 방법에 의해 광학 베이스 막의 단면 또는 양면위에 형성될 수 있다. 방법의 예는, 톨루엔, 에틸 아세테이트 등과 같은 적절한 유기 솔벤트 중에 용액 또는 물과의 분산 또는 에멀전으로서 고체 성분의 10 내지 40 % 중량을 포함하고 주물 방법, 코팅 방법 등과 같은 적절한 형성 방법에 의해 광학 베이스 막 상에 압감 접착제 액체를 직접 형성하는 압감 접착제 액체를 준비하는 방법과, 광학 베이스 막 상에 모노머 성분들의 혼합물로서 압감 접착제를 코팅하고 코팅된 층을 방사선으로 조사하는 방법과, 상기 방법에 의해 분리층 상에 형성된 압감 접착층을 광학 베이스 막 상에 전사시키는 방법을 들 수 있다. 따라서, 압감 접착층의 복수층은 웨트-온-웨트(wet-on-wet) 코팅 방법 또는 전사 적층 방법과 같은 적절한 방법에 의해 형성될 수 있다.
압감 접착제의 코팅된 층을 방사선의 조사에 의한 중합 처리를 수행함에 있어서, 원하는 압감 접착 특성을 얻기 위한 관점으로부터 질소 등과 같은 불활성 가스로 대체되고 또는 광-투과막으로 덮인 상태와 같은 공기 차폐 상태의 분위기에서중합을 수행하는 것이 선호된다. 대략 500 내지 5,000 c.p.의 점도를 갖는 모노머 성분의 코팅 가능한 시럽 액체가 모노머 성분을 미리 중합 처리를 하거나 증발된 실리카와 같은 틱소트로픽 작용제를 모노머 성분과 광중합 개시제의 혼합물에 첨가함으로써 준비되고, 시럽 액체는 광학 베이스 막 또는 분리층 상에 코팅되고, 코팅된 층은 방사선에 의해 다시 조사되며, 이에 의해 원하는 압감 접착층이 형성될 수 있다. 이 경우에 있어서, 광중합 개시제는 2 이상의 부분을 분리시킴으로써 첨가될 수 있다.
덧붙여, 코팅된 층을 자외선으로 조사함에 있어서, 처리 효율 등의 관점에 있어서 180 내지 460nm의 파장 범위를 갖는 자외선이 선호된다. 자외선의 방출원으로서는 수은 아크, 탄소 아크, (저압, 중간압 또는 고압) 수은 램프, 및 금속 할로겐 램프 등과 같은 적절한 조사 장치가 사용될 수 있다. 조사량은 중합 환경 등에 따라서 적절하게 결정될 수 있지만, 일반적으로 약 400 내지 3,000 mj/cm2이다.
압감 접착층의 응력 완화 시간의 제어는 유리 천이 온도의 제어, 분자량 제어, 및 사용된 교차 결합 작용제의 양을 제어함에 의한 교차 결합 밀도의 제어와 같은 적절한 방법에 의해 수행될 수 있다. 덧붙여, 광학 베이스 막의 양면상에 복수층의 압감 접착층을 형성함에 있어서, 압감 접착층의 조성, 종류 등이 광학 베이스 막의 전면 표면과 후면 표면 사이에서 변할 수 있다.
압감 층이 표면에 노출될 때, 실제 사용 전에 층의 표면을 분리층으로 보호하는 것이 바람직하다. 덧붙여 광학 베이스 막의 표면 위에 압감 접착층의 형성 시에, 압감 접착층의 접착성을 개선하기 위하여 광학 베이스 막의 표면에 하부 코팅이 형성될 수 있다.
더욱이, 본 발명의 광학 막의 형성에서, 내습성, 내열성 등의 관점으로부터, 보호막 등과 같은 다양한 종류의 막의 적층을 위한 재질로서 광학 베이스 막 상에 형성된 압감 접착층과 유사한 재질을 사용하는 것이 선호된다.
본 발명의 광학 막은 액정 표시 장치의 형성과 같은 적절한 용도를 위하여 사용될 수 있다. 액정 표시 장치의 형성은 본 발명의 광학 막을 압감 접착층을 통해 액정 셀의 단면 또는 양면에 부착시킴에 의해 수행될 수 있다. 액정 셀로의 광학 막의 부착은, 편광막, 지연막 등이 한정된 위치에 배치되고 이들의 배치된 위치가 종래의 위치를 따르도록 수행된다. 본 발명의 광학 막은 특히 유리판을 사용하는 액정 셀에 양호하게 사용될 수 있다.
이 관계에 있어서, 본 발명의 광학 막을 액정 표시 장치 내에 배치시키는 예는 도 3 및 도 4에 도시되며, 참조 번호(5)가 액정 셀을 도시하고 다른 참조 번호는 도 1 및 도 2와 동일하다. 덧붙여 도 3에 도시된 액정 표시 장치는 반사층(23)이 편광막(21) 상에 형성된 즉, 반사층(23)이 액정 셀의 한 면의 외부 측에 배치된 반사형 표시 장치이다. 또한, 도 4에 도시된 액정 표시 장치는 지연막(22)을 사용한다. 지연막은 착색(coloring)을 방지하고 가시 범위를 확장하기 위한 목적으로 액정 셀의 지연을 보상하기 위해 사용된다. 이 경우에 있어서, 지연막은 편광막을 적층시켜 형성된 타원 편광막으로서 사용될 수 있다.
본 발명의 광학 막은 유연성을 갖고, 곡면과 대면적면에 쉽게 적용될 수 있다. 따라서, 본 발명의 광학 막은, 예컨대 박막 트랜지스터형의 액정 셀과 같은 액티브 매트릭스 구동형 액정 셀과 트위스트 네마틱형 액정 셀과 슈퍼 트위스트 네마틱형 액정 셀과 같은 단순한 매트릭스 구동형 액정 셀의 선택 액정 셀(optional liquid crystal cells)과 같은 적절한 형태의 액정 셀에 적용시켜 다양한 종류의 액정 표시 장치를 형성할 수 있다.
본 발명은 다음의 기준 예, 예 및 비교 예를 통해 보다 상세하게 설명되지만, 본 발명은 이에 국한되는 것으로 해석되지 않음을 이해해야 한다. 별도의 표시가 없는 한, 모든 퍼센트, 부(part), 비율 및 이와 유사한 것은 중량에 관한 것이다.
참조 예 1
응축 장치, 질소 가스 도입 파이프, 온도계, 및 교반기를 갖는 반응 용기 내에 95부의 부틸 아크릴, 5부의 아크릴산, 및 120부의 에틸 아세테이트와 함께 0.3부의 2,2'-아조비스이소부티론니트릴이 배치되었다. 질소 가스의 흐름 하에서 60℃에서 4시간, 다음에 80℃에서 2시간 반응을 수행한 후, 중량으로 40%의 고체 성분 농도를 갖는 아크릴 공중합체(변환:99%, 중량 평균 분자량 : 800,000)의 용액을 얻기 위하여 반응 액체에 에틸 아세테이트가 첨가되었다. 아크릴 압감 접착제를 얻기 위하여, 용액이 아크릴 중합체의 100 부당 0.5 부의 트리메틸롤프로판에토릴렌 디이소시안에이트와 혼합했다. 압감 접착층을 제공하기 위하여, 압감 접착제는 실리콘 계열 방출 작용제로 표면 처리된 후 150℃에서 5분 동안 열처리된 폴리에스테르 막으로 구성된 분리층 상에 코팅되었다.
상기 아크릴 압감 접착제로 구성된 압감 접착층의 응력 완화 시간은 230초였다. 덧붙여, 응력 완화 시간은 다음의 시간이다. 즉, 5㎟의 단면적과 30mm의 길이를 갖는 압감 접착층 샘플이 형성되고, 이 샘플은, 10mm의 척 거리, 300mm/분의 인장(tensile) 속도, 및 100%의 인장 거리의 조건하에서, 실온에서 신장되고, 인장 응력이 최대 응력의 1/e로 감소하는 시간이 응력 완화 시간이다(이후로도 동일).
참고 예 2
아크릴 압감 접착제를 얻기 위한 트리메틸롤프로판에토릴렌 디이소시안에이트의 혼합량이 2.0 부로 바뀐 것을 제외하면 참조 예 1에서와 동일한 과정이 이어졌다. 압감 접착층은 참조 예 1에서와 동일한 방법으로 분리층 상에 형성되었다. 압감 접착층의 응력 완화 시간은 360초였다.
참조 예 3
중량으로 40%의 고체 성분 농도를 갖는 아크릴 공중합체(변환:99%, 중량 평균 분자량 : 400,000)의 용액을 얻기 위하여, 57부의 부틸 아크릴, 40부의 2-에틸헥실 아크릴 및 3부의 아크릴산을 사용하여 참조 예 1과 동일한 절차가 이어졌다. 용액은 아크릴 공중합체 100부 당 1.0부의 트리메틸롤프로판에토릴렌 디이소시안에이트와 혼합되었고, 압감 접착층은 상기 공중합체를 이용하여 분리층 위에 형성되었다. 압감 접착층의 응력 완화 시간은 68초였다.
참조 예 4
1,100,000의 중량 평균 분자량을 갖는 아크릴 공중합체의 용액을 얻기 위하여, 중합 조건을 변화시키면서 동일한 모노머 조성을 사용하여 참조 예 1과 동일한절차가 이어졌다. 용액은 아크릴 공중합체의 100부당 1.0부의 트리메틸롤프로판에토릴렌 디이소시안에이트와 혼합되고, 압감 접착층은 상기 공중합체를 이용하여 분리층 위에 형성되었다. 압감 접착층의 응력 완화 시간은 420초이다.
예 1
참조 예 1에서와 동일한 다음의 절차에 의해 얻어진 15㎛의 두께를 갖는 압감 접착층이 편광막(NPF-G5220DU, 상표명, 닛토 덴코사제)의 표면상에 전사되었다. 광학 막을 얻기 위하여 참조 예 2에서와 동일한 다음의 절차에 의해 얻어진 10㎛의 두께를 갖는 압감 접착층이 전사되고 이렇게 전사된 압감 접착층 위에 적층되었다.
예 2
참조 예 3에서와 동일한 다음의 절차에 의해 얻어진 10㎛의 두께를 갖는 압감 접착층이 예 1에서 사용된 것과 동일한 편광막의 표면상에 전사되었다. 광학 막을 얻기 위하여 참조 예 2에서와 동일한 다음의 절차에 의해 얻어진 10㎛의 두께를 갖는 압감 접착층이 전사되고 이렇게 전사된 압감 접착층 위에 적층되었다.
예 3
참조 예 2에서와 동일한 다음의 절차에 의해 얻어진 10㎛의 두께를 갖는 압감 접착층이 예 1에서 사용된 것과 동일한 편광막의 표면상에 전사되었다. 3층 구조의 압감 접착층을 갖는 광학 막을 얻기 위하여 참조 예 1에서와 동일한 다음의 절차에 의해 얻어진 10㎛의 두께를 갖는 압감 접착층들이 이렇게 전사된 압감 접착층 위에 전사되었고, 추가로 참조 예 2에서와 동일한 다음의 절차에 의해 얻어진 10㎛의 두께를 갖는 압감 접착층이 이렇게 전사된 압감 접착층 위에 전사되었다.
예 4
참조 예 1에서와 동일한 다음의 절차에 의해 얻어진 20㎛의 두께를 갖는 압감 접착층이 예 1에서 사용된 것과 동일한 편광막의 표면상에 전사되었다. 광학 막을 얻기 위하여 참조 예 2에서와 동일한 다음의 절차에 의해 얻어진 5㎛의 두께를 갖는 압감 접착층이 이렇게 전사된 압감 접착층 위에 전사되었다.
예 5
참조 예 1에서와 동일한 다음의 절차에 의해 얻어진 18㎛의 두께를 갖는 압감 접착층이 예 1에서 사용된 것과 동일한 편광막의 표면상에 전사되었다. 광학 막을 얻기 위하여 참조 예 4에서와 동일한 다음의 절차에 의해 얻어진 5㎛의 두께를 갖는 압감 접착층이 이렇게 전사된 압감 접착층 위에 전사되었다.
비교 예 1
광학 막을 얻기 위하여 참조 예 1에서와 동일한 다음의 절차에 의해 얻어진 25㎛의 두께를 갖는 압감 접착층이 예 1에서 사용된 것과 동일한 편광막의 표면상에 전사되었다.
비교 예 2
광학 막을 얻기 위하여 참조 예 2에서와 동일한 다음의 절차에 의해 얻어진 25㎛의 두께를 갖는 압감 접착층이 예 1에서 사용된 것과 동일한 편광막의 표면상에 전사되었다.
비교 예 3
광학 막을 얻기 위하여 참조 예 3에서와 동일한 다음의 절차에 의해 얻어진25㎛의 두께를 갖는 압감 접착층이 예 1에서 사용된 것과 동일한 편광막의 표면상에 전사되었다.
비교 예 4
참조 예 1에서와 동일한 다음의 절차에 의해 얻어진 3㎛의 두께를 갖는 압감 접착층이 예 1에서 사용된 것과 동일한 편광막의 표면상에 전사되었다. 광학 막을 얻기 위하여 참조 예 2에서와 동일한 다음의 절차에 의해 얻어진 22㎛의 두께를 갖는 압감 접착층이 이렇게 전사된 압감 접착층 위에 전사되었다.
평가 테스트
내열성 :
예들 및 비교 예들에서 얻어진 각 광학 막들은 50℃ 및 3kg/cm2의 조건하에서 각 압감 접착층을 통해 1.3mm의 두께를 갖는 유리판에 압착 부착되었다. 조립체를 90℃의 분위기에서 500 시간 가열한 후, 발포 및 박리의 존재 여부가 시각적으로 관측되었다. 이 경우에 있어서, 발포 및 박리가 모두 발생하지 않은 샘플은 훌륭한 것(0 )으로 평가되었고, 발포가 발생한 샘플은 나쁜 것(× )으로 평가되었으며, 발포가 시각 특성에 나쁜 영향을 미친 샘플은 최악(× × )으로 평가되었다. 덧붙여, 박리는 각 샘플에서 관측되지 않았다.
내습성 :
예들 및 비교 예들에서 얻어진 각 광학 막들은 각 압감 접착층을 통해 1.3mm의 두께를 갖는 유리판에 압착 부착되었다. 조립체를 50℃ 및 90% R.H. 의 분위기에서 1,000 시간 가열한 후, 발포 및 박리의 존재 여부가 시각적으로 관측되었다. 이 경우에 있어서, 박리가 모두 발생하지 않은 샘플은 훌륭한 것(0 )으로 평가되었고, 박리가 발생한 샘플은 나쁜 것(× )으로 평가되었다. 덧붙여, 발포는 각 샘플에서 관측되지 않았다.
얻어진 결과는 다음의 표에 도시되었다.
Figure pat00001
이상 본 발명을 상세히 그리고 특정 실시예를 참조하여 설명하였지만, 이 기술 분야에서 숙련된 사람에게는 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 여러 가지 변경에 및 변형예가 만들어 질 수 있음이 명백할 것이다.

Claims (5)

  1. 광학 베이스 막의 단면 또는 양면 상에 압감 접착층들(pressure-sensitive adhesive layers)의 복수층들을 갖는 광학 베이스 막을 포함하는 광학 막에 있어서,
    상기 복수층들은 상이한 응력 완화 시간(different stress relaxation time)을 각각 갖는 압감 접착층들의 조합을 포함하고,
    가장 긴 응력 완화 시간을 갖는 압감 접착층이 가장 밖의 위치에 배치되고,
    가장 긴 응력 완화 시간을 갖는 상기 압감 접착층의 두께는 압감 접착층들의 전체 두께의 80% 이하인, 광학 막.
  2. 제 1 항에 있어서, 23℃에서 압감 접착층들의 응력 완화 시간은 가장 밖의 압감 접착층에서 적어도 100초이고, 가장 밖의 층 아래의 압감 접착층에서는 300초 이하이며, 가장 밖의 층의 응력 완화 시간과 가장 밖의 층 아래의 충의 응력 완화 시간 사이의 차이는 적어도 50초인, 광학 막.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 광학 베이스 막은 편광막, 반사형 편광막, 지연막 중 어느 하나인, 광학 막.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 광학 베이스 막은 압감 접착층을 통해 편광막과 지연막을 적층시켜 얻어진 타원 편광막 또는 압감 접착층을 통해 반사형 편광막과 지연막을 적층시켜 얻어진 반사형 타원 편광막인, 광학막.
  5. 액정 표시 장치에 있어서, 액정 셀의 단면 또는 양면에 청구항 제 1항에 기재된 바와 같이 광학 막의 적어도 한 장이 부착된 액정 셀을 포함하는, 액정 표시 장치.
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