KR100214535B1 - 엘디디 구조 모스 트랜지스터 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 고에너지 이온주입법(High Energy Ion Implatation)으로 엘디디(LDD) 구조 소스/드레인영역을 형성하는 엘디디(LDD) 구조 모스트랜지스터 제조방법에 관한 것으로, 실리콘기판 위에 게이트산화막 및 게이트전극을 형성하기 위한 폴리실리콘층을 형성한 후, 그위에 고농도 소스/드레인영역을 정의하는 레지스트패턴을 형성하는 단계와; 그 레지스트패턴을 마스크로 하여, 고에너지로 고농도 불순물이온을 주입하는 단계와; 상기 레지스트패턴을 마스크로하는 상기 폴리실리콘층에 대한 선택적 식각으로 게이트전극을 형성함에 있어서, 그 게이트전극의 길이가 상기 레지스트패턴 보다 소정의 길이 만큼 감소되도록 상기 폴리실리콘층을 과식각하는 단계와; 상기 게이트전극을 마스크로 하여, 저에너지로 저농도 불순물이온을 주입하는 단계 및 그 이온주입층을 어닐링하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성된 본 발명은, 그 제조공정이 단순하면서도 원하는 LDD 구조 소스/드레인영역을 형성할 수 있는 효과가 있다.

Description

엘디디(LDD) 구조 모스(MOS)트랜지스터 제조방법
본 발명은 엘디디(LDD)구조를 갖는 모스(MOS)트랜지스터 제조방법에 관한 것으로, 특히 고에너지 이온주입법(High Energy Ion Implatation)으로 엘디디(LDD) 구조 소스/드레인영역을 형성함으로써, 제조공정이 간단하게 이루어지도록 한 엘디디(LDD) 구조 모스트랜지스터 제조방법에 관한것이다.
종래의 통상적인 엘디디 구조를 갖는 모스트랜지스터 제조방법에 대해서 도 1a-도 1c를 참조하여 설명하면 다음과 같다.
우선, 도 1a에 도시된 바와 같이 P(N)형 실리콘기판(110) 위에 게이트산화막(121)과 제 1 HLD산화막(141)에 의하여 절연된 게이트전극(131)을 형성한 후, 그 게이트전극(131) 위에 있는 제 1 HLD산화막(141)을 마스크로 하는 이온주입공정으로 실리콘기판(110)의 양측에 얕은 접합의 저농도 N-(P-) 불순물 확산영역(151)을 형성하고, 그 위에 제 2 HLD산화막(160)을 형성한 후 그를 전면식각(Etch-back)함으로써, 도 1b에 도시된 바와 같은 LDD 측벽스페이서(161)를 형성하였다.
이후, 도 1c에 도시된 바와 같이 상기 LDD 측벽스페이서(161)을 포함하는 게이트전극(131) 위에 있는 제 1 HLD산화막(141)으로 마스킹(Masking)하는 이온주입공정으로 깊은 접합의 고농도 N-(P-)불순물 확산영역(152)을 형성한 후, 그 불순물 확산영역(152,152)을 어닐링(Annealing)함으로써 LDD 구조 소스/드레인영역(151,152)을 갖는 모스트랜지스터를 완성하였다.
이상에서 설명한 소스/드레인영역(151,152)이 LDD 구조로 형성되는 모스트랜지스터는, 핫 캐리어 효과(Hot Carrier Effect)를 방지할 수 있는 효과가 있는 것으로, 고집적반도체소자에 일반적으로 적용되고 있다.
그러나, 상기와 같은 종래 기술은, LDD 구조 소스/드레인영역(151,152)을 형성하기 위해서 LDD 측벽스페이서(161)를 형성해야 할 뿐만 아니라 게이트전극(131) 위에 마스킹 막으로 사용하기 위한 제 1 HLD산화막(141)을 형성해야 하는 공정이 필요하기 때문에, 전체적인 제조공정이 복잡하게 되는 단점이 있었다.
이에 본 발명은 상기와 같은 단점을 개선하기 위하여 창안한 것으로, 고에너지 이온주입법(High Energy Ion Implantation)으로 LDD구조의 소스/드레인을 형성함으로써, 그의 제조공정이 간단하게 이루어지도록 한 LDD 구조 모스트랜지스터 제조방법을 제공함에 목적이 있다.
제1a도-제1c도는 종래의 통상적인 엘디디 구조를 갖는 모스트랜지스터 제조방법을 나타낸 공정 단면도.
제2a도-제2e도는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 LDD 구조 N모스트랜지스터 제조방법을 나타낸 공정 단면도.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
210 : 실리콘기판 221 : 게이트 산화막
231 : 게이트전극 251 : 고농도 소스/드레인영역
252 : 저농도 소스/드레인영역 270 : 포토레지스트
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 실리콘기판 위에 게이트산화막 및 게이트전극을 형성하기 위한 폴리실리콘층을 형성한 후, 그위에 고농도 소스/드레인영역을 정의하는 레지스트패턴을 형성하는 단계와; 그 레지스트패턴을 마스크로 하여, 고에너지로 고농도 불순물이온을 주입하는 단계와; 상기 레지스트패턴을 마스크로 하는 상기 폴리실리콘층에 대한 선택적 식각으로 게이트전극을 형성함에 있어서, 그 게이트전극의 길이가 상기 레지스트패턴 보다 소정의 길이 만큼 감소되도록 상기 폴리실콘층을 과식각하는 단계와; 상기 게이트전극을 마스크로하여, 저에너지로 저농도 불순물이온을 주입하는 단계 및 그 이온주입층을 어닐링하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부된 도 2a-도 2e의 공정 단면도를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 LDD 구조 N모스트랜지스터 제조방법에 대해서 설명하면 다음과 같다.
우선, 도 2a에 도시된 바와 같이 P형 실리콘기판(210) 위에 게이트산화막(220) 및 게이트전극을 형성하기 위한 폴리실리콘층(230)을 형성한 후, 그 위에 N형 고농도 소스/드레인영역을 정의하는 레지스트패턴(270)을 형성하다. 이때, 상기 레지스트패턴(270)은 게이트전극패턴을 기준으로 하여 그 게이트전극패턴의 길이보다 크게 형성되는 것이 적당하다.
이후, 도 2b에 도시된 바와 같이 상기 레지스트패턴(270)을 마스크로 하여, 상기 폴리실리콘층(230) 및 게이트산화막(220)을 관통함과 아울러 실리콘기판(210)에서 깊은 접합을 이룰 수 있는 고에너지로 고농도 비소이온(As+)을 주입한다. 이에 따라, 실리콘기판(210)의 깊은 영역에서 접합을 이루는 고농도 N형 소스/드레인영역(251)이 형성된다.
이어서, 도 2c에 도시된 바와 같이 상기 레지스트패턴(270)을 마스크로 하는 상기 폴리실리콘층(230)에 대한 선택적 식각으로 게이트전극(231)을 형성함에 있어서, 그 게이트전극(231)의 길이가 상기 레지스패턴(270) 보다 소정의 길이(280의 2배) 만큼 감소되도록 그 폴리실리콘층(230)을 과식각(Overetch)한 후, 도 2d에 도시된 바와 같이 상기 게이트전극(231)을 마스크로 하여, 실리콘기판(210)에서 얕은 접합을 이룰 수 있는 저에너지로 저농도 인이온(P+)을 주입한다. 이때, 상기 저농도 인이온(P+)의 주입은 경사/회전(Tilt Rotation) 이온주입법으로 이루어지는 것이 바람직하다. 이에 따라, 얕은 접합을 이루면서 게이트전극(231)과 겹치는 저농도 N형 소오스/드레인영역(252)이 형성된다.
마지막으로, 상기 이온주입층(251,252)에 대해서 어닐링을 수행함으로써, 도 2e에 도시된 바와 같은 깊은 접합의 N형 고농도영역(251)과 채널영역 사이에 얕은 접합의 N형 저농도 영역(252)이 형성되는 LDD 구조 N형 소오스/드레인영역을 갖는 N모스트랜지스터를 완성하게 된다.
이와같은 LDD 구조 N모스트랜지스터 제조방법은 LDD 구조 P모스트랜지스터 제조방법에도 적용될 수 있는 것으로, 그 전체적인 제조공정이 간단하면서도 종래 기술에 따른 LDD 구조 모스트랜지스터와 동일한 LDD 구조를 형성할 수 있음을 알수 있다.
상술한 바와 같이, 고에너지 이온주입법을 이용하여 LDD 구조 소스/드레인영역을 형성하는 본 발명은, 그 제조공정이 단순하면서도 원하는 LDD 구조 소스/ 드레인영역을 형성할 수 있는 효과가 있다.

Claims (3)

  1. 실리콘기판 위에 게이트산화막 및 게이트전극을 형성하기 위한 폴리실리콘층을 형성한 후, 그 위에 고농도 소스/드레인영역을 정의하는 레지스트패턴을 형성하는 단계와; 그 레지스트패턴을 마스크로 하여, 고에너지로 고농도 불순물이온을 주입하는 단계와; 상기 레지스트패턴을 마스크로 하는 상기 폴리실리콘층에 대한 선택적 식각으로 게이트전극을 형성함에 있어서, 그 게이트전극의 길이가 상기 레지스트패턴 보다 소정의 길이 만큼 감소되도록 상기 폴리실리콘층을 과식각하는 단계와; 상기 게이트전극을 마스크로 하여, 저에너지로 저농도 불순물이온을 주입하는 단계 및 그 이온주입층을 어닐링하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 엘디디(LDD) 구조 모스(MOS)트랜지스터 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 고농도 소스/드레인 영역을 정의하는 레지스트패턴은 게이트전극패턴을 기준으로 하여 그 게이트전극패턴의 길이 보다 크게 형성되는 것을 특징으로 하는 엘디디(LDD) 구조 모스(MOS)트랜지스터 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 고에너지로 고농도 불순물이온을 주입하는 단계는 이온이 게이트전극을 형성하기 위한 폴리실리콘층 및 게이트산화막을 관통함과 아울러 그 아래의 실리콘기판에서 깊은 접합을 이룰 수 있는 에너지로 주입되는 것을 특징으로 하는 엘디디(LDD) 구조 모스(MOS)트랜지스터 제조방법.
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