KR0139273B1 - 고순도 노보락 에폭시 수지의 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발병은 주로 전기, 전자 산업에 사용되는 고순도 노보락 에폭시 수지의 제보방법에 대한 것으로, 다가페놀류 중에서 선택한 1종의 화합물고 에피클로로히드린을 반응시켜 다가 페놀류의 글리시딜에테르 화합물을 제조하는데 있어서, 극성용매와 고형 알카리 금속 수산화물 존재하에서 상압의 온화한 조건으로 클로로히드린반응과 폐환반응을 구분 실시하고 정제반응을 행하는 삼단계의 반응공정으로 구성된다.

에폭시 수지의 가수분해성 염소를 용이하게 저감시킬 수 있고, 높은 수율을 얻는 방법으로 저가수분해성 염소 함량을 가지는 고순도 에폭시 수지의 제조에 유리하며, 특히 전기, 전자 재료의 봉지재 원료로 사용하는 고순도 노보락형 에폭시 수지의 제조에 적용함으로서 전기 절연성의 저하, 리드선의 부식등을 방지할 수 있어 전기, 전자 재료의 신뢰도를 더욱 높일 수 있다.

Description

고순도 노보락 에폭시 수지의 제조방법

본 발명은 주로 전기, 전자 산업에 사용되는 고순도 노보락 에폭시 수지의 제조방법에 관한 것이다. 다가 페놀류의 글리시딜에테르 같은 에폭시 수지의 경화제와 반응시켜, 높은 가교 밀도와 내약품성, 내습성, 내열성 등의 경화 특성이 우수한 경화물을 얻을 수 있어, 최근 전기, 전자 산업용 봉지재료로 널리 사용되고 있다.

그러나 가수분해성 염소 함유량이 많은 에폭시 수지를 전기, 전자 산업용 봉지재로 사용할 경우, 경화물의 흡습으로 인하여 염소분이 가수분해되어 염소 이온이 유리되고, 이 유리된 염소 이온이 전기, 전자 재료의 전기 절연성 저하, 리드선의 부식등 각종 문제를 발생시킨다. 특히, 반도체를 사용하는 집적회로의 봉지재 원료로 사용하는 다가 페놀류의 글리시딜에테르 같은 에폭시 수지는 가수분해성 염소 함유량을 적게 하는 것이 필수적이고, 이러한 상기의 이유들로 인해 가수분해성 염소 함유량이 적은 다가 페놀류의 에폭시 수지의 제조가 필요하게 되었다.

가수분해성 염소를 저감시키기 위해 여러 가지 제조방법이 제안되었는데, 미국특허 제4,137,220호에서는 물과 에피클로로히드린을 60∼80℃의 온도와 감압하에서 공비시켜 연속적으로 물을 제거하면서 40∼50%의 알카리 금속 수산화물 수용액을 연속 저하시켜 노보락 에폭시 수지를 제조하는 방법을 제한 하였으나, 이 제조방법에서 얻은 에폭시 수지는 탈염소화가 비교적 곤란한 부반응물의 생성으로 통상 1000ppm이상의 높은 가수분해성 염소 함량을 갖고, 반응 종료후 부반응물 제거시 유화층이 많이 발생하여 부생성물의 제거가 어렵고, 수율이 저하된다.

일본특허공보 소63-54007호에서는 60∼70℃, 감압하에서 물과 에피클로로히드린을 공비시켜, 계내 수분 농도를 1∼2%로 조절하면서 알카리 금속 수산화물 수용액을 연속 적하하여 반응시키고, 정제반응하여 가수분해성 염소를 제거하는 방법을 제안 하였으나, 이 제조방법도 상기와 마찬가지의 이유로 수율이 낮고, 알카리 금속 수용액 단독 사용으로 높은 가수분해성 염소의 다량 제거가 힘들어, 제조되는 노보락 에폭시 수지의 고순도화를 기대하기가 어렵다.

일본공개특허공보 소61-195111호에서는 메칠에칠케톤 또는 메칠에칠케톤 톨루엔 혼합용제와 에피클로로히드린을 공비시켜 물을 제거하면서 알카리 금속 수산화물 수용액을 연속적으로 적하하는 제조방법을 제안하였으나, 이 제조방법도 용제를 사용하여 물의 제거를 좀더 쉽게 할 수 있다는 것 외에는 상기의 제조방법들과 마찬가지로 수율이 떨어지고, 제조되는 노보락 에폭시 수지의 염소 함량이 높아 고순도화가 어렵다.

일본공개특허공보 소58-188870호에서는 페놀류와 에피클로로히드린을 4급 암모니움염 또는 4급 암모니움염기를 촉매로 사용하여 부가반응을 행하고 알카리 금속 수산화물 수용액을 연속 적하하여 폐환반응을 행하는 2단계 제조방법을 제안하였으나, 이 제조방법에서 사용하는 4급 암모니움염 또는 4급 암모니움염기 촉매는 일반적으로 반응온도가 높고, 반응시간이 길며, 반응후 촉매의 완전 제거가 어려워 최종 얻어지는 수지의 내열성이 떨어지며, 과잉의 에피클로로히드린 제거시 4급 암모니움염 또는 4급 암모니움염기로 인해 에폭시기와 미반응 페놀성 수산기 또는 에폭시기와 수지내의 하이드록시기의 반응을 촉진시켜 겔화물이나, 부반응물의 생성이 많아져 수율이 떨어지고, 고순도의 노보락 에폭시 수지를 기대하기가 어렵다.

또, 일본공개특허공보 소59-25813호에서는 과잉의 에피클로로히드린과 노보락 수지를 60∼70℃의 온도에서 페놀성 수산기에 대해 0.08∼0.12몰의 알카리 금속 수산화물 수용액을 2∼5시간 투입하여 1차 부가반응시킨 후, 진공하에서 알카리 금속 수산화물 수용액을 연속 투입하여 폐환반응을 행하고, 정제반응을 하여 고순도 노보락형 에폭시 수지를 제조하는 방법을 제안했다. 그러나 이 제조방법도 1차 부가반응시 알카리 금속 수산화물의 단독 사용으로는 클로로히드린체의 높은 생성을 기대하기가 어렵고, 반응 종료후 부반응물 제거시 유화층의 생성이 많아 부생성물의 제거가 어렵고, 수율이 저하되며, 제조시 감압유지 등으로 높은 에너지 손실이 초래된다.

따라서, 본 발명은 가수분해성 염소 함유량이 적고, 부반응 생성물의 억제로 유화층의 생성을 극소화하여 수율이 높은 고순도의 노보락형 에폭시 수지의 용이한 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.

본 발명은 상기 종래의 다가페놀류 중에서 선택한 1종의 화합물과 에피클로로히드린을 반응시켜 다가 페놀류의 글리시딜에테르 화합물을 제조하는데 있어서, 극성용매와 고형 알카리 금속 수산화물 존재하에서 상압의 온화한 조건으로 클로로히드린반응과 폐환반응을 구분 실시하고 정제반응을 행하는 삼단계의 반응공정으로 구성되는 것을 특징으로 하는 고수율의 고순도 노보락 에폭시 수지의 제조방법이다.

상세한 본 발명의 제조방법은 다가 페놀류 중에서 선택한 1종의 화합물을 페놀성 수산기에 대해 과잉 당량의 에피클로로히드린과 에피클로로히드린에 대해 0.5∼30중량%의 극성용매 존재하에서 용해한후, 물을 투입하고 페놀성 수산기 1당량당 0.01∼0.1당량의 고형 알카리 금속 수산화물을 첨가후, 반응시켜 클로로히드린체를 제조하는 제1단계 반응공정, 제1단계 반응공정에서 얻은 클로로히드린체를 페놀성 수산기 1당량에 대해 0.85∼0.95당량의 고형 알카리 금속 수산화물을 연속 또는 분할 투입한 후, 숙성반응을 행하고, 과잉의 에피클로로히드린 존재하에서 물을 가해 생성염과 부생성물을 제거한 수, 과잉의 에피클로로히드린을 증류 회수하여 불활성 유기용매에 용해하거나 또는 에피클로로히드린을 증류회수후 불활성 유기용매에 용해한 수지에 물을 가해 생성염과 부생성물을 제거하는 제2단계 제조공정 및 제1, 제2단계 제조 공정을 거쳐 제조된, 불활성 유기용매에 용해되어 있는 수지를, 에폭시 수지에 대해 1∼15중량%의 극성용매와 에폭시 수지 중에 함유된 가수분해성 염소 1당량에 대해 1∼10당량의 알카리 금속 수산화물 20∼50중량% 수용액을 사용하여, 정제반응을 하는 제3단계 반응공정으로 구성된다.

이하, 본원 발명을 좀더 상세히 설명하기로 한다.

다가 페놀류 중에서 선택한 1종의 화합물을 페놀성 수산기에 대해 과잉 당량의 에피클로로히드린과 에피클로로히드린에 대해 0.5∼30중량%의 극성용매 존재하에서 용해한후, 상기 용해 혼합물의 수분이 0.1∼4.0중량%를 유지할 수 있는 물을 투입하고, 페놀성 수산기 1당량당 0.01∼0.1당량의 고형 알카리 금속 수산화물을 첨가후, 30∼70℃범위의 온도에서 30∼240분 반응시켜 클로로히드린체를 제조하는 제1단계 반응공정을 실시한다.

제1단계 반응공정에서 얻은 클로로히드린체를 페놀성 수산기 1당량에 대해 0.85∼0.95당량의 고형 알카리 금속 수산화물을, 반응온도를 40∼80℃로 유지하면서 30∼180분 동안 연속적으로 또는 분할해서 투입한 후, 상기의 조건에서 10∼120분 동안 숙성반응을 행하고, 과잉의 에피클로로히드린 존재하에서 물을 가해 생성염과 부생성물을 제거한 후, 과잉의 에피클로로히드린을 증류 회수하여 불활성 유기용매에 용해하거나 또는 에피클로로히드린을 증류 회수후 불활성 유기용매에 용해한 수지에 물을 가해 생성염과 부생성물을 제거하는 제2단계 반응공정을 실시한다.

제1단계 및 제2단계 반응공정을 거쳐 제조된 불활성 유기용매에 용해되어 있는 수지를, 에폭시 수지에 대해 1∼15중량%의 극성용매와 에폭시수지 중에 함유된 가수분해성 염소 1당량에 대해 1∼10당량의 알카리 금속 수산화물 20∼50% 수용액을 사용하여 50∼90℃에서 30분∼4시간 동안 정제반응을 행하는 제3단계 반응공정을 실시한다.

이러한 방법으로 제조함으로서 겔화물의 발생을 최소화하여 수율을 높이고, 가수분해성 염소 함량이 적은 고수율의 고순도 노보락형 에폭시 수지를 얻을 수 있었다.

본 발명에서 사용하는 다가페놀류는 할로겐 또는 알킬기가 치환되어 있거나, 치환되지 않는 노보락 형태의 구성을 가지는 것이고, 구체적으로 디페놀메탄(비스페놀-에프), 페놀노보락 , 크레졸노보락, 브롬화페놀노보락 또는 브롬화크레졸노보락 등이 사용될 수 있으나, 꼭 이것에만 한정하는 것은 아니다.

본 발명에서 사용하는 알카리 금속 수산화물의 종류는 수산화나트륨, 수산화칼륨등이 좋고, 제1, 제2단계 반응공정에서는 순도가 최소 95중량% 이상의 그래뉼상, 입상, 판상 또는 분말상의 고형인 것이 좋으며, 제3단계 공정에서는 20∼50중량%의 수용액이 좋다. 사용량은 페놀성 수산기 1당량에 대해, 제1단계 반응공정에서는 0.01∼0.1당량, 제2단계 반응공정에서는 0.85∼0.95당량을 사용하며, 제1, 제2단계 반응공정에서의 사용량의 합이 1.05당량을 넘지 않아야 한다. 제3단계 반응공정에서의 사용량은 가수분해성 염소 1당량에 대해 1∼10당량이고, 좋게는 2∼6당량이다. 만약 알카리 금속 수산화물의 사용량이 너무 적을 경우에는 최종 생성물의 염소 함유량이 많아지고, 또한 필요 이상으로 너무 많을 경우에는 고분자물이나 겔화물 등의 부생성물의 생성이 증가해 제품의 수율이 저하되고 에피클로로히드린의 손실이 초래된다.

본 발명에서 사용하는 에피클로로히드린의 사용량은 페놀성 수산기 1당량에 대해서 2∼10당량이며, 좋게는 3∼8당량이다. 만약 에피클로로히드린의 사용량이 너무 적을 경우에는 분자간 반응으로 인한 고분자물의 생성과 겔화물 생성의 증가로 최종 제품의 품질과 수율이 저하되는 등의 문제가 발생하여 공업적으로는 불리하고, 또한 필요 이상으로 많을 경우에는 반응 혼합물의 용적이 증가하여 제품 생산성이 떨어지고, 과잉의 에피클로로히드린을 회수하는데 많은 시간과 에너지가 필요하게 되어 생산 코스트가 상승하므로 공업적으로도 불리하다.

본 발명에서 사용하는 극성용매의 종류는 예를 들어 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 노르말부탄올, 이소부탄올, 제2부탄올, 디메칠설폭사이드, 디메칠포름아마이드, 디메칠아세트아마이드, N-메칠피로리돈, 헥사메칠포스포라마이드 등이 유용하며, 사용되는 극성용매는 다가 페놀류리 알카리 금속염을 용해하여 클로로히드린체의 형성을 촉진하며, 가수분해하여 생성되는 물이 체내에서 분리되는 것을 방지하는 중요한 역할을 한다. 본 발명의 제1단계 반응공정에서 사용하는 극성용매의 사용량은 에피클로로히드린에 대해서 0.5∼30중량%이며, 좋게는 3∼20중량%이다. 만약 사용하는 극성용매가 너무 적을 경우에는 클로로히드린체의 생성이 적어 고수율 고순도 제품을 얻기가 힘들고, 또한 사용량이 필요 이상으로 많을 경우에는 클로로히드린체의 생성은 많아지나, 반응 혼합물의 용적이 증가하여 제품 생산성이 떨어지고, 과잉의 극성용매를 회수하는데 많은 시간과 에너지가 필요하게 되어 생산 코스트가 상승하므로 공업적으로도 불리하다. 본 발명의 제3단계 반응공정에서 사용하는 극성용매의 사용량은 에폭시수지에 대해 1∼15중량%가 좋다. 만약 사용하는 극성용매가 너무 적을 경우에는 염소 함량의 저감효과가 없고, 또한 사용량이 필요이상으로 많을 경우에는 염소함량의 저감효과는 조금 증가하나, 반응 혼합물의 용적이 증가하여 제품 생산성이 떨어지고, 과잉의 극성용매를 회수하는데 많은 시간과 에너지가 필요하게 되어 생산 코스트가 상승하므로 공업적으로도 불리하다.

본 발명의 제1단계 반응공정에서, 다가 페놀류와 에피클로로히드린 및 극성용매의 용해 혼합물에 대해 0.1∼4.0중량%의 물을 반응계내의 수분 함량 조절을 위해 고형알카리 금속 수산화물과 함께 일괄 투입한다.

제1단계 반응공정의 반응온도는 30∼70℃이며, 좋게는 35∼60℃의 범위이고, 반응 시간은 30∼240분이며, 좋게는 60∼180분이다.

본 발명의 제2단계 반응공정에서, 페놀성 수산기 1당량에 대해 0.85∼0.95당량의 고형 알카리 금속 수산화물을 반응온도를 40∼80℃로 유지하면서 30∼180분 동안 연속적으로 또는 분할해서 투입한다. 고형 알카리 금속 수산화물을 투입한 다음 상기의 조건에서 10∼120분 동안 숙성반응을 행하고, 과잉의 에피클로로히드린 존재 하에서 물을 가해 생성염과 부생성물을 제거한 후, 과잉의 에피클로로히드린을 증류 회수하여 불활성 유기용매에 용해하거나 또는 에피클로로히드린을 증류 회수후 불활성 유기용매에 용해한 수지에 물을 가해 생성염과 부생성물을 제거한다.

본 발명의 제3단계 반응공정에서 제1, 제2단계 반응공정을 거쳐 제조된 불활성 유기용매에 용해되어 있는 수지를 에폭시수지에 대해 1∼15중량%의 극성용매와 에폭시 수지 중에 함유되어 있는 가수분해성 염소 1당량에 대해 1∼10당량의 알카리 금속 수산화물 20∼50중량% 수용액을 일괄 첨가하여 반응온도 50∼90℃에서 30분∼4시간 동안 정제반응을 행하고, 수세한후, 불활성 유기용매를 제거하여 고수율의 고순도 노보락 에폭시수지를 제조한다.

제1, 2단계로 구분한 것은 미반응 페놀을 감소시킬 수 있어 이로 인한 부반응을 감소시킬 수 있어 결국 생성물의 질을 향상시킬 수가 있다.

본 발명의 상기 제1, 제2 및 제3단계의 반응공정을 거쳐 수율이 95% 이상이고 가수분해성 염소 함량이 200ppm이하인 고수율의 고순도 노보락형 에폭시 수지를 제조할 수 있다.

이하, 실시예 및 비교예를 통해 본원발명의 제조방법 및 그 효과를 구체적으로 설명하기로 한다. 그러나 다음의 예가 본원 발명을 한정하는 것은 아니다.

[실시예 1]

교반기, 냉각콘덴서 및 스크류 피더장치가 부착되어 있는 2리터 4구 플라스크에 올소크레졸 노보락수지(페놀성 수산기 당량 : 약 120g/eq.) 120g과 에클로로히드린 647.7g 및 이소프로판올 85g을 투입하여 용해후, 이온수 8g과 고형 수산화 나트륨(순도 : 96%) 3g을 투입 하여 58℃에서 1시간 동안 반응시킨후, 고형 수산화나트륨(순도 : 98%) 36.8g을 체내 온도를 70℃로 유지하면서 100분간 연속 첨가한다. 수산화나트륨 투입 종료후 60분간 상기 조건으로 유지하여 숙성하고, 이 온수 160g을 투입하여 부생염과 부생성물을 씻어내고 과잉의 에피클로로히드린을 증발 제거하여 가수분해성 염소 함량이 0.5중량%인 조제 에폭시 수지를 제조한다.

제조된 조제 에폭시 수지를 메칠이소부칠케톤 350g으로 용해하고, 25중량%의 수산화나트륨 수용액 14.4g과 이소프로판올 20g을 투입하여 80℃의 온도에서 1시간 동안 정제반응을 행한후 이온수 160g을 투입하여 부생염과 부생성물을 씻어내고 잔존하는 유기용매를 증발 제거하여 에폭시 당량 205g/eq., 가분해성 염소 함량 115ppm인 고순도 올소크레졸 노보락 에폭시 수지 168g을 제조하였다. 수율 96%이었다.

[실시예 2]

극성용매류를 에탄올로 하여 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 시행하여 에폭시 당량 206g/eq., 가수분해성 염소 함량 120ppm인 고순도 올소크레졸 노보락 에폭시 수지 169g을 제조하였다. 수율 96%이었다.

[실시예 3]

극성용매류를 노르말부탄올로 하여 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 시행하여 에폭시 당량 206g/eq., 가수분해성 염소 함량 123ppm인 고순도 올소크레졸 노보락 에폭시 수지 168g을 제조하였다. 수율이 96%이었다.

[비교예 1 ]

교반장치, 온도계, 알카리 금속 수산화물 수용액을 연속 적하장치 및 냉각 환류 콘덴서가 부착된 2리터 4구 플라스크에 올소크레졸 노보락수지(페놀성 수산기 당량 : 약 120g/eq.)120g과 에피클로로히드린 647.7g 투입하여 용해후, 수산화나트륨 48.5중량% 수용액 82.5g을 체내온도를 60∼65℃, 진공도를 150∼350mmHg을 유지하여 체내 수분을 연속적으로 제거하면서 5시간 동안 연속 첨가한다. 반응 종료 후 과잉의 에피클로로히드린을 제거하고, 이온수 160g을 투입하여 부생염과 부생성물을 씻어낸 후 메칠에칠케톤 350g으로 용해한다.

유기용매에 용해된 수지에 48.5중량%의 수산화나트륨 수용액 3.5g을 투입하여 65℃의 온도에서 1시간 동안 정제반응을 행한 후 이온수 160g을 투입하여 부생염과 부생성물을 씻어내고 잔존하는 유기용매를 증발 제거하여 에폭시당량 210g/eq., 가수분해성 염소 함량 620ppm인 올소크레졸 노보락 에폭시 수지 150.7g을 제조하였다. 수율 85.6%이었다.

[비교예 2]

실시예 1과 같은 장치에 올소크레졸 노보락수지(페놀성 수산기 당량 : 약 120g/eq.)120g과 에피클로로히드린 647.7g을 투입하여 용해후, 이온수 8g과 고형 수산화나트륨(순도 : 98%)3g을 투입하여 58℃에서 1시간 동안 반응시킨 후, 고형 수산화나트륨(순도 : 98%)36.8g을 체내 온도를 70℃로 유지하면서 100분간 연속 첨가한다. 수산화나트륨 투입 종료후 60분간 상기 조건으로 유지하여 숙성하고, 이온수 160g을 투입하여 부생염과 부생성물을 씻어내고 과잉의 에피클로로히드린을 증발 제거하여 메칠이소부칠케톤 350g을 용해한다.

유기용매에 용해된 수지에 20중량%의 수산화나트륨 수용액 5g을 투입하여 85℃의 온도에서 3시간 동안 정제반응을 행한 후 이온수 160g을 투입하여 부생염과 부생성물을 씻어내고 잔존하는 유기용매를 증발 제거하여 에폭시 당량 213g/eq., 가수분해성 염소 함량 250ppm인 올소크레졸 노보락 에폭시 수지 150g을 제조하였다. 수율 85.2%이었다.

상기 본 발명의 제조방법은 에폭시 수지의 가수분해성 염소를 용이하게 저감시킬 수 있고 높은 수율을 얻는 방법으로 저가분해성 염소함량을 가지는 고순도 에폭시 수지의 제조에 유리하며, 특히 전기, 전자 재료의 봉지재 원료로 사용하는 고순도 노보락형 에폭시 수지의 제조에 적용함으로서 전기 절연성의 저하, 리드선의 부식등을 방지 할 수 있어 전기, 전자 재료의 신뢰도를 더욱 높일 수 있다.

Claims (12)

1. i) 다가 페놀류 중에서 선택한 1종의 화합물을 페놀성 수산기에 대해 과잉 당량의 에피클로로히드린과 에피클로로히드린에 대해 0.5-30중량%의 극성 용매에 용해한 후, 물을 투입하고 페놀성 수산기 1당량당 0.01-0.1당량의 고형 알카리 금속 수산화물을 첨가한 후 반응시켜 클로로히드린체를 제조하는 제1단계 반응공정, ii) 제1단계 반응공정에서 얻은 클로로히드린체에 페놀성 수산기 1당량에 대해 0.85-0.95당량의 고형 알카리 금속 수산화물을 투입하면서 폐환반응시킨 후, 이를 숙성반응시키고 과잉의 에피클로로히드린 존재하에서 물을 가해 생성염과 부생성물을 제거한 후, 과잉의 에피클로로히드린을 증류 회수하여 불활성 유기용매에 용해하거나 또는 에피클로로히드린을 증류 회수후 불활성 유기용매에 용해한 수지에 물을 가해 생성염과 부생성물을 제거하는 제2단계 폐환반응 및 생성염과 부생물 제거 공정 및 iii) 제1단계 및 제2단계 공정을 통해 제조된 불활성 유기용매에 용해되어 있는 수지를 에폭시 수지에 대해 1-15중량%의 극성용매와 에폭시 수지 중에 함유된 가수분해성 염소 1당량에 대해 1-10당량의 알카리 금속 수산화물 20-50중량% 수용액을 사용하여 정제하는 제3단계 정제반응 공정으로 구성되는 것을 특징으로 하는 고순도 노보락형 에폭시 수지의 제조방법.
2. 제1항에 있어서, 다가 페놀류가 할로겐 또는 알킬기가 치환되거나 치환되지 않은 노보락 형태인 것을 특징으로 하는 고순도 노보락형 에폭시 수지의 제조방법.
3. 제2항에 있어서, 다가 페놀류가 페놀 노보락, 크레졸 노보락, 브롬화 페놀 노보락 또는 브롬화 크레졸 노보락 수지인 것을 특징으로 하는 고순도 노보락형 에폭시 수지의 제조방법.
4. 제1항에 있어서, 상기 극성 용매가 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 노르말부탄올, 이소부탄올, 제2부탄올, 디메칠설폭사이드, 디메칠포름아마이드, 디메칠아세트아마이드, N-메칠피로피돈, 또는 헥사메칠포스포라마이드 중 하나 또는 둘 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 고순도 노보락형 에폭시 수지의 제조방법
5. 제1항에 있어서, 제1단계 및 제2단계 반응공정에서 알카리 금속 수산화물이 그래뉼상, 입상, 판상, 또는 분말상의 고형 수산화나트륨 또는 고형 수산화칼륨인 것을 특징으로 하는 고순도 노보락형 에폭시 수지의 제조방법.
6. 제1항에 있어서, 상기 알칼리 금속 수산화물 연속 또는 분할 투입되는 것을 특징으로 하는 고순도 노보락형 에폭시 수지의 제조방법.
7. 제1항에 있어서, 제1단계 반응공정에서 용해 혼합물에 대해서 0.1-4.0중량%의 물을 고형 알카리 금속 수산화물과 함께 투입하는 것을 특징으로 하는 고순도 노보락형 에폭시 수지의 제조방법.
8. 제1항에 있어서, 제2단계 반응공정에서 고형 알카리 금속 수산화물을 반응온도 40-80℃로 유지하면서 30-180분 동안 연속 또는 분할 투입하는 것을 특징으로 하는 고순도 노보락형 에폭시 수지의 제조방법.
9. 제1항에 있어서, 제1단계 반응공정에서 금속 수산화물을 첨가후 30-70℃로 유지하면서 30-240분 동안 반응시키는 것을 특징으로 하는 고순도 노보락형 에폭시 수지의 제조방법.
10. 제1항에 있어서, 제2단계 반응공정에서 금속 수산화물을 투입후 40-80℃에서 10-120분 동안 숙성반응시키는 것을 특징으로 하는 고순도 노보락형 에폭시 수지의 제조방법.
11. 제1항에 있어서, 제3단계 반응공정에서 50-90℃에서 30분-4시간 동안 정제반응시키는 것을 특징으로 하는 고순도 노보락형 에폭시 수지의 제조방법.
12. 제1항에 있어서, 에피클로로히드린의 사용량이 페놀성 수산기 1당량에 대해서 2-10당량인 것을 특징으로 하는 고순도 노보락형 에폭시 수지의 제조방법.