JPWO2023132259A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2023132259A5 JPWO2023132259A5 JP2023572427A JP2023572427A JPWO2023132259A5 JP WO2023132259 A5 JPWO2023132259 A5 JP WO2023132259A5 JP 2023572427 A JP2023572427 A JP 2023572427A JP 2023572427 A JP2023572427 A JP 2023572427A JP WO2023132259 A5 JPWO2023132259 A5 JP WO2023132259A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal oxide
- layer
- oxygen plasma
- oxide layer
- khz
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022000890 | 2022-01-06 | ||
| JP2022000890 | 2022-01-06 | ||
| PCT/JP2022/047340 WO2023132259A1 (ja) | 2022-01-06 | 2022-12-22 | 金属酸化物の表面処理方法、ペロブスカイト太陽電池の製造方法、および金属酸化物表面処理装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2023132259A1 JPWO2023132259A1 (https=) | 2023-07-13 |
| JPWO2023132259A5 true JPWO2023132259A5 (https=) | 2024-08-06 |
| JP7740739B2 JP7740739B2 (ja) | 2025-09-17 |
Family
ID=87073568
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023572427A Active JP7740739B2 (ja) | 2022-01-06 | 2022-12-22 | 金属酸化物の表面処理方法、ペロブスカイト太陽電池の製造方法、および金属酸化物表面処理装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7740739B2 (https=) |
| KR (1) | KR102923263B1 (https=) |
| WO (1) | WO2023132259A1 (https=) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2025127101A1 (ja) * | 2023-12-15 | 2025-06-19 | Toppanホールディングス株式会社 | 太陽電池、ナノ材料、及び分散液、並びに太陽電池の製造方法 |
| CN118932314A (zh) * | 2024-07-23 | 2024-11-12 | 中山大学 | 一种晶体硅-宽带隙化合物异质结太阳电池制备方法 |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000133466A (ja) * | 1998-10-23 | 2000-05-12 | Canon Inc | 表面改質ito膜、その表面処理方法およびそれを用いた電荷注入型発光素子 |
| JP2001284060A (ja) * | 2000-03-29 | 2001-10-12 | Honda Motor Co Ltd | 透明電極および有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| JP2001284059A (ja) | 2000-03-29 | 2001-10-12 | Honda Motor Co Ltd | 透明電極、有機エレクトロルミネッセンス素子、透明電極処理装置および透明電極の処理方法 |
| JP2008159347A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-10 | Seiko Epson Corp | 透明導電膜の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、およびプラズマ処理装置 |
| JP2008205254A (ja) * | 2007-02-21 | 2008-09-04 | Toyota Central R&D Labs Inc | 有機電界発光素子 |
| FR2913146B1 (fr) * | 2007-02-23 | 2009-05-01 | Saint Gobain | Electrode discontinue, dispositif electroluminescent organique l'incorporant, et leurs fabrications |
| JP2008234896A (ja) * | 2007-03-19 | 2008-10-02 | Seiko Epson Corp | 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 |
| JP5203758B2 (ja) * | 2008-03-17 | 2013-06-05 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
| JP2010037648A (ja) * | 2008-07-09 | 2010-02-18 | Univ Of Tokyo | 無機薄膜及びその製造方法、並びにガラス |
| JP2013534057A (ja) * | 2010-06-30 | 2013-08-29 | コーニング インコーポレイテッド | Soi基板に仕上げを施す方法 |
| US20120132272A1 (en) * | 2010-11-19 | 2012-05-31 | Alliance For Sustainable Energy, Llc. | Solution processed metal oxide thin film hole transport layers for high performance organic solar cells |
| JP2013191423A (ja) * | 2012-03-14 | 2013-09-26 | Toshiba Corp | プラズマ処理装置 |
| CN102610765A (zh) * | 2012-04-06 | 2012-07-25 | 复旦大学 | 一种提高氧化铟锡透明导电膜表面功函数的表面修饰方法 |
| JP6685142B2 (ja) * | 2016-02-02 | 2020-04-22 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置及びその製造方法 |
| CN108054282A (zh) * | 2017-11-27 | 2018-05-18 | 济南大学 | 锌掺杂氧化镍纳米颗粒空穴传输层反置钙钛矿太阳能电池及制备方法 |
| CN109841740A (zh) * | 2019-03-22 | 2019-06-04 | 上海交通大学 | 一种基于氧化镍空穴传输层的钙钛矿太阳电池的制备方法 |
| CN111081812A (zh) * | 2019-11-18 | 2020-04-28 | 深圳第三代半导体研究院 | 一种透明导电氧化物薄膜的制备方法及应用 |
| CN111540835B (zh) * | 2020-05-11 | 2023-08-11 | 北京工业大学 | 一种提高钙钛矿太阳能电池热稳定性的方法 |
| CN112397654A (zh) * | 2020-11-16 | 2021-02-23 | 西交利物浦大学 | 钙钛矿太阳能电池及其制备方法 |
-
2022
- 2022-12-22 WO PCT/JP2022/047340 patent/WO2023132259A1/ja not_active Ceased
- 2022-12-22 JP JP2023572427A patent/JP7740739B2/ja active Active
- 2022-12-22 KR KR1020247021434A patent/KR102923263B1/ko active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2022066224A5 (ja) | 基板処理装置、プラズマ生成装置、反応管、プラズマ生成方法、基板処理方法、半導体装置の製造方法およびプログラム | |
| JPWO2023132259A5 (https=) | ||
| JP2009200483A5 (https=) | ||
| ATE430376T1 (de) | Plasmareaktor zur behandlung von grossflächigen substraten | |
| JP2011009351A5 (https=) | ||
| TW200908139A (en) | Hybrid etch chamber with decoupled plasma controls | |
| JP5607760B2 (ja) | Cvd装置及びcvd方法 | |
| KR20220005509A (ko) | 수지 표면 친수화 방법, 플라즈마 처리 장치, 적층체, 및 적층체의 제조 방법 | |
| CN107151790A (zh) | 基板处理装置 | |
| JP6483266B2 (ja) | 基板処理方法、および、基板処理装置 | |
| JP2017183607A5 (https=) | ||
| JP2009105468A5 (https=) | ||
| JP2008211243A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JP6092820B2 (ja) | 成膜装置及び成膜方法 | |
| JP2007214171A5 (https=) | ||
| JP2002194539A (ja) | 薄膜形成方法及び装置 | |
| JP2006249539A (ja) | 複合表面改質処理方法、装置および表面改質処理物 | |
| RU2847566C1 (ru) | Устройство для получения диффузионных покрытий в высокочастотном емкостном разряде пониженного давления | |
| JP2015098617A (ja) | 成膜装置 | |
| JP4038473B2 (ja) | アーク放電型真空成膜装置および成膜方法 | |
| JP7685276B1 (ja) | 銅材料の耐酸化処理方法およびプラズマ処理装置 | |
| JP2017103393A (ja) | 炭素膜処理装置 | |
| RU2009130532A (ru) | Способ формирования сверхтвердого аморфного углеродного покрытия в вакууме | |
| JPS62243765A (ja) | 薄膜形成時における残留応力緩和方法 | |
| CN118366838A (zh) | 一种真空等离子体处理装置及其控制方法 |