JP2015098617A - 成膜装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の第1の実施形態に係る成膜装置10は、プラスチック基板100上に膜110を形成する成膜装置である。図1に示すように、成膜装置10は、膜110の原料ガスを含むプロセスガス120が導入されるチャンバー11と、チャンバー11内に配置され、プラスチック基板100を搭載する基板プレート12と、チャンバー11内に配置され、基板プレート12上のプラスチック基板100と対向するカソード電極13と、基板プレート12とカソード電極13間に交流電力を供給してプラスチック基板100の上面において原料ガスを含むプラズマを励起する交流電源14とを備える。
本発明の第2の実施形態に係る成膜装置10は、プラスチック基板100に薄膜を形成する機構を更に備える。図4に示した第2の実施形態に係る成膜装置10では、スパッタ技術によってプラスチック基板100に薄膜105を形成する。
上記のように、本発明は実施形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
11…チャンバー
12…基板プレート
13…カソード電極
14…交流電源
15…ガス供給装置
16…ガス排気装置
17…バイアス電源
20…スパッタ機構
22…基板プレート
23…ターゲット電極
24…スパッタ電源
25…ガス導入装置
30…ターゲット
100…プラスチック基板
105…薄膜
110…膜
120…プロセスガス
130…貫通孔
Claims (5)
- プラスチック基板上に膜を形成する成膜装置であって、
前記膜の原料ガスを含むプロセスガスが導入されるチャンバーと、
前記チャンバー内に配置され、前記プラスチック基板を搭載する基板プレートと、
前記チャンバー内に配置され、前記基板プレートと対向する面に開口部を有する複数の貫通孔が形成されたカソード電極と、
前記基板プレートと前記カソード電極間に電力を供給して、前記プラスチック基板の上面において前記原料ガスを含むプラズマを励起する電源と
を備え、前記プラスチック基板の温度が前記プラスチック基板の耐熱温度に達する前に前記プラスチック基板上に前記膜を所定の膜厚で形成することを特徴とする成膜装置。 - 前記基板プレートにバイアス電圧を印加する手段を更に備えることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
- 前記プラスチック基板に金属膜を形成する機構を前記チャンバー内に更に備え、
前記プラスチック基板上の前記金属膜の形成と真空連続で、前記金属膜を覆って前記プラスチック基板上に前記膜を形成することを特徴とする請求項1又は2に記載の成膜装置。 - 前記膜が絶縁膜であり、膜厚1μm以上に形成されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の成膜装置。
- 前記膜の形成される主面が垂直であるように、前記プラスチック基板が前記チャンバー内で支持されることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の成膜装置。
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2013
- 2013-11-18 JP JP2013237706A patent/JP2015098617A/ja active Pending
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