RU2009130532A - Способ формирования сверхтвердого аморфного углеродного покрытия в вакууме - Google Patents

Abstract

1. Способ формирования сверхтвердого термостойкого аморфного углеродного покрытия в вакууме, заключающийся в том, что помещают подложку в вакуумную камеру, которую затем вакуумируют, обрабатывают поверхность подложки ускоренными ионами, наносят на обработанную поверхность слой материала, обеспечивающего адгезию последующих слоев, инициируют импульсный электродуговой разряд на графитовом катоде и получают импульсный поток углеродной плазмы из множества катодных пятен, перемещающихся по графитовому катоду и осуществляющих его абляцию, и генерирующих углеродную плазму, конденсируют углеродную плазму на поверхности подложки для получения сверхтвердого углеродного покрытия, при этом поддерживают температуру подложки в пределах от 200 до 450 K посредством регулирования частоты следования импульсов электродугового разряда, отличающийся тем, что для получения импульсного потока углеродной плазмы на катоде формируют катодные пятна с коэффициентом абляции графитового катода не ниже 70 мкг/Кл и не выше 140 мкг/Кл. ! 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что величину коэффициента абляции обеспечивают величиной заряда емкостного накопителя. ! 3. Способ по п.1, отличающийся тем, что коэффициент абляции графитового катода изменяют в процессе нанесения углеродного покрытия пределах от 70 до 140 мкг/Кл.

Claims (3)

1. Способ формирования сверхтвердого термостойкого аморфного углеродного покрытия в вакууме, заключающийся в том, что помещают подложку в вакуумную камеру, которую затем вакуумируют, обрабатывают поверхность подложки ускоренными ионами, наносят на обработанную поверхность слой материала, обеспечивающего адгезию последующих слоев, инициируют импульсный электродуговой разряд на графитовом катоде и получают импульсный поток углеродной плазмы из множества катодных пятен, перемещающихся по графитовому катоду и осуществляющих его абляцию, и генерирующих углеродную плазму, конденсируют углеродную плазму на поверхности подложки для получения сверхтвердого углеродного покрытия, при этом поддерживают температуру подложки в пределах от 200 до 450 K посредством регулирования частоты следования импульсов электродугового разряда, отличающийся тем, что для получения импульсного потока углеродной плазмы на катоде формируют катодные пятна с коэффициентом абляции графитового катода не ниже 70 мкг/Кл и не выше 140 мкг/Кл.

2. Способ по п.1, отличающийся тем, что величину коэффициента абляции обеспечивают величиной заряда емкостного накопителя.

3. Способ по п.1, отличающийся тем, что коэффициент абляции графитового катода изменяют в процессе нанесения углеродного покрытия пределах от 70 до 140 мкг/Кл.