JPWO2020138202A1 - グラファイト薄膜／シリコン基板積層体、及びその製造方法、高排熱型電子デバイス用基板 - Google Patents

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Abstract

グラファイト薄膜の優れた熱特性をシリコンデバイスに付与し、高排熱型電子デバイス用途に向けた積層体を提供する。グラファイト薄膜／シリコン基板積層体は、脱気下で、平滑化されたグラファイト薄膜及びシリコン基板のそれぞれの表面をクリーニングして活性化させ、表面を互いに接近させて自発的に接合させることによって提供される。かかるシリコン基板の上にグラファイト薄膜を与えた積層体は、シリコン基板とグラファイト薄膜とが直接界面を挟んで接している。

Description

本発明は、グラファイト薄膜とシリコン基板との積層体およびその製造方法、これを用いたパワーデバイス用基板に関するものである。特に高熱伝導部材であるグラファイト薄膜と電子デバイス材料であるシリコン基板とを接着剤を用いることなく直接接合により積層して形成した高排熱型電子デバイス用途に向けた積層体である。
グリーンエレクトロニクスはユビキタス化されたパワーエレクトロニクス機器の導入によるエネルギーマネージメントである。ＰＯＬ(Point Of Load)により至る所、あらゆる階層に存在を気付かせないパワーエレクトロニクス機器が導入されている必要があり、これを満足するためには、多段電力変換の要となる高パワー密度電力変換器が必要である。これらを達成するために必要なシーズ技術の一つとして、高パワー密度ゆえに発生する熱を効率よく排熱する高密度放熱技術がある。熱伝導特性のたいへん大きいグラファイトフィルムは、スマートフォン等の小型パーソナルデバイスの熱放散材料として利用されているが、このグラファイトフィルムをシリコンデバイスの構造中に組み込むことができれば、ミクロなレベルでの排熱が可能となり、ユビキタスパワーエレクトロニクスを支える高パワー密度電力変換器の実現に大きく貢献するものと考えられる。本発明はそれを実現するための要素として、高熱伝導部材であるグラファイト薄膜と電子デバイス材料であるシリコン基板との積層体を報告する。
従来、炭素系基材とシリコン基材とを、その接合面に、アモルファスシリコンやシリコンカーバイド層を介して接合した結合体が報告されている（特許文献１）。この構成では、接合面が溶融することによりシリコンとカーボンとの化合物の層が形成される。この方法では、大型の複合基板を作製するのに有利である。
また高結晶性のグラファイト基材とシリコン基材が接合された複合体が報告されている（特許文献２）。この構成では厚さ４μｍ程度のグラファイトと、シリコン基板と、前記グラファイトと前記シリコンとの間に位置する厚さ２μｍ〜３０μｍの中間層と、を有し、前記中間層は、酸素と炭素とシリコンとを含む結合体を用いる。また、グラファイトとシリコンを積層し、加熱加圧時に、酸素濃度を０．２ｖｏｌ％雰囲気にし、加圧力を２４．５ＭＰａ以上にし、加熱温度を１２６０℃以上とする結合体の製造方法を用いる。
また高いキャリア移動度特性を有し、従来の銅配線を上回る耐電流密度特性を持つ新しいグラファイトシートおよびその製造方法、配線用積層板が報告されている（特許文献３）。この構成では厚さ１．２μｍのグラファイトシートを絶縁性基板であるポリイミド（厚さ１２μｍ）に、厚さ２５ミクロンの変成アクリル系接着剤シートを介して、熱ラミネータを用いて１５０℃で貼り合わせた配線用積層板である。
特許第４１８２３２３号公報 特開２０１７−２８２４７号公報 ＷＯ２０１５／０４５６４１
本発明者は、上述のような従来のグラファイト薄膜（炭素系基材）とシリコン基板の積層体やその製造工程について検討し、次のような問題点を認識した。
（１）従来のいずれの報告も、グラファイト薄膜とシリコン基板の積層には中間層や接着剤を介するものであり、直接に積層した例はない。中間層や接着剤はシリコン基板中で発生した熱が排熱材料であるグラファイト薄膜へ移送されるのを阻害する。したがって中間層や接着剤のない直接の積層であることが望ましい。
（２）上記（１）の問題点は、グラファイト薄膜の優れた熱特性をシリコンデバイスの熱問題解決あるいは緩和のための高排熱型電子デバイス用途に向けた積層体として展開することの大きな妨げとなっている。
本発明は、上記のような従来技術やその問題点についての本発明者の上記認識を背景としたものであり、グラファイト薄膜と電子デバイス材料であるシリコン基板とを中間層や接着剤を用いることなく積層して形成した高排熱型電子デバイス用途に向けた積層体である。さらにその製造方法に関するものである。
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、グラファイト薄膜をシリコン基板と中間層や接着剤を用いることなく積層して形成した積層体を見出した。この積層体はシリコン基板と比較して高い熱伝導特性を有し、パワーデバイスのような高排熱型電子デバイス用途に適した積層体である。
すなわち、本発明によるグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の製造方法は、シリコン基板の上にグラファイト薄膜を与えた積層体の製造方法であって、脱気下で、平滑化された前記グラファイト薄膜及び前記シリコン基板のそれぞれの表面をクリーニングして活性化させ、前記表面を互いに接近させて自発的に接合させることを特徴とする。
上記した発明において、脱気に先立って、化学機械研磨（ＣＭＰ）により前記グラファイト薄膜の前記表面を平滑加工することを特徴としてもよい。また、前記グラファイト薄膜の前記表面を平均粗さＲａで１ｎｍ以下に平滑加工することを特徴としてもよい。
上記した発明において、前記グラファイト薄膜の前記表面と反対側の主面には、支持基板を着脱自在に取り付けられていることを特徴としてもよい。
更に、上記した発明において、非加熱下でのプラズマクリーニングによりクリーニングを行うことを特徴としてもよく、前記プラズマクリーニングはアルゴンプラズマであることを特徴としてもよい。
更に、上記した発明において、前記シリコン基板は酸化膜付きシリコンからなり、前記クリーニングより酸化膜を除去されることを特徴としてもよい。
また、本発明によるグラファイト薄膜／シリコン基板積層体は、シリコン基板の上にグラファイト薄膜を与えた積層体であって、前記シリコン基板と前記グラファイト薄膜とが直接界面を挟んで接することを特徴とする。
上記した発明において、前記シリコン基板と前記グラファイト薄膜とがファンデルワールス力により接合されていることを特徴としてもよい。
また、本発明による高排熱型電子デバイス用基板は、シリコン基板の上にグラファイト薄膜を与えた積層体からなる高排熱型電子デバイス用基板であって、前記シリコン基板と前記グラファイト薄膜とが直接界面を挟んで接することを特徴とする。
本発明のグラファイト薄膜とシリコン基板との積層体は、高熱伝導部材であるグラファイト薄膜と電子デバイス材料であるシリコン基板とを中間層や接着剤を用いることなく積層して形成したものであり、例えば、高排熱型電子デバイスの基本構成として利用できる。これにより、高排熱型電子デバイスを作製することが可能となる。
本発明の実施形態のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の断面模式図。 本発明の実施形態のシリコン基板／グラファイト薄膜／シリコン基板積層体の断面模式図。 本発明の実施形態のシリコン基板／グラファイト薄膜／酸化膜付シリコン基板積層体の断面模式図。 本発明の実施形態のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体からグラファイト薄膜をピンセットで部分的に剥離して測定、又は剥離せず測定したラマンスペクトルの測定場所を示す図面。図中、（１）は、グラファイト薄膜を剥離した部分で、かつ、基板の端（角）に近い場所を、（２）は、グラファイト薄膜を剥離した部分で、かつ、基板の角からおよそ２ｍｍの部分を、（３）は、グラファイト薄膜を剥離していない部分を、それぞれ示す。 本発明の実施形態のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体からグラファイト薄膜をピンセットで剥離して測定、又は、剥離せずに測定したラマンスペクトルを示す図面。図中の（１）〜（３）は、図４中の（１）〜（３）と同義である。 本発明の実施形態のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の周期加熱法による熱拡散率測定。（ａ）は加熱周波数１０Ｈｚでの応答温度の位相差θと加熱点（レーザー光の照射位置）からの距離Ｌの関係を示す。 本発明の実施形態のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体を加熱したときのシリコン基板表面の温度を中心からの距離に対してプロットしたグラフを示す。 本発明の実施形態のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体を加熱したときのシリコン基板表面の温度を中心からの距離に対してプロットしたグラフを示す。
大略すると、ここでは、以下のような発明を含む。
＜１＞グラファイト薄膜とシリコン基板とを中間層や接着剤を用いることなく積層して形成したグラファイト薄膜／シリコン基板積層体。
＜２＞グラファイト薄膜／シリコン基板積層体からグラファイト薄膜を剥離した部分のシリコン基板表面にグラファイト薄膜が残存する＜１＞に記載のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体。
＜３＞グラファイト薄膜／シリコン基板積層体からグラファイト薄膜を剥離した部分のシリコン基板表面をラマン分光測定してグラファイトに起因するラマンスペクトルが観測されることによりグラファイト薄膜が残存することを確認することができる＜１＞に記載のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体。
＜４＞グラファイト薄膜とシリコン基板とを中間層や接着剤を用いることなく積層し、その積層界面に炭化ケイ素が形成されていない＜１＞に記載のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体。
＜５＞グラファイト薄膜とシリコン基板とを中間層や接着剤を用いることなく積層して形成したシリコン基板／グラファイト薄膜／シリコン基板積層体。
＜６＞シリコン基板／グラファイト薄膜／シリコン基板積層体から剥離によりそれぞれの層に分離した際のシリコン基板表面にグラファイト薄膜が残存する＜５＞に記載のシリコン基板／グラファイト薄膜／シリコン基板積層体。
＜７＞シリコン基板／グラファイト薄膜／シリコン基板積層体から剥離によりそれぞれの層に分離した際のシリコン基板表面をラマン分光測定してグラファイトに起因するラマンスペクトルが観測されることによりグラファイト薄膜が残存することを確認することができる＜５＞に記載のシリコン基板／グラファイト薄膜／シリコン基板積層体。
＜８＞グラファイト薄膜とシリコン基板と酸化膜付シリコン基板とを中間層や接着剤を用いることなく積層して形成したシリコン基板／グラファイト薄膜／酸化膜付シリコン基板積層体。
＜９＞シリコン基板／グラファイト薄膜／酸化膜付シリコン基板積層体から剥離によりそれぞれの層に分離した際のシリコン基板表面および酸化膜付シリコン基板表面にグラファイト薄膜が残存する＜８＞に記載のシリコン基板／グラファイト薄膜／シリコン基板積層体。
＜１０＞シリコン基板／グラファイト薄膜／酸化膜付シリコン基板積層体から剥離によりそれぞれの層に分離した際のシリコン基板表面および酸化膜付シリコン基板表面をラマン分光測定してグラファイトに起因するラマンスペクトルが観測されることによりグラファイト薄膜が残存することを確認することができる＜８＞に記載のシリコン基板／グラファイト薄膜／シリコン基板積層体。
＜１１＞グラファイト薄膜とシリコン基板とを中間層や接着剤を用いることなく積層して形成する＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の製造方法。
＜１２＞グラファイト薄膜とシリコン基板とを中間層や接着剤を用いることなく積層して形成する請求項＜５＞〜＜７＞のいずれか１項に記載のシリコン基板／グラファイト薄膜／シリコン基板積層体の製造方法。
＜１３＞グラファイト薄膜とシリコン基板と酸化膜付シリコン基板とを中間層や接着剤を用いることなく積層して形成する＜８＞〜＜１０＞のいずれか１項に記載のシリコン基板／グラファイト薄膜／酸化膜付シリコン基板積層体の製造方法。
以下、本発明のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体、シリコン基板／グラファイト薄膜／シリコン基板積層体、シリコン基板／グラファイト薄膜／酸化膜付シリコン基板積層体、およびそれらの製造方法について、実施形態と実施例に基づいて説明する。重複説明は適宜省略する。なお、ふたつの数値の間に「〜」を記載して数値範囲を表す場合には、これらのふたつの数値も数値範囲に含まれるものとする。
図１は、本発明の実施形態に係るグラファイト薄膜／シリコン基板積層体１１を示している。グラファイト薄膜／シリコン基板積層体はグラファイト薄膜１０とシリコン基板２０を備えている。また図２は、本発明の実施形態に関わるシリコン基板／グラファイト薄膜／シリコン基板積層体１２を示している。シリコン基板／グラファイト薄膜／シリコン基板積層体はグラファイト薄膜１０とシリコン基板２０を備えている。また図３は、本発明の実施形態に関わるシリコン基板／グラファイト薄膜／酸化膜付シリコン基板積層体１３を示している。シリコン基板／グラファイト薄膜／酸化膜付シリコン基板積層体はグラファイト薄膜１０とシリコン基板２０と酸化膜付シリコン基板３０を備えている。
以下、各製造方法について順次説明する。
＜＜グラファイト薄膜／シリコン基板積層体の作製実施例＞＞
グラファイト薄膜／シリコン基板積層体１１は、化学機械研磨（ＣＭＰ）により表面を平滑に加工したグラファイト薄膜を、常温接合装置を用いてシリコン基板に直接接合により積層する工程によって得られる。この工程の詳細を以下に記す。
本発明のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の作製には、パナソニック社製ＰＧＳグラファイトシートを用いた。ＰＧＳグラファイトシートの厚さは１００μｍ、サイズは１８０ｍｍ×２３０ｍｍ、密度は０．８５ｇ／ｃｍ３、面方向熱伝導率は７００Ｗ／ｍ・ｋ、電気伝導度は１００００Ｓ／ｃｍ、引っ張り強度は２０．０ＭＰａ、面方向線膨張率は９．３×１０−７／ｋ、厚さ方向線膨張率は３．２×１０−５／ｋである。このグラファイトシートを直径１５０ｍｍの円形に切り出し、両面テープを用いて直径１５０ｍｍ厚さ６２５μｍのシリコン基板に貼り付けた。シリコン基板はグラファイト薄膜の研磨およびシリコン基板との接合作業を行うためのサポート基板である。グラファイト薄膜をＣＭＰにより表面を平滑に加工し、ＪＩＳ算術平均粗さＲａで１ｎｍ（０．００１μｍ）以下の表面平坦性に仕上げた。
ＣＭＰで研磨し表面を平坦化したグラファイト薄膜とシリコン基板との直接接合による積層は三菱重工工作機械株式会社製常温ウェハー接合装置ＢＯＮＤ ＭＥＩＳＴＥＲ（ボンドマイスター） ＭＷＢ−０６−Ｒを用いて行った。ＣＭＰ研磨を施したグラファイト薄膜を両面テープでシリコン基板に貼り付けたまま、常温ウェハー接合装置の接合チャンバにセットした。さらにグラファイト薄膜を直接接合により積層するシリコン基板を接合チャンバにセットした。続いて接合チャンバを１０−６Ｐａ台まで真空排気した。次に接合チャンバ内で、グラファイト薄膜表面とシリコン基板表面に中性アルゴン原子を照射し、表面の酸化膜や吸着物を除去し、両表面の活性化を行った。このプラズマ活性化工程により材料本来が持つ「結合の手」が現れ、ファンデルワールス力による自発的な接合が容易となる。
上記工程で表面が活性化されたグラファイト薄膜およびシリコン基板を接合チャンバ内で相互の位置を合わせた後、グラファイト薄膜表面とシリコン基板表面とを接触させた。両表面を接触させた際に瞬時に接合力が働き、グラファイト薄膜とシリコン基板とが強固に接合された。
上記の一連の直接接合による積層工程でグラファイト薄膜およびシリコン基板ともに加熱や冷却は行っていない。したがって両表面を接触させ直接接合により積層した際の温度は室温（常温）であった。
直接接合による積層が完了したグラファイト薄膜とシリコン基板を常温接合装置から取り出した。この際、グラファイト薄膜を支持していたシリコン基板は両面テープでグラファイト薄膜と張り付いているので、積層の構成は、グラファイト薄膜支持用シリコン基板／両面テープ／グラファイト薄膜／シリコン基板、であった。次に本積層体を有機溶剤（イソプロピルアルコール）に浸漬し、両面テープの粘着力を除去することにより、グラファイト薄膜支持用シリコン基板を取り除いた。以上の工程で、グラファイト薄膜／シリコン基板積層体が形成された。
（厚さの測定）
形成したグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の厚さ測定を行った。測定にはマイクロメータを使用した。まず接合前のシリコン基板の厚さは６２４μｍであった。また接合前のグラファイト薄膜の厚さは１００μｍであった。その後グラファイト薄膜のＣＭＰによる研磨および直接接合による積層工程を経て形成したグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の厚さは６４３μｍであった。シリコン基板の研磨は行っていないので厚さは接合前後で同じであるので、グラファイト薄膜の厚さは１９μｍであることがわかった。したがって本実施例においてグラファイト薄膜の研磨量は８１μｍであったことがわかった。形成したグラファイト薄膜／シリコン基板積層体でグラファイト薄膜層の厚さは１９μｍであり、シリコン基板の厚さは６２４μｍであった。
（密着性評価のためのラマン分光測定）
本発明のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の接合強度（密着性）を確認するため、下記のような実験を行った。直径１５０ｍｍのグラファイト薄膜／シリコン基板積層体を、ダイシング装置を用いて２０ｍｍ角の小片に切り出した。この小片の角において、ピンセットによりグラファイト薄膜をつまんで、角から５ｍｍ程度の部分をシリコン基板から剥離した。グラファイト薄膜を剥離したシリコン基板の表面に対してラマン分光測定を行った。使用した励起用レーザーの波長は６３８ｎｍ、レーザー光のスポット径は１μｍである。測定は図４に示すようにグラファイト薄膜を剥離した部分で基板の最も端（角）の場所（１）、および角からおよそ２ｍｍの部分（２）である。またグラファイト薄膜を剥離していない部分で（３）に示す場所においてグラファイト薄膜表面のラマン分光測定も行った。図５に（１）、（２）、（３）の３か所で測定したラマン分光スペクトルを示す。まずグラファイト薄膜をはがしていない部分（３）で測定したスペクトルでは、１５７９ｃｍ−１と２６８７ｃｍ−１に顕著なピークを持つことがわかる。１５７９ｃｍ−１のピークはグラファイトのＧバンド、また２６８７ｃｍ−１のピークは２Ｄバンドであり、高品質グラファイトから得られる典型的なラマンスペクトルである。また１３２１ｃｍ−１付近に欠陥を示すＤバンドが観測された。次にグラファイト薄膜を剥離した（１）および（２）のラマンスペクトルでは、（３）と同様にＧバンドと２Ｄバンドのピークが明瞭に観測された。この結果は形成したグラファイト薄膜／シリコン基板積層体からピンセットでグラファイト薄膜を剥離した部分のシリコン基板表面にグラファイト薄膜が残っていることを示している。すなわちピンセットでグラファイト薄膜を剥離する作業ではグラファイト薄膜とシリコン基板の接合界面が剥離したのではなく、グラファイト薄膜の層間で剥離が生じたことが明らかとなった。このように形成したグラファイト薄膜／シリコン基板積層体のグラファイトとシリコン基板表面の接合強度はグラファイト薄膜の層間の接合強度よりも強固であることが明らかとなった。したがって本発明のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の接合強度は十分に強固であると言える。
（界面のＳｉＣ形成の有無確認）
本発明のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の直接接合による積層界面に炭化ケイ素ＳｉＣが形成されているかどうかを確認した。３Ｃ−ＳｉＣのＬＯモードのラマンピークは９６９ｃｍ−１、ＴＯモードのラマンピークは７９３ｃｍ−１に、また４Ｈ−ＳｉＣのＬＯモードのラマンピークは９６９ｃｍ−１、ＴＯモードのラマンピークは７９３ｃｍ−１に観測される。一方図５のグラファイト薄膜を剥離した（１）および（２）のラマンスペクトルでは、これらのラマンピークは観測されなかった。したがって本発明のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の直接接合による積層界面に炭化ケイ素ＳｉＣは形成されていないことがわかった。
（周期加熱法によるグラファイト薄膜／シリコン基板の熱拡散率測定）
形成したグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の熱拡散率を周期加熱法で測定した。周期加熱法は、強度を周期的に変調させた熱流エネルギーを測定試料に与え、加熱領域からある距離だけ離れた位置における温度応答の振幅または位相差から熱拡散率を求める方法である。熱流エネルギーとして、レーザー光やヒーターのジュール熱を利用し、これを周期的に変調して試料に与える。本測定ではレーザー光照射による加熱を用いた。また温度応答の検出には、温度センサ（熱電対など）やサーモリフレクタンス法などが利用されているが、本測定では放射温度計を用いた非接触による温度検出を行った。周期加熱法による熱拡散率測定の詳細については、文献(H.Kato, T.Baba, M.Okaji, “Anisotropic thermal-diffusivity measurements by a new laser-spot-heating technique”, Meas Sci Technol 12(2001)2074-2080)を参照のこと。
測定したグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の大きさは２０ｍｍ角、グラファイト薄膜の厚さは１９μｍ、シリコン基板の厚さは６２４μｍであった。図６に測定結果を示す。横軸は加熱点（レーザー光の照射位置）からの距離Ｌ、縦軸は温度応答の位相差θである。加熱用のレーザーはグラファイト薄膜／シリコン基板積層体のシリコン基板側の表面の中心部分に照射した。加熱周波数ｆは１０Ｈｚである。熱拡散率αと位相差θとは下記式（Ｉ）の関係がある。この関係を使い、Ｌの正および負の領域それぞれから熱拡散率αを求める。これにより得た熱拡散率αは９．７×１０−５ｍ２／ｓであった。グラファイト薄膜のないシリコン基板単体の熱拡散率は８．８×１０−５ｍ２／ｓであったので、本実施例のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の熱拡散率はシリコン基板単体の１０％程度高いことが明らかとなった。
Figure 2020138202
＜＜シリコン基板／グラファイト薄膜／シリコン基板積層体の作製実施例＞＞
シリコン基板／グラファイト薄膜／シリコン基板積層体は、化学機械研磨（ＣＭＰ）により表面を平滑に加工したグラファイト薄膜を、常温接合装置を用いてシリコン基板に直接接合により積層し、次に直接接合により積層したグラファイト薄膜の表面を化学機械研磨（ＣＭＰ）により平滑に加工し、さらに常温接合装置を用いてシリコン基板に直接接合により積層する工程によって得られる。この工程の詳細を以下に記す。
本発明のシリコン基板／グラファイト薄膜／シリコン基板積層体の作製には、パナソニック社製ＰＧＳグラファイトシートを用いた。ＰＧＳグラファイトシートの厚さは１００μｍ、サイズは１８０ｍｍ×２３０ｍｍ、密度は０．８５ｇ／ｃｍ３、面方向熱伝導率は７００Ｗ／ｍ・ｋ、電気伝導度は１００００Ｓ／ｃｍ、引っ張り強度は２０．０ＭＰａ、面方向線膨張率は９．３×１０−７／ｋ、厚さ方向線膨張率は３．２×１０−５／ｋである。このグラファイトシートを直径１００ｍｍの円形に切り出し、両面テープを用いて直径１００ｍｍ厚さ５２４μｍのシリコン基板に貼り付けた。シリコン基板はグラファイト薄膜の研磨およびシリコン基板との接合作業を行うためのサポート基板である。グラファイト薄膜をＣＭＰにより表面を平滑に加工し、ＪＩＳ算術平均粗さＲａで１ｎｍ（０．００１μｍ）以下の表面平坦性に仕上げた。
ＣＭＰで研磨し表面を平坦化したグラファイト薄膜とシリコン基板との直接接合による積層は三菱重工工作機械株式会社製常温ウェハー接合装置ＢＯＮＤ ＭＥＩＳＴＥＲ（ボンドマイスター） ＭＷＢ−０６−Ｒを用いて行った。ＣＭＰ研磨を施したグラファイト薄膜を両面テープでシリコン基板に貼り付けたまま、常温ウェハー接合装置の接合チャンバにセットした。さらにグラファイト薄膜を直接接合により積層する直径１００ｍｍ厚さ５２４μｍのシリコン基板を接合チャンバにセットした。続いて接合チャンバを１０−６Ｐａ台まで真空排気した。次に接合チャンバ内で、グラファイト薄膜表面とシリコン基板表面に中性アルゴン原子を照射し、表面の酸化膜や吸着物を除去し、両表面の活性化を行った。この活性化工程により材料本来が持つ「結合の手」が現れ、ファンデルワールス力による自発的な接合が容易となる。
上記工程で表面が活性化されたグラファイト薄膜およびシリコン基板を接合チャンバ内で相互の位置を合わせた後、グラファイト薄膜表面とシリコン基板表面とを接触させた。両表面を接触させた際に瞬時に接合力が働き、グラファイト薄膜とシリコン基板とが強固に接合された。
上記の一連の接合工程でグラファイト薄膜およびシリコン基板ともに加熱や冷却は行っていない。したがって両表面を接触させ直接接合により積層した際の温度は室温（常温）であった。
直接接合による積層が完了したグラファイト薄膜とシリコン基板を常温接合装置から取り出した。この際、グラファイト薄膜を支持していたシリコン基板は両面テープでグラファイト薄膜と張り付いているので、積層の構成は、グラファイト薄膜支持用シリコン基板／両面テープ／グラファイト薄膜／シリコン基板、であった。次に本積層体を有機溶剤（イソプロピルアルコール）に浸漬し、両面テープの粘着力を除去することにより、グラファイト薄膜支持用シリコン基板を取り除いた。以上の工程で、グラファイト薄膜／シリコン基板積層体が形成された。
上記の工程で形成したグラファイト薄膜／シリコン基板積層体のグラファイト薄膜表面をＣＭＰにより表面を平滑に加工し、ＪＩＳ算術平均粗さＲａで１ｎｍ（０．００１μｍ）以下の表面平坦性に仕上げた。
次にグラファイト薄膜表面をＣＭＰで研磨し平坦化したグラファイト薄膜／シリコン基板積層体とシリコン基板との直接接合による積層は三菱重工工作機械株式会社製常温ウェハー接合装置ＢＯＮＤ ＭＥＩＳＴＥＲ（ボンドマイスター） ＭＷＢ−０６−Ｒを用いて行った。グラファイト薄膜表面をＣＭＰで研磨し平坦化したグラファイト薄膜／シリコン基板積層体を常温ウェハー接合装置の接合チャンバにセットした。さらに上記のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体のグラファイト薄膜表面に直接接合により積層する直径１００ｍｍ厚さ５２４μｍのシリコン基板を接合チャンバにセットした。続いて接合チャンバを１０−６Ｐａ台まで真空排気した。次に接合チャンバ内で、グラファイト薄膜／シリコン基板積層体のグラファイト薄膜表面とシリコン基板表面に中性アルゴン原子を照射し、表面の酸化膜や吸着物を除去し、両表面の活性化を行った。この活性化工程により材料本来が持つ「結合の手」が現れ、ファンデルワールス力による自発的な接合が容易となる。
上記工程で表面が活性化されたグラファイト薄膜／シリコン基板積層体のグラファイト薄膜表面およびシリコン基板を接合チャンバ内で相互の位置を合わせた後、グラファイト薄膜表面とシリコン基板表面とを接触させた。両表面を接触させた際に瞬時に接合力が働き、グラファイト薄膜／シリコン基板積層体のグラファイト薄膜表面とシリコン基板とが強固に接合された。
上記の一連の直接接合による積層工程でグラファイト薄膜／シリコン基板積層体およびシリコン基板ともに加熱や冷却は行っていない。したがって両表面を接触させ直接接合により積層した際の温度は室温（常温）であった。
直接接合による積層が完了したグラファイト薄膜／シリコン基板積層体とシリコン基板を常温接合装置から取り出した。以上の工程で、直径１００ｍｍのシリコン基板／グラファイト薄膜／シリコン基板積層体が形成された。
（厚さの測定）
形成したシリコン基板／グラファイト薄膜／シリコン基板積層体の厚さ測定を行った。測定にはマイクロメータを使用した。まず接合前のシリコン基板の厚さは５２４μｍであった。また接合前のグラファイト薄膜の厚さは１００μｍであった。その後グラファイト薄膜のＣＭＰによる研磨および直接接合による積層工程を経て形成したグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の厚さは１１１５μｍであった。シリコン基板の研磨は行っていないので厚さは直接接合による積層前後で同じであるので、グラファイト薄膜の厚さは６７μｍであることがわかった。したがって本実施例においてグラファイト薄膜の研磨量は３３μｍであったことがわかった。形成したシリコン基板／グラファイト薄膜／シリコン基板積層体でグラファイト薄膜層の厚さは６７μｍであり、シリコン基板の厚さは５２４μｍであった。
＜＜シリコン基板／グラファイト薄膜／酸化膜付シリコン基板積層体の作製実施例＞＞
シリコン基板／グラファイト薄膜／酸化膜シリコン基板積層体は、化学機械研磨（ＣＭＰ）により表面を平滑に加工したグラファイト薄膜を、常温接合装置を用いてシリコン基板に直接接合により積層し、次に接合したグラファイト薄膜の表面を化学機械研磨（ＣＭＰ）により平滑に加工し、さらに常温接合装置を用いて酸化膜シリコン基板に直接接合により積層する工程によって得られる。この工程の詳細を以下に記す。
本発明のシリコン基板／グラファイト薄膜／酸化膜付シリコン基板積層体の作製には、パナソニック社製ＰＧＳグラファイトシートを用いた。ＰＧＳグラファイトシートの厚さは１００μｍ、サイズは１８０ｍｍ×２３０ｍｍ、密度は０．８５ｇ／ｃｍ３、面方向熱伝導率は７００Ｗ／ｍ・ｋ、電気伝導度は１００００Ｓ／ｃｍ、引っ張り強度は２０．０ＭＰａ、面方向線膨張率は９．３×１０−７／ｋ、厚さ方向線膨張率は３．２×１０−５／ｋである。このグラファイトシートを直径１００ｍｍの円形に切り出し、両面テープを用いて直径１００ｍｍ厚さ５２４μｍのシリコン基板に貼り付けた。シリコン基板はグラファイト薄膜の研磨およびシリコン基板との直接接合による積層作業を行うためのサポート基板である。グラファイト薄膜をＣＭＰにより表面を平滑に加工し、ＪＩＳ算術平均粗さＲａで１ｎｍ（０．００１μｍ）以下の表面平坦性に仕上げた。
ＣＭＰで研磨し表面を平坦化したグラファイト薄膜とシリコン基板との直接接合による積層は三菱重工工作機械株式会社製常温ウェハー接合装置ＢＯＮＤ ＭＥＩＳＴＥＲ（ボンドマイスター） ＭＷＢ−０６−Ｒを用いて行った。ＣＭＰ研磨を施したグラファイト薄膜を両面テープでシリコン基板に貼り付けたまま、常温ウェハー接合装置の接合チャンバにセットした。さらにグラファイト薄膜を直接接合により積層する直径１００ｍｍ厚さ５２４μｍのシリコン基板を接合チャンバにセットした。続いて接合チャンバを１０−６Ｐａ台まで真空排気した。次に接合チャンバ内で、グラファイト薄膜表面とシリコン基板表面に中性アルゴン原子を照射し、表面の酸化膜や吸着物を除去し、両表面の活性化を行った。この活性化工程により材料本来が持つ「結合の手」が現れ、ファンデルワールス力による自発的な接合が容易となる。
上記工程で表面が活性化されたグラファイト薄膜およびシリコン基板を接合チャンバ内で相互の位置を合わせた後、グラファイト薄膜表面とシリコン基板表面とを接触させた。両表面を接触させた際に瞬時に接合力が働き、グラファイト薄膜とシリコン基板とが強固に接合された。
上記の一連の直接接合による積層工程でグラファイト薄膜およびシリコン基板ともに加熱や冷却は行っていない。したがって両表面を接触させ直接接合により積層した際の温度は室温（常温）であった。
直接接合による積層が完了したグラファイト薄膜とシリコン基板を常温接合装置から取り出した。この際、グラファイト薄膜を支持していたシリコン基板は両面テープでグラファイト薄膜と張り付いているので、積層の構成は、グラファイト薄膜支持用シリコン基板／両面テープ／グラファイト薄膜／シリコン基板、であった。次に本積層体を有機溶剤（イソプロピルアルコール）に浸漬し、両面テープの粘着力を除去することにより、グラファイト薄膜支持用シリコン基板を取り除いた。以上の工程で、直径１００ｍｍのグラファイト薄膜／シリコン基板積層体が形成された。
上記の工程で形成したグラファイト薄膜／シリコン基板積層体のグラファイト薄膜表面をＣＭＰにより表面を平滑に加工し、ＪＩＳ算術平均粗さＲａで１ｎｍ（０．００１μｍ）以下の表面平坦性に仕上げた。
次にグラファイト薄膜表面をＣＭＰで研磨し平坦化したグラファイト薄膜／シリコン基板積層体と酸化膜付シリコン基板との直接接合による積層は三菱重工工作機械株式会社製常温ウェハー接合装置ＢＯＮＤ ＭＥＩＳＴＥＲ（ボンドマイスター） ＭＷＢ−０６−Ｒを用いて行った。グラファイト薄膜表面をＣＭＰで研磨し平坦化したグラファイト薄膜／シリコン基板積層体を常温ウェハー接合装置の接合チャンバにセットした。さらに上記のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体のグラファイト薄膜表面に直接接合により積層する直径１００ｍｍ厚さ５２４μｍの酸化膜付シリコン基板を接合チャンバにセットした。酸化膜の厚さは１００ｎｍであった。続いて接合チャンバを１０−６Ｐａ台まで真空排気した。次に接合チャンバ内で、グラファイト薄膜／シリコン基板積層体のグラファイト薄膜表面と酸化膜付シリコン基板表面に中性アルゴン原子を照射し、表面の酸化膜や吸着物を除去し、両表面の活性化を行った。この活性化工程により材料本来が持つ「結合の手」が現れ、ファンデルワールス力による自発的な接合が容易となる。
上記工程で表面が活性化されたグラファイト薄膜／シリコン基板積層体のグラファイト薄膜表面および酸化膜付シリコン基板を接合チャンバ内で相互の位置を合わせた後、グラファイト薄膜表面と酸化膜付シリコン基板表面とを接触させた。両表面を接触させた際に瞬時に接合力が働き、グラファイト薄膜／シリコン基板積層体のグラファイト薄膜表面と酸化膜付シリコン基板とが強固に接合された。
上記の一連の直接接合による積層工程でグラファイト薄膜／シリコン基板積層体および酸化膜付シリコン基板ともに加熱や冷却は行っていない。したがって両表面を接触させ接合した際の温度は室温（常温）であった。
直接接合による積層が完了したグラファイト薄膜／シリコン基板積層体と酸化膜付シリコン基板を常温接合装置から取り出した。以上の工程で、直径１００ｍｍのシリコン基板／グラファイト薄膜／酸化膜付シリコン基板積層体が形成された。
（厚さの測定）
形成したシリコン基板／グラファイト薄膜／酸化膜付シリコン基板積層体の厚さ測定を行った。測定にはマイクロメータを使用した。まず接合前のシリコン基板の厚さは５２４μｍ、酸化膜付シリコン基板の厚さは５２４μｍであった。また接合前のグラファイト薄膜の厚さは１００μｍであった。その後グラファイト薄膜のＣＭＰによる研磨および接合工程を経て形成したシリコン基板／グラファイト薄膜／酸化膜付シリコン基板積層体の厚さは１１１５μｍであった。シリコン基板および酸化膜付シリコン基板の研磨は行っていないので厚さは接合前後で同じであるので、グラファイト薄膜の厚さは６７μｍであることがわかった。したがって本実施例においてグラファイト薄膜の研磨量は３３μｍであったことがわかった。形成したシリコン基板／グラファイト薄膜／酸化膜付シリコン基板積層体でグラファイト薄膜層の厚さは６７μｍであり、シリコン基板の厚さは５２４μｍであった。
（ヒーター加熱によるシリコン基板の温度分布）
上記したグラファイト薄膜／シリコン基板積層体をヒーターで加熱したときのその温度分布を測定した。ここで、積層体の直径は１５０ｍｍ、シリコン基板の厚さは６２５μｍ、グラファイト薄膜はパナソニック社製ＰＧＳグラファイトシートで厚さ１９μｍである。なお、積層前のグラファイトフィルムの元厚は１００μｍ、熱伝導率は７００Ｗ／ｍＫである。
積層体のシリコン面の中心位置に、１５ｍｍ角の小型セラミックヒーター（ＭＩＳＵＭＩ−ＶＯＮＡ小型セラミックヒーターＭＭＣＰＨ−１５−１５、１５ｍｍ角厚さ１．２７ｍｍ、最高使用温度２００℃）を放熱用シリコングリス（サンハヤト社製 放熱用シリコンＳＣＨ−３０）を介して貼付した。ヒーターに通電し、シリコン面上の温度をサーモグラフィ（ＦＬＩＲ社製 サーモグラフィ）で測定した。サーモグラフィの放射率εは０．９５（マット面）とした。測定は室温且つ湿度３６％の環境で行った。比較のため、グラファイト薄膜を積層しないシリコン基板も同様にセラミックヒーターを貼付し、温度測定を行った。
図７は、セラミックヒーターに電力を７Ｗ投入して加熱し、中心部の温度を７６℃に設定した場合のシリコン基板表面の温度を、中心からの距離でプロットしたものである。中心から１０ｍｍの位置（セラミックヒーターの両脇）で、グラファイト薄膜のないシリコン基板のみの場合はおよそ５５〜５８℃であるのに対し、グラファイト薄膜が裏面に積層してある場合は４８〜４９℃であった。
図８は、セラミックヒーターに電力を１４Ｗ投入して加熱し、中心部の温度を１３２℃に設定した場合のシリコン基板表面の温度を、中心からの距離でプロットしたものである。中心から１０ｍｍの位置（セラミックヒーターの両脇）で、グラファイトフィルムのないシリコン基板のみの場合はおよそ８０〜８８℃であるのに対し、グラファイトフィルムが裏面に積層してある場合は６５〜７１℃であった。以上のように、本発明のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の優れた放熱効果を確認できた。
１０：グラファイト薄膜
２０：シリコン基板
１１：グラファイト薄膜／シリコン基板積層体
１２：シリコン基板／グラファイト薄膜／シリコン基板積層体
３０：酸化膜付シリコン基板
１３：シリコン基板／グラファイト薄膜／酸化膜付シリコン基板積層体

Claims (10)

  1. シリコン基板の上にグラファイト薄膜を与えた積層体の製造方法であって、
    脱気下で、平滑化された前記グラファイト薄膜及び前記シリコン基板のそれぞれの表面をクリーニングして活性化させ、前記表面を互いに接近させて自発的に接合させることを特徴とするグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の製造方法。
  2. 脱気に先立って、化学機械研磨（ＣＭＰ）により前記グラファイト薄膜の前記表面を平滑加工することを特徴とする請求項１記載のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の製造方法。
  3. 前記グラファイト薄膜の前記表面を平均粗さＲａで１ｎｍ以下に平滑加工することを特徴とする請求項２記載のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の製造方法。
  4. 前記グラファイト薄膜の前記表面と反対側の主面には、支持基板を着脱自在に取り付けられていることを特徴とする請求項２記載のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の製造方法。
  5. 非加熱下でのプラズマクリーニングによりクリーニングを行うことを特徴とする請求項１乃至４のうちの１つに記載のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の製造方法。
  6. 前記プラズマクリーニングはアルゴンプラズマであることを特徴とする請求項５記載のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の製造方法。
  7. 前記シリコン基板は酸化膜付きシリコンからなり、前記クリーニングより酸化膜を除去されることを特徴とする請求項１乃至６のうちの１つに記載のグラファイト薄膜／シリコン基板積層体の製造方法。
  8. シリコン基板の上にグラファイト薄膜を与えた積層体であって、
    前記シリコン基板と前記グラファイト薄膜とが直接界面を挟んで接することを特徴とするグラファイト薄膜／シリコン基板積層体。
  9. 前記シリコン基板と前記グラファイト薄膜とがファンデルワールス力により接合されていることを特徴とするグラファイト薄膜／シリコン基板積層体。
  10. シリコン基板の上にグラファイト薄膜を与えた積層体からなる高排熱型電子デバイス用基板であって、
    前記シリコン基板と前記グラファイト薄膜とが直接界面を挟んで接することを特徴とする高排熱型電子デバイス用基板。
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