JPWO2019026416A1 - 眼鏡枠形状測定装置、及びレンズ加工装置 - Google Patents

Abstract

眼鏡フレームの形状を測定する眼鏡枠形状測定装置であって、光源を有し、眼鏡フレームのリムの溝に向けて光源から測定光を照射する投光光学系と、検出器を有し、投光光学系によって眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射され、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光の反射光を検出器によって受光する受光光学系と、検出器によって受光された反射光に基づいて、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得する取得手段と、検出器によって受光される反射光の輝度レベルを制御する輝度制御手段と、を備える。

Description

本開示は、眼鏡フレームの形状を得るための眼鏡枠形状測定装置、及び眼鏡枠形状測定装置を用いてレンズの周縁の加工をするためのレンズ加工装置に関する。

眼鏡フレームのリムに測定子を挿入し、測定子をリムに押し当てて移動させることで、リムの輪郭をトレースし、リムの形状を測定する眼鏡枠形状測定装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。この眼鏡枠形状測定装置で得られたリムの測定結果（トレースデータ）に基づいて、眼鏡レンズをリムに嵌めるための形状（目標形状）が得られる。そして、形状に基づいて眼鏡レンズの輪郭形状が決定され、眼鏡レンズ加工装置によってレンズの周縁が加工される。

特開２０１５−００７５３６号公報

ところで、眼鏡フレームに加工後のレンズを良好に枠入れするためには、リムの形状と加工後のレンズの輪郭形状が近いほどより好ましいと考えられている。しかしながら、測定子を用いてのリム形状の測定では、測定子が押し当てられた位置での測定(例えば、リムの底の部分の測定)を行うことは容易であるものの、リムの溝の断面形状を得ることは困難であった。

本開示は、上記従来技術に鑑み、眼鏡フレームのタイプを問わず、眼鏡フレームのリムの断面形状を容易に精度よく取得することができる眼鏡枠形状測定装置、及びレンズ加工装置を提供することを技術課題とする。

上記課題を解決するために、本開示は以下のような構成を備えることを特徴とする。

（１） 本開示の第１態様に係る眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームの形状を測定する眼鏡枠形状測定装置であって、光源を有し、眼鏡フレームのリムの溝に向けて前記光源から測定光を照射する投光光学系と、検出器を有し、前記投光光学系によって前記眼鏡フレームの前記リムの溝に向けて照射され、前記眼鏡フレームの前記リムの溝によって反射された前記測定光の反射光を前記検出器によって受光する受光光学系と、前記検出器によって受光された前記反射光に基づいて、前記眼鏡フレームの前記リムの溝の断面形状を取得する取得手段と、前記検出器によって受光される前記反射光の輝度レベルを制御する輝度制御手段と、を備えることを特徴とする。
（２） 本開示に係る第２様態に係るレンズ加工装置は、レンズの周縁を加工するレンズ加工装置であって、（１）の眼鏡枠形状測定装置によって取得された前記眼鏡フレームの前記リムの溝の断面形状に基づいてレンズの周縁を加工する加工制御手段を備えることを特徴とする。

眼鏡枠形状測定装置の外観略図である。 眼鏡フレームが保持された状態のフレーム保持ユニットの上面図である。 移動ユニットを上方から見た斜視図を示している。 移動ユニットの下方から見た斜視図を示している。 Ｚ移動ユニットとＹ移動ユニットの上面斜視図を示している。 回転ユニットについて説明する図である。 眼鏡フレーム測定光学系について示す概略構成図である。 眼鏡枠形状測定装置に関する制御ブロック図である。 回転ユニットを制御して、異なる動径角にてリムの断面形状を取得する場合の一例について説明する図である。 異なる動径角にてリムの断面形状を取得する場合の一例について説明する図である。 眼鏡フレームのリムの溝に測定光が照射されるように保持ユニットを移動させる前の受光結果を示す図である。 眼鏡フレームのリムの溝に測定光が照射されるように保持ユニットを移動させた後の受光結果を示す図である。 断面画像に対する輝度分布の取得について説明する図である。 リムの溝の断面画像から取得されるパラメータについて説明する図である。

以下、本実施形態を図面に基づいて説明する。図１〜図１３は本実施形態に係る眼鏡枠形状測定装置の構成について説明する図である。なお、本実施形態においては、眼鏡枠形状測定装置１の奥行き方向（眼鏡が配置された際の眼鏡フレームの上下方向）をＹ方向、奥行き方向に垂直（眼鏡が配置された際の眼鏡フレームの左右方向）な平面上の水平方向をＸ方向、鉛直方向（眼鏡が配置された際の眼鏡フレームの前後方向）をＺ方向として説明する。

なお、本実施形態における眼鏡枠形状測定装置１には、眼鏡フレームＦのリム部分が下方向、眼鏡フレームＦのテンプル部分が上方向とした状態で配置される。すなわち、眼鏡枠形状測定装置１に眼鏡フレームＦが配置された場合に、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲが下方向、眼鏡フレームＦの左右のテンプルＦＴＬ，ＦＴＲが上方向となる。もちろん、本実施形態の眼鏡枠形状測定装置１においては、眼鏡フレームＦのリム部分が下方向、眼鏡フレームＦのテンプル部分が上方向とした状態で配置される構成を例に挙げて説明するがこれに限定されない。例えば、眼鏡フレームＦのリム部分が上方向、眼鏡フレームＦのテンプル部分が下方向とした状態で配置される構成であってもよい。また、例えば、眼鏡枠形状測定装置１に眼鏡フレームＦが配置された場合に、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲの上端が下方向、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲの下端が上方向となるように配置される構成であってもよい。また、例えば、眼鏡枠形状測定装置１に眼鏡フレームＦが配置された場合に、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲの上端が上方向、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲの下端が下方向となるように配置される構成であってもよい。

＜概要＞
本開示の実施形態に係る眼鏡枠形状測定装置（例えば、眼鏡枠形状測定装置１）の概要について説明する。例えば、本実施形態に関わる眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームの形状を測定する。例えば、眼鏡枠形状測定装置は、投光光学系（例えば、投光光学系３０ａ）を備える。例えば、眼鏡枠形状測定装置は、受光光学系（例えば、受光光学系３０ｂ）を備える。例えば、眼鏡枠形状測定装置は、取得手段（例えば、制御部５０）を備える。

例えば、投光光学系は、光源（例えば、光源３１）を有する。例えば、投光光学系は、眼鏡フレームのリムの溝に向けて光源から測定光（測定光束）を照射する。なお、例えば、光源は、少なくとも１つ以上の光源が用いられてもよい。例えば、１つの光源が用いられてもよい。また、例えば、複数の光源が用いられてもよい
例えば、受光光学系は、検出器（例えば、検出器３７）を有する。例えば、受光光学系は、投光光学系によって眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射され、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光の反射光（反射光束）を検出器によって受光する。なお、例えば、検出器は、少なくとも１つ以上の検出器が用いられてもよい。例えば、１つの検出器が用いられてもよい。また、例えば、複数の検出器が用いられてもよい。

例えば、取得手段は、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光の反射光を処理して、検出器によって受光された測定光の反射光に基づいて、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得する。

例えば、本実施形態において、眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームのリムに向けて光源から測定光を照射する投光光学系と、投光光学系によって眼鏡フレームの前記リムに向けて照射され、眼鏡フレームのリムによって反射された測定光の反射光を検出器によって受光する受光光学系と、反射光を処理して、眼鏡フレームのリムの断面形状を取得する取得手段と、を備える。これによって、例えば、眼鏡フレームのリムの断面形状を容易に精度よく取得することができる。また、例えば、測定光による測定であるため、迅速に測定を行うことができる。

＜投光光学系＞
例えば、投光光学系は、光学部材を有してもよい。この場合、例えば、光源から出射された測定光が各光学部材を介して眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射されるようにしてもよい。例えば、光学部材としては、レンズ、ミラー、絞り、等の少なくともいずれかを用いてもよい。例えば、絞りを用いることによって、焦点深度を深くすることができる。もちろん、光学部材としては、上記光学部材に限定されず、異なる光学部材が用いられてもよい。

なお、例えば、投光光学系は、光源から出射された測定光が眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射される構成であればよい。例えば、少なくとも光源を有する構成であってもよい。また、例えば、投光光学系としては、光学部材とは異なる部材を経由して、光源から出射された測定光が眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射される構成であってもよい。

例えば、投光光学系によって、眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射される測定光は、スポット状の測定光を照射してもよい。また、例えば、投光光学系によって、眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射される測定光は、幅を有する測定光（例えば、スリット状の測定光）であってもよい。この場合、例えば、投光光学系は、光源からの測定光を眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射し、リムの溝上に光切断面を形成させてもよい。例えば、受光光学系は、光切断面のリムの溝での反射（例えば、散乱、正反射等）により取得されるリムの溝の反射光（例えば、散乱光、正反射光等）を検出器によって、受光するようにしてもよい。

例えば、幅を有する測定光を照射する場合、スリット状の光束を出射する光源を用いてもよい。例えば、点光源を用いてもよい。この場合、例えば、点光源を複数並べて配置することによって、幅を有する測定光を照射するようにしてもよい。また、例えば、点光源から照射されたスポット状の光束を走査することによって、幅を有する測定光を照射するようにしてもよい。また、例えば、点光源から照射されたスポット状の測定光を光学部材によって拡散させることによって、幅を有する測定光を照射するようにしてもよい。もちろん、例えば、光源としては、上記光源とは異なる種々の種類の光源を用いて、幅を有する測定光を照射するようにしてもよい。

＜受光光学系＞
例えば、受光光学系は、光学部材を有してもよい。この場合、例えば、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光の反射光が各光学部材を介して、検出器に受光されるようにしてもよい。例えば、光学部材としては、レンズ、ミラー、絞り、等の少なくともいずれかを用いてもよい。もちろん、光学部材としては、上記光学部材に限定されず、異なる光学部材が用いられてもよい。

なお、例えば、受光光学系は、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光の反射光が検出器に受光される構成であればよい。例えば、少なくとも検出器を有する構成であってもよい。また、例えば、受光光学系としては、光学部材とは異なる部材を経由して、鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光の反射光が検出器に受光される構成であってもよい。

＜取得手段＞
例えば、取得手段は、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光の反射光を処理して、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得する。例えば、取得手段は、検出器における反射光の受光位置から断面形状を取得してもよい。例えば、断面形状は、画像（画像データ）であってもよい。すなわち、断面形状は、断面画像であってもよい。また、例えば、断面形状は、信号（信号データ）であってもよい。すなわち、断面形状は、断面形状の信号データであってもよい。

例えば、断面形状としては、二次元断面形状、三次元断面形状等が挙げられる。例えば、二次元断面形状は、１つの動径角におけるリムの溝に測定光を照射し、その反射光を受光することによって取得される断面形状である。例えば、本実施形態において、二次元断面形状は、リムの溝を眼鏡フレームの動径方向（本実施形態においては、ＸＹ方向）に垂直な方向（本実施形態においては、Ｚ方向）に切断した面の形状である。なお、例えば、二次元断面形状は、測定光を横断位置（本実施形態においては、Ｚ方向）に沿って走査させることによって取得してもよい。また、例えば、三次元断面形状は、二次元断面形状を各動径角毎に取得することによって、取得される断面形状である。例えば、三次元断面形状は、二次元断面形状を取得するための測定光を眼鏡フレームの動径平面方向（本実施形態においては、ＸＹ平面方向）で走査することによって取得するようにしてもよい。

なお、例えば、断面形状の取得した際に、断面形状の一部が欠損している場合に、欠損している位置の周辺の位置（例えば、隣接する位置）における反射光の受光結果から、欠損部分を補間するようにしてもよい。また、例えば、断面形状の取得した際に、断面形状の一部が欠損している場合に、断面形状を近似することによって、欠損部分を補間するようにしてもよい。また、例えば、断面形状の取得した際に、断面形状の一部が欠損している場合に、欠損部分が取得されるように断面形状の再取得を行うようにしてもよい。

例えば、二次断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周（各動径角においてリムが形成されているすべての部分）の内、少なくとも１つの箇所（1つの動径角の位置）でのリムの溝の二次元断面形状が取得されるようにしてもよい。この場合、例えば、二次元断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、取得されるようにしてもよい。また、この場合、例えば、二次元断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、複数の位置（例えば、眼鏡フレームの左端、右端、上端、下端等）で取得されるようにしてもよい。また、この場合、例えば、二次元断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、1つの動径角の位置で取得されるようにしてもよい。

例えば、三次元断面形状を取得する場合、眼鏡フレームのリムの全周（各動径角においてリムが形成されているすべての部分）の内、少なくとも一部の領域でのリムの溝の三次元断面形状が取得されるようにしてもよい。この場合、例えば、三次元断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、取得されるようにしてもよい。また、この場合、例えば、三次元断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、複数の領域（例えば、眼鏡フレームの左端領域、右端領域、上端領域、下端領域等）で取得されるようにしてもよい。また、この場合、例えば、三次元断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、一部分の領域で取得されるようにしてもよい。なお、眼鏡フレームのリムの全周に対して三次元断面形状を取得していない場合で、眼鏡フレームのリムの全周の三次元断面形状を取得したい場合には、二次元断面形状を取得した部分の二次元断面形状（三次元断面形状）に基づいて、補間をすることによって、眼鏡フレームのリムの全周の三次元断面形状を取得してもよい。

＜第１変更手段及び第１制御手段＞
例えば、眼鏡枠形状測定装置は、第１変更手段（例えば、移動ユニット２１０、回転ユニット２６０）を備えてもよい。例えば、第１変更手段は、眼鏡フレームのリムの溝に対する測定光の照射位置を変更する。また、例えば、眼鏡枠形状測定装置は、第１変更手段を制御する第１制御手段（例えば、制御部５０）を備えてもよい。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームのリムの溝に対する測定光の照射位置を変更する第１変更手段と、第１変更手段を制御する第１制御手段と、を備える。これによって、眼鏡フレームにおける任意のリムの溝の位置へ測定光を照射することが可能となり、任意の位置におけるリムの溝の断面形状を取得することができる。

例えば、第１変更手段は、測定光の照射位置と眼鏡フレームのリムの溝との相対位置を変更する構成であってもよい。例えば、第１変更手段は、測定光の照射位置と、眼鏡フレームのリムの溝の位置と、の少なくとも一方の位置を変更する構成であってもよい。この場合、例えば、第１変更手段は、測定光の照射位置に対して、眼鏡フレームのリムの溝の位置を変更する構成であってもよい。すなわち、第１変更手段は、測定光の照射位置に対して、眼鏡フレームの位置を変更する構成であってもよい。また、この場合、例えば、第１変更手段は、眼鏡フレームのリムの溝の位置に対して、測定光の照射位置を変更する構成であってもよい。また、この場合、例えば、第１変更手段は、眼鏡フレームのリムの溝の位置と、測定光の照射位置と、の双方を変更する構成であってもよい。

例えば、第１変更手段が測定光の照射位置と眼鏡フレームのリムの溝との相対位置を変更する構成として、投光光学系と眼鏡フレームのリムの溝との相対位置を変更する構成であってもよい。例えば、投光光学系の位置とは、投光光学系の光軸（例えば、光軸Ｌ１）の位置であってもよい。すなわち、例えば、第１変更手段が投光光学系の光軸の位置と眼鏡フレームのリムの溝との相対位置を変更することで、測定光の照射位置と眼鏡フレームのリムの溝との相対位置を変更する構成であってもよい。

例えば、投光光学系の位置（例えば、投光光学系の光軸の位置）と眼鏡フレームのリムの溝の位置との相対位置を変更する構成としては、投光光学系の位置と眼鏡フレームのリムの溝の位置との少なくとも一方の位置を変更する構成であってもよい。この場合、例えば、投光光学系の位置と眼鏡フレームのリムの溝の位置との少なくとも一方の位置を変更する構成としては、投光光学系の位置に対して、眼鏡フレームのリムの溝の位置を変更する構成であってもよい。また、この場合、例えば、投光光学系の位置と眼鏡フレームのリムの溝の位置との少なくとも一方の位置を変更する構成としては、眼鏡フレームのリムの溝の位置に対して、投光光学系の位置を変更する構成であってもよい。また、この場合、例えば、投光光学系の位置と眼鏡フレームのリムの溝の位置との少なくとも一方の位置を変更する構成としては、投光光学系の位置と眼鏡フレームのリムの溝の位置との双方の位置を変更する構成であってもよい。

なお、例えば、投光光学系の位置を変更する構成としては、投光光学系に含まれる少なくともいずれかの部材（例えば、光源、光学部材、その他部材等）の位置を変更する構成であってもよい。すなわち、例えば、第１変更手段は、投光光学系の少なくとも一部（一部の部材）の位置を変更させることで、眼鏡フレームのリムの溝に対する投光光学系の位置を変更する構成であってもよい。この場合、例えば、第１制御手段は、第１変更手段を制御することによって、投光光学系の少なくとも一部の位置を変更させ、眼鏡フレームのリムの溝に対する測定光の照射位置を変更するようにしてもよい。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、第１変更手段が投光光学系の少なくとも一部を移動させる第１変更手段であって、第１制御手段は、第１変更手段を制御することによって、眼鏡フレームのリムの溝に対して投光光学系の少なくとも一部を移動させ、眼鏡フレームのリムの溝に対する測定光の照射位置を変更する。これによって、眼鏡フレームにおける任意のリムの溝の位置へ測定光を照射することが可能となり、任意の位置におけるリムの溝の断面形状を取得することができる。

例えば、投光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、投光光学系の少なくとも一部の位置をＸ方向に移動させるＸ方向駆動手段であってもよい。例えば、投光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、投光光学系の少なくとも一部の位置をＹ方向に移動させるＹ方向駆動手段であってもよい。例えば、投光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、投光光学系の少なくとも一部の位置をＺ方向に移動させるＺ方向駆動手段であってもよい。例えば、投光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、投光光学系の少なくとも一部の位置を回転させる回転駆動手段（例えば、回転ユニット２６０）であってもよい。また、例えば、投光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、Ｘ方向駆動手段、Ｙ方向駆動手段、Ｚ方向駆動手段、回転駆動手段、の少なくともいずれかであってもよい。もちろん、投光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、上記駆動手段に限定されず、投光光学系の少なくとも一部の位置を上記方向とは異なる方向に駆動手段が用いられる構成であってもよい。

また、例えば、投光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、光スキャナを有し、光スキャナを走査する走査手段であってもよい。この場合、例えば、光スキャナの角度が変更されることによって、測定光の照射位置が変更されるようにしてもよい。すなわち、例えば、光スキャナの位置が変更されることによって、測定光の照射位置が変更されるようにしてもよい。

例えば、眼鏡フレームのリムの溝の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、眼鏡フレームをＸ方向に移動させるＸ方向駆動手段であってもよい。また、例えば、眼鏡フレームのリムの溝の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、眼鏡フレームをＹ方向に移動させるＹ方向駆動手段であってもよい。また、例えば、眼鏡フレームのリムの溝の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、眼鏡フレームをＺ方向に移動させるＺ方向駆動手段であってもよい。また、例えば、眼鏡フレームのリムの溝の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、眼鏡フレームを回転させる回転駆動手段であってもよい。また、例えば、眼鏡フレームのリムの溝の位置を変更させる構成としては、Ｘ方向駆動手段、Ｙ方向駆動手段、Ｚ方向駆動手段、回転駆動手段、の少なくともいずれかであってもよい。もちろん、眼鏡フレームのリムの溝の位置を変更させる構成としては、上記駆動手段に限定されず、眼鏡フレームのリムの溝の位置を上記方向とは異なる方向に駆動手段が用いられる構成であってもよい。

＜第２変更手段及び第２制御手段＞
例えば、眼鏡枠形状測定装置は、第２変更手段（例えば、移動ユニット２１０、回転ユニット２６０）を備えてもよい。例えば、第２変更手段は、受光光学系による反射光の受光位置を変更する。例えば、眼鏡枠形状測定装置は、第２変更手段を制御する第２制御手段（例えば、制御部５０）を備えてもよい。

例えば、本実施形態において、眼鏡枠形状測定装置は、受光光学系による反射光の受光位置を変更する第２変更手段と、第２変更手段を制御する第２制御手段と、を備える。これによって、リムの溝の断面形状を良好に取得することができる位置に受光位置を変更することができ、眼鏡フレームのリムの断面形状をより精度よく取得することができる。

例えば、第２変更手段は、受光光学系の位置と眼鏡フレームのリムの溝との相対位置を変更することで、受光光学系による反射光の受光位置を変更する構成であってもよい。例えば、受光光学系の位置とは、受光光学系の光軸（例えば、光軸Ｌ２）の位置であってもよい。すなわち、例えば、第２変更手段が受光光学系の光軸の位置と眼鏡フレームのリムの溝との相対位置を変更することで、測定光の照射位置と眼鏡フレームのリムの溝との相対位置を変更する構成であってもよい。

例えば、第２変更手段は、受光光学系の位置と、眼鏡フレームのリムの溝の位置と、の少なくとも一方の位置を変更する構成であってもよい。この場合、例えば、第２変更手段は、受光光学系の位置に対して、眼鏡フレームのリムの溝の位置を変更する構成であってもよい。すなわち、第２変更手段は、受光光学系の位置に対して、眼鏡フレームの位置を変更する構成であってもよい。また、この場合、例えば、第２変更手段は、眼鏡フレームのリムの溝の位置に対して、受光光学系の位置を変更する構成であってもよい。また、この場合、例えば、第２変更手段は、眼鏡フレームのリムの溝の位置と、受光光学系の位置と、の双方を変更する構成であってもよい。

なお、例えば、受光光学系の位置を変更する構成としては、受光光学系に含まれる少なくともいずれかの部材（例えば、検出器、光学部材、その他部材等）の位置を変更する構成であってもよい。すなわち、例えば、第２変更手段は、受光光学系の少なくとも一部（一部の部材）の位置を変更させることで、眼鏡フレームのリムの溝に対する受光光学系の位置を変更する構成であってもよい。この場合、例えば、第２制御手段は、第２変更手段を制御することによって、受光光学系の少なくとも一部の位置を変更させ、受光光学系による反射光の受光位置を変更するようにしてもよい。

例えば、受光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、受光光学系の少なくとも一部の位置をＸ方向に移動させるＸ方向駆動手段であってもよい。例えば、受光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、受光光学系の少なくとも一部の位置をＹ方向に移動させるＹ方向駆動手段であってもよい。例えば、受光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、受光光学系の少なくとも一部の位置をＺ方向に移動させるＺ方向駆動手段であってもよい。例えば、受光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、受光光学系の少なくとも一部の位置を回転させる回転駆動手段であってもよい。また、例えば、受光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、Ｘ方向駆動手段、Ｙ方向駆動手段、Ｚ方向駆動手段、回転駆動手段、の少なくともいずれかであってもよい。もちろん、受光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、上記駆動手段に限定されず、受光光学系の少なくとも一部の位置を上記方向とは異なる方向に駆動手段が用いられる構成であってもよい。

また、例えば、受光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、光スキャナを有し、光スキャナを走査する走査手段であってもよい。この場合、例えば、光スキャナの角度が変更されることによって、受光光学系による反射光の受光位置を変更するようにしてもよい。すなわち、例えば、光スキャナの位置が変更されることによって、受光光学系による反射光の受光位置を変更するようにしてもよい。

例えば、眼鏡フレームのリムの溝の位置を変更させる構成としては、上記で記載した＜第１変更手段及び第１制御手段＞の構成と同様の構成を用いることができる。

なお、例えば、第１変更手段と第２変更手段の制御は、それぞれ異なるタイミングで制御されるようにしてもよい。また、例えば、第１変更手段と第２変更手段の制御は、一体的に制御されるようにしてもよい。なお、例えば、第１変更手段の構成と第２変更手段の構成とは、少なくとも一部の部材が兼用されてもよい。

＜眼鏡フレームの形状取得＞
例えば、眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームの形状（形状データ）を取得するようにしてもよい。この場合、例えば、眼鏡枠形状測定装置は、解析手段（例えば、制御部５０）を備えてもよい。例えば、第１制御手段は、第１変更手段を制御して、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝に対して測定光を照射してもよい。例えば、取得手段は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状をそれぞれ取得してもよい。例えば、解析手段は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状から眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の底をそれぞれ検出し、検出した検出結果に基づいて、眼鏡フレームの形状を取得するようにしてもよい。

例えば、眼鏡フレームの形状は、二次元形状（二次元形状データ）であってもよい。例えば、二次元形状は、眼鏡フレームの動径方向（ＸＹ方向）のデータで表したものである。また、例えば、眼鏡フレームの形状は、三次元形状（三次元形状データ）であってもよい。例えば、三次元形状は、眼鏡フレームの動径方向（ＸＹ方向）及び動径方向に垂直な方向（Ｚ方向）のデータで表したものである。なお、例えば、二次元形状を取得する場合、解析手段は、三次元形状からＸＹ方向のリムの溝の位置を検出して二次元形状を取得するようにしてもよい。この場合、例えば、二次元形状は、三次元形状をＸＹ平面に投影することによって取得してもよい。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、第１制御手段が第１変更手段を制御して、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝に対して測定光を照射する。取得手段は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状をそれぞれ取得する。眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状から眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の底をそれぞれ検出し、検出した検出結果に基づいて、眼鏡フレームの形状を取得する解析手段を備える。これによって、従来のように、眼鏡フレームによっては、測定子がレンズ枠の溝から外れてしまい測定できないことを抑制することができ、種々の形状の眼鏡フレームに対して、容易に精度よく眼鏡フレームの形状を取得することできる。

例えば、眼鏡フレームの形状は、眼鏡フレームのリムの全周（各動径角においてリムが形成されているすべての部分）の内、少なくとも一部の領域で取得されるようにしてもよい。この場合、例えば、眼鏡フレームの形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、取得されるようにしてもよい。また、この場合、例えば、眼鏡フレームの形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、複数の領域（例えば、眼鏡フレームの左端領域、右端領域、上端領域、下端領域等）で取得されるようにしてもよい。また、この場合、例えば、眼鏡フレームの形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、一部分の領域で取得されるようにしてもよい。なお、眼鏡フレームのリムの全周に対して眼鏡フレームの形状を取得していない場合で、眼鏡フレームのリムの全周の眼鏡フレームの形状を取得したい場合には、眼鏡フレームの形状を取得した部分の形状に基づいて、補間をすることによって、眼鏡フレームのリムの全周の形状を取得するようにしてもよい。

＜三次元断面形状取得＞
例えば、眼鏡枠形状測定装置は、三次元断面形状を取得してもよい。例えば、第１制御手段は、第１変更手段を制御して、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝に対して測定光を照射する。例えば、取得手段は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状をそれぞれ取得することによって、三次元断面形状を取得するようにしてもよい。

例えば、本実施形態において、眼鏡枠形状測定装置は、第１制御手段が第１変更手段を制御して、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝に対して測定光を照射する。取得手段は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状をそれぞれ取得し、三次元断面形状を取得する。これによって、容易に精度よく眼鏡フレームの三次元断面形状を取得することできる。

＜輝度制御手段＞
ここで、発明者らは、眼鏡フレームのリムの溝に向けて測定光を照射し、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光の反射光を受光し、反射光に基づいて、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得する構成を備える眼鏡枠形状測定装置について検討した。例えば、このような眼鏡枠形状測定装置を用いる場合に、眼鏡フレームのタイプによっては、受光される反射光の輝度レベルが良好でなく、リムの溝の断面形状を精度よく取得することが困難であることがわかった。以下、この課題を解決する構成について説明する。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、輝度制御手段（例えば、制御部５０）を備えていてもよい。例えば、輝度制御手段は、検出器によって受光される反射光の輝度レベル（輝度値）を制御（変更）する。このように、例えば、本実施形態において、眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームのリムに向けて光源から測定光を照射する投光光学系と、投光光学系によって眼鏡フレームのリムに向けて照射され、眼鏡フレームのリムによって反射された測定光の反射光を検出器によって受光する受光光学系と、検出器によって受光された反射光に基づいて眼鏡フレームのリムの断面形状を取得する取得手段と、を備える。また、眼鏡枠形状測定装置は、検出器によって受光される反射光の輝度レベルを制御する輝度制御手段と、を備える。これによって、眼鏡フレームのタイプを問わず、眼鏡フレームのリムの断面形状を容易に精度よく取得することができる。

例えば、輝度制御手段は、眼鏡枠形状測定装置が備える各部材の少なくともいずれかの部材を制御することによって、輝度レベルを制御するようにしてもよい。例えば、各部材は、光源、検出器、レンズ、反射部材等の少なくともいずれかであってもよい。

例えば、輝度制御手段は、光源からの測定光の投光光量を制御することによって、検出器によって受光される反射光の輝度レベルを制御するようにしてもよい。これによって、例えば、容易な構成で輝度レベルの制御を行うことができる。

また、例えば、輝度制御手段は、検出器のゲインを制御することによって、検出器によって受光される反射光の輝度レベルを制御するようにしてもよい。これによって、例えば、容易な構成で輝度レベルの制御を行うことができる。

また、例えば、輝度制御手段は、光源から検出器までの光路中（投光光学系と受光光学系の光路中）に測定光の光量を調整する部材を設ける構成としてもよい。この場合、例えば、光量を調整する専用の部材が設けられる構成であってもよい。例えば、専用の部材としては、光量調整フィルタ、光減衰器であってもよい。また、この場合、例えば、投光光学系と受光光学系の各部材の内、いずれかの部材が光量を調整する部材として用いられてもよい。

また、例えば、輝度制御手段は、検出器における露光時間を制御することによって、検出器によって受光される反射光の輝度レベルを制御するようにしてもよい。また、例えば、輝度制御手段は、光源の発光時間を制御することによって、検出器によって受光される反射光の輝度レベルを制御するようにしてもよい。

なお、例えば、輝度制御手段は、上記構成に限定されない。例えば、輝度制御手段は、検出器によって受光される反射光の輝度レベルを制御できる構成であればよい。

なお、例えば、輝度制御手段は、上記構成の少なくともいずれかの構成であってもよい。例えば、輝度制御手段は、上記構成の内、１つを備える構成であってもよい。また、例えば、輝度制御手段は、上記構成の内、複数の構成を組み合わせるようにしてもよい。一例として、輝度制御手段は、光源からの測定光の投光光量の制御と、検出器のゲインを調整と、を行うようにしてもよい。

例えば、輝度制御手段が輝度レベルを制御する構成としては、輝度制御手段が反射光の輝度レベルに基づいて、輝度レベルの制御を行うようにしてもよい。この場合、例えば、輝度制御手段は、検出器によって受光された反射光の輝度レベルに基づいて、輝度レベルを制御するようにしてもよい。これによって、例えば、検出された輝度レベルに応じて輝度レベルを制御することができるため、容易に良好な輝度レベルとなるように輝度レベルの制御を行うことができる。

なお、例えば、輝度制御手段は、眼鏡フレームにおける、リムの肩の少なくとも一部、及びリムの溝の斜面の少なくとも一部が検出できるように、輝度レベルの制御を行うようにしてもよい。例えば、リムの肩とは、リムの前面の肩とリムの後面の肩であってもよい。なお、より好ましくは、輝度制御手段は、リム肩の端部が検出されるように、輝度レベルの制御を行うようにしてもよい。例えば、リムの溝の斜面とは、リムの溝の前斜面とリムの溝の後斜面であってもよい。上記のように、リムの肩の少なくとも一部、及びリムの溝の斜面の少なくとも一部が検出できることによって、リムの断面形状を取得することができる。

例えば、反射光の輝度レベルは、反射光の信号から検出するようにしてもよい。この場合、例えば、輝度制御手段は、反射光の信号から検出された輝度レベルに基づいて、輝度レベルを制御するようにしてもよい。

また、例えば、反射光の輝度レベルは、反射光の信号から断面画像を取得して、断面画像から検出するようにしてもよい。この場合、例えば、取得手段は、断面形状として断面画像を取得するようにしてもよい。また、例えば、眼鏡枠形状測定装置は、断面画像から輝度レベルを検出する輝度解析手段（例えば、制御部５０）を備えるようにしてもよい。例えば、輝度制御手段は、輝度解析手段によって検出された輝度レベルに基づいて、輝度レベルを制御するようにしてもよい。なお、例えば、輝度解析手段が、断面画像から輝度レベルを検出する場合に、断面画像の少なくとも一部分から輝度レベルを検出するようにしてもよい。例えば、一部分としては、リムの肩の少なくとも一部、及びリムの溝の斜面の少なくとも一部であってもよい。これによって、例えば、取得された断面画像に基づく輝度レベルの制御ができるため、輝度レベルを精度良く容易に制御することができる。もちろん、反射光の輝度レベルは、上記構成とは異なる構成によって検出されるようにしてもよい。

例えば、検出器によって受光された反射光の輝度レベルに基づいて輝度レベルを制御する構成としては、検出器によって受光された反射光の輝度レベルが許容レベル（例えば、所定の閾値）を満たすか否かに基づいて、制御をする構成としてもよい。この場合、例えば、輝度制御手段は、検出器によって受光された反射光の輝度レベルが許容レベルに到達していない場合に、輝度レベルが許容レベルを満たすように、輝度レベルを制御するようにしてもよい。

例えば、検出器によって受光された反射光の輝度レベルに基づいて輝度レベルを制御する構成としては、検出器によって受光された反射光の輝度レベルが許容レベル（例えば、所定の閾値）を満たすか否かを判定することで、制御をする構成としてもよい。この場合、例えば、眼鏡枠形状測定装置は、輝度レベルが許容レベルであるか否かを判定する判定手段（例えば、制御部５０）を備え、輝度制御手段は、判定手段の判定結果に基づいて、輝度レベルを制御するようにしてもよい。これによって、例えば、反射光の輝度レベルがリムの溝の断面形状を良好に取得できる輝度レベルであるか否かの判定に基づいて輝度レベルが制御されるため、より正確に輝度レベルの制御を行うことができる。すなわち、輝度レベルをより精度良く制御することができる。

なお、例えば、上記の許容レベルは、予め設定された許容レベルであってもよい。例えば、予め、シミュレーションや実験等によって輝度レベルが良好であると判定される許容レベルが設定されるようにしてもよい。一例として、許容レベルは、眼鏡フレームにおける、リムの肩の少なくとも一部、及びリムの溝の斜面の少なくとも一部が検出できるような輝度レベルが設定されるようにしてもよい。例えば、許容レベルは、検者が任意に設定できる構成としてもよい。また、例えば、許容レベルは、取得した断面画像に基づいて設定するようにしてもよい。

例えば、輝度制御手段が輝度レベルを制御する構成としては、輝度制御手段が、操作者による操作部（例えば、スイッチ部４）の操作によって、輝度レベルの制御を行うようにしてもよい。この場合、例えば、眼鏡枠形状測定装置は、操作部から輝度レベルを変更する操作信号を受信する受信手段を備え、輝度制御手段は、受信手段によって受信された操作信号に基づいて、輝度レベルを制御するようにしてもよい。なお、操作者によって輝度レベルの操作が行われる場合に、輝度レベルの操作を補助するためのガイド情報が提示されるようにしてもよい。例えば、ガイド情報としては、輝度レベルが許容レベルを満たしていないことを示す警告情報、輝度レベルの確認を促す情報、輝度レベルを示す情報、許容レベルを示す情報、等の少なくともいずれかであってもよい。もちろん、ガイド情報としては、上記構成に限定されず、輝度レベルが許容レベルを満たすか否かを確認できる情報であってもよい。

例えば、輝度制御手段が輝度レベルを制御する構成としては、輝度制御手段が、眼鏡フレームタイプ情報に基づいて、輝度レベルの制御を行うようにしてもよい。この場合、眼鏡フレームタイプ情報を取得する眼鏡フレームタイプ情報取得手段を備え、輝度制御手段は、眼鏡フレームタイプ情報取得手段によって取得された眼鏡フレームタイプ情報に基づいて、輝度レベルを制御するようにしてもよい。つまり、例えば、輝度制御手段は、眼鏡フレームタイプ情報取得手段によって取得された眼鏡フレームタイプ情報を輝度レベルを制御するための情報として設定し、設定した眼鏡フレームタイプ情報に基づいて、輝度レベルを制御するようにしてもよい。このような構成によって、例えば、眼鏡フレームタイプに応じた輝度レベルの制御を行うことができ、画像処理等の解析処理を行うことなく、眼鏡フレームのタイプを問わず、眼鏡フレームのリムの断面形状を容易に精度よく取得することができる。

例えば、眼鏡フレームタイプ情報における眼鏡フレームタイプとしては、眼鏡フレームの形状、眼鏡フレームの材料、眼鏡フレームの色、眼鏡フレームのデザイン、眼鏡フレームの構成情報等の少なくともいずれかであってもよい。例えば、眼鏡フレームの形状としては、フルリム（Full lim）、ツーポイント（Two point）、ナイロール（Nylor）等のいずれかの形状であってもよい。もちろん、眼鏡フレームの形状としては、上記と異なる形状であってもよい。また、例えば、眼鏡フレームの材料としては、メタル（Metal）、プラスチック（Plastic）、オプチル(Optyl)等のいずれかであってもよい。もちろん、眼鏡フレームの材料としては、上記と異なる材料であってもよい。また、例えば、眼鏡フレームの色としては、赤、青、黄、黒、グレー等の少なくともいずれかであってもよい。もちろん、眼鏡フレームの色としては、上記と異なる色であってもよい。例えば、眼鏡フレームのデザインとしては、ドット、ボーダー等の少なくともいずれかであってもよい。もちろん、眼鏡フレームのデザインとしては、上記と異なるデザインであってもよい。また、例えば、眼鏡フレームの構成情報としては、眼鏡フレームの玉型形状、眼鏡フレームのそり角度、眼鏡フレームの前傾角度等の少なくともいずれかであってもよい。もちろん、眼鏡フレームの構成情報としては、上記と異なる構成情報であってもよい。

なお、例えば、フルリムとしては、全体にリム（縁）があるタイプの眼鏡フレームが挙げられる。また、例えば、ツーポイントとしては、テンプルやブリッジが眼鏡レンズに直接ついているような、リムのない眼鏡フレームが挙げられる。また、例えば、ナイロールとしては、一部分のリムがないタイプの眼鏡フレームが挙げられる。この場合、リムのない部分は、ナイロン糸などで眼鏡レンズが固定される。

なお、眼鏡フレームタイプ情報は、複数の眼鏡フレームタイプ情報が関連付けされていてもよい。この場合、例えば、所定の眼鏡フレームタイプ（例えば、眼鏡フレームの形状）が選択された際には、選択された眼鏡フレームタイプの他に、その他の項目の眼鏡フレームタイプ（例えば、眼鏡フレームの材料）が取得される構成としてもよい。例えば、メタル、プラスチック、オプチルのいずれかの眼鏡フレームの材料が選択された場合には、眼鏡フレームの形状は、フルリムとして取得されるようにしてもよい。この場合、予め、眼鏡フレームタイプ間の関連付けをしておくとよい。

なお、眼鏡フレームタイプとしては、これらのタイプに限定されず、様々なタイプの眼鏡フレームを設定することができる。もちろん、眼鏡フレームタイプは、検者によって、任意に追加又は削除することが可能な構成としてもよい。

例えば、眼鏡フレームタイプ情報取得手段としては、検者の操作によって、入力される構成が挙げられる。例えば、検者による入力としては、検者が操作部を操作して眼鏡フレームタイプ情報を直接入力する構成や、眼鏡枠形状測定装置のメモリに記憶されている眼鏡フレームタイプ情報より検者が操作部を操作して眼鏡フレームタイプ情報を選択する構成が挙げられる。また、例えば、眼鏡フレームタイプ情報取得手段としては、眼鏡枠形状測定装置において、眼鏡フレームを検出するフレーム検出手段を設け、フレーム検出手段の検出結果（例えば、眼鏡フレームの厚み等）に基づいて、眼鏡フレームタイプ情報を取得する構成であってもよい。また、例えば、眼鏡フレームタイプ情報を取得する構成としては、眼鏡枠形状測定装置と別途異なる装置で入力された眼鏡フレームタイプ情報を受信手段によって受信する構成が挙げられる。

例えば、輝度制御手段が輝度レベルを制御する構成としては、輝度制御手段が、眼鏡フレームにおける測定位置に基づいて、輝度レベルの制御を行うようにしてもよい。この場合、例えば、輝度制御手段は、測定光の照射位置を検出し、測定光の照射位置（例えば、ブリッジ周辺位置、ツル周辺位置等）に応じて輝度レベルの制御を行うようにしてもよい。

例えば、輝度レベルを制御する場合、輝度制御手段は、測定を開始する前に実施するようにしてもよい。この場合、例えば、取得手段は、輝度制御手段によって輝度レベルが制御されて変更された後、検出器によって受光された反射光に基づいて、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得する。一例として、例えば、予め、眼鏡フレームにおける少なくとも１つ以上の測定位置において、測定光を照射してその反射光を受光するプレ測定を行う。例えば、輝度制御手段は、プレ測定によって取得された反射光の輝度レベルに基づいて、輝度レベルの制御を行う。例えば、取得手段は、輝度レベルが制御されて変更された後、検出器によって受光された反射光に基づいて、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得する。これによって、例えば、輝度レベルの変更がされた後の断面形状を取得することができるため、良好な断面形状を取得することができる。なお、プレ測定においては、本測定と同様の測定位置（ポイント数）で測定を行うようにしてもよい。この場合、例えば、プレ測定の結果から、予め、輝度レベルが良好でない測定位置を検出し、本測定時において、輝度レベルが良好でない測定位置においては、輝度レベルを制御するようにしてもよい。

また、例えば、輝度レベルを制御する場合、輝度制御手段は、測定を開始した後、実施するようにしてもよい。例えば、眼鏡フレームの本測定を開始した後、測定によって取得された反射光の輝度レベルに基づいて、輝度レベルの制御を行う。例えば、本測定中に、輝度レベルの制御を行う場合に、少なくとも１つ以上の測定位置における反射光の輝度レベルに基づいて、輝度レベルの制御を行ってもよい。一例として、少なくとも１つ以上の測定位置における反射光の輝度レベルを検出し、検出した輝度レベルに基づいて、輝度レベルを制御してもよい。この場合、例えば、輝度レベルを検出した測定位置における輝度レベルのみを制御するようにしてもよいし、本測定の全測定位置における輝度レベルを制御するようにしてもよい。なお、輝度レベルを検出し、輝度レベルが良好でない場合に、輝度レベルの制御を行う。この場合、輝度レベルの制御後、再度、測定を行い、輝度レベル制御前の測定結果を輝度レベル制御後の測定結果に置き換えるようにしてもよい。一例として、例えば、測定を実施する全測定位置において、輝度レベルの制御を行う場合に、各測定位置において、輝度レベルを検出し、輝度レベルが良好でない位置において、再度、測定を行い、測定結果を輝度レベル制御後の測定結果に置き換えるようにしてもよい。もちろん、輝度レベルが良好でない位置の他の位置においても、再度、測定を行った場合に、測定結果を置き換えるようにしてもよい。

なお、輝度制御手段が、輝度レベルを制御するタイミングとしては、上記タイミングに限定されない。例えば、上記と異なるタイミングで輝度レベルを制御するようにしてもよい。一例として、輝度レベルを制御する場合、輝度制御手段は、測定を開始する前及び測定を開始した後の双方で、輝度レベルを制御するようにしてもよい。

なお、例えば、取得手段と、第１制御手段と、第２制御手段と、解析手段と、輝度制御手段と、輝度解析手段と、判定手段と、の少なくともいずれかが兼用される構成であってもよい。また、例えば、取得手段と、第１制御手段と、第２制御手段と、解析手段と、が別途それぞれ設けられる構成であってもよい。

＜レンズ加工＞
例えば、眼鏡枠形状測定装置によって取得された眼鏡フレームのリムの溝の断面形状をレンズの加工に用いてもよい。例えば、レンズの周縁を加工するレンズ加工装置（例えば、レンズ加工装置３００）は、眼鏡枠形状測定装置によって取得された眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得する。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、送信手段を有し、送信手段によって、レンズ加工装置に向けて眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を送信するようにしてもよい。この場合、例えば、レンズ加工装置は、受信手段を有し、眼鏡枠形状測定装置から送信された眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を受信するようにしてもよい。

なお、例えば、レンズ加工装置に眼鏡枠形状測定装置が備えられた構成であってもよい。また、例えば、レンズ加工装置と眼鏡枠形状測定装置とが別途それぞれ別装置であってもよい。この場合には、有線と無線との少なくともいずれかによって、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状が眼鏡枠形状測定装置からレンズ加工装置に送信されるようにしてもよい。

例えば、レンズ加工装置は、加工制御手段（例えば、制御部３１０）を備えてもよい。例えば、加工制御手段は、眼鏡枠形状測定装置によって取得された眼鏡フレームのリムの溝の断面形状に基づいてレンズの周縁を加工してもよい。例えば、加工制御手段は、レンズを保持するレンズ保持手段及び加工具を制御して、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状に基づいてレンズの周縁を加工してもよい。

例えば、本実施形態において、レンズ加工装置は、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状に基づいてレンズの周縁を加工する加工制御手段を備える。これによって、眼鏡フレームに加工後のレンズを良好に枠入れする際に、リムの溝の形状と加工後のレンズの輪郭形状が近い形状となるため、枠入れを良好に行うことができる。

＜実施例＞
本開示の典型的な実施例の１つについて、図面を参照して説明する。図１は、眼鏡枠形状測定装置の外観略図である。例えば、図２は、眼鏡フレームが保持された状態のフレーム保持ユニットの上面図である。例えば、本実施例において、眼鏡枠形状測定装置１は、フレーム保持ユニット１０と、測定ユニット２０と、を備える。例えば、フレーム保持ユニット１０は、眼鏡フレームＦを所期する状態に保持する。例えば、測定ユニット２０は、フレーム保持ユニット１０に保持された眼鏡フレームＦのリム(例えば、左側リムＦＬ、右側リムＦＲｓ)の溝に向けて測定光を照射し、その反射光を受光することにより、眼鏡フレームＦのリムの溝の断面形状を取得するために用いられる。例えば、測定ユニット２０はフレーム保持ユニット１０の下に配置されている。

例えば、眼鏡枠形状測定装置１の筐体の前側には測定開始用のスイッチ等を持つスイッチ部４が配置されている。例えば、眼鏡枠形状測定装置１の筐体の後側には、タッチパネル式のディスプレイ３が配置されている。例えば、レンズの周縁加工に際し、パネル部３により玉型データに対するレンズのレイアウトデータ、レンズの加工条件等が入力される。例えば、眼鏡枠形状測定装置１で得られた取得結果（リムの溝の断面形状、眼鏡フレーム形状等）及びディスプレイ３で入力されたデータは、レンズ加工装置に送信される。なお、眼鏡枠形状測定装置１は、特開２０００−３１４６１７号公報等と同じく、レンズ加工装置に組み込まれる構成としてもよい。

＜フレーム保持ユニット＞
例えば、フレーム保持ユニット１０の下側には、測定ユニット２０が備えられている。例えば、保持部ベース１０１上には眼鏡フレームＦを水平に保持するための前スライダー１０２と後スライダー１０３が載置されている。なお、例えば、水平とは略水平であってもよい。例えば、前スライダー１０２と後スライダー１０３は、その中心線ＣＬを中心に２つのレール１１１上を対向して摺動可能に配置されていると共に、バネ１１３により常に両者の中心線ＣＬに向かう方向に引っ張られている。

例えば、前スライダー１０２には、眼鏡フレームＦのリムをその厚み方向からクランプするためのクランプピン１３０ａ，１３０ｂがそれぞれ２箇所に配置されている。例えば、後スライダー１０３には眼鏡フレームＦのリムをその厚み方向からクランプするためのクランプピン１３１ａ，１３１ｂがそれぞれ２箇所に配置されている。また、例えば、型板を測定するときは、前スライダー１０２及び後スライダー１０３が開放され、周知の型板保持治具が所定の取付け位置１４０に配置されて使用される。このフレーム保持ユニット１０の構成は、例えば、特開２０００−３１４６１７号公報等に記載された周知のものが使用できる。

例えば、眼鏡フレームＦは、眼鏡装用時のリムの下側が前スライダー１０２側に位置され、リムの上側が後スライダー１０３側に位置される。例えば、左右のリムのそれぞれの下側及び上側に位置するクランプピンにより、眼鏡フレームＦは所定の測定状態に保持される。

なお、本実施例においては、リムの前後方向の位置を規制する構成として、上記クランプピン１３０ａ，１３０ｂ及びクランプピン１３１ａ，１３１ｂの構成を例に挙げて説明したがこれに限定されない。周知の機構が使用されても良い。例えば、左右リムの前後方向を固定する機構としては、Ｖ字状の溝を持つ当接部材（規制部材）を左右リム用にそれぞれ設ける構成でも良い。

＜測定ユニット＞
以下、測定ユニット２０の構成について説明する。例えば、測定ユニット２０は、眼鏡フレーム測定光学系３０を備える。例えば、眼鏡フレーム測定光学系３０は、投光光学系３０ａと、受光光学系３０ｂと、で構成される。例えば、投光光学系３０ａ及び受光光学系３０ｂは、眼鏡フレームの形状及び眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得するために用いられる（詳細は後述する）。

例えば、測定ユニット２０は、投光光学系３０ａと受光光学系３０ｂとを保持する保持ユニット２５を備える。例えば、測定ユニット２０は、保持ユニット２５をＸＹＺ方向に移動させる移動ユニット２１０を備える（例えば、図３〜図５参照）。また、例えば、測定ユニット２０は、回転軸Ｌ０を中心として保持ユニット２５を回転させる回転ユニット２６０を備える（例えば、図６参照）。なお、例えば、本実施例において、ＸＹ方向はフレーム保持ユニット１０により保持される眼鏡フレームＦの測定平面（リムの動径方向）と平行であり、Ｚ方向は測定平面に垂直な方向である。

＜移動ユニット＞
以下、移動ユニット２１０について説明する。例えば、図３〜図５は、移動ユニット２１０の構成を説明する図である。例えば、図３は、移動ユニット２１０を上方から見た斜視図を示している。例えば、図４は、移動ユニット２１０の下方から見た斜視図を示している。例えば、図５は、Ｚ移動ユニット２２０とＹ移動ユニット２３０の上面斜視図（Ｘ移動ユニット２４０とベース部２１１を取り外した状態の斜視図）を示している。

例えば、移動ユニット２１０は、大別して、Ｚ移動ユニット（Ｚ方向駆動手段）２２０と、Ｙ移動ユニット（Ｙ方向駆動手段）２３０と、Ｘ移動ユニット（Ｘ方向駆動手段）２４０と、を備える。例えば、Ｚ移動ユニット（Ｚ方向駆動手段）２２０は、保持ユニット２５をＺ方向に移動させる。例えば、Ｙ移動ユニット２３０は、保持ユニット２５及びＺ移動ユニット２２０を保持し、Ｙ方向へ移動させる。例えば、Ｘ移動ユニット２４０は、保持ユニット２５をＺ移動ユニット２２０及びＹ移動ユニット２３０と共にＸ方向に移動させる。

例えば、Ｘ移動ユニット２４０は、概略的に次のように構成されている。例えば、Ｘ移動ユニット２４０は、水平方向（ＸＹ方向）に伸展した方形状の枠を持つベース部２１１の下方に、Ｘ方向に延びるガイドレール２４１を備える。例えば、Ｙ移動ユニット２３０のＹベース２３０ａが、ガイドレール２４１に沿って、Ｘ方向に移動可能に取り付けられている。例えば、ベース部２１１には、モータ（駆動源）２４５が取り付けられている。例えば、モータ２４５の回転軸には、Ｘ方向に延びる送りネジ２４２が取り付けられている。例えば、Ｙベース２３０ａに固定されたナット部２４６が送りネジ２４２に螺合されている。これにより、モータ２４５が回転されると、Ｙベース２３０ａがＸ方向に移動される。なお、例えば、Ｘ移動ユニット２４０のＸ方向の移動範囲は、眼鏡フレームの左右のレンズ枠を測定可能にするために、保持ユニット２５が搭載されるＹベース２３０ａを眼鏡フレームの左右幅以上に移動可能な長さを持つようにしてもよい。

例えば、Ｙ移動ユニット２３０は、概略的に次のように構成されている。例えば、Ｙベース２３０ａには、Ｙ方向に延びるガイドレール２３１が取り付けられている。例えば、Ｚベース２２０ａは、ガイドレール２３１に沿ってＹ方向に移動可能に取り付けられている。例えば、Ｙベース２３０ａにはＹ移動用のモータ（駆動源）２３５とＹ方向に延びる送りネジ２３２が回転可能に取り付けられている。例えば、モータ２３５の回転は、ギヤ等の回転伝達機構を介して送りネジ２３２に伝達される。例えば、送りネジ２３２には、Ｚベース２２０ａに取り付けられたナット２２７が螺合されている。これらの構成により、モータ２３５が回転されると、Ｚベース２２０ａがＹ方向に移動される。

例えば、Ｘ移動ユニット２４０及びＹ移動ユニット２３０によりＸＹ移動ユニットが構成される。例えば、保持ユニット２５をＸＹ方向に移動させる範囲は、測定可能なリムの動径よりも大きくされている。また、例えば、保持ユニット２５のＸＹ方向の移動位置は、後述する制御部５０によりモータ２４５及び２３５が駆動されるパルス数によって検知され、保持ユニット２５のＸＹ方向の位置を検知する第１のＸＹ位置検知ユニットがモータ２４５，２３５及び制御部５０により構成される。例えば、保持ユニット２５のＸＹ位置検知ユニットとしては、モータ２４５及び２３５のパルス制御で検知する他、モータ２４５及び２３５のそれぞれの回転軸に取り付けられたエンコーダ等のセンサを使用する構成でも良い。

例えば、Ｚ移動ユニット２２０は、概略的に次のように構成されている。例えば、Ｚベース２２０ａにはＺ方向に延びるガイドレール２２１が形成され、このガイドレール２２１に沿って保持ユニット２５が取り付けられた移動ベース２５０ａがＺ方向に移動可能に保持されている。例えば、Ｚベース２２０ａには、Ｚ移動用のパルスモータ２２５が取り付けられていると共に、Ｚ方向に延びる送りネジ（図示を略す）が回転可能に取り付けられている。例えば、保持ユニット２５のベース２５０ａに取り付けられたナットに螺合されている。例えば、モータ２２５の回転はギヤ等の回転伝達機構を介して送りネジ２２２に伝達され、送りネジ２２２の回転により保持ユニット２５がＺ方向に移動される。保持ユニット２５のＺ方向の移動位置は、後述する制御部５０によってモータ２２５が駆動されるパルス数により検知され、保持ユニット２５のＺ方向の位置を検知するＺ位置検知ユニットがモータ２２５及び制御部５０により構成される。例えば、保持ユニット２５のＺ位置検知ユニットとしては、モータ２２５のパルス制御で検知する他、モータ２２５の回転軸に取り付けられたエンコーダ等のセンサを使用する構成でも良い。

なお、以上のようなＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向の各移動機構は、実施例に限られず、周知の機構が採用できる。例えば、保持ユニット２５を直線移動させる代わりに、回転ベースの中心に対して円弧起動で移動させる構成としても良い（例えば、特開２００６−３５０２６４号公報等参照）。

＜回転ユニット＞
次いで、回転ユニット２６０について説明する。例えば、図６は、回転ユニット２６０について説明する図である。

例えば、保持ユニット２５には、開口部２６が設けられている。例えば、開口部２６は、投光光学系３０ａからの測定光を通過させるとともに、眼鏡フレームＦで反射された反射光を通過させる。例えば、開口部２６には開口部２６を覆うような透明パネルが設けられていてもよい。例えば、開口部２６は、投光光学系３０ａのから照射される測定光を保持ユニット２５の内部から外部に向けて出射する。すなわち、投光光学系３０ａからの測定光は、開口部２６を通過して眼鏡フレームＦのリムの溝に向けて照射される。例えば、開口部２６は、眼鏡フレームＦのリムの溝によって反射された反射光を保持ユニット２５の外部から保持ユニット２５の内部の受光光学系３０ｂに向けて通過させる。すなわち、眼鏡フレームＦのリムの溝によって反射された反射光は、開口部２６を通過して受光光学系３０ｂに受光される。

例えば、回転ユニット２６０は、Ｚ方向に延びる回転軸ＬＯを中心に保持ユニット２５を回転させることで、開口部２６が向くＸＹ方向を変更する。例えば、回転ユニット２６０は、回転ベース２６１を備える。例えば、保持ユニット２５は回転ベース２６１に取り付けられている。例えば、回転ベース２６１は、Ｚ方向に延びる回転軸ＬＯを中心にして回転可能に保持されている。例えば、回転ベース２６１の下部の外周には、大径ギア２６２が形成されている。例えば、回転ユニット２６０は、取り付け板２５２を有する。例えば、取り付け板２５２には、モータ（駆動源）２６５が取り付けられている。例えば、モータ２６５の回転軸にピニオンギア２６６が固定され、ピニオンギア２６６の回転は、取り付け板２５２に回転可能に設けられたギア２６３を介して、大径ギア２６２に伝達される。したがって、モータ２６５の回転により、回転ベース２６１が回転軸ＬＯの軸回りに回転される。例えば、モータ２６５の回転は、モータ２６５に一体的に取り付けられたエンコーダ（センサ）２６５ａにより検出され、エンコーダ２６５ａの出力から回転ベース２６１（すなわち、保持ユニット２５）の回転角が検知される。回転ベース２６１の回転の原点位置は、図示を略す原点位置センサにより検知される。なお、以上のような回転ユニット２６０の各移動機構は、実施例に限られず、周知の機構が採用できる。

なお、本実施例において、回転ユニット２６０の回転軸ＬＯは、後述する投光光学系３０ａの光源３１を通る軸として設定されている。すなわち、回転ユニット２６０は、投光光学系３０ａの光源３１を中心として、回転する。もちろん、回転ユニット２６０の回転軸は、異なる位置を回転軸としてもよい。例えば、回転ユニット２６０の回転軸ＬＯを後述する受光光学系３０ｂの検出器３７を通る軸に設定してもよい。

＜眼鏡フレーム測定光学系＞
次いで、保持ユニット２５に保持された眼鏡フレーム測定光学系３０について説明する。例えば、図７は、眼鏡フレーム測定光学系３０について示す概略構成図である。例えば、眼鏡フレーム測定光学系３０は、眼鏡フレームＦを取得するために用いられる。例えば、本実施例において、眼鏡フレーム測定光学系３０は、眼鏡フレームＦのリムの溝の断面形状を取得するために用いられる。また、例えば、本実施例において、眼鏡フレーム測定光学系３０は、眼鏡フレームＦの形状を測定するために用いられる。

例えば、本実施例において、眼鏡フレーム測定光学系３０は、保持ユニット２５の内部に配置される。例えば、眼鏡フレーム測定光学系３０は、投光光学系３０ａと、受光光学系３０ｂと、によって構成されている。例えば、投光光学系３０ａは、光源を有し、眼鏡フレームＦのリムの溝に向けて光源から測定光を照射する。例えば、受光光学系３０ｂは、検出器を有し、投光光学系３０ａによって眼鏡フレームＦのリムの溝に向けて照射され、眼鏡フレームＦのリムの溝によって反射された測定光の反射光を検出器によって受光する。

例えば、本実施例において、眼鏡フレーム測定光学系３０は、シャインプルークの原理に基づいて眼鏡フレームＦのリムの溝の断面形状を取得する構成となっている。例えば、投光光学系３０ａは、眼鏡フレームのリムの溝にスリット光を照射する。例えば、受光光学系３０ｂは、スリット光が照射される光軸Ｌ１に対して傾斜した光軸Ｌ２を持ち、シャインプルークの原理に基づいて配置されたレンズと検出器を備える。もちろん、眼鏡フレーム測定光学系３０は、シャインプルークの原理に基づく光学系ではなく、異なる構成の光学系が用いられてもよい。眼鏡フレーム測定光学系３０は、眼鏡フレームＦのリムの溝の断面形状が取得される光学系であればよい。

なお、実施例においては、投光光学系３０ａと、受光光学系３０ｂと、が一体的に移動する構成を例に挙げて説明しているがこれに限定されない。例えば、Ｘ移動ユニット２４０、Ｙ移動ユニット２３０、Ｚ移動ユニット２２０、及び回転ユニット２６０の少なくともいずれか１つの駆動手段において、投光光学系３０ａと、受光光学系３０ｂと、が別途それぞれ移動される構成であってもよい。

＜投光光学系＞
例えば、投光光学系３０ａは、光源３１と、レンズ３２と、スリット板３３と、を備える。例えば、光源３１より出射された測定光は、レンズ３２によって集光してスリット板３３を照明する。例えば、スリット板３３を照明した測定光は、スリット板３３により細いスリット状に制限された測定光となり眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡに照射される。すなわち、例えば、スリット光が眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡに照射される。これにより、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡは、スリット光により光切断された形で照明される。

＜受光光学系＞
例えば、受光光学系３０ｂは、レンズ３６と、検出器（例えば、受光素子）３７と、を備える。例えば、受光光学系３０ｂは、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡに対して、斜め方向から断面形状を取得する構成となっている。例えば、受光光学系３０ｂは、シャインプルークの原理に基づいて眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡの断面形状を取得する構成となっている。

例えば、レンズ３６は、リムの溝ＦＡでの反射により取得されるリムの溝ＦＡの反射光（例えば、リムの溝ＦＡの散乱光、リムの溝ＦＡの正反射光等）を検出器３７に導く。例えば、検出器３７は、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡと略共役な位置に配置された受光面を持っている。例えば、受光光学系３０ｂは、投光光学系３０ａの投光光軸Ｌ１に対して傾斜した撮像光軸Ｌ２を持ち、シャインプルークの原理に基づいて配置されたレンズ３６と検出器３７を持っている。受光光学系３０ｂは、その光軸（撮像光軸）Ｌ２が投光光学系３０ａの光軸Ｌ１と所定の角度で交わるように配置されている。例えば、投光光学系３０ａによって眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡに照射される光断面と、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡを含むレンズ系（眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡ及びレンズ３６）と検出器３７の受光面（受光位置）とがシャインプルークの関係にて配置されている。

＜制御手段＞
図８は、眼鏡枠形状測定装置１に関する制御ブロック図である。制御部５０には、不揮発性メモリ（記憶手段）５２、ディスプレイ３、スイッチ部４等が接続されている。

例えば、制御部５０は、ＣＰＵ（プロセッサ）、ＲＡＭ、ＲＯＭ等を備える。制御部５０のＣＰＵは、各部（例えば、光源３１、検出器３７、エンコーダ２６５ａ）及び各ユニットの駆動手段（例えば、フレーム保持ユニット１００の駆動源、各モータ２２５、２３５、２４５、２６５）等、装置全体の制御を司る。また、例えば、制御部５０は、各種演算（例えば、各センサからの出力信号等に基づいて眼鏡フレームの形状の演算等）を行う演算手段（解析手段）として機能する。ＲＡＭは、各種情報を一時的に記憶する。制御部５０のＲＯＭには、装置全体の動作を制御するための各種プログラム、初期値等が記憶されている。なお、制御部５０は、複数の制御部（つまり、複数のプロセッサ）によって構成されてもよい。不揮発性メモリ（記憶手段）５２は、電源の供給が遮断されても記憶内容を保持できる非一過性の記憶媒体である。例えば、ハードディスクドライブ、フラッシュＲＯＭ、眼鏡枠形状測定装置１に着脱可能に装着されるＵＳＢメモリ等を不揮発性メモリ（メモリ）５２として使用することができる。

例えば、制御部５０は、レンズの周縁を加工するレンズ加工装置３００と接続されている。例えば、眼鏡枠形状測定装置１によって取得された各種データがレンズ加工装置３００の制御部３１０に送信される。レンズ加工装置３００の制御部３１０は、受信した各種データに基づいてレンズ加工装置３００の各部及び各ユニットの駆動手段を制御して、レンズの加工を行う。もちろん、レンズ加工装置３００と眼鏡枠形状測定装置１は、一体的に構成された装置であってもよい。

例えば、本実施例において、ディスプレイ３は、タッチパネル式のディスプレイが用いられる。すなわち、本実施例において、ディスプレイ３がタッチパネルであるため、ディスプレイ３が操作部（操作ユニット）として機能する。この場合、制御部５０はディスプレイ３が持つタッチパネル機能により入力信号を受け、ディスプレイ３の図形及び情報の表示等を制御する。もちろん、眼鏡枠形状測定装置１に、別途、操作部が設けられる構成としてもよい。この場合、例えば、操作部には、例えば、マウス、ジョイスティック、キーボード、タッチパネル等の少なくともいずれかを用いればよい。もちろん、ディスプレイ６０と、操作部と、の双方が用いられ、眼鏡枠形状測定装置１が操作される構成としてもよい。なお、本実施例においては、ディスプレイ６０が操作部として機能するとともに、別途、スイッチ部（操作部）４が備えられた構成を例に挙げて説明する。

＜制御動作＞
以上のような構成を持つ装置の動作を説明する。例えば、操作者は、フレーム保持ユニット１００に眼鏡フレームＦを保持させる。例えば、操作者は、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲが下方向、眼鏡フレームＦの左右のテンプルＦＴＬ，ＦＴＲが上方向となるように、フレーム保持ユニット１００に眼鏡フレームＦを保持させる。

例えば、フレーム保持ユニット１００に眼鏡フレームＦが保持されると、操作者は、スイッチ部４を操作して、測定を開始させる。例えば、測定開始のトリガ信号が出力されると、制御部５０は、Ｘ移動ユニット２４０、Ｙ移動ユニット２３０、Ｚ移動ユニット２２０、及び回転ユニット２６０の少なくともいずれかを駆動することによって、保持ユニット２５（投光光学系３０ａ及び受光光学系３０ｂ）を移動させて眼鏡フレームＦのリムの測定を開始する。例えば、本実施例において、リムの測定は、右リムＦＲから測定が開始される。もちろん。左リムＦＬから測定が開始される構成であってもよい。

例えば、制御部５０は、保持ユニット２５を移動させることによって、眼鏡フレーム測定光学系３０（投光光学系３０ａ及び受光光学系３０ｂ）を眼鏡フレームのリム輪郭を測定していくことによって、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得する。なお、本実施例においては、投光光学系３０ａ及び受光光学系３０ｂは、シャインプルークの関係を維持した状態で、眼鏡フレームＦに対して移動される。すなわち、眼鏡フレームＦのリムの溝に対して、眼鏡フレーム測定光学系３０が一定の位置関係となるように移動させることで、眼鏡フレームＦのリムの溝の断面形状が取得できる。

例えば、測定開始のトリガ信号が出力されると、制御部５０は、移動ユニット２１０（Ｘ移動ユニット２４０、Ｙ移動ユニット２３０、Ｚ移動ユニット２２０の少なくともいずれか）、及び回転ユニット２６０の駆動を制御し、退避位置に置かれていた保持ユニット２５を測定開始の初期位置まで移動させる。なお、例えば、測定開始の初期位置は、保持ユニット２５が右リムＦＲの下端側のクランプピン１３０ａ，１３０ｂと、クランプピン１３１ａ，１３１ｂと、の中央位置に設定されている。もちろん、測定開始の初期位置は、任意の位置に設定することができる。

例えば、保持ユニット２５が測定開始の初期位置まで移動されると、制御部５０は、光源３１を点灯する。そして、光源３１の点灯とともに、制御部５０は、眼鏡フレームＦの所定の位置のリムの溝に測定光を照射するために、移動ユニット２１０、及び回転ユニット２６０の少なくともいずれかの駆動を制御する。

例えば、本実施例において、リムの溝の断面形状を取得する位置を設定する場合に、制御部５０は、回転ユニット２６０を制御し、取得位置を設定する。図９Ａ、図９Ｂは、回転ユニット２６０を制御して、異なる動径角にてリムの断面形状を取得する場合について説明する図である。図９Ａと図９Ｂは、異なる動径角にてリムの断面形状を取得している。
例えば、制御部５０は、回転ユニット２６０を制御して、投光光学系３０ａの光軸Ｌ１をＸＹ平面上で回転させて、投光光学系３０ａの光軸Ｌ１をリムの周方向に移動させる。すなわち、制御部５０は、Ｘ回転ユニット２６０を制御して、リムの溝の断面形状を取得する動径角を変更する。例えば、回転ユニット２６０が制御されることによって、投光光学系３０ａの照射位置Ｔ１が投光光学系３０ａの照射位置Ｔ２へと変更される。

例えば、本実施例において、リムの溝の断面形状を取得する位置が設定され、リムの溝に対する測定光の照射位置を変更する場合、移動ユニット２１０（Ｘ移動ユニット２４０、Ｙ移動ユニット２３０、Ｚ移動ユニット２２０の少なくともいずれか）を制御して、リムの溝に測定光が照射されるように測定光の照射位置を変更する。

なお、本実施例において、リムの溝の断面形状を取得する位置の設定と、リムの溝に対する測定光の照射位置の変更とは、同時に実施されるようにしてもよい。また、例えば、リムの溝の断面形状を取得する位置の設定は、回転ユニット２６０のみならず、Ｘ移動ユニット２４０、Ｙ移動ユニット２３０、Ｚ移動ユニット２２０の少なくともいずれかが用いられるようにしてもよい。また、リムの溝の断面形状を取得する位置の設定は、Ｘ移動ユニット２４０、Ｙ移動ユニット２３０、Ｚ移動ユニット２２０の少なくともいずれかで行われるようにしてもよい。また、例えば、リムの溝に対する測定光の照射位置の変更は、Ｘ移動ユニット２４０、Ｙ移動ユニット２３０、Ｚ移動ユニット２２０の少なくともいずれかのみならず、回転ユニット２６０も用いられる構成としてもよい。また、例えば、リムの溝に対する測定光の照射位置の変更は、回転ユニット２６０のみが用いられる構成としてもよい。

例えば、光源３１の点灯により、眼鏡フレームＦのリムの溝はスリット光により光切断される。スリット光で光切断された眼鏡フレームＦのリムの溝からの反射光は受光光学系３０ｂに向かい、検出器３７により受光される。例えば、制御部５０は、検出器３７によって受光された反射光に基づいて、眼鏡フレームのリムの溝の二次元断面形状を取得する。なお、本実施例においては、断面形状として、断面画像を取得する。もちろん、断面形状は、信号として取得される構成であってもよい。

ここで、眼鏡フレームＦのリムの溝に測定光が照射されていない場合には、断面形状（本実施例では、断面画像）を取得することができない。このため、制御部５０は、眼鏡フレームＦのリムの溝に測定光が照射されていない場合には、眼鏡フレームＦのリムの溝に測定光を照射するための駆動制御を行う。以下、眼鏡フレームＦのリムの溝に測定光を照射するための駆動制御について説明する。

例えば、図１０は、眼鏡フレームＦのリムの溝に測定光が照射されるように保持ユニット２５を移動させる前の受光結果を示す図である。例えば、図１１は、眼鏡フレームＦのリムの溝に測定光が照射されるように保持ユニット２５を移動させた後の受光結果を示す図である。

例えば、図１０において、投光光学系３０ａの照射位置Ｔ３がリムの溝に位置していない。このため、眼鏡フレームＦのリムの溝からの反射光を受光することができない。例えば、反射光を受光できていない状態で、制御部５０が断面画像を取得した場合に、取得結果を示す画像４０上には、断面画像が表示されない。一方、図１１において、投光光学系３０ａの照射位置Ｔ４がリムの溝に位置している。このため、眼鏡フレームＦのリムの溝からの反射光を受光することできる。例えば、反射光を受光できた状態で、制御部５０が断面画像を取得した場合に、取得結果を示す画像４０上には、断面画像４１が表示される。

例えば、本実施例において、制御部５０は、眼鏡フレームＦのリムの溝に測定光が照射されるように保持ユニット２５を移動させる際に、受光結果に基づいて、移動ユニット２１０を制御する。例えば、制御部５０は、断面画像が取得できているか否かに基づいて、移動ユニット２１０を制御する。例えば、制御部５０は、取得された画像４０を解析し、断面画像が検出できなかった場合に、断面画像が検出されるように、移動ユニット２１０を制御する。

例えば、制御部５０は、輝度値の変化を検出することによって、断面画像が取得された否かを検出することができる。例えば、断面画像が取得されている場合には、一定の輝度値が検出される。すなわち、反射光が検出器によって検出できるため、輝度値が上昇する。図１２は、輝度値の検出について説明する図である。例えば、制御部５０は、取得された断面画像に対して、走査線Ｓ１、走査線Ｓ２、走査線Ｓ３、・・・走査線Ｓｎの順に輝度値の検出を行い、輝度分布を得る。すなわち、制御部５０は、輝度値を検出することによって、画像上からリムの断面画像を抽出することができる。

ここで、眼鏡フレームＦのタイプによっては、受光される反射光の輝度レベルが良好でなく、リムの溝の断面形状を精度よく取得することが困難である場合がある。このため、
制御部５０は、輝度レベルを制御する。これによって、リムの溝の断面形状が精度よく取得できる。以下、輝度レベルの制御について説明する。なお、本実施例においては、輝度レベルの制御を行う構成として、光源３１の投光光量を制御する構成を例に挙げて説明する。もちろん、輝度レベルの制御を行う構成としては、上記構成に限定されない。

また、例えば、輝度レベルの制御を行う構成としては、検出器３７のゲインを制御する構成、光源３１から検出器３７までの光路中に測定光の光量を調整する部材を設ける構成、検出器３７における露光時間を制御する構成、光源３１の発光時間を制御する構成等の少なくともいずれかであってもよい。

本実施例において、例えば、制御部５０は、断面画像が検出できるように制御を行った後、プレ測定（本測定の前測定）を行う。例えば、制御部５０は、測定開始の初期位置において、プレ測定を行い、断面画像を取得する。例えば、制御部５０は、断面画像から輝度レベル（輝度値）を検出し、検出した輝度レベルに基づいて、輝度レベルを制御する。例えば、制御部５０は、輝度レベルが許容レベルであるか否かを判定し、輝度レベルが許容レベルを満たしていないという判定結果を得た場合に、輝度レベルを制御する。
なお、プレ測定を行う位置は初期位置に限定されない。例えば、操作者によって任意の位置を選択し、プレ測定を行う位置として設定してもよい。また、例えば、プレ測定は、複数の位置で行われるようにしてもよい。この場合、例えば、プレ測定を行った複数の位置において、少なくとも１つ以上の位置でプレ測定輝度レベルが許容レベルを満たしていないという判定結果を得た場合に、輝度レベルを制御するようにしてもよい。また、すべての位置でプレ測定輝度レベルが許容レベルを満たしていないという判定結果を得た場合に、輝度レベルを制御するようにしてもよい。

より詳細に説明する。本実施例において、例えば、制御部５０は、断面画像から輝度値を検出し、輝度レベルを示す指標として所定の評価値が用いられる。例えば、評価値は、評価値＝（（画像の平均最大輝度値）−（画像の背景領域の平均輝度値））／（背景領域の輝度値の標準偏差）の式より求めるようにしてもよい。例えば、制御部５０は、取得された断面画像に対して、走査線Ｓ１、走査線Ｓ２、走査線Ｓ３、・・・走査線Ｓｎの順に輝度値の検出を行い、輝度分布を得る。

ここで、例えば、制御部７０は、各走査線に対応する輝度分布から輝度値の最大値（以下、最大輝度値と省略する）を算出する。そして、制御部７０は、断面画像における最大輝度値として、各走査線における最大輝度値の平均値を算出する。そして、制御部７０は、断面画像における背景領域の平均輝度値として、各走査線における背景領域の輝度値の平均値を算出する。

例えば、制御部５０は、上記のようにして取得された断面画像の評価値が所定の閾値を満たすか否かを判定する。なお、所定の閾値は、予め設定された閾値であってもよい。例えば、予め、シミュレーションや実験等によって輝度レベルが良好であると判定される閾値が設定されるようにしてもよい。例えば、閾値は、検者が任意に設定できる構成としてもよい。また、例えば、閾値は、取得した断面画像に基づいて設定するようにしてもよい。

例えば、制御部５０は、その判定結果に基づいて、光源７６の投光光量を制御（変更）する。例えば、制御部５０は、断面画像の評価値が所定の閾値を満たさない（例えば、所定の閾値より小さい）と判定した場合に、輝度レベルが高くなるように制御を行う。例えば、制御部５０は、断面画像の評価値が所定の閾値を満たさないと判定した場合に、断面画像の評価値が所定の閾値を満たすように、光源３１の投光光量を増加させる。

また、例えば、制御部５０は、断面画像の評価値が所定の閾値を満たす（例えば、所定の閾値以上である）と判定した場合に、輝度レベルの制御を行わず、光源３１の投光光量を維持する。もちろん、制御部５０は、断面画像の評価値が所定の閾値を満たす判定した場合であっても、より適正な輝度レベルとなるように、輝度レベルの制御を行うようにしてもよい。例えば、断面画像の輝度レベルが高くなり過ぎることによって、眼鏡フレームのリムの断面形状が検出しづらくなることがある。このため、評価値が所定の閾値を満たすとともに、評価値と閾値との差が所定値よりも大きい場合には、差が所定値以下となるように、輝度レベルを制御するようにしてもよい。

なお、輝度レベルを制御する際の判定方法としては、上記手法に限るものではない。例えば、判定方法としては、断面画像において、各画素毎の輝度値を積算させた積算値（各画素毎の輝度値の総和）が許容レベルを満たすか否かを判定するようにしてもよい。また、例えば、判定方法としては、断面画像における各画素毎の輝度値の総和を画素数で割ったときの平均値（全輝度の加重平均）が許容レベルを満たすか否かを判定するようにしてもよい。すなわち、断面画像における輝度分布に基づいて、輝度レベルがリムの断面形状の検出に影響を及ぼすかどうかを判定できるような判定方法であればよい。

例えば、制御部５０は、プレ測定が行われて、輝度レベルの制御が完了すると、本測定を開始する。以上のようにして、所定の位置におけるリムの溝の断面画像を取得することができる。例えば、制御部５０は、回転ユニット２６０を制御し、回転軸（本実施例では、光源３１を通る軸）ＬＯを中心として、動径角を変更しながら、リムの溝の断面画像を取得する位置を変更していく。これによって、リムの断面画像を取得する位置がリムの周方向に移動されていく。例えば、制御部５０は、リムの断面画像を取得する位置が変更される毎に、移動ユニット２１０を制御し、測定光がリムの溝に照射されるように照射位置の変更を行っていく。

例えば、制御部５０は、各動径角において、リムの溝の断面画像が取得されていく際に、所定の回転角度毎に断面画像をメモリ５２に記憶させる。また、各断面画像を取得した位置を、モータ２２５のパルス数と、モータ２３５のパルス数と、モータ２４５のパルス数と、エンコーダ２６５ａの検出結果と、の少なくともいずれかから演算し、メモリ５２に記憶させる。すなわち、モータ２２５のパルス数と、モータ２３５のパルス数と、モータ２４５のパルス数と、エンコーダ２６５ａの検出結果と、の少なくともいずれかを取得することで、リムの断面画像が取得された位置を特定することができる。このようにして、例えば、制御部５０は、リムの溝の断層画像を取得した位置（取得位置情報）を取得することができる。例えば、取得位置情報は、リムの溝の三次元断面画像、眼鏡フレームの形状、等を取得する際に用いることができる。

例えば、制御部５０は、取得した断面画像を解析処理することによって、リムの溝に関する種々のパラメータを取得することができる。図１３は、リムの溝の断面画像から取得されるパラメータについて説明する図である。例えば、制御部５０は、画像処理によって、断面画像の輝度分布を取得することで、リムの溝のパラメータを取得することができる。例えば、制御部５０は、リムの溝のパラメータとして、リムの溝の底までの距離Ｋ１、リムの溝の左右の斜面角度θ１，θ２、リムの溝の左右の斜面長さＫ２，Ｋ３、左右のリム肩の長さＫ４，Ｋ５、等を得ることができる。

例えば、制御部５０は、リムの全周に亘って、上記制御を繰り返していくことによって、リムの全周におけるリムの溝の断面画像を取得することができる。例えば、リム全周におけるリムの溝の断面画像の取得が完了すると、制御部５０は、メモリ５２に記憶したリム全周の断面画像とその取得位置情報を呼び出し、演算処理を行って、三次元断面画像を取得する。例えば、制御部５０は、取得した三次元断面画像を、メモリ５２に記憶させる。なお、本実施例においては、リム全周における断面画像の取得が完了した後に三次元断面画像を取得する構成を例に挙げて説明したがこれに限定されない。リムの溝の断面画像の各取得位置にといて、断面画像を取得する毎に、演算処理を行っていく構成であってもよい。

なお、例えば、制御部５０は、取得した断面画像から眼鏡フレームの形状（形状データ）を取得することができる。例えば、制御部５０は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面画像から眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の底をそれぞれ検出し、検出した検出結果に基づいて、眼鏡フレームの形状を取得する。

例えば、制御部５０は、画像処理によって、断面画像の輝度分布を取得することで、リムの溝の底の位置を検出する。図１２に示されるように、例えば、制御部５０は、取得された断面画像に対して、走査線Ｓ１、走査線Ｓ２、走査線Ｓ３、・・・走査線Ｓｎの順に輝度値の検出を行い、輝度分布を得る。例えば、制御部５０は、得られた輝度分布において、もっとも下側の位置で輝度値の検出がされた位置をリムの溝の底として検出してもよい。

例えば、制御部５０は、各動径角毎に取得された断面画像をそれぞれ処理して、画像上におけるリムの溝の底の位置をそれぞれ検出する。例えば、制御部５０は、断面画像から検出された画像上におけるリムの溝の底の位置と、その断面画像を取得した取得位置情報と、からリムの溝の底の位置情報を取得する。例えば、制御部５０は、各動径角毎においてそれぞれ取得された断面画像から画像上におけるリムの溝の底の位置を検出し、検出された画像上におけるリムの溝の底の位置と、その断面画像を取得した取得位置情報と、から各動径角毎のリムの溝の底の位置情報をそれぞれ取得する。これによって、例えば、制御部５０は、眼鏡フレームＦの三次元形状（ｒｎ，ｚｎ，θｎ）（ｎ＝１，２，３、・・・，Ｎ）を取得する。例えば、眼鏡フレームＦｎの三次元形状は、リムの全周に亘って取得されてもよいし、リムの全周の内、一部の領域において、取得されてもよい。以上のようにして、眼鏡フレームＦの形状を取得することができる。

なお、本実施例においては、各動径角毎にリムの溝の底の位置情報を取得することによって、眼鏡フレームの三次元形状を取得する構成を例に挙げて説明したがこれに限定されない。例えば、眼鏡フレームの三次元形状を取得する際に、各動径角において、リムの溝の底の位置情報を取得していない位置については、周辺の動径角におけるリムの溝の底の位置情報に基づいて、補間することで、リムの溝の底の位置情報を取得するようにしてもよい。また、例えば、眼鏡フレームの三次元形状を取得する際に、各動径角において、リムの溝の底の位置情報を取得していない位置については、周辺の動径角におけるリムの溝の底の位置情報の近似の結果から補間するようにしてもよい。

例えば、制御部５０は、右リムＦＲの測定が終了すると、Ｘ移動ユニット２４０の駆動を制御し、左リムＦＬの測定用の所定位置に保持ユニット２５を移動させる。上記の測定制御と同様にして、右リムＦＲの断面形状の取得と、眼鏡フレームの形状を取得する。右リムＦＲ及び左リムＦＬの断面画像と形状は、メモリ５２に記憶される。

なお、例えば、取得した眼鏡フレームの三次元形状に基づいて各種パラメータを取得してもよい。例えば、眼鏡フレームの三次元形状から二次元形状を取得するようにしてもよい。例えば、二次元形状は、三次元形状を眼鏡フレームＦの正面方向のＸＹ平面に投影した形状することによって取得することができる。なお、二次元形状は、三次元形状から取得する構成を例に挙げたがこれに限定されない。各動径角におけるリムの断面画像に基づいて、リムの溝の底の位置情報を取得する際に、ＸＹ平面上におけるリムの溝の底の位置情報のみを検出するようにすることで、取得するようにしてもよい。

以上のようにして、眼鏡枠形状測定装置１によって取得されたリムの溝の断面形状、眼鏡フレームの形状、等は、制御部５０によって、レンズ加工装置３００に送信される。例えば、レンズ加工装置３００の制御部３１０は、眼鏡枠形状測定装置１によって取得されたリムの溝の断面形状、眼鏡フレームの形状、等を受信する。

例えば、レンズ加工装置３００としては、レンズをレンズチャック軸に保持して回転するレンズ回転手段と、加工具回転軸に取り付けられた加工具を回転する加工具回転手段と、を備える。例えば、レンズ加工装置３００において、レンズ加工装置の制御部３１０は、眼鏡枠形状測定装置１によって取得された取得情報（例えば、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状、眼鏡フレームの形状、等）に基づいて、レンズ回転手段と加工具回転手段を制御して、レンズの周縁加工を行う。なお、レンズ加工装置の制御部３１０としては、眼鏡枠形状測定装置１の制御部が兼用される構成であってもよいし、別途、レンズ加工装置の各種制御を行うための制御部３１０が設けられる構成であってもよい。

例えば、本実施例において、眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームのリムに向けて光源から測定光を照射する投光光学系と、投光光学系によって眼鏡フレームのリムに向けて照射され、眼鏡フレームのリムによって反射された測定光の反射光を検出器によって受光する受光光学系と、検出器によって受光された反射光に基づいて眼鏡フレームのリムの断面形状を取得する取得手段と、を備える。これによって、例えば、眼鏡フレームのリムの断面形状を容易に精度よく取得することができる。また、例えば、測定光による測定であるため、迅速に測定を行うことができる。

また、例えば、本実施例において、眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームのリムの溝に対する測定光の照射位置を変更する第１変更手段と、第１変更手段を制御する第１制御手段と、を備える。これによって、眼鏡フレームにおける任意のリムの溝の位置へ測定光を照射することが可能となり、任意の位置におけるリムの溝の断面形状を取得することができる。

また、例えば、本実施例において、眼鏡枠形状測定装置は、第１変更手段が投光光学系の少なくとも一部の位置を移動させる変更手段であって、第１制御手段は、第１変更手段を制御することによって、眼鏡フレームのリムの溝に対して投光光学系の少なくとも一部の位置を変更させ、眼鏡フレームのリムの溝に対する測定光の照射位置を変更する。これによって、眼鏡フレームにおける任意のリムの溝の位置へ測定光を照射することが可能となり、任意の位置におけるリムの溝の断面形状を取得することができる。

また、例えば、本実施例において、眼鏡枠形状測定装置は、受光光学系による反射光の受光位置を変更する第２変更手段と、第２変更手段を制御する第２制御手段と、を備える。これによって、リムの溝の断面形状を良好に取得することができる位置に受光位置を変更することができ、眼鏡フレームのリムの断面形状をより精度よく取得することができる。

また、例えば、本実施例において、眼鏡枠形状測定装置は、第１制御手段が第１変更手段を制御して、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝に対して測定光を照射する。取得手段は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状をそれぞれ取得する。眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状から眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の底をそれぞれ検出し、検出した検出結果に基づいて、眼鏡フレームの形状を取得する解析手段を備える。これによって、従来のように、眼鏡フレームによっては、測定子がレンズ枠の溝から外れてしまい測定できないことを抑制することができ、種々の形状の眼鏡フレームに対して、容易に精度よく眼鏡フレームの形状を取得することできる。

また、例えば、本実施例において、眼鏡枠形状測定装置は、第１制御手段が第１変更手段を制御して、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝に対して測定光を照射する。取得手段は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状をそれぞれ取得し、三次元断面形状を取得する。これによって、容易に精度よく眼鏡フレームの三次元断面形状を取得することできる。

また、例えば、本実施例において、レンズ加工装置は、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状に基づいてレンズの周縁を加工する加工制御手段を備える。これによって、眼鏡フレームに加工後のレンズを良好に枠入れする際に、リムの溝の形状と加工後のレンズの輪郭形状が近い形状となるため、枠入れを良好に行うことができる。

なお、本実施例において、断面形状と、眼鏡フレームの形状との少なくともいずれかは、にディスプレイ３上に表示されるようにしてもよい。もちろん、レンズ加工装置３００の図示無きディスプレイに表示されるようにしてもよい。例えば、断面形状と、眼鏡フレームの形状とは、ディスプレイ３上において、異なる画面にて表示されるようにしてもよい。この場合、画面が切り換えられることによって、断面形状と、眼鏡フレームの形状と、が切り換え表示されるようにしてもよい。また、例えば、断面形状と、眼鏡フレームの形状とは、同一画面上に表示されるようにしてもよい。この場合、例えば、断面形状と、眼鏡フレームの形状とは、同一画面上に並べて配置されるようにしてもよい。このとき、例えば、眼鏡フレームの形状において、断面形状の取得位置が識別できるような断面形状の取得位置を示す表示をするようにしてもよい。また、この場合、例えば、断面形状と、眼鏡フレームの形状とが重畳表示されるようしてもよい。重畳表示をする場合、断面形状の取得位置情報と、リム溝の断面形状の取得位置と、に基づいて、断面形状と眼鏡フレームの形状とが位置合わせされるようにしてもよい。

なお、本実施例において、断面画像から輝度レベルを検出して、輝度レベルの制御を行う構成を例に挙げて説明したがこれに限定されない。例えば、眼鏡フレームタイプ情報に基づいて輝度レベルを制御するようにしてもよい。例えば、予め、輝度レベルを制御するための設定が眼鏡フレームタイプ毎に設定されている構成であってもよい。この場合、例えば、操作者によって眼鏡フレームタイプが選択されると、制御部５０は、選択された眼鏡フレームタイプに対応する輝度レベルの制御設定を行う。例えば、制御部５０は、光源３１の投光光量を選択された眼鏡フレームタイプに対応する投光光量に設定する。

なお、眼鏡フレームタイプ情報に基づく輝度レベルの制御は光源の投光光量の制御に限定されない。例えば、眼鏡フレームタイプ情報に基づいて、検出器３７のゲインを制御する構成、光源３１から検出器３７までの光路中に測定光の光量を調整する部材を設ける構成、検出器３７における露光時間を制御する構成、光源３１の発光時間を制御する構成等の少なくともいずれかであってもよい。もちろん、眼鏡フレームタイプ情報に基づいて、輝度レベルを制御する構成としては、輝度レベルを制御することが可能な構成であれば、上記構成と異なる構成であってもよい。

なお、眼鏡フレームタイプとしては、眼鏡フレームの形状、眼鏡フレームの材料、眼鏡フレームの色、眼鏡フレームのデザイン等の少なくとも１つが設定される構成であればよい。例えば、眼鏡フレームタイプが各項目別に設定されるようにしてもよい。この場合、眼鏡フレーム形状としてはナイロール、眼鏡フレーム材料としてはメタル、眼鏡フレームの色としてはグレー（灰色）等の設定がされるようにしてもよい。

また、所定の眼鏡フレームタイプが選択された際には、選択された眼鏡フレームタイプの他に、その他の項目の眼鏡フレームタイプが設定される構成としてもよい。例えば、メタル、プラスチック、オプチルのいずれかの眼鏡フレームの材料が選択された場合には、眼鏡フレームの形状は、フルリムとして設定されるようにしてもよい。この場合、予め、眼鏡フレームタイプ間の対応づけをしておくとよい。

なお、眼鏡フレームタイプとしては、これらのタイプに限定されず、様々なタイプの眼鏡フレームを設定することができる。もちろん、眼鏡フレームタイプは、検者によって、任意に追加又は削除することが可能な構成としてもよい。

一例として、例えば、眼鏡フレームの材料をプラスチックで設定した場合、制御部５０は、眼鏡フレームの材料がメタルの場合の輝度レベルよりも、輝度レベルが高くなるように制御するようにしてもよい。例えば、眼鏡フレームの材料をプラスチックで設定した場合、制御部５０は、メタルを測定するための光源３１の投光光量よりも、光源３１の投光光量を増加させるように制御してもよい。また、例えば、眼鏡フレームの材料をプラスチックで設定した場合、制御部５０は、メタルを測定するための検出器３７のゲインよりも、検出器３７のゲインを高くさせるように制御してもよい。

１ 眼鏡枠形状測定装置
３ ディスプレイ
４ スイッチ部
１０ フレーム保持ユニット
２０ 測定ユニット
２５ 保持ユニット
３０ 眼鏡フレーム測定光学系
３０ａ 投光光学系
３０ｂ 受光光学系
３１ 光源
３７ 検出器
５０ 制御部
５２ メモリ
２１０ 移動ユニット
２２０ Ｚ移動ユニット
２３０ Ｙ移動ユニット
２４０ Ｘ移動ユニット
２６０ 回転ユニット
３００ レンズ加工装置
３１０ 制御部

Claims (12)

1. 眼鏡フレームの形状を測定する眼鏡枠形状測定装置であって、
   光源を有し、眼鏡フレームのリムの溝に向けて前記光源から測定光を照射する投光光学系と、
   検出器を有し、前記投光光学系によって前記眼鏡フレームの前記リムの溝に向けて照射され、前記眼鏡フレームの前記リムの溝によって反射された前記測定光の反射光を前記検出器によって受光する受光光学系と、
   前記検出器によって受光された前記反射光に基づいて、前記眼鏡フレームの前記リムの溝の断面形状を取得する取得手段と、
   前記検出器によって受光される前記反射光の輝度レベルを制御する輝度制御手段と、
   を備えることを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
2. 請求項１の眼鏡枠形状測定装置において、
   前記輝度制御手段は、前記検出器によって受光された前記反射光の前記輝度レベルに基づいて、前記輝度レベルを制御することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
3. 請求項２の眼鏡枠形状測定装置において、
   前記取得手段は、前記断面形状として断面画像を取得し、
   前記断面画像から前記輝度レベルを検出する輝度解析手段を備え、
   前記輝度制御手段は、前記輝度解析手段によって検出された前記輝度レベルに基づいて、前記輝度レベルを制御することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
4. 請求項２又は３の眼鏡枠形状測定装置において、
   前記輝度レベルが許容レベルであるか否かを判定する判定手段を備え、
   前記輝度制御手段は、前記判定手段の判定結果に基づいて、前記輝度レベルを制御することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
5. 請求項１の眼鏡枠形状測定装置において、
   眼鏡フレームタイプ情報を取得する眼鏡フレームタイプ情報取得手段を備え、
   前記輝度制御手段は、前記眼鏡フレームタイプ情報取得手段によって取得された前記眼鏡フレームタイプ情報に基づいて、前記輝度レベルを制御することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
6. 請求項１〜５のいずれかの眼鏡枠形状測定装置において、
   前記輝度制御手段は、前記光源からの前記測定光の投光光量を制御することによって、前記輝度レベルを制御することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
7. 請求項１〜６のいずれかの眼鏡枠形状測定装置において、
   前記輝度制御手段は、前記検出器のゲインを制御することによって、前記輝度レベルを制御することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
8. 請求項１〜７のいずれかの眼鏡枠形状測定装置において、
   前記取得手段は、前記輝度制御手段によって前記輝度レベルが制御されて変更された後、前記検出器によって受光された前記反射光に基づいて、前記眼鏡フレームの前記リムの溝の断面形状を取得することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
9. 請求項１〜８のいずれかの眼鏡枠形状測定装置において、
   前記眼鏡フレームの前記リムの溝に対する前記測定光の照射位置を変更する第１変更手段と、
   前記第１変更手段を制御する第１制御手段と、
   を備えることを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
10. 請求項９の眼鏡枠形状測定装置において、
    前記第１制御手段は、前記第１変更手段を制御して、前記眼鏡フレームの複数の動径角における前記リムの溝に対して前記測定光を照射し、
    前記取得手段は、前記眼鏡フレームの複数の動径角における前記リムの溝の断面形状をそれぞれ取得し、
    前記眼鏡フレームの複数の動径角における前記リムの溝の断面形状から前記眼鏡フレームの複数の動径角における前記リムの溝の底をそれぞれ検出し、検出した検出結果に基づいて、前記眼鏡フレームの形状を取得する解析手段と、
    を備えることを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
11. 請求項１〜１０のいずれかの眼鏡枠形状測定装置において、
    前記受光光学系による前記反射光の受光位置を変更する第２変更手段と、
    前記第２変更手段を制御する第２制御手段と、
    を備えることを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
12. レンズの周縁を加工するレンズ加工装置であって、
    請求項１〜１１のいずれかの眼鏡枠形状測定装置によって取得された前記眼鏡フレームの前記リムの溝の断面形状に基づいてレンズの周縁を加工する加工制御手段を備えることを特徴とするレンズ加工装置。

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