JP7276050B2 - 眼鏡枠形状測定装置、及びレンズ加工装置 - Google Patents

Description

本開示は、眼鏡フレームの形状を得るための眼鏡枠形状測定装置、及び眼鏡枠形状測定装置を用いてレンズの周縁の加工をするためのレンズ加工装置に関する。

眼鏡フレームのリムの溝に、測定光束を照射し、溝で反射された反射光束を検出することで、眼鏡フレームのリムの溝の形状を測定する眼鏡枠形状測定装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。これらの眼鏡枠形状測定装置で得られたリムの測定結果（トレースデータ）に基づいて、眼鏡レンズをリムに嵌めるための形状（目標形状）が得られる。そして、形状に基づいて眼鏡レンズの輪郭形状が決定され、眼鏡レンズ加工装置によってレンズの周縁が加工される。

特表２００１－５１９０２５号公報

ところで、眼鏡フレームに加工後のレンズを良好に枠入れするためには、リムの形状と加工後のレンズの輪郭形状が近いほどより好ましいと考えられている。しかしながら、上記のような装置による光学的な測定では、眼鏡フレームのリムの溝に対する測定光束の入射角度の変化の影響によってリムの溝からの反射光束に歪が生じること、眼鏡フレームにおける測定位置によってはリムの溝に測定光束を良好に照射することができず反射光束を良好に検出できないこと、眼鏡フレームの種類によってはリムの溝で反射される反射光束の光量が弱く、反射光束を良好に検出できないこと、等の種々の原因により、良好な測定結果を取得することが困難となる場合があった。

本開示は、上記従来技術に鑑み、眼鏡フレームにおけるリムの形状情報を容易に良好に取得することができる眼鏡枠形状測定装置、及びレンズ加工装置を提供することを技術課題とする。

上記課題を解決するために、本開示は以下のような構成を備えることを特徴とする。

（１） 本開示の第１態様に係る眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームの形状を測定する眼鏡枠形状測定装置であって、眼鏡フレームのリムの溝に向けて光源から測定光束を照射する投光光学系と、前記投光光学系によって前記眼鏡フレームの前記リムの溝に向けて照射され、前記眼鏡フレームの前記リムの溝によって反射された前記測定光束の反射光束を第１検出器によって受光する受光光学系と、有する光学式測定ユニットと、前記眼鏡フレームの前記リムの溝に押し当てられる測定子と、前記測定子の位置を検出する第２検出器と、を有する測定子ユニットと、前記光学式測定ユニットと、前記測定子ユニットと、を保持する保持ユニットと、前記眼鏡フレームに対して前記保持ユニットを移動させることで、前記光学式測定ユニットと、前記測定子ユニットと、を前記眼鏡フレームに対して一体的に移動させて、前記眼鏡フレームの前記リムの溝に対する測定位置を変更する変更手段と、眼鏡枠形状測定装置の動作を制御する制御手段と、を備え、前記制御手段は、前記変更手段の動作を制御して、前記眼鏡フレームの前記リムの溝の測定を行い、前記第１検出器によって検出された検出結果に基づいて、前記眼鏡フレームの前記リムの溝の断面形状を取得し、前記第２検出器によって検出された検出結果に基づいて、前記眼鏡フレームの前記リムの形状を取得することを特徴とする。
（２） 本開示に係る第２様態に係るレンズ加工装置は、レンズの周縁を加工するレンズ加工装置であって、（１）の眼鏡枠形状測定装置によって取得された前記眼鏡フレームの前記リムの溝の前記断面形状と、前記リムの形状と、に基づいて、レンズの周縁を加工する加工制御手段を備えることを特徴とする。

眼鏡枠形状測定装置の外観略図である。 眼鏡フレームが保持された状態のフレーム保持ユニットの上面図である。 移動ユニットを上方から見た斜視図を示している。 移動ユニットの下方から見た斜視図を示している。 Ｚ移動ユニットとＹ移動ユニットの上面斜視図を示している。 光学式測定ユニット、回転ユニット、測定子ユニットについて説明する図である。 光学式測定ユニットの光学系について示す概略構成図である。 光学式測定ユニットと測定子ユニットを上方から見た図を示す。 眼鏡枠形状測定装置に関する制御ブロック図である。 光学式測定ユニット及び測定子ユニットが初期位置に移動される前の状態を示す図である。 光学式測定ユニット及び測定子ユニットが初期位置に移動された後、測定開始位置へ移動された状態を示す図である。 断面画像に対する輝度分布の取得について説明する図である。 リムの溝の断面画像から取得されるパラメータについて説明する図である。

以下、本実施形態を図面に基づいて説明する。図１～図１３は本実施形態に係る眼鏡枠形状測定装置（例えば、眼鏡枠形状測定装置１）の構成について説明する図である。なお、本実施形態においては、眼鏡枠形状測定装置の奥行き方向（眼鏡が配置された際の眼鏡フレームの上下方向）をＹ方向、奥行き方向に垂直（眼鏡が配置された際の眼鏡フレームの左右方向）な平面上の水平方向（左右方向）をＸ方向、鉛直方向（眼鏡が配置された際の眼鏡フレームの前後方向）をＺ方向として説明する。なお、以下の＜＞にて分類された項目は、独立又は関連して利用されうる。

なお、本実施形態における眼鏡枠形状測定装置には、眼鏡フレームＦのリム部分が下方向、眼鏡フレームＦのテンプル部分が上方向とした状態で配置される。すなわち、眼鏡枠形状測定装置に眼鏡フレームＦが配置された場合に、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲが下方向、眼鏡フレームＦの左右のテンプルＦＴＬ，ＦＴＲが上方向となる。もちろん、本実施形態の眼鏡枠形状測定装置においては、眼鏡フレームＦのリム部分が下方向、眼鏡フレームＦのテンプル部分が上方向とした状態で配置される構成を例に挙げて説明するがこれに限定されない。例えば、眼鏡フレームＦのリム部分が上方向、眼鏡フレームＦのテンプル部分が下方向とした状態で配置される構成であってもよい。また、例えば、眼鏡枠形状測定装置に眼鏡フレームＦが配置された場合に、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲの上端が下方向、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲの下端が上方向となるように配置される構成であってもよい。また、例えば、眼鏡枠形状測定装置に眼鏡フレームＦが配置された場合に、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲの上端が上方向、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲの下端が下方向となるように配置される構成であってもよい。

＜概要＞
本開示の実施形態に係る眼鏡枠形状測定装置（例えば、眼鏡枠形状測定装置１）の概要について説明する。例えば、眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームの形状を測定する。例えば、眼鏡枠形状測定装置は、光学式測定ユニット（例えば、光学式測定ユニット３０）を備える。例えば、光学式測定ユニットは、眼鏡フレームのリムの溝のリム形状を非接触式で光学的に測定する。例えば、眼鏡枠形状測定装置は、測定子ユニット（例えば、測定子ユニット６０）を備える。例えば、測定子ユニットは、眼鏡フレームのリムの溝のリム形状を、眼鏡フレームに溝に測定子（例えば、測定子６１）を接触させることで（接触式で）測定する。

例えば、光学式測定ユニットは、投光光学系（例えば、投光光学系３０ａ）と、受光光学系（例えば、受光光学系３０ｂ）と、を備える。例えば、投光光学系は、光源（例えば、光源３１）を有する。例えば、投光光学系は、眼鏡フレームのリムの溝に向けて光源から測定光束を照射する。なお、例えば、光源は、少なくとも１つ以上の光源が用いられてもよい。例えば、１つの光源が用いられてもよい。また、例えば、複数の光源が用いられてもよい。例えば、受光光学系は、第１検出器（例えば、検出器３７）を有する。例えば、受光光学系は、投光光学系によって眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射され、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光束の反射光束を第１検出器によって受光する。なお、例えば、第１検出器は、少なくとも１つ以上の検出器が用いられてもよい。例えば、１つの検出器が用いられてもよい。また、例えば、複数の検出器が用いられてもよい。

例えば、投光光学系と受光光学系は、断面形状を取得できる位置関係であれば、任意の位置にそれぞれ配置することができる。例えば、投光光学系と受光光学系の双方が測定子ユニット（例えば、測定子等）の片側にまとめて配置されるようにしてもよい。また、例えば、例えば、投光光学系と受光光学系の双方が測定子ユニットを挟んで両側に分けて配置（例えば、投光光学系を測定子ユニットの左側に配置し、受光光学系を測定子ユニットの右側に配置）されるようにしてもよい。もちろん、上記と異なる位置に投光光学系と受光光学系を配置するようにしてもよい。例えば、投光光学系と受光光学系を測定子ユニットの上側に配置してもよいし、下側に配置してもよい。もちろん、上記のいずれかの配置位置を組み合わせた位置（例えば、左上側、右上側、左下側、右下側等）に配置するようにしてもよい。

例えば、測定子ユニットは、測定子を備える。例えば、測定子は、眼鏡フレームのリムの溝に押し当てられる。例えば、測定子ユニットは、第２検出器（例えば、モータ２２５、モータ２３５、モータ２４５、エンコーダ２６５ａ、エンコーダ２８６、エンコーダ２８８）を備える。例えば、第２検出器は、測定子の位置を検出する。例えば、第２検出器は、少なくとも１つ以上の検出器が用いられてもよい。例えば、１つの検出器が用いられてもよい。また、例えば、複数の検出器が用いられてもよい。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、光学式測定ユニットと、測定子ユニットと、を保持する保持ユニット（例えば、保持ユニット２５）を備える。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、変更手段（例えば、移動ユニット２１０、回転ユニット２６０）を備える。例えば、変更手段は、眼鏡フレームに対して保持ユニットを移動させることで、光学式測定ユニットと、測定子ユニットと、を眼鏡フレームに対して一体的に移動させて、眼鏡フレームのリムの溝に対する測定位置を変更する。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、制御手段（例えば、制御部５０）を備える。例えば、制御手段は、眼鏡枠形状測定装置の動作を制御する。例えば、制御手段は、１つの制御手段によって、眼鏡枠形状測定装置の動作を制御するようにしてもよい。また、例えば、制御手段は、複数の制御手段を有し、複数の制御手段によって、眼鏡枠形状測定装置の動作を制御するようにしてもよい。

例えば、制御手段は、変更手段の動作を制御して、眼鏡フレームのリムの溝の測定を行う。また、例えば、制御手段は、第１検出器によって検出された検出結果に基づいて、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得する。また、例えば、制御手段は、第２検出器によって検出された検出結果に基づいて、眼鏡フレームのリムの形状を取得する。

上記のように、例えば、本実施形態において、眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームのリムの溝に向けて光源から測定光束を照射する投光光学系と、投光光学系によって眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射され、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光束の反射光束を第１検出器によって受光する受光光学系と、有する光学式測定ユニットと、眼鏡フレームのリムの溝に押し当てられる測定子と、測定子の位置を検出する第２検出器と、を有する測定子ユニットと、を備える。また、例えば、本実施形態において、眼鏡枠形状測定装置は、光学式測定ユニットと、測定子ユニットと、を保持する保持ユニットと、眼鏡フレームに対して保持ユニットを移動させることで、光学式測定ユニットと、測定子ユニットと、を眼鏡フレームに対して一体的に移動させて、眼鏡フレームのリムの溝に対する測定位置を変更する変更手段と、眼鏡枠形状測定装置の動作を制御する制御手段と、を備える。また、本実施形態において、眼鏡枠形状測定装置において、制御手段は、変更手段の動作を制御して、眼鏡フレームの前記リムの溝の測定を行い、第１検出器によって検出された検出結果に基づいて、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得し、第２検出器によって検出された検出結果に基づいて、眼鏡フレームのリムの形状を取得する。このような構成によって、例えば、測定子ユニットを保持する保持ユニットと、光学式測定ユニットを保持する保持ユニットと、をそれぞれ設け、眼鏡フレームに対してそれぞれ移動可能とする構成と比べて、１つの保持ユニットの移動によって、眼鏡フレームに対して、光学式測定ユニットと測定子ユニットとを一体的に移動させることができるため、余分な構成や複雑な制御が必要なくなる。これによって、容易な構成で、光学式測定ユニットと測定子ユニットの測定を実施することができる。また、測定子ユニットによって測定される測定結果と、光学式測定ユニットによって測定される測定結果と、の双方の測定結果を取得することができるため、各測定結果を組み合わせて、より良好なリムの形状情報を取得することができる。

例えば、光学式測定ユニットと、測定子ユニットは、それぞれで測定を行う際、同一のタイミングで測定を行うようにしてもよい。また、例えば、光学式測定ユニットと、測定子ユニットは、異なるタイミングで測定を行うようにしてもよい。また、例えば、光学式測定ユニットと、測定子ユニットは、同一のタイミングでの測定と、異なるタイミングでの測定と、を組み合わせて測定行うようにしてもよい。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、保持ユニットに対して測定子を移動可能とする移動手段（例えば、回転ユニット２６０）を備えるようにしてもよい。また、例えば、眼鏡枠形状測定装置は、保持ユニットに対して光学式測定ユニットを移動可能とする移動手段を備えるようにしてもよい。なお、例えば、保持ユニットに対して測定子を移動可能とする移動手段としては、測定子ユニットにおける少なくとも測定子を移動可能な構成であればよい。例えば、測定子の他に第２検出器についても保持ユニットに対して移動可能としてもよい。

上記のように、例えば、眼鏡枠形状測定装置は、保持ユニットに対して測定子を移動可能とする移動手段を備え、測定子ユニットに対して光学式測定ユニットが連結され、測定子が保持ユニットに対して移動されることで、測定子とともに光学式測定ユニットが保持ユニットに対して、一体的に移動されるようにしてもよい。このように、例えば、測定子に対して光学式測定ユニットを連結することで、測定子ユニット及び光学式測定ユニットが保持ユニットに対してそれぞれ移動可能とする構成と比べて、余分な構成や複雑な制御が必要なくなり、眼鏡枠形状測定装置をより容易な構成の装置とすることができる。また、測定子に対して光学式測定ユニットを連結することで、測定子ユニットと、光学式測定ユニットと、保持ユニットに対してそれぞれ移動可能とする構成と比べて、省スペース化することができるため、眼鏡フレームの測定時における測定子ユニットと、光学式測定ユニットと、が干渉してしまい、測定が困難となることを抑制することができる。

また、例えば、光学式測定ユニットの場合には、リムの溝に対して非接触で測定を行うため、リムの溝に対する光学式測定ユニットの位置合わせが困難となる場合がある。上記の構成によって、例えば、光学式測定ユニットが、リムの溝に沿った状態で移動をする測定子の移動と一体的に移動することができるため、リムの溝に対する光学式測定ユニットの位置合わせが容易となり、良好に測定を行うことができる。

例えば、測定子ユニットに対して光学式測定ユニットが連結する構成としては、測定子部分に光学式測定ユニットが連結してもよい。また、例えば、測定子ユニットに対して光学式測定ユニットが連結する構成としては、測定子を支持する測定子軸（例えば、測定子軸６２）に連結されるようにしてもよい。もちろん、例えば、測定子ユニットに対して光学式測定ユニットが連結する構成としては、上記構成に限定されない。例えば、測定子ユニットに対して光学式測定ユニットが連結する構成としては、測定子が保持ユニットに対して移動に伴って、測定子とともに光学式測定ユニットが保持ユニットに対して、一体的に移動できるように、連結される構成であればよい。

なお、例えば、保持ユニットに対して測定子を移動可能とする移動手段と、保持ユニットに対して光学式測定ユニットを移動可能とする移動手段とは、移動手段における少なくとも一部の構成が兼用される構成としてもよい。また、例えば、保持ユニットに対して測定子を移動可能とする移動手段と、保持ユニットに対して光学式測定ユニットを移動可能とする移動手段とは、別途それぞれ設けられる構成としてもよい。この場合、保持ユニットに対して、測定子と、光学式ユニットと、がそれぞれ移動可能となるため、より細やかな制御は可能となる。

例えば、光学式測定ユニットと、測定子ユニットは、同一の測定位置を測定可能な構成としてもよい。すなわち、例えば、光学式測定ユニットと、測定子ユニットは、同一の測定位置に対して、光学式測定ユニットによる測定と、測定子ユニットによる測定と、を同一のタイミングで実施可能な構成としてもよい。

また、例えば、光学式測定ユニットと、測定子ユニットは、異なる測定位置を測定可能な構成としてもよい。すなわち、例えば、光学式測定ユニットと、測定子ユニットは、異なる測定位置に対して、光学式測定ユニットによる測定と、測定子ユニットによる測定と、を同一のタイミングで実施可能な構成としてもよい。この場合、例えば、光学式測定ユニットによるリムの溝の測定位置である第１測定位置と、測定子ユニットによるリムの溝の測定位置である第２測定位置と、が異なる測定位置を測定可能とするように、測定ユニットと光学式測定ユニットが配置されるようにしてもよい。このような構成によって、光学式測定ユニットと、測定子ユニットとが、同一のタイミングにて異なる測定位置を測定する。例えば、測定子ユニット及び光学式測定ユニットが同時に同一の測定位置を測定する構成の場合には、光学式測定ユニットによる測定光束が測定子によって遮蔽されてしまうことがあり、光学式測定ユニットによる測定が困難となる場合がある。本開示の構成によれば、測定子ユニット及び光学式測定ユニットが異なる測定位置を測定することができるため、測定子による測定光束の遮蔽を抑制し、良好に測定を行うことができる。

なお、例えば、異なる測定位置を測定可能な構成としては、隣接した位置を測定可能な構成としてもよい。この場合、例えば、光学式測定ユニットによるリムの溝の測定位置である第１測定位置（例えば、第１測定位置Ｔ）と、測定子ユニットによるリムの溝の測定位置である第２測定位置（例えば、第２測定位置Ｓ）と、が隣接した測定位置を測定するように、測定ユニットと光学式測定ユニットが配置されるようにしてもよい。このような構成によって、例えば、光学式測定ユニットと測定子ユニットは、より近い（隣接した）測定位置を測定することが可能となる。例えば、光学式測定ユニットと測定子ユニットと間での測定位置が大きくずれる場合には、測定が困難となる場合がある。一例として、例えば、光学式測定ユニットと測定子ユニットとの一方が眼鏡フレームのカーブ部分（例えば、鼻側部分、耳側部分等）に差し掛かった際に、他方は眼鏡フレームの上部又は下部に位置している場合があり、測定を進行することができなくなり、測定が困難となる場合がある。本開示の構成によれば、光学式測定ユニットによる測定位置と、測定子ユニットによる測定位置と、がより近い（隣接した）測定位置を測定することが可能となるため、測定が困難（例えば、測定光束がＸＹＺ方向にずれることでリム溝に測定光束が良好に照射されない等）となることを抑制し、良好に測定を行うことが可能となる。

また、例えば、光学式測定ユニットと測定子ユニットと間での測定位置が大きくずれる場合には、良好な測定を取得することが困難となる場合がある。一例として、例えば、眼鏡フレームの位置によって、リムの溝の角度が異なる部位があり、例えば、光学式測定ユニットと測定子ユニットとの一方の測定位置におけるリムの溝の角度と、他方の測定位置におけるリムの溝の角度とが異なることによって、光学式測定ユニットによる測定光束がリムの溝に良好に照射できず、良好な測定結果を取得することが困難となる場合がある。本開示の構成によれば、光学式測定ユニットによる測定位置と、測定子ユニットによる測定位置と、がより近い（隣接した）測定位置を測定することが可能となるため、光学式測定ユニットによる測定光束をリムの溝に良好に照射することができ、良好な測定結果を取得することができる。

また、例えば、光学式測定ユニットと測定子ユニットと間での測定位置が大きくずれる場合には、光学式測定ユニットと測定子ユニットのそれぞれで取得された測定結果を対応付けることが困難となる場合がある。一例として、眼鏡フレームのタイプによって、部分的にリムの溝が傾斜している構成を有するものがあり、このような眼鏡フレームを測定する場合に、一方はリムの溝が傾斜した位置を測定し、他方はリムの溝が傾斜していない位置を測定することがあり、眼鏡フレームにおけるどこのリムの溝を測定しているのか把握することが困難となる場合がある。このため、光学式測定ユニットと測定子ユニットの双方で測定結果が取得された場合に、双方の測定結果の関係性を把握することが困難となり、対応付けが困難なる場合がある。本開示の構成によれば、光学式測定ユニットによる測定位置と、測定子ユニットによる測定位置と、がより近い（隣接した）測定位置を測定することが可能となるため、略同一の測定位置での測定結果を取得することができ、双方の測定結果の関係性が把握しやすくなる。このため、光学式測定ユニットと測定子ユニットとで取得されたそれぞれの測定結果を良好に対応付けすることができる。

もちろん、例えば、異なる測定位置を測定可能な構成としては、隣接した位置に限定されない。例えば、異なる測定位置を測定可能な構成としては、離れた位置を測定可能な構成としてもよい。

例えば、光学式測定ユニットと、測定子ユニットは、異なる測定位置を測定可能な構成の場合において、測定進行方向において、光学式測定ユニットによる測定が測定子ユニットによる測定よりも先に実施される構成としてもよい。この場合、例えば、光学式測定ユニットの第１測定位置は、測定進行方向において、測定子ユニットによる第２測定位置よりも先行した測定位置であるようにしてもよい。このような構成によって、例えば、予め、測定子によって測定される測定位置の情報が光学式測定ユニットによる測定結果から取得されるため、光学式測定ユニットによる測定を完了した測定位置に対して、測定子ユニットによる測定を行う場合に、光学式測定ユニットによる測定結果に基づいて、眼鏡フレームに対する測定子の位置を調整しやすくなる。これによって、測定子が眼鏡フレームの溝から外れてしまうこと、測定子がリムの溝に正確に挿入されていない状態で測定をしてしまうこと、等を抑制することができる。

なお、例えば、光学式測定ユニットによる測定ではリムの溝の断面形状を取得することができるため、リムの溝の状態（例えば、溝の傾斜、溝の深さ等）が把握しやすい。このため、測定子ユニットによる測定結果に基づいて、光学式測定ユニットの位置を調整する構成に比べて、眼鏡フレームに対する位置調整をより良好に行いやすい。

また、例えば、光学式測定ユニットと、測定子ユニットは、異なる測定位置を測定可能な構成の場合において、測定進行方向において、測定子ユニットによる測定が光学式測定ユニットによる測定よりも先に実施される構成としてもよい。この場合、例えば、測定子ユニットによる第２測定位置は、測定進行方向において、光学式測定ユニットの第１測定位置よりも先行した測定位置であるようにしてもよい。

なお、例えば、光学式測定ユニットにおける投光光学系の光軸（例えば、光軸Ｌ１）が、測定子から眼鏡フレームのリムの溝の測定位置に向かう測定軸（例えば、測定軸Ｌ３）に対して、動径平面（ＸＹ平面）上において傾斜して配置されるようにしてもよい。すなわち、例えば、光学式測定ユニットにおける投光光学系の光軸が、測定子から眼鏡フレームのリムの溝の測定位置に向かう測定軸に対して、動径平面上において所定の傾斜角度（例えば、傾斜角度β）だけ傾斜して配置されるようにしてもよい。この場合、例えば、投光光学系は、投光光学系における測定光束が眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射される光軸と、測定子から眼鏡フレームのリムの溝の測定位置に向かう測定軸と、の動径平面上における成す角が、鋭角となるように配置されていてもよい。このような構成によって、例えば、測定子ユニットによる測定位置と、光学式測定ユニットによる測定位置と、を隣接した位置又は同一の位置に容易に設定しやすくなる。また、例えば、測定子ユニットの測定軸と、光学式測定ユニットにおける投光光学系の光軸と、が並行するように配置される構成に比べ、測定子ユニットによる測定位置と、光学式測定ユニットによる測定位置と、を隣接した位置に設定しやすくなる。

例えば、制御手段は、光学式測定ユニットによる測定位置に関する第１位置情報と、測定子による測定位置に関する第２位置情報と、に基づいて、眼鏡フレームのリムの溝に対して測定位置が同一の測定位置を測定することで取得された、リムの溝の断面形状と、リムの形状と、を対応付けるようにしてもよい。すなわち、光学式測定ユニットによる測定結果と測定子ユニットによる測定結果と、第１位置情報と第２位置情報に基づいて、を対応付けするようにしてもよい。このような構成によって、例えば、測定子ユニットによって測定される測定結果と、光学式測定ユニットによって測定される測定結果と、容易に対応付けることが可能となり、より良好なリムの形状情報を取得することができる。

例えば、第１位置情報と第２位置情報としては、測定位置間のずれ情報（例えば、ずれ量ΔＤ）であってもよい。この場合、例えば、第１位置情報と第２位置情報としては、予め、光学式測定ユニットによる測定位置と、測定子による測定位置と、の測定位置のずれ情報（第１位置情報と第２位置情報とのずれ量）が取得されてもよい。また、例えば、第１位置情報と第２位置情報としては、測定時において検出された第１位置情報と第２位置情報とに基づいて、測定位置間のずれ情報が取得されてもよい。

また、例えば、第１位置情報と第２位置情報としては、測定位置の位置座標であってもよい。この場合、例えば、第１位置情報と第２位置情報としては、測定時において検出された光学式測定ユニットの測定位置を示す第１位置座標と、測定子ユニットの測定位置を示す第２位置座標とが取得されてもよい。

例えば、制御手段は、光学式測定ユニットによって取得されたリムの溝の断面形状と、測定子ユニットによって測定されたリムの形状と、を対応付けることによって、統合リム形状データを取得するようにしてもよい。例えば、統合リム形状データを取得することで、リムに関するより詳細な情報を取得できるため、リムの詳細な情報に基づくレンズの加工が可能となり、眼鏡フレームに対してレンズをより良好に嵌め込むことが可能な形状にレンズを加工することができる。

なお、本開示においては、眼鏡枠形状測定装置は、光学式測定ユニットと、測定子ユニットと、を保持する保持ユニットを備える構成を例に挙げたがこれに限定されない。例えば、測定子ユニットを保持する保持ユニットと、光学式測定ユニットを保持する保持ユニットと、をそれぞれ設け、眼鏡フレームに対してそれぞれ移動可能とする構成であってもよい。この場合、例えば、眼鏡枠形状測定装置は、測定子ユニットを保持する第１保持ユニットと、光学式測定ユニットを保持する第２保持ユニットと、を備え、眼鏡フレームに対して第１保持ユニットと、第２保持ユニットと、をそれぞれ移動させることで、光学式測定ユニットと、測定子ユニットと、眼鏡フレームのリムの溝に対する測定位置をそれぞれ変更する変更手段を備えるようにしてもよい。さらに、第１保持ユニットに対して測定子を移動可能とする第１移動手段と、第２保持ユニットに対して光学式測定ユニットを移動可能とする第２移動手段と、を備えるようにしてもよい。

以下、各構成についてより詳細に説明する。

＜投光光学系＞
例えば、光学式測定ユニットにおける投光光学系は、光学部材を有してもよい。この場合、例えば、光源から出射された測定光束が各光学部材を介して眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射されるようにしてもよい。例えば、光学部材としては、レンズ、ミラー、絞り、等の少なくともいずれかを用いてもよい。例えば、絞りを用いることによって、焦点深度を深くすることができる。もちろん、光学部材としては、上記光学部材に限定されず、異なる光学部材が用いられてもよい。

なお、例えば、投光光学系は、光源から出射された測定光束が眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射される構成であればよい。例えば、少なくとも光源を有する構成であってもよい。また、例えば、投光光学系としては、光学部材とは異なる部材を経由して、光源から出射された測定光束が眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射される構成であってもよい。

例えば、投光光学系によって、眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射される測定光束は、スポット状の測定光束を照射してもよい。また、例えば、投光光学系によって、眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射される測定光束は、幅を有する測定光束（例えば、スリット状の測定光束）であってもよい。この場合、例えば、投光光学系は、光源からの測定光束を眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射し、リムの溝上に光切断面を形成させてもよい。例えば、受光光学系は、光切断面のリムの溝での反射（例えば、散乱、正反射等）により取得されるリムの溝の反射光束（例えば、散乱光、正反射光等）を検出器によって、受光するようにしてもよい。

例えば、幅を有する測定光束を照射する場合、スリット状の光束を出射する光源を用いてもよい。例えば、点光源を用いてもよい。この場合、例えば、点光源を複数並べて配置することによって、幅を有する測定光束を照射するようにしてもよい。また、例えば、点光源から照射されたスポット状の光束を走査することによって、幅を有する測定光束を照射するようにしてもよい。また、例えば、点光源から照射されたスポット状の測定光束を光学部材によって拡散させることによって、幅を有する測定光束を照射するようにしてもよい。もちろん、例えば、光源としては、上記光源とは異なる種々の種類の光源を用いて、幅を有する測定光束を照射するようにしてもよい。

＜受光光学系＞
例えば、光学式測定ユニットにおける受光光学系は、光学部材を有してもよい。この場合、例えば、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光束の反射光束が各光学部材を介して、第１検出器に受光されるようにしてもよい。例えば、光学部材としては、レンズ、ミラー、絞り、等の少なくともいずれかを用いてもよい。もちろん、光学部材としては、上記光学部材に限定されず、異なる光学部材が用いられてもよい。

なお、例えば、受光光学系は、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光束の反射光束が検出器に受光される構成であればよい。例えば、受光光学系は、少なくとも第１検出器を有する構成であってもよい。また、例えば、受光光学系としては、光学部材とは異なる部材を経由して、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光束の反射光束が第１検出器に受光される構成であってもよい。

なお、例えば、本実施形態において、受光光学系の撮像光軸（例えば、撮像光軸Ｌ２）は、投光光学系の光軸に対して、Ｚ方向において所定の傾斜角度（例えば、傾斜角度α）分だけ下方に傾斜させた構成であってもよい。また、例えば、本実施形態において、受光光学系の撮像光軸は、投光光学系の光軸に対して、動径平面（ＸＹ平面）上において所定の傾斜角度（例えば、傾斜角度θ）分だけ傾斜させた構成であってもよい。

＜測定子ユニット＞
例えば、測定子ユニットは、眼鏡フレームのリムの溝に押し当てられる測定子と、測定子の位置を検出する第２検出器と、を有する。なお、例えば、第２検出器は、測定子ユニットの位置を検出できる構成であればよい。すなわち、例えば、第２検出器は、測定子が移動した場合における測定子の位置を検出することができる構成であればよい。この場合、例えば、Ｘ方向と、Ｙ方向と、Ｚ方向と、回転方向（回転）と、傾斜方向（傾斜）と、の少なくともいずれかの方向に移動した場合における測定子の位置が検出できる構成であればよい。

＜変更手段＞
例えば、変更手段は、眼鏡フレームに対して保持ユニットを移動させることで、光学式測定ユニットと、測定子ユニットと、を眼鏡フレームに対して一体的に移動させて、眼鏡フレームのリムの溝に対する測定位置を変更する。例えば、変更手段としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、保持ユニットの位置をＸ方向に移動させるＸ方向変更手段であってもよい。例えば、保持ユニットの位置を移動させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、保持ユニットの位置をＹ方向に移動させるＹ方向変更手段であってもよい。

例えば、保持ユニットの位置を移動させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、保持ユニットの位置をＺ方向に移動させるＺ方向変更手段であってもよい。例えば、保持ユニットの位置を移動させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、保持ユニットの位置を回転させる回転変更手段（例えば、回転ユニット２６０）であってもよい。例えば、保持ユニットの位置を移動させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、保持ユニットの傾斜角度を変更させる傾斜角度変更手段であってもよい。

また、例えば、保持ユニットの位置を移動させる構成としては、Ｘ方向変更手段と、Ｙ方向変更手段と、Ｚ方向変更手段と、回転変更手段と、傾斜角度変更手段と、の少なくともいずれかであってもよい。もちろん、保持ユニットの位置を移動させる構成としては、上記変更手段に限定されず、保持ユニットの位置を上記方向とは異なる方向に移動させる変更手段が用いられる構成であってもよい。

＜制御手段＞
例えば、制御手段は、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光束の反射光束を処理して、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得する。例えば、制御手段は、第１検出器における反射光束の受光位置から断面形状を取得してもよい。例えば、断面形状は、画像（画像データ）であってもよい。すなわち、断面形状は、断面画像であってもよい。また、例えば、断面形状は、信号（信号データ）であってもよい。すなわち、断面形状は、断面形状の信号データであってもよい。

例えば、断面形状としては、二次元断面形状、三次元断面形状等が挙げられる。例えば、二次元断面形状は、１つの動径角におけるリムの溝に測定光束を照射し、その反射光束を受光することによって取得される断面形状である。例えば、本実施形態において、二次元断面形状は、リムの溝を眼鏡フレームの動径方向（本実施形態においては、ＸＹ方向）に垂直な方向（本実施形態においては、Ｚ方向）に切断した面の形状である。なお、例えば、二次元断面形状は、測定光束を横断位置（本実施形態においては、Ｚ方向）に沿って走査させることによって取得してもよい。また、例えば、三次元断面形状は、二次元断面形状を各動径角毎に取得することによって、取得される断面形状である。例えば、三次元断面形状は、二次元断面形状を取得するための測定光束を眼鏡フレームの動径平面方向（本実施形態においては、ＸＹ平面方向）で走査することによって取得するようにしてもよい。

なお、例えば、断面形状の取得した際に、断面形状の一部が欠損している場合に、欠損している位置の周辺の位置（例えば、隣接する位置）における反射光束の受光結果から、欠損部分を補間するようにしてもよい。また、例えば、断面形状の取得した際に、断面形状の一部が欠損している場合に、断面形状を近似することによって、欠損部分を補間するようにしてもよい。また、例えば、断面形状の取得した際に、断面形状の一部が欠損している場合に、欠損部分が取得されるように断面形状の再取得を行うようにしてもよい。

例えば、二次元断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周（各動径角においてリムが形成されているすべての部分）の内、少なくとも１つの箇所（1つの動径角の位置）でのリムの溝の二次元断面形状が取得されるようにしてもよい。この場合、例えば、二次元断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、取得されるようにしてもよい。また、この場合、例えば、二次元断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、複数の位置（例えば、眼鏡フレームの左端、右端、上端、下端等）で取得されるようにしてもよい。また、この場合、例えば、二次元断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、1つの動径角の位置で取得されるようにしてもよい。

例えば、三次元断面形状を取得する場合、眼鏡フレームのリムの全周（各動径角においてリムが形成されているすべての部分）の内、少なくとも一部の領域でのリムの溝の三次元断面形状が取得されるようにしてもよい。この場合、例えば、三次元断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、取得されるようにしてもよい。また、この場合、例えば、三次元断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、複数の領域（例えば、眼鏡フレームの左端領域、右端領域、上端領域、下端領域等）で取得されるようにしてもよい。また、この場合、例えば、三次元断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、一部分の領域で取得されるようにしてもよい。なお、眼鏡フレームのリムの全周に対して三次元断面形状を取得していない場合で、眼鏡フレームのリムの全周の三次元断面形状を取得したい場合には、二次元断面形状を取得した部分の二次元断面形状（三次元断面形状）に基づいて、補間をすることによって、眼鏡フレームのリムの全周の三次元断面形状を取得してもよい。

例えば、制御手段は、取得したリムの断面形状に基づいて、眼鏡フレームのリムの形状（形状データ）を取得するようにしてもよい。この場合、例えば、制御手段は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状から眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の底をそれぞれ検出し、検出した検出結果に基づいて、眼鏡フレームのリムの形状（例えば、玉型形状、周長等）を取得するようにしてもよい。

例えば、制御手段は、第２検出器によって検出された検出結果に基づいて、眼鏡フレームのリムの形状（リムの形状データ）を取得する。例えば、リムの形状としては、リムの玉型形状（玉型形状データ）であってもよい。また、例えば、リムの形状としては、リムの玉型形状に基づいて算出されるリムの周長（周長データ）であってもよい。例えば、測定子によって測定されるリムの形状（リムの玉型形状）は、リムの三次元玉型形状（三次元玉型形状データ）であってもよいし、リムの二次元玉型形状（二次元玉型形状データ）であってもよい。また、例えば、測定子によって測定されるリムの玉型形状は、リムの内形形状に基づく形状であればよい。

例えば、本実施形態において、リムの三次元玉型形状は、測定子を、リムの溝を眼鏡フレームの周方向に移動させて測定を行うことで取得される。例えば、眼鏡フレームの各動径角におけるリムの溝の三次元位置（ＸＹＺの位置）を測定していくことで、リムの三次元玉型形状が取得される。なお、例えば、制御手段は、リムの形状として、リムの三次元玉型形状に基づいて、リムの周長（リムの周方向の距離）を算出するようにしてもよい。

例えば、本実施形態において、リムの二次元玉型形状は、測定子を、リムの溝を眼鏡フレームの周方向に移動させて測定を行うことで取得される。例えば、眼鏡フレームの各動径角におけるリムの溝の二次元位置（ＸＹの位置）を測定していくことで、リムの二次元玉型形状が取得される。なお、例えば、制御手段は、リムの形状として、リムの二次元玉型形状に基づいて、リムの周長を算出するようにしてもよい。

なお、例えば、制御手段は、リムの三次元玉型形状に基づいて、二次元玉型形状を取得するようにしてもよい。この場合、例えば、リムの三次元玉型形状を二次元平面（ＸＹ平面）に投影することでリムの二次元玉型形状を取得するようにしてもよい。

なお、例えば、玉型形状（例えば、二次元玉型形状、三次元玉型形状）の取得した際に、玉型形状の一部が欠損している場合に、欠損している位置の周辺の位置（例えば、隣接する位置）における測定結果から、欠損部分を補間するようにしてもよい。また、例えば、玉型形状の取得した際に、玉型形状の一部が欠損している場合に、欠損部分が取得されるように玉型形状の再取得を行うようにしてもよい。

例えば、リムの三次元玉型形状は、眼鏡フレームのリムの全周（各動径角においてリムが形成されているすべての部分）の内、少なくとも１つの箇所（１つの動径角の位置）でのリムの三次元玉型形状が取得されるようにしてもよい。この場合、例えば、リムの三次元玉型形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、取得されるようにしてもよい。また、この場合、例えば、リムの三次元玉型形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、複数の位置（例えば、眼鏡フレームの左端、右端、上端、下端等）で取得されるようにしてもよい。また、この場合、例えば、リムの三次元玉型形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、１つの動径角の位置で取得されるようにしてもよい。なお、リムの二次元玉型形状を取得する場合についても、上記のリムの三次元玉型形状の取得と同様に、少なくとも１つの箇所（１つの動径角の位置）でのリムの三次元玉型形状が取得されるようにしてもよい。

例えば、制御手段は、光学式測定ユニットによって取得されたリムの溝の断面形状と、測定子ユニットによって測定されたリムの形状と、を対応付けることによって、統合リム形状データを取得するようにしてもよい。例えば、統合リム形状データとしては、光学式測定ユニットによって取得されたリムの溝の断面形状と、測定子ユニットによって測定されたリムの形状と、を統合（組み合わせ）処理することによって、新たに取得されるデータであればよい。一例として、例えば、統合リム形状データとしては、リムの断面形状と、リムの周長と、が組み合わせられたデータであってもよい。

例えば、リムの周長は、光学式測定ユニットによって測定されたリムの周長に対して、測定子によって接触式で測定されたリム周長の方がより精度のよい結果を取得することができる。また、例えば、玉型形状についてもリム周長と同様のことがいえる。一方で、測定子ユニットによる測定ではリムの断面形状を測定することは困難であるが、光学式測定ユニットによって断面形状を容易に取得することができる。このため、測定子ユニットによって取得されたリムの形状と、光学式測定ユニットによって測定されたリムの溝の断面形状と、を組み合わせることがより良好なデータを取得することができる。つまり、光学式測定ユニットと、測定子ユニットと、でそれぞれが不足する部分を充足するようなデータを取得することができるため、より良好な加工を可能とすることに繋がる。

なお、本実施形態において、受光光学系の撮像光軸が投光光学系の光軸に対してＺ方向において傾斜角度α分だけ下方に傾斜している場合に、リムの溝の断面形状を補正するようにしてもよい。また、本実施形態において、受光光学系の撮像光軸が投光光学系の光軸に対して、ＸＹ平面上において傾斜角度θ分だけ傾斜して配置されている場合に、リムの溝の断面形状を補正するようにしてもよい。また、例えば、本実施形態において、光学式測定ユニットにおける投光光学系の光軸が、測定子から眼鏡フレームのリムの溝の測定位置に向かう測定軸に対して、動径平面上（ＸＹ平面上）において傾斜角度β分だけ傾斜して配置されている場合、リムの溝の断面形状を補正するようにしてもよい。つまり、上記のような、いずれかの傾斜構成を有する場合に、例えば、制御手段は、傾斜角度αと、傾斜角度θと、傾斜角度θと、の少なくともいずれかの傾斜角度に基づいて、リムの溝の断面形状を補正するようにしてもよい。一例として、制御手段は、傾斜角度αと、傾斜角度θと、傾斜角度θと、の少なくともいずれかの傾斜角度を利用した三角関数によって、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を補正してもよい。もちろん、制御手段は、傾斜角度αと、傾斜角度θと、傾斜角度θと、の少なくともいずれかの傾斜角度に基づく、三角関数とは異なる演算によって、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を補正してもよい。このように、傾斜角度に基づき、リムの溝の断面形状を補正することによって、傾斜角度の影響によって生じた断面形状の歪みを補正した断面形状を取得することが可能となり、リムの溝の断面形状を精度よく取得することができる。

＜移動手段＞
例えば、移動手段は、保持ユニットに対して、測定子を任意の方向に移動可能とすることができる。例えば、移動手段は、保持ユニットに対して、測定子を、Ｘ方向と、Ｙ方向と、Ｚ方向と、回転方向（回転）と、傾斜方向（傾斜）と、の少なくともいずれかの方向に移動可能としてもよい。なお、例えば、保持ユニットに対して、測定子が回転方向に移動可能な構成とは、所定の回転軸（例えば、回転軸ＬＯ）を回転中心として、測定子が回転可能な構成を示す。また、例えば、保持ユニットに対して、測定子に傾斜方向に移動可能な構成とは、測定子が保持ユニットに対して傾斜可能な構成を示す。

また、例えば、移動手段は、保持ユニットに対して、光学式測定ユニットを任意の方向に移動可能とすることができる。例えば、移動手段は、保持ユニットに対して、光学式測定ユニットを、Ｘ方向と、Ｙ方向と、Ｚ方向と、回転方向（回転）と、傾斜方向（傾斜）と、の少なくともいずれかの方向に移動可能としてもよい。なお、例えば、保持ユニットに対して、光学式測定ユニットが回転方向に移動可能な構成とは、所定の回転軸（例えば、回転軸ＬＯ）を回転中心として、光学式測定ユニットが回転可能な構成を示す。また、例えば、保持ユニットに対して、光学式測定ユニットに傾斜方向に移動可能な構成とは、光学式測定ユニットが保持ユニットに対して傾斜可能な構成を示す。

例えば、保持ユニットに対して測定子を移動可能とする移動手段と、保持ユニットに対して光学式測定ユニットを移動可能とする移動手段とは、兼用される構成としてもよい。この場合、例えば、測定子に対して光学式測定ユニットが連結され、測定子が保持ユニットに対して移動されることで、測定子とともに光学式測定ユニットが保持ユニットに対して、一体的に移動される構成であってもよい。すなわち、移動手段によって、測定子が保持ユニットに対して移動可能とされることで、測定子とともに光学式測定ユニットが保持ユニットに対して、一体的に移動可能とされる構成であってもよい。

＜レンズ加工＞
例えば、眼鏡枠形状測定装置によって取得された眼鏡フレームのリムの溝の断面形状と、リムの溝のリムの形状と、をレンズの加工に用いてもよい。もちろん、断面形状と、リムの形状と、に基づいて取得された統合リム形状データが用いられてもよい。例えば、レンズの周縁を加工するレンズ加工装置（例えば、レンズ加工装置３００）は、眼鏡枠形状測定装置における光学式測定ユニットによって取得された眼鏡フレームのリムの溝の断面形状と、眼鏡枠形状測定装置における測定子ユニットによって取得されたリムの形状と、を取得する。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、送信手段を有し、送信手段によって、レンズ加工装置に向けて眼鏡フレームのリムの溝の断面形状とリムの形状とを送信するようにしてもよい。この場合、例えば、レンズ加工装置は、受信手段を有し、眼鏡枠形状測定装置から送信された眼鏡フレームのリムの溝の断面形状とリムの形状を受信するようにしてもよい。

なお、例えば、レンズ加工装置に眼鏡枠形状測定装置が備えられた構成であってもよい。また、例えば、レンズ加工装置と眼鏡枠形状測定装置とが別途それぞれ別装置であってもよい。この場合には、有線と無線との少なくともいずれかによって、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状とリムの形状とが眼鏡枠形状測定装置からレンズ加工装置に送信されるようにしてもよい。

例えば、レンズ加工装置は、加工制御手段（例えば、制御部３１０）を備えてもよい。例えば、加工制御手段は、眼鏡枠形状測定装置によって取得された眼鏡フレームのリムの溝の断面形状と、リムの形状と、に基づいてレンズの周縁を加工してもよい。例えば、加工制御手段は、レンズを保持するレンズ保持手段及び加工具を制御して、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状と、リムの形状と、に基づいてレンズの周縁を加工してもよい。

例えば、本実施形態において、レンズ加工装置は、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状と、リムの形状と、に基づいてレンズの周縁を加工する加工制御手段を備える。これによって、眼鏡フレームに加工後のレンズを良好に枠入れする際に、リムの溝の形状と加工後のレンズの輪郭形状が近い形状となるため、枠入れを良好に行うことができる。

＜実施例＞
本開示の典型的な実施例の１つについて、図面を参照して説明する。図１は、眼鏡枠形状測定装置の外観略図である。例えば、図２は、眼鏡フレームが保持された状態のフレーム保持ユニットの上面図である。例えば、本実施例において、眼鏡枠形状測定装置１は、フレーム保持ユニット１０と、測定ユニット２０と、を備える。例えば、フレーム保持ユニット１０は、眼鏡フレームＦを所期する状態に保持する。例えば、測定ユニット２０は、フレーム保持ユニット１０に保持された眼鏡フレームＦのリム(例えば、左側リムＦＬ、右側リムＦＲｓ)の溝に向けて測定光束を照射し、その反射光束を受光することにより、眼鏡フレームＦのリムの溝の断面形状を取得するために用いられる。また、例えば、測定ユニット２０は、フレーム保持ユニット１０に保持された眼鏡フレームＦのリム(例えば、左側リムＦＬ、右側リムＦＲｓ)の溝に測定子を挿入し、測定子の移動を検出することにより、リムの形状を測定する。例えば、測定ユニット２０はフレーム保持ユニット１０の下に配置されている。

例えば、眼鏡枠形状測定装置１の筐体の前側には測定開始用のスイッチ等を持つスイッチ部４が配置されている。例えば、眼鏡枠形状測定装置１の筐体の後側には、タッチパネル式のディスプレイ３が配置されている。例えば、レンズの周縁加工に際し、パネル部３により玉型データに対するレンズのレイアウトデータ、レンズの加工条件等が入力される。例えば、眼鏡枠形状測定装置１で得られた取得結果（リムの溝の断面形状、眼鏡フレーム形状等）及びディスプレイ３で入力されたデータは、レンズ加工装置に送信される。なお、眼鏡枠形状測定装置１は、特開２０００－３１４６１７号公報等と同じく、レンズ加工装置に組み込まれる構成としてもよい。

＜フレーム保持ユニット＞
例えば、フレーム保持ユニット１０の下側には、測定ユニット２０が備えられている。例えば、保持部ベース１０１上には眼鏡フレームＦを水平に保持するための前スライダー１０２と後スライダー１０３が載置されている。なお、例えば、水平とは略水平であってもよい。例えば、前スライダー１０２と後スライダー１０３は、その中心線ＣＬを中心に２つのレール１１１上を対向して摺動可能に配置されていると共に、バネ１１３により常に両者の中心線ＣＬに向かう方向に引っ張られている。

例えば、前スライダー１０２には、眼鏡フレームＦのリムをその厚み方向からクランプするためのクランプピン１３０ａ，１３０ｂがそれぞれ２箇所に配置されている。例えば、後スライダー１０３には眼鏡フレームＦのリムをその厚み方向からクランプするためのクランプピン１３１ａ，１３１ｂがそれぞれ２箇所に配置されている。また、例えば、型板を測定するときは、前スライダー１０２及び後スライダー１０３が開放され、周知の型板保持治具が所定の取付け位置１４０に配置されて使用される。このフレーム保持ユニット１０の構成は、例えば、特開２０００－３１４６１７号公報等に記載された周知のものが使用できる。

例えば、眼鏡フレームＦは、眼鏡装用時のリムの下側が前スライダー１０２側に位置され、リムの上側が後スライダー１０３側に位置される。例えば、左右のリムのそれぞれの下側及び上側に位置するクランプピンにより、眼鏡フレームＦは所定の測定状態に保持される。

なお、本実施例においては、リムの前後方向の位置を規制する構成として、上記クランプピン１３０ａ，１３０ｂ及びクランプピン１３１ａ，１３１ｂの構成を例に挙げて説明したがこれに限定されない。周知の機構が使用されても良い。例えば、左右リムの前後方向を固定する機構としては、Ｖ字状の溝を持つ当接部材（規制部材）を左右リム用にそれぞれ設ける構成でも良い。

＜測定ユニット＞
以下、測定ユニット２０の構成について説明する。例えば、測定ユニット２０は、光学式測定ユニット３０を備える。例えば、光学式測定ユニット３０は、投光光学系３０ａと、受光光学系３０ｂと、で構成される。例えば、投光光学系３０ａ及び受光光学系３０ｂは、眼鏡フレームの形状及び眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得するために用いられる（詳細は後述する）。また、例えば、測定ユニット２０は、測定子ユニット６０を備える。例えば、測定子ユニットは、測定子６１を備える。例えば、測定子ユニット６０は、眼鏡フレームのリムの形状（例えば、リムの玉型形状）を取得するために用いられる（詳細は後述する）。本実施例において、測定子ユニット６０における測定子６１に対して光学式測定ユニット３０が連結されている。

例えば、測定ユニット２０は、光学式測定ユニット３０（投光光学系３０ａと受光光学系３０ｂ）と、測定子ユニット６０と、を保持する保持ユニット２５を備える。例えば、測定ユニット２０は、保持ユニット２５をＸＹＺ方向に移動させる移動ユニット２１０を備える（例えば、図３～図５参照）。また、例えば、測定ユニット２０は、回転軸Ｌ０を中心として保持ユニット２５を回転させる回転ユニット２６０を備える（例えば、図６参照）。なお、例えば、本実施例において、ＸＹ方向はフレーム保持ユニット１０により保持される眼鏡フレームＦの測定平面（リムの動径方向）と平行であり、Ｚ方向は測定平面に垂直な方向である。

＜移動ユニット＞
以下、移動ユニット２１０について説明する。例えば、図３～図５は、移動ユニット２１０の構成を説明する図である。例えば、図３は、移動ユニット２１０を上方から見た斜視図を示している。例えば、図４は、移動ユニット２１０の下方から見た斜視図を示している。例えば、図５は、Ｚ移動ユニット２２０とＹ移動ユニット２３０の上面斜視図（Ｘ移動ユニット２４０とベース部２１１を取り外した状態の斜視図）を示している。

例えば、移動ユニット２１０は、大別して、Ｚ移動ユニット（Ｚ方向変更手段）２２０と、Ｙ移動ユニット（Ｙ方向変更手段）２３０と、Ｘ移動ユニット（Ｘ方向変更手段）２４０と、を備える。例えば、Ｚ移動ユニット（Ｚ方向変更手段）２２０は、保持ユニット２５をＺ方向に移動させる。例えば、Ｙ移動ユニット２３０は、保持ユニット２５及びＺ移動ユニット２２０を保持し、Ｙ方向へ移動させる。例えば、Ｘ移動ユニット２４０は、保持ユニット２５をＺ移動ユニット２２０及びＹ移動ユニット２３０と共にＸ方向に移動させる。

例えば、Ｘ移動ユニット２４０は、概略的に次のように構成されている。例えば、Ｘ移動ユニット２４０は、水平方向（ＸＹ方向）に伸展した方形状の枠を持つベース部２１１の下方に、Ｘ方向に延びるガイドレール２４１を備える。例えば、Ｙ移動ユニット２３０のＹベース２３０ａが、ガイドレール２４１に沿って、Ｘ方向に移動可能に取り付けられている。例えば、ベース部２１１には、モータ（駆動源）２４５が取り付けられている。例えば、モータ２４５の回転軸には、Ｘ方向に延びる送りネジ２４２が取り付けられている。例えば、Ｙベース２３０ａに固定されたナット部２４６が送りネジ２４２に螺合されている。これにより、モータ２４５が回転されると、Ｙベース２３０ａがＸ方向に移動される。なお、例えば、Ｘ移動ユニット２４０のＸ方向の移動範囲は、眼鏡フレームの左右のレンズ枠を測定可能にするために、保持ユニット２５が搭載されるＹベース２３０ａを眼鏡フレームの左右幅以上に移動可能な長さを持つようにしてもよい。

例えば、Ｙ移動ユニット２３０は、概略的に次のように構成されている。例えば、Ｙベース２３０ａには、Ｙ方向に延びるガイドレール２３１が取り付けられている。例えば、Ｚベース２２０ａは、ガイドレール２３１に沿ってＹ方向に移動可能に取り付けられている。例えば、Ｙベース２３０ａにはＹ移動用のモータ（駆動源）２３５とＹ方向に延びる送りネジ２３２が回転可能に取り付けられている。例えば、モータ２３５の回転は、ギヤ等の回転伝達機構を介して送りネジ２３２に伝達される。例えば、送りネジ２３２には、Ｚベース２２０ａに取り付けられたナット２２７が螺合されている。これらの構成により、モータ２３５が回転されると、Ｚベース２２０ａがＹ方向に移動される。

例えば、Ｘ移動ユニット２４０及びＹ移動ユニット２３０によりＸＹ移動ユニットが構成される。例えば、保持ユニット２５をＸＹ方向に移動させる範囲は、測定可能なリムの動径よりも大きくされている。また、例えば、保持ユニット２５のＸＹ方向の移動位置は、後述する制御部５０によりモータ２４５及びモータ２３５が駆動されるパルス数によって検知され、保持ユニット２５のＸＹ方向の位置を検知する第１のＸＹ位置検知ユニットがモータ２４５，２３５及び制御部５０により構成される。例えば、保持ユニット２５のＸＹ位置検知ユニットとしては、モータ２４５及びモータ２３５のパルス制御で検知する他、モータ２４５及び２３５のそれぞれの回転軸に取り付けられたエンコーダ等のセンサを使用する構成でも良い。

例えば、Ｚ移動ユニット２２０は、概略的に次のように構成されている。例えば、Ｚベース２２０ａにはＺ方向に延びるガイドレール２２１が形成され、このガイドレール２２１に沿って保持ユニット２５が取り付けられた移動ベース２５０ａがＺ方向に移動可能に保持されている。例えば、Ｚベース２２０ａには、Ｚ移動用のパルスモータ２２５が取り付けられていると共に、Ｚ方向に延びる送りネジ（図示を略す）が回転可能に取り付けられている。例えば、保持ユニット２５のベース２５０ａに取り付けられたナットに螺合されている。例えば、モータ２２５の回転はギヤ等の回転伝達機構を介して送りネジに伝達され、送りネジの回転により保持ユニット２５がＺ方向に移動される。保持ユニット２５のＺ方向の移動位置は、後述する制御部５０によってモータ２２５が駆動されるパルス数により検知され、保持ユニット２５のＺ方向の位置を検知するＺ位置検知ユニットがモータ２２５及び制御部５０により構成される。例えば、保持ユニット２５のＺ位置検知ユニットとしては、モータ２２５のパルス制御で検知する他、モータ２２５の回転軸に取り付けられたエンコーダ等のセンサを使用する構成でも良い。

なお、以上のようなＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向の各移動機構は、実施例に限られず、周知の機構が採用できる。例えば、保持ユニット２５を直線移動させる代わりに、回転ベースの中心に対して円弧起動で移動させる構成としても良い（例えば、特開２００６－３５０２６４号公報等参照）。

＜光学式測定ユニット、測定子ユニット、回転ユニット＞
次いで、光学式測定ユニット３０、回転ユニット２６０、測定子ユニット６０、について説明する。例えば、図６は、光学式測定ユニット３０、回転ユニット２６０、測定子ユニット６０について説明する図である。

例えば、測定子ユニット６０は、測定子６１、測定子軸６２、を備える。例えば、測定子６１は、測定子軸６２に取り付けられている。例えば、保持ユニット２５は、Ｚ方向に延びる回転軸ＬＯの軸回りに測定子軸６２を回転する回転ユニット２６０を有する。例えば、回転ユニット２６０は、測定子軸６２が取り付けられた回転ベース２６１と、回転軸ＬＯを中心として回転ベース２６１を回転させるモータ（駆動源）２６５と、を有する。

例えば、回転ベース２６１は、測定子軸６２を、測定子６１の先端方向に移動可能（傾斜可能）に保持する。すなわち、測定子軸６２が保持ユニット２５に対して、測定子６１の先端方向に移動可能（傾斜可能）に保持されている。また、例えば、回転ベース２６１は、測定子軸６２を、Ｚ方向に移動可能に保持する。すなわち、測定子軸６２が保持ユニット２５に対して、Ｚ方向に移動可能に保持されている。例えば、測定子６１の先端方向の位置、及び測定子軸６２の中心位置は、検知器であるエンコーダ２８６により検知される。測定子６１のＺ方向の位置、及び測定子軸６２のＺ方向の位置は、検出器であるエンコーダ２８８により検知される。なお、保持ユニット２５は、測定子６１の先端をリム（右リムＲＩＲと左リムＲＩＬ）の溝に押し当てる測定圧を付与するための図示なき測定圧付与機構を備える。なお、例えば、測定子ユニット６０の構成については、特開２０１３－６８４８８号公報等に記載された周知のものが使用できる。

例えば、測定子ユニット６０における測定子軸６２には光学式測定ユニット３０が連結されている。例えば、測定子軸６２が移動されることで、測定子軸６２の動きに合わせて、測定子軸６２に連結された光学式測定ユニット３０が一体的に移動される。例えば、光学式測定ユニット３０は、測定子軸６２の移動に合わせて、測定子６１の先端方向に移動可能（傾斜可能）となっているとともに、Ｚ方向に移動可能となっている。すなわち、光学式測定ユニット３０が、保持ユニット２５に対して、測定子６１の先端方向に移動可能（傾斜可能）に保持されているとともに、Ｚ方向に移動可能に保持されている。この場合、例えば、光学式測定ユニット３０の位置は、測定子６１及び測定子軸６２の位置の検出と同様に、検出器であるエンコーダ２８６、エンコーダ２８８により検知される。また、回転軸ＬＯの軸回りに測定子軸６２が回転されることによって、光学式測定ユニット３０が回転軸ＬＯの軸回りに回転される。

例えば、光学式測定ユニット３０は、カバー３８を有する。例えば、カバー３８の内部には、投光光学系３０ａ及び受光光学系３０ｂが収納されている。例えば、カバー３８には、開口部３９が設けられている。例えば、開口部３９は、投光光学系３０ａからの測定光束を通過させるとともに、眼鏡フレームＦで反射された反射光束を通過させる。例えば、開口部３９には開口部３９を覆うような透明パネルが設けられていてもよい。例えば、開口部３９は、投光光学系３０ａのから照射される測定光束をカバー３８の内部から外部に向けて出射する。すなわち、投光光学系３０ａからの測定光束は、開口部３９を通過して眼鏡フレームＦのリムの溝に向けて照射される。例えば、開口部３９は、眼鏡フレームＦのリムの溝によって反射された反射光束をカバー３８の外部からカバー３８の内部の受光光学系３０ｂに向けて通過させる。すなわち、眼鏡フレームＦのリムの溝によって反射された反射光束は、開口部３９を通過して受光光学系３０ｂに受光される。例えば、回転ユニット２６０は、Ｚ方向に延びる回転軸ＬＯを中心に測定子軸６２を回転させることで、開口部３９が向くＸＹ方向を変更する。

例えば、回転ベース２６１の下部の外周には、大径ギア２６２が形成されている。例えば、回転ユニット２６０は、取り付け板２５２を有する。例えば、取り付け板２５２には、モータ２６５が取り付けられている。例えば、モータ２６５の回転軸にピニオンギア２６６が固定され、ピニオンギア２６６の回転は、取り付け板２５２に回転可能に設けられたギア２６３を介して、大径ギア２６２に伝達される。したがって、モータ２６５の回転により、回転ベース２６１が回転軸ＬＯの軸回りに回転される。例えば、モータ２６５の回転は、モータ２６５に一体的に取り付けられたエンコーダ（センサ）２６５ａにより検出され、エンコーダ２６５ａの出力から回転ベース２６１（すなわち、測定子軸６２、光学式測定ユニット３０）の回転角が検知される。回転ベース２６１の回転の原点位置は、図示を略す原点位置センサにより検知される。なお、以上のような回転ユニット２６０の各移動機構は、実施例に限られず、周知の機構が採用できる。

次いで、光学式測定ユニット３０の詳細について説明する。例えば、図７は、光学式測定ユニット３０の光学系について示す概略構成図である。なお、例えば、図７は、光学式測定ユニット３０を側方（図６におけるＣ方向）から見た図を示している。例えば、光学式測定ユニット３０は、眼鏡フレームＦを取得するために用いられる。例えば、本実施例において、光学式測定ユニット３０は、眼鏡フレームＦのリムの溝の断面形状を取得するために用いられる。また、例えば、本実施例において、光学式測定ユニット３０は、眼鏡フレームＦの形状を測定するために用いられる。例えば、光学式測定ユニット３０は、投光光学系３０ａと受光光学系３０ｂを備える。例えば、投光光学系３０ａと受光光学系３０ｂは、カバー３８の内部に配置される。

例えば、本実施例において、光学式測定ユニット３０は、シャインプルークの原理に基づいて眼鏡フレームＦのリムの溝の断面形状を取得する構成となっている。例えば、投光光学系３０ａは、眼鏡フレームのリムの溝にスリット光を照射する。例えば、受光光学系３０ｂは、スリット光が照射される光軸Ｌ１に対して傾斜した撮像光軸Ｌ２を持ち、シャインプルークの原理に基づいて配置されたレンズと検出器を備える。もちろん、光学式測定ユニット３０は、シャインプルークの原理に基づく光学系ではなく、異なる構成の光学系が用いられてもよい。光学式測定ユニット３０は、眼鏡フレームＦのリムの溝の断面形状が取得される光学系であればよい。

例えば、投光光学系３０ａは、光源３１と、レンズ３２と、スリット板３３と、レンズ３４と、を備える。例えば、光源３１より出射された測定光束は、レンズ３２によって集光してスリット板３３を照明する。例えば、スリット板３３を照明した測定光束は、スリット板３３により細いスリット状に制限された測定光束となり、レンズ３４を介して、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡに照射される。すなわち、例えば、スリット光が眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡに照射される。これにより、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡは、スリット光により光切断された形で照明される。

例えば、受光光学系３０ｂは、レンズ３６と、検出器（例えば、受光素子）３７と、を備える。例えば、受光光学系３０ｂは、Ｚ方向において、投光光学系３０ａの下方に配置されている。すなわち、例えば、受光光学系３０ｂは、投光光学系３０ａの光軸Ｌ１に対して受光光学系３０ｂの光軸（撮像光軸）Ｌ２がＺ方向において、傾斜角度α分だけ下方に傾斜して配置されている。例えば、受光光学系３０ｂは、リムの溝ＦＡでの反射により取得されるリムの溝ＦＡの反射光束を下方から検出する。例えば、受光光学系３０ｂは、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡに対して、斜め方向から断面形状を取得する構成となっている。例えば、受光光学系３０ｂは、シャインプルークの原理に基づいて眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡの断面形状を取得する構成となっている。

例えば、レンズ３６は、リムの溝ＦＡでの反射により取得されるリムの溝ＦＡの反射光束（例えば、リムの溝ＦＡの散乱光、リムの溝ＦＡの正反射光等）を検出器３７に導く。例えば、検出器３７は、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡと略共役な位置に配置された受光面を持っている。例えば、受光光学系３０ｂは、投光光学系３０ａの投光光軸Ｌ１に対して下方に傾斜した撮像光軸Ｌ２を持ち、シャインプルークの原理に基づいて配置されたレンズ３６と検出器３７を持っている。受光光学系３０ｂは、撮像光軸Ｌ２が投光光学系３０ａの光軸Ｌ１と所定の角度で交わるように配置されている。例えば、投光光学系３０ａによって眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡに照射される光断面と、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡを含むレンズ系（眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡ及びレンズ３６）と検出器３７の受光面（受光位置）とがシャインプルークの関係にて配置されている。

なお、本実施例においては、投光光学系３０ａと受光光学系３０ｂが測定子軸６２の片側に一体的に配置されている構成を例に挙げているがこれに限定されない。例えば、投光光学系３０ａと受光光学系３０ｂは任意の位置に配置することができる。一例として、例えば、測定子軸６２を挟んで測定子軸６２の双方に投光光学系３０ａと受光光学系３０ｂとが分けられて配置される構成としてもよい。このような構成すれば、測定子軸６２の双方のスペースを利用して、投光光学系３０ａと受光光学系３０ｂが配置できるため、無駄なスペ―スが生じづらくなる。

＜光学式測定ユニットと測定子ユニットの測定位置関係＞
次いで、光学式測定ユニット３０による測定位置と、測定子ユニット６０による測定位置と、の関係について説明する。図８は、光学式測定ユニット３０と測定子ユニット６０を上方（図６におけるＢ方向）から見た図を示す。

例えば、図８に示すように、本実施例において、光学式測定ユニット３０によって測定される第１測定位置Ｔと、測定子ユニット６０によって測定される第２測定位置Ｓと、が異なる測定位置を測定するように、光学式測定ユニット３０と測定子ユニット６０が配置されている。また、本実施例においては、第１測定位置Ｔと、第２測定位置Ｓと、が隣接した測定位置を測定するように、測定ユニットと光学式測定ユニットが配置されている。本実施例においては、第１測定位置Ｔと、第２測定位置Ｓと、は、ずれ量ΔＤ分だけ測定位置がずれている。

なお、例えば、本実施例において、第１測定位置Ｔと第２測定位置Ｓがより近い位置を測定可能とするために、光学式測定ユニット３０における投光光学系３０ａの光軸Ｌ１が、測定子６１から眼鏡フレームのリムの溝の測定位置に向かう測定軸Ｌ３に対して、動径平面上（ＸＹ平面上）において傾斜角度β分だけ傾斜して配置されている。

また、例えば、本実施例において、投光光学系３０ａのスリット光により光切断された切断面が検出できるように、光学式測定ユニット３０における受光光学系３０ｂの撮像光軸Ｌ２が、投光光学系３０ａの光軸Ｌ１に対して、動径平面上（ＸＹ平面上）において傾斜角度θ分だけ傾斜して配置されている。すなわち、本実施例において、受光光学系３０ｂの撮像光軸Ｌ２は、投光光学系３０ａの光軸Ｌ１に対して、Ｚ方向において傾斜角度α分だけ下方に傾斜し、且つ、ＸＹ平面上において傾斜角度θ分だけ傾斜して配置されている。

また、例えば、光学式測定ユニット３０の第１測定位置Ｔは、測定進行方向Ｅ（後述する図１０参照）において、測定子ユニット６０による第２測定位置Ｓよりも先行した測定位置となっている。すなわち、本実施例においては、光学式測定ユニット３０によって測定された後、測定子ユニット６０による測定が行われる。

＜制御手段＞
図９は、眼鏡枠形状測定装置１に関する制御ブロック図である。制御部５０には、不揮発性メモリ（記憶手段）５２、ディスプレイ３、スイッチ部４等が接続されている。

例えば、制御部５０は、ＣＰＵ（プロセッサ）、ＲＡＭ、ＲＯＭ等を備える。制御部５０のＣＰＵは、各部（例えば、光源３１、検出器３７、エンコーダ２６５ａ、エンコーダ２８６、エンコーダ２８８）及び各ユニットの駆動手段（例えば、フレーム保持ユニット１０の駆動源、各モータ２２５、２３５、２４５、２６５）等、装置全体の制御を司る。また、例えば、制御部５０は、各種演算（例えば、各センサからの出力信号等に基づいて眼鏡フレームの形状の演算等）を行う演算手段（解析手段）として機能する。ＲＡＭは、各種情報を一時的に記憶する。制御部５０のＲＯＭには、装置全体の動作を制御するための各種プログラム、初期値等が記憶されている。なお、制御部５０は、複数の制御部（つまり、複数のプロセッサ）によって構成されてもよい。不揮発性メモリ（記憶手段）５２は、電源の供給が遮断されても記憶内容を保持できる非一過性の記憶媒体である。例えば、ハードディスクドライブ、フラッシュＲＯＭ、眼鏡枠形状測定装置１に着脱可能に装着されるＵＳＢメモリ等を不揮発性メモリ（メモリ）５２として使用することができる。

例えば、制御部５０は、レンズの周縁を加工するレンズ加工装置３００と接続されている。例えば、眼鏡枠形状測定装置１によって取得された各種データがレンズ加工装置３００の制御部３１０に送信される。レンズ加工装置３００の制御部３１０は、受信した各種データに基づいてレンズ加工装置３００の各部及び各ユニットの駆動手段を制御して、レンズの加工を行う。もちろん、レンズ加工装置３００と眼鏡枠形状測定装置１は、一体的に構成された装置であってもよい。

例えば、本実施例において、ディスプレイ３は、タッチパネル式のディスプレイが用いられる。すなわち、本実施例において、ディスプレイ３がタッチパネルであるため、ディスプレイ３が操作部（操作ユニット）として機能する。この場合、制御部５０はディスプレイ３が持つタッチパネル機能により入力信号を受け、ディスプレイ３の図形及び情報の表示等を制御する。もちろん、眼鏡枠形状測定装置１に、別途、操作部が設けられる構成としてもよい。この場合、例えば、操作部には、例えば、マウス、ジョイスティック、キーボード、タッチパネル等の少なくともいずれかを用いればよい。もちろん、ディスプレイ６０と、操作部と、の双方が用いられ、眼鏡枠形状測定装置１が操作される構成としてもよい。なお、本実施例においては、ディスプレイ６０が操作部として機能するとともに、別途、スイッチ部（操作部）４が備えられた構成を例に挙げて説明する。

＜制御動作＞
以上のような構成を持つ装置の動作を説明する。例えば、操作者は、フレーム保持ユニット１０に眼鏡フレームＦを保持させる。例えば、操作者は、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲが下方向、眼鏡フレームＦの左右のテンプルＦＴＬ，ＦＴＲが上方向となるように、フレーム保持ユニット１０に眼鏡フレームＦを保持させる。

例えば、フレーム保持ユニット１０に眼鏡フレームＦが保持されると、操作者は、スイッチ部４を操作して、測定を開始させる。例えば、測定開始のトリガ信号が出力されると、制御部５０は、Ｘ移動ユニット２４０、Ｙ移動ユニット２３０、Ｚ移動ユニット２２０、及び回転ユニット２６０の少なくともいずれかを駆動することによって、保持ユニット２５を移動させて眼鏡フレームＦのリムの測定を開始する。例えば、本実施例において、リムの測定は、右リムＦＲから測定が開始される。もちろん。左リムＦＬから測定が開始される構成であってもよい。

例えば、制御部５０は、保持ユニット２５を移動させることによって、光学式測定ユニット３０（投光光学系３０ａ及び受光光学系３０ｂ）及び測定子ユニット６０を移動させ、眼鏡フレームのリム輪郭を測定していく。これによって、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状及びリムの形状（本実施例においてはリムの玉型形状及び周長）を取得する。なお、本実施例においては、投光光学系３０ａ及び受光光学系３０ｂは、シャインプルークの関係を維持した状態で、眼鏡フレームＦに対して移動される。すなわち、眼鏡フレームＦのリムの溝に対して、光学式測定ユニット３０が一定の位置関係となるように移動させることで、眼鏡フレームＦのリムの溝の断面形状が取得できる。

図１０は、光学式測定ユニット３０及び測定子ユニット６０が初期位置に移動される前の状態を示す図である。図１１は、光学式測定ユニット３０及び測定子ユニット６０が初期位置に移動された後、測定開始位置へ移動された状態を示す図である。なお、図１０、図１１においては、便宜上、受光光学系３０ｂについては省略している。

例えば、測定開始のトリガ信号が出力されると、制御部５０は、移動ユニット２１０（Ｘ移動ユニット２４０、Ｙ移動ユニット２３０、Ｚ移動ユニット２２０の少なくともいずれか）、及び回転ユニット２６０の駆動を制御し、退避位置に置かれていた保持ユニット２５を初期位置まで移動させる。本実施例においては、光学式測定ユニット３０の初期位置ＳＲ１と、測定子ユニット６０の初期位置ＳＲ２と、がそれぞれ設定されている。なお、本実施例において、測定子ユニット６０による測定位置Ｓは、光学式測定ユニット３０による測定位置Ｔから、ずれ量ΔＤ分だけずれた位置となるために（図８参照）、光学式測定ユニット３０の初期位置ＳＲ１と、測定子ユニット６０の初期位置ＳＲ２と、は、Ｘ方向にずれ量ΔＤ分だけ離れた位置にそれぞれ設定されている。なお、本実施例において、例えば、光学式測定ユニット３０における測定開始の初期位置ＳＲ１は、保持ユニット２５が右リムＦＲの下端側のクランプピン１３０ａ，１３０ｂと、クランプピン１３１ａ，１３１ｂと、の中央位置に設定されている。すなわち、上記の中央位置に光学式測定ユニット３０による第１測定位置Ｔが位置されるように制御が行われる。なお、このとき、測定子ユニット６０による測定開始の初期位置Ｓ２は、上記中央位置から測定の進行方向とは逆の方向にずれ量ΔＤ分だけずれた位置に設定される。もちろん、初期位置は、任意の位置に設定することができる。

例えば、本実施例において、測定子ユニット６０の測定子６１の第２測定位置Ｓを初期位置ＳＲ１に位置されることによって、光学式測定ユニット３０の第１測定位置Ｔも初期位置ＳＲ１に位置される。すなわち、測定子ユニット６０の測定子６１の第２測定位置Ｓが初期位置ＳＲ２に移動されることによって、光学式測定ユニット３０も移動されるため、光学式測定ユニット３０の第１測定位置Ｔが初期位置ＳＲ１に位置されることになる。もちろん、初期位置へ移動させる方向は上記方法に限定されない。

例えば、制御部５０は、移動ユニット２１０、及び回転ユニット２６０の少なくともいずれかの駆動を制御し、測定子６１の第２測定位置Ｓを初期位置ＳＲ１に位置させる。例えば、制御部５０は、初期位置ＳＲ２にて、測定子６１の先端がリムの上側を向くように、回転ユニット２６０を回転させる。図１１に示すように、例えば、制御部５０は、測定子６１の第２測定位置Ｓの初期位置ＳＲ１への移動が完了すると、測定子６１がリムの溝に接触するように、保持ユニット２５をリム側に移動させる。これによって、測定子６１の先端がリムの溝に挿入され、測定子６１は初期位置ＳＲ２から測定開始位置Ｓ１へ移動される。

例えば、制御部５０は、測定子６１の第２測定位置Ｓが初期位置ＳＲ２から測定開始位置Ｓ１へ移動され、光学式測定ユニット３０の第１測定位置Ｔが初期位置ＳＲ１から測定開始位置Ｔ１に移動されると、光源３１を点灯する。例えば、光源３１の点灯により、眼鏡フレームＦのリムの溝はスリット光により光切断される。スリット光で光切断された眼鏡フレームＦのリムの溝からの反射光束は受光光学系３０ｂに向かい、検出器３７により受光される。例えば、制御部５０は、検出器３７によって受光された反射光束に基づいて、眼鏡フレームのリムの溝の二次元断面形状を取得する。なお、本実施例においては、断面形状として、断面画像を取得する。もちろん、断面形状は、信号として取得される構成であってもよい。

例えば、制御部５０は、測定子６１の先端をリムの溝ＦＡに沿って移動させる。このとき、制御部５０は、モータ２６５を駆動することで、回転ベース２６１を回転角（動径角）毎に回転させるとともに、回転軸ＬＯの軸回りに測定子軸６２及び測定子６１を回転させる。測定子６１は、リムの溝の変化に追従して、Ｘ方向、Ｙ方向、及びＺ方向に移動する。本実施例では、トレース時における測定子６１のＸ方向及びＹ方向の位置が、エンコーダ２８６により検知され、トレース時における測定子６１のＺ方向の位置が、エンコーダ２８８により検知される。なお、本実施例においては、測定進行方向Ｅに測定子６１の先端をリムの溝ＦＡに沿って移動させる。

例えば、制御部５０は、回転ベース２６１の回転角（動径角）毎に、基準位置からリムの溝ＦＡまでの動径長を得る。例えば、本実施例では、回転ベース２６１の回転角が０．３６度毎に設定されている。また、例えば、本実施例では、基準位置が回転軸ＬＯの位置に設定されている。例えば、回転ベース２６１のある回転角（θｎ）における動径長（ｒｎ）は、測定子軸２８２の回旋角と、回旋中心から測定子６１の先端までの距離（これは既知である）と、に基づいて演算される。また、例えば、制御部５０は、リムの溝の位置として、モータ２２５のパルス数と、モータ２３５のパルス数と、モータ２４５のパルス数と、エンコーダ２６５ａの検出結果と、エンコーダ２８６の検出結果と、エンコーダ２８８の検出結果と、の少なくともいずれかから演算し、メモリ５２に記憶させる。例えば、制御部５０は、回転ベース２６１の回転角毎に、Ｘ方向、Ｙ方向、及びＺ方向におけるリムの溝の位置を得る。

例えば、回転ベース２６１を１回転させることで、リムの溝の三次元玉型形状データ（ｘｎ，ｙｎ，ｚｎ）（ｎ＝１、２、３、・・・、Ｎ）が取得される。なお、本実施例において、このような三次元玉型形状データは、三次元の直交座標で表されている。三次元玉型形状データは、Ｘ方向及びＹ方向の位置を回転角θｎ及び動径長ｒｎによって二次元の極座標で表すとともに、Ｚ方向の位置をＺ座標で表した（ｒｎ，ｚｎ，θｎ）（ｎ＝１，２，３、・・・、Ｎ）に適宜変換されてもよい。例えば、制御部５０は、上記のように取得したリムの溝の三次元玉型形状データを、測定子ユニット６０による測定結果として、メモリ５２に記憶させる。なお、例えば、制御部５０は、三次元玉型形状データのＺ座標を省略することで、二次元玉型形状データにしてもよい。例えば、制御部５０は、三次元玉型形状データにおける回転角θｎ毎のＸＹ座標を繋ぎ合わせて二次元とした二次元玉型形状データを取得し、メモリ５２に記憶させる。

また、一方で、測定子６１の移動に伴って、光学式測定ユニット３０によるリムの溝に対する測定光束の照射位置が変更される。本実施例においては、測定子６１によるリムの溝ＦＡの測定と、光学式測定ユニット３０によるリムの溝の測定が並行して行われる。例えば、測定子６１に移動に伴って、光学式測定ユニット３０によるリムの溝の断面画像の測定位置が変更される。例えば、測定子６１のリムの溝ＦＡに沿った移動によって、順に各動径角におけるリムの溝の断面画像が測定されていく。すなわち、リムの断面画像を取得する位置がリムの周方向に移動されていく。

例えば、制御部５０は、断面画像の各取得位置（各測定位置）において、リムの溝の断面画像を取得していき、取得した断面画像をそれぞれメモリ５２に記憶させていく。また、各断面画像の取得位置を、モータ２２５のパルス数と、モータ２３５のパルス数と、モータ２４５のパルス数と、エンコーダ２６５ａの検出結果と、エンコーダ２８６の検出結果と、エンコーダ２８８の検出結果と、の少なくともいずれかから演算し、メモリ５２に記憶させる。すなわち、モータ２２５のパルス数と、モータ２３５のパルス数と、モータ２４５のパルス数と、エンコーダ２６５ａの検出結果と、エンコーダ２８６の検出結果と、エンコーダ２８８の検出結果と、の少なくともいずれかを取得することで、リムの断面画像が取得された位置を特定することができる。このようにして、例えば、制御部５０は、リムの溝の断層画像を取得した位置（取得位置情報）を取得することができる。例えば、取得位置情報は、リムの溝の三次元断面画像、眼鏡フレームの形状、等を取得する際に用いることができる。

例えば、制御部５０は、リムの全周に亘って、上記制御を繰り返していくことによって、リムの全周におけるリムの溝の断面画像を取得することができる。例えば、リム全周におけるリムの溝の断面画像の取得が完了すると、制御部５０は、メモリ５２に記憶したリム全周の断面画像とその取得位置情報を呼び出し、演算処理を行って、三次元断面画像を取得する。例えば、制御部５０は、取得した三次元断面画像を、メモリ５２に記憶させる。なお、本実施例においては、リム全周における断面画像の取得が完了した後に三次元断面画像を取得する構成を例に挙げて説明したがこれに限定されない。リムの溝の断面画像の各取得位置にといて、断面画像を取得する毎に、演算処理を行っていく構成であってもよい。

なお、本実施例において、受光光学系３０ｂの撮像光軸Ｌ２は、投光光学系３０ａの光軸Ｌ１に対して、Ｚ方向において傾斜角度α分だけ下方に傾斜し、且つ、ＸＹ平面上において傾斜角度θ分だけ傾斜して配置されている。また、例えば、本実施例において、光学式測定ユニット３０における投光光学系３０ａの光軸Ｌ１が、測定子６１から眼鏡フレームのリムの溝の測定位置に向かう測定軸Ｌ３に対して、動径平面上（ＸＹ平面上）において傾斜角度β分だけ傾斜して配置されている。上記のような構成に場合、例えば、制御部５０は、傾斜角度αと、傾斜角度θと、傾斜角度θと、の少なくともいずれかの傾斜角度に基づいて、リムの溝の断面形状を補正するようにしてもよい。一例として、制御部５０は、傾斜角度αと、傾斜角度θと、傾斜角度θと、の少なくともいずれかの傾斜角度を利用した三角関数によって、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を補正してもよい。このように、傾斜角度に基づき、リムの溝の断面形状を補正することによって、傾斜角度の影響によって生じた断面形状の歪みを補正した断面形状を取得することが可能となり、リムの溝の断面形状を精度よく取得することができる。

なお、例えば、制御部５０は、検出器３７にリムの溝の反射光束が良好に受光されておらず、良好に断面画像が取得できていない場合に、検出器３７にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。例えば、制御部５０は、断面画像が検出されるように、光学式測定ユニット３０の位置を移動させるようにしてもよい。

なお、例えば、測定子６１の先端をリムの溝ＦＡに沿って移動させる際に、光学式測定ユニット３０によって取得された測定結果（例えば、断面画像）に基づいて、測定子６１の位置を調整しながら移動させるようにしてもよい。すなわち、光学式測定ユニット３０によるリムの溝の測定の方が、測定子６１の測定よりも先に測定が行われるため、先に取得された測定結果に基づいて、測定子６１がリムの溝から脱落しないように、予測制御を行うことができる。この場合、例えば、制御部５０は、光学式測定ユニット３０によって取得された断面画像を画像処理し、リムの溝の底を検出し、検出したリムの溝の底の位置に基づいて、測定子６１がリム溝の底の位置に挿入されるように、測定子６１の位置を移動させるようにしてもよい。

例えば、制御部５０は、右リムＦＲ（又は、左リムＦＬ）の測定が終了すると、Ｘ移動ユニット２４０の駆動を制御し、他方のリムの測定用の所定位置に保持ユニット２５を移動させる。上記の測定制御と同様にして、他方のリムの測定を行う。右リムＦＲ及び左リムＦＬの測定結果は、メモリ５２に記憶される。

例えば、制御部５０は、測定子ユニット６０によるリムの溝の三次元玉型形状データの取得と、光学式測定ユニットによる三次元断面画像の取得が完了すると、三次元玉型形状データ、三次元断面画像と、を対応付けることで、統合リム形状データを取得するようにしてもよい。例えば、制御部５０は、対応付け処理を行う際、第１測定位置Ｔと第２測定位置Ｓとのずれ量ΔＤに基づいて、測定位置のずれを考慮して対応付け処理行うようにしてもよい。これによって、三次元玉型形状データ、三次元断面画像と、を容易に対応付けすることができる。例えば、制御部８０は、統合リム形状データを取得すると、メモリ５２に記憶させる。

以上のようにして、眼鏡枠形状測定装置１によって取得されたリムの溝の統合リム形状データ等は、制御部５０によって、レンズ加工装置３００に送信される。例えば、レンズ加工装置３００の制御部３１０は、眼鏡枠形状測定装置１によって取得されたリムの溝の統合リム形状データ等を受信する。

例えば、レンズ加工装置３００としては、レンズをレンズチャック軸に保持して回転するレンズ回転手段と、加工具回転軸に取り付けられた加工具を回転する加工具回転手段と、を備える。例えば、レンズ加工装置３００において、レンズ加工装置の制御部３１０は、眼鏡枠形状測定装置１によって取得された取得情報（例えば、眼鏡フレームのリムの溝の統合リム形状データ等）に基づいて、レンズ回転手段と加工具回転手段を制御して、レンズの周縁加工を行う。なお、レンズ加工装置の制御部３１０としては、眼鏡枠形状測定装置１の制御部が兼用される構成であってもよいし、別途、レンズ加工装置の各種制御を行うための制御部３１０が設けられる構成であってもよい。

なお、本実施例において、統合リム形状データは、ディスプレイ３上に表示されるようにしてもよい。もちろん、レンズ加工装置３００の図示無きディスプレイに表示されるようにしてもよい。この場合、例えば、統合リム形状データに含まれる三次元玉型形状データと三次元断面画像とが重畳表示されるようしてもよい。

以上のように、例えば、本実施例における眼鏡枠形状測定装置は、光学式測定ユニットと測定子ユニットとを保持する保持ユニットと、眼鏡フレームに対して保持ユニットを移動させることで光学式測定ユニットと測定子ユニットとを眼鏡フレームに対して一体的に移動させて、眼鏡フレームのリムの溝に対する測定位置を変更する変更手段と、眼鏡枠形状測定装置の動作を制御する制御手段と、を備える。また、制御手段は、変更手段の動作を制御して眼鏡フレームのリムの溝の測定を行い、第１検出器によって検出された検出結果に基づいて眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得し、第２検出器によって検出された検出結果に基づいて眼鏡フレームのリムの形状を取得する。このような構成によって、例えば、測定子ユニットを保持する保持ユニットと、光学式測定ユニットを保持する保持ユニットと、をそれぞれ設け、眼鏡フレームに対してそれぞれ移動可能とする構成と比べて、１つの保持ユニットの移動によって、眼鏡フレームに対して、光学式測定ユニットと測定子ユニットとを一体的に移動させることができるため、余分な構成や複雑な制御が必要なくなる。これによって、容易な構成で、光学式測定ユニットと測定子ユニットの測定を実施することができる。また、測定子ユニットによって測定される測定結果と、光学式測定ユニットによって測定される測定結果と、の双方の測定結果を取得することができるため、各測定結果を組み合わせて、より良好なリムの形状情報を取得することができる。

また、例えば、本実施例において、眼鏡枠形状測定装置は、保持ユニットに対して測定子を移動可能とする移動手段を備える。この場合、例えば、測定子ユニットに前記光学式測定ユニットが連結され、測定子が保持ユニットに対して移動されることで、測定子とともに光学式測定ユニットが保持ユニットに対して、一体的に移動される。このように、例えば、測定子ユニットに対して光学式測定ユニットを連結することで、測定子ユニット及び光学式測定ユニットが保持ユニットに対してそれぞれ移動可能とする構成と比べて、余分な構成や複雑な制御が必要なくなり、眼鏡枠形状測定装置をより容易な構成の装置とすることができる。また、測定子に対して光学式測定ユニットを連結することで、測定子ユニットと、光学式測定ユニットと、保持ユニットに対してそれぞれ移動可能とする構成と比べて、省スペース化することができるため、眼鏡フレームの測定時における測定子ユニットと、光学式測定ユニットと、が干渉してしまい、測定が困難となることを抑制することができる。

また、例えば、光学式測定ユニットの場合には、リムの溝に対して非接触で測定を行うため、リムの溝に対する光学式測定ユニットの位置合わせが困難となる場合がある。上記の構成によって、例えば、光学式測定ユニットが、リムの溝に沿った状態で移動をする測定子の移動と一体的に移動することができるため、リムの溝に対する光学式測定ユニットの位置合わせが容易となり、良好に測定を行うことができる。

また、本実施例において、例えば、光学式測定ユニットによるリムの溝の測定位置である第１測定位置と、測定子ユニットによるリムの溝の測定位置である第２測定位置と、が異なる測定位置を測定可能とするように、測定ユニットと光学式測定ユニットが配置される。このような構成によって、光学式測定ユニットと、測定子ユニットとが、同一のタイミングにて異なる測定位置を測定する。例えば、測定子ユニット及び光学式測定ユニットが同時に同一の測定位置を測定する構成の場合には、光学式測定ユニットによる測定光束が測定子によって遮蔽されてしまうことがあり、光学式測定ユニットによる測定が困難となる場合がある。本開示の構成によれば、測定子ユニット及び光学式測定ユニットが異なる測定位置を測定することができるため、測定子による測定光束の遮蔽を抑制し、良好に測定を行うことができる。

また、本実施例において、光学式測定ユニットによるリムの溝の測定位置である第１測定位置と、測定子ユニットによるリムの溝の測定位置である第２測定位置と、が隣接した測定位置を測定するように、測定ユニットと光学式測定ユニットが配置されている。このような構成によって、例えば、光学式測定ユニットと測定子ユニットは、より近い（隣接した）測定位置を測定することが可能となる。例えば、光学式測定ユニットと測定子ユニットと間での測定位置が大きくずれる場合には、測定が困難となる場合がある。一例として、例えば、光学式測定ユニットと測定子ユニットとの一方が眼鏡フレームのカーブ部分（例えば、鼻側部分、耳側部分等）に差し掛かった際に、他方は眼鏡フレームの上部又は下部に位置している場合があり、測定を進行することができなくなり、測定が困難となる場合がある。本開示の構成によれば、光学式測定ユニットによる測定位置と、測定子ユニットによる測定位置と、がより近い（隣接した）測定位置を測定することが可能となるため、測定が困難となることを抑制し、良好に測定を行うことが可能となる。

また、例えば、光学式測定ユニットと測定子ユニットと間での測定位置が大きくずれる場合には、光学式測定ユニットと測定子ユニットのそれぞれで取得された測定結果を対応付けることが困難となる場合がある。一例として、眼鏡フレームのタイプによって、部分的にリムの溝が傾斜している構成を有するものがあり、このような眼鏡フレームを測定する場合に、一方はリムの溝が傾斜した位置を測定し、他方はリムの溝が傾斜していない位置を測定することがあり、眼鏡フレームにおけるどこのリムの溝を測定しているのか把握することが困難となる場合がある。このため、光学式測定ユニットと測定子ユニットの双方で測定結果が取得された場合に、双方の測定結果の関係性を把握することが困難となり、対応付けが困難なる場合がある。本開示の構成によれば、光学式測定ユニットによる測定位置と、測定子ユニットによる測定位置と、がより近い（隣接した）測定位置を測定することが可能となるため、略同一の測定位置での測定結果を取得することができ、双方の測定結果の関係性が把握しやすくなる。このため、光学式測定ユニットと測定子ユニットとで取得されたそれぞれの測定結果を良好に対応付けすることができる。

また、例えば、本実施例において、光学式測定ユニットの第１測定位置は、測定進行方向において、測定子ユニットによる第２測定位置よりも先行した測定位置である。このような構成によって、例えば、予め、測定子によって測定される測定位置の情報が光学式測定ユニットによる測定結果から取得されるため、光学式測定ユニットによる測定を完了した測定位置に対して、測定子ユニットによる測定を行う場合に、光学式測定ユニットによる測定結果に基づいて、眼鏡フレームに対する測定子の位置を調整しやすくなる。これによって、測定子が眼鏡フレームの溝から外れてしまうこと、測定子がリムの溝に正確に挿入されていない状態で測定をしてしまうこと、等を抑制することができる。

なお、例えば、光学式測定ユニットによる測定ではリムの溝の断面形状を取得することができるため、リムの溝の状態（例えば、溝の傾斜、溝の深さ等）が把握しやすい。このため、測定子ユニットによる測定結果に基づいて、光学式測定ユニットの位置を調整する構成に比べて、眼鏡フレームに対する位置調整をより良好に行いやすい。

また、例えば、本実施例において、光学式測定ユニットにおける投光光学系の光軸が、測定子から眼鏡フレームのリムの溝の測定位置に向かう測定軸に対して、動径平面上において傾斜して配置される。このような構成によって、例えば、測定子ユニットによる測定位置と、光学式測定ユニットによる測定位置と、を隣接した位置又は同一の位置に容易に設定しやすくなる。また、例えば、測定子ユニットの測定軸と、光学式測定ユニットにおける投光光学系の光軸と、が並行するように配置される構成に比べ、測定子ユニットによる測定位置と、光学式測定ユニットによる測定位置と、を隣接した位置に設定しやすくなる。

また、例えば、本実施例において、制御手段は、光学式測定ユニットによる測定位置に関する第１位置情報と、測定子による測定位置に関する第２位置情報と、に基づいて、眼鏡フレームのリムの溝に対して測定位置が同一の測定位置を測定することで取得された、リムの溝の断面形状と、リムの形状と、を対応付ける。このような構成によって、例えば、測定子ユニットによって測定される測定結果と、光学式測定ユニットによって測定される測定結果と、容易に対応付けることが可能となり、より良好なリムの形状情報を取得することができる。

また、例えば、本実施例において、レンズ加工装置は、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状に基づいてレンズの周縁を加工する加工制御手段を備える。これによって、眼鏡フレームに加工後のレンズを良好に枠入れする際に、リムの溝の形状と加工後のレンズの輪郭形状が近い形状となるため、枠入れを良好に行うことができる。

＜変容例＞
なお、例えば、制御部５０は、取得した断面画像を解析処理することによって、リムの溝に関する種々のパラメータを取得するようにしてもよい。図１２は、断面画像４０の輝度分布の取得について説明する図である。図１３は、リムの溝の断面画像から取得されるパラメータについて説明する図である。例えば、制御部５０は、画像処理によって、断面画像４０の輝度分布を取得することで、リムの溝４１のパラメータを取得することができる。例えば、制御部５０は、取得された断面画像４０に対して、走査線Ｓ１、走査線Ｓ２、走査線Ｓ３、・・・走査線Ｓｎの順に輝度値の検出を行い、輝度分布を得る。例えば、輝度分布を取得することで、リムの溝の形状を検出することができる。例えば、制御部５０は、リムの溝４１のパラメータとして、リムの溝４１の底までの距離Ｋ１、リムの溝４１の左右の斜面角度θ１，θ２、リムの溝４１の左右の斜面長さＫ２，Ｋ３、左右のリム肩の長さＫ４，Ｋ５、等を得ることができる。

なお、例えば、制御部５０は、取得した断面画像から眼鏡フレームのリムの形状データ（本実施例においては、玉型形状データ）を取得することができる。例えば、制御部５０は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝４１の断面画像４０から眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝４１の底をそれぞれ検出し、検出した検出結果に基づいて、眼鏡フレームのリムの形状を取得する。

例えば、上記のように、制御部５０は、画像処理によって、断面画像の輝度分布を取得することで、リムの溝４１の底の位置を検出する。図１２に示されるように、例えば、制御部５０は、取得された断面画像４０に対して、走査線Ｓ１、走査線Ｓ２、走査線Ｓ３、・・・走査線Ｓｎの順に輝度値の検出を行い、輝度分布を得る。例えば、制御部５０は、得られた輝度分布において、もっとも下側の位置で輝度値の検出がされた位置をリムの溝４１の底として検出してもよい。

例えば、制御部５０は、各動径角毎に取得された断面画像をそれぞれ処理して、画像上におけるリムの溝の底の位置をそれぞれ検出する。例えば、制御部５０は、断面画像から検出された画像上におけるリムの溝の底の位置と、その断面画像を取得した取得位置情報と、からリムの溝の底の位置情報を取得する。例えば、制御部５０は、各動径角毎においてそれぞれ取得された断面画像から画像上におけるリムの溝の底の位置を検出し、検出された画像上におけるリムの溝の底の位置と、その断面画像を取得した取得位置情報と、から各動径角毎のリムの溝の底の位置情報をそれぞれ取得する。これによって、例えば、制御部５０は、眼鏡フレームＦの三次元玉型形状データ（ｒｎ，ｚｎ，θｎ）（ｎ＝１，２，３、・・・，Ｎ）を取得する。例えば、眼鏡フレームＦｎの三次元玉型形状データは、リムの全周に亘って取得されてもよいし、リムの全周の内、一部の領域において、取得されてもよい。以上のようにして、眼鏡フレームＦの形状を取得することができる。

なお、例えば、取得した眼鏡フレームの三次元玉型形状データに基づいて各種パラメータを取得してもよい。例えば、眼鏡フレームの三次元玉型形状データから二次元玉型形状データを取得するようにしてもよい。例えば、二次元玉型形状データは、三次元玉型形状データを眼鏡フレームＦの正面方向のＸＹ平面に投影した形状することによって取得することができる。なお、二次元玉型形状データは、三次元玉型形状データから取得する構成を例に挙げたがこれに限定されない。各動径角におけるリムの断面画像に基づいて、リムの溝の底の位置情報を取得する際に、ＸＹ平面上におけるリムの溝の底の位置情報のみを検出するようにすることで、取得するようにしてもよい。

なお、本実施例においては、各動径角毎にリムの溝の底の位置情報を取得することによって、眼鏡フレームの三次元玉型形状データを取得する構成を例に挙げて説明したがこれに限定されない。例えば、眼鏡フレームの三次元玉型形状データを取得する際に、各動径角において、リムの溝の底の位置情報を取得していない位置については、周辺の動径角におけるリムの溝の底の位置情報に基づいて、補間することで、リムの溝の底の位置情報を取得するようにしてもよい。また、例えば、眼鏡フレームの三次元玉型形状データを取得する際に、各動径角において、リムの溝の底の位置情報を取得していない位置については、周辺の動径角におけるリムの溝の底の位置情報の近似の結果から補間するようにしてもよい。

１ 眼鏡枠形状測定装置
３ ディスプレイ
４ スイッチ部
１０ フレーム保持ユニット
２０ 測定ユニット
２５ 保持ユニット
３０ 光学式測定ユニット
３０ａ 投光光学系
３０ｂ 受光光学系
３１ 光源
３７ 検出器
５０ 制御部
５２ メモリ
６０ 測定子ユニット
６１ 測定子
６２ 測定子軸
２１０ 移動ユニット
２２０ Ｚ移動ユニット
２３０ Ｙ移動ユニット
２４０ Ｘ移動ユニット
２６０ 回転ユニット
３００ レンズ加工装置
３１０ 制御部

Claims (8)

1. 眼鏡フレームの形状を測定する眼鏡枠形状測定装置であって、
   眼鏡フレームのリムの溝に向けて光源から測定光束を照射する投光光学系と、前記投光光学系によって前記眼鏡フレームの前記リムの溝に向けて照射され、前記眼鏡フレームの前記リムの溝によって反射された前記測定光束の反射光束を第１検出器によって受光する受光光学系と、有する光学式測定ユニットと、
   前記眼鏡フレームの前記リムの溝に押し当てられる測定子と、前記測定子の位置を検出する第２検出器と、を有する測定子ユニットと、
   前記光学式測定ユニットと、前記測定子ユニットと、を保持する保持ユニットと、
   前記眼鏡フレームに対して前記保持ユニットを移動させることで、前記光学式測定ユニットと、前記測定子ユニットと、を前記眼鏡フレームに対して一体的に移動させて、前記眼鏡フレームの前記リムの溝に対する測定位置を変更する変更手段と、
   眼鏡枠形状測定装置の動作を制御する制御手段と、
   を備え、
   前記制御手段は、
   前記変更手段の動作を制御して、前記眼鏡フレームの前記リムの溝の測定を行い、
   前記第１検出器によって検出された検出結果に基づいて、前記眼鏡フレームの前記リムの溝の断面形状を取得し、
   前記第２検出器によって検出された検出結果に基づいて、前記眼鏡フレームの前記リムの形状を取得することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
2. 請求項１の眼鏡枠形状測定装置において、
   前記保持ユニットに対して前記測定子を移動可能とする移動手段を備え、
   前記測定子ユニットに前記光学式測定ユニットが連結され、前記測定子が前記保持ユニットに対して移動されることで、前記測定子とともに前記光学式測定ユニットが前記保持ユニットに対して、一体的に移動されることを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
3. 請求項１又は２の眼鏡枠形状測定装置において、
   前記光学式測定ユニットによる前記リムの溝の測定位置である第１測定位置と、前記測定子ユニットによる前記リムの溝の測定位置である第２測定位置と、が異なる測定位置を測定可能とするように、前記測定ユニットと前記光学式測定ユニットが配置されることを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
4. 請求項３の眼鏡枠形状測定装置において、
   前記光学式測定ユニットによる前記リムの溝の測定位置である前記第１測定位置と、前記測定子ユニットによる前記リムの溝の測定位置である前記第２測定位置と、が隣接した測定位置を測定するように、前記測定ユニットと前記光学式測定ユニットが配置されることを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
5. 請求項３又は４の眼鏡枠形状測定装置において、
   前記光学式測定ユニットの前記第１測定位置は、測定進行方向において、前記測定子ユニットによる前記第２測定位置よりも先行した測定位置であることを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
6. 請求項１～５のいずれかの眼鏡枠形状測定装置において、
   前記光学式測定ユニットにおける前記投光光学系の光軸が、前記測定子から前記眼鏡フレームの前記リムの溝の測定位置に向かう測定軸に対して、動径平面上において傾斜して配置されることを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
7. 請求項１～６のいずれかの眼鏡枠形状測定装置において、
   前記制御手段は、前記光学式測定ユニットによる測定位置に関する第１位置情報と、前記測定子による測定位置に関する第２位置情報と、に基づいて、前記眼鏡フレームの前記リムの溝に対して測定位置が同一の測定位置を測定することで取得された、前記リムの溝の前記断面形状と、前記リムの形状と、を対応付けることを特徴する眼鏡枠形状測定装置。
8. レンズの周縁を加工するレンズ加工装置であって、
   請求項１～７のいずれかの眼鏡枠形状測定装置によって取得された前記眼鏡フレームの前記リムの溝の前記断面形状と、前記リムの形状と、に基づいて、レンズの周縁を加工する加工制御手段を備えることを特徴とするレンズ加工装置。

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