JP7484136B2 - 眼鏡枠形状測定装置及び眼鏡枠形状測定プログラム - Google Patents

Description

本開示は、眼鏡フレームの形状を得るための眼鏡枠形状測定装置に関する。

眼鏡フレームのリムの溝に測定光束を照射し、眼鏡フレームのリムの溝に反射された測定光束の反射光束を受光し、この反射光束に基づいて、眼鏡フレームのリムの溝の断面情報を取得する眼鏡枠形状測定装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。

国際公開２０１９／０２６４１６号

例えば、眼鏡枠形状測定装置において得られたリムの溝の断面情報は、眼鏡レンズを加工する際に必要となる加工データの作成に用いられ、眼鏡レンズ加工装置は、その加工データに基づいて眼鏡レンズの周縁を加工する。ところで、眼鏡枠形状測定装置の制御や構成を複雑化することなくリムの溝の断面情報を得る場合、リムの溝を光切断する方向が限られてしまうため、リムの溝における所望の切断面の断面情報を適切に得ることが困難であった。

本開示は、上記従来技術に鑑み、眼鏡フレームのリムの溝における適切な断面情報を取得することができる眼鏡枠形状測定装置及び眼鏡枠形状測定プログラムを提供することを技術課題とする。

上記課題を解決するために、本発明は以下の構成を備えることを特徴とする。

本開示の第１態様に係る眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームの形状を測定する眼鏡枠形状測定装置であって、前記眼鏡フレームのリムの溝に向けて光源から測定光束を照射し、前記リムの溝に第１切断面を形成する投光光学系と、前記リムの溝の前記第１切断面にて反射された前記測定光束の反射光束を、第１検出器にて受光する受光光学系と、前記第１検出器の検出結果に基づいて、前記リムの溝の前記第１切断面における第１断面情報を取得する取得手段と、前記リムの溝の前記第１切断面が、前記リムの溝における所望の方向の第２切断面であって、前記第１切断面とは異なる方向の第２切断面となるように、前記第１断面情報を第２断面情報に補正する補正手段と、前記リムの溝の前記第２切断面に対するパラメータを、前記第２断面情報に基づいて取得するパラメータ取得手段と、を備え、前記第１切断面と前記第２切断面は、前記リムの溝上における同一の測定位置に対する切断面であることを特徴とする。

本開示の第２態様に係る眼鏡枠形状測定プログラムは、眼鏡フレームの形状を測定する眼鏡枠形状測定装置にて用いる眼鏡枠形状測定プログラムであって、前記眼鏡枠形状測定装置のプロセッサに実行されることで、前記眼鏡フレームのリムの溝に向けて光源から測定光束を照射し、前記リムの溝に第１切断面を形成する投光ステップと、前記リムの溝の前記第１切断面にて反射された前記測定光束の反射光束を、第１検出器にて受光する受光ステップと、前記第１検出器の検出結果に基づいて、前記リムの溝の前記第１切断面における第１断面情報を取得する取得ステップと、前記リムの溝の前記第１切断面が、前記リムの溝における所望の方向の第２切断面であって、前記第１切断面とは異なる第２切断面となるように、前記第１断面情報を第２断面情報に補正する補正ステップと、前記リムの溝の前記第２切断面に対するパラメータを、前記第２断面情報に基づいて取得するパラメータ取得ステップと、を前記眼鏡枠形状測定装置に実行させ、前記第１切断面と前記第２切断面は、前記リムの溝上における同一の測定位置に対する切断面であることを特徴とする。

測定装置の外観図である。 眼鏡フレームを保持したフレーム保持ユニットの上面図である。 保持ユニット及び眼鏡フレーム測定光学系の概略図である。 測定ユニットの上面斜視図である。 測定ユニットの下面斜視図である。 Ｚ方向移動ユニット及びＹ方向移動ユニットの上面斜視図である。 回転ユニットの概略図である。 測定装置の制御系を示す図である。 リムの溝に対する測定光束の照射位置を説明する図である。 リムの溝における法線方向からの撮像画像の一例である。 リムの溝の第１断面形状から得られる種々のパラメータを示す図である。 リムの溝に対する法線方向の第１切断面と、動径方向の第２切断面と、を示す図である。 リムの溝の法線方向の第１断面形状と、動径方向の第２断面形状と、を示す図である。

＜概要＞
本開示の実施形態に関わる眼鏡枠形状測定装置の概要を説明する。本実施形態では、眼鏡枠形状測定装置の上下方向をＺ方向、左右方向をＸ方向、前後方向をＹ方向とする。言い換えると、眼鏡枠形状測定装置に保持される眼鏡フレームにおいて、装用時のリムの前後方向をＺ方向、装用時のリムの左右方向（左端及び右端の方向）をＸ方向、装用時のリムの上下方向（上端及び下端の方向）をＹ方向とする。なお、以下の＜＞にて分類された項目は、独立または関連して利用されうる。

＜投光光学系＞
本実施形態における眼鏡枠形状測定装置は、投光光学系（例えば、投光光学系３０ａ）を備える。投光光学系は、光源（例えば、光源３１）を有し、眼鏡フレームのリムの溝に向けて、光源から測定光束を照射する。これによって、眼鏡フレームのリムの溝に、眼鏡フレームのリムの溝が測定光束により光切断される第１切断面が形成される。

投光光学系は、少なくとも１つの光源を有してもよい。例えば、１つの光源を有してもよい。また、例えば、複数の光源を有してもよい。

投光光学系は、光学部材を有してもよい。例えば、光学部材としては、レンズ、ミラー、絞り、等の少なくともいずれかを用いてもよい。もちろん、例えば、光学部材としては、これらの光学部材とは異なる光学部材を用いてもよい。例えば、光学部材として絞りを用いることで、測定光束の焦点深度を深くすることができる。このように、投光光学系が光学部材を有する場合、光源から出射された測定光束は、各々の光学部材を介して、眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射されてもよい。

なお、投光光学系は、光源から出射された測定光束が、眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射される構成であればよい。例えば、投光光学系は、少なくとも光源を有する構成であってもよい。また、投光光学系は、光源から出射された測定光束が、光学部材とは異なる部材を経由して、眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射される構成であってもよい。

例えば、投光光学系によって、眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射される測定光束は、幅を有する測定光束（例えば、スリット状の測定光束）であってもよい。この場合、投光光学系は、光源からの測定光束を眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射し、リムの溝上に光切断面を形成させてもよい。

例えば、投光光学系が、幅を有する測定光束を照射する場合、光源として、スリット状の光束を出射する光源を用いてもよい。例えば、この場合、光源は点光源であてもよい。例えば、点光源を複数並べて配置することで、リムの厚み方向が長手となるような幅を有する測定光束を照射してもよい。また、例えば、点光源から照射されたスポット状の光束を走査することで、幅を有する測定光束を照射してもよい。また、例えば、点光源から照射されたスポット状の測定光束を光学部材で拡散させることで、幅を有する測定光束を照射してもよい。もちろん、上記の光源とは異なる種々の種類の光源を用いて、幅を有する測定光束を照射してもよい。

本実施形態において、投光光学系による測定光束が、眼鏡フレームのリムの溝を光切断する第１切断面は、リムの溝を任意の方向から光切断した第１切断面であってもよい。例えば、第１切断面は、リムの溝を動径方向とは異なる方向から光切断した切断面であってもよい。この場合、第１切断面は、リムの溝を法線方向から光切断した切断面であってもよい。もちろん、この場合、第１切断面は、リムの溝を法線方向とは異なる方向（但し、リムの溝の動径方向を除く）から光切断した切断面であってもよい。

＜受光光学系＞
本実施形態における眼鏡枠形状測定装置は、受光光学系（例えば、受光光学系３０ｂ）を備える。受光光学系は、検出器（例えば、検出器３７）を有し、眼鏡フレームのリムの溝における第１切断面にて反射された測定光束の反射光束を検出器によって受光する。

受光光学系は、光学部材を有してもよい。例えば、光学部材としては、レンズ、ミラー、絞り、等の少なくともいずれかを用いてもよい。もちろん、例えば、光学部材としては、これらの光学部材とは異なる光学部材を用いてもよい。このように、受光光学系が光学部材を有する場合、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光束の反射光束は、各々の光学部材を介して、検出器に受光されるようにしてもよい。

なお、受光光学系は、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光束の反射光束が、検出器に受光される構成であればよい。例えば、受光光学系は、少なくとも１つの検出器を有する構成であってもよい。また、受光光学系は、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光束の反射光束が、光学部材とは異なる部材を経由して、検出器に受光される構成であってもよい。

なお、投光光学系が、光源からの測定光束を眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射し、リムの溝上に光切断面を形成させる場合、受光光学系は、リムの溝の光切断面での反射光束（例えば、散乱光、正反射光、等）を、検出器で受光してもよい。

＜投光光学系と受光光学系の位置関係＞
本実施形態において、投光光学系と受光光学系は、眼鏡フレームのリムの溝の第１切断面において、後述の第１断面情報を取得できる位置関係にて配置されていればよい。例えば、投光光学系と受光光学系とは、シャインプルークの原理に基づく光学系の構成で配置されてもよい。もちろん、例えば、投光光学系と受光光学系は、シャインプルークの原理に基づく光学系の構成ではなく、異なる光学系の構成で配置されてもよい。一例としては、ＯＣＴ光学系の構成で配置されてもよい。

＜取得手段＞
本実施形態における眼鏡枠形状測定装置は、取得手段（例えば、制御部５０）を備える。取得手段は、受光光学系における検出器の検出結果に基づいて、眼鏡フレームのリムの溝の第１切断面における第１断面情報を取得する。例えば、眼鏡フレームのリムの溝の第１切断面における第１断面情報とは、眼鏡フレームのリムの溝に対する任意の方向の切断面における、リムの溝の断面形状、リムの溝の斜面角度、リムの肩の斜面長さ、リムの溝の底位置、リムの溝の底までの距離、等の少なくともいずれかを含む情報であってもよい。

取得手段は、眼鏡フレームのリムの溝における第１切断面にて反射された測定光束の反射光束を処理することによって、眼鏡フレームのリムの溝の第１断面情報を取得する。例えば、取得手段は、検出器が検出した反射光束の受光位置から、第１断面情報を取得してもよい。なお、第１断面情報は、信号（信号データ）に基づいて取得されてもよい。また、第１断面情報は、信号（信号データ）を変換することで得られる画像（画像データ）に基づいて取得されてもよい。

例えば、本実施形態においては、眼鏡フレームのリムの溝を法線方向から光切断した第１切断面が投光光学系により形成され、リムの溝の法線方向の第１切断面にて反射された測定光束の反射光束が、受光光学系の検出器にて受光される構成であってもよい。この場合、取得手段は、眼鏡フレームのリムの溝における法線方向の第１切断面における第１断面情報を取得する。

＜補正手段＞
本実施形態における眼鏡枠形状測定装置は、補正手段（例えば、制御部５０）を備える。補正手段は、眼鏡フレームのリムの溝の第１切断面が、リムの溝における所望の方向の第２切断面となるように、第１断面情報を第２断面情報に補正する。例えば、リムの溝における所望の方向の第２切断面とは、リムの溝における第１切断面とは異なる切断面であればよい。一例として、第２切断面は、リムの溝における動径方向の切断面であってもよい。もちろん、第２切断面は、リムの溝における動径方向とは異なる方向の切断面であってもよい。

また、例えば、上記の第２切断面における第２断面情報とは、眼鏡フレームのリムの溝に対する所望の方向の切断面における、リムの溝の断面形状、リムの溝の斜面角度、リムの肩の斜面長さ、リムの溝の底位置、リムの溝の底までの距離、等の少なくともいずれかを含む情報であってもよい。

例えば、眼鏡フレームのリムの溝の第１切断面における第１断面情報が、信号（信号データ）として取得されていた場合、補正手段は、第１断面情報の信号（信号データ）を、第２断面情報の信号（信号データ）に補正してもよい。この場合、補正手段は、第２断面情報の信号（信号データ）から、さらに、第２断面情報の画像（画像データ）を得てもよい。また、例えば、眼鏡フレームのリムの溝の第１切断面における第１断面情報が、画像（画像データ）として取得されていた場合、補正手段は、第１断面情報の画像（画像データ）を、第２断面情報の画像（画像データ）に補正してもよい。なお、例えば、眼鏡フレームのリムの溝の第１切断面における第１断面情報として、信号や画像を解析した各々のパラメータ情報が取得されていた場合、補正手段は、第１断面情報における各々のパラメータ情報を、第２断面情報における各々のパラメータ情報に補正してもよい。

例えば、補正手段は、眼鏡フレームにおけるリムの溝の第１切断面に対する第２切断面のずれ角度に基づいて、第１断面情報を第２断面情報に補正してもよい。例えば、補正手段は、第１切断面と第２切断面とのなす角度を、第１切断面に対する第２切断面のずれ角度として、第１断面情報を第２断面情報に補正してもよい。これによって、第１切断面を、所望の方向に対する第２切断面に、精度よく置換できる。

例えば、補正手段は、リムの溝の第１切断面を回転させ、第１切断面と第２切断面とのずれ角度をなくすように、補正を行ってもよい。これによって、リムの溝の第１切断面が、ずれ角度のない仮想面である第２切断面に置換され、第１断面情報が２断面情報に補正される。すなわち、リムの溝の第１切断面が、ずれ角度をなくすことで第２切断面に一致（略一致）した状態となり、第１断面情報が２断面情報に補正される。

例えば、本実施形態において、眼鏡フレームのリムの溝の第１切断面と、眼鏡フレームのリムの溝の第１切断面とは異なる第２切断面と、はリムの溝上の異なる測定位置に対する切断面であってもよい。この場合、補正手段は、リムの溝上の所定の測定位置における第１断面情報を、リムの溝上の所定の測定位置とは異なる測定位置における第２断面情報に補正する。一例として、補正手段は、リムの溝上の所定の測定位置に対する法線方向の第１切断面が、リムの溝上の所定の測定位置とは異なる測定位置に対する動径方向の第２切断面となるように、第１断面情報を第２断面情報に補正する。

これによって、例えば、リムの一部で測定エラーが生じ、リムの溝の所定の測定位置における第１断面情報が取得できないことにより、第１断面情報を補正した第２断面情報を取得できない場合であっても、リムの溝の所定の測定位置の周辺にて取得された第１断面情報を、リムの溝の所定の測定位置に対する動径方向の断面情報に補正することで、リムの溝の測定位置における第２断面情報を取得することができる。

また、例えば、本実施形態において、眼鏡フレームのリムの溝の第１切断面と、眼鏡フレームのリムの溝の第１切断面とは異なる第２切断面と、はリムの溝上における同一の測定位置に対する切断面であってもよい。この場合、補正手段は、リムの溝上の所定の測定位置における第１断面情報を、リムの溝上の所定の測定位置における第２断面情報に補正する。一例として、補正手段は、リムの溝上の所定の測定位置に対する法線方向の第１切断面が、リムの溝上の所定の測定位置に対する動径方向の第２切断面となるように、第１断面情報を第２断面情報に補正する。これによって、例えば、リムの溝上における各々の測定位置について、リムの溝における所望の方向の第２断面情報を、適切に取得することができる。

例えば、補正手段が、リムの溝上の所定の測定位置における第１切断面を、リムの溝上の所定の測定位置とは異なる測定位置における第２切断面となるように補正する場合、第１切断面と第２切断面とのずれ角度は、第１切断面と第２切断面とが交差する交差位置を基準としたずれ角度として表されてもよい。この場合、補正手段は、第１切断面と第２切断面とが交差する交差位置の位置情報と、リムの動径平面上に位置する基準位置（例えば、リムのボクシング中心位置、等）の位置情報と、に基づいて、ずれ角度を算出してもよい。また、例えば、補正手段は、リムの溝の第１切断面を、交差位置を中心に回転させることで、第１切断面と第２切断面とのずれ角度をなくすように、補正を行ってもよい。これによって、第１断面情報が第２断面情報に補正される。

また、例えば、補正手段が、リムの溝上の所定の測定位置における第１切断面を、リムの溝上の所定の測定位置における第２切断面となるように補正する場合、第１切断面と第２切断面とのずれ角度は、リムの溝の頂点を基準としたずれ角度として表されてもよい。この場合、補正手段は、リムの溝上の所定の測定位置におけるリムの溝の頂点の位置情報と、リムの動径平面上に位置する基準位置の位置情報と、に基づいて、ずれ角度を算出してもよい。また、例えば、補正手段は、リムの溝の第１切断面を、リムの溝の頂点を中心に回転させることで、第１切断面と第２切断面とのずれ角度をなくすように、補正を行ってもよい。これによって、第１断面情報が第２断面情報に補正される。

なお、本実施形態における眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームのリムの溝に測定子を接触させる測定子ユニットと、前述の投光光学系及び受光光学系を有する光学式測定ユニットと、を備えてもよい。例えば、眼鏡フレームに対し、測定子ユニットと光学式測定ユニットとが、一体的に移動されてもよい。例えば、このような構成である場合には、リムの溝の切断面を置換し、第１断面情報から第２断面情報へ補正することが、特に有効となる。

例えば、測定子ユニットにおいては、眼鏡フレームのリムの溝に測定子を接触させることによって眼鏡フレームが変形してしまう可能性があり、眼鏡フレームのリムの溝の位置を正しく取得できない。例えば、眼鏡フレームに、このような測定データを用いて加工した眼鏡レンズを枠入れすると、眼鏡フレームに眼鏡レンズが上手く嵌まらず、眼鏡の仕上がりに影響を与える。このため、眼鏡フレームのリムの溝と測定子が接触する際、リムの溝に対して測定子が付加する測定圧は、なるべく弱くすることが好ましいと考えられている。

例えば、測定子ユニットの測定子は、一定の測定圧でリムの溝に接触される。ところが、測定子ユニットの測定子を、眼鏡フレームのリムの溝の動径方向に接触させる構成とした場合、リムの動径長が短い位置から長い位置へ差し掛かると、測定子の測定圧は部分的に強くなる。このため、眼鏡フレームが変形しやすい。しかし、例えば、測定子ユニットの測定子を、眼鏡フレームのリムの溝の法線方向に接触させる構成とした場合、リムの動径長が短い位置から長い位置へ差し掛かっても、測定子の測定圧は変化することなく付加される。このため、眼鏡フレームが変形しにくい。

一例として、眼鏡枠形状測定装置が、測定子ユニットが測定子を眼鏡フレームのリムの溝の法線方向に接触させる構成であり、光学式測定ユニットが測定子ユニットとともに移動することで、光学式測定ユニットがリムの溝の法線方向に切断面を形成する構成であっても、本実施形態における少なくとも一部の技術を適用することで、リムの溝における法線方向の第１切断面を、リムの溝における動径方向の第２切断面に補正し、リムの溝にける動径方向の第２断面情報を、容易に取得することができる。これによって、眼鏡レンズを加工する際に必要となる加工データが、所望の切断面の断面情報に基づいて良好に作成され、眼鏡レンズが精度よく加工されるようになる。

なお、本開示は、本実施形態に記載する装置に限定されない。例えば、上記実施形態の機能を行う端末制御ソフトウェア（プログラム）を、ネットワークまたは各種記憶媒体等を介してシステムあるいは装置に供給し、システムあるいは装置の制御装置（例えば、ＣＰＵ等）がプログラムを読み出して実行することも可能である。

＜実施例＞
本実施形態における眼鏡枠形状測定装置（以下、測定装置）の一実施例について説明する。

図１は、測定装置１の外観図である。本実施例では、測定装置１の左右方向をＸ方向、前後方向をＹ方向、上下方向（鉛直方向）をＺ方向として表す。言い換えると、後述するフレーム保持ユニット１０に保持された眼鏡フレームＦの左右方向、上下方向、及び前後方向（リムの厚み方向）が、それぞれ、測定装置１のＸ方向、Ｙ方向、及びＺ方向に対応する。

例えば、測定装置１は、モニタ３、スイッチ部４、フレーム保持ユニット１０、測定ユニット２０、等を備える。モニタ３は、各種の情報（例えば、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡにおける断面形状４１、眼鏡フレームＦのリムの形状、等）を表示する。モニタ３は、タッチパネルであり、モニタ３がスイッチ部４の機能を兼ねてもよい。スイッチ部４は、各種の設定（例えば、測定の開始、等）を行うために用いる。モニタ３及びスイッチ部４から入力された操作指示に応じた信号は、後述の制御部５０に出力される。

＜フレーム保持ユニット＞
図２は、眼鏡フレームＦを保持したフレーム保持ユニット１０の上面図である。フレーム保持ユニット１０は、眼鏡フレームＦを所期する状態に保持する。例えば、フレーム保持ユニット１００は、保持部ベース１０１、前スライダー１０２、後スライダー１０２、開閉移動機構１１０、等を備える。

例えば、保持部ベース１０１上には、眼鏡フレームＦを水平（略水平）に保持するための前スライダー１０２と、後スライダー１０３と、が載置されている。例えば、前スライダー１０２と後スライダー１０３は、その中心線ＣＬを中心に２つのレール１１１上を対向して摺動可能に配置されているとともに、バネ１１３により常に両者の中心線ＣＬに向かう方向に引っ張られている。

例えば、前スライダー１０２には、眼鏡フレームＦのリムをその厚み方向からクランプするためのクランプピン１３０ａ，１３０ｂがそれぞれ２箇所に配置されている。例えば、後スライダー１０３には、眼鏡フレームＦのリムをその厚み方向からクランプするためのクランプピン１３１ａ，１３１ｂがそれぞれ２箇所に配置されている。また、例えば、型板を測定するときは、前スライダー１０２及び後スライダー１０３が開放され、周知の型板保持治具が所定の取付け位置１４０に配置されて使用される。このフレーム保持ユニット１０の構成は、例えば、特開２０００－３１４６１７号公報等に記載された周知のものが使用できる。

例えば、眼鏡フレームＦは、眼鏡装用時のリムの下側が前スライダー１０２側に位置され、リムの上側が後スライダー１０３側に位置される。例えば、左右のリムのそれぞれの下側及び上側に位置するクランプピンにより、眼鏡フレームＦは所定の測定状態に保持される。

なお、本実施例においては、リムの前後方向の位置を規制する構成として、上記クランプピン１３０ａ，１３０ｂ及びクランプピン１３１ａ，１３１ｂの構成を例に挙げて説明したがこれに限定されない。周知の機構が使用されても良い。例えば、左右リムの前後方向を固定する機構としては、Ｖ字状の溝を持つ当接部材（規制部材）を左右リム用にそれぞれ設ける構成でも良い。

＜測定ユニット＞
測定ユニット２０は、フレーム保持ユニット１０の下部に配置される。例えば、測定ユニット２０は、ベース部２１１、保持ユニット２５、移動ユニット２１０、回転ユニット２６０、等を備える。

ベース部２１１は、Ｘ方向及びＹ方向に伸展した方形状の枠であり、フレーム保持ユニット１０の下部に設けられる。保持ユニット２５は、後述のフレーム測定光学系３０を保持する。移動ユニット２１０は、保持ユニット２５をＸ方向、Ｙ方向、及びＺ方向に移動させることで、保持ユニット２５をフレームＦに対して相対的に移動させる。回転ユニット２６０は、保持ユニット２５を、回転軸Ｌ０を中心に回転させる。

＜保持ユニット＞
保持ユニット２５について説明する。保持ユニット２５には、開口部２６が設けられる。例えば、開口部２６には、開口部２６を覆うような透明パネルが設けられてもよい。保持ユニット２５は、その内部に、眼鏡フレーム測定光学系３０を保持する。

図３は、保持ユニット２５及び眼鏡フレーム測定光学系３０の概略図である。図３（ａ）は、保持ユニット２５を上面方向から示す図である。図３（ｂ）は、保持ユニット２５を側面方向から示す図である。

例えば、眼鏡フレーム測定光学系３０は、投光光学系３０ａと、受光光学系３０ｂと、で構成される。例えば、投光光学系３０ａは、眼鏡フレームＦのリムの溝に向けて、光源から測定光束を照射する。投光光学系３０ａからの測定光束は、保持ユニット２５の内部から外部へと、開口部２６を介して出射し、リムの溝に向けて照射される。例えば、受光光学系３０ｂは、眼鏡フレームＦのリムの溝にて反射された測定光束の反射光束を、検出器によって受光する。眼鏡フレームＦのリムの溝に反射された測定光束の反射光束は、保持ユニット２５の外部から内部へと、開口部２６を介して入射し、受光光学系３０ｂに向けて導光される。

＜投光光学系＞
例えば、投光光学系３０ａは、光源３１と、レンズ３２と、スリット板３３と、レンズ３４と、を備える。例えば、光源３１から出射された測定光束は、レンズ３２によって集光し、スリット板３３を照明する。例えば、スリット板３３を照明した測定光束は、スリット板３３によって、細いスリット状に制限された測定光束となり、レンズ３４を介して、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡに照射される。すなわち、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡにスリット光が照射される。これにより、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡは、スリット光により光切断された形で照明される。

＜受光光学系＞
例えば、受光光学系３０ｂは、レンズ３６と、検出器３７（例えば、受光素子）と、を備える。例えば、レンズ３６は、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡでの反射により取得される、リムの溝ＦＡの反射光束（例えば、リムの溝ＦＡの散乱光、リムの溝ＦＡの正反射光、等）を検出器３７に導く。例えば、検出器３７は、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡと略共役な位置に配置された受光面を持っている。

＜投光光学系と受光光学系の配置＞
本実施例において、投光光学系３０ａと受光光学系３０ｂとはシャインプルーフの原理に基づいて配置される。例えば、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡを投光光学系３０ａによるスリット光が光切断する切断面と、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡを含むレンズ系（眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡ及びレンズ３６）と、検出器３７の受光面と、がシャインプルーフの関係で配置される。

また、本実施例において、投光光学系３０ａの投光光軸Ｌ１は、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡにおける動径平面（ＸＹ平面）に対して、水平に配置される。つまり、投光光学系３０ａの投光光軸Ｌ１は、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡにおける動径平面に対して、Ｚ方向に０度の傾斜角度で配置される。

例えば、投光光学系３０ａの投光光軸Ｌ１は、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡに対する法線方向から、光源３１によるスリット光が照射されるように配置される。すなわち、例えば、投光光学系３０ａの投光光軸Ｌ１は、眼鏡フレームＦのリムの動径平面において、リムの溝ＦＡに対する接線に垂直な方向から、光源３１によるスリット光が照射されるように配置される。これにより、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡに、スリット光による切断面が直交する。言い換えると、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡにおける深さ方向と、スリット光による切断面と、が平行になる。

また、本実施例において、受光光学系３０ｂの撮像光軸Ｌ２は、投光光学系３０ａの投光光軸Ｌ１に対し、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡにおける動径平面上にて、傾斜角度βで傾斜するように配置される。さらに、本実施例において、受光光学系３０ｂの撮像光軸Ｌ２は、投光光学系３０ａの投光光軸Ｌ１に対し、眼鏡フレームＦのＺ方向に、傾斜角度γで傾斜するように配置される。すなわち、受光光学系３０ｂの撮像光軸Ｌ２は、投光光学系３０ａの投光光軸Ｌ１に対し、ＸＹ方向に傾斜角度βで傾斜し、かつ、Ｚ方向に傾斜角度γで傾斜するように配置される。

＜移動ユニット＞
移動ユニット２１０について説明する。図４～図６は、測定ユニット２０を説明する図である。図４は、測定ユニット２０の上面斜視図である。図５は、測定ユニット２０の下面斜視図である。図６は、後述するＺ方向移動ユニット２２０及びＹ方向移動ユニット２３０の上面斜視図（ベース部２１１とＸ方向移動ユニット２４０を取り外した状態の斜視図）である。

例えば、移動ユニット２１０は、ベース部２１１、Ｚ方向移動ユニット２２０、Ｙ方向移動ユニット２３０、Ｘ方向移動ユニット２４０、等を備える。例えば、ベース部２１１は、Ｘ方向及びＹ方向に伸展した方形状の枠であり、フレーム保持ユニット１０の下部に配置される。例えば、Ｚ方向移動ユニット２２０は、保持ユニット２５をＺ方向へ移動させる。例えば、Ｙ方向移動ユニット２３０は、保持ユニット２５及びＺ方向移動ユニット２２０を保持し、これらをＹ方向へ移動させる。例えば、Ｘ方向移動ユニット２４０は、保持ユニット２５、Ｚ方向移動ユニット２２０、及びＹ方向移動ユニット２３０を保持し、これらをＸ方向へ移動させる。

例えば、Ｘ方向移動ユニット２４０は、概略的に次のように構成されている。例えば、Ｘ方向移動ユニット２４０は、ベース部２１１の下方に、Ｘ方向へ延びるガイドレール２４１を備える。例えば、ガイドレール２４１には、Ｙ方向移動ユニット２３０のＹベース２３０ａが、Ｘ方向へ移動可能に取り付けられている。例えば、ベース部２１１には、モータ２４５が取り付けられている。例えば、モータ２４５の回転軸には、Ｘ方向に延びる送りネジ２４２が取り付けられている。例えば、Ｙベース２３０ａに固定されたナット部２４６は、送りネジ２４２に螺合されている。これにより、モータ２４５が回転されると、Ｙベース２３０ａがＸ方向に移動される。

例えば、Ｙ方向移動ユニット２３０は、概略的に次のように構成されている。例えば、Ｙベース２３０ａには、Ｙ方向に延びる図示なきガイドレールが取り付けられている。例えば、ガイドレールには、Ｚベース２２０ａがＹ方向へ移動可能に取り付けられている。例えば、Ｙベース２３０ａには、Ｙ方向移動用のモータ２３５と、Ｙ方向に延びる回転可能な送りネジ２３２と、が取り付けられている。例えば、モータ２３５の回転は、ギヤ等の回転伝達機構を介して、送りネジ２３２に伝達される。例えば、送りネジ２３２には、Ｚベース２２０ａに取り付けられたナット２２７が螺合されている。これにより、モータ２３５が回転されると、Ｚベース２２０ａがＹ方向に移動される。

例えば、Ｘ方向移動ユニット２４０及びＹ方向移動ユニット２３０によって、ＸＹ方向移動ユニットが構成される。例えば、保持ユニット２５のＸＹ方向の移動位置は、後述する制御部５０が、モータ２４５及びモータ２３５が駆動されるパルス数を検知することで、検出される。なお、例えば、保持ユニット２５のＸＹ方向の移動位置は、モータ２４５及び２３５に取り付けたエンコーダ等のセンサを使用して検出してもよい。

例えば、Ｚ方向移動ユニット２２０は、概略的に次のように構成されている。例えば、Ｚベース２２０ａには、Ｚ方向に延びるガイドレール２２１が形成され、ガイドレール２２１に沿って、保持ユニット２５が取り付けられた移動ベース２５０ａが、Ｚ方向へ移動可能に保持される。例えば、Ｚベース２２０ａには、Ｚ方向移動用のパルスモータ２２５が取り付けられるとともに、Ｚ方向に延びる図示なき送りネジが回転可能に取り付けられている。例えば、保持ユニット２５のベース２５０ａに取り付けられたナットに螺合されている。例えば、モータ２２５の回転は、ギヤ等の回転伝達機構を介して送りネジ２２２に伝達され、送りネジ２２２の回転により、保持ユニット２５がＺ方向に移動される。

例えば、保持ユニット２５のＺ方向の移動位置は、後述する制御部５０が、モータ２２５が駆動されるパルス数を検知することで、検出される。なお、例えば、保持ユニット２５のＺ方向の移動位置は、モータ２２５に取り付けたエンコーダ等のセンサを使用して検出してもよい。

なお、上記のような、Ｘ方向、Ｙ方向、及びＺ方向の各移動機構は、本実施例に限定されず、周知の機構を採用することができる。例えば、保持ユニット２５を直線移動させる代わりに、回転ベースの中心に対して円弧起動で移動させる構成としてもよい（例えば、特開２００６－３５０２６４号公報等参照）。

＜回転ユニット＞
回転ユニット２６０について説明する。図７は、回転ユニット２６０の概略図である。例えば、回転ユニット２６０は、Ｚ方向に延びる回転軸ＬＯを中心に、保持ユニット２５を回転させることで、開口部２６が向くＸＹ方向を変更する。例えば、回転ユニット２６０は、回転ベース２６１を備える。例えば、保持ユニット２５は、回転ベース２６１に取り付けられている。例えば、回転ベース２６１は、Ｚ方向に延びる回転軸ＬＯを中心にして回転可能に保持されている。例えば、回転ベース２６１の下部の外周には、大径ギヤ２６２が形成されている。例えば、回転ユニット２６０は、取り付け板２５２を有する。例えば、取り付け板２５２には、モータ２６５が取り付けられている。例えば、モータ２６５の回転軸には、ピニオンギヤ２６６が固定され、ピニオンギヤ２６６の回転は、取り付け板２５２に回転可能に設けられたギヤ２６３を介して、大径ギヤ２６２に伝達される。したがって、モータ２６５の回転により、回転ベース２６１が回転軸ＬＯの軸回りに回転される。例えば、モータ２６５の回転は、モータ２６５へ一体的に取り付けられたエンコーダ２６５ａにより検出され、エンコーダ２６５ａの出力から、回転ベース２６１の回転角が検知される。回転ベース２６１の回転の原点位置は、図示を略す原点位置センサにより検知される。なお、上記のような回転ユニット２６０の各移動機構は、本実施例に限定されず、周知の機構を採用することができる。

本実施例において、回転ユニット２６０の回転軸ＬＯは、投光光学系３０ａの光源３１を通る軸として設定されている。すなわち、回転ユニット２６０は、投光光学系３０ａの光源３１を中心に回転する。もちろん、回転ユニット２６０の回転軸ＬＯは、異なる位置を回転軸としてもよい。例えば、回転ユニット２６０の回転軸ＬＯは、受光光学系３０ｂの検出器３７を通る軸として設定してもよい。

＜制御部＞
図８は、測定装置１の制御系を示す図である。例えば、制御部５０には、モニタ３、スイッチ部４、光源３１、検出器３７、エンコーダ２６５ａ、各モータ、不揮発性メモリ５２（以下、メモリ５２）、等が電気的に接続されている。

例えば、制御部５０は、ＣＰＵ（プロセッサ）、ＲＡＭ、ＲＯＭ、等を備える。例えば、ＣＰＵは、測定装置１における各部材の制御を司る。また、例えば、ＣＰＵは、各センサからの出力信号に基づくリムの溝ＦＡの断面形状の演算等、各種の演算処理を行う演算部として機能する。例えば、ＲＡＭは、各種の情報を一時的に記憶する。例えば、ＲＯＭには、測定装置１の動作を制御するための各種プログラム、初期値、等が記憶されている。なお、制御部５０は、複数の制御部（つまり、複数のプロセッサ）によって構成されてもよい。

例えば、メモリ７５は、電源の供給が遮断されても記憶内容を保持できる非一過性の記憶媒体である。例えば、メモリ７５としては、ハードディスクドライブ、フラッシュＲＯＭ、ＵＳＢメモリ、等を使用することができる。

＜制御動作＞
測定装置１の制御動作を説明する。

操作者は、前スライダー１０２と後スライダー１０２との間隔を広げ、眼鏡フレームＦのリムの上側と下側をクランプピンでクランプすることで、フレーム保持ユニット１０にフレームを保持させる。

続いて、操作者は、スイッチ部４を操作して、リムの溝ＦＡの測定を開始する。本実施例では、先に、左リムＦＬにおける溝ＦＡの測定が行われ、後に、右リムＦＲにおける溝ＦＡの測定が行われる。もちろん、先に、右リムＦＲの測定を行い、後に、左リムＦＬの測定が行われてもよい。

＜リムの測定と撮像画像の取得＞
図９は、リムの溝ＦＡに対する測定光束の照射位置を説明する図である。図９（ａ）と図９（ｂ）は、リムの溝ＦＡに対する測定光束の異なる照射位置を示している。制御部５０は、測定開始の信号に基づいて、Ｘ方向移動ユニット２４０、Ｙ方向移動ユニット２３０、Ｚ方向移動ユニット２２０、及び回転ユニット２６０、の少なくともいずれかの駆動を制御し、保持ユニット２５を退避位置から初期位置へと移動させる。これにより、投光光学系３０ａによる測定光束の照射位置が、リムの溝ＦＡの測定位置Ｔ１に設定される。例えば、リムの溝ＦＡの測定位置Ｔ１は、リムの幾何学中心位置Ｂを基準とした所定の動径角度αの位置（本実施例では、０度の位置）に設定されている。もちろん、リムの溝ＦＡの測定位置Ｔ１は、任意の動径角度αの位置に設定可能であってもよい。

続いて、制御部５０は、投光光学系３０ａの光源３１を点灯させ、リムの溝ＦＡの測定位置Ｔ１（リムの動径角度αにおける溝ＦＡの位置）に向け、リムの溝ＦＡの法線方向から測定光束を照射させる。光源３１からのスリット光により、リムの溝ＦＡは、リムの溝ＦＡの測定位置Ｔ１を通過する法線方向に光切断される。すなわち、光源３１からのスリット光により、リムの溝ＦＡの測定位置Ｔ１を通過する法線方向の第１切断面４５（図１２（ｂ）参照）が形成される。また、リムの溝ＦＡで反射された反射光束が受光光学系３０ｂに導光され、検出器３７にて受光される。制御部５０は、検出器３７の受光結果に基づいて、リムの溝ＦＡの測定位置Ｔ１における法線方向からの撮像画像（言い換えると、第１切断面４５の撮像画像）を取得することができる。例えば、制御部５０は、保持ユニット２５を測定進行方向Ｇに移動させ、リムの溝ＦＡの測定位置Ｔ１、測定位置Ｔ２、測定位置Ｔ３、…、測定位置Ｔｎを法線方向から光切断した撮像画像を取得する。

＜第１断面形状の取得＞
図１０は、リムの溝ＦＡにおける法線方向からの撮像画像４０の一例である。例えば、制御部５０は、撮像画像４０を解析し、リムの溝ＦＡにおける法線方向の第１断面形状４１を検出する。例えば、制御部５０は、撮像画像４０に対して走査線Ｓ１、走査線Ｓ２、走査線Ｓ３、・・・、走査線Ｓｎの順に輝度値の検出を行い、輝度分布を得る。例えば、検出器３７により反射光束が検出されるため、撮像画像４０上に第１断面形状４１が存在する場合は、輝度値が上昇する。例えば、制御部５０は、このように撮像画像４０の輝度値の変化を検出することで、撮像画像４０から第１断面形状４１を抽出することができる。

例えば、制御部５０は、モータ２２５のパルス数、モータ２３５のパルス数、モータ２４５のパルス数、及びエンコーダ２６５ａの検出結果の少なくともいずれかを用いて、撮像画像４０の取得位置を演算し、リムの溝ＦＡの第１断面形状４１を対応付けて、メモリ５２に記憶させる。これによって、リムの溝ＦＡの法線方向における３次元断面形状が取得される。

＜第１断面形状から第２断面形状への補正＞
図１１は、リムの溝ＦＡの第１断面形状４１から得られる種々のパラメータを示す図である。本実施例においては、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡにおける各々の測定位置にて、リムの溝ＦＡの法線方向からの撮像画像４０が取得され、リムの溝ＦＡの法線方向の第１断面形状４１が検出される。このため、リムの溝ＦＡの底までの距離Ｋ１、リムの溝ＦＡの左右の斜面角度θ１及びθ２、リムの溝ＦＡの左右の斜面長さＫ２及びＫ３、左右のリム肩の長さＫ４及びＫ５、等のパラメータが、リムの溝ＦＡの法線方向に対するパラメータとして取得される。

しかし、例えば、眼鏡レンズの周縁を加工する眼鏡レンズ周縁加工装置（例えば、特開２０１３－１７８４３２号公報）では、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡの動径方向に対する各々のパラメータを基に、眼鏡レンズを動径角度α毎に回転させながら砥石等に押し当てることで、眼鏡レンズの周縁が加工される。このため、制御部１７０は、リムの溝ＦＡの法線方向における第１切断面４５が、リムの溝ＦＡの動径方向における第２切断面６５（図１２（ｂ）参照）となるように、リムの溝ＦＡの法線方向からの撮像画像４０を、リムの溝ＦＡにおける動径方向の補正画像６０（図１３参照）に補正する。これによって、リムの溝ＦＡにおける法線方向の第１断面形状４１が、リムの溝ＦＡにおける動径方向の第２断面形状６１に補正され、リムの溝ＦＡの法線方向に対するパラメータが、リムの溝ＦＡの動径方向に対するパラメータに変換される。

図１２は、リムの溝ＦＡに対する法線方向の第１切断面４５と、動径方向の第２切断面６５と、を示す図である。図１２（ａ）は、リムの溝ＦＡに対する第１切断面４５と第２切断面６５を、リムの厚み方向（Ｚ方向）からみた状態である。図１２（ｂ）は、リムの溝ＦＡに対する第１切断面４５と第２切断面６５を、リムの内側からみた状態である。まず、制御部１７０は、リムの溝における第１切断面４５と第２切断面６５とのなす角度（ずれ角度ε）を算出する。

制御部１７０は、リムの溝ＦＡの測定位置Ｔｎにおける位置座標と、リムの幾何学中心位置Ｂの位置座標と、に基づいて、測定位置Ｔｎの動径角度αを算出する。例えば、測定位置Ｔｎの位置座標は、幾何学中心位置Ｂの位置座標を基準（つまり、原点）として表される。例えば、制御部１７０は、リムの幾何学中心位置Ｂに対する水平線Ｈと、測定位置Ｔｎと幾何学中心位置Ｂを結ぶ直線と、の２つの線分のなす角度を求めることで、測定位置Ｔｎの動径角度αを算出する。

また、制御部１７０は、リムの溝ＦＡの測定位置Ｔｎの前の測定位置である測定位置Ｔｎ－１の位置座標と、リムの溝ＦＡの測定位置Ｔｎの位置座標と、により、測定位置Ｔｎの法線（すなわち、投光光軸Ｌ１）を求める。例えば、測定位置Ｔｎ－１と測定位置Ｔｎとは近接するため、測定位置Ｔｎ－１の位置座標と、測定位置Ｔｎの位置座標と、を結ぶ直線に対する垂線を、測定位置Ｔｎの法線とみなすことができる。さらに、制御部１７０は、測定位置Ｔｎの法線と、リムの幾何学中心位置Ｂに対する水平線Ｈと、の２つの線分のなす角度を求めることで、測定位置Ｔｎの法線角度δを算出する。

制御部１７０は、測定位置Ｔｎの動径角度αと、測定位置Ｔｎの法線角度δと、に基づいて、測定位置Ｔｎの法線方向の第１切断面４５に対する動径方向の第２切断面のずれ角度εを算出する。例えば、制御部１７０は、法線角度δから動径角度αを減算することによって、ずれ角度εを求めることができる。

図１３は、リムの溝ＦＡの法線方向の第１切断面４５における第１断面形状４１と、リムの溝ＦＡの動径方向の第２切断面６５における第２断面形状６１と、を示す図である。図１３（ａ）は、第１断面形状４１におけるリムの溝ＦＡの底までの距離Ｋ１ａを示す。図１３（ｂ）は、第２断面形状６１におけるリムの溝ＦＡの底までの距離Ｋ１ｂを示す。制御部１７０は、リムの溝における第１切断面４５と第２切断面６５とのなす角度（ずれ角度ε）に基づいて、測定位置Ｔｎを中心として、第１切断面４５を第２切断面６５に一致（略一致）するように回転させる。これによって、リムの溝における法線方向の第１断面形状４１を補正し、動径方向の第２断面形状６１を取得する。

例えば、制御部１７０は、リムの溝ＦＡの測定位置Ｔｎについて、第１断面形状４１の各画素位置（座標位置）に、リムの溝ＦＡの深さ方向（言い換えると、ヤゲンの高さ方向）の伸縮率Ｅを乗算することで、第１断面形状４１を法線方向から動径方向に変換した第２断面形状６１を取得する。また、例えば、制御部１７０は、このような第２断面形状６１から、リムの溝ＦＡの動径方向に対する溝ＦＡまでの距離（距離Ｋ１ｂ）、斜面角度、斜面長さ、リム肩の長さ、等のパラメータを取得する。なお、伸縮率Ｅは、リムの溝ＦＡにおける測定位置Ｔｎのずれ角度εを用いた以下の数式により算出することができる。

例えば、制御部１７０は、リムの溝ＦＡの測定位置Ｔ１、測定位置Ｔ２、測定位置Ｔ３、…、測定位置Ｔｎにて取得された撮像画像４０（第１断面形状４１）に対して前述の補正を行うことで、リムの全周にわたり、動径角度α毎に、撮像画像４０を補正した補正画像６０（第２断面形状６１）を取得する。また、例えば、制御部１７０は、撮像画像４０に基づく補正画像６０の取得位置に、リムの溝ＦＡの第２断面形状６１を対応付けて、メモリ１７５に記憶させる。なお、本実施例では、撮像画像４０の取得位置と、補正画像６０の取得位置と、が同一の位置となる。これによって、リムの溝ＦＡの動径方向における３次元断面形状が取得される。

＜眼鏡フレーム形状とリムの溝深さの取得＞
例えば、制御部１７０は、眼鏡フレームＦのリムの形状を、リムの溝ＦＡの動径方向における３次元断面形状から取得することができる。例えば、制御部１７０は、リムの溝ＦＡの複数の動径角度αについて、補正画像６０における第２断面形状６１から底４３を検出し、検出結果に基づいて、眼鏡フレームのリムの形状を取得する。例えば、制御部１７０は、リムの溝ＦＡの補正画像６０を取得した取得位置と、動径角度α毎の底４３の位置と、に基づいて、リムの溝ＦＡの底４３の位置情報を取得する。例えば、これによって、制御部１７０は、眼鏡フレームＦのリムの３次元形状（ｒｎ，ｚｎ，θｎ）（ｎ＝１，２，３、・・・，Ｎ）を取得してもよい。

また、例えば、制御部１７０は、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡの深さを、リムの溝ＦＡの動径方向における３次元断面形状から取得することができる。例えば、制御部１７０は、リムの溝ＦＡの複数の動径角度αについて、補正画像６０における第２断面形状６１から距離Ｋ１ｂを検出し、検出結果に基づいて、眼鏡フレームのリムの溝ＦＡの深さを取得する。例えば、制御部１７０は、リムの溝ＦＡの補正画像６０を取得した取得位置と、動径角度α毎の距離Ｋ１ｂと、に基づいて、リムの溝ＦＡの深さ（言い換えると、ヤゲンの高さ）を取得する。

なお、測定装置１を用いて取得されたリムの溝ＦＡの第２断面形状６１に基づく、眼鏡フレームＦのリムの形状、リムの溝ＦＡの深さ、等は、眼鏡レンズを加工するための眼鏡レンズ加工装置に送信されてもよい。眼鏡レンズ加工装置の制御部は、これらの情報を受信し、これらの情報に基づいて、眼鏡レンズの周縁を加工してもよい。

以上、説明したように、例えば、本実施例における眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームのリムの溝の第１切断面における第１断面情報を取得し、リムの溝の第１切断面が、リムの溝における所望の方向の第２切断面となるように、第１断面情報を第２断面情報に補正する。これによって、リムの溝における所望の方向の第２断面情報を、適切に取得することができる。また、これによって、リムの所定の領域にて第１断面情報が得られない場合であっても、リムの所定の領域の周辺にて得られた第１断面情報に基づいて、リムの溝の所定の領域における、所望の方向の第２断面情報を取得することができる。

また、例えば、本実施例における眼鏡枠形状測定装置は、リムの溝の第１切断面が、リムの溝における動径方向の第２切断面となるように、第１断面情報を第２断面情報に補正する。これによって、リムの溝における動径方向の第２断面情報を、適切に取得することができる。なお、例えば、眼鏡レンズの加工では、リムの溝における動径方向のデータが構築されるため、動径方向の第２断面情報を互換することなく、容易に用いることができる。

また、例えば、本実施例における眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームのリムの溝の第１切断面に対する第２切断面のずれ角度に基づいて、リムの溝の第１切断面が、リムの溝における所望の方向に対する第２切断面となるように、第１断面情報が第２断面情報に補正される。これによって、第１切断面を所望の方向に対する第２切断面に精度よく置換し、適切な第２断面情報を得ることができる。

また、例えば、本実施例における眼鏡枠形状測定装置は、リムの溝における法線方向の第１切断面を取得する。これによって、リムの溝における法線方向の第１切断面が、リムの溝における所望の方向（一例としては、動径方向）の第２切断面となるように、第１断面情報が第２断面情報に補正される。このため、例えば、リムの溝を法線方向から光切断する構成であっても、リムの溝における所望の方向（動径方向）の断面情報を、適切に得ることができる。

＜変容例＞
なお、本実施例では、リムの溝ＦＡにおける法線方向の撮像画像４０を取得し、これを、リムの溝ＦＡにおける動径方向の補正画像６０に補正する構成を例に挙げて説明したが、これに限定されない。例えば、リムの溝ＦＡにおける法線方向の信号データを取得し、これを、リムの溝ＦＡにおける動径方向の信号データに補正する構成としてもよい。この場合、制御部１７０は、第１断面形状４１の信号データを第２断面形状６１の信号データに変換し、リムの溝ＦＡにおける動径方向の種々のパラメータを取得することができる。

また、本実施例では、リムの溝ＦＡにおける法線方向の撮像画像４０を、動径方向の補正画像６０に補正することで、リムの溝ＦＡにおける動径方向の種々のパラメータを取得する構成を例に挙げて説明したが、これに限定されない。例えば、リムの溝ＦＡにおける法線方向の撮像画像４０から、リムの溝ＦＡにおける法線方向の種々のパラメータを取得し、これらのパラメータに対して伸縮率Ｅを考慮することで、リムの溝ＦＡにおける動径方向の種々のパラメータを取得する構成としてもよい。

なお、本実施例では、リムの溝ＦＡのある測定位置について、法線方向に対する撮像画像４０を、動径方向に対する補正画像６０に補正する構成を例に挙げて説明したが、これに限定されない。つまり、リムの溝ＦＡにおける撮像画像４０の取得位置と補正画像６０の取得位置が同一となる構成を例に挙げて説明したが、これに限定されない。例えば、リムの溝ＦＡのある測定位置にて得られた法線方向に対する撮像画像４０を、リムの溝ＦＡのある測定位置とは異なる測定位置における動径方向の補正画像６０に補正することも可能である。つまり、リムの溝ＦＡにおける撮像画像４０の取得位置と、補正画像６０の取得位置と、を異なる位置とすることも可能である。

例えば、このような場合であっても、制御部１７０は、リムの溝ＦＡのある測定位置に対する法線方向と、リムの溝ＦＡのある測定位置とは異なる測定位位置に対する動径方向と、のずれ角度εを求めることによって、撮像画像４０（第１断面形状４１）を補正画像６０（第２断面形状６１）に補正することができる。これによって、例えば、リムの一部の測定位置にて撮像画像４０が得られない状況であっても、その周辺の測定位置の撮像画像４０を用いて補正画像６０を取得することができる。

なお、本実施例では、リムの溝ＦＡにおける各測定位置に対し、法線方向から測定光束を照射することで、法線方向に対する撮像画像４０を取得する構成を例に挙げて説明したが、これに限定されない。例えば、リムの形状、保持ユニット２５の可動域、等によっては、必ずしも測定位置に対して法線方向から測定光束を照射できず、この場合には、法線方向とは異なる方向に対する撮像画像が取得される。

このとき、制御部１７０は、リムの溝ＦＡのある測定位置に対する法線方向とは異なる方向と、リムの溝ＦＡのある測定位置に対する法線方向と、のずれ角度を求め、リムの溝ＦＡのある測定位置に対する法線方向とは異なる方向における撮像画像を、法線方向に補正した第１補正画像を取得してもよい。その後、リムの溝ＦＡのある測定位置に対する法線方向と、リムの溝ＦＡのある測定位置に対する動径方向と、のずれ角度を求め、リムの溝ＦＡのある測定位置に対する法線方向の第１補正画像を、動径方向に補正した第２補正画像を取得してもよい。

もちろん、制御部１７０は、リムの溝ＦＡのある測定位置に対する法線方向とは異なる方向と、リムの溝ＦＡのある測定位置に対する動径方向と、のずれ角度を求め、リムの溝ＦＡのある測定位置に対する法線方向とは異なる方向における撮像画像を、動径方向に補正した第２補正画像を取得してもよい。

なお、本実施例では、リムの溝ＦＡの法線方向に対する撮像画像４０を、リムの溝ＦＡの動径方向に対する補正画像６０に補正する際に、リムの溝ＦＡの深さ方向（ヤゲンの高さ方向）の伸縮率Ｅを考慮する構成を例に挙げて説明したが、これに限定されない。例えば、リムの溝ＦＡの深さ方向の伸縮率Ｅに加え、リムの溝ＦＡの厚み方向（言い換えると、ヤゲンの幅方向）の伸縮率を考慮した補正を行ってもよい。また、例えば、リムの溝ＦＡの深さ方向の伸縮率Ｅに加え、リムの曲率を考慮した補正を行ってもよい。

なお、本実施例では、眼鏡枠形状測定装置が、投光光学系と受光光学系とを有する光学式測定ユニットを備える構成を例に挙げて説明したが、これに限定されない。例えば、眼鏡枠形状測定装置は、リムの溝に押し当てられる測定子と、測定子の位置を検出する検出器と、を有する測定子ユニットを、光学式測定ユニットとともに、備える構成であってもよい。例えば、眼鏡フレームに対し、測定子ユニットと光学式測定ユニットは、一体的に移動されてもよい。

例えば、測定子ユニットは、リムの溝に測定子を押し当てることで、リムを変形させる可能性があるため、その測定圧を弱くしておくことが好ましいと考えられている。一例としては、リムの溝に測定子を法線方向から押し当てるよう制御することで、測定圧を弱く一律に保つことができる。しかし、この場合、光学式測定ユニットは、投光光学系によってリムの溝に第１切断面を形成する方向が、測定子ユニットと同一（略同一）である法線方向に制限される。このため、特に、測定子ユニットと光学式測定ユニットを備えた、このような眼鏡枠形状測定装置では、第１断面情報から第２断面情報への補正が有効となる。測定子ユニットと、光学式測定ユニットと、のいずれにおいても、眼鏡レンズの加工に用いることが可能なデータが、適切に取得される。

１ 眼鏡枠形状測定装置
３ モニタ
４ スイッチ部
１０ フレーム保持ユニット
２０ 測定ユニット
２５ 保持ユニット
３０ａ 投光光学系
３０ｂ 受光光学系
５０ 制御部
５２ メモリ
２２０ Ｚ方向移動ユニット
２３０ Ｙ方向移動ユニット
２４０ Ｘ方向移動ユニット
２６０ 回転ユニット

Claims (6)

1. 眼鏡フレームの形状を測定する眼鏡枠形状測定装置であって、
   前記眼鏡フレームのリムの溝に向けて光源から測定光束を照射し、前記リムの溝に第１切断面を形成する投光光学系と、
   前記リムの溝の前記第１切断面にて反射された前記測定光束の反射光束を、第１検出器にて受光する受光光学系と、
   前記第１検出器の検出結果に基づいて、前記リムの溝の前記第１切断面における第１断面情報を取得する取得手段と、
   前記リムの溝の前記第１切断面が、前記リムの溝における所望の方向の第２切断面であって、前記第１切断面とは異なる方向の第２切断面となるように、前記第１断面情報を第２断面情報に補正する補正手段と、
   前記リムの溝の前記第２切断面に対するパラメータを、前記第２断面情報に基づいて取得するパラメータ取得手段と、
   を備え、
   前記第１切断面と前記第２切断面は、前記リムの溝上における同一の測定位置に対する切断面であることを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
2. 請求項１の眼鏡枠形状測定装置において、
   前記補正手段は、前記第１切断面に対する前記第２切断面のずれ角度に基づいて、前記リムの溝の前記第１切断面が、前記リムの溝における前記所望の方向の第２切断面となるように、前記第１断面情報を前記第２断面情報に補正することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
3. 請求項１または２の眼鏡枠形状測定装置において、
   前記リムの溝における前記所望の方向は、前記リムの溝における動径方向であって、
   前記補正手段は、前記リムの溝の前記第１切断面が、前記リムの溝における前記動径方向の第２切断面となるように、前記第１断面情報を第２断面情報に補正することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
4. 請求項１～３のいずれかの眼鏡枠形状測定装置において、
   前記第１切断面は、前記リムの溝における法線方向の切断面であって、
   前記取得手段は、前記リムの溝における前記法線方向の前記第１切断面における前記第１断面情報を取得することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
5. 請求項１～４のいずれかの眼鏡枠形状測定装置において、
   前記眼鏡フレームの前記リムの溝に押し当てられる測定子と、前記測定子の位置を検出する第２検出器であって、前記第１検出器とは異なる第２検出器と、を有する測定子ユニットと、
   前記投光光学系と、前記受光光学系と、を有する光学式測定ユニットと、
   を備え、
   前記眼鏡フレームに対し、前記測定子ユニットと、前記光学式測定ユニットと、を一体的に移動させることを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
6. 眼鏡フレームの形状を測定する眼鏡枠形状測定装置にて用いる眼鏡枠形状測定プログラムであって、
   前記眼鏡枠形状測定装置のプロセッサに実行されることで、
   前記眼鏡フレームのリムの溝に向けて光源から測定光束を照射し、前記リムの溝に第１切断面を形成する投光ステップと、
   前記リムの溝の前記第１切断面にて反射された前記測定光束の反射光束を、第１検出器にて受光する受光ステップと、
   前記第１検出器の検出結果に基づいて、前記リムの溝の前記第１切断面における第１断面情報を取得する取得ステップと、
   前記リムの溝の前記第１切断面が、前記リムの溝における所望の方向の第２切断面であって、前記第１切断面とは異なる第２切断面となるように、前記第１断面情報を第２断面情報に補正する補正ステップと、
   前記リムの溝の前記第２切断面に対するパラメータを、前記第２断面情報に基づいて取得するパラメータ取得ステップと、
   を前記眼鏡枠形状測定装置に実行させ、
   前記第１切断面と前記第２切断面は、前記リムの溝上における同一の測定位置に対する切断面であることを特徴とする眼鏡枠形状測定プログラム。

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