JP2022057964A - 眼鏡枠形状測定装置及び眼鏡枠形状測定装置の制御プログラム - Google Patents

Abstract

【課題】 リムの溝の三次元形状及びリム溝の断面形状を良好に測定出来る眼鏡枠形状測定装置及び眼鏡枠形状測定装置の制御プログラムを提供する。【解決手段】 眼鏡フレームのリムの形状を測定する眼鏡枠形状測定装置であって、眼鏡フレームのリムを保持するリム保持部材を持つフレーム保持手段と、測定子を持つ測定子ユニットと、リムの溝の形状を測定する光学式測定ユニットと、測定子ユニットと光学式測定ユニットとを一体的に支持する支持ユニットと、リムと支持ユニットの位置関係を変更する変更手段と、変更手段を制御する制御手段と、測定中に干渉物と被干渉対象物とが干渉したか検出する干渉発生検出手段と、干渉が検出されたときに再測定を実行する再測定実行手段と、干渉が発生した測定点を特定する測定点特定手段と、を備え、制御手段は、特定された測定点を再測定するときには、変更手段を制御し干渉物の干渉回避動作を行うことを特徴とする。【選択図】 図２２

Description

本開示は、眼鏡フレームのリムの形状を得るための眼鏡枠形状測定装置及び眼鏡枠形状測定装置の制御プログラムに関する。

眼鏡フレームのリムの溝に押し当てて挿入される測定子を持つ測定子ユニットを備え、リムの溝に沿って移動される測定子の位置を得ることでリムの溝の全周に関する形状を測定する眼鏡枠形状測定装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。

また、眼鏡フレームのリムの溝に測定光束を照射し、溝で反射された反射光束を受光する光学式測定ユニットを備え、受光された反射光に基づいてリムの溝の断面形状を得る眼鏡枠形状測定装置が知られている（例えば、特許文献２参照）。

特開２０１１－１２２８９９号公報 国際公開２０１９／０２６４１６号

ところで、測定子ユニットと光学ユニットとを一体的に移動させるように構成することで、リムの溝の全周に関する三次元形状とリムの溝の断面形状とを効率よく得る構成が考えられる。

しかし、測定子ユニットに光学式測定ユニットを付加したことにより、測定子付近のサイズが大きくなり、リムの全周を測定する際に、光学式測定ユニットがリムを保持するリム保持部材及びリムの被測定部分に干渉し、良好に測定ができない問題が分かった。

本開示は、リムの溝の三次元形状及びリム溝の断面形状を良好に測定することが出来る眼鏡枠形状測定装置及び眼鏡枠形状測定装置の制御プログラムを提供することを技術課題とする。

上記課題を解決するために、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とする。
（１） 眼鏡フレームのリムの形状を測定する眼鏡枠形状測定装置であって、眼鏡フレームのリムを保持するためのリム保持部材を持つフレーム保持手段と、リムの溝に挿入される測定子を持つ測定子ユニットと、リムの溝の形状を光学的に測定するための光学式測定ユニットと、前記測定子ユニットと光学式測定ユニットとを一体的に支持する支持ユニットと、リムと前記支持ユニットとの相対的な位置関係を変更する変更手段と、前記変更手段を制御する制御手段と、前記リムの測定結果に基づき、前記リムの測定中に前記干渉物と前記被干渉対象物との干渉が発生したか否かを検出する干渉発生検出手段と、前記干渉発生検出手段によって干渉が発生したことが検出されたときに前記リムの形状の再測定を実行する再測定実行手段と、前記干渉発生検出手段の検出結果に基づいて前記被干渉対象物と前記干渉物との干渉が発生した測定点を特定する測定点特定手段と、を備え、前記制御手段は、特定された前記測定点を再測定するときには、前記変更手段を制御することで前記干渉物の干渉回避動作を行うことを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
（２） 眼鏡フレームを保持するためのリム保持部材を持つフレーム保持手段と、前記リムの溝に挿入される測定子を持つ測定子ユニットと、前記リムの溝の形状を光学的に測定するための光学式測定ユニットと、前記測定子ユニットと光学式測定ユニットとを一体的に支持する支持ユニットと、前記リムと前記支持ユニットとの相対的な位置関係を変更する変更手段と、を備える眼鏡枠形状測定装置の制御プログラムであって、前記リムの測定結果に基づき、前記リムの測定中に、前記被干渉対象物と前記干渉物との干渉が発生したか否かを検出する干渉発生検出ステップと、前記干渉発生検出ステップによって干渉の発生が検出されたときにリムの形状の再測定を実行する再測定実行ステップと、前記干渉発生検出ステップの検出結果に基づいて前記被干渉対象物と前記干渉物との干渉が発生した測定点を特定する測定点特定ステップと、前記変更手段を制御する制御ステップであって、特定された前記測定点を再測定するときには、前記変更手段を制御することで前記干渉物の干渉回避動作を行う制御ステップと、を眼鏡枠形状測定装置の制御ユニットに実行させることを特徴とする眼鏡枠形状測定装置の制御プログラム。

測定装置の外観図である。 フレーム保持ユニットの上面図である。 クランプ機構を説明する図である。 玉型形状取得ユニットの上面斜視図である。 玉型形状取得ユニットの下面斜視図である。 Ｚ方向移動ユニット及びＹ方向移動ユニットの上面斜視図である。 保持ユニットの概略構成を説明する斜視図である。 保持ユニットが支持ユニットを保持する機構を説明する図である。 測定子ユニット及び光学測定ユニットの概略構成図である。 光学式測定ユニットの、投光光学系と、受光光学系と、の位置関係を示す概略図である。 眼鏡枠形状測定装置の制御系を示す図である。 眼鏡枠形状測定装置において制御部が実行するプログラムのフローチャート図である。 測定開始時の保持ユニットの動作を示す図である。 低カーブフレームの形状を測定する場合における、クランプピンと、リムと、測定子と、光学式測定ユニットと、の位置関係を示す模式図である。 光学式測定ユニットと、クランプピンとが干渉する場合における、クランプピンと、リムと、測定子と、光学式測定ユニットとの位置関係を示す模式図である 光学式測定ユニットの干渉部位を示す図である。 光学式測定ユニットがＹ方向に移動されて干渉回避がされる場合を説明する図である。 光学式測定ユニットがＺ方向に移動されて干渉回避がされる場合を説明する図である。 リムの未測定部分対して干渉回避がされる場合を説明する図である リムの測定済みの測定結果を利用して干渉回避がされる例を説明する図である。 測定子によるリムの測定結果の内、Ｚ方向の測定結果を微分した結果をグラフで示した図である。 干渉が発生した測定点における回避動作を説明する図である。 光学式測定ユニットがＸ方向に移動されて干渉回避がされる場合を説明する図である。 測定子の左右両側に光学式測定ユニットが配置された場合の光学式測定ユニットと測定子の位置関係を示す模式図である。 測定子の左右両側に光学式測定ユニットが配置された場合の、被干渉対

以下、本開示における実施形態を図面に基づいて説明する。図１～１１は本実施形態に係る眼鏡枠形状測定装置（例えば、眼鏡枠形状測定装置１）の構成について説明する図である。なお、本実施形態においては、眼鏡枠である眼鏡フレームのリムの測定時における測定平面をＸＹ方向とし、ＸＹ方向に垂直な垂直方向をＺ方向とする。なお、例えば、測定平面（ＸＹ平面）は動径平面としても扱われる。ＸＹ方向はリムの動径情報を得るための動径方向としても扱われる。例えば、測定平面は、眼鏡フレームのリムを保持するリム保持部材（例えば、クランプピン１３０ａ，１３０ｂ，１３１ａ，１３１ｂ）であって、左右のリムの上側（本実施形態では眼鏡フレーム及びリムの上下とは眼鏡装用時の縦方向となる上下を言う）をそれぞれ保持するために２箇所に配置されたリム保持部材（例えば、クランプピン１３０ａ，１３０ｂ）と、左右のリムの下側をそれぞれ保持するために２箇所に配置されたリム保持部材（例えば、クランプピン１３１ａ，１３１ｂ）と、によって規定される平面である。また、測定平面上において、リム保持部材によって眼鏡フレームが保持されたときの眼鏡フレームの上下方向である縦方向（眼鏡枠形状測定装置の奥行き方向）をＹ方向とし、眼鏡フレームの左右方向をＸ方向として説明する。

なお、本実施形態では、例えば、測定平面は水平方向であり、図１に示される眼鏡枠形状測定装置に対して、眼鏡フレームＦのリム部分が下方向、眼鏡フレームＦのテンプル部分が上方向とした状態で配置される。すなわち、眼鏡枠形状測定装置に眼鏡フレームＦが配置された場合に、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲが下方向、眼鏡フレームＦの左右のテンプルＦＴＬ，ＦＴＲが上方向となる。もちろん、眼鏡枠形状測定装置に対する眼鏡フレームの配置方向は、これに限定されない。例えば、眼鏡フレームＦのリム部分が上方向、眼鏡フレームＦのテンプル部分が下方向とした状態で配置される構成であってもよい。また、例えば、測定平面は鉛直方向であってもよく、眼鏡枠形状測定装置に眼鏡フレームＦが配置された場合に、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲの上端が眼鏡枠形状測定装置に対して下方向、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲの下端が眼鏡枠形状測定装置に対して上方向となるように配置される構成であってもよいし、左右リムＦＬ，ＦＲの上端と下端の配置が逆になってもよい。またさらに、測定平面は、水平方向又は鉛直方向に限られず、斜め方向であってもよい。

［概要］
例えば、眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームを測定状態に保持するために構成されたフレーム保持手段（例えば、フレーム保持ユニット１０）を備える。例えば、フレーム保持手段は、眼鏡フレームの左右方向をＸ方向とし、眼鏡フレームのリムの縦方向をＹ方向とし、眼鏡フレームのリムの前後方向をＺ方向として眼鏡フレームを保持する手段である。例えば、フレーム保持手段は、眼鏡フレームを測定状態に保持するためのリム保持部材を持つ。例えば、リム保持部材は、左右のリムの上側をそれぞれ保持するために２箇所に配置され、また、左右のリムの下側をそれぞれ保持するために２箇所に配置されている。例えば、各位置に配置されたリム保持部材は、眼鏡フレームのリムをその厚み方向（Ｚ方向）から挟み込むために２つ配置されている。例えば、各位置に配置された２つのリム保持部材は、Ｚ方向に開閉可能に構成されている。例えば、フレーム保持手段は、２つのリム保持部材をＺ方向に開閉するためのリム保持部材開閉手段（例えば、クランプ機構３００）を備える。なお、リム保持部材は、Ｖ字状の溝を持つ部材であってもよい。この場合、リム保持部材は、リムの厚み方向をＶ字状の溝で受けることでリムを保持する構成とされる。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、測定子ユニット（例えば、測定子ユニット６０）を備える。例えば、測定子ユニットは、リムの溝に挿入される測定子（例えば、測定子６１）を備える。例えば、測定子ユニットは、測定子が上部に配置された測定子軸（例えば、測定子軸６２）備える。なお、本実施形態では測定子軸がＺ方向に位置されたとき、測定子の先端の向き（例えば、測定軸Ｌ３）は、測定子軸に対して測定平面に略平行に延びるように配置されるが、これに限られない。例えば、測定子の先端の向きは、高カーブフレームを測定時にリムの形状の沿いやすいように、測定平面に対して一定角度（例えば、５～１５度）で上を向くように配置されていてもよい。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、光学式測定ユニット（例えば、光学式測定ユニット３０）を備える。例えば、光学式測定ユニットは、眼鏡フレームのリムの溝のリム形状を非接触式で光学的に測定する。例えば、光学式測定ユニットは、投光光学系（例えば、投光光学系３０ａ）と、受光光学系（例えば、受光光学系３０ｂ）と、を備える。例えば、投光光学系は、光源（例えば、光源３１）を有し、眼鏡フレームのリムの溝に向けて光源から測定光束を照射する。例えば、投光光学系は、リムの溝にスリット光を投光するように構成される。例えば、リムの溝は、スリット光により光切断された形で照明される。例えば、受光光学系は、光を受光する検出器（例えば、検出器３７）を有する。例えば、受光光学系は、投光光学系によって眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射され、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光束の反射光束を検出器によって受光する。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、測定子ユニットと光学式測定ユニットとを一体的に支持する支持ユニット（例えば、支持ユニット７０）を備える。例えば、支持ユニット、測定子ユニットと光学式測定ユニットとを支持する支持部材（例えば、測定子軸６２）を有する。例えば、支持ユニットは、測定子が取り付けられた測定子軸の一部を支持部材として兼用することで、測定子ユニットと光学式測定ユニットとを支持する構成とされる。例えば、光学式測定ユニットは、測定子軸に取り付けられている。

例えば、光学式測定ユニットは、投光光学系及び受光光学系が収納される筐体（例えば、カバー３０ｃ）を備える。例えば、光学式測定ユニットの筐体は、測定子の先端が手前を向いた状態で、測定子軸に対して左右方向の一方に筐体の全部が位置するように、支持ユニットに設けられている。なお、光学式測定ユニットは、測定子軸に対して左右両側に配置された構成であってもよい。

また、例えば、測定開始時にリム保持部材によって保持されたリムの溝に測定子が挿入された状態において、Ｚ方向で光学式測定ユニットがリム保持部材に干渉しないように、光学式測定ユニットの筐体（例えば、カバー３０ｃ）の上端は、リム保持部材の下端の位置より下（例えば、Ｚ方向を上下方向としたときの下）に位置するように構成されている。これにより、測定時において、リム保持部材及びリム保持部材に近傍のリムとの干渉を回避しやすくなる。また、例えば、光学式測定ユニットの筐体の下端は、リム保持部材の上端より上に位置していてもよい。これによってもリム保持部材に対する光学式測定ユニットの干渉を回避しやすくなる。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、支持ユニットを保持する保持ユニット（例えば、保持ユニット２５）を備える。例えば、保持ユニットは、支持ユニットを測定子の先端が向く方向（例えば、測定軸Ｌ３の方向）に移動可能に保持するために構成されている。例えば、保持ユニットは、測定子の先端をリムの溝に押し当てる測定圧を付与する測定圧付与手段（例えば、バネ７６）を備える。例えば、保持ユニットは、例えば、保持ユニットは、支持ユニットのＺ方向の位置を自由に移動可能に保持するために構成されている。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、リムと支持ユニットとの相対的な位置関係を変更する変更手段（例えば、移動ユニット２１０、回転ユニット２６０）を備える。例えば、変更手段は、測定子の先端が向くＸＹ方向を変えるために、支持ユニットをＺ方向に延びる回転軸を中心に回転する回転手段（例えば、回転ユニット２６０）を備える。例えば、回転手段は、保持ユニットに設けられている。回転手段により、ＸＹの測定平面上において、測定子ユニットの測定子の先端が向くＸＹ方向（例えば、測定軸Ｌ３の方向）及び光学式測定ユニットの測定光軸（投光光軸をＬ１、受光光軸をＬ２）のＸＹ方向が変えられる。

また、例えば、変更手段は、支持ユニットのＸＹ方向の位置を変更するためのＸＹ方向変更手段を備える。ＸＹ方向変更手段は、支持ユニットが設けられた保持ユニットのＸ方向の位置を変更するためのＸ方向変更手段（例えば、Ｘ方向移動ユニット２４０）と、保持ユニットのＹ方向の位置を変更するためのＹ方向変更手段（例えば、Ｙ方向移動ユニット２３０）と、を備える。これにより、リムの溝に沿ってＸＹ方向に追従する測定子の追従機構が小型化され、その重量が小さくて済むため、測定子によってリムの形状を精度よく測定できる。また、例えば、変更手段は、支持ユニットが設けられた保持ユニットのＺ方向の位置を変更するためのＺ方向変更手段（例えば、Ｚ方向移動ユニット２２０）を備える。これにより、リムの溝に沿ってＺ方向に追従する測定子の追従機構が小型化され、その重量が小さくて済むため、測定子によってリムの形状を精度よく測定できる。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、被干渉情報取得手段（例えば、制御部５０）を備える。被干渉情報取得手段は、光学式測定ユニットに対する被干渉対象物であって、フレーム保持手段によって測定状態に置かれた眼鏡フレームのリム及びリム保持部材の少なくとも一方の被干渉対象物の被干渉情報を取得するために構成されている。例えば、被干渉情報取得手段によって取得される被干渉情報には、眼鏡フレームのリムが測定状態に置かれた状態におけるリム保持部材の配置情報が含まれる。例えば、被干渉情報取得手段は、リム保持部材のＸ、Ｙ及びＺ方向の少なくとも一方向の配置情報を取得する。

例えば、被干渉情報取得手段は、フレーム保持手段によって眼鏡フレームのリムを保持するようにリム保持部材が移動されたＹ方向の位置に基づき、リム保持部材のＹ方向の配置情報を取得する。例えば、リム保持部材のＸ方向の配置情報は記憶手段に設計値として記憶されている。例えば、被干渉情報取得手段は、リム保持部材のＸ方向の配置情報を記憶手段から呼び出すことで取得する。例えば、被干渉情報取得手段は、測定時にリムを保持したときのリム保持部材（リム前側のリム保持部材）のＺ方向の位置を得ることで、Ｚ方向のリム保持部材の配置情報を得る。なお、被干渉情報取得手段は、リム保持部材のＺ方向の配置情報が記憶手段に設計値として記憶されていてもよい。この場合、被干渉情報取得手段は、リム保持部材のＺ方向の配置情報を記憶手段から呼び出すことで取得する。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、変更手段を制御する制御手段（例えば、制御部５０）を備える。例えば、制御手段は、リムの形状の測定済みの結果に基づいてリムの未測定分を測定するように変更手段を制御する。この測定時に、例えば、制御手段は、被干渉情報取得手段によって取得された被干渉情報に基づき、被干渉対象物に対し、干渉物の干渉を回避するように変更手段を制御する。例えば、干渉物は測定子ユニット、光学式測定ユニット及び支持ユニットの少なくとも何れかを含む。例えば、測定時に被干渉対象物に干渉する干渉物は、代表的には光学式測定ユニットであるが、測定子ユニットの形状によっては、これが干渉物となる場合もある。また、支持ユニットの形状によっては、これが干渉物となる場合もある。 例えば、制御手段は、リムの未測定分を測定させるときに、リム保持部材の配置情報に基づき、リム保持部材に対してＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向の少なくとも一つの方向に干渉物（例えば、光学式測定ユニット）の干渉部位（例えば、干渉領域ＩＲ）が離れるように、変更手段を制御する。なお、干渉物（例えば、光学式測定ユニット）の干渉部位は、干渉物（例えば、光学式測定ユニット）の筐体において予め特定され、記憶手段に記憶されていてもよい。例えば、干渉部位は、測定可能な各種の眼鏡フレームのリムの形状に対し、測定時における干渉物（例えば、光学式測定ユニット）の筐体の位置関係をシミュレーションすることで、予め特定することができる。例えば、干渉部位は干渉物上に定められた１点の干渉点（例えば、干渉点ＩＲＰ）であってもよい。例えば、干渉点は、干渉物（例えば、光学式測定ユニット）上に定められた点であり、被干渉対象物に対し、この干渉点の干渉を回避すれば、干渉部位の全体の干渉を回避する点として定められたものである。例えば、干渉点は、干渉物（例えば、光学式測定ユニット）の筐体の位置関係をシミュレーションすることで、予め特定することができる。この場合、干渉部位が或る程度の領域を持つのに対し、１つの干渉点の配置位置を演算すればよいので、演算速度が速くなり、スムーズな測定が行える。 例えば、制御手段は、リムの内側に向かって延びるリム保持部材の先端に対し、干渉物（例えば、光学式測定ユニット）の干渉部位がＹ方向に一定距離以上に離れるように（例えば、回避するように）変更手段を制御する。例えば、制御手段は、このときに回転手段を制御する。例えば、制御手段は、リムの未測定分を測定させるときに、測定済み結果に基づいて測定子がリムの未測定部分を測定するように位置させ、且つ、リム保持部材の先端に対し、干渉物（例えば、光学式測定ユニット）の干渉部位がＹ方向に一定距離以上に離れるように、ＸＹ変更手段及び回転手段を制御する。これにより、Ｙ方向において、リム保持部材に対する干渉物（例えば、光学式測定ユニット）の干渉が回避され、また、リム保持部材の近傍に位置するリムに対する干渉物（例えば、光学式測定ユニット）の干渉が回避される。

例えば、制御手段は、リム保持部材の配置情報に基づき、リム保持部材の先端に対してＹ方向に一定距離以上離れるように、Ｙ方向に略平行な判定ライン（例えば、干渉判定ラインＩＬＣＹ）を設定する。そして、例えば、制御手段は、リムの未測定分を測定させるときに、干渉物（例えば、光学式測定ユニット）の干渉部位が判定ラインよりリム保持部材が位置する側に近づかないように、変更手段を制御する。これにより、Ｙ方向において、リム保持部材に対する干渉物（例えば、光学式測定ユニット）の干渉が回避され、また、リム保持部材の近傍に位置するリムに対する干渉物（例えば、光学式測定ユニット）の干渉が回避される。

なお、制御手段は、測定済み結果に基づいて測定子をリムの未測定部分に位置させるときに、測定子の先端がリムに対して所定角度の方向を向くように（例えば、ＸＹ方向において、未測定のリム部分が測定済みリムの延長方向にあるとし、その延長方向に対して法線方向を向くように）、支持ユニットのＸＹ位置状態と回転手段による回転状態を含む第１状態を求めた後、この第１状態において干渉物（例えば、光学式測定ユニット）の干渉部位が判定ラインを超えたＹ方向の逸脱量（例えば、ΔＥ）求め、求めた逸脱量に基づいて干渉物（例えば、光学式測定ユニット）の干渉部位がＹ方向に移動されるように変更手段を制御する。

例えば、光学式測定ユニットは、測定開始時にリム保持部材に保持されたリムの溝に測定子が挿入された状態で、Ｚ方向においてリム保持部材に干渉しない位置に支持ユニットに支持された構成である。そして、干渉物が光学式測定ユニットである場合、例えば、制御手段は、リムの未測定部分を測定させるときであって、リム保持部材の配置情報に基づき、光学式測定ユニットの干渉部位がリム保持部材に対してＺ方向に一定距離以上に離れた状態に位置しているときには、Ｙ方向における干渉回避動作を行わない。これにより、ＸＹ方向における干渉回避のための光学式測定ユニットの位置変更が行われないため、より精度よくリムの形状を測定できる。

例えば、被干渉情報取得手段によって取得された被干渉情報には、リムの測定済み情報が含まれる。この場合、例えば、制御手段は、リムの測定済み情報に基づき、測定済みのリムに対してＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向の少なくとも一つの方向に干渉物（例えば、光学式測定ユニット）の干渉部位と被干渉対象物との距離が一定以上となるように、変更手段を制御する。

例えば、光学式測定ユニットは、測定子をその先端方向から見た時に測定子に対して左右方向の一方に偏って配置された構成である。そして、干渉物が光学式測定ユニットである場合、例えば、制御手段は、リムの測定時に光学式測定ユニットより測定子が先行してリムの未測定部分を測定するように制御すると共に、制御手段は、リムの測定済み情報に基づき、測定済みのリムに対してＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向の少なくとも一つの方向に、光学式測定ユニットの干渉部位と被干渉対象物との距離が一定以上となるように、変更手段を制御する。

例えば、リムの測定済み情報におけるリムの被干渉部位は、光学式測定ユニットの測定によるリム断面情報に基づいて得ることができる。例えば、リムの測定済み情報におけるリムの被干渉部位は、さらには、光学式測定ユニットの測定によるリム断面情報と、測定子ユニットによるリムの三次元形状の測定結果と、に基づいて得ることができる。また、さらに、例えば、光学式測定ユニットの測定によるリム断面情報を使用しなくても、リムの測定済み情報におけるリムのＸＹ方向の被干渉部位は、リム溝に対するリム内側のリム情報が事前に取得されていることで、これらの情報と、測定子ユニットによるリムの形状の測定結果と、に基づいて得ることができる。例えば、リムの測定済み情報におけるリムのＺ方向の被干渉部位は、リム溝に対するリム厚情報が事前に取得されていることで、これらの情報と、測定子ユニットによるリムの形状の測定結果と、に基づいて得ることができる。

また、例えば、光学式測定ユニットは、測定開始時にリム保持部材に保持されたリムの溝に測定子が挿入された状態で、Ｚ方向においてリム保持部材に干渉しない位置に支持ユニットに支持された構成である。そして、干渉物が光学式測定ユニットである場合、例えば、制御手段は、リムの未測定部分を測定させるときであって、リム保持部材の配置情報に基づき、光学式測定ユニットの干渉部位が、リム保持部材に対してＺ方向に一定距離以上に離れた状態に位置しているときには、Ｘ方向及びＹ方向における干渉回避動作を行わない。

例えば、光学式測定ユニットは、測定子をその先端方向から見た時に測定子に対して左右方向の一方に偏って配置された構成である。この場合、例えば、制御手段は、リムの測定時に光学式測定ユニットより測定子が先行してリムの未測定部分を測定するように変更手段を制御する。そして、例えば、制御手段は、リムの測定済み情報に基づき、測定済みのリムに対してＸ方向及びＹ方向の少なくとも一方の方向に光学式測定ユニットの干渉部位が回避するように、変更手段を制御する。これにより、Ｚ方向において光学式測定ユニットの干渉回避動作ができない構成であっても、リムとの干渉を回避して測定を行える。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームが高カーブフレームか否かを選択する選択手段を備えていてもよい。この場合、例えば、制御手段は、高カーブフレームが選択されたときに、被干渉対象物に対する干渉物（例えば、光学式測定ユニット）の干渉を回避するように変更手段を制御する。一方、高カーブフレームが選択されなかった場合は（すなわち、眼鏡フレームが高カーブフレームでない場合は）、制御手段は、被干渉対象物に対する干渉物の干渉を回避するための干渉回避動作を行わない。例えば、干渉物が光学式測定ユニットである場合、光学式測定ユニットが測定開始時にリム保持部材に保持されたリムの溝に測定子が挿入された状態で、Ｚ方向においてリム保持部材に干渉しない位置に支持ユニットに支持された構成においては、眼鏡フレームが高カーブフレームでない場合、Ｚ方向においてリム保持部材及びリムに対して光学式測定ユニットの干渉が回避された状態であるため、Ｘ方向及びＹ方向における干渉回避動作を行わなくても、通常通りリムを測定できる。これにより、無用な干渉回避動作を避け、リムの形状をより精度よく測定できる。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、リムの測定結果に基づき、リムの測定中に干渉物と被干渉対象物との干渉が発生したか否かを検出する干渉発生検出手段を備える。例えば、干渉発生検出手段は、リムの測定結果の内、Ｚ方向の検出結果を基に干渉の発生に有無を検出する。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、干渉発生検出手段によって干渉が発生したことが検出されたときにリムの形状の再測定を実行する再測定実行手段を備える。例えば、再測定実行手段は、制御部が干渉発生検出手段の検出結果に基づいて自動的に再測定を実行することでもよい。あるいは、測定中に干渉物と被干渉対象物との干渉が発生した旨を表示手段（例えば、モニタ３）に表示し、操作者が再測定実行スイッチを操作することで再測定実行信号が入力される構成であってもよい。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、干渉発生検出手段の検出結果に基づいて干渉物と被干渉対象物との干渉が発生した測定点を特定する測定点特定手段を備える。例えば、眼鏡枠形状測定装置は、特定された測定点を再測定するときには、変更手段を制御することで干渉物の干渉回避動作を行う。例えば、眼鏡枠形状測定装置は、特定された干渉発生の測定点における干渉物の干渉部位の配置位置を、変更手段の制御情報（さらには、測定子に対する光学式測定ユニットの位置関係情報を含んでいてもよい）に基づいて求める演算手段を備える。この場合、例えば、制御手段は、再測定実行手段によって再測定が実行され、特定された干渉発生の測定点を再測定するときには、演算手段によって求められた干渉部位の配置位置に対して干渉部位が一定以上の距離に位置するように、変更手段を制御することで干渉物の干渉回避動作を行う。これにより、リムの形状をより精度よく、良好に測定できるようになる。

なお、例えば、再測定実行手段による再測定は、干渉物と被干渉対象物（リム又はリム保持部材）とがわずかに干渉し、測定子がリム溝から完全に脱落していない状態のときに行われてもよい。例えば、この場合の再測定は、リムの全周の測定が終了した後に行われてもよいし、測定の途中で干渉発生検出手段によって干渉の発生が検出された時点で測定が中断された後に行われてもよい。また、例えば、再測定実行手段による再測定は、干渉発生によって測定子がリム溝から脱落した場合に行われてもよい。例えば、測定子がリム溝から脱落したか否かは、リムの測定結果が異常値を示すため、リムの測定結果を基に検出される。

例えば、制御手段は、特定された干渉発生の測定点を再測定するときに、演算手段によって求められた干渉部位の配置位置に対して動径方向及び動径方向に垂直な垂直方向（Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向）の少なくとも一つの方向に干渉回避動作を行う。

また、例えば、制御手段は、特定された干渉発生の測定点を測定するときに、干渉部位に含まれる干渉点であって、干渉物（例えば、光学式測定ユニット）上に定められた干渉点の配置位置に対して、その干渉点がＸ方向及びＹ方向の少なくとも一方の方向でリムの内側方向に離れるように、干渉回避動作を行うようにしてもよい。この場合、干渉部位が或る程度の領域を持つのに対し、干渉物（例えば、光学式測定ユニット）上に定められた１つの干渉点の配置位置を演算すればよいので、演算速度が速くなり、スムーズな測定が行える。

また、例えば、再測定の実行において、制御手段は、特定された干渉発生の測定点より後の後測定点を再測定するときには、干渉発生の測定点で光学式測定ユニットを干渉回避動作させた姿勢状態に対して、本来の測定時における光学式測定ユニットの姿勢状態に段階的に変化させるように変更手段を制御する。例えば、干渉発生の測定点で干渉物（例えば、光学式測定ユニット）を干渉回避動作させた姿勢状態に対して、干渉発生の測定点の後の後測定点において、本来の測定時における干渉物（例えば、光学式測定ユニット）の姿勢状態に急激に戻すと、リムに対する測定子の向き（測定軸Ｌ３の向き）が急激に変わり、測定精度が悪くなる可能性がある。このため、測定子の向きを測定精度の影響を少なくした角度（例えば、０．５度）で段階的にに変化させることで、測定精度を低下させずに、リムの測定を良好に行えるようになる。

なお、本来の測定時における光学式測定ユニットの姿勢状態に段階的に変化させる制御は、後測定点の測定ポイント数を一定値（例えば、５０ポイントで、１ポイントは動径角の０．３６度）に定めておき、本来の測定時における光学式測定ユニットの姿勢状態に戻す角度を、その測定ポイント数で割った角度で徐々に変化させることでもよい。

また、制御手段は、特定された干渉発生の測定点より前の前測定点を再測定するときに、本来の測定時における干渉物の姿勢状態から干渉発生の測定点で干渉物を干渉回避動作させた姿勢状態に段階的に変化させるように変更手段を制御してもよい。これにより、測定精度を低下させずに、リムの測定を良好に行えるようになる。

なお、本開示においては、本実施形態に記載する装置に限定されない。例えば、上記実施形態の機能を行う制御プログラム（ソフトウェア）をネットワーク又は各種記憶媒体等を介して、システムあるいは装置に供給する。そして、システムあるいは装置の制御部（例えば、ＣＰＵ等）がプログラムを読み出し、実行することも可能である。

例えば、眼鏡枠形状測定装置の制御プログラムは、例えば、眼鏡枠形状測定装置の制御プログラムは、変更手段を制御する制御ステップであって、前記フレーム保持手段に保持された眼鏡フレームのリム及び前記リム保持部材の少なくとも何れかを含む被干渉対象物に対し、測定子ユニット、光学式測定ユニット及び支持ユニットの少なくとも何れかを含む干渉物の干渉を回避するように変更手段を制御する制御ステップを備える。これらのステップを眼鏡枠形状測定装置の制御ユニットに実行させることで、リムの形状を良好に測定できる。

また、制御プログラムは、フレーム保持手段によって保持された眼鏡フレームのリム及びリム保持部材の少なくとも一方の被干渉対象物の被干渉情報を取得する被干渉情報取得ステップを備えていてもよい。この場合、制御ステップは、被干渉情報取得ステップによって取得された被干渉情報に基づき、被干渉対象物に対する干渉物の干渉を回避するように変更手段を制御するステップを備える。

また、例えば、眼鏡枠形状測定装置の制御プログラムは、リムの形状の測定済みの結果に基づいてリムの未測定分を測定するように変更手段を制御する制御ステップを備える。例えば、眼鏡枠形状測定装置の制御プログラムは、リムの測定結果に基づき、リムの測定中に、リム及びリム保持部材の少なくとも一方の被干渉対象物と干渉物との干渉が発生したか否かを検出する干渉発生検出ステップを備える。例えば、眼鏡枠形状測定装置の制御プログラムは、干渉発生検出ステップによって干渉の発生が検出されたときにリムの形状の再測定を実行する再測定実行ステップを備える。例えば、眼鏡枠形状測定装置の制御プログラムは、干渉発生検出ステップの検出結果に基づいてリムとの干渉が発生した測定点を特定する測定点特定ステップを備える。例えば、制御ステップは、再測定実行ステップによって再測定が実行され、特定された測定点を再測定するときには、前記変更手段を制御することで前記干渉物の干渉回避動作を行うステップである。

例えば、眼鏡枠形状測定装置の制御プログラムは、特定された干渉発生の測定点における干渉物の干渉部位の配置位置を、変更手段の制御情報に基づいて求める演算ステップを備えていてもよい。この場合、制御ステップは、演算ステップによって求められた干渉部位の前記配置位置に対して干渉部位が離れるように変更手段を制御することで光学式測定ユニットの干渉回避動作を行う構成としたステップである。これらのステップを眼鏡枠形状測定装置の制御ユニットによって実行させることで、干渉発生時の再測定において、リムの形状を良好に測定できる。

［実施例］
本開示の典型的な実施例の一つについて、図面を参照して説明する。
図１は、眼鏡枠形状測定装置の外観略図である。

例えば、眼鏡枠形状測定装置１は、モニタ３、スイッチ部４、フレーム保持ユニット１０、玉型形状取得ユニット２０、等を備える。モニタ３は、各種の情報（例えば、リムＲｉのリム溝ＦＡにおける断面形状、眼鏡フレームＦのリムの形状、等）を表示する。モニタ３は、タッチパネルであり、モニタ３がスイッチ部４の機能を兼ねてもよい。スイッチ部４は、各種の設定（例えば、測定の開始、等）を行うために用いられる。モニタ３及びスイッチ部４から入力された操作指示に応じた信号は、後述する制御部５０に出力される。なお、眼鏡枠形状測定装置１は、特開２０００－３１４６１７号公報等と同じく、レンズ加工装置に組み込まれる構成としてもよい。例えば、玉型形状取得ユニット２０は、フレーム保持ユニット１０に保持された眼鏡フレームＦのリムＲｉ(例えば、左リムＲＩＬ、右リムＲＩＲ)の溝に向けて測定光束を照射し、その反射光束を受光することにより、眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡの断面形状を取得する光学式測定ユニットを含む。また、例えば、玉型形状取得ユニット２０は、フレーム保持ユニット１０に保持された眼鏡フレームＦのリム(例えば、左リムＲＩＬ、右リムＲＩＲ)の溝に測定子を挿入し、測定子の移動を検出することにより、リムＲｉの形状を測定する測定子ユニット６０を含む。例えば、玉型形状取得ユニット２０はフレーム保持ユニット１０の下側に配置されている。

＜フレーム保持ユニット＞
図２は、眼鏡フレームＦを保持したフレーム保持ユニット１０の上面図である。フレーム保持ユニット１０は、眼鏡フレームＦを所期する状態に保持する。例えば、フレーム保持ユニット１０は、保持部ベース１０１、前スライダー１０２、後スライダー１０３、開閉移動機構１１０、等を備える。

例えば、保持部ベース１０１上には、眼鏡フレームＦ（リムＲｉ）を保持するための前スライダー１０２と、後スライダー１０３と、が載置されている。例えば、前スライダー１０２と後スライダー１０３は、その中心線ＣＬを中心にＹ方向に延びる２つのレール１１１上を対向して摺動可能に配置されていると共に、バネ１１３により常に両者の中心線ＣＬに向かう方向に引っ張られている。

例えば、前スライダー１０２には、眼鏡フレームＦのリムＲｉをその厚み方向（Ｚ方向）からクランプするためのリム保持部材の例であるクランプピン１３０ａ，１３０ｂがそれぞれ２箇所に配置されている。例えば、後スライダー１０３には、眼鏡フレームＦのリムＲｉをその厚み方向（Ｚ方向）からクランプするためのリム保持部材の例であるクランプピン１３１ａ，１３１ｂがそれぞれ２箇所に配置されている。また、例えば、型板を測定するときは、前スライダー１０２及び後スライダー１０３が開放され、周知の型板保持治具が所定の取付け位置１４０に配置されて使用される。このフレーム保持ユニット１０の構成は、例えば、特開２０００－３１４６１７号公報等に記載された周知のものが使用できる。

例えば、眼鏡フレームＦは、眼鏡装用時のリムの下側が前スライダー１０２側に位置され、リムＲｉの上側が後スライダー１０３側に位置される。例えば、左右のリムＲｉのそれぞれの下側及び上側に位置するクランプピンにより、眼鏡フレームＦは所定の測定状態に保持される。

なお、前スライダー１０２及び後スライダー１０３のＹ方向の開閉状態は、検知器１２０（例えば、エンコーダ）によって検知される構成であってもよい。この場合、検知器１２０の検知情報は、測定時におけるクランプピン（１３０ａ，１３１ａ等）のＹ方向における配置情報の取得に利用される。

図３は、リムＲｉを保持するクランプピン１３０ａ，１３０ｂのクランプ機構３００を説明する図である。クランプ機構３００は、４箇所に配置されたクランプピン１３０ａ，１３０ｂ，１３１ａ，１３１ｂに対応して前スライダー１０２及び後スライダー１０３にそれぞれ配置されている。図３（ａ）は、左リムＲＩＬの下側をクランプするために、前スライダー１０２の左側に配置されたクランプ機構３００の概略構成図である。図３（ｂ）は、クランプピン１３０、１３１と、前スライダー１０２と、後スライダー１０３と、測定対象のリムＲｉと、の位置関係を説明する図である。図３（ｃ）は、図３（ｂ）においてクランプピン１３０（１３０ａ、１３０ｂ）によって保持されているリムＲｉを矢印Ａ３方向から観察した図である。

クランプピン１３０ａは、支持軸１３２ａを介して第１アーム３０１の先端に取り付けられている。クランプピン１３０ｂは、支持軸１３２ｂを介して第２アーム３０２の先端に取り付けられている。第１アーム３０１は、軸３０４により回転可能に保持されている。第２アーム３０２は、軸３０６により回転可能に保持されている。第１アーム３０１及び第２アーム３０２の間には、圧縮ばね３０３が取り付けられている。圧縮ばね３０３によって、２つのクランプピン１３０ａ及び１３０ｂの間隔が、常に開く方向に付勢されている。また、第１アーム３０１の中心部には、軸３０４を中心にしたギヤ３０９が形成されている。同様に、第２アーム３０２の中心部には、軸３０６を中心にしたギヤ３１１が形成され、ギヤ３０９はギヤ３１１に噛み合わされている。第１アーム３０１の後端には、バネ３１８の一端が取り付けられている。バネ３１８の他端にワイヤー３１５が固定されている。ワイヤー３１５はプーリー３１７を介してモータ３２２によって巻き取られる。モータ３２２が駆動されることにより、第１アーム３０１に取り付けられたクランプピン１３０ａと、第２アーム３０２に取り付けられたクランプピン１３０ｂと、が連動して開閉される。

また、クランプピン１３０ａとクランプピン１３０ｂの間には、リムＲｉが当接されるＵ字状のリム受け３１３が配置されている。リム受け３１３は下側の支持軸１３２ｂに固定されている。リム受け３１３には溝３１４が形成されており、この溝３１４の中をクランプピン１３０ｂの支持軸１３２ａが通過する構成とされている。この構成により、リムＲｉがリム受け３１３に当接され、リムＲｉのＹ方向の位置が規制されると共に、２つクランプピン１３０ａ，１３０ｂが閉じられることで、リムＲｉがクランプピン１３０ａ，１３０ｂによって保持される。

なお、スライダー１０２，１０３のそれぞれの対向面１０２ａ及び１０３ａから支持軸１３２ａ，１３２ｂがＹ方向に突出する長さＳＳＢＬは、後述する光学式測定ユニット３０が測定時にクランプピン１３０ｂの下側に位置し、スライダー１０２，１０３側に近寄ったときにも、光学式測定ユニット３０がスライダー１０２，１０３に干渉しないような長さで配置されている。また、リム受け３１３からＹ方向に延びるクランプピン１３０ａ，１３０ｂの先端位置１３３までの長さＨＢＬと、クランプピン１３０ａ，１３０ｂのＸ方向の幅ＨＢＡ（ＸＹ位置）は、被干渉情報として後述するメモリ５２に予め記憶されている。また、クランプピン１３０ｂが測定可能なリムＲｉを保持したときに、クランプピン１３０ｂが位置する最下端のＺ方向の位置１３０ｍｉｎも、被干渉情報としてメモリ５２に予め記憶されている。なお、リム受け３１３に関しても、測定時に光学式測定ユニット３０が干渉する場合には、リム受け３１３のＸ方向の幅、Ｚ方向の最下端の位置が被干渉対象物の被干渉情報としてメモリ５２に予め記憶されていてもよい。

なお、本実施例においては、リムＲｉを保持するリム保持部材の構成として、上記クランプピン１３０ａ，１３０ｂ，１３１ａ，１３１ｂを例に挙げて説明したが、これに限定されず、周知の機構が使用されても良い。例えば、リム保持部材としては、Ｖ字状の溝を持つものでもよい。この場合、リムＲｉはＶ字の溝で受けられ、リムＲｉのＺ方向位置とＹ方向の位置が規制される。

＜玉型形状取得ユニット＞
図４～図６は、玉型形状取得ユニット２０を説明する図である。図４は、玉型形状取得ユニット２０の上面斜視図である。図５は、玉型形状取得ユニット２０の下面斜視図である。図６は、後述するＺ方向移動ユニット２２０及びＹ方向移動ユニット２３０の上面斜視図（ベース部２１１とＸ方向移動ユニット２４０を取り外した状態の斜視図）である。

例えば、玉型形状取得ユニット２０は、フレーム保持ユニット１０の下部に配置される。例えば、玉型形状取得ユニット２０は、ベース部２１１、保持ユニット２５、移動ユニット２１０等を備える。

ベース部２１１は、Ｘ方向及びＹ方向に伸展した方形状の枠であり、フレーム保持ユニット１０の下部に設けられる。保持ユニット２５は、後述の測定子ユニット６０及び光学式測定ユニット３０を保持する。また、保持ユニット２５は、回転ユニット２６０を備える。回転ユニット２６０は、回転ベース２６１を、回転軸Ｌ０を中心に回転させることで、後述する測定子ユニット６０に備えられた測定子６１が向くＸＹ方向と、光学式測定ユニット３０に備えられた開口部３８が向くＸＹ方向と、を変更する。移動ユニット２１０は、保持ユニット２５をＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向に移動させることで、保持ユニット２５を眼鏡フレームＦのリムＲｉに対して相対的に移動させる。

＜移動ユニット＞
例えば、移動ユニット２１０は、ベース部２１１、Ｚ方向移動ユニット２２０、Ｙ方向移動ユニット２３０、Ｘ方向移動ユニット２４０、等を備える。例えば、ベース部２１１は、Ｘ方向及びＹ方向に伸展した方形状の枠であり、フレーム保持ユニット１０の下部に配置される。例えば、Ｚ方向移動ユニット２２０は、保持ユニット２５をＺ方向へ移動させる。例えば、Ｙ方向移動ユニット２３０は、保持ユニット２５及びＺ方向移動ユニット２２０を保持し、これらをＹ方向へ移動させる。例えば、Ｘ方向移動ユニット２４０は、保持ユニット２５、Ｚ方向移動ユニット２２０、及びＹ方向移動ユニット２３０を保持し、これらをＸ方向へ移動させる。

例えば、Ｘ方向移動ユニット２４０は、概略的に次のように構成されている。例えば、Ｘ方向移動ユニット２４０は、ベース部２１１の下方に、Ｘ方向へ延びるガイドレール２４１を備える。例えば、ガイドレール２４１には、Ｙ方向移動ユニット２３０のＹベース２３０ａが、Ｘ方向へ移動可能に取り付けられている。例えば、ベース部２１１には、モータ２４５が取り付けられている。例えば、モータ２４５の回転軸には、Ｘ方向に延びる送りネジ２４２が取り付けられている。例えば、Ｙベース２３０ａに固定されたナット部２４６は、送りネジ２４２に螺合されている。これにより、モータ２４５が回転されると、Ｙベース２３０ａがＸ方向に移動される。

例えば、Ｙ方向移動ユニット２３０は、概略的に次のように構成されている。例えば、Ｙベース２３０ａには、Ｙ方向に延びる図示なきガイドレールが取り付けられている。例えば、ガイドレールには、Ｚベース２２０ａがＹ方向へ移動可能に取り付けられている。例えば、Ｙベース２３０ａには、Ｙ方向移動用のモータ２３５と、Ｙ方向に延びる回転可能な送りネジ２３２と、が取り付けられている。例えば、モータ２３５の回転は、ギヤ等の回転伝達機構を介して、送りネジ２３２に伝達される。例えば、送りネジ２３２には、Ｚベース２２０ａに取り付けられたナット２２７が螺合されている。これにより、モータ２３５が回転されると、Ｚベース２２０ａがＹ方向に移動される。

例えば、Ｘ方向移動ユニット２４０及びＹ方向移動ユニット２３０によって、ＸＹ方向移動ユニットが構成される。例えば、保持ユニット２５のＸＹ方向の移動位置は、後述する制御部５０が、モータ２４５及びモータ２３５が駆動されるパルス数を検知することで、検出される。なお、例えば、保持ユニット２５のＸＹ方向の移動位置は、モータ２４５及び２３５に取り付けたエンコーダ等のセンサを使用して検出してもよい。

例えば、Ｚ方向移動ユニット２２０は、概略的に次のように構成されている。例えば、Ｚベース２２０ａには、Ｚ方向に延びるガイドレール２２１が形成され、ガイドレール２２１に沿って、保持ユニット２５が取り付けられた移動ベース２５０ａが、Ｚ方向へ移動可能に保持される。例えば、Ｚベース２２０ａには、Ｚ方向移動用のパルスモータ２２５が取り付けられると共に、Ｚ方向に延びる図示なき送りネジが回転可能に取り付けられている。例えば、保持ユニット２５のベース２５０ａに取り付けられたナットに螺合されている。例えば、モータ２２５の回転は、ギヤ等の回転伝達機構を介して送りネジ２２２に伝達され、送りネジ２２２の回転により、保持ユニット２５がＺ方向に移動される。

例えば、保持ユニット２５のＺ方向の移動位置は、後述する制御部５０が、モータ２２５が駆動されるパルス数を検知することで、検出される。なお、例えば、保持ユニット２５のＺ方向の移動位置は、モータ２２５に取り付けたエンコーダ等のセンサを使用して検出してもよい。

なお、上記のような、Ｘ方向、Ｙ方向、及びＺ方向の各移動機構は、本実施例に限定されず、周知の機構を採用することができる。例えば、保持ユニット２５を直線移動させる代わりに、回転ベース２６１の中心に対して円弧起動で移動させる構成としてもよい（例えば、特開２００６－３５０２６４号公報等参照）。

＜保持ユニット、支持ユニット＞
次に、保持ユニット２５の構成を、図７～図１０により説明する。図７は、保持ユニット２５の概略構成を説明する斜視図である。保持ユニット２５は、支持ユニット７０を備える。

支持ユニット７０は、測定子ユニット６０と、光学式測定ユニット３０と、を備える。測定子ユニット６０は、リムの溝に挿入される測定子６１と、測定子６１が上部に配置された測定子軸７１と、を備える。光学式測定ユニット３０は、投光光学系及び受光光学系が収納される筐体であるカバー３０ｃを備える。そして、支持ユニット７０は、測定子ユニット６０と光学式測定ユニット３０とを一体的に支持するように構成されている。本実施例では、測定子軸６２の下方の一部が支持ユニット７０を兼ね、光学式測定ユニット３０が測定子軸６２に取り付けられた構成である。なお、支持ユニット７０は、測定子ユニット６０と光学式測定ユニット３０とを一体的に支持する構成であればよく、例えば、光学式測定ユニット３０が測定子軸６２に取り付けられるのではなく、支持部材によって測定子軸６２と光学式測定ユニット３０とを一体的に支持する構成であってもよい。

また、図８に示すように、光学式測定ユニット３０は、測定開始時にクランプピン１３０に保持されたリムの溝に測定子６１が挿入された状態で、Ｚ方向においてクランプピン１３０に干渉しない位置に、支持ユニット７０に支持された構成である。すなわち、測定子軸６２がＺ方向に略平行に位置するとき、測定子６１の先端６１ａに対するカバー３０ｃの上面３０ｃＡの距離ＺＡ（Ｚ方向の距離）は、測定開始時にクランプピン１３０に保持されたリムの溝に測定子６１が挿入された状態で、クランプピン１３０ｂに干渉しない距離とされている。

また、光学式測定ユニット３０は、測定子６１の先端６１ａ方向から見た時に、測定子６１に対して左右方向の一方に偏って配置された構成である（図７、図９参照）。本実施例では、光学式測定ユニット３０は測定子６１に対して左側に偏って配置されている。

保持ユニット２５は、支持ユニット７０を測定子６１の先端６１ａが向く方向（図９の測定軸Ｌ３の方向）に移動可能に保持すると共に、支持ユニット７０のＺ方向の位置を自由に移動可能に保持するように構成されている。さらに、保持ユニット２５は、測定子ユニットの測定子６１の先端６１ａが向くＸＹ方向）及び光学式測定ユニット３０の測定光軸（図９の投光光軸をＬ１、受光光軸をＬ２）のＸＹ方向を変えるための回転ユニット２６０を備える。

以下、保持ユニット２５が備える各ユニットの構成を説明する。

＜回転ユニット＞
回転ユニット２６０は、回転ベース２６１を備える。図７に示されるように、支持ユニット７０は、回転ベース２６１に配置されている。回転ベース２６１は、Ｚ方向に延びる回転軸ＬＯを中心にして回転可能に保持されている。例えば、回転ベース２６１の下部の外周には、大径ギヤ２６２が形成されている。例えば、回転ユニット２６０は、取り付け板２５２を有する。例えば、取り付け板２５２には、モータ２６５が取り付けられている。例えば、モータ２６５の回転軸には、ピニオンギヤ２６６が固定され、ピニオンギヤ２６６の回転は、取り付け板２５２に回転可能に設けられたギヤ２６３を介して、大径ギヤ２６２に伝達される。したがって、モータ２６５の回転により、回転ベース２６１が回転軸ＬＯの軸回りに回転される。例えば、モータ２６５の回転は、モータ２６５へ一体的に取り付けられたエンコーダ２６５ａにより検出され、エンコーダ２６５ａの出力から、回転ベース２６１の回転角が検知される。回転ベース２６１の回転の原点位置は、図示を略す原点位置センサにより検知される。

＜保持ユニットによる支持ユニットの保持機構＞
図８は、保持ユニット２５が、支持ユニット７０を測定子６１の先端６１ａが向く方向に移動可能に保持する機構と、支持ユニット７０をＺ方向に移動可能に保持する機構と、を説明する図である。

例えば、保持ユニット２５は、回転ベース２６１の下に固定され、且つ、Ｚ方向に延びるシャフト７４を備える。シャフト７４には、Ｚ方向に移動可能な筒状部材７３が備えられている。そして、筒状部材７３にはＺ移動支基７２が固定されている。支持ユニット７０を兼ねる測定子軸６２の下方は、軸Ｓ２を中心にして測定子６１の先端６１ａの方向に傾斜可能に、Ｚ移動支基７２に保持されている。すなわち、支持ユニット７０は測定子６１の先端６１ａの方向に移動可能に保持ユニット２５に保持され、且つ、支持ユニット７０はＺ方向に移動可能に保持ユニット２５に保持される構成となっている。保持ユニット２５（回転ユニット２６０）に対する支持ユニット７０のＺ方向の移動位置は、検知器の例であるエンコーダ２８７によって検知される。

なお、回転ベース２６１と筒状部材７３との間には、支持ユニット７０の荷重の平衡を取るためのバネ７５が配置されている。バネ７５の付勢力は、僅かに上方向に測定圧が掛かるようにしてもよい。これにより、リムＲｉの測定時に、測定子６１には上方向への測定圧が常に掛けられる状態となる。

図８において、軸Ｓ２より下方の測定子軸６２には、取り付け部材７８を介して回転角検出板７９が取り付けられている。軸Ｓ２を中心に回転される回転角検出板７の回転量は、検知器の例であるエンコーダ２８８によって検知される。すなわち、測定子軸６２の傾斜量がエンコーダ２８８によって検知される。

また、測定子６１の先端方向に測定圧を付与するための測定圧付与手段の例であるバネ７６が、取り付け部材７８と筒状部材７３との間に配置されている。バネ７６によって、測定子軸６２が測定子６１の先端方向に傾斜するように常に付勢力が掛けられている。リムＲｉの測定時の初期状態では、取り付け部材７８が制限部材７８ａに当接することにより、測定子軸６２の傾斜が図８の状態（Ｚ方向に対する測定子軸６２の傾斜がゼロとなる状態）に制限される。なお、測定時の初期状態では、測定子軸６２が測定子６１の先端方向とは逆方向にわずかに傾斜（例えば、Ｚ方向に対して２～５度傾斜）する状態であってもよい。

＜測定子ユニット＞
図９は、図７の支持ユニット７０を上から見たとき概略図である。例えば、測定子ユニット６０は、眼鏡フレームＦのリムＲｉの形状（例えば、リムＲｉの玉型形状）を取得するために用いられる。測定子ユニット６０は、測定子６１と、測定子軸６２を備える。例えば、測定子６１は、測定子軸６２に取り付けられている。本実施例において、測定子軸６２から、測定子６１の先端６１ａに対する方向を、測定軸Ｌ３とする。

＜光学式測定ユニット＞
光学式測定ユニット３０について、図７～図１０を用いて説明する。なお、図１０は、光学式測定ユニット３０に備えられる光学系である、投光光学系３０ａと、受光光学系３０ｂと、の位置関係を示す概略図である。

例えば、光学式測定ユニット３０は、投光光学系３０ａと、受光光学系３０ｂと、カバー３０ｃと、で構成される。例えば、投光光学系３０ａ及び受光光学系３０ｂは、眼鏡フレームＦのリムＲｉの形状及び眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡの断面形状を取得するために用いられる。例えば、カバー３０ｃには開口部３８が設けられている。例えば、開口部３８には開口部３８を覆うような透明パネルが設けられていてもよい。投光光学系３０ａは、眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡに向けて、光源から測定光束を照射する。投光光学系３０ａからの測定光束は、保持ユニット２５の内部から外部へと、開口部３８を介して出射し、リム溝ＦＡに向けて照射される。例えば、受光光学系３０ｂは、眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡにて反射された測定光束の反射光束を、検出器３７によって受光する。眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡに反射された測定光束の反射光束は、保持ユニット２５の外部から内部へと、開口部３８を介して入射し、受光光学系３０ｂに向けて導光される。

＜投光光学系＞
例えば、投光光学系３０ａは、光源３１と、レンズ３２と、スリット板３３と、レンズ３４と、を備える。例えば、投光光学系３０ａの投光光軸をＬ１とする。例えば、光源３１から出射された測定光束は、レンズ３２によって集光し、スリット板３３を照明する。例えば、スリット板３３を照明した測定光束は、スリット板３３によって、細いスリット状に制限された測定光束となり、レンズ３４を介して、眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡに照射される。すなわち、眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡにスリット光が照射される。これにより、眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡは、スリット光により光切断された形で照明される。

＜受光光学系＞
例えば、受光光学系３０ｂは、レンズ３６と、検出器３７（例えば、受光素子）と、を備える。例えば、受光光学系３０ｂの受光光軸をＬ２とする。例えば、レンズ３６は、眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡでの反射により取得される、リム溝ＦＡの反射光束（例えば、リム溝ＦＡの散乱光、リム溝ＦＡの正反射光、等）を検出器３７に導く。例えば、検出器３７は、眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡと略共役な位置に配置された受光面を持っている。

＜投光光学系と受光光学系の配置＞
本実施例において、投光光学系３０ａと受光光学系３０ｂとはシャインプルーフの原理に基づいて配置される。例えば、眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡを投光光学系３０ａによるスリット光が光切断する切断面と、眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡを含むレンズ系（眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡ及びレンズ３６）と、検出器３７の受光面と、がシャインプルーフの関係で配置される。

＜光学式測定ユニットと測定子ユニットの測定位置関係＞
次いで、光学式測定ユニット３０による測定位置と、測定子ユニット６０による測定位置と、の関係について、図９を用いて説明する。

例えば、図９に示すように、本実施例において、光学式測定ユニット３０によって測定される第１測定位置Ｔと、測定子ユニット６０によって測定される第２測定位置Ｓと、が異なる測定位置を測定するように、光学式測定ユニット３０と測定子ユニット６０が配置されている。また、本実施例においては、第１測定位置Ｔと、第２測定位置Ｓと、が隣接した測定位置を測定するように、測定子ユニット６０と光学式測定ユニット３０が配置されている。本実施例においては、第１測定位置Ｔと、第２測定位置Ｓと、は、ずれ量ΔＤ分だけ測定位置がずれている。

なお、例えば、本実施例において、投光光学系３０ａの投光光軸Ｌ１及び受光光学系３０ｂの撮像光軸Ｌ２は、測定子６１の測定軸Ｌ３に対し、Ｚ方向に傾斜角度αだけ傾斜して配置されている。

また、例えば、本実施例において、第１測定位置Ｔと第２測定位置Ｓがより近い位置を測定可能とするために、光学式測定ユニット３０における投光光学系３０ａの光軸Ｌ１が、測定子６１から眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡの測定位置に向かう測定軸Ｌ３に対して、動径平面上（ＸＹ平面上）において傾斜角度β分だけ傾斜して配置されている。

さらにまた、例えば、本実施例において、投光光学系３０ａのスリット光により光切断された切断面が検出できるように、光学式測定ユニット３０における受光光学系３０ｂの撮像光軸Ｌ２が、投光光学系３０ａの光軸Ｌ１に対して、動径平面上（ＸＹ平面上）において傾斜角度γ分だけ傾斜して配置されている。すなわち、本実施例において、受光光学系３０ｂの撮像光軸Ｌ２は、ＸＹ平面に対してＺ方向に傾斜角度α分だけ下方に傾斜し、且つ、投光光学系３０ａの光軸Ｌ１に対して、ＸＹ平面上において傾斜角度γ分だけ傾斜して配置されている。

例えば、測定子ユニット６０と光学式測定ユニット３０は一体的に支持ユニット７０に支持されているため、測定子ユニット６０が移動されると、測定子ユニット６０の動きに合わせて、光学式測定ユニット３０が移動される。

＜制御部＞
図１１は、眼鏡枠形状測定装置１の制御系を示す図である。例えば、制御部５０には、モニタ３、スイッチ部４、光源３１、検出器３７、エンコーダ２６５ａ、各モータ、不揮発性メモリ５２（以下、メモリ５２）、等が電気的に接続されている。

例えば、制御部５０は、ＣＰＵ（プロセッサ）、ＲＡＭ、ＲＯＭ、等を備える。例えば、制御部５０は、眼鏡枠形状測定装置１における各部材の制御を司る。また、例えば、制御部５０は、各センサからの出力信号に基づくリム溝ＦＡの断面形状の演算等、各種の演算処理を行う演算部として機能する。また、制御部５０は、被干渉情報取得手段の機能を有する。例えば、ＲＡＭは、各種の情報を一時的に記憶する。例えば、ＲＯＭには、眼鏡枠形状測定装置１の動作を制御するための各種プログラム、初期値、等が記憶されている。なお、制御部５０は、複数の制御部（つまり、複数のプロセッサ）によって構成されてもよい。

例えば、メモリ５２は、電源の供給が遮断されても記憶内容を保持できる非一過性の記憶媒体である。例えば、メモリ５２としては、ハードディスクドライブ、フラッシュＲＯＭ、ＵＳＢメモリ、等を使用することができる。

＜装置の動作＞
次いで、本開示における装置の動作の一例を、図１２のフローチャート図を用いて説明する。なお、図１２のフローチャート図は、眼鏡枠形状測定装置１において制御部５０が実行するプログラムの例である。なお、本実施例において、リムＲｉの測定は、右リムＲＩＲから測定を行い、次いで左リムＲＩＬの測定を行うが、もちろん、左リムＲＩＬを先に測定し、次いで右リムＲＩＲの測定を行ってもよい。

まず、操作者は、フレーム保持ユニット１０に眼鏡フレームＦを保持させる。例えば、操作者は、眼鏡フレームＦの左右リムＲＩＲ，ＲＩＬが下方向、眼鏡フレームＦの左右のテンプルＦＴＬ，ＦＴＲが上方向となるように、フレーム保持ユニット１０に眼鏡フレームＦを保持させる。その後。操作者が、スイッチ部４を操作し、測定開始のトリガ信号を、制御部５０に入力する。

なお、例えば、フレーム保持ユニット１０に眼鏡フレームＦが保持されたことを、図示しないセンサが検知し、測定が開始されてもよい。

図１３（ａ）は、保持ユニット２５に備えられた測定子６１の先端６１ａが、初期位置ＳＲ１に位置する状態を示す図である。

なお、初期位置ＳＲ１は、測定開始前に、保持ユニット２５が配置されている所定の位置である。例えば、初期位置ＳＲ１のＸ方向の位置は、クランプピン１３０ａ、１３０ｂのＸ方向の中心位置である。例えば、初期位置ＳＲ１のＹ方向の位置は、前スライダー１０２と、後スライダー１０３に対する中心線ＣＬのＹ方向の位置と同じである。例えば、初期位置ＳＲ１のＺ方向の位置は、測定子６１がクランプピン１３０ｂのＺ方向の可動範囲の最下端１３０ｍｉｎよりも下側となる位置であり、例えば、Ｚ方向移動ユニット２２０の可動範囲の下端である。なお、本実施例においてクランプピン１３０ａ、１３０ｂのＸ方向の位置と、中心線ＣＬのＹ方向の位置は、予め設定されている位置であり、メモリ５２に保持されていてもよい。例えば、初期位置ＳＲ１において、測定子６１の先端６１ａは測定開始点ＦＳ側を向き、測定子軸６２は回転ベース２６１に対してＺ方向に垂直に位置するように配置されている。なお、初期位置ＳＲ１は、右リムＲＩＲのＸＹ方向の動径情報を得るための基準位置ＯＲとされる。また、Ｚ方向の基準位置は、クランプピン１３０ａとクランプピン１３０ｂ（クランプピン１３１ａとクランプピン１３１ｂ）の中間位置とされる。なお、初期位置ＳＲ１は、測定子６１と光学ユニット３０の位置関係により、上記と異なる位置であってもよい。

例えば、測定開始のトリガ信号が出力されると、制御部５０は、移動ユニット２１０、及び回転ユニット２６０の駆動を制御し、測定子６１の先端６１ａが、クランプピン１３０ａ、１３０ｂで挟持されたリムＲｉの溝部分に挿入されるように、保持ユニット２５を、初期位置ＳＲ１からＹ方向に移動させる。なお、保持ユニット２５を初期位置ＳＲ１から移動させることで、測定子６１の先端６１ａが挿入されたリム溝ＦＡの部分（及び測定子６１の先端６１ａの位置）を、測定開始点ＦＳとする。

図１３（ｂ）は、測定子６１の先端６１ａが測定開始点ＦＳに位置するように、保持ユニット２５が移動された状態を示す図である。例えば、測定開始点ＦＳの位置は、例えば、クランプピン１３０ａ、１３０ｂによって挟持されている部位に含まれる点である。

測定開始点ＦＳに測定子６１の先端６１ａが位置するように、保持ユニット２５を、初期位置ＳＲから移動させる方法の一例を説明する。

なお、制御部５０は、測定開始点ＦＳでは、測定子６１の測定軸Ｌ３がＸ方向に対して所定の角度δとなるように、回転ユニット２６０の回転ベース２６１を回転させる。所定の角度δは、例えば、測定子ユニット６０と、光学式測定ユニット３０の少なくとも一方が精度よくリムＲｉの形状を測定するために適切な角度であり、例えば、ＸＹ方向において、Ｘ方向に対して法線方向である。また、制御部５０は、測定子６１の先端６１ａが、測定開始点ＦＳの所定高さ（クランプピン１３０ａ、クランプピン１３０ｂのＺ方向における中点の位置）となるように、Ｚ方向移動ユニット２２０を移動させる。次に、制御部５０は、Ｘ方向移動ユニット２４０及びＹ方向移動ユニット２３０を駆動し、測定子６１の先端６１ａをリム溝ＦＡに挿入させる。測定子６１の先端６１ａがリム溝ＦＡに接触し、その状態からさらに保持ユニット２５がリムＲｉ側に移動されることにより、垂直状態にあった測定子軸６２が軸Ｓ２を中心にして傾斜させられる。測定子軸６２の傾斜がエンコーダ２８８の出力変化から検出されるため、測定子６１の先端６１ａがリム溝ＦＡに接触したことが、制御部５０により検知される。測定開始点ＦＳでは、測定子軸８２が、所定の角度（例えば、５度）だけ傾斜される位置まで、保持ユニット２５をリム溝ＦＡ側に移動させる。

このときの測定子６１の先端６１ａの位置は、移動ユニット２１０によって移動される保持ユニット２５のＸＹＺ位置情報と、測定子軸６２のＺ方向の移動量を検知するエンコーダ２８７の検知情報と、測定子軸６２の傾斜角を検知するエンコーダ２８８の検知情報と、回転ユニット２６０の回転角を検知するエンコーダ２６５ａの検知情報と、に基づいて求められ、メモリ５２に記憶される。

なお、測定子軸６２が傾斜する状態まで保持ユニット２５を移動させるのは、その後の測定点の測定に際し、リム溝ＦＡから離れる方向に対しても測定を可能にするためである。本実施例において、測定子６１は、リム溝ＦＡに挿入された後に軸Ｓ２を中心にリム溝ＦＡ側に傾斜され、バネ７５及びバネ７６によって測定圧が掛けられた状態とされる。この測定圧の発生により、測定子軸６２が垂直になるまで、測定子６１の先端６１ａはリム溝ＦＡの位置の変化に追従することができる。

なお、リムＲｉの測定開始に当たり、測定対象の眼鏡フレームＦが高カーブフレームか否かを、予め選択可能にしておくとよい。例えば、図１に示されるモニタ３の画面上に、測定対象の眼鏡フレームＦが高カーブフレームか否かを選択するための選択手段の例である選択スイッチ３ａが表示されている。選択スイッチ３ａによって高カーブフレームが選択された場合は、被干渉対象物に対する光学式測定ユニット３０の干渉を回避するための干渉回避測定モードが適用される。選択スイッチ３ａによって高カーブフレーム以外のフレーム（すなわち、低カーブフレーム）が選択された場合は、通常測定モードが適用される。以下、通常測定モードの場合の測定動作と、干渉回避測定モードの動作と、を順に説明する。

＜通常測定モード＞
図１４は、低カーブフレームの形状を測定する場合において、クランプピン１３０、１３１と、リムＲｉと、測定子６１と、光学式測定ユニット３０と、の位置関係を示す模式図である。図１４（ａ）は、図２に眼鏡フレームＦのリムＲｉがクランプピン（１３０、１３１）に保持された状態を、紙面の上方向から観察した図であり、図１４（ｂ）は、図２における矢印Ａ２の方向（手前方向）からリムＲｉを観察した図である。

図１４（ａ）に示されるように、測定子６１の先端６１ａがリムＲｉの右側のやや下方の測定点Ｆｎを測定する状態において、ＸＹ面を上から観察した場合、光学式測定ユニット３０がクランプピン１３０及びリムＲｉに干渉している状態に見える。しかし、図１４（ｂ）に示されるように、Ｚ方向において、クランプピン１３０ｂの下端よりも光学式測定ユニット３０の上面３０ｃＡが下方に位置するため、通常は、光学式測定ユニット３０と、リムＲｉ及びクランプピン１３０ｂと、の干渉は発生しない。このため、通常測定モードでは、クランプピン１３０ｂ等の干渉を避けるための特別な制御は行われない。

通常測定モードにおける、リム形状データ取得方法の一例について説明する。通常測定モードでは、制御部５０は、光学式測定ユニット３０により、リム溝ＦＡの断面形状を取得する。また、制御部５０は、測定子ユニット６０により、リム溝ＦＡの全周の三次元位置情報を取得する。

通常測定モードが開始されると、制御部５０は、光学式測定ユニット３０の光源３１を点灯する。光源３１の点灯により、眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡはスリット光により光切断される。スリット光で光切断された眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡからの反射光束は受光光学系３０ｂに向かい、検出器３７により受光される。制御部５０は、検出器３７によって受光された反射光束に基づいて、眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡの断面形状を取得する。なお、本実施例においては、断面形状として、断面画像を取得する。

例えば、測定子ユニット６０による測定について、制御部５０は、回転ユニット２６０を駆動することで、回転軸ＬＯの軸回りに測定子軸６２及び測定子６１を回転させる。また、制御部５０は、移動ユニット２１０を駆動させ、保持ユニット２５のＸＹ方向の位置を調整する。測定子６１は、リムＲｉ（リム溝ＦＡ）の変化に追従して、Ｘ方向、Ｙ方向、及びＺ方向に移動する。本実施例では、制御部５０は、測定子６１の先端６１ａをリムＲｉに沿って移動させる。このとき、制御部５０は、測定軸Ｌ３がリムＲｉの延びる方向に対して、ＸＹ方向において所定の角度δとなるように、移動ユニット２１０及び回転ユニット２６０の動作を制御し、測定子６１を移動させる。なお、所定の角度δは、例えば、予め定められた角度である。所定の角度δは、例えば、測定子ユニット６０と、光学式測定ユニット３０の少なくとも一方が精度よく眼鏡フレームＦの形状を測定するために適切な角度であり、例えば、ＸＹ方向において、リムＲｉの延びる方向に対して法線方向である。

なお、トレース時における測定子６１の先端６１ａの位置（すなわち、リム溝ＦＡの位置情報）は、保持ユニット２５のＸＹＺ方向の位置の検知情報（制御部５０が各モータの駆動量から検知する）と、回転ユニット２６０の回転角を検知するエンコーダ２６５ａの検知情報と、支持ユニット７０のＺ方向の移動量を検知するエンコーダ２８７の検知情報と、測定子軸６２の傾斜角を検知するエンコーダ２８８の検知情報と、に基づいて求められる。

制御部５０は、保持ユニット２５を移動させることによって、光学式測定ユニット３０（投光光学系３０ａ及び受光光学系３０ｂ）及び測定子ユニット６０を移動させ、眼鏡フレームＦのリムＲｉの輪郭を測定していく。これによって、眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡの断面形状及びリムＲｉの位置情報（本実施例においてはリムＲｉの玉型形状及び周長）を取得する。なお、本実施例においては、投光光学系３０ａ及び受光光学系３０ｂは、シャインプルーフの関係を維持した状態で、リムＲｉに対して移動される。すなわち、眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡに対して、光学式測定ユニット３０が一定の位置関係となるように移動させることで、眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡの断面形状が取得できる。

例えば、制御部５０は、ＸＹ方向において、基準位置ＯＲ（初期位置ＳＲ１）から測定子６１の先端６１ａと接しているリム溝ＦＡまでの動径角（θｎ）と、基準位置ＯＲからリム溝ＦＡまでの距離である動径長（ｒｎ）と、を測定子６１の先端６１ａの位置情報に基づいて求める。

制御部５０は、測定開始点ＦＳから、基準位置ＯＲを中心とした動径角（θｎ）が０度から３６０度となるように、保持ユニット２５を移動させ、リムＲｉ全周の形状を測定する。なお、動径角（θｎ）のときに測定子６１の先端６１ａが接するリムＲｉ上の点を、測定点Ｆｎとする。

なお、リムＲｉの形状を測定する際に、制御部５０は、既に測定したリムＲｉの部分の情報に基づいて、未測定の部分のリムＲｉの位置を予測し、保持ユニット２５の移動制御及び回転ユニット２６０の回転制御を行ってもよい。既に測定したリムＲｉの位置情報に基づいて、未測定の部分のリムＲｉの位置を予測する方法の一例を説明する。

例えば、動径角（θｎ）において、測定子６１の先端６１ａが、測定点Ｆｎに位置しているとき、次の測定点Ｆｎ＋１の位置は、測定点Ｆｎと、既に測定が行われた測定点Ｆｎ－１と、を通る直線上に存在すると予測される。なお、測定点Ｆｎ＋１の位置の予測のために、既に測定が行われた測定点は、複数用いられてもよい。

なお、既に測定したリムＲｉの位置情報に基づいて、未測定の部分のリムＲｉの位置を予測する方法は、特開２０１１－１２２８９９号公報等に記載された公知のものが使用できる。これにより、精度よくリムＲｉの形状を測定することができる。

光学式測定ユニット３０と、測定子ユニット６０と、が支持ユニット７０に一体的に支持されているため、測定子ユニット６０の移動に伴って、光学式測定ユニット３０によるリム溝に対する測定光束の照射位置が変更される。本実施例においては、測定子６１によるリム溝ＦＡの測定と、光学式測定ユニット３０によるリム溝の断面形状測定が並行して行われる。例えば、測定子６１のリム溝ＦＡに沿った移動によって、順にリム溝ＦＡの断面画像（断面形状）が取得されていく。すなわち、リムＲｉの断面画像を取得する位置がリムＲｉの周方向に移動されていく。なお、リムＲｉの断面画像を取得した位置は、測定子６１の先端からΔＤだけずれた値であり（図９参照）、測定子６１の先端６１ａの位置に基づいて求められる。例えば、取得された溝の断面形状情報の取得位置は、メモリ５２に記憶される。

光学式測定ユニット３０によるリムＲｉの断面画像の取得方法は、例えば、国際公開２０１９／０２６４１６号公報等に記載されたものが使用できる。

例えば、本実施例では、リムＲｉの全周に亘って、基準位置ＯＲを中心とした動径角（θｎ）ごとに、動径角（θｎ）における動径長（ｒｎ）と、動径角（θｎ）における測定点Ｆｎの位置情報（ｘｎ，ｙｎ，ｚｎ）（ｎ＝１、２、３、・・・、Ｎ）と、動径角（θｎ）におけるリム溝ＦＡの断面形状と、が取得される。例えば、本実施例では、リムＲｉの全周の測定ポイントは１，０００点であり、動径角は０．３６度毎に変化される。なお、本実施例において、測定点Ｆｎの位置情報は、三次元の直交座標で表されている。測定点Ｆｎの位置情報は、Ｘ方向及びＹ方向の位置を動径角θｎ及び動径長ｒｎによって二次元の極座標で表すと共に、Ｚ方向の位置をＺ座標で表した（ｒｎ，ｚｎ，θｎ）（ｎ＝１，２，３、・・・、Ｎ）に適宜変換されてもよい。

例えば、制御部５０は、リムＲｉ全周に亘って取得される動径角（θｎ）ごとに、動径角（θｎ）における動径長（ｒｎ）と、動径角（θｎ）におけるリム溝ＦＡの三次元玉型形状データ（ｘｎ，ｙｎ，ｚｎ）（ｎ＝１、２、３、・・・、Ｎ）と、動径角（θｎ）におけるリム溝ＦＡの断面形状と、をメモリ５２に記憶させる。

例えば、リムＲｉ全周に亘ってリム溝ＦＡの断面画像の取得が完了すると、制御部５０は、メモリ５２に記憶したリムＲｉ全周の断面画像と、リムＲｉ全周におけるリム溝ＦＡの位置情報を呼び出し、演算処理を行って、リムＲｉ全周におけるリムＲｉの三次元形状を取得する。例えば、制御部５０は、取得したリムＲｉ全周の三次元形状を、メモリ５２に記憶させる。なお、本実施例においては、リムＲｉ全周における断面形状の取得が完了した後に三次元断面画像を取得する構成を例に挙げて説明したが、これに限定されない。リム溝ＦＡの断面画像の各取得位置において、断面画像を取得する毎に、演算処理を行っていく構成であってもよい。

なお、本実施例において、投光光学系３０ａの光軸Ｌ１及び受光光学系３０ｂの撮像光軸Ｌ２は、ＸＹ平面に対して、Ｚ方向に傾斜角度α分だけ下方に傾斜して配置されている。また、例えば、光学式測定ユニット３０における投光光学系３０ａの光軸Ｌ１が、測定子６１から眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡの測定位置に向かう測定軸Ｌ３に対して、動径平面上（ＸＹ平面上）において傾斜角度β分だけ傾斜して配置されている。さらにまた、例えば、投光光学系３０ａの投光光軸Ｌ１及び受光光学系３０ｂの撮像光軸Ｌ２は、測定子６１から眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡの測定位置に向かう測定軸Ｌ３に対して、Ｚ方向において傾斜角度γ分だけ下方に傾斜して配置されている。上記のような構成に場合、例えば、制御部５０は、傾斜角度αと、傾斜角度βと、傾斜角度γと、の少なくともいずれかの傾斜角度に基づいて、リム溝ＦＡの断面形状を補正するようにしてもよい。一例として、制御部５０は、傾斜角度αと、傾斜角度βと、傾斜角度γと、の少なくともいずれかの傾斜角度を利用した三角関数によって、取得された眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡの断面形状を補正してもよい。さらにまた、例えば、光学式測定ユニット３０は、測定子軸６２と一体的に保持されていることから、制御部５０は、エンコーダ２８８によって取得される測定子軸６２の傾斜角度に基づいて、取得された眼鏡フレームＦのリム溝ＦＡの断面形状を補正してもよい。

このように、傾斜角度に基づき、リム溝ＦＡの断面形状を補正することによって、傾斜角度の影響によって生じた断面形状の歪みを補正した断面形状を取得することが可能となり、リム溝ＦＡの断面形状を精度よく取得することができる。

なお、例えば、測定子６１の先端６１ａをリム溝ＦＡに沿って移動させる際に、光学式測定ユニット３０によって取得された測定結果（例えば、断面画像）に基づいて、測定子６１の位置を調整しながら移動させるようにしてもよい。すなわち、光学式測定ユニット３０によるリム溝ＦＡの断面形状の測定が、測定子ユニット６０によるリム溝ＦＡの位置ｎ測定よりも先行して行われるため、制御部５０は、光学式測定ユニット３０によって取得されたリム溝ＦＡの断面形状に基づいて、測定子６１がリム溝ＦＡから脱落しないように、保持ユニット２５の移動を制御することができる。この場合、例えば、制御部５０は、光学式測定ユニット３０によって取得された断面画像を画像処理し、リム溝ＦＡの底を検出し、検出したリム溝ＦＡの底の位置に基づいて、測定子６１の先端６１ａがリム溝の底の位置に挿入されるように、保持ユニット２５の移動を制御してもよい。

例えば、制御部５０は、一方のリムＲｉ（右リムＲＩＲ）の測定が終了すると、Ｘ方向移動ユニット２４０の駆動を制御し、他方のリムの測定用の初期位置に保持ユニット２５を移動させる。上記の測定制御と同様にして、他方のリムの測定を行う。右リムＲＩＲ及び左リムＲＩＬの測定結果は、メモリ５２に記憶される。
以上のように通常測定モードを行うことで、制御部５０は、リムＲｉの３次元形状を取得する。

＜干渉回避測定モード＞
測定対象の眼鏡フレームＦが高カーブフレームであると選択され、干渉回避測定モードが適用された場合を説明する。なお、測定子ユニット６０によるリムＲｉの形状測定及び光学式測定ユニット３０による断面形状測定の動作は、前述の通常測定モードと基本的に同じであるので、ここでは、被干渉対象物に対する光学式測定ユニット３０の干渉回避の動作を中心に説明する。

高カーブフレームが選択された場合、制御部５０は、光学式測定ユニット３０と、被干渉対象物（クランプピン１３０ｂ、リムＲｉ，等）との干渉が測定動作中に起きる可能性を考慮し、玉型形状取得ユニット２０に干渉回避動作を行わせる干渉回避測定モードで、リムＲｉの三次元形状を取得する。

例えば、制御部５０は、干渉回避測定モードにおいて、通常測定モードと同様に、リムＲｉの形状を測定する際に、既に測定したリムＲｉの部分の情報に基づき、未測定の部分のリムＲｉの位置を予測する。例えば、制御部５０は、基準位置を中心とした動径角（θｎ）ごとに、リムＲｉ上の既に測定された部分の情報に基づいて動径角（θｎ）の次に測定が行われる動径角（θｎ＋１）において、測定子６１の先端６１ａが接触するリムＲｉ上の測定点Ｆｎ＋１の位置を予測する。なお、既に測定したリムＲｉの位置情報に基づいて未測定の部分のリムＲｉの位置を予測する方法は、通常測定モードと同様に、特開２０１１－１２２８９９号公報等に記載された周知のものが使用できる。

図１５は、光学式測定ユニット３０と、クランプピン１３０ｂとが干渉する典型的な例を説明する図であり、リムＲｉ，クランプピン１３０、１３１、光学式測定ユニット３０の位置関係を示す概略図である。図１５（ａ）は、測定平面を紙面の上方向から観察した図であり、図１５（ｂ）は、クランプピン１３０側からＹ軸と平行方向に観察した図である。

矢印Ｃ１は測定進行方向（図１５において時計回りの方向）であり、すなわちリムＲｉ形状測定時における測定子６１の移動方向である。本実施例において、光学式測定ユニット３０は測定子６１の下部に測定子軸６２と一体となって設置されており、また、光学式測定ユニット３０は測定子ユニット６０と一体的に移動される。光学式測定ユニット３０は測定子ユニット６０よりもＸＹ方向に大きい。このため、高カーブフレームに対して形状測定を行う場合であって、測定子ユニット６０及び光学式測定ユニット３０がリムＲｉ上のある測定点Ｆｎを測定しているときに、光学式測定ユニット３０が、測定点Ｆｎとは異なる部分のリムＲｉ、クランプピン１３０ｂ等と干渉してしまう可能性がある。

干渉回避測定モードでは、光学式測定ユニット３０と、被干渉対象物であるリムＲｉ及びクランプピン１３０ｂ等と、の干渉を回避しつつ、リムＲｉの形状データを取得する。

干渉回避測定モードにおいて、制御部５０の実行する干渉回避制御プログラムの一例について説明する。本開示では、光学式測定ユニット３０が、クランプピン１３０ｂ、１３１ｂと干渉する場合と、リムＲｉの未測定の部分と干渉する場合と、リムＲｉの測定済みの部分と干渉する場合と、に分けて説明する。

例えば、測定点Ｆｎにおいて、測定子６１からリム溝ＦＡ上の測定点Ｆｎ＋１に向かう測定軸Ｌ３が、リム溝ＦＡに所定の角度δ（通常測定モードと同じ）で挿入されるとし、制御部５０は干渉部位の例である後述の干渉領域ＩＲ（図１６参照）の位置を求める。

干渉回避測定モードにおいて、動径角（θｎ＋１）における測定点Ｆｎ＋１の位置が予測されると、所定の角度δに基づいて、測定点Ｆｎ＋１における保持ユニット２５の配置が求められる。保持ユニット２５には光学式測定ユニット３０及び測定子ユニット６０が一体的に保持されており、また、保持ユニット２５における光学式測定ユニット３０の位置は各種の検知器（エンコーダ２６５ａ、２８７、２８８等）によって求められる。そして、測定点Ｆｎ＋１における保持ユニット２５のＸＹの配置が移動ユニット２１０の制御情報によって検知されることで、測定点Ｆｎ＋１における光学式測定ユニット３０のＸＹＺ方向の配置が求められる。

図１６は、本実施形態における光学式測定ユニット３０の干渉部位の例である干渉領域ＩＲを示す図である。本実施例において光学式測定ユニット３０のうち、干渉領域ＩＲがクランプピン（１３０，１３１）及びリムＲｉと干渉することを想定し、干渉回避動作を行う。干渉領域ＩＲは、予め定められた、リムＲｉと干渉する可能性がある、光学式測定ユニット３０のカバー３０ｃ上の領域である。例えば、図１６の例では、干渉領域ＩＲは、カバー３０ｃ上の円形状の上面３０ｃＡにおける左側半分の角部の領域である。なお、光学式測定ユニット３０上において干渉領域ＩＲが位置する領域の座標位置は、光学式測定ユニット３０の形状によって変化する。なお、干渉領域ＩＲは、予め定められた光学式測定ユニット３０上の領域であるため、測定点Ｆｎにおける干渉領域ＩＲの配置（基準位置ＯＲを基準としたＸＹＺ位置）は、光学式測定ユニット３０の配置に基づいて求められる。

なお、本実施例において、干渉回避動作の判定のために、干渉領域ＩＲを設けるが、干渉領域ＩＲは光学式測定ユニット３０上の干渉点ＩＲＰであってもよい。
例えば、干渉点ＩＲＰは、複数のフレームを測定することで得られた干渉状態に基づいて設定される、光学式測定ユニット３０上の点である。
例えば、干渉点ＩＲＰは、クランプピン１３０ｂ、１３１ｂ及びリムＲiに対し、１点の干渉点ＩＲＰの干渉を回避すれば、干渉領域ＩＲの全体の干渉を回避する点として定められたものである。
制御部５０は、干渉回避測定モードにおいて、測定点Ｆｎ＋１における干渉領域ＩＲの配置に基づいて、干渉回避制御を行うか判定を行う。

＜クランプピンとの干渉を回避する場合＞
まず、制御部５０が、クランプピン１３０ｂに対して干渉回避を行う場合について説明する。

光学式測定ユニット３０と、クランプピン１３０ｂとが干渉する場合、光学式測定ユニット３０の位置と、クランプピン１３０ｂと、のＸＹＺ方向の位置が重なる。その一方で、光学式測定ユニット３０の位置とクランプピン１３０ｂの位置に関し、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向の少なくともいずれかの位置が異なれば、光学式測定ユニット３０と、クランプピン１３０ｂと、は干渉しない。

例えば、初めに、被干渉情報取得手段（制御部５０）によって被干渉対象物の被干渉情報（クランプピン１３０ｂ、１３１ｂ、測定済みのリムＲｉの形状情報、等）が取得される（ステップＳ１０１）。制御部５０は、干渉回避制御を行うか判定を行うために、クランプピン１３０ｂとの干渉を避けるための干渉判定ラインＩＬＣ（ＩＬＣＹ，ＩＬＣＺ）を設ける（図１５を参照）（ステップＳ１０２）。典型的な例では、干渉判定ラインＩＬＣは、被干渉情報取得手段（制御部５０）によって取得されたクランプピン１３０ｂのＸＹＺの配置位置に基づき、クランプピン１３０ｂから離れる方向に、予め定められた判定距離ｍに設定される基準線である。

干渉判定ラインＩＬＣは、本実施例において、Ｙ方向及びＺ方向に設定される。

例えば、Ｙ方向の第１の干渉判定ラインＩＬＣＹは、クランプピン１３０ｂの先端位置１３３から、中心線ＣＬに向かうＹ方向に、判定距離ｍだけ離れた位置に設定される。Ｙ方向におけるクランプピン１３０ｂの先端位置１３３は、スライダー１０２,１０３のＹ方向の開閉状態を検知する検知器１２０の検知情報と、クランプピン１３０ｂの長さＨＢＬと、支持軸１３２ｂの長さＳＳＢＬと、に基づいて取得される。なお、検知器１２０を利用しない場合は、Ｙ方向におけるクランプピン１３０ｂの先端位置１３３は、測定開始点ＦＳにおける測定子６１の先端６１ａのＹ方向位置と、クランプピン１３０ｂの長さＨＢＬと、測定可能なリムＲｉがクランプピン１３０によって保持されたたときのリムＲｉの最薄の距離と、に基づいて近似的に取得される。同様に、Ｙ方向の第２の干渉判定ラインＩＬＣＹがクランプピン１３１側にも設定される。なお、Ｙ方向の干渉判定ラインＩＬＣＹは、クランプピン１３０ｂの根本や、リム受け１３２ｂ等の、クランプピン１３０ｂの先端位置１３３以外の部分を基準に設定されても良い。

また、Ｙ方向におけるクランプピン１３０ｂの位置は、リムＲｉがフレーム保持ユニット１０に保持された状態で、制御部５０が移動ユニット２１０及び回転ユニット２６０を制御し、測定子６１の先端６１ａをクランプピン１３０ｂの先端位置１３３に当接させることで取得するようにしてもよい。すなわち、制御部５０は、測定子６１の先端６１ａを先端位置１３３に当接させたときの先端６１ａのＹ方向の座標位置を、移動ユニット２１０の制御データ、回転ユニット２６０の制御データ、測定子軸６２の傾斜データ、及び回転ユニット２６０に対する測定子軸６２のＺ方向の移動データ、等に基づいて求めることで、クランプピン１３０ｂの先端位置１３３を求めることができる。また、リム保持部材の例であるクランプピンの先端位置１３３は、クランプピン１３１ｂ側であってもよい。これは、クランプピン１３０ｂとクランプピン１３１ｂとは、Ｙ方向において中心線ＣＬを中心に対称に位置されるためである。またさらに、Ｙ方向におけるクランプピン１３０ｂの先端位置１３３を得る上では、クランプピン１３０ｂ又は１３１ｂに測定子６１の先端６１ａを当接させるのではなく、クランプピン１３０ｂ又は１３１ｂと既知の位置関係にある部材（例えば、リム受け３１３、スライダー１０２又は１０３のＹ方向の面、等）に測定子６１の先端６１ａを当接させて取得することでもよい。

例えば、Ｚ方向の干渉判定ラインＩＬＣＺは、クランプピン１３０ｂのＺ方向の可動範囲の最下端１３０ｍｉｎから、Ｚ軸に対して下方向に、判定距離ｍだけ離れた位置に設定される。最下端１３０ｍｉｎは、制御部５０によってメモリ５２から呼び出されて取得される。なお、判定距離ｍは干渉領域ＩＲとクランプピン１３０ｂとの干渉を回避するために予め設定された距離であり、例えば６ｍｍである。また、Ｚ方向の干渉判定ラインＩＬＣＺは、クランプピン１３０の可動中心を基準として設定されても良い。もちろん、判定距離ｍは、Ｙ方向、Ｚ方向でそれぞれ異なる値であってもよい。

制御部５０は、例えば、毎測定点Ｆｎごとに、次の測定点Ｆｎ＋１の位置を予測し、予測された測定点Ｆｎ＋１の位置情報に基づいて、測定点Ｆｎ＋１における干渉領域ＩＲの位置を求める（ステップＳ１０３）。測定点Ｆｎ＋１における干渉領域ＩＲの位置が、Ｙ方向の干渉判定ラインＩＬＣＹよりもクランプピン（１３０ｂ、１３１ｂ）側に存在すると求められ、且つ、Ｚ方向の干渉判定ラインＩＬＣＺよりもクランプピン（１３０ｂ、１３１ｂ）側に存在すると求められた場合（ステップＳ１０４）、制御部５０は、干渉回避制御を行うと判定する。制御部５０は、測定点Ｆｎから測定点Ｆｎ＋１へ測定子６１の先端６１ａを移動させると同時に、移動ユニット２１０及び回転ユニット２６０の動作を制御し、回避動作を行わせる。

一方、制御部５０は、干渉領域ＩＲが、Ｙ方向の干渉ラインＩＬＣＹ及びＺ方向の干渉判定ラインＩＬＣＺの少なくとも一方よりもクランプピン（１３０ｂ、１３１ｂ）側から離れた位置にある場合、干渉回避制御を行わないと判定する。（ステップＳ１０７）
なお、上記ではＹ方向とＺ方向に干渉判定ラインを設ける例を示したが、制御部５０は、Ｘ方向の干渉判定ラインＩＬＣＸを設けてもよい。例えば、Ｘ方向の干渉判定ラインＩＬＣＸの位置は、クランプピン１３０ｂのＸ方向の両端位置から、判定距離ｍだけクランプピンから離れる方向に設定される。なお、クランプピン１３０ｂのＸ方向の両端位置は、メモリ５２に記憶されたクランプピン１３０ｂの配置情報から取得される。Ｘ方向の干渉判定ラインを設ける場合、例えば、制御部５０は、光学式測定ユニット３０の位置が、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向いずれの干渉判定ラインＩＬＣよりもリムＲｉ側に存在すると予測された場合に、干渉回避制御を行うと判定する。

このように、複数の干渉判定ラインを用いることにより、不要な干渉回避動作が行われる頻度を減らすことができ、精度よくリムＲｉの三次元形状を取得することが出来る。

図１５の例においては、測定子６１は、測定点Ｆｎ＋１の位置を測定している。図１５において、干渉領域ＩＲは、Ｙ方向について、Ｙ方向の干渉判定ラインＩＬＣＹよりもリムＲｉ側に存在し、また、干渉領域ＩＲは、Ｚ方向について、Ｚ方向の干渉判定ラインＩＬＣＺよりもリム側に存在するため、制御部５０は、干渉回避制御を行うと判定する。

なお、ＸＹＺ方向のいずれか１つ以上の干渉判定ラインＩＬＣを用いることで、干渉回避動作を行うか判定する構成にしてもよい。例えば、干渉判定ラインＩＬＣとして、Ｙ方向の干渉判定ラインＩＬＣＹのみを用いる構成であってもよい。

制御部５０は、クランプピン１３０ｂに対して干渉回避制御を行うと判定した場合、移動ユニット２１０及び回転ユニット２６０の駆動を制御して、保持ユニット２５とリムＲｉとの干渉を回避させる。干渉を回避させる動作について、図１７を用いて説明する。図１７は、光学式測定ユニット３０をＹ方向に移動させることで干渉を回避する場合を示す図である。図１７（ａ）は、測定平面を紙面の上方向から観察した図であり、図１７（ｂ）は、測定平面をクランプピン１３０側からＹ軸と平行方向に観察した図である。

光学式測定ユニット３０の位置と、クランプピン１３０ｂ及びリムＲｉの位置について、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向の少なくともいずれかの位置が異なる場合、干渉は起こらないことから、干渉領域ＩＲの位置を、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向の少なくとも一方向に移動させることで、干渉を回避させることができる。

例えば、制御部５０は、干渉領域ＩＲをＹ方向に移動させることで、干渉領域ＩＲと、クランプピン１３０ｂとの干渉を回避させる。まず、制御部５０は、測定子６１の先端６１ａを測定点Ｆｎから未測定部分の測定点Ｆｎ＋１へ移動させるときに、測定点Ｆｎ＋１における干渉領域ＩＲのＹ位置（座標位置）を求める。次に、制御部５０は、求めた干渉領域ＩＲのＹ位置がＹ方向の干渉判定ラインＩＬＣＹを超えた距離である干渉量ΔＥを求める（ステップＳ１０５）。そして、制御部５０は、測定子６１の先端６１ａを測定点Ｆｎから測定点Ｆｎ＋１へ移動させると同時に、干渉領域ＩＲがＹ方向に干渉量ΔＥだけ移動した位置となるように移動ユニット２１０及び回転ユニット２６０の動作を制御する（ステップＳ１０６）。これにより、干渉領域ＩＲと、クランプピン１３０ｂと、の干渉を回避させることができる。このような干渉回避制御は、測定点Ｆｎ＋１以降の測定点においても、干渉量ΔＥが解消されるまで同様に行われる。

なお、測定子ユニット６０は光学式測定ユニット３０と一体的に保持されているため、回避動作を行ったとき、リムＲｉに対する、測定点Ｆｎ＋１におけるＸＹ方向の測定軸Ｌ３の角度は、本来の角度δに対して変化角Δｅ傾斜することとなる。測定点Ｆｎ＋１移行の測定点において、干渉量ΔＥが解消されるようになれば、本来の角度δとなるように測定子ユニット６０及び光学式測定ユニット３０が一体的に移動されるが、本来の角度δに戻す変化角Δｅが大きいと、測定精度に影響する可能性がある。その場合には、測定点毎に、徐々に本来の角度δに戻すように制御してもよい。例えば、０．５度毎に徐々に変化させるようにする。

また、例えば、制御部５０は、干渉回避制御として、干渉領域ＩＲを、Ｚ方向に移動させることで干渉を回避させる構成としても良い。図１８は、光学式測定ユニット３０をＺ方向に移動させることで干渉を回避する場合を示す図である。図１８（ａ）は、測定平面を紙面の上方向から観察した図であり、図１８（ｂ）は、測定平面をクランプピン１３０側からＹ軸と平行方向に観察した図である。

例えば、先の例と同じく、制御部７０は、測定点Ｆｎ＋１における干渉領域ＩＲのＺ位置を求めた後、求めた干渉領域ＩＲのＺ位置がＺ方向の干渉判定ラインＩＬＣＺを超えた距離である干渉量ΔＧを求める。また、制御部７０は、Ｚ方向の干渉判定ラインＩＬＣＺの同じ考え方がで、図１８に示されるように、クランプピン１３０ｂの右端に対するＸ方向の干渉判定ラインＩＬＣＸを設定する。そして、制御部７０は、干渉判定ラインＩＬＣＸよりクランプピン１３０ｂ側に位置する干渉領域ＩＲがＺ方向に干渉量ΔＧだけ移動した位置となるように、Ｚ方向に対する測定子軸６２の傾斜角ＸＡを求める。その後、制御部７０は、Ｚ方向に対する測定子軸６２の傾斜が傾斜角ＸＡとなるように、保持ユニット２５をＸＹ移動させる。これにより、クランプピン１３０ｂに対する光学式測定ユニット３０の干渉を回避できる。

なお、Ｘ方向の干渉判定ラインＩＬＣＸを設定する場合は、多少不利となるが、干渉判定ラインＩＬＣＸのみを使用することでもよい。すなわち、図１８において、制御部７０は、干渉領域ＩＲが干渉判定ラインＩＬＣＸよりクランプピン１３０ｂに近づかないように、測定子軸６２の傾斜角ＸＡを求め、測定子軸６２が傾斜角ＸＡとなるように保持ユニット２５をＸＹ移動させる。これにより、クランプピン１３０ｂに対する光学式測定ユニット３０の干渉を回避できる。

以上は、クランプピン１３０ｂに対する干渉回避について説明したが、クランプピン１３１ｂに対しても同様に行える。

＜リムの未測定部分との干渉を回避する場合＞
図１９は、リムＲｉの未測定部分対して光学式測定ユニット３０の干渉回避を行う場合について説明する図である。図１９（ａ）及び図１９（ｄ）において、上半分は測定平面を紙面の上方向から観察した図であり、下半分は測定平面をクランプピン１３０側からＹ軸と平行方向に観察した図である。図１９（ｂ）及び図１９（ｃ）において、上半分は測定平面を紙面の上方向から観察した図であり、下半分は測定平面をクランプピン１３１側からＹ軸と平行方向に観察した図である。

リムの未測定部分との干渉を回避する場合も、干渉回避制御を行うか判定を行うために、図１７で示したＹ方向の第１及び第２の干渉判定ラインＩＬＣＹと、Ｚ方向の干渉判定ラインＩＬＣＺが使用される。なお、測定子６１が進行する測定方向は、時計回りで、光学式測定ユニット３０が測定子６１より先行して測定する場合の例である。

例えば、図１９（ａ）、図１９（ｂ）のように、測定子６１がクランプピン１３０ｂより左側（鼻側）の測定点ＦＰ１、ＦＰ２を測定している状態のとき、ＸＹ方向では光学式測定ユニット３０がリムＲｉに干渉しているが、Ｚ方向では光学式測定ユニット３０（干渉領域ＩＲ）が干渉判定ラインＩＬＣＺより下に位置しているため、干渉は発生せず、干渉回避制御は行われない。

また、図１９（ｃ）にように、測定子６１がクランプピン１３１ｂより右側（耳側）の測定点ＦＰ３を測定している状態のとき、Ｚ方向では光学式測定ユニット３０（干渉領域ＩＲ）が干渉判定ラインＩＬＣＺより上に位置している。このため、Ｙ方向の第２の干渉判定ラインＩＬＣＹよりクランプピン１３１ｂ側に近づかないように回避制御動作が行われる。しかし、リムＲｉは耳側（装用状態の装用者の耳側）に行くに従ってＺ方向の位置が高くなっているので、干渉回避制御を行わなくても、通常は、光学式測定ユニット３０がリムＲｉに干渉することはない。

一方、図１９（ｄ）のように、測定子６１がクランプピン１３０ｂ、１３１ｂより右側（耳側）で、Ｙ方向に略平行に延びるリムＲｉの測定点ＦＰ４を測定して状態のとき、Ｚ方向では光学式測定ユニット３０（干渉領域ＩＲ）が干渉判定ラインＩＬＣＺより上に位置している。このため、先の例の図１７と同じく、光学式測定ユニット３０がＹ方向の１の干渉判定ラインＩＬＣＹよりクランプピン１３０ｂ側に近づかないように回避制御動作が行われる。この場合、図１８と同じく、制御部７０が測定子軸６２を傾斜角ＸＡとなるように傾斜させるように保持ユニット２５をＸＹ移動させることで、Ｚ方向及びＸ方向の少なくとも一方で干渉を回避させることでもよい。これにより、リムの未測定部分との干渉が回避される。

なお、以上の説明では、クランプピン（１３０ｂ、１３１ｂ）との干渉を回避するためのＹ方向の干渉判定ラインＩＬＣＹ、Ｚ方向の干渉判定ラインＩＬＣＺを共用したが、これらとは別に、リムの未測定部分との干渉を回避するための干渉判定ラインを設定してもよい。例えば、測定開始点ＦＳからある程度の測定ポイントでリム溝の断面形状の測定結果に基づき、Ｙ方向におけるリムＲｉの端面の位置情報が分かるため、これに基づいてＹ方向の干渉判定ラインを設定する。また、リム溝の断面形状の測定結果に基づき、Ｚ方向におけるリムＲｉの下端面の位置情報が分かるため、これに基づいてＹ方向の干渉判定ラインを設定する。この場合、クランプピン（１３０ｂ、１３１ｂ）との干渉を回避するための干渉判定ラインよりもリムＲｉ側に近づいた位置に干渉判定ラインを設定できるので、干渉回避の量を少なくでき、より精度よく測定ができる。

以上は、制御部５０が、クランプピン１３０ｂの位置を基準にＹ方向の第１の干渉判定ラインＩＬＣＹ及びＺ方向の干渉判定ラインＩＬＣＺを設定し、これらのラインから干渉物（例えば、光学式測定ユニット３０）が一定距離以上となるように干渉物（干渉部位）を移動させる例を説明したが、干渉回避の動作はこれに限られない。例えば、被干渉情報取得手段（制御部５０）によって取得された被干渉対象物（リム保持部材、リムの測定済み結果）の位置情報に基づき、被干渉対象物との干渉を回避するための回避領域を設定し、その回避領域に干渉物（干渉部位）が移動するように、変更手段（移動ユニット２１０、回転ユニット２６０）を制御することでもよい。

＜リムの測定済みの部分との干渉を回避する場合＞
次に、リムＲｉの測定済みの測定結果を利用してリムＲｉとの干渉を回避する例を、図２０に基づいて説明する。リムＲｉの測定済みの結果を干渉回避に利用する場合、光学式測定ユニット３０よりも測定子６１が先行して行われる。図２０の例においては、測定進行方向Ｃ２は反時計回りとされる。

例えば、制御部５０は、測定点Ｆｎから測定点Ｆｎ＋１に測定子６１の先端６１ａを移動させる際に、リムＲｉの測定済の部分の位置情報に基づいて干渉回避制御を行い、保持ユニット２５のＸＹ移動及び回転ユニット２６０の回転移動を制御することで干渉を回避させる。例えば、制御部５０は、測定済みの測定結果に基づいて測定点Ｆｎから次の未測定点である測定点Ｆｎ＋１を測定するように、測定子６１を移動させるとき、測定点Ｆｎ＋１における干渉領域ＩＲ（光学式測定ユニット３０のカバー３０ｃでもよい）のＸＹＺ位置（座標位置）を求める。次に、制御部５０は、求めた干渉領域ＩＲのＸＹＺ位置と、リムＲｉの測定済み領域ＭＡのＸＹＺ位置（座標位置）と、を比較することで、干渉が発生しているか否かを判定する。制御部５０は、干渉が発生している判定した場合、干渉回避制御を行う。例えば、Ｙ方向に回避する場合は、制御部５０は、干渉領域ＩＲのＹ方向の干渉量ΔＩを求める。そして、干渉量ΔＩに余裕量ΔＩＡを加えた量だけ、干渉領域ＩＲがリムＲｉの内側のＹ方向に移動した位置となるように、移動ユニット２１０及び回転ユニット２６０の動作を制御する。

なお、リムＲｉの測定済み領域ＭＡのＸＹＺ位置は、測定子６１による測定結果と光学式測定ユニット３０によるリム溝の断面形状とに基づき、リムＲｉの内側のＸＹ位置、リムＲｉのＺ方向における下側のＺ位置として求めればよい。これにより、測定済み領域ＭＡとの干渉を回避させることができる。このような干渉回避制御は、測定点Ｆｎ＋１以降の測定点においても、干渉量ΔＩが解消されるまで同様に行われる。

以上はＹ方向に干渉を回避する例を説明したが、同様な考えで、Ｘ方向又はＺ方向に回避する制御でもよい。Ｚ方向に回避する場合は、図１８に示したように、測定子軸６２を傾斜させることで回避できる。

なお、上記のリムＲｉの測定済みの測定結果を利用した回避制御は、Ｚ方向における測定子６１と光学式測定ユニット３０との高さ距離ＺＡが大きくないときに適用されると都合がよい。例えば、Ｚ方向における測定子６１と光学式測定ユニット３０との高さがほぼ同じ構成の場合には、Ｚ方向での干渉回避はできない。そのため、リムＲｉの測定済みの測定結果を利用し、Ｙ方向に光学式測定ユニット３０を移動させることで、干渉を回避できる。

＜干渉発生の検出＞
以上のような制御により、被干渉対象物と光学式測定ユニット３０との干渉を避けた測定が行われるが、リムＲｉの形状によっては必ずしも干渉が回避されない場合もある。以下では、例えば、測定子６１がリム溝ＦＡから脱落せずに、僅かに被干渉対象部と光学式測定ユニット３０との干渉が発生したまま、測定が終了した場合の例を説明する。

例えば、リムＲｉ全周に対する三次元形状データの測定が終了すると、次いで、制御部５０は、リムＲｉの測定結果に基づき、光学式測定ユニット３０（干渉領域ＩＲ）と、被干渉対象物（クランプピン１３０ｂ、１３１ｂ及びリムＲｉ、等）と、が、測定動作中に干渉したか否かの判定（検出）を行う。

光学式測定ユニット３０と被干渉対象物が測定動作中に干渉したかを検出する方法について説明する。図２１は、測定子６１によるリムＲｉの測定結果の内、Ｚ方向の測定結果を微分した結果をグラフで示した図である。干渉が発生せずに測定が終了した場合、リムのＺ方向の測定結果の微分値は、通常、緩やかに変化する。しかし、測定途中で干渉が発生した場合は、Ｚ方向の測定結果の微分値は急激に変化する。図２１は、測定点Ｆｎで干渉が発生し、その後、干渉の発生が無くなり、通常の測定結果が得られて測定が継続された例である。なお、リム溝から測定子６１が脱落すると、Ｚ方向の測定値を含めて動径長の測定値も急激に変化し、異常値となる。このため、リム溝から測定子６１が脱落したか否かは容易に検出される。この場合、測定は停止される。

なお、リムの測定中に光学式測定ユニットと被干渉対象物との干渉が発生したか否の検出は、測定子軸６２のＺ方向の移動量を検出するエンコーダ２８７の出力信号を利用してもよい。

図２１において、例えば、Ｚ方向の測定結果の微分値が所定の閾値Ｌｉｍを超えた場合、制御部５０は、そのときの測定点Ｆｎを被干渉対象物との干渉が発生した測定点として特定する。なお、図２１において、測定点Ｆｎの後に微分値がプラス側の閾値Ｌｉｍを超えているのは、干渉の発生が無くなり、再び、測定子６１がリム溝の中心に追従して通常の測定に戻った測定点を示している。

なお、Ｚ方向の測定結果又はエンコーダ２８７の検知情報を用いた干渉判定方法は、判定手段の一例であり、この方法に限定されない。例えば、光学式測定ユニット３０によって取得された断面画像について解析を行うことで、リム溝ＦＡの位置情報が取得される。このリム溝ＦＡの位置の遷移に基づいて、干渉判定を行ってもよい。

＜干渉発生の検出による再測定＞
制御部５０は、光学式測定ユニット３０と被干渉対象物とが干渉したと判定した場合、干渉回避制御を行いつつ再測定を行う。以下、再測定の動作を説明する。再測定の際、前回の測定時に干渉が検出され、特定された測定点Ｆｎにおいて、制御部５０は、干渉回避制御を行うことで、光学式測定ユニット３０と被干渉対象物との干渉を回避する。

再測定における干渉回避制御の一例について説明する。図２２は、干渉が発生した測定点における回避動作を説明する図である。図２２（ａ）は、干渉発生時のリムＲｉと光学式測定ユニット３０との位置関係を示す概略図である。図２２（ａ）において、測定点Ｆｎは干渉発生の測定点である。図２２（ａ）の上半分は、測定平面を紙面の上方向から観察した図であり、図２２（ａ）の下半分は、測定平面をクランプピン１３０側からＹ軸と平行方向に観察した図である。

例えば、制御部５０は、干渉の発生が特定された測定点Ｆｎに関し、干渉発生の測定時における光学式測定ユニット３０上の干渉領域ＩＲ（干渉部位）の配置位置（ＸＹＺの座標位置）を、干渉発生の測定時の制御データと、支持ユニット７０に対する光学式測定ユニット３０の配置データと、に基づいて求める（演算する）。例えば、干渉発生の測定時の制御データは、保持ユニット２５のＸＹＺ位置データ、回転ユニット２６０の回転制御データ、測定子軸６２の傾斜データ、及び回転ユニット２６０に対する測定子軸６２のＺ方向の移動データ、等である。また、支持ユニット７０に対する光学式測定ユニット３０上の干渉領域ＩＲの配置データは、設計値データであり、メモリ５２に記憶されている。測定点Ｆｎにおける干渉領域ＩＲの配置位置はメモリ５２に記憶される。なお、このときメモリ５２に記憶される干渉領域ＩＲの配置位置データは、例えば、Ｙ方向に干渉を回避する場合は、Ｙ座標データのみであってもよい。また、メモリ５２には、干渉発生の測定時の制御データが記憶され、再測定時に、記憶された制御データから干渉領域ＩＲの配置位置データが求められてもよい。

そして、制御部５０は、再測定時に測定点Ｆｎを測定させるときには、求めた干渉領域ＩＲの配置位置に対して、その干渉領域ＩＲが離れるように、移動ユニット２１０及び回転ユニット２６０の回転の制御を行う。

なお、干渉領域ＩＲの全体の配置位置を演算することは計算量が多くなるので、簡易的には干渉領域ＩＲに含まれる１点を干渉点ＩＲａとし、その干渉点ＩＲａの配置位置も演算してもよい。再測定では、僅かに干渉した部位がリムＲｉから離れるようにすればよいので、必ずしも干渉領域ＩＲの全体の配置位置を特定する必要がないためである。例えば、干渉点ＩＲａは、干渉発生時のリムＲｉの測定結果のリム形状に干渉領域ＩＲが最も近づいた点として定められる。あるいは、干渉点ＩＲａは、予め定められた部位であってもよい（例えば、干渉点ＩＲａは、光学式測定ユニット３０のカバー３０ｃの形状に応じて干渉が発生すると特定された点）。以下では、１点の干渉点ＩＲａがリムＲｉから離れるように制御する例を説明する。

再測定においても、被干渉対象物であるリムＲｉと光学式測定ユニット３０との干渉回避は、Ｘ、Ｙ及びＺ方向の少なくとも一方の方向で行えればよい。図２２（ｂ）は、Ｙ方向で干渉を回避する例を説明する図である。図２２（ｂ）の上半分は、測定平面を紙面の上方向から観察した図であり、図２２（ｂ）の下半分は、測定平面をクランプピン１３０側からＹ軸と平行方向に観察した図である。

例えば、制御部５０は、干渉の発生が特定された測定点Ｆｎにおいて、演算された干渉点ＩＲａのＹ位置から、リムＲｉから離れるＹ方向（中心線ＣＬ側方向）に、回避距離ΔＪ（例えば、１ｍｍ）だけ離れた位置に、Ｘ方向に略平行な干渉回避ラインＩＥＬＹを設ける。そして、制御部５０は、再測定で測定点Ｆｎを測定させるときには、干渉点ＩＲａのＹ位置が干渉回避ラインＩＥＬＹに位置するように（干渉回避ラインＩＥＬＹからリム内側に遠ざかるようにしてもよい）、移動ユニット２１０及び回転ユニット２６０の回転の制御を行う。これにより、測定点ＦｎにおけるリムＲｉと光学式測定ユニット３０の干渉が回避される。なお、特定された干渉発生の測定点Ｆｎが複数点ある場合（干渉発生の測定点Ｆｎが連続して存在する場合、離れた位置に存在する場合を含む）、制御部５０は、その複数点の測定点Ｆｎで同様な干渉回避動作を行う。

また、干渉発生時に特定された測定点Ｆｎに対し、再測定時には干渉発生の測定点が多少ずれる可能性がある。そのため、例えば、測定点Ｆｎにおける回避動作は、干渉発生のずれを考慮した前後の測定ポイントを含めて行われるようにしてもよい。

例えば、再測定の実行において、測定点Ｆｎでの回避動作が終了した後の後測定点では、本来の測定時における光学式測定ユニット３０の姿勢状態（干渉の発生が検出されたときの測定時の姿勢、あるいは、リムＲｉに対して測定子６１の測定軸Ｌ３が法線方向の角度δとなる状態）に戻す。しかし、本来の測定時における光学式測定ユニットの姿勢状態に急激に戻すと、リムＲｉに対する測定子６１の向き（測定軸Ｌ３の向き）が急激に変わり、測定精度が悪くなる可能性がある。これを避けるために、例えば、制御部５０は、干渉発生の測定点Ｆｎより後の後測定点を再測定するときには、干渉発生の測定点Ｆｎで光学式測定ユニット３０を干渉回避動作させた姿勢状態に対して、本来の測定時における光学式測定ユニット３０の姿勢状態に徐々に変化させるように、移動ユニット２１０及び回転ユニット２６０の回転の制御を行うようにしてもよい。測定ポイント毎に徐々に変化させる測定子６１の修正角度は０．５度である。例えば、全周の測定ポイントが１，０００点である場合、１つの測定ポイントの動径角は０．３６度である。

なお、本来の測定時における光学式測定ユニット３０の姿勢状態を徐々に変化させる制御は、後測定点の測定ポイント数を一定値（例えば、５０ポイント）に定めておき、本来の測定時における光学式測定ユニット３０の姿勢状態に戻す角度を、その測定ポイント数で割った角度で徐々に変化させることでもよい。

また、特定された干渉発生の測定点Ｆｎの前の前測定点において、後測定点の場合と同様に、本来の測定時における光学式測定ユニットの姿勢状態から回避動作の姿勢状態に急激に変化させると、リムＲｉに対する測定子６１の向きが急激に変わり、測定精度が悪くなる可能性がある。そのため、前測定点においても、制御部５０は、本来の測定時における光学式測定ユニット３０の姿勢状態から干渉発生の測定点Ｆｎで光学式測定ユニット３０を干渉回避動作させた姿勢状態に徐々に変化させるように、移動ユニット２１０及び回転ユニット２６０の駆動を制御してもよい。

なお、再測定時の制御プログラムを簡素化するために、前測定点での測定では、以下のように制御されてもよい。例えば、制御部５０は、回転ユニット２６０を回転させることで、測定軸Ｌ３のリムＲｉに対する角度を変更する。このとき、制御部５０は、測定子６１の先端６１ａの位置が測定点から変化しないように、移動ユニット２１０及び回転ユニット２６０の動作を制御する。このとき、回転ユニット２６０の回転速度と、移動ユニット２１０の移動速度の関係から、測定点ごとの測定軸Ｌ３のリムＲｉに対する角度の変更は、制限角ΔＢＡ（例えば、１０度）に制限される。すなわち、制御部５０は、余裕を見込んだ測定ポイント数の前測定点（例えば、測定点Ｆｎより５０ポイント前の測定点）から、干渉点ＩＲａのＹ位置が干渉回避ラインＩＥＬＹに向かうように、回転ユニット２６０及び移動ユニット２１０の制御を開始する。このとき、制御部５０は、１つの測定ポイントでの制限角ΔＢＡを上限として、測定軸Ｌ３のリムＲｉに対する角度の変化を制御する。例えば、測定子６１の先端６１ａ方向の角度変更を開始してから３ポイント目の測定点で、干渉点ＩＲａのＹ位置が干渉回避ラインＩＥＬＹに到達すれば、その後の前測定点では、制御部５０は、干渉点ＩＲａのＹ位置が干渉回避ラインＩＥＬＹとなるように移動ユニット２１０及び回転ユニット２６０の駆動を制御する。これにより、スムーズな測定が行える。

以上は、Ｙ方向で干渉を回避する例を説明したが、Ｘ方向で干渉を回避することでもよい。図２３は、Ｘ方向で干渉を回避する例を説明する図である。図２３の上半分は、測定平面を紙面の上方向から観察した図であり、図２３の下半分は、測定平面をクランプピン１３０側からＹ軸と平行方向に観察した図である。

例えば、制御部５０は、干渉の発生が特定された測定点Ｆｎにおいて、演算された干渉点ＩＲａのＸ位置から、リムＲｉから離れるＸ方向に、回避距離ΔＫ（例えば、１ｍｍ）だけ離れた位置に、Ｙ方向に略平行な干渉回避ラインＩＥＬＸを設ける。そして、制御部５０は、再測定で測定点Ｆｎを測定させるときには、干渉点ＩＲａのＸ位置が干渉回避ラインＩＥＬＸに位置するように（干渉回避ラインＩＥＬＸからリム内側に遠ざかるようにしてもよい）、移動ユニット２１０及び回転ユニット２６０の回転の制御を行う。これにより、測定点ＦｎにおけるリムＲｉと光学式測定ユニット３０の干渉が回避される。

なお、測定点Ｆｎより後の後測定点においては、Ｙ方向での回避制御と同じく、徐々に本来の測定時における光学式測定ユニット３０の姿勢状態を戻す制御を行ってもよい。また、測定点Ｆｎより前の前測定点のおいても、Ｙ方向での回避制御と同じく、本来の測定時における光学式測定ユニットの姿勢状態３０から干渉発生の測定点Ｆｎで光学式測定ユニット３０を干渉回避動作させた姿勢状態に徐々に変化させるように制御してもよい。

また、上記のＹ方向での回避制御とＸ方向での回避制御とを複合して用いてもよい。この場合、光学式測定ユニット３０の回避の移動が少ない方で制御を行うと、測定精度の低下を軽減できる。

また、特定された干渉発生の測定点Ｆｎの位置によってはＺ方向で干渉を回避してもよい。例えば、図１８に示したように、制御部５０は、移動ユニット２１０を制御して測定子軸６２を傾斜させ、干渉点ＩＲａのＺ位置が干渉発生時のＺ位置より下に位置される。これによって干渉を避けた測定が行える。

また、以上は、リムＲｉの測定終了後に再測定を実行する例を説明したが、リムＲｉの測定途中で干渉が発生したと検出された時点で測定を中止し、再測定を実行するようにしてもよい。

＜光学式測定ユニットの変容例＞
以上は、光学式測定ユニット３０が、測定子６１をその先端方向から見た時に、測定子６１に対して左右方向の一方に偏って配置された構成で説明したが、これに限られない。例えば、図２４に示すように、光学式測定ユニット３０は、測定子６１をその先端方向から見た時に、測定子６１の左右両側に配置された構成であってもよい。

図２４は、この変容例における支持ユニット７０に支持された光学式測定ユニット３０と測定子ユニット６０の一部を示す図である。光学式測定ユニット３０のカバー３０Ｄｃは、測定子６１の先端方向から見たとき、測定子軸６２を挟んで左右両側にほぼ均等に配置された構成である。この変容例の光学式測定ユニット３０の外観は、図７、図８等に示された先の例の光学式測定ユニット３０に対し、カバー３０Ｄｃの左右方向の配置が異なるのみで、他は基本的に同じである。この光学式測定ユニット３０においては、被干渉対象物に対する干渉領域は、図２４（ａ）において、カバー３０Ｄｃの上面上で、左側の半円の領域ＩＲ１と右側の半円の領域ＩＲ２に存在する。

図２５は、図２４に示した光学式測定ユニット３０を持つ眼鏡枠形状測定装置１において、被干渉対象物との回避動作を説明する図である。図２５において、測定子６１が進む測定方向は矢印Ｃ１方向（時計回り）とする。図２５（ａ）及び（ｂ）の上半分は、測定平面を紙面の上方向から観察した図であり、図２５（ａ）及び（ｂ）の下半分は、測定平面をクランプピン１３０側からＹ軸と平行方向に観察した図である。図２５（ｃ）及び（ｄ）の上半分は、測定平面を紙面の上方向から観察した図であり、図２５（ｃ）及び（ｄ）の下半分は、測定平面をクランプピン１３１側からＹ軸と平行方向に観察した図である。

この例の場合も、Ｚ方向の干渉判定ラインＩＬＣＺと、Ｙ方向の干渉判定ラインＩＬＣＹが設定されている。制御部５０は、光学式測定ユニット３０がＺ方向の干渉判定ラインＩＬＣＺより下に位置する場合、被干渉対象物と光学式測定ユニット３０との干渉は発生しないので、干渉回避動作は行わず、通常の測定動作を行う。制御部５０は、光学式測定ユニット３０がＺ方向の干渉判定ラインＩＬＣＺより下に位置する場合、次のように干渉回避動作を行う。

例えば、制御部５０は、測定子６１より先行する側に位置する光学式測定ユニット３０の領域ＩＲ１の干渉回避動作については、Ｙ方向の干渉判定ラインＩＬＣＹに基づいて行う。制御部５０は、測定子６１より後側に位置する光学式測定ユニット３０の領域ＩＲ２の干渉回避動作については、リム保持部材の配置情報及びリムＲｉの測定済み結果に基づいて行う。

図２５（ａ）は、測定子６１より先行する側の領域ＩＲ１が、Ｙ方向の干渉判定ラインＩＬＣＹよりクランプピン１３０ｂ側に近づいた場合の例である。この場合、制御部５０は、図２５（ｂ）のように、領域ＩＲ１がＹ方向の干渉判定ラインＩＬＣＹよりクランプピン１３０ｂ側に位置しないように、移動ユニット２１０及び回転ユニット２６０の動作を制御する。

図２５（ｃ）は、測定子６１より後側に位置する領域ＩＲ２がクランプピン１３１及び測定済みのリムＲｉに近づいた場合の例である。この場合、制御部５０は、図２５（ｄ）のように、クランプピン１３１の配置情報及びリムＲｉの測定済み結果に基づき、領域ＩＲ２がクランプピン１３１及びリムＲｉから離れるように移動ユニット２１０及び回転ユニット２６０の動作を制御する。

このような干渉回避制御により、光学式測定ユニット３０が測定子６１の左右両側（測定子６の先端方向から見た時の左右）に位置する構成の場合であっても、干渉を回避した測定を良好に行える。

以上、本開示の典型的な実施例を説明したが、本開示はここに示した実施例に限られず、本開示の技術思想を同一にする範囲において種々の変容が可能である。

１ 眼鏡枠形状測定装置
２５ 保持ユニット
３０ 光学式測定ユニット
５０ 制御部
６０ 測定子ユニット
６１ 測定子
７０ 支持ユニット
１３０ クランプピン
２１０ 移動ユニット
２６０ 回転ユニット
３００ クランプ機構

Claims (6)

1. 眼鏡フレームのリムの形状を測定する眼鏡枠形状測定装置であって、
   眼鏡フレームのリムを測定状態に保持するためのリム保持部材を持つフレーム保持手段と、
   リムの溝に挿入される測定子を持つ測定子ユニットと、
   リムの溝の形状を光学的に測定するための光学式測定ユニットと、
   前記測定子ユニットと光学式測定ユニットとを一体的に支持する支持ユニットと、
   リムと前記支持ユニットとの相対的な位置関係を変更する変更手段と、
   前記変更手段を制御する制御手段と、
   前記リムの測定結果に基づき、前記リムの測定中に、前記フレーム保持手段に保持された眼鏡フレームの前記リム及び前記リム保持部材の少なくとも何れかを含む被干渉対象物に対し、前記測定子ユニット、前記光学式測定ユニット及び前記支持ユニットの少なくとも何れかを含む干渉物の干渉が発生したか否かを検出する干渉発生検出手段と、
   前記干渉発生検出手段によって干渉が発生したことが検出されたときに前記リムの形状の再測定を実行する再測定実行手段と、
   前記干渉発生検出手段の検出結果に基づいて前記被干渉対象物と前記干渉物との干渉が発生した測定点を特定する測定点特定手段と、
   を備え、
   前記制御手段は、特定された前記測定点を再測定するときには、前記変更手段を制御することで前記干渉物の干渉回避動作を行うことを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
2. 請求項１の眼鏡枠形状測定装置において、
   特定された前記測定点における前記干渉物の干渉部位の配置位置を、前記変更手段の制御情報に基づいて求める演算手段を備え
   前記制御手段は、特定された前記測定点を再測定するときに、前記演算手段によって求められた干渉部位の前記配置位置に対して動径方向及び動径方向に垂直な垂直方向の少なくとも一つの方向に前記干渉回避動作を行うことを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
3. 請求項２の眼鏡枠形状測定装置において、
   前記制御手段は、特定された前記測定点を測定するときに、前記干渉部位に含まれる干渉点であって、前記干渉物上に定められた干渉点の前記配置位置に対して前記干渉点が動径方向で前記リムの内側方向に一定距離以上となるように、前記干渉回避動作を行うことを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
4. 請求項１～３の何れかの眼鏡枠形状測定装置において、
   前記制御手段は、特定された干渉発生の前記測定点より後の後測定点を再測定するときには、干渉発生の前記測定点で前記干渉物を干渉回避動作させた姿勢状態に対して、本来の測定時における前干渉物の姿勢状態に段階的に変化させるように前記変更手段を制御することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
5. 請求項１～４の何れかの眼鏡枠形状測定装置において、
   前記制御手段は、特定された干渉発生の前記測定点より前の前測定点を再測定するときに、本来の測定時における前記干渉物の姿勢状態から干渉発生の前記測定点で前記干渉物を干渉回避動作させた姿勢状態に段階的に変化させるように前記変更手段を制御することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
6. 眼鏡フレームを保持するためのリム保持部材を持つフレーム保持手段と、前記リムの溝に挿入される測定子を持つ測定子ユニットと、前記リムの溝の形状を光学的に測定するための光学式測定ユニットと、前記測定子ユニットと光学式測定ユニットとを一体的に支持する支持ユニットと、前記リムと前記支持ユニットとの相対的な位置関係を変更する変更手段と、を備える眼鏡枠形状測定装置の制御プログラムであって、
   前記リムの測定結果に基づき、前記リムの測定中に、前記被干渉対象物と前記干渉物との干渉が発生したか否かを検出する干渉発生検出ステップと、
   前記干渉発生検出ステップによって干渉の発生が検出されたときにリムの形状の再測定を実行する再測定実行ステップと、
   前記干渉発生検出ステップの検出結果に基づいて前記被干渉対象物と前記干渉物との干渉が発生した測定点を特定する測定点特定ステップと、
   前記変更手段を制御する制御ステップであって、特定された前記測定点を再測定するときには、前記変更手段を制御することで前記干渉物の干渉回避動作を行う制御ステップと、
   を眼鏡枠形状測定装置の制御ユニットに実行させることを特徴とする眼鏡枠形状測定装置の制御プログラム。

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