JPWO2019003767A1 - アルコキシアルキル基を有するイソシアヌル酸誘導体及びその製造方法 - Google Patents

アルコキシアルキル基を有するイソシアヌル酸誘導体及びその製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】アルコキシアルキル基を2つ有すると共にトリアルコキシシリル基が導入された新規なイソシアヌル酸誘導体、及びその製造方法を提供する。【解決手段】常温常圧の下で液体である、下記式(1)で表されるイソシアヌル酸誘導体。【化1】(式中、R1はメチル基又はエチル基を表し、2つのR2はそれぞれ炭素原子数1又は2のアルキレン基を表し、2つのR3はそれぞれメチル基、エチル基、又は炭素原子数2乃至4のアルコキシアルキル基を表す。)【選択図】なし

Description

本発明は、アルコキシアルキル基を2つ有すると共にトリアルコキシシリル基が導入された新規なイソシアヌル酸誘導体、及びその製造方法に関する。
イソシアヌル酸モノアリルとトリエトキシシランとを反応させて下記式(E−2):
Figure 2019003767
で表されるイソシアヌル酸誘導体を得ること、並びに得られたイソシアヌル酸誘導体、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン及びフェニルトリメトキシシランを用いて下記式(3−5):
Figure 2019003767
で表されるポリマーを得ること、さらに得られたポリマーを用いてレジスト下層膜形成組成物を調製することが、特許文献1の実施例に記載されている。しかしながら、アルコキシアルキル基を2つ有するイソシアヌル酸誘導体は、特許文献1に記載されていない。
国際公開2011/102470号
本発明は、例えばレジスト下層膜形成組成物の原料としての用途が期待される、新規なイソシアヌル酸誘導体を提供することを目的とする。
本発明の発明者は、イソシアヌル酸モノアリル(別称:モノアリルイソシアヌレート)を出発原料として、アルコキシアルキル基を2つ有すると共にトリアルコキシシリル基が導入されたイソシアヌル酸誘導体を得た。すなわち、本発明は、下記式(1)で表されるイソシアヌル酸誘導体である。
Figure 2019003767
(式中、Rはメチル基又はエチル基を表し、2つのRはそれぞれ炭素原子数1又は2のアルキレン基を表し、2つのRはそれぞれメチル基、エチル基、又は炭素原子数2乃至4のアルコキシアルキル基を表す。)
前記式(1)で表されるイソシアヌル酸誘導体は、常温常圧の下で液体である。ここで、常温常圧とは、本明細書では、温度20℃乃至25℃、気圧101kPaと定義する。
本発明はまた、イソシアヌル酸モノアリルとアルカリ金属炭酸塩とを反応させ、得られた反応物と下記式(a)で表される化合物とを反応させて下記式(b)で表される中間体を得る工程、及び前記式(b)で表される中間体と下記式(c)で表されるシラン化合物とをヒドロシリル化反応させて前記式(1)で表されるイソシアヌル酸誘導体を得る工程を含む、イソシアヌル酸誘導体の製造方法である。
Figure 2019003767
(式中、R、R及びRは前記式(1)における定義と同義であり、Xは塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。)
前記式(a)で表される化合物は、例えば、下記式(a−1)乃至式(a−10)で表される化合物からなる群から選択される。
Figure 2019003767
(式中、Xは前記式(a)における定義と同義である。)
前記アルカリ金属炭酸塩は、例えば、炭酸カリウム又は炭酸セシウムである。
本発明のイソシアヌル酸誘導体は、レジスト下層膜形成組成物等のポリマー又はオリゴマー成分の原料としての用途が期待される。当該イソシアヌル酸誘導体は常温で液体で得られるため、蒸留精製が可能である。そのため、当該イソシアヌル酸誘導体の合成に使用された触媒に由来する残留金属を低減することができる。通常、レジスト下層膜形成組成物は、金属不純物を含まないか、又はその含有量をできるだけ低くすることが求められる。一方、特許文献1に記載の発明で得られる前記式(E−2)で表されるイソシアヌル酸誘導体は、常温で固体であるため蒸留精製が不可能である。
本発明のイソシアヌル酸誘導体は、アルコキシアルキル基を2つ有すると共にトリアルコキシシリル基が導入された、前記式(1)で表される化合物である。当該式(1)において、Rで表される炭素原子数1又は2のアルキレン基として、例えばメチレン基及びエチレン基が挙げられる。また、当該式(1)において、Rで表される炭素原子数2乃至4のアルコキシアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状いずれでもよく、当該アルコキシアルキル基として、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、及びメトキシプロピル基が挙げられる。
本発明のイソシアヌル酸誘導体として、例えば、下記式(1−1)乃至式(1−9)で表される化合物が挙げられる。下記式中、“Et”はエチル基を表す。
Figure 2019003767
本発明のイソシアヌル酸誘導体は、イソシアヌル酸モノアリルとアルカリ金属炭酸塩とを反応させ、得られた反応物と下記式(a)で表される化合物とを反応させて前記式(b)で表される中間体を得る工程、及び前記式(b)で表される中間体と前記式(c)で表されるシラン化合物とをヒドロシリル化反応させる工程を経て得られる。前記中間体を得る工程は、前記式(a)で表される化合物がアルカリ金属炭酸塩と優先的に反応することを避けるため、二段階で行われることが特徴である。イソシアヌル酸モノアリルは、アルカリ金属炭酸塩との反応により、窒素原子と結合した水素原子が引き抜かれる。前記ヒドロシリル化反応では、遷移金属触媒を用い、前記中間体のアリル基と前記シラン化合物とを反応させる。前記遷移金属触媒として、代表的には白金触媒が用いられるが、白金触媒は貴金属を含むことに起因して高価であるため、より低価格の遷移金属触媒が検討されている。前記白金触媒として、例えば、Karstedt触媒及び塩化白金酸が挙げられる。
以下、具体例を挙げて本発明を説明する。しかし、本発明は必ずしも以下に挙げる具体例に限定されるわけではない。
[収率算出方法]
後述する合成例及び実施例に示す収率は、得られた化合物の質量と理論収量を用いて百分率で計算したものである。なお、前記理論収量は、合成に使用した原料化合物のモル数と得られる化合物の分子量を乗じることにより算出したものである。
[原料化合物の合成]
<合成例1>
2Lの四つ口フラスコに、イソシアヌル酸モノアリル(四国化成工業(株)製)150.0g、N−メチル−2−ピロリジノン750g、及び炭酸カリウム306.4gを仕込み、25℃で撹拌した。その後、前記フラスコ内の混合物を0〜5℃まで冷却し、その冷却された混合物にクロロメチルメチルエーテル(東京化成工業(株)製)178.5gを、該混合物の温度が5℃以下となるように滴下し、滴下後25℃まで昇温して2.5時間反応を行った。反応後、得られた反応液に酢酸エチル1500gを加えて該反応液を希釈し、さらにろ過し、ろ液とろ物に分離した。その後、前記ろ物を酢酸エチル150gで2回洗浄し、該ろ物中に残留する目的物を酢酸エチル溶液として回収した。それから、回収した酢酸エチル溶液を前記ろ液に加え、これをイオン交換水1500gで3回分液し、有機層を取り出した。さらにエバポレーターで前記有機層から酢酸エチルを除去し、目的物である下記式(b−1)で表される化合物を透明粘性液体として得た(収率66.0%)。
Figure 2019003767
得られた化合物について、H−NMRスペクトルを測定することにより同定した。結果を以下に示す。なお、測定に使用した溶媒は重水素化クロロホルム、測定温度は室温、基準試料はテトラメチルシラン(TMS)である。
H−NMR(500MHz):3.46〜3.47ppm(s,6H)、4.45〜4.55ppm(d,2H)、5.25〜5.36ppm(m,6H)、5.86〜5.90ppm(m,1H)
<合成例2>
500mLの四つ口フラスコに、イソシアヌル酸モノアリル(四国化成工業(株)製)20.0g、N−メチル−2−ピロリジノン100.0g、及び炭酸カリウム40.86gを仕込み、25℃で撹拌した。その後、前記フラスコ内の混合物を0〜5℃まで冷却し、その冷却された混合物に2−メトキシエトキシメチルクロリド(東京化成工業(株)製)38.76gを、該混合物の温度が5℃以下となるように滴下し、滴下後25℃まで昇温して2.5時間反応を行った。反応後、得られた反応液にトルエン200gを加えて該反応液を希釈し、さらにろ過し、ろ液とろ物に分離した。その後、前記ろ物をトルエン20gで2回洗浄し、該ろ物中に残留する目的物をトルエン溶液として回収した。それから、回収したトルエン溶液を前記ろ液に加え、これをイオン交換水200gで3回分液し、有機層を取り出した。さらにエバポレーターで前記有機層からトルエンを除去し、目的物である下記式(b−2)で表される化合物を透明粘性液体として得た(収率42.3%)。
Figure 2019003767
得られた化合物について、H−NMRスペクトルを測定することにより同定した。結果を以下に示す。なお、測定に使用した溶媒は重水素化ジメチルスルホキシド、測定温度は室温、基準試料はテトラメチルシラン(TMS)である。
H−NMR(500MHz):3.19〜3.22ppm(s,6H)、3.37〜3.42ppm(t,4H)、3.62〜3.68ppm(t,4H)、4.34〜4.38ppm(dd,2H)、5.19〜5.24ppm(m,6H)、5.79〜5.86ppm(m,1H)
<実施例1>
300mLの四つ口フラスコに、合成例1で得られた前記式(b−1)で表される化合物 15.0g、トルエン75.0g、及びKarstedt触媒[白金(0)−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体(白金として〜2質量%)キシレン溶液](SIGMA−ALDRICH社製)0.56gを仕込み、25℃で撹拌した。その後、前記フラスコ内の混合物にトリエトキシシラン(東京化成工業(株)製)28.67gを、該混合物の温度が30℃以下となるように滴下し、滴下後100℃まで昇温して2時間反応を行った。反応後、得られた反応液にジクロロメタン150gを加え、イオン交換水75gで2回分液し、有機層を取り出した。さらにエバポレーターで前記有機層からジクロロメタン、トルエン、及び過剰に含まれているトリエトキシシランを除去し、粗生成物を得た。得られた粗生成物を蒸留により精製を行い、目的物である下記式(1−1)で表される化合物を透明粘性液体として得た(収率37.4%)。
Figure 2019003767
得られた化合物について、H−NMRスペクトルを測定することにより同定した。結果を以下に示す。なお、測定に使用した溶媒は重水素化ジメチルスルホキシド、測定温度は室温、基準試料はテトラメチルシラン(TMS)である。
H−NMR(500MHz):0.50〜0.60ppm(m,2H)、1.10〜1.20ppm(t,9H)、1.55〜1.65ppm(m,2H)、3.26〜3.35ppm(s,6H)、3.68〜3.82ppm(m,8H)、5.13〜5.18ppm(s, 4H)
<実施例2>
500mLの四つ口フラスコに、合成例2で得られた前記式(b−2)で表される化合物 48.52g、トルエン242.6g、及びKarstedt触媒[白金(0)−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体(白金として〜2質量%)キシレン溶液](SIGMA−ALDRICH社製)1.34gを仕込み、25℃で撹拌した。その後、前記フラスコ内の混合物にトリエトキシシラン(東京化成工業(株)製)29.74gを、該混合物の温度が30℃以下となるように滴下し、滴下後100℃まで昇温して2時間反応を行った。反応後、得られた反応液にジクロロメタン485.2gを加え、イオン交換水242.6gで2回分液し、有機層を取り出した。さらにエバポレーターで前記有機層からジクロロメタン、トルエン、及び過剰に含まれているトリエトキシシランを除去し、粗生成物を得た。得られた粗生成物を蒸留により精製を行い、目的物である下記式(1−8)で表される化合物を透明粘性液体として得た(収率 49.2%)。
Figure 2019003767
得られた化合物について、H−NMRスペクトルを測定することにより同定した。結果を以下に示す。なお、測定に使用した溶媒は重水素化クロロホルム、測定温度は室温、基準試料はテトラメチルシラン(TMS)である。
H−NMR(500MHz):0.60〜0.65ppm(m,2H)、1.14〜1.23ppm(t,9H)、1.70〜1.78ppm(m,2H)、3.30〜3.33ppm(s,6H)、3.48〜3.52ppm(m,4H)、3.7713〜3.89ppm(m,12H)、5.39〜5.42ppm(s,4H)
<比較例1>
500mLの四つ口フラスコに、イソシアヌル酸モノアリル(四国化成工業(株)製)30.09g、トルエン150.73g、及びKarstedt触媒[白金(0)−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体(白金として〜2質量%)キシレン溶液](SIGMA−ALDRICH社製)1.71gを仕込み、25℃で撹拌した。その後、前記フラスコ内の混合物にトリエトキシシラン(東京化成工業(株)製)37.78gを、該混合物の温度が30℃以下となるように滴下し、滴下後100℃まで昇温して25時間反応を行った。反応後、得られた反応液からエバポレーターでトルエン、及び過剰に含まれているトリエトキシシランを除去し、得られた粗生成物にジクロロメタン303.70gを加え、イオン交換水155.14gで3回分液し、有機層を取り出した。得られた有機層からエバポレーターでジクロロメタンを除去し、得られた粗生成物にテトラヒドロフラン330.86gを加えて、該粗生成物を溶解させ、25℃で10分間撹拌したのち、ろ過し、ろ液とろ物に分離した。その後、得られたろ液からエバポレーターでテトラヒドロフランを除去し、得られた粗生成物にトルエン276.18gを加えて、25℃で10分間撹拌したのち、ろ過し、ろ液とろ物に分離した。その後、得られたろ物からエバポレーターでトルエンを除去し、目的物である下記式(2)で表される化合物を淡黄色固体として得た(収率43.2%)。
Figure 2019003767
得られた化合物について、H−NMRスペクトルを測定することにより同定した。結果を以下に示す。なお、測定に使用した溶媒は重水素化ジメチルスルホキシド、測定温度は室温、基準試料はテトラメチルシラン(TMS)である。
H−NMR(500MHz):0.50〜0.60ppm(m,2H)、1.10〜1.15ppm(t,9H)、1.50〜1.60ppm(m,2H)、3.55〜3.65ppm(t,2H)、3.48〜3.52ppm(m,4H)、3.70〜3.80ppm(m,6H)、11.3〜11.4ppm(s,2H)
本発明のイソシアヌル酸誘導体は、例えば、リソグラフィー用反射防止膜形成組成物、レジスト下層膜形成組成物、レジスト上層膜形成組成物、光硬化性樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物、平坦化膜形成組成物、接着剤組成物、その他の組成物に適用することができる。本発明のイソシアヌル酸誘導体は、また、前記組成物に使用されるオリゴマー又はポリマーを合成する際の、原料化合物として適用することができる。

Claims (5)

  1. 下記式(1)で表されるイソシアヌル酸誘導体。
    Figure 2019003767
    (式中、Rはメチル基又はエチル基を表し、2つのRはそれぞれ炭素原子数1又は2のアルキレン基を表し、2つのRはそれぞれメチル基、エチル基、又は炭素原子数2乃至4のアルコキシアルキル基を表す。)
  2. 常温常圧の下で液体である、請求項1に記載のイソシアヌル酸誘導体。
  3. イソシアヌル酸モノアリルとアルカリ金属炭酸塩とを反応させ、得られた反応物と下記式(a)で表される化合物とを反応させて下記式(b)で表される中間体を得る工程、及び前記式(b)で表される中間体と下記式(c)で表されるシラン化合物とをヒドロシリル化反応させて前記式(1)で表されるイソシアヌル酸誘導体を得る工程を含む、請求項1又は請求項2に記載のイソシアヌル酸誘導体の製造方法。
    Figure 2019003767
    (式中、R、R及びRは前記式(1)における定義と同義であり、Xは塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。)
  4. 前記式(a)で表される化合物は下記式(a−1)乃至式(a−10)で表される化合物からなる群から選択される、請求項3に記載のイソシアヌル酸誘導体の製造方法。
    Figure 2019003767
    (式中、Xは前記式(a)における定義と同義である。)
  5. 前記アルカリ金属炭酸塩は炭酸カリウム又は炭酸セシウムである、請求項3又は請求項4に記載のイソシアヌル酸誘導体の製造方法。
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KR102061530B1 (ko) * 2010-02-19 2020-01-02 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 질소 함유환을 가지는 실리콘 함유 레지스트 하층막 형성 조성물
KR101923244B1 (ko) * 2011-07-13 2018-11-28 주식회사 다이셀 경화성 에폭시 수지 조성물
JP2015013846A (ja) 2013-06-03 2015-01-22 四国化成工業株式会社 ジアリルイソシアヌレート化合物および誘導体
KR20180026486A (ko) * 2015-07-01 2018-03-12 사빅 글로벌 테크놀러지스 비.브이. 증강된 경도를 갖는 플라스틱 표면 및 이의 제조 방법

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