JPH04235992A - シクロペンタジエニル基含有ジシロキサン及びその製造方法 - Google Patents

シクロペンタジエニル基含有ジシロキサン及びその製造方法

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JPH04235992A
JPH04235992A JP234991A JP234991A JPH04235992A JP H04235992 A JPH04235992 A JP H04235992A JP 234991 A JP234991 A JP 234991A JP 234991 A JP234991 A JP 234991A JP H04235992 A JPH04235992 A JP H04235992A
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克浩 上原
Toshinobu Ishihara
俊信 石原
Mikio Endo
幹夫 遠藤
Toru Kubota
透 久保田
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、合成樹脂の改質剤とし
て、また各種の官能基をもつジシロキサンの合成原料と
して有用な新規物質であるシクロペンタジエニル基含有
ジシロキサン及びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】合成樹脂のうち、オレフィン系ゴムのエ
チレン−プロピレン−ジエン共重合体(EPDM)やエ
チレン−プロピレン共重合体(EPM)は、ジエン系ゴ
ムに比べて耐熱性、耐候性及び耐オゾン性が非常に優れ
ている。このため、自動車部品や工業製品のうち、例え
ばタイヤ、ベルト、ウェザーストリップ、各種シール材
、チューブ、ホース類、電線などに、エチレン−プロピ
レン−ジエン共重合体やエチレン−プロピレン共重合体
が有効に使用され、近年その需要量を大幅に伸ばしてい
る。だが、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体やエ
チレン−プロピレン共重合体は、今後の技術開発の課題
としてさらに耐熱性、耐候性及び耐油性の向上が要求さ
れている。
【0003】前記物性を更に向上させるための改質剤と
して、シクロペンタジエニル基含有ジシロキサンが知ら
れている。また、シクロペンタジエニル基含有ジシロキ
サンを重合して高分子量の両末端シクロペンタジエニル
基含有シリコーンオイルに変性し、改質剤として使用す
ることも知られている。前記化合物を改質剤として使用
するにあたっては、エチレン−プロピレン−ジエン共重
合体やエチレン−プロピレン共重合体とブレンドするか
、または架橋用の第3成分のジエン系モノマーとしてエ
チレン及びプロピレンと共重合するなどの手段が用いら
れる。
【0004】ところが、従来シクロペンタジエニル基含
有ジシロキサンとしては、一般にシクロペンタジエニル
基が直接ケイ素に結合している1,3−ビス(シクロペ
ンタジエニル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロ
キサンが知られているのみであり、このものの使用によ
っても前記物性は満足すべきレベルにまで向上しえるも
のではなかったため、更なる物性の向上が可能な新規な
改質剤が要望されていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記の課題を
解決するためなされたもので、各種合成樹脂、特にエチ
レン−プロピレン−ジエン共重合体やエチレン−プロピ
レン共重合体の改質剤として有用であり、しかもまた各
種の官能基をもつジシロキサンの合成原料としても有用
なシクロペンタジエニル基含有ジシロキサン及びその簡
便な製造方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記要望に
応えるべく鋭意検討を重ねた結果、一般式(2)
【00
07】
【化4】
【0008】で示されるハロアルキル基含有ジシロキサ
ンと、シクロペンタジエニルナトリウムとを無水条件下
において、中性極性有機溶媒中で反応させることにより
、一般式(1)
【0009】
【化5】
【0010】で示されるシクロペンタジエニル基含有ジ
シロキサン[前記式(1)及び式(2)中のXはハロゲ
ン原子、R1、R2は互いに同一または異種の一価炭化
水素基、mは1〜3の整数]が簡単な工程で確実に合成
できるとともに、このものが各種合成樹脂、特にエチレ
ン−プロピレン−ジエン共重合体(EPDM)やエチレ
ン−プロピレン共重合体(EPM)の改質剤として有用
であり、しかもまた各種の官能基を持つジシロキサンの
合成原料としても有用であることを見い出し、本発明を
なすに至った。
【0011】本発明の新規物質は、一般式(1)、
【0
012】
【化6】
【0013】(式(1)中のR1、R2は互いに同一ま
たは異種の一価炭化水素基、mは1〜3の整数)で示さ
れるシクロペンタジエニル基含有ジシロキサンである。
【0014】前記シクロペンタジエニル基含有ジシロキ
サンにおいて、R1、R2がメチル基であり、かつ、m
が1または3であるものが工業的に原料が入手できるこ
とから特に好ましい。
【0015】化学式(1)で示されるシクロペンタジエ
ニル基含有ジシロキサンの製造方法は、以下の通りであ
る。一般式(2)、
【0016】
【化7】
【0017】(式(2)中のXはハロゲン原子、R1、
R2は互いに同一または異種の一価炭化水素基、mは1
〜3の整数)で示されるハロアルキル基含有ジシロキサ
ンと、シクロペンタジエニルナトリウムとを無水条件下
において、中性極性有機溶媒中で反応させるものである
【0018】前記化学式(2)のハロアルキル基含有ジ
シロキサンとシクロペンタジエニルナトリウムとの反応
は、下記化学反応式(3)で示される脱塩反応である。 この反応は中性極性有機溶媒中でシクロペンタジエンモ
ノマーと金属ナトリウムとを反応させることにより調整
したシクロペンタジエニルナトリウムの溶液中にハロア
ルキル基含有ジシロキサンを撹拌しながら滴下すること
により実施される。
【0019】
【化8】
【0020】前記化学式(2)で示されるハロアルキル
基含有ジシロキサンのR1、R2は低級アルキル基、例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、また
はアリール基、例えばフェニル基が好ましく、特にメチ
ル基のものが工業的に入手が容易なために好ましい。前
記化学式(2)中のハロゲン原子Xは、例えば塩素原子
、臭素原子、ヨウ素原子が好ましい。前記化学式(2)
で示されるハロアルキル基含有ジシロキサンとしては、
例えば次のようなものが例示できる。
【0021】
【化9】
【0022】前記製造方法において使用される中性極性
有機溶媒としては、例えばテトラハイドロフラン、ジオ
キサン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、
ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテ
ルなどのエーテル系溶媒が好ましい。前記エーテル系溶
媒と飽和炭化水素系溶媒、または芳香族系溶媒との混合
溶媒でもよい。飽和炭化水素系溶媒としては、例えばn
−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、イソオクタ
ン、シクロヘキサンが例示できる。芳香族系溶媒として
は、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン
が例示できる。前記中性極性有機溶媒のうち、テトラハ
イドロフランは、水洗による除去が可能であり、安価で
取扱い易いので特に好ましい。
【0023】前記製造方法における反応は無水条件下に
おいて行なうので、反応操作は不活性ガス、例えば窒素
、ヘリウム、アルゴンの雰囲気下において行なうことが
好ましい。水の存在下で反応を行なった場合、シクロペ
ンタジエニルナトリウムの加水分解による損失が生じ、
収率が減少する。
【0024】前記製造方法の反応終了後、化学反応式(
3)に示す反応により生じたハロゲン化ナトリウム及び
若干の未反応のシクロペンタジエニルナトリウムを水洗
によって除去し、次いで溶媒を水洗または蒸留によって
除去することにより、十分使用に耐え得る純度の目的物
である前記化学式(1)のシクロペンタジエニル基含有
ジシロキサンが得られるが、さらに精製を要する場合に
は、通常の精製手段、例えば蒸留、各種クロマトグラフ
ィ、抽出などを適用すればよい。
【0025】前記製造方法において、種々の条件は以下
の通りにするとよい。
【0026】原料であるハロアルキル基含有ジシロキサ
ンとシクロペンタジエニルナトリウムの使用モル比は、
反応が定量的に進行するため前記化学反応式(3)が示
すように1/2で十分であるが、特に限定はしなくても
よい。
【0027】反応温度については以下の通りに設定する
とよい。ハロアルキル基含有ジシロキサンの滴下時には
、通常−50℃から溶媒の沸点までであり、好ましくは
0℃から室温までである。滴下終了後から反応の完結ま
での間は、通常−50℃から溶媒の沸点までであり、好
ましくは0℃から溶媒の沸点までである。
【0028】反応時間は通常1〜80時間の範囲で自由
に選ぶことができる。反応圧力は大気圧下で反応が十分
進行するので、通常は常圧で実施すればよく、必要に応
じて加圧下で実施することもできる。
【0029】なお、前記化学式(2)のハロアルキル基
含有ジシロキサンにおいて、化学反応式(3)で示され
るシクロペンタジエニルナトリウムとの反応時間は、X
が塩素の場合には反応の完結に数日間必要であり、Xが
ヨウ素の場合には数時間でよい。従って、短時間で高収
率の目的物を得るためには、ヨウ素置換のハロアルキル
基含有ジシロキサンを使用するとよい。ヨウ素置換のハ
ロアルキル基含有ジシロキサンの生成方法は、以下の通
りである。対応する塩素置換のハロアルキル基含有ジシ
ロキサンとヨウ化ナトリウムとをケトン系溶媒、例えば
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ンの中で、溶媒の還流温度下で反応させることにより、
容易に定量的に得ることができる。
【0030】また、本発明のシクロペンタジエニル基含
有ジシロキサンを合成原料として、両末端シクロペンタ
ジエニル基含有シリコーンオイルを得る場合は、本発明
の化合物と環状シロキサン、例えばオクタメチルシクロ
テトラシロキサンを重合触媒の存在下で平衡化させるこ
とにより得ることができる。重合触媒としてはアルカリ
触媒、例えばKOH、または酸触媒、例えば硫酸が使用
できる。
【0031】
【作用】本発明の化合物を新規な官能性ジシロキサンの
合成として用いる場合における作用は、以下の通りであ
る。
【0032】本発明のシクロペンタジエニル基含有ジシ
ロキサンが分子内に保有するシクロペンタジエニル基に
は、二重結合の炭素原子に少なくとも一つ以上の電子吸
引性基が結合した化合物(ジエノフィル)をディールス
・アルダー反応により付加させることができる。従って
本発明の前記化学式(1)で表わされるシクロペンタジ
エニル基含有ジシロキサンは、新規な官能性ジシロキサ
ンの合成原料となりうるものである。ディールス・アル
ダー反応によりシクロペンタジエニル基に付加できるジ
エノフィルとしては、例えばチオフェン、ベンゾキノン
、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、アクリ
ロニトリルなどが挙げられる。前記ジエノフィルを付加
させることにより、それぞれの官能特性を持つ新規な官
能性ジシロキサンを得ることができるのである。
【0033】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
は下記の実施例に制限されるものではない。
【0034】実施例1 1,3−ビス(γ−シクロペンタジエニルプロピル)−
1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンの合成温度
計、撹拌装置、ジムロート冷却器を備えた1000ml
の四口ガラス製反応器の内部を、あらかじめ十分窒素で
置換しておく。その後、テトラハイドロフラン(THF
)中でシクロペンタジエンモノマーと金属ナトリウムと
から調整したシクロペンタジエンナトリウムを1.02
mol含有するピンク色のTHF溶液479.2gを反
応器に投入する。これに水冷撹拌下28〜30℃の温度
範囲を維持しつつ、1,3−ビス(γ−ヨードプロピル
)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン228
.1g(0.49mol)を2.4時間かけて滴下した
。滴下と共に発熱が生じ、同時に小豆色の細かな結晶分
が大量に析出した。次に、室温下でさらに撹拌を2時間
続けた後、内部組成をGC(ガスクロマトグラフィ)で
測定したところ、原料の1,3−ビス(γ−ヨードプロ
ピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンは
完全に消費されていた。前記溶液にn−ヘキサン100
ml及び水200mlを添加し、未反応のシクロペンタ
ジエニルナトリウムを潰した後、さらに水層が中性にな
るまで水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した
後、減圧濃縮した。次に得られた褐色油状の残渣の質量
スペクトル(MS)、核磁気共鳴スペクトル( 1HN
MR)、赤外吸収スペクトル(IR)を測定したところ
下記の結果が得られ、目的物である1,3−ビス(γ−
シクロペンタジエニルプロピル)−1,1,3,3−テ
トラメチルジシロキサンであることが確認できた。収率
は78%であった。
【0035】測定結果 ・質量スペクトル(MS):m/z(スペクトル強度比
、帰属) 346(13,M+)、 331(2,M−CH3)、
 239(53,M−C5H5(CH2)3)、 22
5(3)、 211(19)、 195(6)、 159(6)、 149(6)、 1
33(100)、 117(12)、 105(5)、
 73(16)、 59(6) ・核磁気共鳴スペクトル( 1HNMR):δ(ppm
【0036】
【化10】
【0037】 a:0.10(6H,s)          b:0
.30〜0.75(2H,m)      c:1.0
5〜1.75(2H,m) d:1.80〜2.40(2H,m)    e:2.
60〜2.95(1H,m)      f:4.92
〜6.40(4H,m) ・赤外吸収スペクトル(IR):(cm−1)3040
、 2950、 2920、 1445、 1415、
 1380、1343、 1257、 1175、 1
060(SiOSi)、840、 795、 670実
施例2 1,3−ビス(シクロペンタジエニルメチル)−1,1
,3,3−テトラメチルジシロキサンの合成実施例1に
おいて1,3−ビス(γ−ヨードプロピル)−1,1,
3,3−テトラメチルジシロキサンの代わりに1,3−
ビス(ヨードメチル)−1,1,3,3−テトラメチル
ジシロキサンを用いた以外は同様にして1,3−ビス(
シクロペンタジエニルメチル)−1,1,3,3−テト
ラメチルジシロキサンを得た。この化合物は質量スペク
トル(MS)で確認した。
【0038】測定結果 ・質量スペクトル(MS):m/z(スペクトル強度比
、帰属) 290(13,M+)、  275(4,M−CH3)
、  211(100,M−C5H5CH2)、  1
95(20)、  133(98)、117(13)、
  103(5)、  73(19)、  59(9)
【0039】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明のシ
クロペンタジエニル基含有ジシロキサンは、各種合成樹
脂、なかでもエチレン−プロピレン−ジエン共重合体(
EPDM)やエチレン−プロピレン共重合体(EPM)
の改質剤として有用であり、しかもまた化合物の分子中
に含まれるシクロペンタジエニル基にディールス・アル
ダー反応により容易に別種の官能基を導入できることか
ら、新規な各種官能性ジシロキサンの合成原料となりう
る。また、本発明のシクロペンタジエニル基含有ジシロ
キサンを合成原料として、同じく前記の改質剤として有
用な両末端シクロペンタジエニル基含有シリコーンオイ
ルも得ることができる。
【0040】本発明の製造方法によれば容易に入手可能
な原料を用いることにより、簡単な工程で確実に新規な
シクロペンタジエニル基含有ジシロキサンを製造できる
ものである。
【0041】本発明のシクロペンタジエニル基含有ジシ
ロキサンは、シクロペンタジエニル基がアルキレン鎖を
介してケイ素に結合しているため、従来のシクロペンタ
ジエニル基含有ジシロキサンである1,3−ビス(シク
ロペンタジエニル)−1,1,3,3−テトラメチルジ
シロキサンと比較して各種合成樹脂の物性、例えば耐候
性、可撓性および無機化合物との密着性などの向上、さ
らにまた各種合成樹脂との相溶性の向上などが可能であ
る。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  一般式(1) 【化1】 (式(1)中のR1、R2は互いに同一または異種の一
    価炭化水素基、mは1〜3の整数)で示されるシクロペ
    ンタジエニル基含有ジシロキサン。
  2. 【請求項2】  R1、R2がメチル基である請求項1
    に記載のシクロペンタジエニル基含有ジシロキサン。
  3. 【請求項3】  前記式(1)中のmが1であり、R1
    、R2がメチル基である請求項1に記載のシクロペンタ
    ジエニル基含有ジシロキサン。
  4. 【請求項4】  前記式(1)中のmが3であり、R1
    、R2がメチル基である請求項1に記載のシクロペンタ
    ジエニル基含有ジシロキサン。
  5. 【請求項5】  一般式(2) 【化2】 で示されるハロアルキル基含有ジシロキサンと、シクロ
    ペンタジエニルナトリウムとを無水条件下において、中
    性極性有機溶媒中で反応させることを特徴とする一般式
    (1) 【化3】 で示されるシクロペンタジエニル基含有ジシロキサンの
    製造方法[前記式(1)及び式(2)中のXはハロゲン
    原子、R1、R2は互いに同一または異種の一価炭化水
    素基、mは1〜3の整数]。
  6. 【請求項6】  R1、R2がメチル基である請求項5
    に記載のシクロペンタジエニル基含有ジシロキサンの製
    造方法。
  7. 【請求項7】  前記式(1)及び式(2)中のmが1
    であり、R1、R2がメチル基である請求項5に記載の
    シクロペンタジエニル基含有ジシロキサンの製造方法。
  8. 【請求項8】  前記式(1)及び式(2)中のmが3
    であり、R1、R2がメチル基である請求項5に記載の
    シクロペンタジエニル基含有ジシロキサンの製造方法。
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