JPWO2018100600A1 - 半導体装置、制御装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本実施の形態1における半導体装置101の断面図である。半導体装置101は、ベース板1と、そのベース板1の表面1aに絶縁層2と接合材3aとを介して保持される半導体素子4とを備える。ベース板1は、本実施の形態1においては、金属板であり、例えば、Cu、AlまたはCuを主成分とする合金などを含む。ベース板1は、例えば、ヒートシンクである。絶縁層2は、例えば表面に回路パターンが配置された絶縁性の基板であり、例えば実装基板である。接合材3aは、絶縁層2と半導体素子4とを接合する。接合材3aは、例えばはんだである。半導体素子4は、例えばSiCまたはGaNを主成分に有するパワー半導体チップである。なお、図1示す半導体装置101は、ベース板1の面内に2つの絶縁層2を含み、各々の絶縁層2上に、2個ずつの半導体素子4が配置される。図1に示すその半導体装置101は一例であり、絶縁層2および半導体素子4の配置個数および配置は、これらに限定されない。
半導体装置101の端子部7に外部装置(図示せず)、例えば端子台、コンデンサ、モーターなどを接続した場合、それら外部装置の振動や熱変形によって生じる外部応力が、リードフレーム5に加わる。本実施の形態1の半導体装置101は、リードフレーム5を伝って入力される外部応力を固定部6にて遮断する。つまり、半導体装置101は、固定部6よりもリードフレーム5の先端方向に位置する半導体素子4に入力される外部応力を緩和する。半導体装置101は、想定外の外部応力がリードフレーム5に入力されたとしても、その応力によって半導体素子4または接合材3bにクラック等の欠陥が生じることを防ぐ。そして、半導体装置101は、半導体素子4の致命的な故障を回避する。
実施の形態2における半導体装置について説明する。なお、実施の形態1と同様の構成および動作、効果については説明を省略する。
以上をまとめると、本実施の形態2における半導体装置102が備えるハウジング9は、枠形状を有するハウジング本体9fと、ハウジング本体9fの内側に配置され、ハウジング本体9fよりも高さが低い段差部9eとを含む。固定部6は、段差部9eに配置される。半導体装置102は、リードフレーム5の一部5cをハウジング9の段差部9eに固定する。このような構成を備える半導体装置102は、半導体素子4が保持されるベース板1とは別の部材であるハウジング9にて、端子部7またはリードフレーム5の一端5aからリードフレーム5に入力される外部応力を受け遮断する。よって、半導体素子4に加わる応力はさらに低減される。半導体装置102は、外部応力によって半導体素子4または接合材3bにクラック等の欠陥が生じることを防ぐ。そして、半導体装置102は、半導体素子4の致命的な故障を回避する。
本実施の形態3における半導体装置について説明する。なお、実施の形態1または実施の形態2と同様の構成および動作、効果については説明を省略する。
本実施の形態4における半導体装置について説明する。なお、実施の形態1から実施の形態3のいずれかと同様の構成および動作、効果については説明を省略する。
本実施の形態5における半導体装置について説明する。なお、実施の形態1と同様の構成および動作、効果については説明を省略する。
本実施の形態6における半導体装置について説明する。なお、実施の形態2または実施の形態5のいずれかと同様の構成および動作、効果については説明を省略する。
本実施の形態7における半導体装置について説明する。図7は、本実施の形態7における半導体装置107の断面図である。
以上をまとめると、本実施の形態7における半導体装置107は、ベース板1と、ベース板1上に保持される半導体素子4と、ベース板1上に配置され、半導体素子4を内包する枠形状を有するハウジング9と、ハウジング9の外面9cに設けられ、外部装置に接続可能な端子部7と、一端5aがハウジング9に設けられる端子部7に接続可能に配置され、他端5bが接合材3bを介して半導体素子4上に接続される長尺状のリードフレーム5と、ハウジング9内に配置され、ハウジング9内のリードフレーム5と半導体素子4とを封止する封止材8とを備える。リードフレーム5は、ハウジング9内において、一部が凹状に屈曲する屈曲部11を含む。
本実施の形態8における半導体装置について説明する。なお、実施の形態7と同様の構成および動作、効果については説明を省略する。
本実施の形態9における半導体装置について説明する。なお、実施の形態7または実施の形態8と同様の構成および動作、効果については説明を省略する。
本実施の形態10における制御装置について説明する。図10は、本実施の形態10における制御装置201を示す図である。
本実施の形態11における制御装置について説明する。図11は、本実施の形態11における制御装置202を示す図である。
Claims (22)
- ベース板(1)と、
前記ベース板(1)上に保持される半導体素子(4)と、
前記ベース板(1)上に配置され、前記半導体素子(4)を内包する枠形状を有するハウジング(9)と、
前記ハウジング(9)の外面(9c)に設けられ、外部装置に接続可能な端子部(7)と、
一端(5a)が前記ハウジング(9)に設けられる前記端子部(7)に接続可能に配置され、他端(5b)が接合材(3b)を介して前記半導体素子(4)上に接続される長尺状のリードフレーム(5)と、
前記ハウジング(9)内に配置され、前記ハウジング(9)内の前記リードフレーム(5)と前記半導体素子(4)とを封止する封止材(8)と、
前記リードフレーム(5)の一部(5c)を前記ハウジング(9)内において固定する固定部(6)とを備える半導体装置。 - 前記固定部(6)は、前記ハウジング(9)よりも内側の前記ベース板(1)上に配置される請求項1に記載の半導体装置。
- 前記固定部(6)は、前記ベース板(1)の表面(1a)から突出する突起部(10)に設けられるネジ穴(6b)とネジ(6a)とを含み、
前記リードフレーム(5)の前記一部(5c)は、前記ネジ穴(6b)と締結する前記ネジ(6a)によって前記突起部(10)に固定される請求項2に記載の半導体装置。 - 前記固定部(6)は、ワッシャ(6c)をさらに含む請求項3に記載の半導体装置。
- 前記固定部(6)は、前記ベース板(1)の表面(1a)から突出する突起部(10)に設けられる嵌合部(6i)を含み、
前記リードフレーム(5)の前記一部(5c)は、前記嵌合部(6i)に嵌合して前記突起部(10)に固定される請求項2に記載の半導体装置。 - 前記ハウジング(9)は、前記枠形状を有するハウジング本体(9f)と、前記ハウジング本体(9f)の内側に配置され、前記ハウジング本体(9f)よりも高さが低い段差部(9e)とを含み、
前記固定部(6)は、前記段差部(9e)に配置される請求項1に記載の半導体装置。 - 前記固定部(6)は、前記段差部(9e)に設けられるネジ穴(6b)とネジ(6a)とを含み、
前記リードフレーム(5)の前記一部(5c)は、前記ネジ穴(6b)と締結する前記ネジ(6a)によって前記段差部(9e)に固定される請求項6に記載の半導体装置。 - 前記固定部(6)は、ネジ(6a)と、ネジ穴(6b)と貫通穴(6f)とを含み、
前記貫通穴(6f)は、前記段差部(9e)の表面(9a)と裏面(9b)との間を貫通し、
前記ネジ穴(6b)は、前記段差部(9e)の前記裏面(9b)に開口する前記貫通穴(6f)の位置に対応して前記ベース板(1)の表面(1a)に設けられ、
前記リードフレーム(5)の前記一部(5c)は、前記貫通穴(6f)を介して前記ネジ穴(6b)と締結する前記ネジ(6a)によって固定される請求項6に記載の半導体装置。 - 前記固定部(6)は、ワッシャをさらに含む請求項7または請求項8に記載の半導体装置。
- 前記固定部(6)は、ネジ(6a)とネジ穴(6b)と第1貫通穴(6g)と第2貫通穴(6h)とを含み、
前記第1貫通穴(6g)は、前記段差部(9e)の表面(9a)と裏面(9b)との間を貫通し、
前記第2貫通穴(6h)は、前記段差部(9e)の前記裏面(9b)に開口する前記第1貫通穴(6g)の位置に対応して前記ベース板(1)の表面(1a)と裏面(1b)との間を貫通し、
前記ネジ穴(6b)は、前記第1貫通穴(6g)と前記第2貫通穴(6h)との位置に対応して前記リードフレーム(5)の前記一部(5c)に設けられ、
前記リードフレーム(5)の前記一部(5c)は、前記ベース板(1)の裏面(1b)側に頭部が配置され前記第1貫通穴(6g)と前記第2貫通穴(6h)とを介して前記ネジ穴(6b)に締結する前記ネジ(6a)によって固定される請求項6に記載の半導体装置。 - 前記固定部(6)は、前記段差部(9e)に設けられる嵌合部(6i)を含み、
前記リードフレーム(5)の前記一部(5c)は、前記嵌合部(6i)に嵌合して前記段差部(9e)に固定される請求項6に記載の半導体装置。 - 前記リードフレーム(5)と前記ハウジング(9)とは一体物ではない請求項1から請求項11のいずれか一項に記載の半導体装置。
- 請求項1から請求項12のいずれか一項に記載の半導体装置と、
前記半導体装置の前記端子部(7)に接続し、前記半導体装置と前記外部装置との接続を中継可能な端子台(14)とを備え、
前記半導体装置の前記リードフレーム(5)の前記一端(5a)は、前記端子部(7)を介して前記端子台(14)に接続される制御装置。 - 請求項1から請求項12のいずれか一項に記載の半導体装置と、
前記外部装置とを備え、
前記半導体装置の前記リードフレーム(5)の前記一端(5a)と前記外部装置(14)とは、前記端子部(7)にて接続され、
前記外部装置がコンデンサ(15a)またはモーター(15b)である制御装置。 - 請求項1から請求項12のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記枠形状を有する前記ハウジング(9)を準備する工程と、
前記ハウジング(9)とは別に、前記リードフレーム(5)を準備する工程と、
前記ベース板(1)と、前記ベース板(1)上に保持された前記半導体素子(4)とを準備する工程と、
前記枠形状が前記半導体素子(4)を内包するよう前記ハウジング(9)を前記ベース板(1)上に配置する工程と、
前記リードフレーム(5)の前記一端(5a)を前記ハウジング(9)の前記外面(9c)に設けられた前記端子部(7)に接続可能に配置し、かつ、前記リードフレーム(5)の前記他端(5b)を前記半導体素子(4)上に接合する工程と、
前記リードフレーム(5)の前記一部(5c)を前記ハウジング(9)内において前記固定部(6)に固定する工程と、
前記ハウジング(9)内に、前記リードフレーム(5)と前記半導体素子(4)とを封止する前記封止材(8)を注入する工程とを備える半導体装置の製造方法。 - ベース板(1)と、
前記ベース板(1)上に保持される半導体素子(4)と、
前記ベース板(1)上に配置され、前記半導体素子(4)を内包する枠形状を有するハウジング(9)と、
前記ハウジング(9)の外面(9c)に設けられ、外部装置に接続可能な端子部(7)と、
一端(5a)が前記ハウジング(9)に設けられる前記端子部(7)に接続可能に配置され、他端(5b)が接合材(3b)を介して前記半導体素子(4)上に接続される長尺状のリードフレーム(5)と、
前記ハウジング(9)内に配置され、前記ハウジング(9)内の前記リードフレーム(5)と前記半導体素子(4)とを封止する封止材(8)とを備え、
前記リードフレーム(5)は、前記ハウジング(9)内において、一部が凸状または凹状に屈曲する屈曲部(11)または一部が凸状または凹状に湾曲する湾曲部を含む半導体装置。 - 前記ハウジング(9)は、前記枠形状を有するハウジング本体(9f)と、前記ハウジング本体(9f)の内側に配置され、前記ハウジング本体(9f)よりも高さが低い段差部(9e)とを含み、
前記段差部(9e)は、前記屈曲部(11)または前記湾曲部を収容する溝部(12a)を含み、
前記リードフレーム(5)の前記屈曲部(11)または前記湾曲部の少なくとも一部が、前記溝部(12a)の内壁に接して固定される請求項16に記載の半導体装置。 - 前記ハウジング(9)は、前記枠形状を有するハウジング本体(9f)と、前記ハウジング本体(9f)の内側に配置され、前記ハウジング本体(9f)よりも高さが低い段差部(9e)とを含み、
前記段差部(9e)は、前記リードフレーム(5)の前記屈曲部(11)または前記湾曲部の少なくとも一部が配置される凹部(12b)と、
前記凹部(12b)内に配置され、前記屈曲部(11)または前記湾曲部を封止して固定する固定材(13)とをさらに含む請求項16に記載の半導体装置。 - 前記リードフレーム(5)と前記ハウジング(9)とは一体物ではない請求項16から請求項18のいずれか一項に記載の半導体装置。
- 請求項16から請求項19のいずれか一項に記載の半導体装置と、
前記半導体装置の前記端子部(7)に接続し、前記半導体装置と前記外部装置との接続を中継可能な端子台(14)とを備え、
前記半導体装置の前記リードフレーム(5)の前記一端(5a)は、前記端子部(7)を介して前記端子台(14)に接続される制御装置。 - 請求項16から請求項19のいずれか一項に記載の半導体装置と、
前記外部装置とを備え、
前記半導体装置の前記リードフレーム(5)の前記一端(5a)と前記外部装置(14)とは、前記端子部(7)にて接続され、
前記外部装置がコンデンサ(15a)またはモーター(15b)である制御装置。 - 請求項16から請求項19のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記枠形状を有する前記ハウジング(9)を準備する工程と、
前記ハウジング(9)とは別に、前記リードフレーム(5)を準備する工程と、
前記ベース板(1)と、前記ベース板(1)上に保持された前記半導体素子(4)とを準備する工程と、
前記枠形状が前記半導体素子(4)を内包するよう前記ハウジング(9)を前記ベース板(1)上に配置する工程と、
前記リードフレーム(5)の前記一端(5a)を前記ハウジング(9)の前記外面(9c)に設けられた前記端子部(7)に接続可能に配置し、かつ、前記リードフレーム(5)の前記他端(5b)を前記半導体素子(4)上に接合する工程と、
前記ハウジング(9)内に、前記リードフレーム(5)と前記半導体素子(4)とを封止する前記封止材(8)を注入する工程とを備え、
前記リードフレーム(5)を準備する工程は、前記ハウジング(9)内において、一部が凸状または凹状に屈曲する屈曲部(11)または一部が凸状または凹状に湾曲する湾曲部を含む前記リードフレーム(5)を準備することを含む半導体装置の製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2016/085263 WO2018100600A1 (ja) | 2016-11-29 | 2016-11-29 | 半導体装置、制御装置および半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018100600A1 true JPWO2018100600A1 (ja) | 2019-03-07 |
JP6719585B2 JP6719585B2 (ja) | 2020-07-08 |
Family
ID=62242573
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018553515A Active JP6719585B2 (ja) | 2016-11-29 | 2016-11-29 | 半導体装置、制御装置および半導体装置の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11063004B2 (ja) |
JP (1) | JP6719585B2 (ja) |
CN (1) | CN109997221B (ja) |
DE (1) | DE112016007485T5 (ja) |
WO (1) | WO2018100600A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6769556B2 (ja) * | 2017-07-28 | 2020-10-14 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置及び半導体モジュール |
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JP7456292B2 (ja) | 2020-05-29 | 2024-03-27 | 富士電機株式会社 | 半導体モジュール |
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-
2016
- 2016-11-29 WO PCT/JP2016/085263 patent/WO2018100600A1/ja active Application Filing
- 2016-11-29 JP JP2018553515A patent/JP6719585B2/ja active Active
- 2016-11-29 DE DE112016007485.9T patent/DE112016007485T5/de active Pending
- 2016-11-29 CN CN201680091136.5A patent/CN109997221B/zh active Active
- 2016-11-29 US US16/348,513 patent/US11063004B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11063004B2 (en) | 2021-07-13 |
US20200058600A1 (en) | 2020-02-20 |
JP6719585B2 (ja) | 2020-07-08 |
CN109997221B (zh) | 2024-03-12 |
DE112016007485T5 (de) | 2019-08-22 |
WO2018100600A1 (ja) | 2018-06-07 |
CN109997221A (zh) | 2019-07-09 |
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Legal Events
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