JPWO2018061784A1 - 水溶液、着色組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、及びインクカートリッジ - Google Patents

Abstract

本発明は、明細書に記載の一般式（１）で表される化合物と、防腐剤とを含む水溶液であって、一般式（１）で表される化合物の含有量が水溶液全量に対して５〜２５質量％である水溶液、上記水溶液を用いた着色組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、及びインクカートリッジにより、印画品質に優れる水性インクを提供し得る染料水溶液であって、長期保存した際の貯蔵安定性、並びに長期保存後に上記染料水溶液を用いて調製した水性インクの印画品質、及び吐出安定性に優れる水溶液等を提供する。

Description

本発明は、水溶液、着色組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、及びインクカートリッジに関する。

インクジェット記録方法は、周知のごとくインクの小滴を飛翔させ、紙等の記録媒体に付着させて印刷を行う方法である。この印刷方法は、安価な装置で高解像度、高品位な画像を高速かつ簡便に印刷をする事ができ、特にカラー印刷においては、近年写真に代わりうる画像形成方法として技術開発が行われている。

たとえば、特許文献１には、染料として特定の連結基（−ＮＨＣＯ−）を有するキサンテン化合物を含有するインクジェット記録用インクが記載されている。また、特許文献２には、染料として特定位置にアミノ基を有するキサンテン化合物を含有するインクジェット記録用インクに適した染料組成物が記載されている。

日本国特許第５４５１５５６号公報 日本国特開２０１４−２０１７１４号公報

しかしながら、インクの分野において更なる性能の向上が求められている。特に、色相、彩度、印画濃度、画像堅牢性などの印画品質に優れる水性インクを提供し得る高濃度の染料水溶液であって、長期保存した際の貯蔵安定性、並びに長期保存後に上記染料水溶液を用いて調製した水性インクの印画品質、及び吐出安定性について更なる性能の向上が求められる。

本発明は、印画品質に優れる水性インクを提供し得る染料水溶液であって、長期保存した際の貯蔵安定性、並びに長期保存後に上記染料水溶液を用いて調製した水性インクの印画品質、及び吐出安定性に優れる、水溶液、上記水溶液を用いた着色組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、及びインクカートリッジを提供することを目的とする。

本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、特定の置換基（−ＮＨＳＯ_２−）を有するキサンテン化合物と、防腐剤とを含有する水溶液を用いることで、上記目的を達成することを見出し、本発明を完成するに至った。

即ち、本発明の上記課題は、以下の手段により解決された。

＜１＞
下記一般式（１）で表される化合物と、防腐剤とを含む水溶液であって、上記一般式（１）で表される化合物の含有量が上記水溶液全量に対して５〜２５質量％である水溶液。

一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^１０は各々独立にアルキル基を表す。Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９及びＲ^２０は各々独立に水素原子又は置換基を表す。Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^７及びＲ^８は各々独立に水素原子、アルキル基又は下記一般式（Ａ）で表される置換基を表し、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^７及びＲ^８のうち少なくとも１つは下記一般式（Ａ）で表される置換基を表す。Ｍは水素原子又は一価のカウンターカチオンを表す。

一般式（Ａ）中、Ｘは下記一般式（Ｘ１）、一般式（Ｘ２）又は一般式（Ｘ３）で表される置換基を表す。＊はベンゼン環に結合する結合手を表す。

一般式（Ｘ１）中、Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５は下記条件（ｉ）又は（ｉｉ）を満たす。＊は硫黄原子に結合する結合手を表す。
条件（ｉ）：Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
条件（ｉｉ）：Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。

一般式（Ｘ２）中、Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７は下記条件（ｉｉｉ）又は（ｉｖ）を満たす。＊は硫黄原子に結合する結合手を表す。
条件（ｉｉｉ）：Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
条件（ｉｖ）：Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。

一般式（Ｘ３）中、Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７は下記条件（ｖ）又は（ｖｉ）を満たす。＊は硫黄原子に結合する結合手を表す。
条件（ｖ）：Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
条件（ｖｉ）：Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。
＜２＞
上記一般式（１）で表される化合物が、下記一般式（２）で表される化合物である＜１＞に記載の水溶液。

一般式（２）中、Ｒ^１、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^１０は各々独立にアルキル基を表す。Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９及びＲ^２０は各々独立に水素原子又は置換基を表す。Ｒ^３及びＲ^８は各々独立に水素原子又はアルキル基を表す。Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５は下記条件（ｉ−１）又は（ｉｉ−１）を満たす。Ｒ^４０６、Ｒ^４０７、Ｒ^４０８、Ｒ^４０９及びＲ^４１０は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^４０６、Ｒ^４０７、Ｒ^４０８、Ｒ^４０９及びＲ^４１０は下記条件（ｉ−２）又は（ｉｉ−２）を満たす。Ｍは水素原子又は一価のカウンターカチオンを表す。
条件（ｉ−１）：Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
条件（ｉｉ−１）：Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。
条件（ｉ−２）：Ｒ^４０６、Ｒ^４０７、Ｒ^４０８、Ｒ^４０９及びＲ^４１０のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
条件（ｉｉ−２）：Ｒ^４０６、Ｒ^４０７、Ｒ^４０８、Ｒ^４０９及びＲ^４１０のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。
＜３＞
上記一般式（２）中のＲ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５が上記条件（ｉｉ−１）を満たし、Ｒ^４０６、Ｒ^４０７、Ｒ^４０８、Ｒ^４０９及びＲ^４１０が上記条件（ｉｉ−２）を満たす＜２＞に記載の水溶液。
＜４＞
上記一般式（１）又は一般式（２）で表される化合物が、下記一般式（２’）で表される化合物である＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の水溶液。

一般式（２’）中、Ｒ^４０１及びＲ^４０６はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、又はメチル基を表す。Ｍは水素原子、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又はアンモニウムイオンを表す。
＜５＞
上記一般式（２’）のＲ^４０１及びＲ^４０６がヒドロキシル基である＜４＞に記載の水溶液。
＜６＞
上記防腐剤が、複素環化合物、フェノール誘導体、フェノキシエーテル誘導体、及びアルカンジオール類からなる群より選ばれる少なくとも１種である＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の水溶液。
＜７＞
上記防腐剤が上記複素環化合物であり、上記複素環化合物がチアゾール系化合物又はベンゾトリアゾール系化合物である＜６＞に記載の水溶液。
＜８＞
上記防腐剤が２種以上含まれる＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の水溶液。
＜９＞
上記防腐剤の総含有量が、上記水溶液全量に対して０．０１〜０．５質量％である＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の水溶液。
＜１０＞
上記一般式（１）で表される化合物と、上記防腐剤との質量比が９０／１０〜９９／１である＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の水溶液。
＜１１＞
さらにベタイン化合物を含む＜１＞〜＜１０＞のいずれか１つに記載の水溶液。
＜１２＞
上記ベタイン化合物の含有量が、上記水溶液全量に対して１〜１０質量％である＜１１＞に記載の水溶液。
＜１３＞
＜１＞〜＜１２＞のいずれか１つに記載の水溶液を用いた着色組成物。
＜１４＞
＜１＞〜＜１２＞のいずれか１つに記載の水溶液、又は＜１３＞に記載の着色組成物を用いたインクジェット記録用インク。
＜１５＞
＜１４＞に記載のインクジェット記録用インクを用いて、被記録材に着色画像を形成するインクジェット記録方法。
＜１６＞
＜１４＞に記載のインクジェット記録用インクを充填したインクジェット記録用インクカートリッジ。

本発明によれば、印画品質に優れる水性インクを提供し得る染料水溶液であって、長期保存した際の貯蔵安定性、並びに長期保存後に上記染料水溶液を用いて調製した水性インクの印画品質、及び吐出安定性に優れる、水溶液、上記水溶液を用いた着色組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、及びインクカートリッジを提供することができる。

例示化合物（１−１１）のジメチルスルホキシド−ｄ６中での^１Ｈ−ＮＭＲ（ｎｕｃｌｅａｒ ｍａｇｎｅｔｉｃ ｒｅｓｏｎａｎｃｅ）スペクトルを示す図である。 例示化合物（１−１８）のジメチルスルホキシド−ｄ６中での^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示す図である。 例示化合物（１−２６）のジメチルスルホキシド−ｄ６中での^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示す図である。 例示化合物（１−３０）のジメチルスルホキシド−ｄ６中での^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示す図である。

以下、本発明を詳細に説明する。
まず、本発明における置換基の具体例を、置換基群Ａとして定義する。

（置換基群Ａ）
ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、イオン性親水性基が例として挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよく、更なる置換基としては、以上に説明した置換基群Ａから選択される基を挙げることができる。

ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が挙げられる。

アルキル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルキル基が挙げられ、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えば、アルコキシ基、アルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。
アルキル基としては、好ましくは、炭素数１から３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２―エチルヘキシル基等が挙げられ、シクロアルキル基としては、好ましくは、炭素数３から３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等が挙げられ、ビシクロアルキル基としては、好ましくは、炭素数５から３０の置換若しくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基等が挙げられる。

アラルキル基としては、置換若しくは無置換のアラルキル基が挙げられ、置換若しくは無置換のアラルキル基としては、炭素原子数が７〜３０のアラルキル基が好ましい。例えばベンジル基及び２−フェネチル基を挙げられる。

アルケニル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルケニル基が挙げられ、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を包含する。
アルケニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基等が挙げられ、シクロアルケニル基としては、好ましくは、炭素数３から３０の置換若しくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３から３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基等が挙げられ、ビシクロアルケニル基としては、置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５から３０の置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基等が挙げられる。

アルキニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。

アリール基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリール基、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基等が挙げられる。

ヘテロ環基としては、好ましくは、５又は６員の置換若しくは無置換の芳香族若しくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３から３０の５又は６員の芳香族のヘテロ環基、例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。非芳香族のヘテロ環基の例としては、モルホリニル基等が挙げられる。

アルコキシ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基等が挙げられる。

アリールオキシ基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基等が挙げられる。

シリルオキシ基としては、好ましくは、炭素数０から２０の置換若しくは無置換のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ジフェニルメチルシリルオキシ基等が挙げられる。

ヘテロ環オキシ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換のヘテロ環オキシ基、例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基等が挙げられる。

アシルオキシ基としては、好ましくは、ホルミルオキシ基、炭素数２から３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基等が挙げられる。

カルバモイルオキシ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基等が挙げられる。

アルコキシカルボニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えば、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。

アリールオキシカルボニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。

アミノ基としては、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアニリノ基、例えば、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基、トリアジニルアミノ基等が挙げられる。

アシルアミノ基としては、好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基等が挙げられる。

アミノカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基等が挙げられる。

アルコキシカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。

アリールオキシカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。

スルファモイルアミノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基等が挙げられる。

アルキル又はアリールスルホニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基等が挙げられる。
アルキルチオ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルチオ基、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基等が挙げられる。

アリールチオ基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基等が挙げられる。

ヘテロ環チオ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基等が挙げられる。

スルファモイル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基等が挙げられる。

アルキル又はアリールスルフィニル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、炭素数６から３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基等が挙げられる。

アルキル又はアリールスルホニル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６から３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基等が挙げられる。

アシル基としては、好ましくは、ホルミル基、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数２から３０の置換若しくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、２−フリルカルボニル基等が挙げられる。

アリールオキシカルボニル基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル基等が挙げられる。

アルコキシカルボニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。

カルバモイル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基等が挙げられる。

アリール又はヘテロ環アゾ基としては、好ましくは炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３から３０の置換若しくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基等が挙げられる。

イミド基としては、好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基等が挙げられる。

ホスフィノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基等が挙げられる。

ホスフィニル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基等が挙げられる。

ホスフィニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基等が挙げられる。

ホスフィニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基が挙げられる。

シリル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基等が挙げられる。

イオン性親水性基としては、スルホ基、カルボキシル基、チオカルボキシル基、スルフィノ基、ホスホノ基、ジヒドロキシホスフィノ基、４級アンモニウム基などが挙げられる。特に好ましくはスルホ基、カルボキシル基である。またイオン性親水性基はカチオン又はアニオンを含んでいてもよく、カチオン又はアニオンを含む状態を塩の状態と呼ぶ。カルボキシル基、ホスホノ基及びスルホ基は塩の状態であってもよく、塩を形成する対カチオンの例には、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン（例、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン）及び有機カチオン（例、テトラメチルアンモニウムイオン、テトラメチルグアニジウムイオン、テトラメチルホスホニウム）が含まれ、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩が好ましく、ナトリウム塩又はナトリウム塩を主成分とする混合塩が更に好ましく、ナトリウム塩が最も好ましい。

なお、本発明においては、化合物が塩である場合は、水溶性インク中では塩はイオンに解離して存在している。

〔水溶液〕
本発明の水溶液は、下記一般式（１）で表される化合物と、防腐剤とを含む水溶液であって、一般式（１）で表される化合物の含有量が水溶液全量に対して５〜２５質量％である水溶液である。

＜一般式（１）で表される化合物＞
一般式（１）で表される化合物について説明する。一般式（１）で表される化合物は染料として用いられる。

一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^１０は各々独立にアルキル基を表す。Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９及びＲ^２０は各々独立に水素原子又は置換基を表す。Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^７及びＲ^８は各々独立に水素原子、アルキル基又は下記一般式（Ａ）で表される置換基を表し、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^７及びＲ^８のうち少なくとも１つは下記一般式（Ａ）で表される置換基を表す。Ｍは水素原子又は一価のカウンターカチオンを表す。

一般式（Ａ）中、Ｘは下記一般式（Ｘ１）、一般式（Ｘ２）又は一般式（Ｘ３）で表される置換基を表す。＊はベンゼン環に結合する結合手を表す。

一般式（Ｘ１）中、Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５は下記条件（ｉ）又は（ｉｉ）を満たす。＊は硫黄原子に結合する結合手を表す。
条件（ｉ）：Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
条件（ｉｉ）：Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。

一般式（Ｘ２）中、Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７は下記条件（ｉｉｉ）又は（ｉｖ）を満たす。＊は硫黄原子に結合する結合手を表す。
条件（ｉｉｉ）：Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
条件（ｉｖ）：Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。

一般式（Ｘ３）中、Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７は下記条件（ｖ）又は（ｖｉ）を満たす。＊は硫黄原子に結合する結合手を表す。
条件（ｖ）：Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
条件（ｖｉ）：Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。

一般式（１）中、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９及びＲ^２０は各々独立に水素原子又は置換基を表す。Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９及びＲ^２０が置換基を表す場合、置換基としては上記置換基群Ａから選ばれる置換基が挙げられる。
Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９及びＲ^２０は水素原子を表すことが好ましい。

一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^１０は各々独立にアルキル基を表し、原材料の入手性と合成の容易性の観点から、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数１〜３のアルキル基がより好ましく、メチル基またはエチル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。また、Ｒ^１、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^１０が表すアルキル基は置換基を有していてもよく、置換基としては上記置換基群Ａから選ばれる置換基が挙げられる。

一般式（１）中、Ｒ^４及びＲ^９は各々独立に水素原子又は置換基を表す。Ｒ^４及びＲ^９が置換基を表す場合の置換基としては、アルキル基又はイオン性親水性基が好ましい。
アルキル基としては、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜３のアルキル基であり、更に好ましくはメチル基又はエチル基であり、特に好ましくはメチル基である。
イオン性親水性基としては、カルボキシル基、スルホ基又はホスホノ基が好ましい。イオン性親水性基の対カチオンとしては、水素原子（プロトン）、アルカリ金属カチオン（リチウムイオン、ナトリウムイオン、又はカリウムイオン）、アンモニウムイオンなどが挙げられるが、合成の容易性（染料粉末としての取り扱いの容易さ）の観点からアルカリ金属カチオンであることが好ましい。
Ｒ^４及びＲ^９は、各々独立に水素原子、スルホ基又はカルボキシル基を表すことが好ましく、水素原子又はスルホ基を表すことがより好ましく、水素原子を表すことが更に好ましい。

一般式（１）中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^７及びＲ^８は各々独立に水素原子、アルキル基又は上記一般式（Ａ）で表される置換基を表し、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^７及びＲ^８のうち少なくとも１つは上記一般式（Ａ）で表される置換基を表す。
Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^７及びＲ^８がアルキル基を表す場合、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数１〜３のアルキル基がより好ましく、メチル基またはエチル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。また、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^７及びＲ^８が表すアルキル基は置換基を有していてもよく、置換基としては上記置換基群Ａから選ばれる置換基が挙げられる。
Ｒ^２及びＲ^７が各々独立に一般式（Ａ）で表される置換基を表し、かつＲ^３及びＲ^８がアルキル基を表す場合、又は、Ｒ^３及びＲ^８が各々独立に一般式（Ａ）で表される置換基を表し、かつＲ^２及びＲ^７がアルキル基を表す場合が好ましく、Ｒ^２及びＲ^７が各々独立に一般式（Ａ）で表される置換基を表し、かつＲ^３及びＲ^８がアルキル基を表す場合がより好ましい。

一般式（Ａ）中、Ｘは上記一般式（Ｘ１）、一般式（Ｘ２）又は一般式（Ｘ３）で表される置換基を表す。
なお、一般式（Ｘ１）、一般式（Ｘ２）又は一般式（Ｘ３）におけるカルボキシル基の対カチオンとしては、水素原子（プロトン）、アルカリ金属カチオン（リチウムイオン、ナトリウムイオン、又はカリウムイオン）、アンモニウムイオンなどが挙げられるが、アルカリ金属カチオンであることが好ましい。

一般式（Ｘ１）中、Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５は下記条件（ｉ）又は（ｉｉ）を満たす。
条件（ｉ）：Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
条件（ｉｉ）：Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。

一般式（Ｘ１）中、Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５は上記条件（ｉｉ）を満たすことが好ましい。すなわち、Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表すことが好ましい。

上記条件（ｉｉ）において、Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４、及びＲ^４０５がカルボキシル基以外の置換基を表す場合の置換基としては、上記置換基群Ａから選ばれる置換基が挙げられ、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、又はアルキル基であることが好ましい。

Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４、及びＲ^４０５がハロゲン原子を表す場合のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が挙げられる。その中でも特に塩素原子、臭素原子が好ましく、原料の入手性から塩素原子が最も好ましい。
Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４、及びＲ^４０５がアルキル基を表す場合、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数１〜３のアルキル基がより好ましく、メチル基又はエチル基が更に好ましく、原料の入手性からメチル基が特に好ましい。また、アルキル基は置換基を有していてもよく、置換基としては上記置換基群Ａから選ばれる置換基が挙げられる。

Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４、及びＲ^４０５がカルボキシル基以外の置換基を表す場合の置換基としては、塩素原子、ヒドロキシル基、又はメチル基であることがより好ましい。

一般式（Ｘ１）中、Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５が上記条件（ｉｉ）を満たす場合は、Ｒ^４０２及びＲ^４０４がカルボキシル基を表すことが好ましい。
さらに、Ｒ^４０１が水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、又はメチル基を表し、Ｒ^４０３及びＲ^４０５が水素原子を表すことがより好ましく、Ｒ^４０１が塩素原子、ヒドロキシル基、又はメチル基を表し、Ｒ^４０３及びＲ^４０５が水素原子を表すことがさらに好ましく、Ｒ^４０１がヒドロキシル基を表し、Ｒ^４０３及びＲ^４０５が水素原子を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｘ１）中、Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５が上記条件（ｉ）を満たす場合、Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５のうちヒドロキシル基の数は、１〜３個が好ましく、１〜２個がより好ましく、１個が更に好ましい。カルボキシル基の数は１〜３個がより好ましく、１〜２個が更に好ましく、２個が最も好ましい。
上記条件（ｉ）において、Ｒ^４０３がヒドロキシル基を表し、かつＲ^４０２がカルボキシル基を表す場合、又は、Ｒ^４０１がヒドロキシル基を表し、かつＲ^４０２がカルボキシル基を表す場合が好ましく、Ｒ^４０１がヒドロキシル基を表し、かつＲ^４０２がカルボキシル基を表す場合がより好ましい。
Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４、及びＲ^４０５がヒドロキシル基、カルボキシル基以外の置換基を表す場合の置換基としては上記置換基群Ａから選ばれる置換基が挙げられ、アルキル基又はアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜６のアルキル基又はアルコキシ基がより好ましく、炭素数１〜３のアルキル基又はアルコキシ基が更に好ましく、メチル基又はメトキシ基が特に好ましい。また、Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４、及びＲ^４０５が置換基を表す場合の置換基としては、上記とは別の態様として、カルボキシル基、塩素原子、ニトロ基、又はトリフルオロメチル基が挙げられ、カルボキシル基、塩素原子、又はニトロ基がより好ましく、カルボキシル基が更に好ましい。特に、Ｒ^４０１がヒドロキシル基を表し、かつＲ^４０２がカルボキシル基を表す場合に、Ｒ^４０４が上記した置換基（カルボキシル基、塩素原子、ニトロ基、又はトリフルオロメチル基）であることが好ましい。

一般式（Ｘ１）で表される基の具体例を以下に示すが、これらに限定されない。下記具体的化合物の構造式中、Ｍｅはメチル基を表す。＊は硫黄原子に結合する結合手を表す。

一般式（Ｘ２）中、Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７は下記条件（ｉｉｉ）又は（ｉｖ）を満たす。
条件（ｉｉｉ）：Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
条件（ｉｖ）：Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。

一般式（Ｘ２）中、Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７は条件（ｉｖ）を満たすことが好ましい。すなわち、Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表すことが好ましい。

上記条件（ｉｖ）において、Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７がカルボキシル基以外の置換基を表す場合の置換基としては、上記置換基群Ａから選ばれる置換基が挙げられ、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、又はアルキル基であることが好ましい。

Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７がハロゲン原子を表す場合のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が挙げられる。その中でも特に、塩素原子、臭素原子が好ましく、塩素原子が最も好ましい。
Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７がアルキル基を表す場合、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数１〜３のアルキル基がより好ましく、メチル基又はエチル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。また、アルキル基は置換基を有していてもよく、置換基としては上記置換基群Ａから選ばれる置換基が挙げられる。

Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７がカルボキシル基以外の置換基を表す場合の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、又はメチル基であることがより好ましい。

一般式（Ｘ２）中、Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７が上記条件（ｉｉｉ）を満たす場合、Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７のうちヒドロキシル基の数は、１〜３個が好ましく、１〜２個がより好ましく、１個が更に好ましい。カルボキシル基の数は１〜２個がより好ましく、１個が更に好ましい。
Ｒ^５０４がヒドロキシル基を表し、かつＲ^５０３がカルボキシル基を表す場合、又は、Ｒ^５０４がヒドロキシル基を表し、かつＲ^５０５がカルボキシル基を表す場合が好ましく、Ｒ^５０４がヒドロキシル基を表し、かつＲ^５０３がカルボキシル基を表す場合がより好ましい。
上記条件（ｉｉｉ）において、Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７がヒドロキシル基、カルボキシル基以外の置換基を表す場合の置換基としては上記置換基群Ａから選ばれる置換基が挙げられ、アルキル基又はアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜６のアルキル基又はアルコキシ基がより好ましく、炭素数１〜３のアルキル基又はアルコキシ基が更に好ましく、メチル基又はメトキシ基が特に好ましい。

一般式（Ｘ２）で表される基の具体例を以下に示すが、これらに限定されない。＊は硫黄原子に結合する結合手を表す。

一般式（Ｘ３）中、Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７は下記条件（ｖ）又は（ｖｉ）を満たす。＊は硫黄原子に結合する結合手を表す。
条件（ｖ）：Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
条件（ｖｉ）：Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。

一般式（Ｘ３）中、Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７は条件（ｖｉ）を満たすことが好ましい。すなわち、Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表すことが好ましい。

上記条件（ｖｉ）において、Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７がカルボキシル基以外の置換基を表す場合の置換基としては上記置換基群Ａから選ばれる置換基が挙げられ、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、又はアルキル基であることが好ましい。

Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７がハロゲン原子を表す場合のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が挙げられる。その中でも特に、塩素原子、臭素原子が好ましく、塩素原子が最も好ましい。
Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７がアルキル基を表す場合、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数１〜３のアルキル基がより好ましく、メチル基又はエチル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。また、アルキル基は置換基を有していてもよく、置換基としては上記置換基群Ａから選ばれる置換基が挙げられる。

Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７がカルボキシル基以外の置換基を表す場合の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、又はメチル基であることがより好ましい。

一般式（Ｘ３）中、Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７が上記条件（ｖ）を満たす場合、Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７のうちヒドロキシル基の数は、１〜３個が好ましく、１〜２個がより好ましく、１個が更に好ましい。カルボキシル基の数は１〜２個がより好ましく、１個が更に好ましい。
Ｒ^６０６がヒドロキシル基を表し、かつＲ^６０５がカルボキシル基を表す場合、又は、Ｒ^６０３がヒドロキシル基を表し、かつＲ^６０２がカルボキシル基を表す場合が好ましく、Ｒ^６０６がヒドロキシル基を表し、かつＲ^６０５がカルボキシル基を表す場合がより好ましい。
上記条件（ｖ）において、Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７がヒドロキシル基、カルボキシル基以外の置換基を表す場合の置換基としては上記置換基群Ａから選ばれる置換基が挙げられ、アルキル基又はアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜６のアルキル基又はアルコキシ基がより好ましく、炭素数１〜３のアルキル基又はアルコキシ基が更に好ましく、メチル基又はメトキシ基が特に好ましい。

一般式（Ｘ３）で表される基の具体例を以下に示すが、これらに限定されない。＊は硫黄原子に結合する結合手を表す。

一般式（１）中、Ｍは水素原子又は一価のカウンターカチオンを表す。Ｍが一価のカウンターカチオンを表す場合の一価のカウンターカチオンとしては、アルカリ金属カチオン（リチウムイオン、ナトリウムイオン、又はカリウムイオン）、アンモニウムイオンなどが挙げられるが、アルカリ金属カチオンであることが好ましい。その中でも、特にリチウムイオン、ナトリウムイオンが好ましく、ナトリウムイオンが最も好ましい。

上記一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（２）、一般式（３）又は一般式（４）で表される化合物であることが好ましい。

一般式（２）中、Ｒ^１、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^１０は各々独立にアルキル基を表す。Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９及びＲ^２０は各々独立に水素原子又は置換基を表す。Ｒ^３及びＲ^８は各々独立に水素原子又はアルキル基を表す。Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５は下記条件（ｉ−１）又は（ｉｉ−１）を満たす。Ｒ^４０６、Ｒ^４０７、Ｒ^４０８、Ｒ^４０９及びＲ^４１０は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^４０６、Ｒ^４０７、Ｒ^４０８、Ｒ^４０９及びＲ^４１０は下記条件（ｉ−２）又は（ｉｉ−２）を満たす。Ｍは水素原子又は一価のカウンターカチオンを表す。
条件（ｉ−１）：Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
条件（ｉｉ−１）：Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。
条件（ｉ−２）：Ｒ^４０６、Ｒ^４０７、Ｒ^４０８、Ｒ^４０９及びＲ^４１０のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
条件（ｉｉ−２）：Ｒ^４０６、Ｒ^４０７、Ｒ^４０８、Ｒ^４０９及びＲ^４１０のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。

一般式（３）中、Ｒ^１、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^１０は各々独立にアルキル基を表す。Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９及びＲ^２０は各々独立に水素原子又は置換基を表す。Ｒ^３及びＲ^８は各々独立に水素原子又はアルキル基を表す。Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７は下記条件（ｉｉｉ−１）又は（ｉｖ−１）を満たす。Ｒ^５０８、Ｒ^５０９、Ｒ^５１０、Ｒ^５１１、Ｒ^５１２、Ｒ^５１３及びＲ^５１４は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^５０８、Ｒ^５０９、Ｒ^５１０、Ｒ^５１１、Ｒ^５１２、Ｒ^５１３及びＲ^５１４は下記条件（ｉｉｉ−２）又は（ｉｖ−２）を満たす。Ｍは水素原子又は一価のカウンターカチオンを表す。
条件（ｉｉｉ−１）：Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
条件（ｉｖ−１）：Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。
条件（ｉｉｉ−２）：Ｒ^５０８、Ｒ^５０９、Ｒ^５１０、Ｒ^５１１、Ｒ^５１２、Ｒ^５１３及びＲ^５１４のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
条件（ｉｖ−２）：Ｒ^５０８、Ｒ^５０９、Ｒ^５１０、Ｒ^５１１、Ｒ^５１２、Ｒ^５１３及びＲ^５１４のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。

一般式（４）中、Ｒ^１、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^１０は各々独立にアルキル基を表す。Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９及びＲ^２０は各々独立に水素原子又は置換基を表す。Ｒ^３及びＲ^８は各々独立に水素原子又はアルキル基を表す。Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７は下記条件（ｖ−１）又は（ｖｉ−１）を満たす。Ｒ^６０８、Ｒ^６０９、Ｒ^６１０、Ｒ^６１１、Ｒ^６１２、Ｒ^６１３及びＲ^６１４は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^６０８、Ｒ^６０９、Ｒ^６１０、Ｒ^６１１、Ｒ^６１２、Ｒ^６１３及びＲ^６１４は下記条件（ｖ−２）又は（ｖｉ−２）を満たす。Ｍは水素原子又は一価のカウンターカチオンを表す。
条件（ｖ−１）：Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
条件（ｖｉ−１）：Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。
条件（ｖ−２）：Ｒ^６０８、Ｒ^６０９、Ｒ^６１０、Ｒ^６１１、Ｒ^６１２、Ｒ^６１３及びＲ^６１４のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
条件（ｖｉ−２）：Ｒ^６０８、Ｒ^６０９、Ｒ^６１０、Ｒ^６１１、Ｒ^６１２、Ｒ^６１３及びＲ^６１４のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。

一般式（２）中のＲ^１、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、及びＭは各々一般式（１）中のＲ^１、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、及びＭと同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式（２）中のＲ^３及びＲ^８は各々独立に水素原子又はアルキル基を表し、アルキル基を表すことが好ましい。アルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数１〜３のアルキル基がより好ましく、メチル基またはエチル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。また、アルキル基は置換基を有していてもよく、置換基としては上記置換基群Ａから選ばれる置換基が挙げられる。
一般式（２）中のＲ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５は、上記条件（ｉｉ−１）を満たすことが好ましい。すなわち、Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表すことが好ましい。Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５の好ましい範囲は、各々一般式（Ｘ１）中のＲ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５と同様である。
一般式（２）中のＲ^４０６、Ｒ^４０７、Ｒ^４０８、Ｒ^４０９及びＲ^４１０は、上記条件（ｉｉ−２）を満たすことが好ましい。すなわち、Ｒ^４０６、Ｒ^４０７、Ｒ^４０８、Ｒ^４０９及びＲ^４１０のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表すことが好ましい。Ｒ^４０６、Ｒ^４０７、Ｒ^４０８、Ｒ^４０９及びＲ^４１０の好ましい範囲は、各々一般式（２）中のＲ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５と同様である。

一般式（３）中のＲ^１、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、及びＭは各々一般式（１）中のＲ^１、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、及びＭと同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式（３）中のＲ^３及びＲ^８は各々独立に水素原子又はアルキル基を表し、アルキル基を表すことが好ましい。アルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数１〜３のアルキル基がより好ましく、メチル基またはエチル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。また、アルキル基は置換基を有していてもよく、置換基としては上記置換基群Ａから選ばれる置換基が挙げられる。
一般式（３）中のＲ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７は、上記条件（ｉｖ−１）を満たすことが好ましい。すなわち、Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表すことが好ましい。Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７の好ましい範囲は、各々一般式（Ｘ２）中のＲ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７と同様である。
一般式（３）中のＲ^５０８、Ｒ^５０９、Ｒ^５１０、Ｒ^５１１、Ｒ^５１２、Ｒ^５１３及びＲ^５１４は、上記条件（ｉｖ−２）を満たすことが好ましい。すなわち、Ｒ^５０８、Ｒ^５０９、Ｒ^５１０、Ｒ^５１１、Ｒ^５１２、Ｒ^５１３及びＲ^５１４のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表すことが好ましい。Ｒ^５０８、Ｒ^５０９、Ｒ^５１０、Ｒ^５１１、Ｒ^５１２、Ｒ^５１３及びＲ^５１４の好ましい範囲は、各々一般式（３）中のＲ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７と同様である。

一般式（４）中のＲ^１、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、及びＭは各々一般式（１）中のＲ^１、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、及びＭと同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式（４）中のＲ^３及びＲ^８は各々独立に水素原子又はアルキル基を表し、アルキル基を表すことが好ましい。アルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数１〜３のアルキル基がより好ましく、メチル基またはエチル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。また、アルキル基は置換基を有していてもよく、置換基としては上記置換基群Ａから選ばれる置換基が挙げられる。
一般式（４）中のＲ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７は、上記条件（ｖｉ−１）を満たすことが好ましい。すなわち、Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表すことが好ましい。Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７の好ましい範囲は、各々一般式（Ｘ３）中のＲ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７と同様である。
一般式（４）中のＲ^６０８、Ｒ^６０９、Ｒ^６１０、Ｒ^６１１、Ｒ^６１２、Ｒ^６１３及びＲ^６１４は、上記条件（ｖｉ−２）を満たすことが好ましい。すなわち、Ｒ^６０８、Ｒ^６０９、Ｒ^６１０、Ｒ^６１１、Ｒ^６１２、Ｒ^６１３及びＲ^６１４のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表すことが好ましい。Ｒ^６０８、Ｒ^６０９、Ｒ^６１０、Ｒ^６１１、Ｒ^６１２、Ｒ^６１３及びＲ^６１４の好ましい範囲は、各々一般式（４）中のＲ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７と同様である。

上記一般式（１）で表される化合物は、上記一般式（２）で表される化合物であることがより好ましく、上記一般式（２）中のＲ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５が上記条件（（ｉｉ−１）を満たし、Ｒ^４０６、Ｒ^４０７、Ｒ^４０８、Ｒ^４０９及びＲ^４１０が上記条件（ｉｉ−２）を満たすことがより好ましい。

上記一般式（１）又は一般式（２）で表される化合物は、下記一般式（２’）で表される化合物であることが更に好ましい。

一般式（２’）中、Ｒ^４０１及びＲ^４０６はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、又はメチル基を表す。Ｍは水素原子、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又はアンモニウムイオンを表す。

上記一般式（２’）中、Ｒ^４０１及びＲ^４０６はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、又はメチル基を表す。
Ｒ^４０１及びＲ^４０６がハロゲン原子を表す場合のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が挙げられる。その中でも特に塩素原子、臭素原子が好ましく、塩素原子が最も好ましい。
Ｒ^４０１及びＲ^４０６は、水素原子、塩素原子、ヒドロキシル基、又はメチル基であることが好ましく、水素原子、ヒドロキシル基であることがより好ましく、その中でもヒドロキシル基が最も好ましい。

上記一般式（２’）中、Ｍは水素原子、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又はアンモニウムイオンを表す。
Ｍはアルカリ金属カチオン（リチウムイオン、ナトリウムイオン、又はカリウムイオン）であることが好ましく、その中でも特にリチウムイオン、ナトリウムイオンが好ましく、ナトリウムイオンが最も好ましい。

以下に一般式（１）で表される化合物の具体例を挙げるが、これらに限定されるわけではない。下記具体的化合物の構造式中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表す。

なお一般式（１）で表される化合物の具体的な合成法は実施例にて例示する。

本発明の水溶液中の一般式（１）で表される化合物の含有量は、水溶液全量に対して５〜２５質量％であり、６〜１５質量％であることが好ましく、７〜１２質量％であることがより好ましい。
水溶液中に含まれる一般式（１）で表される化合物の含有量を５質量％以上にすることで、インクジェット記録用インクの処方設計が容易になる。また、２５質量％以下にすることで、水溶液に長期貯蔵安定性を付与できる。

＜防腐剤＞
次に、防腐剤について説明する。
本発明において、防腐剤とは微生物、特に細菌及び真菌（カビ）の発生、発育を防止する機能を有するものを言う。
本発明の水溶液に防腐剤を用いることで、水溶液の長期保存においてもカビの発生を抑制することができ、長期保存後の水溶液を用いたインクジェット記録用インクを使用してインクジェットプリンターで印画する際に、ノズル等でのインク詰まりが起こりにくく、高品質な印画物を得ることが可能となる。
本発明に使用可能な防腐剤としては、種々のものが使用可能である。

防腐剤としては、重金属イオンを含有する無機物系の防腐剤（銀イオン含有物など）、塩類をまず挙げることができる。有機系の防腐剤としては、第４級アンモニウム塩（テトラブチルアンモニウムクロリド、セチルピリジニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド等）、フェノール誘導体（フェノール、クレゾール、ブチルフェノール、キシレノール、ビスフェノール等）、フェノキシエーテル誘導体（フェノキシエタノール等）、複素環化合物（ベンゾトリアゾール、プロキセル（ＰＲＯＸＥＬ）、１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オン等）、アルカンジオール類（ペンチレングリコール（１，２−ペンタンジオール）、イソペンチルジオール（３−メチル−１，３−ブタンジオール）、ヘキサンジオール（１，２−ヘキサンジオール）等）、カプリリルグリコール（１，２−オクタンジオール）等）、酸アミド類、カルバミン酸、カルバメート類、アミジン・グアニジン類、ピリジン類（ナトリウムピリジンチオン−１−オキシド等）、ジアジン類、トリアジン類、ピロール・イミダゾール類、オキサゾール・オキサジン類、チアゾール・チアジアジン類、チオ尿素類、チオセミカルバジド類、ジチオカルバメート類、スルフィド類、スルホキシド類、スルホン類、スルファミド類、抗生物質類（ペニシリン、テトラサイクリン等）、デヒドロ酢酸ナトリウム、安息香酸ナトリウム、ｐ−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル、及びその塩など種々のものが使用可能である。防腐剤として好ましくは複素環化合物、フェノール誘導体、フェノキシエーテル誘導体、及びアルカンジオール類からなる群より選ばれる防腐剤を少なくとも１種用いることが好ましい。また、防腐剤としては防菌防微ハンドブック（技報堂：１９８６）、防菌防黴剤事典（日本防菌防黴学会事典編集委員会編）等に記載のものも使用し得る。

これらの化合物は油溶性の構造、水溶性の構造のものなど種々のものが使用可能であるが、好ましくは水溶性の化合物である。
本発明の水溶液は、２種以上の防腐剤を含有してもよい。本発明では、これらの防腐剤を２種以上併用して使用すると、水溶液及び上記水溶液を用いた着色組成物又はインクジェット記録用インクを使用して画した記録画像の保存安定性、特に色相安定性が向上し、また長期保存後の水溶液を用いたインクジェット記録用インクを使用してインクジェットプリンターで印画する際のインク吐出安定性が格段に向上するなど、本発明の効果が更に良好に発揮される。これは、２種以上の防腐剤に菌が接触することにより、個々の防腐剤に対する菌の耐性獲得が抑制されるためであると考えられる。
２種以上の防腐剤を組み合わせる場合、それらの防腐剤は異なった化学構造の骨格を有するものであることが好ましい。また、２種以上の防腐剤を含有する場合には、少なくとも１種の防腐剤が、複素環化合物、フェノール誘導体、フェノキシエーテル誘導体、又はアルカンジオール類であることが好ましく、なかでも複素環化合物であることが好ましい。例えば、複素環化合物とフェノキシエーテル誘導体の組み合わせ、複素環化合物とフェノール誘導体との組み合わせ、複素環化合物とアルカンジオール類との組み合わせ等が好ましく挙げられる。

更に、複素環化合物としては、チアゾール系化合物又はベンゾトリアゾール系化合物であることが好ましい。
チアゾール系化合物は、防腐剤のなかでも、特に防黴剤として機能する。チアゾール系化合物としては、ベンズイソチアゾリン、イソチアゾリン、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−（チオシアノメチルチオ）ベンズチアゾール、２−メルカプトベンズチアゾール及び３−アリルオキシ−１，２−ベンズイソチアゾール−１，１−オキシド等を挙げることができる。また、チアゾール系防黴剤としてアーチ・ケミカルズ（株）より製造販売されているＰｒｏｘｅｌ（商標）シリーズ（ＢＤＮ，ＢＤ２０，ＧＸＬ，ＬＶ，ＸＬＩＩ及びＵｌｔｒａ１０等）を使用することもできる。

ベンゾトリアゾール系化合物は、防腐剤のなかでも、特に防錆剤として機能し、例えば、インクジェットヘッドを構成する金属材料（特に、４２合金（４２％ニッケルを含有するニッケル−鉄合金））がインクとの接触を原因の一つとする錆の発生を防止することができる。ベンゾトリアゾール系化合物としては、１Ｈ−ベンゾトリアゾール、４−メチル−１Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−メチル−１Ｈ−ベンゾトリアゾール及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩等を挙げることができる。

２種以上の防腐剤を組み合わせる場合の含有量比は、特に限定的ではないが、各防腐剤のそれぞれの含有量が、防腐剤の総含有量の１質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることが更に好ましい。また各防腐剤のそれぞれの含有量が、防腐剤の総含有量の９９質量％以下であることが好ましく、９０質量％以下であることがより好ましく、８０質量％以下であることが更に好ましい。この値とすることで、それぞれの防腐剤の効果を効率的に得ることができ、また防腐剤間の相乗効果も得やすくなる。また、防腐剤の効果を維持しつつ、インクに触れた人、特に防腐剤に対して敏感な人が、かぶれ等を生じる可能性も低減できる。

防腐剤の本発明の水溶液中の含有量（防腐剤を２種以上含有する場合にはその総含有量）は広い範囲で使用可能であるが、好ましくは水溶液全量に対して０．００１〜１０質量％、より好ましくは０．００５〜２．０質量％、更に好ましくは０．０１〜０．５質量％、特に好ましくは０．０１〜０．１質量％である。０．００１〜１０質量％とすることで、防腐剤の効果をより効率的に得ることができ、また析出物の発生を抑制できる。

本発明の水溶液において、一般式（１）で表される化合物と防腐剤との質量比（一般式（１）で表される化合物／防腐剤）は、９０／１０〜９９／１であることが好ましい。
上記の範囲とすることで本発明の水溶液中に一般式（１）で表される化合物が安定に溶解し、且つ、細菌及び真菌（カビ）の発生、発育を防止する効果を両立できることになる。

＜ベタイン化合物＞
本発明の水溶液は、必要に応じてベタイン化合物を含有することが好ましい。本発明の水溶液にベタイン化合物を含有させることによりインクジェット記録用インクの処方設計及び製造時の調液が容易になるため好ましい。
更に、本発明の水溶液をインクジェット記録用インクとして調液後使用した際に、インクジェット印画物の耐湿度性（滲み）が向上する。

本発明で好ましく使用されるベタイン化合物は、界面活性能を有するベタイン型界面活性剤であることが好ましい。

ここで言うベタイン化合物とは、分子中にカチオン性の部位とアニオン性の部位を両方とも有する化合物を表す。

カチオン性の部位としてはアミン性の窒素原子、ヘテロ芳香族環の窒素原子、炭素との結合を４つ有するホウ素原子、リン原子などを挙げることができる。この中で好ましくはアミン性の窒素原子もしくはヘテロ芳香族環の窒素原子である。中でも特に第４級の窒素原子であることが好ましい。

アニオン性の部位としては、水酸基、チオ基、スルホンアミド基、スルホ基、カルボキシル基、イミド基、リン酸基、ホスホン酸基などを挙げることができる。この中でも特にカルボキシル基、スルホ基が好ましい。分子全体としての荷電は、カチオン、アニオン、中性のいずれでもよいが、好ましくは中性である。

ベタイン化合物としては、下記一般式（Ｗ−１）で表される化合物で表される化合物が好ましく用いられる。

一般式（Ｗ−１）
（Ｒ）_ｐ−Ｎ−［Ｌ−（ＣＯＯＭ_１）_ｑ］_ｒ

式中、Ｒは、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。Ｌはｑ＋１価の連結基を表す。Ｍ_１は水素原子又は一価のカウンターカチオンを表し、式中のＮ原子からなるアンモニウムイオンの対イオンとなる場合は、カチオンとして存在しない基を表す。ｑは１以上の整数を表し、ｒは１以上４以下の整数を表す。ｐは０以上３以下の整数を表し、ｐ＋ｒは３もしくは４である。ｐ＋ｒが４である場合は、Ｎ原子はプロトン化されたアンモニウム原子（＝Ｎ^＋＝）となる。ｑが２以上の時は、ＣＯＯＭ_１は同じでも異なっていてもよい。ｒが２以上の時はＬ−（ＣＯＯＭ_１）ｑは同じでも異なっていてもよい。ｐが２以上の時は、Ｒは同じでも異なっていてもよい。

式中、Ｒは水素原子、アルキル基（置換されていてもよい。好ましくは炭素数１ないし２０の基である。例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、セチル基、ステアリル基、オレイル基など）、アリール基（置換されていてもよい。好ましくは炭素数６ないし２０の基である。例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、クミル基、ドデシルフェニル基など）、ヘテロ環基（置換されていてもよい。好ましくは炭素数２ないし２０の基である。例えばピリジル基、キノリル基など）を表し、それぞれが互いに連結して環状構造を形成してもよい。この中で特に好ましくはアルキル基である。

Ｌはｑ＋１価の連結基を表す。この例としては、アルキレン基、アリーレン基等を基本的な構成単位として含むｑ＋１価の連結基が好ましい。連結主鎖部に酸素原子、硫黄原子、窒素原子などのヘテロ原子を含有してもよい。

ＲもしくはＬには種々の置換基が置換可能である。例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル等が挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニル等が挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニル等が挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチル等が挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１２、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジフェニルアミノ、ジベンジルアミノ等が挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ等が挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシ等が挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイル等が挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル等が挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシ等が挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等が挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ等が挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ等が挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ等が挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等が挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイル等が挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオ等が挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオ等が挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシル等が挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニル等が挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイド等が挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミド等が挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含むものであり具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、チエニル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、カルバゾリル、アゼピニル等が挙げられる。）、シリル基（好ましくは炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは炭素数３〜２４であり、例えばトリメチルシリル、トリフェニルシリル等が挙げられる。）等が挙げられる。これらの置換基は更に置換されても良い。また置換基が二つ以上ある場合は、同一でも異なっていても良い。また、可能な場合には互いに連結して環を形成していても良い。また、ＲもしくはＬを介して、ベタイン構造が複数含まれていてもよい。

Ｍ_１は水素原子又は一価のカウンターカチオンを表す。
なお、Ｍ_１が式中のＮ原子からなるアンモニウムイオンの対イオンとなる場合は、カチオンとして存在しない基を表す。
一価のカウンターカチオンとしては、アルカリ金属カチオン（たとえばナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオン、セシウムイオン）、アンモニウムイオン、アミン性の有機カチオン（１ないし３級アミンの場合、プロトン化されたものを表す。たとえばプロトン化されたメチルアミン、ジメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロオクタン、ピペリジン、ピロリジン、モルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、ピラジン、アニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等。４級アンモニウム塩の場合、たとえばテトラメチルアンモニウムイオン、テトラエチルンモニウムイオン、トリメチルベンジルアンモニウムイオン、メチルピリジニウムイオン、ベンジルピリジニウムイオン等。）を表す。
Ｍ_１は、アルカリ金属イオン又は水素原子を表すことが好ましい。

ｑは１以上（好ましくは５以下、より好ましくは２以下）の整数を表し、ｒは１以上４以下（好ましくは１または２）の整数を表す。ｐは０以上３以下（好ましくは１または２）の整数を表し、ｐ＋ｒは３もしくは４である。ｐ＋ｒが４の場合、Ｎ原子は４級アンモニウムカチオンとなり、ＣＯＯＭ_１のうちの１つが解離状態のアニオンとなる。ｑが２以上の時はＣＯＯＭ_１は同じでも異なっていてもよい。ｒが２以上の時はＬ−（ＣＯＯＭ_１）ｑは同じでも異なっていてもよい。ｐが２以上の時はＲは同じでも異なっていてもよい。

本発明に使用するベタイン化合物としては、一般式（Ｗ−１）で表される化合物の中でも、特に下記一般式（Ｗ−２）又は（Ｗ−３）で表される化合物が好ましく用いられる。

一般式（Ｗ−２）中、Ｒａ〜Ｒｃは、上記一般式（Ｗ−１）中のＲと同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｌ_１は２価の連結基を表し、上記一般式（Ｗ−１）中のＬが２価の連結基である場合と同様である。

一般式（Ｗ−２）で表されるベタイン化合物においては、Ｒａ〜ＲｃもしくはＬ中の少なくとも１つに、炭素数８以上の基を含有することが好ましい。中でも特に、Ｒａ〜Ｒｃに炭素数８以上の長鎖アルキル基が含有されるものが好ましい。

一般式（Ｗ−３）
（Ｒ）_ｓ−Ｎ−［Ｌ−（ＣＯＯＭ_１ａ）_ｔ］_ｕ

式中、Ｒ、Ｌ、ｑ、は一般式（Ｗ−１）におけるＲ、Ｌ、ｑと同義あり、好ましい範囲も同様である。Ｍ_１ａはアルカリ金属イオン又は水素原子である。ｕは１以上３以下の整数を表す。ｓは０以上２以下の整数を表す。但し、ｓ＋ｕは３である。ｓが２の時はＲは同じでも異なっていてもよい。ｑが２以上の時はＣＯＯＭ_１ａは同じでも異なっていてもよい。ｕが２以上の時はＬ−（ＣＯＯＭ_１ａ）_ｔは同じでも異なっていてもよい。

一般式（Ｗ−３）中、Ｍ_１ａはアルカリ金属イオン又は水素原子を表す。
Ｍ_１ａがアルカリ金属イオンを表す場合のアルカリ金属イオンとしては、例えばナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオン、セシウムイオン等が挙げられる。

ｕは１以上３以下（好ましくは１または２）の整数を表す。ｓは０以上２以下（好ましくは１または２）の整数を表し、ｓ＋ｕは３である。

さらに、ＲまたはＬに炭素数８以上の炭化水素基が含まれていることが好ましい。

上記一般式（Ｗ−１）又は上記一般式（Ｗ−３）で表される化合物は、下記一般式（Ｗ−４）で表される化合物が最も好ましい。

一般式（Ｗ−４）
Ｒ−Ｎ−（Ｌ−ＣＯＯＭ_１）_２

Ｒ、Ｌ及びＭ_１は先述の一般式（Ｗ−１）中のＲ、Ｌ及びＭ_１と同様である。二つの（Ｌ−ＣＯＯＭ_１）は同じでも異なっていてもよい（二つの、Ｌ及びＭ_１は同じでも異なっていてもよい）。Ｒは特にアルキル基が好ましく、Ｌはアルキレン基であることが好ましい。
中でも特に、Ｒに炭素数８以上の長鎖アルキル基が含有されるものが好ましい。
その中でも、炭素数１２以上の長鎖アルキル基が含有されるものが好ましく、特に炭素数１４〜１８の長鎖アルキル基が含有されるものが最も好ましい。

上記ベタイン化合物の具体例を以下に挙げるが、これらに限定されるわけではない。下記具体的化合物の構造式中、（ｎ）は直鎖型であることを表す。

上記以外のベタイン化合物の具体例としては特開２００５−２９８７４４号公報の段落番号００３３〜００４３に記載の具体例化合物が挙げられる。

ベタイン化合物の好ましい含有量は、好ましくは本発明の水溶液全量に対して０．１〜１０質量％であり、より好ましくは１〜６質量％である。
含有量を０．１質量％以上とすることでインクジェット記録用インクとして使用した際の印画物の画質及び保存安定性が向上し、１０質量％以下とすることで本発明の水溶液の製造時の工程安定化が確保される。
２種以上を併用する場合、最大使用量の化合物は最小使用量の化合物に対して、１〜１００００倍の質量比で使用されることが好ましい。

＜その他の成分＞
本発明の水溶液は、上記の成分の他に必要に応じてその他の成分を含んでいてもよい。例えば、グリセリン、２−ピロリドン、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオールなどが挙げられる。
本発明の水溶液がその他の成分を含む場合、その含有量としては、水溶液全量に対して１〜１０質量％とすることが好ましい。

〔着色組成物〕
本発明の着色組成物は、上記水溶液を用いた着色組成物である。すなわち、本発明の着色組成物は、上記水溶液を用いて調製されたものであり、上記水溶液を含むものである。また、上記水溶液そのものを着色組成物として用いてもよい。
本発明の着色組成物は、更に、媒体を含有させることができるが、媒体として溶媒を用いた場合は特にインクジェット記録用インクとして好適である。上記媒体としては、親油性媒体又は水性媒体が挙げられ、好ましくは、水性媒体を用いる場合である。

着色組成物中に含まれる上記一般式（１）で表される化合物の含有量は、用いられる一般式（１）で表される化合物の種類、及び着色組成物を製造するために用いる溶媒成分の種類等により決められるが、着色組成物中の一般式（１）で表される化合物の含有量が、着色組成物の総質量に対して０．１〜２０質量％含まれることが好ましく、０．２〜２０質量％含まれることがより好ましく、１〜２０質量％含まれることが更に好ましく、１〜１０質量％含まれることが特に好ましく、２〜６質量％含まれることが最も好ましい。

着色組成物中に含まれる一般式（１）で表される化合物の含有量を１質量％以上にすることで、印刷したときの記録媒体上におけるインクの印画濃度を良好にできる。また、着色組成物中に含まれる一般式（１）で表される化合物の合計量を１０質量％以下にすることで、インクジェット記録方法に用いた場合に着色組成物の吐出性を良好にでき、しかもインクジェットノズルが目詰まりしにくい等の効果が得られる。

本発明の着色組成物は、必要に応じてその他の添加剤を、本発明の効果を奏する範囲内において含有してもよい。
本発明の着色組成物は、インクジェット記録用インクとして好適に用いられる。

［インクジェット記録用インク］
本発明のインクジェット記録用インクは、本発明の水溶液又は本発明の着色組成物を用いたインクジェット記録用インクである。すなわち、本発明のインクジェット記録用インクは、上記水溶液又は着色組成物を用いて調製されたものであり、上記水溶液又は着色組成物を含むものである。また、上記水溶液又は着色組成物そのものをインクジェット記録用インクとして用いてもよい。インクジェット記録用インクは、好ましくは水性媒体を用いたインクである。
インクジェット記録用インクは必要に応じてその他の添加剤を、本発明の効果を奏する範囲内において含有することができる。その他の添加剤としては、例えば、乾燥防止剤（湿潤剤）、褪色防止剤、乳化安定剤、浸透促進剤、紫外線吸収剤、防腐剤、防黴剤、ｐＨ調整剤、表面張力調整剤、消泡剤、粘度調整剤、分散剤、分散安定剤、防錆剤、キレート剤、ベタイン化合物等の公知の添加剤が挙げられる。これらの各種添加剤は、水溶性インクの場合にはインク液に直接添加することができる。

水性媒体は、水を主成分とし、所望により、水混和性有機溶剤を添加した混合物を用いることができる。水混和性有機溶剤の例には、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール）、多価アルコール類（例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール）、グリコール誘導体（例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングルコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル）、アミン（例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、モルホリン、Ｎ−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ポリエチレンイミン、テトラメチルプロピレンジアミン）及びその他の極性溶媒（例えば、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、２−オキサゾリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、アセトニトリル、アセトン）が含まれる。なお、水混和性有機溶剤は、二種類以上を併用してもよい。

本発明の水溶液には上記防腐剤が含まれるが、水性媒体等の添加によりインクジェット記録用インクを調製する際には、上記防腐剤を追加で添加してもよい。防腐剤のインクジェット記録用インク中への添加量は、上記水溶液中における防腐剤の添加量と同様の割合である。

本発明においては、インク中に混入する無機イオンの合計質量をインク総重量に対して２質量％以下に抑えることが好ましい。

ここでいう無機イオンとは、染料のカウンターイオンの無機イオン、ベタイン界面活性剤に含まれる不純物である無機塩由来の無機イオン、ベタイン化合物のイオン当量からはずれたイオン成分のカウンターイオンとなる無機イオン、ｐＨ調節に使用する無機塩類から導入される無機イオン、キレート剤、防腐剤などのインク添加剤から導入される無機イオンの総和を表す。ただし、本発明においては、アンモニウムイオンを揮発性の化合物として取り扱い、この無機イオンから除外する。

無機イオン総量としては、インクの２質量％以下であることが好ましく、より好ましくは１質量％以下、特に好ましくは、０．５質量％以下である。

無機イオンのインク中の含有量を極力低減させるためには、種々の手法を用いることができる。

例えば、特開２００４−２８５２６９号公報に記載の方法で実施することができる。

第一に、インクに使用する素材（例えば、ベタイン化合物）に含有される無機イオンを素材合成時に除去する方法を挙げることができる。水溶性インク素材の場合、特に水溶性を向上させる目的でイオン解離性基を数多く導入する場合が多い。このとき、素材合成時に多量の無機物を含んだり、カウンターイオンとして必然的に無機イオンが含まれてきたりする。前者のイオンを除くためには、イオン選択性透過膜を用いた電気分解透析法による脱塩精製法や、イオン交換樹脂による方法、ゲル濾過法による脱塩精製などを行うことができる。

また、合成時に積極的にイオン交換する方法も使用することができる。たとえば、過剰のアンモニアや有機アミン類を添加して金属イオンと交換する方法や、アニオンの場合ならば有機カルボン酸と交換する方法を挙げることができる。また、合成時における脱塩法として有機溶媒により積極的に塩を析出させ濾過により除去する方法も利用できる。

第二に、この脱塩精製を、インク原材料の状態、すなわち各種素材を水などの溶媒に溶解した上記水溶液の状態で行うことも好ましい。場合によっては、完成インクでの脱塩精製も可能である。

本発明のインクジェット記録用インクは、粘度が３０ｍＰａ・ｓ以下であるのが好ましい。また、その表面張力は２５ｍＮ／ｍ以上７０ｍＮ／ｍ以下であるのが好ましい。粘度及び表面張力は、種々の添加剤、例えば、粘度調整剤、表面張力調整剤、比抵抗調整剤、皮膜調整剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、褪色防止剤、防黴剤、防錆剤、分散剤及び界面活性剤を添加することによって、調整できる。

本発明のインクジェット記録用インクは、様々な色調のインク用いることができるが、マゼンタ色調インクに用いることが好ましい。また、単色の画像形成のみならず、フルカラーの画像形成に用いることができる。フルカラー画像を形成するために、マゼンタ色調インク、シアン色調インク、及びイエロー色調インクを用いることができ、また、色調を整えるために、更にブラック色調インクを用いてもよい。

本発明のインクジェット記録用インクは、印捺、複写、マーキング、筆記、製図、スタンピングなどの記録方法に使用でき、特にインクジェット記録方法における使用に適する。

［インクジェット記録方法］
本発明のインクジェット記録方法は、本発明のインクジェット記録用インクにエネルギーを供与して、公知の受像材料、即ち普通紙、樹脂コート紙、例えば特開平８−１６９１７２号公報、同８−２７６９３号公報、同２−２７６６７０号公報、同７−２７６７８９号公報、同９−３２３４７５号公報、特開昭６２−２３８７８３号公報、特開平１０−１５３９８９号公報、同１０−２１７４７３号公報、同１０−２３５９９５号公報、同１０−３３７９４７号公報、同１０−２１７５９７号公報、同１０−３３７９４７号公報等に記載されているインクジェット専用紙、フィルム、電子写真共用紙、布帛、ガラス、金属、陶磁器等に画像を形成する。

画像を形成する際に、光沢性や耐水性を与えたり耐候性を改善する目的からポリマー微粒子分散物（ポリマーラテックスともいう）を併用してもよい。ポリマーラテックスを受像材料に付与する時期については、着色剤を付与する前であっても，後であっても、また同時であってもよく、したがって添加する場所も受像紙中であっても、インク中であってもよく、あるいはポリマーラテックス単独の液状物として使用しても良い。具体的には、特願２０００−３６３０９０号、同２０００−３１５２３１号、同２０００−３５４３８０号、同２０００−３４３９４４号、同２０００−２６８９５２号、同２０００−２９９４６５号、同２０００−２９７３６５号等の各明細書に記載された方法を好ましく用いることができる。

［インクジェットプリンタカートリッジ、及びインクジェット記録物］
本発明のインクジェット記録用インクカートリッジは、上記した本発明のインクジェット記録用インクを充填したものである。また、インクジェット記録物は、上記した本発明のインクジェット記録用インクを用いて、被記録材に着色画像を形成したものである。

本発明のインクジェット記録用インクは、インクジェットの記録方式に制限はなく、公知の方式、例えば静電誘引力を利用してインクを吐出させる電荷制御方式、ピエゾ素子の振動圧力を利用するドロップオンデマンド方式（圧力パルス方式）、電気信号を音響ビームに変えインクに照射して、放射圧を利用してインクを吐出させる音響インクジェット方式、及びインクを加熱して気泡を形成し、生じた圧力を利用するサーマルインクジェット方式等に用いられる。インクジェット記録方式には、フォトインクと称する濃度の低いインクを小さい体積で多数射出する方式、実質的に同じ色相で濃度の異なる複数のインクを用いて画質を改良する方式や無色透明のインクを用いる方式が含まれる。

以下、実施例を示して本発明を詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部である。

（染料の合成例）
（例示化合物（１−１１）の合成）
例示化合物（１−１１）は、例えば下記スキームに従い、合成することができる。

（中間体（Ｂ）の合成）
中間体（Ａ）２３．０ｇ（特開２０１１−１４８９７３号公報の第１７頁の段落番号００６５記載の方法で合成）を、１０％発煙硫酸４２０ｇに添加して、室温にて４８時間反応させた。反応液を大過剰の酢酸エチルに注ぎ入れ、析出した結晶をろ別した。ろ別した結晶を５００ｍＬのメタノールに溶解させ、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液を用いてｐＨ７に調整し、析出した硫酸ナトリウムをろ過により取り除いた。ろ液をロータリーエバポレーターを用いて濃縮し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィ（充填剤：セファデックスＬＨ−２０（ファルマシア製）、展開溶媒：メタノール）で精製し、中間体（Ｂ）の結晶を得た。収量２１．０ｇ、収率６８％、マススペクトル（ＭＳ）（ｍ／ｚ）＝７９３（［Ｍ−２Ｎａ＋Ｈ］⁻、１００％）。

（例示化合物（１−１１）の合成）
中間体（Ｂ）３．０ｇを超純水１５ｍＬに溶解させ、内温を１０℃以下に冷却した。５−クロロスルホニルサリチル酸（独国特許ＤＥ２６４７８６号記載の方法で合成）２．５５ｇを粉体添加し、内温１０℃以下のまま、１０％ＮａＯＨ水溶液を用いて反応液のｐＨを８．０に保ち、ｐＨの変化がなくなるまで滴下を続けた。得られた反応液を大過剰のイソプロピルアルコールに注ぎ入れ、析出した固体をろ別した。得られた固体を水／メタノール：１／１混合溶媒２０ｍＬに溶解し、カラムクロマトグラフィ（充填剤：セファデックスＬＨ−２０（ファルマシア製）、展開溶媒：水／メタノール）で精製したのちに、透析膜（分画分子量３５００、Ｓｐｅｃｔｒａ／Ｐｏｒ３ Ｄｉａｌｙｓｉｓ Ｍｅｍｂｒａｎｅ（商品名、スペクトラム＝ラボラトリー社製））を用いて、無機塩及び残留有機溶媒を除去した。得られた水溶液を、希水酸化ナトリウム水溶液でｐＨを７に調整し、メンブレンフイルターで除塵ろ過を行い、得られた水溶液をロータリーエバポレーターで濃縮乾固することで例示化合物（１−１１）の緑色光沢結晶を得た。収量１．５ｇ、収率３３％。ＭＳ（ｍ／ｚ）＝１１９１（［Ｍ−１］⁻、１００％）。例示化合物（１−１１）の希薄水溶液中での吸収スペクトルの吸収極大波長は５３２ｎｍ、モル吸光係数は８７０００であった。例示化合物（１−１１）のジメチルスルホキシド−ｄ６中での^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図１に示す。

（例示化合物（１−３０）の合成）
例示化合物（１−３０）は、たとえば下記スキームに従い、合成することができる。

前述の例示化合物（１−１１）の合成中間体として得られた中間体（Ｂ）３．０ｇを超純水１５ｍＬに溶解させた。５−クロロスルホニル−テレフタル酸ジメチル（独国特許ＤＥ２７８０９１号記載の方法で合成）２．２ｇを粉体添加し、１０％ＮａＯＨ水溶液を用いて反応液のｐＨを５〜７に保ち、ｐＨの変化がなくなるまで滴下を続けた。反応終了後、続けて５０％ＮａＯＨ水溶液３ｍＬを加えて、１時間攪拌した。得られた反応液を大過剰のエタノールに注ぎ入れ、析出した固体をろ別した。得られた固体を水／メタノール：１／１混合溶媒２０ｍＬに溶解し、カラムクロマトグラフィ（充填剤：セファデックスＬＨ−２０（ファルマシア製）、展開溶媒：水／メタノール）で精製したのちに、透析膜（分画分子量３５００、Ｓｐｅｃｔｒａ／Ｐｏｒ３ Ｄｉａｌｙｓｉｓ Ｍｅｍｂｒａｎｅ（商品名、スペクトラム＝ラボラトリー社製））を用いて、無機塩及び残留有機溶媒を除去した。得られた水溶液を、希水酸化ナトリウム水溶液でｐＨを７に調整し、メンブレンフイルターで除塵ろ過を行い、得られた水溶液をロータリーエバポレーターで濃縮乾固することで例示化合物（１−３０）の緑色光沢結晶を得た。収量３．７ｇ、収率７０％。ＭＳ（ｍ／ｚ）＝１２４７（［Ｍ−１］⁻、１００％）。例示化合物（１−３０）の希薄水溶液中での吸収スペクトルの吸収極大波長は５３２ｎｍ、モル吸光係数は８２０００であった。例示化合物（１−３０）のジメチルスルホキシド−ｄ６中での^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図４に示す。

（例示化合物（１−１８）の合成）
例示化合物（１−１８）は、例えば下記スキームに従い、合成することができる。

前述の例示化合物（１−１１）の合成中間体として得られた中間体（Ｂ）３．０ｇを超純水１５ｍＬに溶解させ、内温を１０℃以下に冷却した。５−クロロスルホニル−３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸（独国特許ＤＥ２６４７８６号記載の方法で合成）２．２ｇを粉体添加し、内温１０℃以下のまま、１０％ＮａＯＨ水溶液を用いて反応液のｐＨを７．５に保ち、ｐＨの変化がなくなるまで滴下を続けた。得られた反応液を大過剰のイソプロピルアルコールに注ぎ入れ、析出した固体をろ別した。得られた固体を水／メタノール：１／１混合溶媒２０ｍＬに溶解し、カラムクロマトグラフィ（充填剤：セファデックスＬＨ−２０（ファルマシア製）、展開溶媒：水／メタノール）で精製したのちに、透析膜（分画分子量３５００、Ｓｐｅｃｔｒａ／Ｐｏｒ３ Ｄｉａｌｙｓｉｓ Ｍｅｍｂｒａｎｅ（商品名、スペクトラム＝ラボラトリー社製））を用いて、無機塩及び残留有機溶媒を除去した。得られた水溶液を、希水酸化ナトリウム水溶液でｐＨを７に調整し、メンブレンフイルターで除塵ろ過を行い、得られた水溶液をロータリーエバポレーターで濃縮乾固することで例示化合物（１−１８）の緑色光沢結晶を得た。収量１．２ｇ、収率２４％。ＭＳ（ｍ／ｚ）＝１２９１（［Ｍ−１］⁻、１００％）。例示化合物（１−１８）の希薄水溶液中での吸収スペクトルの吸収極大波長は５３２ｎｍ、モル吸光係数は８５０００であった。例示化合物（１−１８）のジメチルスルホキシド−ｄ６中での^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図２に示す。

（例示化合物（１−２５）の合成）
例示化合物（１−２５）は、例えば下記スキームに従い、合成することができる。

前述の例示化合物（１−１１）の合成中間体として得られた中間体（Ｂ）３．０ｇを超純水１５ｍＬに溶解させ、内温を１０℃以下に冷却した。６−クロロスルホニル−２−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸（独国特許ＤＥ２７８０９１号記載の方法で合成）２．２ｇを粉体添加し、内温１０℃以下のまま、１０％ＮａＯＨ水溶液を用いて反応液のｐＨを７．５に保ち、ｐＨの変化がなくなるまで滴下を続けた。得られた反応液を大過剰のイソプロピルアルコールに注ぎ入れ、析出した固体をろ別した。得られた固体を水／メタノール：１／１混合溶媒２０ｍＬに溶解し、カラムクロマトグラフィ（充填剤：セファデックスＬＨ−２０（ファルマシア製）、展開溶媒：水／メタノール）で精製したのちに、透析膜（分画分子量３５００、Ｓｐｅｃｔｒａ／Ｐｏｒ３ Ｄｉａｌｙｓｉｓ Ｍｅｍｂｒａｎｅ（商品名、スペクトラム＝ラボラトリー社製））を用いて、無機塩及び残留有機溶媒を除去した。得られた水溶液を、希水酸化ナトリウム水溶液でｐＨを７に調整し、メンブレンフイルターで除塵ろ過を行い、得られた水溶液をロータリーエバポレーターで濃縮乾固することで例示化合物（１−２５）の緑色光沢結晶を得た。収量１．３ｇ、収率２６％。ＭＳ（ｍ／ｚ）＝１２９１（［Ｍ−１］⁻、１００％）。例示化合物（１−２５）の希薄水溶液中での吸収スペクトルの吸収極大波長は５３２ｎｍ、モル吸光係数は８３０００であった。

（例示化合物（１−２６）の合成）
例示化合物（１−２６）は、例えば下記スキームに従い、合成することができる。

前述の例示化合物（１−１１）の合成中間体として得られた中間体（Ｂ）３．０ｇを超純水１５ｍＬに溶解させ、内温を１０℃以下に冷却した。５−クロロスルホニル−４−ヒドロキシイソフタル酸（独国特許ＤＥ２６４７８６号記載の方法で合成）２．７ｇを粉体添加し、内温１０℃以下のまま、１０％ＮａＯＨ水溶液を用いて反応液のｐＨを７．５に保ち、ｐＨの変化がなくなるまで滴下を続けた。得られた反応液を大過剰のイソプロピルアルコールに注ぎ入れ、析出した固体をろ別した。得られた固体を水／メタノール：１／１混合溶媒２０ｍＬに溶解し、カラムクロマトグラフィ（充填剤：セファデックスＬＨ−２０（ファルマシア製）、展開溶媒：水／メタノール）で精製したのちに、透析膜（分画分子量３５００、Ｓｐｅｃｔｒａ／Ｐｏｒ３ Ｄｉａｌｙｓｉｓ Ｍｅｍｂｒａｎｅ（商品名、スペクトラム＝ラボラトリー社製））を用いて、無機塩及び残留有機溶媒を除去した。得られた水溶液を、希水酸化ナトリウム水溶液でｐＨを７に調整し、メンブレンフイルターで除塵ろ過を行い、得られた水溶液をロータリーエバポレーターで濃縮乾固することで例示化合物（１−２６）の緑色光沢結晶を得た。収量１．８ｇ、収率３６％。ＭＳ（ｍ／ｚ）＝１２７９（［Ｍ−１］⁻、１００％）。例示化合物（１−２６）の希薄水溶液中での吸収スペクトルの吸収極大波長は５３４ｎｍ、モル吸光係数は９５０００であった。例示化合物（１−２６）のジメチルスルホキシド−ｄ６中での^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図３に示す。

その他の染料に関しても、上記方法に準じて合成することができる。

〔実施例１〕
（水溶液１の調製）
下記の成分に脱イオン水を加え１００ｇとした後、３０〜４０℃で加熱しながら１時間撹拌した。その後、２５℃まで冷却し、１０ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液にてｐＨ＝８．５に調製し、平均孔径０．２μｍのミクロフィルターで減圧濾過し水溶液１を調製した。

水溶液１の組成：
染料（例示化合物（１−１１）） １０．００ｇ
プロキセルＸＬＩＩ（防腐剤、Ａｖｅｃｉａ製） ０．２ｇ
ベタイン−１ ５．７ｇ

（インクジェット記録用インク１の調製）
上記水溶液１に親水性有機溶媒、水等を加え、染料である例示化合物（１−１１）が３．５質量％となるように上記水溶液１を脱イオン水で希釈し、インクジェット記録用インク１を調製した。インクジェット記録用インク１の組成：
染料（例示化合物（１−１１）） ３．５０ｇ
プロキセルＸＬＩＩ（防腐剤、Ａｖｅｃｉａ製） ０．１１ｇ
ベタイン−１（下記構造のベタイン化合物） ２．００ｇ
ジエチレングリコール １０．６５ｇ
グリセリン １４．７０ｇ
ジエチレングリコールモノブチルエーテル １２．７０ｇ
トリエタノールアミン ０．６５ｇ
オルフィンＥ１０１０（日信化学工業（株）製） ０．９０ｇ
脱イオン水 ５４．７９ｇ

〔実施例２〕
例示化合物（１−１１）の代わりに、例示化合物（１−１８）を用いた以外は、実施例１と同様の操作により水溶液２及びインクジェット記録用インク２を調製した。

〔実施例３〕
例示化合物（１−１１）の代わりに、例示化合物（１−１９）を用いた以外は、実施例１と同様の操作により水溶液３及びインクジェット記録用インク３を調液した。

〔実施例４〕
例示化合物（１−１１）の代わりに、例示化合物（１−２０）を用いた以外は、実施例１と同様の操作により水溶液４及びインクジェット記録用インク４を調液した。

〔実施例５〕
例示化合物（１−１１）の代わりに、例示化合物（１−２５）を用いた以外は、実施例１と同様の操作により水溶液５及びインクジェット記録用インク５を調液した。

〔実施例６〕
例示化合物（１−１１）の代わりに、例示化合物（１−２６）を用いた以外は、実施例１と同様の操作により水溶液６及びインクジェット記録用インク６を調液した。

〔実施例７〕
例示化合物（１−１１）の代わりに、例示化合物（１−２９）を用いた以外は、実施例１と同様の操作により水溶液７及びインクジェット記録用インク７を調液した。

〔実施例８〕
例示化合物（１−１１）の代わりに、例示化合物（１−３０）を用いた以外は、実施例１と同様の操作により水溶液８及びインクジェット記録用インク８を調液した。

〔実施例９〕
例示化合物（１−１１）の代わりに、例示化合物（１−３４）を用いた以外は、実施例１と同様の操作により水溶液９及びインクジェット記録用インク９を調液した。

〔実施例１０〕
例示化合物（１−１１）の代わりに、例示化合物（１−３５）を用いた以外は、実施例１と同様の操作により水溶液１０及びインクジェット記録用インク１０を調液した。

〔実施例１１〕
水溶液の調製におけるプロキセルＸＬＩＩの使用量０．２ｇを０．１ｇへ変更した以外は、実施例６と同様の操作により水溶液１１及びインクジェット記録用インク１１を調液した。

〔実施例１２〕
水溶液の調製におけるプロキセルＸＬＩＩの使用量０．２ｇを０．３ｇへ変更した以外は、実施例６と同様の操作により水溶液１２及びインクジェット記録用インク１２を調液した。

〔実施例１３〕
水溶液の調製におけるプロキセルＸＬＩＩの使用量０．２ｇを０．４ｇへ変更した以外は、実施例６と同様の操作により水溶液１３及びインクジェット記録用インク１３を調液した。

〔実施例１４〕
水溶液の調製におけるプロキセルＸＬＩＩの使用量０．２ｇを０．１ｇへ変更した以外は、実施例７と同様の操作により水溶液１４及びインクジェット記録用インク１４を調液した。

〔実施例１５〕
水溶液の調製におけるプロキセルＸＬＩＩの使用量０．２ｇを０．３ｇへ変更した以外は、実施例７と同様の操作により水溶液１５及びインクジェット記録用インク１５を調液した。

〔実施例１６〕
水溶液の調製におけるプロキセルＸＬＩＩの使用量０．２ｇを０．４ｇへ変更した以外は、実施例７と同様の操作により水溶液１６及びインクジェット記録用インク１６を調液した。

〔実施例１７〕
水溶液の調製におけるプロキセルＸＬＩＩの使用量０．２ｇを０．１ｇへ変更した以外は、実施例８と同様の操作により水溶液１７及びインクジェット記録用インク１７を調液した。

〔実施例１８〕
水溶液の調製におけるプロキセルＸＬＩＩの使用量０．２ｇを０．３ｇへ変更した以外は、実施例８と同様の操作により水溶液１８及びインクジェット記録用インク１８を調液した。

〔実施例１９〕
水溶液の調製におけるプロキセルＸＬＩＩの使用量０．２ｇを０．４ｇへ変更した以外は、実施例８と同様の操作により水溶液１９及びインクジェット記録用インク１９を調液した。

〔実施例２０〕
水溶液の調製におけるプロキセルＸＬＩＩの使用量０．２ｇを０．１ｇへ変更した以外は、実施例９と同様の操作により水溶液２０及びインクジェット記録用インク２０を調液した。

〔実施例２１〕
水溶液の調製におけるプロキセルＸＬＩＩの使用量０．２ｇを０．３ｇへ変更した以外は、実施例９と同様の操作により水溶液２１及びインクジェット記録用インク２１を調液した。

〔実施例２２〕
水溶液の調製におけるプロキセルＸＬＩＩの使用量０．２ｇを０．４ｇへ変更した以外は、実施例９と同様の操作により水溶液２２及びインクジェット記録用イン２２を調液した。

〔実施例２３〕
プロキセルＸＬＩＩの代わりに、プロキセルＧＸＬを用いた以外は、実施例６と同様の操作により水溶液２３及びインクジェット記録用インク２３を調液した。

〔実施例２４〕
プロキセルＸＬＩＩの代わりに、プロキセルＧＸＬを用いた以外は、実施例７と同様の操作により水溶液２４及びインクジェット記録用インク２４を調液した。

〔実施例２５〕
プロキセルＸＬＩＩの代わりに、プロキセルＧＸＬを用いた以外は、実施例８と同様の操作により水溶液２５及びインクジェット記録用インク２５を調液した。

〔実施例２６〕
プロキセルＸＬＩＩの代わりに、プロキセルＧＸＬを用いた以外は、実施例９と同様の操作により水溶液２６及びインクジェット記録用インク２６を調液した。

〔実施例２７〕
水溶液の調製におけるプロキセルＸＬＩＩ０．２ｇの代わりに、プロキセルＸＬＩＩ０．１ｇ＋プロキセルＧＸＬ０．１ｇを用いた以外は、実施例６と同様の操作により水溶液２７及びインクジェット記録用インク２７を調液した。

〔実施例２８〕
水溶液の調製におけるプロキセルＸＬＩＩ０．２ｇの代わりに、プロキセルＸＬＩＩ０．１ｇ＋プロキセルＧＸＬ０．１ｇを用いた以外は、実施例７と同様の操作により水溶液２８及びインクジェット記録用インク２８を調液した。

〔実施例２９〕
水溶液の調製におけるプロキセルＸＬＩＩ０．２ｇの代わりに、プロキセルＸＬＩＩ０．１ｇ＋プロキセルＧＸＬ０．１ｇを用いた以外は、実施例８と同様の操作により水溶液２９及びインクジェット記録用インク２９を調液した。

〔実施例３０〕
水溶液の調製におけるプロキセルＸＬＩＩ０．２ｇの代わりに、プロキセルＸＬＩＩ０．１ｇ＋プロキセルＧＸＬ０．１ｇを用いた以外は、実施例９の同様の操作により水溶液３０及びインクジェット記録用インク３０を調液した。

〔実施例３１〕
プロキセルＸＬＩＩの代わりに、フェノキシエタノールを用いた以外は、実施例６と同様の操作により水溶液３１及びインクジェット記録用インク３１を調液した。

〔実施例３２〕
プロキセルＸＬＩＩの代わりに、フェノキシエタノールを用いた以外は、実施例８と同様の操作により水溶液３２及びインクジェット記録用インク３２を調液した。

〔実施例３３〕
プロキセルＸＬＩＩの代わりに、ペンチレングリコールを用いた以外は、実施例６と同様の操作により水溶液３３及びインクジェット記録用インク３３を調液した。

〔実施例３４〕
プロキセルＸＬＩＩの代わりに、ペンチレングリコールを用いた以外は、実施例８と同様の操作により水溶液３４及びインクジェット記録用インク３４を調液した。

〔実施例３５〕
水溶液の調製におけるプロキセルＸＬＩＩの代わりに、フェノキシエタノール０．１ｇ＋ペンチレングリコール０．１ｇを用いた以外は、実施例６と同様の操作により水溶液３５及びインクジェット記録用インク３５を調液した。

〔実施例３６〕
ベタイン化合物（ベタイン１）をベタイン２へ変更した以外は、実施例１と同様の操作により水溶液３６及びインクジェット記録用インク３６を調液した。

〔実施例３７〕
ベタイン化合物（ベタイン１）をベタイン２へ変更した以外は、実施例６と同様の操作により水溶液３７及びインクジェット記録用インク３７を調液した。

〔実施例３８〕
ベタイン化合物（ベタイン１）をベタイン２へ変更した以外は、実施例７と同様の操作により水溶液３８及びインクジェット記録用インク３８を調液した。

〔実施例３９〕
ベタイン化合物（ベタイン１）をベタイン２へ変更した以外は、実施例８と同様の操作により水溶液３９及びインクジェット記録用インク３９を調液した。

〔実施例４０〕
ベタイン化合物（ベタイン１）をベタイン２へ変更した以外は、実施例９と同様の操作により水溶液４０及びインクジェット記録用インク４０を調液した。

〔比較例１〕
プロキセルＸＬＩＩを添加しない以外は、実施例１と同様の操作により比較水溶液１及び比較インクジェット記録用インク１を調液した。

〔比較例２〕
プロキセルＸＬＩＩを添加しない以外は、実施例６と同様の操作により比較水溶液２及び比較インクジェット記録用インク２を調液した。

〔比較例３〕
プロキセルＸＬＩＩを添加しない以外は、実施例７と同様の操作により比較水溶液３及び比較インクジェット記録用インク３を調液した。

〔比較例４〕
プロキセルＸＬＩＩを添加しない以外は、実施例８と同様の操作により比較水溶液４及び比較インクジェット記録用インク４を調液した。

〔比較例５〕
プロキセルＸＬＩＩを添加しない以外は、実施例９と同様の操作により比較水溶液５及び比較インクジェット記録用インク５を調液した。

〔比較例６〕
例示化合物（１−１１）の代わりに、比較化合物（１）を用いた以外は、実施例１と同様の操作により比較水溶液６及び比較インクジェット記録用インク６を調液した。

〔比較例７〕
例示化合物（１−１１）の代わりに、比較化合物（２）を用いた以外は、実施例１と同様の操作により比較水溶液７及び比較インクジェット記録用インク７を調液した。

〔比較例８〕
例示化合物（１−１１）の代わりに、比較化合物（３）を用いた以外は、実施例１と同様の操作により比較水溶液８及び比較インクジェット記録用インク８を調液した。

〔比較例９〕
例示化合物（１−１１）の代わりに、比較化合物（４）を用いた以外は、実施例１と同様の操作により比較水溶液９及び比較インクジェット記録用インク９を調液した。

〔比較例１０〕
例示化合物（１−１１）の代わりに、比較化合物（５）を用いた以外は、実施例１と同様の操作により比較水溶液１０及び比較インクジェット記録用インク１０を調液した。

（水溶液及び比較水溶液の貯蔵安定性）
上記実施例１〜４０で作成した水溶液１〜４０及び比較例１〜１０で作成した比較水溶液１〜１０に関して、６０℃、１４日間の条件で水溶液貯蔵安定性の試験を行い、下記判定基準により評価した。
目視及び０．２μｍのろ過にて溶解状態を保っているものをＡ、染料の析出又は分離が起きたものをＢの２段階で評価した。
結果を下記表３及び４に示した。

（防腐性）
日水製薬（株）製の細菌検査用フードスタンプ（生菌数用及び真菌用）のキャップをとり、寒天培地面に充分な水溶液１〜４０及び比較水溶液１〜１０を塗布した。キャップをしないまま１０時間放置することにより、菌の付着を促した。その後でキャップをし、生菌数用フードスタンプについては３６℃の恒温槽中で２日間、真菌用フードスタンプについては２３℃の恒温槽中で５日間、培養した。目視観察により、以下の基準にて評価を行った。
Ａ・・・黴の発生なし
Ｂ・・・黴の発生あり
結果を下記表３及び４に示した。
またインクジェット記録用インク１〜４０、比較インクジェット記録用インク１〜１０についても、同様に防腐性を評価したところ、それぞれ水溶液１〜４０及び比較水溶液１〜１０と同じ結果であった。

（画像記録及び評価）
実施例１〜４０のインクジェット記録用インク１〜４０及び比較例の比較インクジェット記録用インク１〜１０について、下記評価を行った。
なお、各評価は、各インクジェット記録用インクをインクカートリッジに装填し、インクジェットプリンター（セイコーエプソン（株）製；ＰＭ−７００Ｃ）で写真用紙（セイコーエプソン（株）製写真紙＜光沢＞）に画像を記録した後で評価したものである。

＜色相＞
印画したサンプルを目視で観測し、純色のマゼンタである場合をＡ、やや赤みがかった赤色に近いマゼンタをＢ、明らかに赤紫色の場合をＣの三段階で評価した。

＜彩度＞
印画物の彩度（Ｃ^＊）を、色特性に測定に基づき、下記式によって算出した。印加電圧５０％における印画画像部分について、反射濃度計（商品名 Ｘ−Ｒｉｔｅ ３１０ＴＲ、Ｘｒｉｔｅ社製）を用いて、ＣＩＥ Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系（国際照明委員会規格（１９７６年）／又はＪＩＳ規格Ｚ８７８１−４：２０１３）における明度Ｌ^＊と色度ａ^＊及びｂ^＊を測定し、得られた値から下記算出式に基づいて彩度（Ｃ^＊）を求め、評価を行い、下記判定基準により評価した。

Ａ： Ｃ^＊が９０以上の場合
Ｂ： Ｃ^＊が８０以上９０未満の場合
Ｃ： Ｃ^＊が８０未満の場合

＜印画濃度＞
インクジェットプリンター（商品名ＰＭ−７００Ｃ、セイコーエプソン株式会社製）を使用し、上記に示したインクジェット記録用インクを用いて、インクジェット専用記録媒体｛写真用紙＜光沢＞（商品名、セイコーエプソン株式会社製）｝にマゼンタ（Ｍａｇｅｎｔａ）色のＯＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｄｅｎｓｉｔｙ）値が０．１〜２．０の範囲で階段状に濃度が変化した単色の画像パターンを印字させた。
写真用紙に印画濃度（ＯＤｍａｘ）における反射濃度を画像濃度を反射濃度計（Ｘ−Ｒｉｔｅ３１０ＴＲ）を用いて測定し、印画濃度が２．０以上の場合をＡ、１．８以上２．０未満の場合をＢ、１．８未満の場合をＣとして、三段階で評価した。

＜耐光性＞
記録した直後の画像濃度Ｃｉを測定した後、ウェザーメーター（アトラスＣ．１６５）を用いて、画像にキセノン光（１０万ルクス）を２８日間照射した後、再び画像濃度Ｃｆ１を測定し、キセノン光照射前後の画像濃度から色素残存率を算出し評価した。画像濃度は反射濃度計（商品名 Ｘ−Ｒｉｔｅ ３１０ＴＲ、Ｘｒｉｔｅ社製）を用いて測定した。色素残存率は、初期の画像濃度が１．０±０．２の画像部分を用いて測定した。
次式より色素残存率を求め、下記判定基準により評価した。
色素残存率（％）＝（Ｃｆ１／Ｃｉ）×１００

Ａ： 色素残存率が９０％以上の場合
Ｂ： 色素残存率が８０％以上９０％未満の場合
Ｃ： 色素残存率が８０％未満の場合

＜耐オゾン性＞
シーメンス型オゾナイザーの二重ガラス管内に乾燥空気を通しながら、５ｋＶ交流電圧を印加し、これを用いてオゾンガス濃度が５±０．１ｐｐｍ、室温、暗所に設定されたボックス内に、画像を形成したフォト光沢紙を３日間放置し、オゾンガス下放置後の画像濃度を反射濃度計（商品名 Ｘ−Ｒｉｔｅ ３１０ＴＲ、Ｘｒｉｔｅ社製）を用いて測定し、初期の画像濃度Ｃｉとオゾンガス下放置後の画像濃度Ｃｆ２から色素残存率を算出し評価した。なお、色素残存率は、初期の画像濃度が１．０±０．２の画像部分を用いて測定した。ボックス内のオゾンガス濃度は、ＡＰＰＬＩＣＳ製オゾンガスモニター（モデル：ＯＺＧ−ＥＭ−０１）を用いて設定した。
次式より色素残存率を求め、下記判定基準により評価した。
色素残存率（％）＝（Ｃｆ２／Ｃｉ）×１００
Ａ： 色素残存率が８５％以上の場合
Ｂ： 色素残存率が８０％以上８５％未満の場合
Ｃ： 色素残存率が８０％未満の場合

＜耐湿性＞
高湿条件下での画像のにじみについては、マゼンタの１ｍｍ×１ｍｍの正方形を、正方形同士の間に０．５ｍｍの白地隙間が形成されるように配置した、３ｃｍ×３ｃｍの印字パターンを作製し、この画像サンプルを４５℃相対湿度８０％の条件下、７日間保存後に白地隙間におけるマゼンタ染料のにじみを観察した。
具体的には、上記高湿条件に晒す前と晒した後の印刷物のＯＤ値を、反射濃度計（「Ｓｐｅｃｔｒｉｌｉｎｏ」（商品名：Ｇｒｅｔａｇ社製）を用いて測定し、印字直後に対する白地のマゼンタ濃度増加がステータスＡのグリーンフィルターにおいて、０．０２未満の場合をＡ、０．０２以上０．０５未満の場合をＢ、０．０５以上０．１０未満の場合をＣ、０．１０以上の場合をＤとした。

＜吐出安定性＞
吐出安定性については、上記で得られた各インクをインクジェット記録装置（商品名：商品名ＰＭ−７００Ｃ、セイコーエプソン株式会社製）用のインクカートリッジに充填し、カートリッジをインクジェット記録装置にセットし全ノズルからのインクの吐出を確認した後、Ａ４の紙１００枚に出力し、以下の基準で評価した。
Ａ：印刷開始から終了まで印字の乱れが殆ど無し
Ｂ：印字の乱れのある出力が多数発生する
Ｃ：印刷開始から終了まで終始印字の乱れあり
この実験を、インクカートリッジを４０℃、相対湿度８０％の条件下、２週間保存後に行った。

＜インクジェット記録用インクの貯蔵安定性：水溶液長期保存強制試験後のインク吐出安定性と印画品質・性能＞
実施例１〜４０の水溶液１〜４０及び比較例１〜１０の比較水溶液１〜１０を６０℃で１４日間保存（「強制保存試験」ともいう）後に、それぞれの水溶液を用いてインクジェット記録用インクを調液し、再び上記実験を行い、強制保存試験に供す前の（調液直後の）水溶液を用いて調液したインクジェット記録用インクの品質・性能を保っているものをＡ、表５及び６中の要求試験項目（色相、彩度、印画濃度、耐光性、耐オゾン性、耐湿性、吐出安定性）のうち１項目でも品質・性能が低下したものをＢとして、２段階で評価し、結果を表５及び６に示した。

上記結果から明らかなように、本発明の水溶液及びインクジェット記録用インクは、長期保存した際の貯蔵安定性、並びに長期保存後に上記染料水溶液を用いて調製した水性インクの印画品質、及び吐出安定性に優れる。

本発明によれば、印画品質に優れる水性インクを提供し得る染料水溶液であって、長期保存した際の貯蔵安定性、並びに長期保存後に上記染料水溶液を用いて調製した水性インクの印画品質、及び吐出安定性に優れる、水溶液、上記水溶液を用いた着色組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、及びインクカートリッジを提供することができる。

本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
本出願は、２０１６年９月３０日出願の日本特許出願（特願２０１６−１９３９４２）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

Claims (16)

1. 下記一般式（１）で表される化合物と、防腐剤とを含む水溶液であって、前記一般式（１）で表される化合物の含有量が前記水溶液全量に対して５〜２５質量％である水溶液。
   
   一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^１０は各々独立にアルキル基を表す。Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９及びＲ^２０は各々独立に水素原子又は置換基を表す。Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^７及びＲ^８は各々独立に水素原子、アルキル基又は下記一般式（Ａ）で表される置換基を表し、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^７及びＲ^８のうち少なくとも１つは下記一般式（Ａ）で表される置換基を表す。Ｍは水素原子又は一価のカウンターカチオンを表す。
   
   一般式（Ａ）中、Ｘは下記一般式（Ｘ１）、一般式（Ｘ２）又は一般式（Ｘ３）で表される置換基を表す。＊はベンゼン環に結合する結合手を表す。
   
   一般式（Ｘ１）中、Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５は下記条件（ｉ）又は（ｉｉ）を満たす。＊は硫黄原子に結合する結合手を表す。
   条件（ｉ）：Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
   条件（ｉｉ）：Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。
   
   一般式（Ｘ２）中、Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７は下記条件（ｉｉｉ）又は（ｉｖ）を満たす。＊は硫黄原子に結合する結合手を表す。
   条件（ｉｉｉ）：Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
   条件（ｉｖ）：Ｒ^５０１、Ｒ^５０２、Ｒ^５０３、Ｒ^５０４、Ｒ^５０５、Ｒ^５０６及びＲ^５０７のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。
   
   一般式（Ｘ３）中、Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７は下記条件（ｖ）又は（ｖｉ）を満たす。＊は硫黄原子に結合する結合手を表す。
   条件（ｖ）：Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
   条件（ｖｉ）：Ｒ^６０１、Ｒ^６０２、Ｒ^６０３、Ｒ^６０４、Ｒ^６０５、Ｒ^６０６及びＲ^６０７のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。
2. 前記一般式（１）で表される化合物が、下記一般式（２）で表される化合物である請求項１に記載の水溶液。
   
   一般式（２）中、Ｒ^１、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^１０は各々独立にアルキル基を表す。Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９及びＲ^２０は各々独立に水素原子又は置換基を表す。Ｒ^３及びＲ^８は各々独立に水素原子又はアルキル基を表す。Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５は下記条件（ｉ−１）又は（ｉｉ−１）を満たす。Ｒ^４０６、Ｒ^４０７、Ｒ^４０８、Ｒ^４０９及びＲ^４１０は各々独立に水素原子又は置換基を表す。ただし、Ｒ^４０６、Ｒ^４０７、Ｒ^４０８、Ｒ^４０９及びＲ^４１０は下記条件（ｉ−２）又は（ｉｉ−２）を満たす。Ｍは水素原子又は一価のカウンターカチオンを表す。
   条件（ｉ−１）：Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
   条件（ｉｉ−１）：Ｒ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。
   条件（ｉ−２）：Ｒ^４０６、Ｒ^４０７、Ｒ^４０８、Ｒ^４０９及びＲ^４１０のうち少なくとも１つはヒドロキシル基を表し、かつ少なくとも１つはカルボキシル基を表す。
   条件（ｉｉ−２）：Ｒ^４０６、Ｒ^４０７、Ｒ^４０８、Ｒ^４０９及びＲ^４１０のうち少なくとも２つはカルボキシル基を表す。
3. 前記一般式（２）中のＲ^４０１、Ｒ^４０２、Ｒ^４０３、Ｒ^４０４及びＲ^４０５が前記条件（ｉｉ−１）を満たし、Ｒ^４０６、Ｒ^４０７、Ｒ^４０８、Ｒ^４０９及びＲ^４１０が前記条件（ｉｉ−２）を満たす請求項２に記載の水溶液。
4. 前記一般式（１）又は一般式（２）で表される化合物が、下記一般式（２’）で表される化合物である請求項１〜３のいずれか１項に記載の水溶液。
   
   一般式（２’）中、Ｒ^４０１及びＲ^４０６はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、又はメチル基を表す。Ｍは水素原子、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又はアンモニウムイオンを表す。
5. 前記一般式（２’）のＲ^４０１及びＲ^４０６がヒドロキシル基である請求項４に記載の水溶液。
6. 前記防腐剤が、複素環化合物、フェノール誘導体、フェノキシエーテル誘導体、及びアルカンジオール類からなる群より選ばれる少なくとも１種である請求項１〜５のいずれか１項に記載の水溶液。
7. 前記防腐剤が前記複素環化合物であり、前記複素環化合物がチアゾール系化合物又はベンゾトリアゾール系化合物である請求項６に記載の水溶液。
8. 前記防腐剤が２種以上含まれる請求項１〜７のいずれか１項に記載の水溶液。
9. 前記防腐剤の総含有量が、前記水溶液全量に対して０．０１〜０．５質量％である請求項１〜８のいずれか１項に記載の水溶液。
10. 前記一般式（１）で表される化合物と、前記防腐剤との質量比が９０／１０〜９９／１である請求項１〜９のいずれか１項に記載の水溶液。
11. さらにベタイン化合物を含む請求項１〜１０のいずれか１項に記載の水溶液。
12. 前記ベタイン化合物の含有量が、前記水溶液全量に対して１〜１０質量％である請求項１１に記載の水溶液。
13. 請求項１〜１２のいずれか１項に記載の水溶液を用いた着色組成物。
14. 請求項１〜１２のいずれか１項に記載の水溶液、又は請求項１３に記載の着色組成物を用いたインクジェット記録用インク。
15. 請求項１４に記載のインクジェット記録用インクを用いて、被記録材に着色画像を形成するインクジェット記録方法。
16. 請求項１４に記載のインクジェット記録用インクを充填したインクジェット記録用インクカートリッジ。