JPWO2017111140A1 - 複合半透膜 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の目的は、高い透水性能と溶質除去性能を持ち、かつ高い耐酸性を持つ複合半透膜を提供することである。
1.支持膜と、前記支持膜上に設けられた分離機能層とを備える複合半透膜であって、
前記分離機能層が、架橋芳香族ポリアミドを含有すると共に、凸部と凹部とを備えるひだ構造を有し、前記ひだ構造の凸部において高さが100nm以上である凸部の数の割合が80%以上であり、
かつ、前記分離機能層が、アミノ基、カルボキシ基、及びアミド基を含み、y/x≦0.81
であることを特徴とする複合半透膜。
x:13C固体NMRにより測定したカルボキシ基とアミド基のモル比(カルボキシ基/アミド基)
y:13C固体NMRにより測定したアミノ基とアミド基のモル比(アミノ基/アミド基)
2.x+yが0.50以上である前記1に記載の複合半透膜。
3.x+yが0.98以下である前記1または2に記載の複合半透膜。
4.凸部を5nNの力で押し込んだ際の変形量が2.5nm以下となる凸部が40%以上を占める前記1〜3のいずれか1に記載の複合半透膜。
5.前記分離機能層が架橋全芳香族ポリアミドからなる、前記1〜4のいずれか1に記載の複合半透膜。
本発明に係る複合半透膜は、支持膜と、前記多孔性支持層上に形成される分離機能層とを備える。前記分離機能層は実質的に分離性能を有するものであり、前記支持膜は水を透過するものの実質的にイオン等の分離性能を有さず、前記分離機能層に強度を与えることができる。
本実施形態では、支持膜は、例えば、基材および多孔性支持層を備える。ただし、本発明はこの構成に限定されるものではない。例えば、支持膜は、基材を持たず、多孔性支持層のみで構成されていてもよい。
基材としては、例えば、ポリエステル系重合体、ポリアミド系重合体、ポリオレフィン系重合体、及びこれらの混合物又は共重合体等が挙げられる。中でも、機械的、熱的に安定性の高いポリエステル系重合体の布帛が特に好ましい。布帛の形態としては、長繊維不織布や短繊維不織布、さらには織編物を好ましく用いることができる。
なお、本書において、特に付記しない限り、厚みとは、平均値を意味する。ここで平均値とは相加平均値を表す。すなわち、基材及び多孔性支持層の厚みは、断面観察で厚み方向に直交する方向(膜の面方向)に20μm間隔で測定した20点の厚みの平均値を算出することで求められる。
本発明において多孔性支持層は、イオン等の分離性能を実質的に有さず、分離性能を実質的に有する分離機能層に強度を与えるためのものである。多孔性支持層の孔のサイズや分布は特に限定されない。
本発明において分離機能層は、架橋芳香族ポリアミドを含有する。特に、分離機能層は、架橋芳香族ポリアミドを主成分として含有することが好ましい。主成分とは分離機能層の成分のうち、50重量%以上を占める成分を指す。分離機能層は、架橋芳香族ポリアミドを50重量%以上含むことにより、高い除去性能を発現することができる。
本発明における分離機能層を、以下、ポリアミド分離機能層と記載することがある。
(i)透過型電子顕微鏡(TEM)でひだ構造の断面を撮影する。
(ii)得られた画像において粗さ曲線を求める。
(iii)粗さ曲線の平均線を描き、その平均線の方向に2.0μmの幅で断面画像を10箇所抜き取る。
(iv)10箇所の断面画像のそれぞれで、10点平均面粗さを算出する。
(v)10箇所の断面画像のそれぞれで、上記(iv)の10点平均面粗さの5分の1以上の高さを有する凸部の高さを測定する。
撮影箇所は1枚の膜につき1箇所であり、倍率は10万倍である。
粗さ曲線の平均線とは、ISO4287:1997に基づき定義される直線である。具体的には、粗さ曲線の平均線とは、表面粗さを測定する領域の幅(本測定の場合は2.0μm)に渡って、平均線と粗さ曲線とで囲まれる範囲の面積の合計が平均線の上下で等しくなるように描かれる直線である。
なお、図2は模式図なので、実際に得られる画像とは異なり、平均線(基準線:図中の点線)と粗さ曲線とで囲まれる範囲の面積は、平均線の上下で厳密に同一ではない。
つまり、1枚の複合半透膜から、10個の10点平均面粗さが得られる。
以上の手順によって、10箇所の断面画像のそれぞれで、複数の凸部の高さの値が得られる。
上述の10箇所の断面画像のそれぞれで、10点平均面粗さの5分の1以上の高さを有する凸部を数える。つまり、10個の画像から、10点平均面粗さの5分の1以上の高さを有する凸部の数として、a1,a2・・・a10の計10個の値が得られるので、その合計値Aを算出する。
数Aに対する数Bの割合(B/A)が、上述の割合である。
次に、上記複合半透膜の製造方法について説明する。複合半透膜は、基材上に多孔性支持層を形成する工程、および多孔性支持層の上に分離機能層を形成する工程を含む。
基材および多孔性支持層としては、例えば、ミリポア社製“ミリポアフィルターVSWP”(商品名)、および東洋濾紙社製“ウルトラフィルターUK10”(商品名)のような各種市販膜から適切な膜を選択することもできる。
次に複合半透膜を構成する分離機能層の形成工程を説明する。
分離機能層の形成工程は、
(a)多官能芳香族アミンを含有する水溶液を多孔性支持層上に接触させる工程と、(b)多官能芳香族アミンを含有する水溶液を接触させた多孔性支持層に多官能芳香族酸ハロゲン化物を溶解させた溶液Aを接触させる工程と、(c)さらに多官能芳香族酸ハロゲン化物を溶解させた溶液Bを接触させ加熱する工程と、(d)反応後の有機溶媒溶液を液切りする工程、を有する。
なお、本欄では、支持膜が基材と多孔性支持層とを備える場合を例に挙げるが、支持膜が別の構成を備える場合は、「多孔性支持層」を「支持膜」と読み替えればよい。
有機溶媒残存率(%)={(工程(c)直後の膜重量−工程(b)直前の膜重量)/(溶液Aの重量+溶液Bの重量)}×100
本発明の複合半透膜は、プラスチックネットなどの供給水流路材と、トリコットなどの透過水流路材と、必要に応じて耐圧性を高めるためのフィルムと共に、多数の孔を穿設した筒状の集水管の周りに巻回され、スパイラル型の複合半透膜エレメントとして好適に用いられる。さらに、このエレメントを直列または並列に接続して圧力容器に収納した複合半透膜モジュールとすることもできる。
実施例、比較例における官能基解析(カルボキシ基・アミノ基・アミド基の定量)、ひだ凸部高さ解析、及び有機溶媒残存率は以下のように測定した。以下、特段の記述がない場合は、25℃で操作を行った。
複合半透膜5m2から基材を物理的に剥離させ、多孔性支持層と分離機能層を回収した。24時間静置することで乾燥させた後、ジクロロメタンの入ったビーカー内に少量ずつ加えて撹拌し、多孔性支持層を構成するポリマーを溶解させた。ビーカー内の不溶物を濾紙で回収した。この不溶物をジクロロメタンの入ったビーカー内に入れ攪拌し、ビーカー内の不溶物を回収した。この作業をジクロロメタン溶液中に多孔性支持層を形成するポリマーの溶出が検出できなくなるまで繰り返した。回収した分離機能層は真空乾燥機で乾燥させ、残存するジクロロメタンを除去した。得られた分離機能層は凍結粉砕によって粉末状の試料とし、固体NMR法測定に用いられる試料管内に封入して、CP/MAS法、及びDD/MAS法による13C固体NMR測定を行った。13C固体NMR測定には、例えば、Chemagnetics社製CMX−300を用いることができる。測定条件例を以下に示す。
試料回転数:10.5kHz
パルス繰り返し時間:100s
得られたスペクトルから、各官能基が結合している炭素原子由来のピークごとにピーク分割を行い、分割されたピークの面積から、カルボキシ基・アミノ基・アミド基の官能基量比を定量した。
複合半透膜をPVAで包埋し、OsO4で染色し、これをウルトラミクロトームで切断して超薄切片を作製した。得られた超薄切片を、透過型電子顕微鏡を用いて断面写真を撮影した。透過型電子顕微鏡により撮影した断面写真を画像解析ソフトに読み込み、長さ2.0μmの距離におけるひだ凸部高さとひだ凹部深さを測定し、上述したように10点平均面粗さを算出した。この10点平均面粗さに基づいて、10点平均面粗さの5分の1以上の高さを有する凸部について、その凸部の高さを測定した。さらに、ひだ凸部高さの中間値を算出した。
変形量を上述の方法で測定した。
分離機能層の表面を原子間力顕微鏡(AFM)にて純水中で観察し、2μm四方範囲の任意の3つの領域を選択した。これらの3つの領域に含まれる凸部を、それぞれの領域において10点、つまり合計30点選択した。さらに、選択した凸部の頂点を中心とした直径100nmの円領域内の一点を5nNの力で押し込んだときに2.5nm以下の変形量を示す凸部の数Xを数え、割合(X/30)を求めた。
なお、凸部の変形量(Deformation)は、上述のとおり、原子間力顕微鏡(AFM)のタッピングモードで測定した。
原子間力顕微鏡はBruker AXS社製Dimension FastScanを用いた。カンチレバーの探針の形状は円錐形(ピラミッド型)であった。
有機溶媒残存率は、工程(b)直前の膜重量、工程(c)直後の膜重量から、下記式により求めた値とした。
有機溶媒残存率(%)={(工程(c)直後の膜重量−工程(b)直前の膜重量)/(溶液Aの重量+溶液Bの重量)}×100
供給水(海水)の膜透過水量を、膜面1平方メートルあたり、1日あたりの透水量(立方メートル)でもって膜透過流束(m3/m2/日)を表した。
供給水と透過水中のホウ素濃度をICP発光分析装置(日立製作所製 P−4010)で分析し、次の式から求めた。
ホウ素除去率(%)=100×{1−(透過水中のホウ素濃度/供給水中のホウ素濃度)}
複合半透膜をpH1に調整した硫酸水溶液に24時間浸漬した後水で十分に洗浄した。
耐薬品性は浸漬前後での膜透過流束比とホウ素SP比から求めた。
膜透過流束比=浸漬後の膜透過流束/浸漬前の膜透過流束
ホウ素SP比=(100−浸漬後のホウ素除去率)/(100−浸漬前のホウ素除去率)
ポリエステル不織布(通気量2.0cc/cm2/sec)上にポリスルホン(PSf)の16.0重量%DMF溶液を25℃の条件下で200μmの厚みでキャストし、ただちに純水中に浸漬して5分間放置することによって支持膜を作製した。
国際公開第2011/105278号記載の方法にならい複合半透膜を製膜した。参考例1によって得られた多孔性支持膜を、m−フェニレンジアミン(m−PDA)の6重量%を含む水溶液中に2分間浸漬し、該支持膜を垂直方向にゆっくりと引き上げた。エアーノズルから窒素を吹き付け、支持膜表面から余分な水溶液を取り除いた後、トリメシン酸クロリド(TMC)0.16重量%を含む40℃のデカン溶液(溶液A)を表面が完全に濡れるように塗布したのち、120℃のオーブンに入れた。さらにTMC0.32重量%を含むデカン溶液(溶液B)を塗布した後、有機溶媒残存率が60%となるまで加熱した。その後、膜から余分な溶液を除去するために膜を垂直にして60秒液切りを行い、送風機を使い20℃の空気を30秒吹き付けて乾燥させ、複合半透膜を得た。
溶液A接触温度、溶液B接触後の有機溶媒残存率を、表1に示す値に変更した以外は、実施例1と同様にして実施例2〜5の複合半透膜を得た。
TMCを精製せずに用いたことと、有機溶媒残存率を58%にした以外は、実施例1と同様にして実施例6における複合半透膜を得た。
液切り時、膜を垂直にして180秒液切りを行った以外は、実施例1と同様にして実施例7における複合半透膜を得た。
溶液A接触温度、溶液Bの濃度、溶液B接触後の有機溶媒残存率、液切り所要時間を、表1に示す値に変更した以外は、実施例1と同様にして比較例1の複合半透膜を得た。
溶液Bを接触させる工程を省略し、溶液A接触温度、有機溶媒残存率、液切り所要時間を、表1に示す値に変更した以外は、実施例1と同様にして比較例2及び3の複合半透膜を得た。
溶液Bを接触させる工程、120℃のオーブンに入れる工程を省略し、溶液A接触温度、有機溶媒残存率、液切り所要時間を、表1に示す値に変更した以外は、実施例1と同様にして比較例4の複合半透膜を得た。
120℃のオーブンに入れる工程を省略し、溶液A接触温度、溶液B接触後の有機溶媒残存率、液切り所要時間を、表1に示す値に変更した以外は、実施例1と同様にして比較例5の複合半透膜を得た。
溶媒としてイソオクタンを用い、溶液A接触温度、溶液Bの濃度、溶液B接触後の有機溶媒残存率、液切り所要時間を、表1に示す値に変更した以外は、実施例1と同様にして比較例6の複合半透膜を得た。
参考例1によって得られた多孔性支持膜をm−PDAの4重量%を含む水溶液中に2分間浸漬し、該支持膜を垂直方向にゆっくりと引き上げた。エアーノズルから窒素を吹き付け、支持膜表面から余分な水溶液を取り除いた後、TMC0.16重量%を40℃のデカン溶液に溶解し、支持膜表面が完全に濡れるように塗布した。その後、膜から余分な溶液を除去するために膜を垂直にして60秒液切りを行い、送風機を使い20℃の空気を吹き付けて乾燥させた。次に、膜を硫酸によりpH1に調整した90℃の熱水に2分間浸漬し、続いて40℃の水に2分間浸漬することで、比較例7の複合半透膜を得た。
参考例1によって得られた多孔性支持膜をm−PDAの4重量%を含む水溶液中に2分間浸漬し、該支持膜を垂直方向にゆっくりと引き上げた。エアーノズルから窒素を吹き付け、支持膜表面から余分な水溶液を取り除いた後、TMC0.16重量%を40℃のデカン溶液に溶解し、支持膜表面が完全に濡れるように塗布した。その後、膜から余分な溶液を除去するために膜を垂直にして90秒液切りを行い、送風機を使い20℃の空気を吹き付けて乾燥させた。次に、膜を50℃の水で2分間洗浄し、500ppmのm−PDAを含む水溶液に60分間浸漬した。次に、膜を硫酸によりpH3に調整した、0.3重量%の亜硝酸ナトリウムを含む35℃の水溶液に1分間浸漬し、続いて水で洗浄した。最後に、0.1重量%の亜硫酸ナトリウム水溶液に2分間浸漬することで、比較例8の複合半透膜を得た。
参考例1によって得られた支持膜を、m−PDAの5.5重量%水溶液中に2分間浸漬し、該支持膜を垂直方向にゆっくりと引き上げ、エアーノズルから窒素を吹き付け支持膜表面から余分な水溶液を取り除いた後、TMC0.165重量%を含む25℃のn−デカン溶液を表面が完全に濡れるように塗布して1分間静置した。次に、膜から余分な溶液を除去するために膜を1分間垂直に保持して60秒液切りした後、50℃の熱水で2分間洗浄して複合半透膜を得た。得られた複合半透膜を、pH3、35℃に調整した、亜硝酸ナトリウム0.4重量%水溶液に1分間浸漬した。亜硝酸ナトリウムのpHの調整は硫酸で行った。次に、35℃のm−PDA0.3重量%水溶液に1分間浸漬させ、ジアゾカップリング反応を行った。最後に35℃の0.1重量%の亜硫酸ナトリウム水溶液に2分間浸漬することで、比較例9の複合半透膜を得た。
参考例1によって得られた支持膜を、m−PDAの2.0%水溶液中に2分間浸漬した。2分間浸漬し、該支持膜を垂直方向にゆっくりと引き上げ、ゴムローラーを用いて圧縮し、支持膜表面から余分な水溶液を取り除いた後、TMC0.10重量%を含むn−ヘキサン溶液を表面が完全に濡れるように塗布して10秒間静置した。得られた膜を空気乾燥した。
ポリスルホンの濃度が18.0重量%である以外は参考例1と同様の方法で得た支持膜を、2.0%のm−PDA、1%のトリエチルアミン、及び2.3%のカンファースルホン酸を含む水溶液に2分間入れてから取り出した後、支持膜上における過剰の水溶液を25psiのローラーを用いて除去し、1分乾燥した。
次に、ISOPAR C(エクソン・モービル製)に0.10体積%のTMCを含有した有機溶液を支持膜上部に、上記支持膜を線速1m/minで移動させ、上記支持膜1m2あたり100mlの量で滴下した。このとき、有機溶液の液滴あたりの体積は0.01mLであった。支持膜の幅方向に1cmの感覚で液滴を同時滴下し、移動方向に1.7回/secの周期で液滴を滴下した。滴下後、60℃のオーブンにおいて10分間乾燥した。
ポリスルホンの濃度が16.5重量%である以外は参考例1と同様の方法で得た支持膜を、m−PDAの3.5重量%水溶液中に2分間浸漬し、該支持膜を垂直方向にゆっくりと引き上げ、エアーノズルから窒素を吹き付け支持膜表面から余分な水溶液を取り除いた後、TMC0.14重量%、TMCのモノ加水分解体を0.06重量%、およびTMCに対して1.1当量のリン酸トリブチルを含む25℃のISOPAR L(エクソン・モービル製)溶液を表面が完全に濡れるように塗布して1分間静置した。次に、膜から余分な溶液を除去するために膜を1分間垂直に保持して液切りした後、50℃の熱水で2分間洗浄して複合半透膜を得た。最後に25℃の純水で24時間浸漬した。
2 分離機能層
3 多孔性支持層
Claims (5)
- 支持膜と、前記支持膜上に設けられた分離機能層とを備える複合半透膜であって、
前記分離機能層が、架橋芳香族ポリアミドを含有すると共に、凸部と凹部とを備えるひだ構造を有し、前記ひだ構造の凸部において高さが100nm以上である凸部の数の割合が80%以上であり、
かつ、前記分離機能層が、アミノ基、カルボキシ基、及びアミド基を含み、y/x≦0.81
であることを特徴とする複合半透膜。
x:13C固体NMRにより測定したカルボキシ基とアミド基のモル比(カルボキシ基/アミド基)
y:13C固体NMRにより測定したアミノ基とアミド基のモル比(アミノ基/アミド基) - x+yが0.50以上である請求項1に記載の複合半透膜。
- x+yが0.98以下である請求項1または2に記載の複合半透膜。
- 凸部を5nNの力で押し込んだ際の変形量が2.5nm以下となる凸部が40%以上を占める請求項1〜3のいずれか1項に記載の複合半透膜。
- 前記分離機能層が架橋全芳香族ポリアミドからなる、請求項1〜4のいずれか1項に記載の複合半透膜。
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