JPWO2017104068A1 - 観察装置 - Google Patents

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Abstract

装置を大型化させることなく、細胞等の被写体を標識せずに観察することを目的として、本発明に係る観察装置(1)は、試料(X)の下方から斜め上方に向けて照明光を射出する照明光学系(6)と、照明光学系(6)から射出された照明光が試料(X)の上方で反射されて試料(X)を透過した透過光を試料(X)の下方において照明光学系(6)とは別経路で撮影する対物光学系(5)とを備え、照明光学系(6)が、光源(6a)と、光源(6a)からの光を特定の射出領域(6e)に制限するマスク(6c)と、マスク(6c)により制限された光を略平行光にするコリメート光学系(6d)とを備え、射出領域(6e)が、対物光学系(5)の瞳面に投影されたときに、射出領域(6e)の投影像が、瞳の辺縁部に部分的に重なるように照明光学系(6)が配置されている。

Description

本発明は、観察装置に関するものである。
細胞等の被写体を標識せずに観察する装置として、位相差観察法や微分干渉観察法を用いた観察装置が知られている(例えば、特許文献1参照。)。
特開平7−261089号公報
しかしながら、特許文献1の観察装置は、被写体を挟んで撮影光学系と照明光学系とを配置する必要があり、装置が大型化、複雑化するという不都合がある。
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであって、装置を大型化させることなく、細胞等の被写体を標識せずに観察することができる観察装置を提供することを目的としている。
本発明の一態様は、試料の下方から斜め上方に向けて照明光を射出する照明光学系と、該照明光学系から射出された照明光が前記試料の上方で反射されて前記試料を透過した透過光を前記試料の下方において前記照明光学系とは別経路で撮影する対物光学系とを備え、前記照明光学系が、光源と、該光源からの光を特定の射出領域に制限するマスクと、該マスクにより制限された光を略平行光にするコリメート光学系とを備え、前記射出領域が、前記対物光学系の瞳面に投影されたときに、前記射出領域の投影像が、前記瞳の辺縁部に部分的に重なるように前記照明光学系が配置されている観察装置である。
本態様によれば、光源から発せられた照明光は試料の下方から斜め上方に向けて射出された後、試料の上方において反射されて試料を上方から下方に透過させられる。試料を透過した透過光は、試料の下方に配置されている照明光学系とは別経路の対物光学系によって撮影される。光源部および対物光学系の両方を試料の下方に配置したので、装置を大型化させることなく、透過光を撮影することにより細胞等の被写体を標識せずに観察することができる。
また、光源から発せられた光はマスクによって射出領域が制限された照明光となって試料に照射され、コリメート光学系によって略平行光にされた後に試料の上方において反射されて、試料の下方の対物光学系の瞳面近傍に入射される。コリメート光学系によって略平行光となった照明光が試料の上方において反射されるので、反射位置の高さが変動しても対物光学系に入射する透過光の角度を変動させなくて済む。その結果、反射位置の高さが変動しても、光源の位置調整が不要であり、観察装置のロバスト性を向上することができる。
上記態様においては、条件式(1)を満足してもよい。
(1) 0.05≦d/D≦0.4
ここで、Dは前記対物光学系の瞳直径、Dは前記射出領域を前記瞳面に投影したときの光束直径である。
このようにすることで、明るさムラがなく、高コントラストの像による観察を行うことができる。条件式(1)の下限を下回ると対物光学系内のビネッティングの影響を受け易く、明るさムラが発生し易くなる。また、対物光学系内のレンズ面のゴミや傷が、像に投影されて目立ち易くなる。条件式の上限を上回ると、試料のコントラストが弱くなり、標本を観察し難くなる。
また、上記態様においては、条件式(2)を満足してもよい。
(2) 0.1≦ds/(NAo・Fi)≦0.8
ここで、dsは前記照明光学系から射出される照明光の傾斜方向の前記射出領域の大きさ、Fiは前記コリメート光学系の焦点距離、NAoは前記対物光学系の前記試料側の開口数である。
また、上記態様においては、条件式(3)を満足してもよい。
(3) NAo−ds・Fi/2Fop2≦θ≦NAo+ds・Fi/2Fop2
ここで、dsは前記照明光学系から射出される照明光の傾斜方向の前記射出領域の大きさ、Fiは前記コリメート光学系の焦点距離、NAoは前記対物光学系の前記試料側の開口数、Fopは前記対物光学系の瞳より前記試料側の焦点距離、θは前記コリメート光学系により略平行光に変換された照明光の、前記対物光学系の光軸に対する前記試料の位置での傾斜角度である。
このようにすることで、対物光学系に入射してくる透過光の光束の一部が対物光学系の瞳の辺縁にかかっており、試料の像にコントラストを与えることができる。
また、上記態様においては、前記射出領域が、輪帯の一部を構成する形状であってもよい。
このようにすることで、対物光学系に対して、透過光が様々な方向から入り込むので、対物光学系におけるビネッティングの影響を抑え、コントラストを維持したまま像の明るさムラを低減することができる。
また、上記態様においては、前記マスクが、前記射出領域内に、径方向内方に向かって透過率が連続的または段階的に低くなる減光部を備えていてもよい。
このようにすることで、周辺部に向かって明るくなる照明光を構成でき、対物光学系のビネッティングの影響で像の周辺部が暗くなるのを補償することができる。
また、上記態様においては、前記マスクが、前記射出領域内に、径方向内方に向かって透過率が連続的または段階的に高くなる減光部を備えていてもよい。
このようにすることで、細胞のコントラストを向上することができる。
本発明によれば、装置を大型化させることなく、細胞等の被写体を標識せずに観察することができるという効果を奏する。
本発明の一実施形態に係る観察装置を示す縦断面図である。 図1の観察装置に備えられた照明マスクの一例を示す正面図である。 図1の観察装置に備えられた明るさ絞りと入射される光束位置との関係を示す正面図である。 図1の観察装置の作用を説明する対物光学系の縦断面図である。 図1の観察装置により取得される試料の像の例を示す図である。 図1の観察装置の他の効果を説明する縦断面図である。 図2の照明マスクの変形例を示す正面図である。 図1の観察装置の他の変形例を示す縦断面図である。 図1の観察装置の他の変形例を示す縦断面図である。 図1の観察装置に備えられる照明光学系の変形例を示す図である。 図1の観察装置に備えられる照明光学系の他の異変形例を示す図である。 図1の観察装置に備えられる照明光学系の他の変形例を示す図である。 図2の照明マスクの他の変形例を示す正面図である。 図2の照明マスクの他の変形例を示す正面図である。
本発明の第1の実施形態に係る観察装置1について図面を参照して以下に説明する。
本実施形態に係る観察装置1は、図1に示されるように、細胞等の試料Xを収容した容器2を載置するステージ3と、該ステージ3の下方に配置され、ステージ3を上方から透過して来る光を集光する対物レンズ5aを備え、試料Xを透過した光を撮影する対物光学系5と、対物光学系5の径方向外方に配置され、ステージ3を透過して上方に照明光を射出する対物光学系5とは別経路の照明光学系6とを備えている。
ステージ3は、対物光学系5および照明光学系6の上方を覆うように、光学的に透明な材質、例えば、ガラスからなる載置台3aを備え、容器2は載置台3aの上面に載置されるようになっている。
容器2は、例えば、天板2aを有する細胞培養フラスコであり、全体的に光学的に透明な樹脂により構成されている。
照明光学系6は、図1に示されるように、対物光学系5の外側に配置されたLED光源(光源)6aと、LED光源からの光を拡散させる拡散板6bと、該拡散板6bに備えられ、LED光源6aからの照明光を特定の射出領域に制限する照明マスク(マスク)6cと、制限された射出領域から射出され次第に拡散する照明光を略平行光にするコリメートレンズ(コリメート光学系)6dとを備えている。
照明マスク6cは、図2に示されるように遮光部材に、照明光を透過させる円形の開口6e(射出領域)を有している。
コリメートレンズ6dは、容器2の天板2aによって反射されて対物光学系5に入射する透過光が、対物光学系5に対して傾斜することにより偏斜照明となるように、コリメートレンズ6dの光軸Aを照明マスク6cの中心軸Bに対して水平方向にシフトして配置されている。
シフト量をy、コリメートレンズ6dの焦点距離をFiとすると、コリメートレンズ6dによって略平行光となって斜め上方に射出される照明光の鉛直方向に対する角度θは、
θ=y/Fi
となる。
また、図3に示されるように、対物光学系5の瞳面に備えられた明るさ絞り5bの瞳径をD、照明光の対物光学系5の光軸Cに対する傾き方向の光束Eの横幅をdとすると、以下の条件式(1)を満足している。
(1) 0.05≦d/D≦0.4
このようにすることで、明るさムラがなく、高コントラストの像による観察を行うことができる。条件式(1)の下限を下回ると対物光学系5内のビネッティングの影響を受け易く、明るさムラが発生し易くなる。また、対物光学系5内のレンズ面のゴミや傷が、像に投影されて目立ち易くなる。条件式の上限を上回ると、試料Xのコントラストが弱くなり、試料Xを観察し難くなる。
dおよびDは下式により導出される。
d=ds・Fop/Fi
D=2NA・Fop
ここで、dsは照明光が斜め方向に射出される方向の照明マスク6cの開口6eの大きさ(図2に示す例では直径寸法)、Fopは対物レンズ5aの瞳より試料X側の焦点距離、NAoは対物レンズ5aの試料X側の開口数である。
これを変形することにより、条件式(2)を満足している。
(2) 0.1≦ds/(NAo・Fi)≦0.8
さらに、試料Xの像にコントラストをつけるために、対物光学系5の瞳面に投影された照明光の光束の一部が対物光学系5の瞳の辺縁(明るさ絞りの辺縁)にかかっていることが好ましい。最適な条件は、対物光学系5に斜め上方から入射してくる透過光の中心と、瞳の辺縁とが一致する位置である。
この条件は以下の条件式(3)を満足することにより満たされる。
(3) NAo−ds・Fi/2Fop2≦θ≦NAo+ds・Fi/2Fop2
角度θが条件式(3)の下限を下回ると、試料Xの像のコントラストが低くなり観察し難くなる。一方、角度θが条件式(3)の上限を上回ると、試料Xの像は暗視野像となり、視野が暗く、試料Xの輪郭をはっきり観察し難くなる。
このように構成された本実施形態に係る観察装置1の作用について以下に説明する。
照明光学系6のLED光源6aから発せられた照明光は照明マスク6cを通過することにより、所定の大きさを有する射出領域に制限された光束として上方に向けて射出され、上方に配されているコリメートレンズ6dを通過することによって略平行光に変換されるとともに、対物光学系5の光軸Cに向かって傾斜する光束となる。
コリメートレンズ6dから斜め上方に向かう略平行光は、ステージ3を構成している載置台3a、容器2の底面および液体Yを透過して、容器2の天板2aで反射され、斜め下方の試料Xに斜め上方から照射される偏斜照明となる。そして、試料Xを透過した透過光が容器2の底面および載置台3aを透過した後に対物レンズ5aによって集光され、結像レンズ5cによって結像され、撮像素子5dによって撮影される。
すなわち、試料Xを斜め上方から透過する略平行光からなる照明光は、試料Xを透過した透過光が対物レンズ5aによって集光される。試料Xが存在しない領域を透過した透過光は、屈折されることなく、略平行光のまま対物レンズ5aに入射するので、対物レンズ5aの瞳面に配置されている明るさ絞り5bの辺縁に一部がかかった状態の照明マスク6cの開口6eの像を投影した後、明るさ絞り5bおよびフレア絞り5eを通過した透過光が結像レンズ5bによって結像され、撮像素子5dにより撮像される。
試料Xが存在する領域を透過した透過光は、試料Xの屈折率が周囲の屈折率と異なることによって屈折させられる。
図4において、試料Xを通過しない光線a,eおよび試料Xの表面に直交して入射する光線cは屈折することなく明るさ絞り5bの辺縁の内側を通過するので、明るい像を結ぶ。
一方、図4において試料Xの左端を透過した光線bは、屈折させられて明るさ絞り5bの辺縁によってケラレる。
さらに、図4において試料Xの右端を透過した光線dは、屈折させられて明るさ絞り5bのより中心に近い領域を通過させられ、結像レンズ5cによって明るい像を結ぶ。
その結果、図5に示されるように、明るさムラが少なく、試料Xに陰影のついた高コントラストの像を取得することができる。すなわち、試料Xが影によって立体的に見えるので、観察し易さが向上する。
この場合において、本実施形態によれば、コリメートレンズ6dによって略平行光にされた照明光が、斜め上方に射出されるので、図6に示されるように、天板2aの高さの異なる容器2がステージ3に載置された場合でも、対物光学系5に入射される照明光の傾斜角度を変化させずに済むという利点がある。すなわち、容器2の高さが変動しても、透過光の光束の対物光学系5の瞳面への入射位置を変動させずに済むので、瞳面に入射する光束が部分的に明るさ絞り5bにかかるような配置を維持することができて、コントラストのついた試料Xの像を観察することができる。
なお、本実施形態においては、照明マスク6cとして円形の開口6eを有するものを例示したが、これに代えて、図7に示されるように照明光の傾斜する方向に幅dsを有する長方形状の開口6eを有するものを採用してもよい。
また、本実施形態においては、コリメートレンズ6dの光軸Aを対物レンズ5aの光軸Cと平行にして、照明マスク6cの中心軸Bを水平方向にシフトさせることで、コリメートレンズ6dから斜め上方に射出される照明光を傾斜させることとしたが、これに代えて、図8および図9に示されるように、コリメートレンズ6dの光軸Aを対物光学系5の光軸Cに対して傾斜させてもよい。
図8に示す例では、傾斜させたコリメートレンズ6dの光軸Aに照明マスク6cの中心軸Bを一致させている。また、図9に示す例では、傾斜させたコリメートレンズ6dの光軸Aに対して照明マスク6cの中心軸Bを光軸Aに直交する方向にシフトさせている。
この場合、以下の条件式が成立する。
θ=α+y/Fi
ここで、αは対物光学系5の光軸Cに対するコリメートレンズ6dの光軸Aの傾きである。
このようにすることで、コリメートレンズ6dの光軸Aに近いところを照明光が通過するので、図1の場合と比較して収差の発生が少なく、光束全域で質のよい平行光束を得ることができるという利点がある。また、図9のように光軸A,Bのシフトを併用した方が、コリメートレンズ6dの傾き量が少なくて済み、設置スペースを低減して小型化を図ることができる。
また、照明光を傾斜させる方法としては、図10に示されるように、コリメートレンズ6dによって水平方向に射出させた略平行光を仰角が45°より小さいミラー11、あるいは図11に示されるプリズム12によって偏向する方法を採用してもよい。図12に示されるように、LED光源6aとコリメートレンズ6dとの間にミラー11やプリズム12を配置してもよい。
また、照明マスク6cの開口6eによる射出領域の形状としては、図13に示されるように、輪帯の一部を切り出したような円弧状あるいは扇形状を採用してもよい。このような射出領域を瞳面に投影したときに、その径方向の外側の一部が明るさ絞り5bの辺縁にかかるように配置すればよい。
このような射出領域の形状を採用することで、対物光学系5に入射する照明光の方向が一方向に限られず、種々の方向から入射するので、対物光学系5内におけるビネッティングの影響を低減して、コントラストを維持したまま像の明るさムラの発生を抑制することができるという利点がある。
また、このような射出領域の形状を採用した場合、図14に示されるように、径方向外方に向かって透過率が高くなるような透過率勾配を有する減光部Fを射出領域に持たせることにしてもよい。このようにすることで、対物光学系5のビネッティングの影響で像の周辺部が暗くなることを補償することができる。
また、このような射出領域の形状を採用した場合、図14とは逆に、径方向外方に向かって透過率が低くなるような透過率勾配を有する減光部Fを射出領域に持たせることにしてもよい。このようにすることで、細胞のコントラストを向上することができる。
1 観察装置
5 対物光学系
6 照明光学系
6a LED光源(光源)
6c 照明マスク(マスク)
6d コリメートレンズ(コリメート光学系)
6e 開口(射出領域)
F 減光部
X 試料

Claims (7)

  1. 試料の下方から斜め上方に向けて照明光を射出する照明光学系と、
    該照明光学系から射出された照明光が前記試料の上方で反射されて前記試料を透過した透過光を前記試料の下方において前記照明光学系とは別経路で撮影する対物光学系とを備え、
    前記照明光学系が、光源と、該光源からの光を特定の射出領域に制限するマスクと、該マスクにより制限された光を略平行光にするコリメート光学系とを備え、
    前記射出領域が、前記対物光学系の瞳面に投影されたときに、前記射出領域の投影像が、前記瞳の辺縁部に部分的に重なるように前記照明光学系が配置されている観察装置。
  2. 条件式(1)を満足する請求項1に記載の観察装置。
    (1) 0.05≦d/D≦0.4
    ここで、Dは前記対物光学系の瞳直径、Dは前記射出領域を前記瞳面に投影したときの光束直径である。
  3. 条件式(2)を満足する請求項1に記載の観察装置。
    (2) 0.1≦ds/(NAo・Fi)≦0.8
    ここで、dsは前記照明光学系から射出される照明光の傾斜方向の前記射出領域の大きさ、Fiは前記コリメート光学系の焦点距離、NAoは前記対物光学系の前記試料側の開口数である。
  4. 条件式(3)を満足する請求項1に記載の観察装置。
    (3) NAo−ds・Fi/2Fop2≦θ≦NAo+ds・Fi/2Fop2
    ここで、dsは前記照明光学系から射出される照明光の傾斜方向の前記射出領域の大きさ、Fiは前記コリメート光学系の焦点距離、NAoは前記対物光学系の前記試料側の開口数、Fopは前記対物光学系の瞳より前記試料側の焦点距離、θは前記コリメート光学系により略平行光に変換された照明光の、前記対物光学系の光軸に対する前記試料の位置での傾斜角度である。
  5. 前記射出領域が、輪帯の一部を構成する形状である請求項1から請求項4のいずれかに記載の観察装置。
  6. 前記マスクが、前記射出領域内に、径方向内方に向かって透過率が連続的または段階的に低くなる減光部を備える請求項5に記載の観察装置。
  7. 前記マスクが、前記射出領域内に、径方向内方に向かって透過率が連続的または段階的に高くなる減光部を備える請求項5に記載の観察装置。
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017098657A1 (ja) * 2015-12-11 2017-06-15 オリンパス株式会社 観察装置
JP6704049B2 (ja) 2016-07-11 2020-06-03 オリンパス株式会社 観察装置および標本観察方法
WO2018047218A1 (ja) 2016-09-06 2018-03-15 オリンパス株式会社 観察装置
WO2018047239A1 (ja) 2016-09-06 2018-03-15 オリンパス株式会社 観察装置
JP6514832B2 (ja) * 2016-09-29 2019-05-15 オリンパス株式会社 観察装置
EP3521893A1 (en) 2016-09-30 2019-08-07 Olympus Corporation Observation device
JP6664006B2 (ja) 2016-09-30 2020-03-13 オリンパス株式会社 観察装置
JP6911112B2 (ja) 2017-05-29 2021-07-28 オリンパス株式会社 観察装置
CN107315240B (zh) * 2017-07-28 2024-04-26 佛山市好客电子科技有限公司 一种便携式显微装置
JP2019139025A (ja) * 2018-02-08 2019-08-22 オリンパス株式会社 情報取得装置
JP7401875B2 (ja) * 2018-07-06 2023-12-20 北海道公立大学法人 札幌医科大学 観察装置
JP7193989B2 (ja) * 2018-11-19 2022-12-21 株式会社エビデント 顕微鏡装置
JP2022509823A (ja) * 2018-11-30 2022-01-24 コーニング インコーポレイテッド 細胞培養監視のための小型光学結像システム

Family Cites Families (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57178212A (en) * 1981-04-27 1982-11-02 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Microscope optical system
DE8915535U1 (ja) 1989-03-02 1990-10-25 Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim, De
JPH02232614A (ja) 1989-03-06 1990-09-14 Res Dev Corp Of Japan 暗視野顕微鏡の照明方法とその装置
JPH07261089A (ja) 1994-03-24 1995-10-13 Olympus Optical Co Ltd 位相差顕微鏡
US5751475A (en) 1993-12-17 1998-05-12 Olympus Optical Co., Ltd. Phase contrast microscope
JP3699761B2 (ja) 1995-12-26 2005-09-28 オリンパス株式会社 落射蛍光顕微鏡
EP1008884B1 (en) 1997-08-29 2006-09-27 Olympus Optical Co., Ltd. Transmission illuminator for microscopes
JP2001166219A (ja) * 1999-12-07 2001-06-22 Fine Opt Kk 皮膚観察装置
DE10017823B4 (de) 2000-04-10 2004-08-26 Till I.D. Gmbh Mikroskopische Beleuchtungsvorrichtung
JP4535645B2 (ja) 2001-07-06 2010-09-01 株式会社 ジャパン・ティッシュ・エンジニアリング 接着細胞選別装置、細胞増殖能評価装置、それらのプログラム及びそれらの方法
JP4370554B2 (ja) 2002-06-14 2009-11-25 株式会社ニコン オートフォーカス装置およびオートフォーカス付き顕微鏡
JP4453088B2 (ja) 2002-06-14 2010-04-21 株式会社ニコン オートフォーカス装置及び顕微鏡
JP4434649B2 (ja) 2003-03-27 2010-03-17 株式会社Eci 観察器具及びそれを用いた観察方法
US20070177255A1 (en) 2003-03-27 2007-08-02 Shiro Kanegasaki Observing tool and observing method using the same
JP4329423B2 (ja) 2003-06-17 2009-09-09 株式会社ニコン 顕微鏡装置
JP4411866B2 (ja) 2003-06-02 2010-02-10 株式会社ニコン 顕微鏡装置
WO2004109361A1 (ja) 2003-06-02 2004-12-16 Nikon Corporation 顕微鏡装置
JP4740554B2 (ja) 2004-05-12 2011-08-03 オリンパス株式会社 培養顕微鏡装置
US7799559B2 (en) 2003-10-24 2010-09-21 Olympus Corporation Culture microscope apparatus
JP2005331623A (ja) 2004-05-18 2005-12-02 Ccs Inc 顕微鏡用照明装置
JP4731847B2 (ja) 2004-07-15 2011-07-27 オリンパス株式会社 ペトリディッシュ、チャンバー装置、光学顕微鏡観察方法及び試料分析方法
JP2004318185A (ja) * 2004-08-20 2004-11-11 Olympus Corp 光制御部材を有する光学顕微鏡
JP4652801B2 (ja) * 2004-12-22 2011-03-16 オリンパス株式会社 透過照明装置、それを備えた顕微鏡、及び透過照明方法
JP4393986B2 (ja) 2004-12-24 2010-01-06 シーシーエス株式会社 光照射装置
JP4932703B2 (ja) 2005-03-22 2012-05-16 株式会社メディネット 細胞培養評価システム、細胞培養評価方法および細胞培養評価プログラム
JP2007264410A (ja) 2006-03-29 2007-10-11 Nidec Copal Corp 肌観察装置
JP5039355B2 (ja) 2006-10-13 2012-10-03 株式会社カネカ 自動培養装置
KR100813915B1 (ko) 2006-10-31 2008-03-18 전자부품연구원 세포 배양 관찰 장치
JP2008209726A (ja) 2007-02-27 2008-09-11 Olympus Corp 照明装置
US7952705B2 (en) * 2007-08-24 2011-05-31 Dynamic Throughput Inc. Integrated microfluidic optical device for sub-micro liter liquid sample microspectroscopy
JP2009217222A (ja) 2008-03-06 2009-09-24 Takashi Goto 反射型透過照明補助装置付観察台
JP2011008188A (ja) * 2009-06-29 2011-01-13 Olympus Corp 光学顕微鏡
EP2312367A1 (en) 2009-10-16 2011-04-20 Olympus Corporation Laser scanning microscope
JP2011141444A (ja) 2010-01-07 2011-07-21 Nikon Corp 顕微鏡システム
EP2562245B1 (en) 2010-04-23 2016-09-28 Hamamatsu Photonics K.K. Cell observation device and cell observation method
JP5677441B2 (ja) 2010-08-30 2015-02-25 パナソニックIpマネジメント株式会社 観察装置、観察プログラム及び観察システム
WO2013047315A1 (ja) 2011-09-30 2013-04-04 三洋電機株式会社 ビームスプリッタおよび観察装置
WO2013094434A1 (ja) 2011-12-22 2013-06-27 三洋電機株式会社 観察システム、観察システムの制御方法及びプログラム
JP5985883B2 (ja) 2012-05-17 2016-09-06 オリンパス株式会社 顕微鏡
KR101384843B1 (ko) 2012-09-07 2014-05-07 주식회사 나노엔텍 현미경 및 그 제어방법
WO2014041820A1 (ja) 2012-09-13 2014-03-20 京セラオプテック株式会社 顕微鏡
JP5996793B2 (ja) * 2013-04-30 2016-09-21 オリンパス株式会社 標本観察装置及び標本観察方法
TWI486625B (zh) * 2013-05-16 2015-06-01 Univ Nat Central 數位全像顯微鏡
JP6211389B2 (ja) 2013-10-25 2017-10-11 株式会社キーエンス 顕微鏡装置
JP6066110B2 (ja) 2014-06-11 2017-01-25 横河電機株式会社 細胞吸引支援システム
WO2016158780A1 (ja) * 2015-03-31 2016-10-06 オリンパス株式会社 観察装置および観察方法
EP3279713A4 (en) 2015-03-31 2018-12-05 Olympus Corporation Observation apparatus
WO2017098657A1 (ja) 2015-12-11 2017-06-15 オリンパス株式会社 観察装置
JP6911112B2 (ja) 2017-05-29 2021-07-28 オリンパス株式会社 観察装置

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