JPWO2017098657A1 - 観察装置 - Google Patents

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Abstract

装置を大型化させることなく、細胞等の被写体を標識せずに観察することを目的として、本発明に係る観察装置(1)は、試料(X)の下方から上方に向けて照明光を射出する照明光学系(6)と、照明光学系(6)から射出された照明光が試料(X)の上方で反射されて試料(X)を透過した透過光を試料(X)の下方において照明光学系(6)とは別経路で撮影する対物光学系(5)とを備え、照明光学系(6)が、光源(6a)と、光源(6a)からの光を特定の射出領域に制限するマスク(6c)とを備え、対物光学系(5)の瞳面近傍の瞳の辺縁から径方向内方に離れた位置に、透過光の透過率が部分的に異なる領域を有する瞳変調素子(5b)を備える。

Description

本発明は、観察装置に関するものである。
細胞等の被写体を標識せずに観察する装置として、位相差観察法や微分干渉観察法を用いた観察装置が知られている(例えば、特許文献1参照。)。
特開平7−261089号公報
しかしながら、特許文献1の観察装置は、被写体を挟んで撮影光学系と照明光学系とを配置する必要があり、装置が大型化、複雑化するという不都合がある。
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであって、装置を大型化させることなく、細胞等の被写体を標識せずに観察することができる観察装置を提供することを目的としている。
本発明の一態様は、試料の下方から上方に向けて照明光を射出する照明光学系と、該照明光学系から射出された照明光が前記試料の上方で反射されて前記試料を透過した透過光を前記試料の下方において前記照明光学系とは別経路で撮影する対物光学系とを備え、前記照明光学系が、光源と、該光源からの光を特定の射出領域に制限するマスクとを備え、前記対物光学系の瞳面近傍の瞳の辺縁から径方向内方に離れた位置に、前記透過光の透過率が部分的に異なる領域を有する瞳変調素子を備える観察装置である。
本態様によれば、光源から発せられた照明光は試料の下方から上方に向けて射出された後、試料の上方において反射されて試料を上方から下方に透過させられる。試料を透過した透過光は、試料の下方に配置されている照明光学系とは別経路の対物光学系によって撮影される。光源部および対物光学系の両方を試料の下方に配置したので、装置を大型化させることなく、透過光を撮影することにより細胞等の被写体を標識せずに観察することができる。
また、光源から発せられた光はマスクによって射出領域が制限された照明光となって試料に照射され、対物光学系の瞳面近傍に入射される。瞳面近傍に配置されている瞳変調素子には、透過率が部分的に異なる領域が備えられているので、試料を通過しない光が透過率の部分的に異なる領域の境界付近を通過するように設定しておくことにより、試料の屈折率によって屈折させられた透過光を透過率の部分的に異なる領域に通過させることができる。
上記領域を通過する光は、他の部分と異なる透過率によって減衰の度合いが異ならされるので、試料の屈折率変化に応じて明暗がついた立体的な試料の像を取得することが可能となる。
この場合において、上記領域が、瞳の辺縁から径方向内方に離れた位置に配置されているので、対物光学系内を通過する光の光線高を低くすることができ、フレア絞り等によるケラレの発生を防止して全体として明るさムラのない像による観察を行うことができる。
上記態様においては、前記瞳変調素子の前記領域は、透過率が連続的または段階的に変化させてもよい。
このようにすることで、瞳面の辺縁から離れた位置において透過光を減衰させることができる。すなわち、試料において屈折した透過光を瞳面の辺縁において遮ることにより試料の像に陰影を付けることに代えて、瞳面の辺縁以外の位置において同等の効果を達成することができる。これにより、全体像が瞳面の辺縁によって蹴られて明るさムラが生じることを防止し、かつ、コントラストを有する試料の像を取得することができる。
また、上記態様においては、前記瞳変調素子の前記領域は、瞳面の径方向外方に向かって透過率が低くなっていてもよい。
このようにすることで、全体像が瞳面の辺縁によって蹴られて明るさムラが生じることを防止し、かつ、コントラストを有する試料の像を取得することができる。
また、上記態様においては、前記瞳変調素子の前記領域は、全周にわたって前記瞳面の径方向外方に向かって透過率が低くなっていてもよい。
このようにすることで、照明光の方向にかかわらず、全体像が瞳面の辺縁によって蹴られて明るさムラが生じることを防止し、かつ、コントラストを有する試料の像を取得することができる。
また、上記態様においては、前記瞳変調素子の前記領域が、他の領域と比較して部分的に透過率が低い低透過率領域であり、前記対物光学系の瞳面近傍に投影される前記マスクによる前記光源からの前記射出領域が前記低透過率領域内に配置されていてもよい。
このようにすることで、試料における屈折を受けることなく瞳面に到達した透過光は低透過率領域を通過することにより強度を弱められ、試料において屈折した透過光は、低透過率領域を通過しないので明るい像を形成する。これにより、コントラストを有する試料の像を取得することができる。
また、上記態様においては、前記低透過率領域が、透過する前記透過光の位相を変化させてもよい。
このようにすることで、位相の変化を受けた透過光と受けない透過光との干渉により、強度が弱められあるいは強められる。これにより、試料の微細構造まで観察可能な像を取得することができる。
また、上記態様においては、前記光源の前記射出領域および前記瞳変調素子の前記低透過率領域が、輪帯の少なくとも一部の形状に形成されていてもよい。
このようにすることで、試料において屈折した光が低透過率領域から外れることで、明るい像を形成する。影のつき方が等方的な像を取得することができる。
また、上記態様においては、前記照明光学系が、前記光源からの光を略平行光にするコリメートレンズを備えていてもよい。
このようにすることで、透過光を瞳面近傍でマスクによる射出領域の像を形成する。試料による屈折を受けた透過光を透過率の低い領域に通過させ、試料による屈折を受けない透過光を透過率の高い領域に通過させることで、全体的にムラなく明るく、高コントラストの試料の像を含む像を取得することができる。
また、上記態様においては、前記瞳変調素子は透過する透過光の位相を部分的に変化させる領域を有していてもよい。
このようにすることで、位相の変化を受けた透過光と受けない透過光との干渉により、強度が弱められあるいは強められる。これにより、試料の微細構造まで観察可能な像を取得することができる。
本発明によれば、装置を大型化させることなく、細胞等の被写体を標識せずに観察することができるという効果を奏する。
本発明の第1の実施形態に係る観察装置を示す縦断面図である。 図1の観察装置に備えられる照明マスクの一例を示す正面図である。 図1の観察装置に備えられる瞳変調素子の一例を示す正面図である。 図1の観察装置の作用を説明する対物光学系の縦断面図である。 図1の観察装置により取得される試料の像の例を示す図である。 図2の照明マスクの変形例を示す正面図である。 図3の瞳変調素子に図6の照明マスクの射出領域を投影した図である。 図3の瞳変調素子の変形例を示す正面図である。 本発明の第2の実施形態に係る観察装置を示す縦断面図である。 図9の観察装置に備えられる照明マスクの一例を示す正面図である。 図9の観察装置に備えられるLED光源の配置例を示す図である。 図9の観察装置に備えられる瞳変調素子の一例であって、図10の照明マスクの射出領域を投影した図である。 図9の観察装置の作用を説明する対物光学系の縦断面図である。 図9の観察装置により取得される試料の像の例を示す図である。 図9の観察装置の変形例の作用を説明する対物光学系の縦断面図である。 図15の観察装置により取得される試料の像の例を示す図である。 図15の観察装置により取得される試料の像の他の例を示す図である。 図1の観察装置の変形例を示す照明光学系および対物光学系の平面図である。 図18の観察装置を示す縦断面図である。 図18の観察装置に備えられる瞳変調素子に図19の照明マスクの射出領域を投影した図である。 図1の観察装置の他の変形例を示す照明光学系および対物光学系の平面図である。 図21の観察装置を示す縦断面図である。 図21の観察装置に備えられる照明マスクの一例を示す正面図である。 図21の観察装置に備えられる瞳変調素子に図23の照明マスクの射出領域を投影した図である。 図1の観察装置の他の変形例を示す縦断面図である。 図25の観察装置の変形例を示す照明光学系および対物光学系の平面図である。
本発明の第1の実施形態に係る観察装置1について図面を参照して以下に説明する。
本実施形態に係る観察装置1は、図1に示されるように、細胞等の試料Xを収容した容器2を載置するステージ3と、該ステージ3の下方に配置され、ステージ3を上方から透過して来る光を集光する対物レンズ5aを備え、試料Xを透過した光を撮影する対物光学系5と、対物光学系5の径方向外方に配置され、ステージ3を透過して上方に照明光を射出する対物光学系5とは別経路の照明光学系6とを備えている。
ステージ3は、対物光学系5および照明光学系6の上方を覆うように、光学的に透明な材質、例えば、ガラスからなる載置台3aを備え、容器2は載置台3aの上面に載置されるようになっている。
容器2は、例えば、天板2aを有する細胞培養フラスコであり、全体的に光学的に透明な樹脂により構成されている。
照明光学系6は、図1に示されるように、対物光学系5の外側に配置されたLED光源(光源)6aと、LED光源6aからの光を拡散させる拡散板6bと、該拡散板6bに備えられ、LED光源6aからの照明光を特定の射出領域に制限する照明マスク(マスク)6cと、制限された射出領域から射出され次第に拡散する照明光を略平行光にするコリメートレンズ6dとを備えている。
照明マスク6cは、図2に示されるように遮光部材に、照明光を透過させる円形の開口6e(射出領域)を有し、以下の条件を満足している。
0.1≦ds/(NAo・Fi)≦0.8 (1)
ここで、dsは照明光が斜め方向に射出される方向の照明マスク6cの開口6eの大きさ(図2に示す例では直径寸法)であり、Fiはコリメートレンズ6dの焦点距離であり、NAoは対物光学系5の試料X側の開口数である。
式(1)が下限を下回ると対物光学系5内のビネッティングの影響を受け易く、明るさムラが発生し易くなる。また、対物光学系5を構成しているレンズ面上のゴミや傷が像に投影されて目立ちやすくなる。式(1)が上限を上回ると、試料Xのコントラストが弱くなり、試料Xを観察し難くなる。
コリメートレンズ6dの中央には貫通孔6fが設けられ、貫通孔6f内に対物光学系5が配置されている。コリメートレンズ6dは対物光学系5と共通する光軸Aを有して同心に配置されており、対物光学系5の光軸Aと平行な光軸Bに沿ってLED光源6aから入射された光を略平行光にするとともに、平行光束を光軸Aに向かう方向に傾斜させて射出するようになっている。
コリメートレンズ6dによって傾斜させられて射出された略平行光は、上方に配置されている容器2の天板2aによって反射され、下方の容器2内の液体Y、試料Xおよびステージ3の載置台3aを透過した後に対物光学系5に入射させられるようになっている。
対物光学系5は、上方から入射されてきた透過光を集光する対物レンズ5a、瞳面近傍に配置された瞳変調素子5b、フレア絞り5g、結像レンズ5cおよび撮像素子5dを備えている。瞳変調素子5bは、瞳面近傍に配置された明るさ絞り5eの内側に、図3に示されるように、瞳面の中心から径方向一方向に次第に透過率が低くなる領域(低透過率領域)Cを備えている。符号5fは明るさ絞り5eおよび瞳変調素子5bを支持するガラス板である。
このように構成された本実施形態に係る観察装置1の作用について以下に説明する。
照明光学系6のLED光源6aから発せられた照明光は照明マスク6cを通過することにより、所定の大きさを有する射出領域に制限された光束として鉛直上方に向けて射出され、上方に配されているコリメートレンズ6dを通過することによって略平行光に変換されるとともに、コリメートレンズ6dの光軸Aに向かって傾斜する光束となる。
コリメートレンズ6dから上方に向かう略平行光は、ステージ3を構成している載置台3a、容器2の底面および液体Yを透過して、容器2の天板2aで反射され、斜め下方の試料Xに斜め上方から照射される偏斜照明となる。そして、試料Xを透過した透過光が容器2の底面および載置台3aを透過した後に対物レンズ5aによって集光され、瞳変調素子5bを通過して結像レンズ5cによって結像され、撮像素子5dによって撮影される。
すなわち、試料Xを斜め上方から透過する略平行光からなる照明光は、試料Xを透過した透過光が対物レンズ5aによって集光される。試料Xが存在しない領域を透過した透過光は、屈折されることなく、略平行光のまま対物レンズ5aに入射するので、対物レンズ5aの瞳面に配置されている瞳変調素子5bに照明マスク6cの開口6eの像を投影した後、結像レンズ5cによって結像され、撮像素子5dにより撮像される。
試料Xが存在する領域を透過した透過光は、試料Xの屈折率が周囲の屈折率と異なることによって屈折させられる。図4において、試料Xを通過しない光線a,eおよび試料Xの表面に直交して入射する光線cは屈折することなく瞳変調素子5bの中心と辺縁との間の透過率が若干低い低透過率領域Cを通過するので、中位の明るさの像を結ぶ。
一方、図4において試料Xの左端を透過した光線bは、屈折させられて瞳変調素子5bの辺縁に近い領域を通過させられる。瞳変調素子5bの低透過率領域Cは辺縁に向かって透過率が低くなっているので、暗い像を結ぶ。
さらに、図4において試料Xの右端を透過した光線dは、屈折させられて瞳変調素子5bの中心に近い領域を通過させられる。この位置では瞳変調素子5bの透過率は高いので、明るい像を結ぶ。
その結果、図5に示されるように、明るさムラが少なく、試料Xに陰影のついた高コントラストの像を取得することができる。すなわち、試料Xが影によって立体的に見えるので、観察し易さが向上する。
この場合において、本実施形態によれば、試料Xによって屈折した透過光を瞳面に配置した明るさ絞り5eの辺縁によって遮るのではなく、瞳面に配置されて部分的に透過率の異なる低透過率領域Cを有する瞳変調素子5bによって、部分的に透過光の強度を変化させるので、照明光の入射角度を対物レンズ5aの取込角度(NA)より小さくして対物光学系5内を通過する透過光の光線高を低くし、フレア絞り5gによる光線のケラレを防止することができる。その結果、像全体の明るさムラを低減して、見やすい像により観察することができるという利点がある。
なお、本実施形態においては、照明マスク6cとして円形の開口6eを有するものを例示したが、これに代えて、図6に示されるように照明光の傾斜する方向に短く、その方向に直交する方向に長い長方形状の開口6eを有するものを採用してもよい。このようにすることで、瞳変調素子5bに投影される開口6eの像Dを図7に示されるように、透過率の変化方向に短くなるように配置することができる。
開口6eを円形とする場合には、照明光が平行光により近いので、対物光学系5内の異物が写り込み易いという不都合があるが、図6に示されるように長方形にすることで、照明光が様々な方向から入り込むのでコントラストを維持したまま、異物を写り込み難くすることができるという利点がある。
逆に、開口6eを円形のままとして、瞳変調素子5bの透過率の変化方向を、図8に示されるように、全周にわたって径方向外側に向かって透過率が低くなるように設定してもよい。これにより、低透過率領域Cは、同心円状に透過率勾配を有するものとなる。
このようにすることで、照明光が傾斜する方向と瞳変調素子5bの透過率勾配の方向とを一致させる操作を行う必要がないという利点がある。
次に、本発明の第2の実施形態に係る観察装置10について、図面を参照して以下に説明する。
本実施形態の説明において、上述した第1の実施形態に係る観察装置1と構成を共通とする箇所には同一符号を付して説明を省略する。
本実施形態に係る観察装置10は、図9に示されるように、照明光学系11および瞳変調素子12において第1の実施形態に係る観察装置1と相違している。
本実施形態における照明光学系11は、図11に示されるように、リング状に配置された複数のLED光源6aと、図10に示されるように、該LED光源6aからの照明光を制限する輪帯状のスリット11aを有する照明マスク11bとを備えている。
また、瞳変調素子12は、図12に示されるように、照明マスク11bの輪帯状のスリット11aが投影される領域Dを含むように輪帯状に形成された、周囲より透過率の低い低透過率領域Cを備えている。
このように構成された本実施形態に係る観察装置10の作用について以下に説明する。
本実施形態に係る観察装置10によれば、照明マスク11bのスリット11aを通過した照明光がコリメートレンズ6dによって略平行光に変換され、容器2の天板2aで反射され、対物レンズ5aの取込角度より小さい角度で対物光学系5に入射する。
これにより、対物光学系5内を通過する透過光の光線高が低くなり、フレア絞り5g等による光線のケラレが少なくなり、明るさムラを低減することができる。
この場合において、図13に示されるように、試料Xを透過しない光線a,eと試料Xの表面に直角に入射する光線cは、瞳変調素子12の低透過率領域Cを通過するので、光量が減衰させられて暗い像を結ぶ。
図13において試料Xの左側を透過した透過光bは、試料Xにおいて屈折させられて、瞳変調素子12の低透過率領域Cから外れた位置を通過させられる。したがって、瞳変調素子12によって光量は減衰されず、明るい像を結ぶことになる。
また、図13において試料Xの右側を透過した透過光dも試料Xにおいて屈折させられて、瞳変調素子12の低透過率領域Cから外れた位置を通過させられる。したがって、瞳変調素子12によって光量は減衰されず、明るい像を結ぶことになる。
すなわち、本実施形態に係る観察装置10によれば、図14に示されるように、照明光が大きく屈折させられる試料Xの周縁部分において明るく、それ以外の位置において暗い像を得ることができ、全体的には明るさムラがなく、濃淡によって試料Xを高コントラストで観察することができる。試料Xが無彩色の細胞である場合には、明るさムラがなく、影のつき方が等方的な試料Xの像を得ることができるという利点がある。
LED光源6aは、図11に示されるように、輪帯状のスリット11aの形状に合わせて、周方向に密着した輪帯状に配列してもよいし、周方向に間隔をあけて配置してもよい。
また、瞳変調素子12として輪帯状の低透過率領域Cを有するものを例示したが、当該低透過率領域Cがさらに位相を遅らせる機能を有していてもよい。この場合には、輪帯状の低透過率領域Cは、試料Xにおいて屈折させられた透過光も通過させるように、図12よりも広めの幅を有するように設定されていればよい。
このようにすることで、図15に示されるように、試料Xを通過しない光線a,eは瞳変調素子12の低透過率領域Cを通過することにより減衰されかつ位相を遅れさせられて撮像素子5dに到達するので、中くらいの明るさを有する。
試料Xを通過する光線b,c,dは、試料X内の微細構造により回折する光線(破線)と回折しない光線(実線:0次回折光)とに分かれる。
0次回折光は瞳変調素子12の低透過率領域Cで減衰され、かつ位相が遅れさせられて撮像素子5dに到達する。
回折された回折光は瞳変調素子12の低透過率領域C以外の透過率の高い領域を通過することにより、減衰せずかつ位相がπ/4だけ遅れて撮像素子5dに到達する。
その結果、試料Xを通過しなかった光線により、試料X以外の部分が、中くらいの明るさの像となる。一方、試料Xを通過した光線は、回折により分岐されて0次回折光が瞳変調素子12の低透過率領域Cを通過し、他の回折光が低透過率領域Cを通過せず、撮像素子5dにおいて干渉して撮像される。
低透過率領域Cの位相遅れ量がπ/4の場合、0次回折光と他の回折光はいずれも同じ位相遅れ量π/4となるので、位相差は0であり、図16に示さされるように、干渉により明るい像を結ぶようになる。一方、低透過率領域Cの位相遅れ量が3π/4の場合、0次回折光と他の回折光との位相差がπとなるので、図17に示されるように、干渉により暗い像を結ぶようになる。
これにより、試料Xにも明るさムラがなく、等方的な像による観察を行うことができるとともに、回折光を利用することにより、試料X内の微細構造まで観察することができるという利点がある。
なお、本実施形態においては、対物光学系5および照明光学系6を鉛直方向に平行に延びる光軸A,Bに沿ってそれぞれ配置することとしたが、これに代えて、図18から図20に示されるように、ミラー13,14あるいはプリズム15を利用して照明光学系6および対物光学系5を折り曲げ、上下方向のスペースの低減を図ることにしてもよい。
図18および図19に示される例では、照明光学系6は、鉛直面内に半円弧状に配列され水平方向に光を射出する複数のLED光源6aからの照明光を、照明光の光軸Bに対して45°の角度をなして鉛直方向に沿って配置されたミラー13によって水平方向に90°偏向し、さらに、45°の仰角で水平方向に対して斜めに配置した円弧状のミラー14によって鉛直方向に90°偏向することにより、第1の実施形態と同様にコリメートレンズ6dに鉛直下方から入射する照明光を構成している。
一方、対物光学系5は、図19に示されるように、水平方向に配列された対物レンズ5a、瞳変調素子5b、フレア絞り5g、結像レンズ5cおよび撮像素子5dを備えるとともに、対物レンズ5aの前段に配置したプリズム15を備え、プリズム15によって、試料Xからの透過光を90°偏向して対物レンズ5aに入射させるように構成されている。
コリメートレンズ6dおよびミラー14は、水平方向に延びる対物光学系5を収容するための切欠6gを有しているので、照明マスク6cは、図19に示されるように、周方向の一部が切り欠かれた形状を有している。したがって、瞳変調素子5bに投影される照明マスク6cの開口6eの像は、図20の通りとなる。
このように構成することで、第1、第2の実施形態において、鉛直方向に延びていた照明光学系6および対物光学系5が水平方向に折り曲げられ、上下方向の寸法を大幅に低減し、観察装置1,10を小型化することができるという利点がある。
また、本実施形態においては、コリメートレンズ6dとして中央の対物光学系5と同軸のリング状のものを採用し、照明光を軸外に入射させることで、斜め上方に傾斜する偏斜照明光を構成したが、これに代えて、図21および図22に示されるように、各LED光源6aに対して個別のコリメートレンズ16を配置し、各コリメートレンズ16の光軸を斜めに傾斜させることで、同様の照明光を構成することにしてもよい。
図21および図22に示す例では、水平方向に光を射出する3つのLED光源6aのそれぞれに照明マスク6cを設け、各LED光源6aからの光を上向きに偏向するミラー17をLED光源6a毎に設け、偏向された光を斜め上方に向かう略平行光に変換するように光軸を傾斜させて配置されたコリメートレンズ16をLED光源6a毎に設けている。
各照明マスク6cの開口6eの形状は、図23に示されるように、それぞれが同一の輪帯の一部を形成するような円弧形のスリット状に形成されている。これにより、瞳変調素子5bに投影される照明マスク6cの開口6eは図24に示される通りとなる。
このようにすることで、大型のコリメートレンズ6dおよびミラー13,14を使用せずに済み、コリメートレンズ16の焦点距離を短縮できる。したがって、観察装置1をさらに小型化することができるという利点がある。
また、本実施形態においては、照明マスク6cの開口6eを瞳変調素子5bに投影するために、対物光学系5に入射する光を略平行光とするコリメートレンズ6d,16を採用しているが、LED光源6aと試料Xとの距離を十分に確保できる場合には、対物光学系5に入射する光を略平行光とみなすことができる。そこで、図25に示されるように、コリメートレンズ6d,16をなくしてもよい。これにより、さらなる小型化を図ることができる。複数のLED光源6aを有する場合に適用してもよい。
また、図26に示されるように、LED光源6aからの光をミラー18等によって折り返す方式の照明光学系6に適用することにしてもよい。これにより、小型化を図りながらLED光源6aから試料Xまでの距離を十分に確保して、対物光学系5に入射する透過光の平行度をさらに高めることができるという利点がある。
また、上述した各実施形態においては、光源としてLED光源6aを例示したが、これに限定されるものではない。
1,10 観察装置
5 対物光学系
5b,12 瞳変調素子
6,11 照明光学系
6a LED光源(光源)
6c,11b 照明マスク(マスク)
6d コリメートレンズ
C 低透過率領域
X 試料

Claims (9)

  1. 試料の下方から上方に向けて照明光を射出する照明光学系と、
    該照明光学系から射出された照明光が前記試料の上方で反射されて前記試料を透過した透過光を前記試料の下方において前記照明光学系とは別経路で撮影する対物光学系とを備え、
    前記照明光学系が、光源と、該光源からの光を特定の射出領域に制限するマスクとを備え、
    前記対物光学系の瞳面近傍の瞳の辺縁から径方向内方に離れた位置に、前記透過光の透過率が部分的に異なる領域を有する瞳変調素子を備える観察装置。
  2. 前記瞳変調素子の前記領域は、透過率が連続的または段階的に変化する請求項1に記載の観察装置。
  3. 前記瞳変調素子の前記領域は、瞳面の径方向外方に向かって透過率が低くなる請求項2に記載の観察装置。
  4. 前記瞳変調素子の前記領域は、全周にわたって前記瞳面の径方向外方に向かって透過率が低くなる請求項3に記載の観察装置。
  5. 前記瞳変調素子の前記領域が、他の領域と比較して部分的に透過率が低い低透過率領域であり、
    前記対物光学系の瞳面近傍に投影される前記マスクによる前記光源からの前記射出領域が前記低透過率領域内に配置される請求項1に記載の観察装置。
  6. 前記低透過率領域が、透過する前記透過光の位相を変化させる請求項5に記載の観察装置。
  7. 前記光源の前記射出領域および前記瞳変調素子の前記低透過率領域が、輪帯の少なくとも一部の形状に形成されている請求項5または請求項6に記載の観察装置。
  8. 前記照明光学系が、前記光源からの光を略平行光にするコリメートレンズを備える請求項1から請求項7のいずれかに記載の観察装置。
  9. 前記瞳変調素子は透過する透過光の位相を部分的に変化させる領域を有する請求項1に記載の観察装置。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6633650B2 (ja) 2015-12-18 2020-01-22 オリンパス株式会社 観察装置
CN107645625B (zh) * 2016-07-22 2020-10-09 松下知识产权经营株式会社 图像生成装置以及图像生成方法
EP3521890A1 (en) 2016-09-30 2019-08-07 Olympus Corporation Observation apparatus
JP6951349B2 (ja) 2016-09-30 2021-10-20 オリンパス株式会社 観察装置
WO2018220670A1 (ja) 2017-05-29 2018-12-06 オリンパス株式会社 観察装置
JP7193989B2 (ja) * 2018-11-19 2022-12-21 株式会社エビデント 顕微鏡装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02232614A (ja) * 1989-03-06 1990-09-14 Res Dev Corp Of Japan 暗視野顕微鏡の照明方法とその装置
JP2005326495A (ja) * 2004-05-12 2005-11-24 Olympus Corp 培養顕微鏡装置
JP2006174764A (ja) * 2004-12-22 2006-07-06 Olympus Corp 透過照明装置、それを備えた顕微鏡、及び透過照明方法
JP2011008188A (ja) * 2009-06-29 2011-01-13 Olympus Corp 光学顕微鏡
WO2011132586A1 (ja) * 2010-04-23 2011-10-27 浜松ホトニクス株式会社 細胞観察装置および細胞観察方法
WO2012029817A1 (ja) * 2010-08-30 2012-03-08 三洋電機株式会社 観察装置、観察プログラム及び観察システム

Family Cites Families (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57178212A (en) 1981-04-27 1982-11-02 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Microscope optical system
DE3906555A1 (de) 1989-03-02 1989-07-06 Zeiss Carl Fa Auflicht-objektbeleuchtungseinrichtung
JPH07261089A (ja) 1994-03-24 1995-10-13 Olympus Optical Co Ltd 位相差顕微鏡
US5751475A (en) * 1993-12-17 1998-05-12 Olympus Optical Co., Ltd. Phase contrast microscope
JP3699761B2 (ja) 1995-12-26 2005-09-28 オリンパス株式会社 落射蛍光顕微鏡
WO1999012068A1 (fr) 1997-08-29 1999-03-11 Olympus Optical Co., Ltd. Dispositif d'eclairage a emission pour microscopes
JP2001166219A (ja) 1999-12-07 2001-06-22 Fine Opt Kk 皮膚観察装置
DE10017823B4 (de) 2000-04-10 2004-08-26 Till I.D. Gmbh Mikroskopische Beleuchtungsvorrichtung
JP4535645B2 (ja) 2001-07-06 2010-09-01 株式会社 ジャパン・ティッシュ・エンジニアリング 接着細胞選別装置、細胞増殖能評価装置、それらのプログラム及びそれらの方法
JP4370554B2 (ja) 2002-06-14 2009-11-25 株式会社ニコン オートフォーカス装置およびオートフォーカス付き顕微鏡
JP4453088B2 (ja) 2002-06-14 2010-04-21 株式会社ニコン オートフォーカス装置及び顕微鏡
JP4434649B2 (ja) 2003-03-27 2010-03-17 株式会社Eci 観察器具及びそれを用いた観察方法
US20070177255A1 (en) 2003-03-27 2007-08-02 Shiro Kanegasaki Observing tool and observing method using the same
JP4329423B2 (ja) 2003-06-17 2009-09-09 株式会社ニコン 顕微鏡装置
JP4411866B2 (ja) 2003-06-02 2010-02-10 株式会社ニコン 顕微鏡装置
EP1630586B1 (en) 2003-06-02 2015-01-07 Nikon Corporation Microscope device
US7799559B2 (en) 2003-10-24 2010-09-21 Olympus Corporation Culture microscope apparatus
JP2005331623A (ja) 2004-05-18 2005-12-02 Ccs Inc 顕微鏡用照明装置
JP4731847B2 (ja) 2004-07-15 2011-07-27 オリンパス株式会社 ペトリディッシュ、チャンバー装置、光学顕微鏡観察方法及び試料分析方法
JP2004318185A (ja) 2004-08-20 2004-11-11 Olympus Corp 光制御部材を有する光学顕微鏡
JP4393986B2 (ja) 2004-12-24 2010-01-06 シーシーエス株式会社 光照射装置
KR20070115929A (ko) 2005-03-22 2007-12-06 가부시키가이샤 메디넷 세포배양 평가시스템, 세포배양 평가방법 및 세포배양평가프로그램
JP2007264410A (ja) 2006-03-29 2007-10-11 Nidec Copal Corp 肌観察装置
JP5039355B2 (ja) 2006-10-13 2012-10-03 株式会社カネカ 自動培養装置
KR100813915B1 (ko) 2006-10-31 2008-03-18 전자부품연구원 세포 배양 관찰 장치
JP2008209726A (ja) 2007-02-27 2008-09-11 Olympus Corp 照明装置
US7952705B2 (en) 2007-08-24 2011-05-31 Dynamic Throughput Inc. Integrated microfluidic optical device for sub-micro liter liquid sample microspectroscopy
JP2009217222A (ja) 2008-03-06 2009-09-24 Takashi Goto 反射型透過照明補助装置付観察台
EP2312367A1 (en) 2009-10-16 2011-04-20 Olympus Corporation Laser scanning microscope
JP2011141444A (ja) 2010-01-07 2011-07-21 Nikon Corp 顕微鏡システム
JP5710320B2 (ja) 2010-03-31 2015-04-30 富士フイルム株式会社 デヒドロアビエチン酸由来の重合体およびその用途
CN103140788A (zh) 2011-09-30 2013-06-05 三洋电机株式会社 分束器以及观察装置
CN104024913A (zh) * 2011-12-22 2014-09-03 松下健康医疗器械株式会社 观察系统、观察系统的控制方法以及程序
JP5985883B2 (ja) 2012-05-17 2016-09-06 オリンパス株式会社 顕微鏡
KR101384843B1 (ko) 2012-09-07 2014-05-07 주식회사 나노엔텍 현미경 및 그 제어방법
WO2014041820A1 (ja) 2012-09-13 2014-03-20 京セラオプテック株式会社 顕微鏡
CN105209956B (zh) 2013-04-30 2017-10-24 奥林巴斯株式会社 标本观察装置和标本观察方法
TWI486625B (zh) 2013-05-16 2015-06-01 Univ Nat Central 數位全像顯微鏡
JP6211389B2 (ja) 2013-10-25 2017-10-11 株式会社キーエンス 顕微鏡装置
JP6066110B2 (ja) 2014-06-11 2017-01-25 横河電機株式会社 細胞吸引支援システム
CN107003507A (zh) 2015-03-31 2017-08-01 奥林巴斯株式会社 观察装置以及观察方法
JP6297210B2 (ja) 2015-03-31 2018-03-20 オリンパス株式会社 観察装置
JP6633650B2 (ja) * 2015-12-18 2020-01-22 オリンパス株式会社 観察装置
EP3521890A1 (en) 2016-09-30 2019-08-07 Olympus Corporation Observation apparatus
WO2018220670A1 (ja) * 2017-05-29 2018-12-06 オリンパス株式会社 観察装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02232614A (ja) * 1989-03-06 1990-09-14 Res Dev Corp Of Japan 暗視野顕微鏡の照明方法とその装置
JP2005326495A (ja) * 2004-05-12 2005-11-24 Olympus Corp 培養顕微鏡装置
JP2006174764A (ja) * 2004-12-22 2006-07-06 Olympus Corp 透過照明装置、それを備えた顕微鏡、及び透過照明方法
JP2011008188A (ja) * 2009-06-29 2011-01-13 Olympus Corp 光学顕微鏡
WO2011132586A1 (ja) * 2010-04-23 2011-10-27 浜松ホトニクス株式会社 細胞観察装置および細胞観察方法
WO2012029817A1 (ja) * 2010-08-30 2012-03-08 三洋電機株式会社 観察装置、観察プログラム及び観察システム

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