JPWO2017073580A1 - ディスプレイ用ガラス基板、及びディスプレイ用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
以下、本発明の実施形態に係るディスプレイ用ガラス基板について説明する。
次に、本発明のディスプレイ用ガラス基板の製造方法の構成例について説明する。
Sn+2HCl → SnCl2+H2
反応によって生成したSnCl2は、ガラスリボン表面から揮散する。
得られるガラス基板の組成が、酸化物基準の質量百分率表示で、SiO2:59.5%、Al2O3:17%、B2O3:8%、MgO:3.3%、CaO:4%、SrO:7.6%、BaO:0.1%、ZrO2:0.1%を含有し、MgO+CaO+SrO+BaO:15%であって、残部が不可避的不純物であり、アルカリ金属酸化物の含有量の合量が0.1%以下となるように、ガラス原料10を調整し、ガラス原料10を溶解装置200に投入した。
例1の窒素(N2)ガスの代わりに、フッ化水素(HF)濃度cが1.0vol%の窒素(N2)をキャリアガスとした気体をガラスリボン14のトップ面に吹き付けた以外は、例1と同様の条件でガラス基板を得た。
例1の窒素(N2)ガスの代わりに、フッ化水素(HF)濃度cが2.0vol%の窒素(N2)をキャリアガスとした気体をガラスリボン14のトップ面に吹き付けた以外は、例1と同様の条件でガラス基板を得た。
例1の窒素(N2)ガスの代わりに、フッ化水素(HF)濃度cが5.0vol%の窒素(N2)をキャリアガスとした気体をガラスリボン14のトップ面に吹き付けた以外は、例1と同様の条件でガラス基板を得た。
例4で得られたガラス基板の半導体素子形成面を研磨した後、シャワー洗浄、スラリー洗浄、シャワーリンスによってガラス基板を洗浄した。
例1〜5で得られたガラス基板それぞれを幅10mm×長さ10mmに切断し、ガラス基板のガラス表面からの深さ0、4、8、12、16、20、24、28nm、及び40μmにおけるSi量、B量、O量、Al量、Mg量、Ca量、及びSr量(原子%)をX線光電子分光装置(アルバック・ファイ社製、ESCA5500)により測定した。深さ0、4、8、12、16、20、24、28nmにおける各原子の量の測定値を平均し、深さ0〜30nmにおける各原子の量の平均値を算出した。ガラス基板表面からの深さ28nmまでの研削は、C60イオンビームによりスパッタエッチングした。ガラス基板表面からの深さ40μmまでの研削は、深さ39μmまで酸化セリウム水溶液で研削した後、C60イオンビームによりスパッタエッチングした。
ガラス基板を構成する各原子kの仕事関数Wk(eV)は、各原子kの電気陰性度Xkをもとに、以下の式を用いて算出することができる。
Wk=2.27×Xk+0.34
そこで、ガラス基板表層の仕事関数の代替指標として、疑似仕事関数を算出した。疑似仕事関数(eV)は、深さ0〜30nmにおける各原子kの量(Si量、B量、O量、Al量、Mg量、Ca量、及びSr量(原子%))の平均値と各原子kの電気陰性度Xkをもとに、以下の式を用いて算出した。
疑似仕事関数=2.27×Σ{(原子kの量×Xk)/(原子kの量)}+0.34
例1〜5で得られたガラス基板それぞれを幅5mm×長さ5mmに切断し、ガラス基板のガラス表面の平均表面粗さRa(算術平均表面粗さRa(JIS B0601−2013))を、以下の方法で測定した。ガラス基板のガラス表面を、原子間力顕微鏡(製品名:SPI−3800N、セイコーインスツル社製)を用いて観察した。カンチレバーは、SI−DF40P2を用いた。観察は、スキャンエリア5μm×5μmに対し、ダイナミック・フォース・モードを用いて、スキャンレート1Hzで行った(エリア内データ数:256×256)。この観察に基づき、各測定点での平均表面粗さRaを算出した。計算ソフトは、原子間力顕微鏡に付属のソフト(ソフト名:SPA−400)を用いた。
例1〜5で得られたガラス基板それぞれの剥離帯電量を、以下の方法で測定した。幅410mm×長さ510mmのガラス基板をSUS310製の真空吸着ステージに、一定時間載置した後、真空吸着ステージから、リフトピンを用いてガラス基板を剥離した。剥離した直後のガラス基板の帯電量を、表面電位計(製品名:MODEL 341B、トレック・ジャパン社製)で測定した。図5に示す、例1〜5の帯電量は、例1の帯電量を1とした場合の相対値である。
14 ガラスリボン
70、80 インジェクタ
71、81 供給口
74、84 流路
75、85 排気口
100 フロートガラス製造装置
200 溶解装置
300 成形装置
310 溶融スズ
320 浴槽
400 徐冷装置
Claims (8)
- SiO2及びAl2O3を含み、
ガラス基板の半導体素子形成面とは反対側のガラス表面からの深さ40μmにおけるSi量(原子%)に対する、前記ガラス表面からの深さ0〜30nmにおけるSi量(原子%)の平均値の比であるSi量の比が0.9以下であり、
前記ガラス表面からの深さ40μmにおけるAl量(原子%)に対する、前記ガラス表面からの深さ0〜30nmにおけるAl量(原子%)の平均値の比であるAl量の比が1.0〜7.4である、ディスプレイ用ガラス基板。 - 前記ディスプレイ用ガラス基板は、B2O3を含み、
前記ガラス表面からの深さ40μmにおけるB量(原子%)に対する、前記ガラス表面からの深さ0〜30nmにおけるB量(原子%)の平均値の比であるB量の比が0.7以下である、請求項1に記載のディスプレイ用ガラス基板。 - 前記ディスプレイ用ガラス基板は、MgOを含み、
前記ガラス表面からの深さ40μmにおけるMg量(原子%)に対する、前記ガラス表面からの深さ0〜30nmにおけるMg量(原子%)の平均値の比であるMg量の比が1.0〜7.4である、請求項1又は2に記載のディスプレイ用ガラス基板。 - 前記ディスプレイ用ガラス基板は、CaOを含み、
前記ガラス表面からの深さ40μmにおけるCa量(原子%)に対する、前記ガラス表面からの深さ0〜30nmにおけるCa量(原子%)の平均値の比であるCa量の比が1.0〜7.4である、請求項1〜3のいずれか1項に記載のディスプレイ用ガラス基板。 - 前記ディスプレイ用ガラス基板は、アルカリ土類金属酸化物を含み、
前記ガラス表面からの深さ40μmにおけるMg、Ca、Sr、及びBaの合量(原子%)に対する、前記ガラス表面からの深さ0〜30nmにおけるMg、Ca、Sr、及びBaの合量(原子%)の平均値の比である合量の比が1.0〜7.4である、請求項1〜4のいずれか1項に記載のディスプレイ用ガラス基板。 - ガラス原料を溶解し溶融ガラスとする溶解装置と、前記溶解装置から供給される前記溶融ガラスを帯状に成形してガラスリボンとする成形装置と、前記成形装置で成形された前記ガラスリボンを徐冷する徐冷装置とを備えるフロートガラス製造装置を用いた、SiO2及びAl2O3を含むディスプレイ用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラスリボンの上方に設置されたインジェクタを用い、前記ガラスリボンのトップ面に、3.0vol%以上のフッ化水素(HF)を含有する気体を供給することによって、ガラス基板の半導体素子形成面とは反対側のガラス表面からの深さ40μmにおけるSi量(原子%)に対する、前記ガラス表面からの深さ0〜30nmにおけるSi量(原子%)の平均値の比であるSi量の比を0.9以下に制御し、前記ガラス表面からの深さ40μmにおけるAl量(原子%)に対する、前記ガラス表面からの深さ0〜30nmにおけるAl量(原子%)の平均値の比であるAl量の比を1.0〜7.4に制御することを特徴とする、ディスプレイ用ガラス基板の製造方法。 - 前記インジェクタは、前記成形装置内の前記ガラスリボンの上方に設置される、請求項6に記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
- 前記インジェクタは、前記徐冷装置内の前記ガラスリボンの上方に設置される、請求項6又は7に記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
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