JP5774562B2 - ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明に係るガラス基板の製造方法の実施形態について、図面を参照しながら説明する。本実施形態に係るガラス基板の製造方法によって製造されるガラス基板10は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイおよび有機ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ(FPD)の製造に用いられる。ガラス基板10は、例えば、0.2mm〜0.8mmの厚みを有し、かつ、縦680mm〜2200mmおよび横880mm〜2500mmのサイズを有する。
次に、粗面化工程S80で行われる、粗面化表面12bの洗浄工程およびエッチング工程について、それぞれ説明する。
洗浄工程では、粗面化表面12bのプラズマ洗浄処理が行われる。プラズマ洗浄処理は、例えば、大気圧プラズマ洗浄処理およびアルゴンプラズマ洗浄処理である。
エッチング工程では、粗面化表面12bのドライエッチング処理が行われる。ドライエッチング処理は、例えば、フッ素系のエッチングガスを用いるエッチング処理である。
(3−1)
本実施形態に係るガラス基板の製造方法では、ガラス基板10の粗面化表面12bは、プラズマ洗浄装置20およびドライエッチング装置30を用いて表面処理される。プラズマ洗浄装置20による洗浄処理、および、ドライエッチング装置30によるエッチング処理は、エッチング処理によって粗面化表面12bの表面抵抗が小さくなるように行われる。
ガラス基板10の粗面化表面12bのエッチング工程では、エッチャントのキャリアガスとして、アルゴンが用いられることが好ましい。
ガラス基板10の粗面化表面12bの洗浄工程では、ガラス基板10の粗面化表面12bは、アルゴンプラズマ洗浄されることが好ましい。
本発明に係るガラス基板の製造方法の実施例として、ガラス基板の一方の主表面を粗面化処理して、表面抵抗の変化を測定した。具体的には、複数のガラス基板に対して、互いに異なる条件下で洗浄処理およびエッチング処理を行って、エッチング処理された表面の表面抵抗を測定した。また、洗浄処理およびエッチング処理が行われていないガラス基板の表面の表面抵抗を測定した。さらに、ガラス基板表面の帯電性、および、Ra(算術平均粗さ)を測定した。なお、ガラス基板として、ボロアルミノシリケートガラスを用いた液晶表示装置用のガラス基板を使用した。
12a 素子形成表面(第1表面)
12b 粗面化表面(第2表面)
Claims (6)
- 半導体素子が形成されるフラットパネルディスプレイ用のガラス基板の製造方法であって、
半導体素子が形成されるガラス基板の表面である第1表面の反対側の表面である第2表面を洗浄する洗浄工程と、
前記洗浄工程で洗浄された前記第2表面をエッチングするエッチング工程と、
を備え、
前記エッチング工程でエッチングされる前の前記第2表面の表面抵抗より、前記エッチング工程でエッチングされた後の前記第2表面の表面抵抗が小さくなるように、前記第2表面は、前記洗浄工程で洗浄され、前記エッチング工程でエッチングされ、
前記洗浄工程において、前記第2表面は、プラズマ洗浄処理が行われ、
前記エッチング工程において、前記第2表面は、プラズマ状態のキャリアガス中に生成されるフッ素系エッチングガスを用いるドライエッチング処理が行われ、
前記エッチング工程でエッチングされた後の前記第2表面は、0.3nm以上、かつ、0.5nm未満のRaを有する、
ガラス基板の製造方法。 - 前記エッチング工程において、前記第2表面は、前記キャリアガスとしてアルゴンが用いられ、エッチャントとして四フッ化炭素が用いられる前記ドライエッチング処理が行われる、
請求項1に記載のガラス基板の製造方法。 - 前記第2表面におけるケイフッ化アンモニウムの沈着が抑制されるように、前記第2表面は、前記エッチング工程でエッチングされる、
請求項1または2に記載のガラス基板の製造方法。 - 前記洗浄工程において、前記第2表面は、アルゴンプラズマ洗浄処理が行われる、
請求項1から3のいずれか1項に記載のガラス基板の製造方法。 - 前記ガラス基板は、液晶表示装置用ガラス基板である、
請求項1から4のいずれか1項に記載のガラス基板の製造方法。 - 前記エッチング工程で前記第2表面がエッチングされた前記ガラス基板の端部を研磨および研削する端面加工工程と、
前記端面加工工程の後に行われる前記ガラス基板の第2の洗浄工程と、
をさらに備える、
請求項1から5のいずれか1項に記載のガラス基板の製造方法。
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