JP2014047086A5 - - Google Patents

Claims (5)

1. 半導体素子が形成されるフラットパネルディスプレイ用のガラス基板の製造方法であって、
   半導体素子が形成されるガラス基板の表面である第１表面の反対側の表面である第２表面を洗浄する洗浄工程と、
   前記洗浄工程で洗浄された前記第２表面をエッチングするエッチング工程と、
   を備え、
   前記エッチング工程でエッチングされる前の前記第２表面の表面抵抗より、前記エッチング工程でエッチングされた後の前記第２表面の表面抵抗が小さくなるように、前記第２表面は、前記洗浄工程で洗浄され、前記エッチング工程でエッチングされる、
   ガラス基板の製造方法。
2. 前記エッチング工程において、前記第２表面は、キャリアガスとしてアルゴンが用いられ、エッチャントとして四フッ化炭素が用いられるドライエッチング処理が行われる、
   請求項１に記載のガラス基板の製造方法。
3. 前記第２表面におけるケイフッ化アンモニウムの沈着が抑制されるように、前記第２表面は、前記エッチング工程でエッチングされる、
   請求項１または２に記載のガラス基板の製造方法。
4. 前記洗浄工程において、前記第２表面は、アルゴンプラズマ洗浄処理が行われる、
   請求項１から３のいずれか１項に記載のガラス基板の製造方法。
5. 前記ガラス基板は、液晶表示装置用ガラス基板である、
   請求項１から４のいずれか１項に記載のガラス基板の製造方法。