JPWO2015166991A1 - 有機ｅｌ表示装置 - Google Patents

Abstract

本発明は、正面方向から視認した際のみならず、斜め方向から視認した際にも外光反射および色味付きがより抑制された、有機ＥＬ表示装置を提供する。本発明の有機ＥＬ表示装置は、視認側から、偏光子、第１光学異方性層、λ／４板、および、有機ＥＬ表示パネルをこの順で有し、偏光子の吸収軸と、λ／４板の面内遅相軸とのなす角度が４５±３°の範囲にあり、第１光学異方性層のＮｚファクターが−０．１以上１．１以下であり、偏光子の吸収軸と第１光学異方性層の面内遅相軸とが平行または直交し、波長５５０ｎｍで測定した第１光学異方性層の面内レタデーション値であるＲｅ（５５０）が以下の式（Ｘ）を満足する。式（Ｘ） １００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦４５０ｎｍ

Description

本発明は、有機ＥＬ表示装置に係り、特に、偏光子とλ／４板との間に所定の光学異方性層を有する有機ＥＬ表示装置に関する。

従来から、外光反射による悪影響を抑制するために、円偏光板が有機ＥＬ（Electroluminescence）表示装置などに使用されている。円偏光板としては、例えば、特許文献１に記載されるように、１／４波長板（λ／４板）と偏光子とを組み合わせた態様が開示されている。

特開平９−１２７８８５号公報

一方、近年、有機ＥＬ表示装置に代表される表示装置においては、視野角特性のより一層の向上が求められている。より具体的には、円偏光板を有する有機ＥＬ表示装置においては、斜め方向から見た際の外光反射および色味付きのより一層の低減が求められている。
本発明者が、特許文献１に記載の円偏光板を含む有機ＥＬ表示装置の外光反射特性について検討を行ったところ、正面方向から視認した際には外光反射が十分に抑制されているものの、斜め方向から見た際には外光反射および色味付きの抑制が昨今求められるレベルまで到達しておらず、更なる改良が必要であった。

本発明は、上記実情に鑑みて、正面方向から視認した際のみならず、斜め方向から視認した際にも外光反射および色味付きがより抑制された、有機ＥＬ表示装置を提供することを目的とする。

本発明者らは、従来技術の問題点について鋭意検討した結果、偏光子とλ／４板との間に所定の光学異方性層を配置することにより、上記課題を解決できることを見出した。
すなわち、以下の構成により上記目的を達成することができることを見出した。

（１） 視認側から、偏光子、第１光学異方性層、λ／４板、および、有機ＥＬ表示パネルをこの順で有し、
偏光子の吸収軸と、λ／４板の面内遅相軸とのなす角度が４５±３°の範囲にあり、
第１光学異方性層のＮｚファクターが−０．１以上１．１以下であり、
第１光学異方性層のＮｚファクターが０．５以上１．１以下である場合は偏光子の吸収軸と第１光学異方性層の面内遅相軸とが平行になるように配置され、
第１光学異方性層のＮｚファクターが−０．１以上０．５未満である場合は偏光子の吸収軸と第１光学異方性層の面内遅相軸とが直交するように配置され、
波長５５０ｎｍで測定した第１光学異方性層の面内レタデーション値であるＲｅ（５５０）が以下の式（Ｘ）を満足する、有機ＥＬ表示装置。
式（Ｘ） １００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦４５０ｎｍ
（２） 第１光学異方性層の平均屈折率と偏光子の平均屈折率とが以下の式（Ｙ）の関係を満たす、（１）に記載の有機ＥＬ表示装置。
式（Ｙ） 第１光学異方性層の平均屈折率−偏光子の平均屈折率≧０．０３
（３） 第１光学異方性層が、液晶化合物を含む、（１）または（２）に記載の有機ＥＬ表示装置。
（４） 第１光学異方性層のＮｚファクターが０．５以上１．１以下である、（１）〜（３）のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
（５） 第１光学異方性層が、棒状液晶化合物を含む、（４）に記載の有機ＥＬ表示装置。
（６） 第１光学異方性層のＮｚファクターが−０．１以上０．５未満である、（１）〜（３）のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
（７） 第１光学異方性層が、円盤状液晶化合物を含む、（６）に記載の有機ＥＬ表示装置。
（８） λ／４板が、逆波長分散性を示す、（１）〜（７）のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
（９） λ／４板が、液晶化合物を含む、（１）〜（８）のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
（１０） λ／４板と有機ＥＬ表示パネルとの間に第２光学異方性層を有し、
波長５５０ｎｍで測定した第２光学異方性層の面内レタデーション値であるＲｅ（５５０）が０〜１０ｎｍであり、
波長５５０ｎｍで測定した第２光学異方性層の厚み方向のレタデーション値であるＲｔｈ（５５０）が−９０〜−４０ｎｍである、（１）〜（９）のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。

本発明によれば、正面方向から視認した際のみならず、斜め方向から視認した際にも外光反射および色味付きがより抑制された、有機ＥＬ表示装置を提供することができる。

本発明の有機ＥＬ表示装置の第１の実施態様の断面図である。 本発明の有機ＥＬ表示装置の第１の実施態様における、偏光子の吸収軸、第１光学異方性層の面内遅相軸、および、λ／４板の面内遅相軸の関係を示す図である。 本発明の有機ＥＬ表示装置の第２の実施態様の断面図である。 本発明の有機ＥＬ表示装置の第３の実施態様の断面図である。 本発明の有機ＥＬ表示装置の第３の実施態様における、偏光子の吸収軸、第１光学異方性層の面内遅相軸、および、λ／４板の面内遅相軸の関係を示す図である。 本発明の有機ＥＬ表示装置の第４の実施態様の断面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。まず、本明細書で用いられる用語について説明する。

Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレタデーション、および、厚さ方向のレタデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、またはＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。測定されるフィルムが、１軸または２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。なお、この測定方法は、液晶化合物の平均チルト角、その反対側の平均チルト角の測定においても一部利用される。
Ｒｔｈ（λ）は、上記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、またはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０°まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレタデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレタデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、またはＷＲが算出する。なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレタデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、および入力された膜厚値を基に、以下の式（Ａ）、および式（Ｂ）よりＲｔｈを算出することもできる。

なお、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレタデーション値を表す。また、式（Ａ）におけるｎｘは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは、面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、ｎｘおよびｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは測定フィルムの厚みを示す。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ・・・・・・・・・・・式（Ｂ）

測定されるフィルムが、１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法により、Ｒｔｈ（λ）は算出される。Ｒｔｈ（λ）は、上記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、またはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−５０°から＋５０°まで１０°ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。また、上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）の関係式より、Ｎｚファクターがさらに算出される。

なお、本明細書では、「可視光」とは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのことをいう。また、本明細書では、測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。
また、本明細書において、角度（例えば「９０°」等の角度）、およびその関係（例えば「直交」、「平行」、「４５°」および「９０°」等）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±１０°以下の範囲内であることなどを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。例えば、直交の場合、９０°±１０°の範囲（８０〜１００°）であればよい。

本発明の有機ＥＬ表示装置の特徴点の一つとしては、上述したように、偏光子とλ／４板との間に所定の面内レタデーション値を示す光学異方性層を配置する点が挙げられる。円偏光板としての機能を考慮すれば、偏光子の吸収軸とλ／４板の面内遅相軸とのなす角度は４５°になることが望ましい。一方、仮に、有機ＥＬ表示装置の正面方向から視認した際に、偏光子の吸収軸とλ／４板の面内遅相軸とのなす角度が４５°になるように配置した場合でも、有機ＥＬ表示装置を斜め方向から視認した際には、偏光子の吸収軸とλ／４板の面内遅相軸とのなす角度が４５°からずれるため、外光反射および色味付きの抑制効果が低下する。それに対して、驚くべきことに、所定の面内レタデーション値を示す光学異方性層を所定の位置に配置すると、有機ＥＬ表示装置を斜め方向から視認した際の、偏光子の吸収軸とλ／４板の面内遅相軸とのなす角度の理想値からのずれの発生が抑制され、結果として外光反射および色味付きの発生がより抑制され、視認性が向上することを知見している。

＜第１の実施態様＞
以下に、本発明の有機ＥＬ表示装置の第１の実施態様について図面を参照して説明する。図１に、本発明の有機ＥＬ表示装置の第１の実施態様の断面図を示す。なお、本発明における図は模式図であり、各層の厚みの関係や位置関係などは必ずしも実際のものとは一致しない。以下の図も同様である。
有機ＥＬ表示装置１０は、視認側から、偏光子１２と、第１光学異方性層１４Ａと、λ／４板１６と、有機ＥＬ表示パネル１８とをこの順で有する。図１においては、白抜き矢印の方向から有機ＥＬ表示装置１０を視認する。なお、偏光子１２と第１光学異方性層１４Ａとλ／４板１６とで、いわゆる円偏光板を構成する。
また、図２において、偏光子１２の吸収軸、第１光学異方性層１４Ａの面内遅相軸、および、λ／４板１６の面内遅相軸の関係を示す。図２中、偏光子１２中の矢印は吸収軸の方向を、第１光学異方性層１４Ａおよびλ／４板１６中の矢印はそれぞれの層中の面内遅相軸の方向を表す。
以下、有機ＥＬ表示装置１０に含まれる各部材について詳述する。

（偏光子）
偏光子１２は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材（直線偏光子）であればよく、主に、吸収型偏光子を利用することができる。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子などが用いられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子があり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
また、基材上にポリビニルアルコール層を形成した積層フィルムの状態で延伸および染色を施すことで偏光子を得る方法として、特許第５０４８１２０号公報、特許第５１４３９１８号公報、特許第５０４８１２０号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４７５１４８１号公報、特許第４７５１４８６号公報を挙げることができ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用することができる。
なかでも、取り扱い性の点から、ポリビニルアルコール系樹脂（−ＣＨ_２−ＣＨＯＨ−を繰り返し単位として含むポリマー、特に、ポリビニルアルコールおよびエチレン−ビニルアルコール共重合体からなる群から選択される少なくとも１つが好ましい。）を含む偏光子であることが好ましい。

偏光子１２の厚みは特に制限されないが、取り扱い性に優れると共に、光学特性にも優れる点より、３５μｍ以下が好ましく、３〜２５μｍがより好ましく、４〜１５μｍがさらに好ましい。上記厚みであれば、画像表示装置の薄型化に対応可能となる。

（第１光学異方性層１４Ａ）
第１光学異方性層１４Ａは、上記偏光子１２と後述するλ／４板１６との間に配置される層である。この層を設けることにより、斜め方向から有機ＥＬ表示装置を視認した際に外光反射および色味付きがより抑制される。
図２に示すように、偏光子１２の吸収軸と、第１光学異方性層１４Ａの面内遅相軸とは平行となるように配置される。平行の定義は、上述の通りである。

波長５５０ｎｍで測定した第１光学異方性層１４Ａの面内レタデーション値であるＲｅ（５５０）は以下の式（Ｘ）を満足する。
式（Ｘ） １００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦４５０ｎｍ
なかでも、有機ＥＬ表示装置を斜め方向から視認した際の外光反射および／または色味付きがより抑制される点（以後、単に「本発明の効果がより優れる点」とも称する）で、Ｒｅ（５５０）は式（Ｘ１）を満たすことが好ましく、式（Ｘ２）を満たすことがより好ましい。
式（Ｘ１） １５０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦４００ｎｍ
式（Ｘ２） ２００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦３００ｎｍ
Ｒｅ（５５０）が１００ｎｍ未満および４５０ｎｍ超の場合、有機ＥＬ表示装置を斜め方向から視認した際の外光反射および／または色味付きが大きい。

第１光学異方性層１４Ａは、順波長分散性（面内レタデーション値が、測定波長が大きくなるにつれて小さくなる特性。）を示しても、逆波長分散性（面内レタデーション値が、測定波長が大きくなるにつれて大きくなる特性。）を示してもよいが、本発明の効果がより優れる点で、逆波長分散性を示すことが好ましい。なお、上記波長分散性は、可視光域において示されることが好ましい。
なお、第１光学異方性層１４Ａの面内レタデーション値を適切に逆波長分散性とするためには、具体的には、第１光学異方性層１４Ａは、下記式（Ｉ）の関係を満足することが好ましく、さらに式（Ｉ）および（ＩＩ）の関係を満足することがより好ましい。
式（Ｉ）：０．７０≦Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）≦０．８８
式（ＩＩ）：１．０１≦Ｒｅ（６５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）≦１．３０
なお、上記Ｒｅ（４５０）およびＲｅ（６５０）は、それぞれ波長４５０ｎｍおよび６５０ｎｍで測定した第１光学異方性層１４Ａの面内レタデーション値を示す。

第１光学異方性層１４ＡのＮｚファクターは、０．５以上１．１以下であり、０．６５〜１．０５であることが好ましい。Ｎｚファクターの算出方法は上述の通りである。
なお、第１光学異方性層１４Ａは、いわゆるＡプレート（特に、正のＡプレート）であることが好ましい。

波長５５０ｎｍで測定した第１光学異方性層１４Ａの厚み方向のレタデーション値であるＲｔｈ（５５０）は、本発明の効果がより優れる点で、０〜２７０ｎｍであることが好ましく、０〜２３０ｎｍであることがより好ましく、０〜２２０ｎｍであることがさらに好ましい。

第１光学異方性層１４Ａの平均屈折率と偏光子１２の平均屈折率とは、本発明の効果がより優れる点で、以下の式（Ｙ）の関係を満たすことが好ましい。
式（Ｙ） 第１光学異方性層の平均屈折率−偏光子の平均屈折率≧０．０３
上記式（Ｙ）は、第１光学異方性層１４Ａの平均屈折率と、偏光子１２の平均屈折率との差が０．０３以上であることを意図する。
なお、第１光学異方性層１４Ａが液晶化合物を含む場合（例えば、液晶化合物の配向を固定してなる層の場合）、平均屈折率は１．５３〜１．７０程度であることが好ましい。
平均屈折率の測定は、エリプソメーターＡＥＰ−１００（（株）島津製作所製）、Ｍ１５０およびＭ５２０（日本分光（株）製）、ＡＢＲ１０Ａ（ユニオプト（株）製）で行うことができるが、本明細書では特に断りのない限り、エリプソメーターＭ５２０（日本分光（株）製）で測定する。

第１光学異方性層１４Ａには液晶化合物が含まれる。より具体的には、第１光学異方性層１４Ａは、ホモジニアス配向した液晶化合物を含む層に該当する。ホモジニアス配向とは、液晶化合物によって形成される長軸方向が面に対して平行となる配向状態をいう。ただし、上述した面内レタデーション値など所定の特性を満たせば、他の材料で構成されていてもよい。例えば、ポリマーフィルム（特に、延伸処理が施されたポリマーフィルム）から形成されていてもよい。
液晶化合物の種類は特に制限されないが、その形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（円盤状液晶化合物。ディスコティック液晶化合物）に分類できる。さらにそれぞれ低分子タイプと高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできる。２種以上の棒状液晶化合物、２種以上の円盤状液晶化合物、または、棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。
なお、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５−２８９９８０号公報の段落［００２６］〜［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００２０］〜［００６７］や特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。
なかでも、上述したＮｚファクターなどの制御がよりしやすく、本発明の効果がより優れる点で、第１光学異方性層１４Ａに含まれる液晶化合物としては棒状液晶化合物であることが好ましい。

第１光学異方性層１４Ａは、光学特性の温度変化や湿度変化を小さくできることから、重合性基を有する液晶化合物（棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物）を用いて形成することがより好ましい。液晶化合物は２種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも１つが２以上の重合性基を有していることが好ましい。
つまり、第１光学異方性層１４Ａは、重合性基を有する棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物が重合等によって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物に含まれる重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが好ましく挙げられ、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。なお、（メタ）アクリロイル基とは、メタアクリロイル基およびアクリロイル基の両者を包含する概念である。

第１光学異方性層１４Ａの形成方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
例えば、偏光子１２上に、重合性基を有する液晶化合物を含む第１光学異方性層形成用組成物（以後、単に「組成物」とも称する）を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜に対して硬化処理（紫外線の照射（光照射処理）または加熱処理）を施すことにより、第１光学異方性層１４Ａを製造できる。
上記組成物の塗布としては、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。

上記組成物には、上述した液晶化合物以外の成分が含まれていてもよい。
例えば、組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、光重合開始剤が挙げられる。例えば、光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせなどが挙げられる。
重合開始剤の使用量は、組成物の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。

また、組成物には、塗工膜の均一性、膜の強度の点から、重合性モノマーが含まれていてもよい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報中の段落［００１８］〜［００２０］に記載のものが挙げられる。
重合性モノマーの添加量は、液晶化合物の全質量に対して、１〜５０質量％であることが好ましく、２〜３０質量％であることがより好ましい。

また、組成物には、塗工膜の均一性、膜の強度の点から、界面活性剤が含まれていてもよい。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば、特開２００１−３３０７２５号公報中の段落［００２８］〜［００５６］に記載の化合物、特願２００３−２９５２１２号明細書中の段落［００６９］〜［０１２６］に記載の化合物が挙げられる。

また、組成物には溶媒が含まれていてもよく、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

また、組成物には、偏光子界面側垂直配向剤、空気界面側垂直配向剤など垂直配向促進剤、偏光子界面側水平配向剤、空気界面側水平配向剤など水平配向促進剤などの各種配向剤が含まれていてもよい。これらの配向制御剤は、偏光子界面側または空気界面側において棒状液晶化合物を水平に配向制御可能な配向制御剤であり、円盤状液晶化合物を垂直に配向制御可能な配向制御剤である。これらの配向制御剤としては、公知の化合物が適宜使用されるが、例えば、円盤状液晶化合物の偏光子界面側垂直配向剤としては特開２０１２−２１５７０４号公報の段落［００７９］〜［０１０４］に記載の化合物が挙げられ、空気界面側垂直配向剤としては特開２０１２−２１５７０４号公報の段落［０１０６］〜［０１１３］に記載の化合物が挙げられ、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。

さらに、組成物には、上記成分以外に、密着改良剤、可塑剤、ポリマーなどが含まれていてもよい。

（λ／４板（λ／４波長板））
λ／４板１６は、上記第１光学異方性層１４Ａと後述する有機ＥＬ表示パネル１８との間に配置される層である。
λ／４板（λ／４機能を有する板）１６とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。より具体的には、所定の波長λｎｍにおける面内レタデーション値がλ／４（または、この奇数倍）を示す板である。
λ／４板１６の波長５５０ｎｍでの面内レタデーション値（Ｒｅ（５５０））は、理想値（１３７．５ｎｍ）を中心として、２５ｎｍ程度の誤差があってもよく、例えば、１１０〜１６０ｎｍであることが好ましく、１２０〜１５０ｎｍであることがより好ましく、１３０〜１４５ｎｍであることがさらに好ましい。

図２に示すように、偏光子１２の吸収軸と、λ／４板１６の面内遅相軸とのなす角度θは４５±３°の範囲である。言い換えると、角度θは４２〜４８°の範囲にある。本発明の効果がより優れる点で、角度θは４５±２°の範囲であることが好ましい。
なお、上記角度とは、偏光子１２表面の法線方向（言い換えれば、有機ＥＬ表示装置の正面方向）から視認した際の、偏光子１２の吸収軸とλ／４板１６の面内遅相軸とのなす角度を意図する。

λ／４板１６は、可視光域において、順波長分散性を示しても、逆波長分散性を示してもよいが、本発明の効果がより優れる点で、逆波長分散性を示すことが好ましい。
また、波長４５０ｎｍおよび５５０ｎｍで測定したλ／４板１６の面内レタデーション値であるＲｅ（４５０）およびＲｅ（５５０）は、視野角に依存した色味付きがより改善する点で、以下の式（Ｚ）の関係を満たすことが好ましく、式（Ｚ１）の関係を満たすことがより好ましく、式（Ｚ２）の関係を満たすことがさらに好ましい。
式（Ｚ） ０．７０≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦０．８８
式（Ｚ１） ０．７２≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦０．８６
式（Ｚ２） ０．７５≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦０．８３

波長５５０ｎｍおよび６５０ｎｍで測定したλ／４板１６の面内レタデーション値であるＲｅ（５５０）およびＲｅ（６５０）は、視野角に依存した色味付きがより改善する点で、以下の式（Ｗ）の関係を満たすことが好ましく、式（Ｗ１）の関係を満たすことがより好ましく、式（Ｗ２）の関係を満たすことがさらに好ましい。
式（Ｗ） １．０１≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．３０
式（Ｗ１） １．０１≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．２０
式（Ｗ２） １．０２≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．１５

波長５５０ｎｍで測定したλ／４板１６の厚み方向のレタデーション値であるＲｔｈ（５５０）は、本発明の効果がより優れる点で、−１２０〜１２０ｎｍであることが好ましく、−８０〜８０ｎｍであることがより好ましい。

図１において、λ／４板１６が単層構造である態様を示すが、この態様に限定されず、複層構造であってもよい。λ／４板１６が複層構造である場合、複数層を含む積層体全体を１層と見なした場合に算出される面内遅相軸と、偏光子の吸収軸とのなす角度が４５°±３°の範囲にあればよい。複層構造の例としては、例えば、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。本態様の場合、λ／４板の面内遅相軸とλ／２板の面内遅相軸との平均角度（積層体全体の面内遅相軸）と、偏光子の吸収軸とのなす角度が４５°±３°の範囲にあり、λ／４板の面内遅相軸とλ／２板の面内遅相軸とのなす角度は６０°であることが好ましい。

λ／４板１６を構成する材料は上記特性を示せば特に制限されず、上述した第１光学異方性層１４Ａで述べたように液晶化合物を含む態様（例えば、ホモジニアス配向した液晶化合物を含む光学異方性層）や、ポリマーフィルムなどが挙げられる。なかでも、上記特性の制御がしやすい点で、液晶化合物を含むことが好ましい。より具体的には、λ／４板１６は、重合性基を有する液晶化合物（棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物）が重合等によって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
λ／４板１６の形成方法は特に制限されず、公知の方法が採用でき、例えば、上述した第１光学異方性層１４Ａを形成する方法（重合性基を有する液晶化合物を含有する組成物を用いる方法）が挙げられる。

（有機ＥＬ表示パネル）
有機ＥＬ表示パネル１８は、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。
有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。

（その他の層）
上記有機ＥＬ表示装置１０は、本発明の効果を損なわない範囲で、偏光子１２、第１光学異方性層１４Ａ、λ／４板１６、および、有機ＥＬ表示パネル１８以外の他の層を備えていてもよい。
例えば、有機ＥＬ表示装置１０には、液晶化合物の配向方向を規定する機能を有する配向膜が含まれていてもよい。配向膜の配置位置は特に制限されないが、例えば、偏光子１２と第１光学異方性層１４Ａとの間や、第１光学異方性層１４Ａとλ／４板１６との間が挙げられる。
配向膜は、一般的にはポリマーを主成分とする。配向膜用ポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。利用されるポリマー材料は、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、および、その誘導体が好ましい。特に、変性または未変性のポリビニルアルコールが好ましい。本発明に使用可能な配向膜については、ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行、特許第３９０７７３５号公報の段落［００７１］〜［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコールを参照することができる。なお、配向膜には、通常、公知のラビング処理が施される。つまり、配向膜は、通常、ラビング処理されたラビング配向膜であることが好ましい。
配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがより好ましく、０．０１〜０．５μｍであることがさらに好ましい。

また、偏光子１２と第１光学異方性層１４Ａとの間には、波長５５０ｎｍで測定した面内レタデーション値であるＲｅ（５５０）が０〜１０ｎｍであり、波長５５０ｎｍで測定した厚み方向のレタデーション値であるＲｔｈ（５５０）が０〜１０ｎｍである光学異方性層が配置されていてもよい。

さらに、偏光子１２の視認側の表面上には、偏光子保護フィルムが配置されていてもよい。
偏光子保護フィルムの構成は特に制限されず、例えば、いわゆる透明支持体やハードコート層であっても、透明支持体とハードコート層との積層体であってもよい。
ハードコート層としては、公知の層を使用することができ、例えば、上述した多官能モノマーを重合硬化して得られる層であってもよい。
また、透明支持体としては、公知の透明支持体を使用することができ、例えば、透明支持体を形成する材料としては、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、セルロースアシレートという）や、熱可塑性ノルボルネン系樹脂（日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等）、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂を使用することができる。
偏光子保護フィルムの厚みは特に限定されないが、偏光板の厚みを薄くできる等の理由から４０μｍ以下が好ましく、２５μｍ以下がより好ましい。

＜第２の実施態様＞
以下に、本発明の有機ＥＬ表示装置の第２の実施態様について図面を参照して説明する。図３に、本発明の有機ＥＬ表示装置の第２の実施態様の断面図を示す。
有機ＥＬ表示装置１１０は、視認側から、偏光子１２と、第１光学異方性層１４Ａと、λ／４板１６と、第２光学異方性層２０と、有機ＥＬ表示パネル１８とをこの順で有する。
図３に示す有機ＥＬ表示装置１１０は、第２光学異方性層２０を備える点を除いて、図１に示す有機ＥＬ表示装置１０と同様の層を有するものであるので、同一の構成要素には同一の参照符号を付し、その説明を省略し、以下では、主に、第２光学異方性層２０について詳述する。
なお、有機ＥＬ表示装置１１０において、偏光子１２の吸収軸の方向、第１光学異方性層１４Ａの面内遅相軸およびλ／４板１６の面内遅相軸の方向の相互関係は、上述した有機ＥＬ表示装置１０における各軸と同じ相互関係を満たす。また、有機ＥＬ表示装置１１０は、上述した有機ＥＬ表示装置１０が有していてもよい他の層を有していてもよい。

（第２光学異方性層２０）
第２光学異方性層２０は、λ／４板１６と有機ＥＬ表示パネル１８との間に配置される層である。この層が配置されることにより、本発明の効果がより優れる。
波長５５０ｎｍで測定した第２光学異方性層２０の面内レタデーション値であるＲｅ（５５０）は、本発明の効果がより優れる点で、０〜１０ｎｍであることが好ましく、０〜５ｎｍであることがより好ましい。
波長５５０ｎｍで測定した第２光学異方性層２０の厚み方向のレタデーション値であるＲｔｈ（５５０）は、本発明の効果がより優れる点で、−１１０〜−２５ｎｍであることが好ましく、−９０〜−４０ｎｍであることがより好ましく、−８０〜−５０ｎｍであることがさらに好ましい。
第２光学異方性層２０は、いわゆる正のＣプレートであることが好ましい。

第２光学異方性層２０は、厚み方向のレタデーションが順波長分散性を示しても、逆波長分散性を示してもよいが、本発明の効果がより優れる点で、逆波長分散性を示すことが好ましい。なお、上記波長分散性は、可視光域において示されることが好ましい。
なお、第２光学異方性層２０の厚み方向のレタデーション値を適切に逆波長分散性とするためには、具体的には、第２光学異方性層２０は、下記式（ＩＩＩ）を満足することが好ましく、式（ＩＩＩ）および式（ＩＶ）を満足することがより好ましい。
式（ＩＩＩ）：０．７０≦Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）≦０．８８
式（ＩＶ）：１．０１≦Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）≦１．３０
なお、上記Ｒｔｈ（４５０）およびＲｔｈ（６５０）は、それぞれ波長４５０ｎｍおよび６５０ｎｍで測定した第２光学異方性層２０の厚み方向のレタデーション値を示す。

第２光学異方性層２０を構成する材料は上記特性を示せば特に制限されず、上述した第１光学異方性層１４Ａで述べたように液晶化合物を含む態様や、ポリマーフィルムなどが挙げられる。なかでも、上記特性の制御がしやすい点で、液晶化合物を含むことが好ましい。より具体的には、第２光学異方性層２０は、重合性基を有する液晶化合物（棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物）が重合等によって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
第２光学異方性層２０の形成方法は特に制限されず、公知の方法が採用でき、例えば、上述した第１光学異方性層１４Ａを形成する方法（重合性基を有する液晶化合物を含有する組成物を用いる方法）が挙げられる。

＜第３の実施態様＞
以下に、本発明の有機ＥＬ表示装置の第３の実施態様について図面を参照して説明する。図４に、本発明の有機ＥＬ表示装置の第３の実施態様の断面図を示す。
有機ＥＬ表示装置２１０は、視認側から、偏光子１２と、第１光学異方性層１４Ｂと、λ／４板１６と、有機ＥＬ表示パネル１８とをこの順で有する。図４においては、白抜き矢印の方向から有機ＥＬ表示装置２１０を視認する。なお、偏光子１２と第１光学異方性層１４Ｂとλ／４板１６とで、いわゆる円偏光板を構成する。
また、図５において、偏光子１２の吸収軸、第１光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸、および、λ／４板１６の面内遅相軸の関係を示す。図５中、偏光子１２中の矢印は吸収軸の方向を、第１光学異方性層１４Ｂおよびλ／４板１６中の矢印はそれぞれの層中の面内遅相軸の方向を表す。
図４に示す有機ＥＬ表示装置２１０は、第１光学異方性層１４Ｂの点を除いて、図１に示す有機ＥＬ表示装置１０と同様の層を有するものであるので、同一の構成要素には同一の参照符号を付し、その説明を省略し、以下では、主に、第１光学異方性層１４Ｂについて詳述する。
なお、図５に示すように、偏光子１２の吸収軸とλ／４板１６の面内遅相軸とのなす角度θは、第１の実施態様と同じように、４５±３°の範囲内である。その好適範囲は、上述の通りである。また、有機ＥＬ表示装置２１０は、上述した有機ＥＬ表示装置１０が有していてもよい他の層を有していてもよい。

（第１光学異方性層１４Ｂ）
第１光学異方性層１４Ｂは、第１光学異方性層１４Ａと同様に、偏光子１２とλ／４板１６との間に配置される層である。
第１光学異方性層１４Ｂは、面内遅相軸の方向、Ｎｚファクター、および、Ｒｔｈ（５５０）の点を除いて、上述した第１光学異方性層１４Ａの定義と同義である。より具体的には、波長５５０ｎｍで測定した第１光学異方性層１４Ｂの面内レタデーション値であるＲｅ（５５０）は、上述した式（Ｘ）を満足し、その好適範囲は上述の通りである。また、第１光学異方性層１４Ｂの平均屈折率と偏光子１２の平均屈折率とは、上述した式（Ｙ）を満足し、その好適範囲は上述の通りである。さらに、第１光学異方性層１４Ｂは順波長分散性または逆波長分散性を示してもよく、逆波長分散性を示すことが好ましい。
以下、第１光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸の方向、Ｎｚファクター、および、Ｒｔｈ（５５０）について詳述する。

第１光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸は、偏光子１２の吸収軸と直交するように配置される。直交の定義は上述の通りである。
また、第１光学異方性層１４ＢのＮｚファクターは、−０．１以上０．５未満であり、−０．０５〜０．３５であることが好ましい。Ｎｚファクターの算出方法は上述の通りである。
また、波長５５０ｎｍで測定した第１光学異方性層１４Ｂの厚み方向のレタデーション値であるＲｔｈ（５５０）は、本発明の効果がより優れる点で、−２７０〜０ｎｍであることが好ましく、−２２０〜−０．１ｎｍであることがより好ましい。
なお、第１光学異方性層１４Ｂは、いわゆるＡプレート（特に、負のＡプレート）であることが好ましい。

第１光学異方性層１４Ｂを構成する材料は上記特性を示せば特に制限されず、上述した第１光学異方性層１４Ａで述べたように液晶化合物を含む態様（例えば、ホモジニアス配向した液晶化合物を含む光学異方性層）や、ポリマーフィルムなどが挙げられる。なかでも、上記特性の制御がしやすい点で、液晶化合物を含むことが好ましく、円盤状液晶化合物を含むことがより好ましい。より具体的には、第１光学異方性層１４Ｂは、重合性基を有する液晶化合物（棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物）が重合等によって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
第１光学異方性層１４Ｂの形成方法は特に制限されず、公知の方法が採用でき、例えば、上述した第１光学異方性層１４Ａを形成する方法（重合性基を有する液晶化合物を含有する組成物を用いる方法）が挙げられる。
なかでも、上述したＮｚファクターなどの制御がよりしやすく、本発明の効果がより優れる点で、第１光学異方性層１４Ｂに含まれる液晶化合物としては円盤状液晶化合物であることが好ましい。

＜第４の実施態様＞
以下に、本発明の有機ＥＬ表示装置の第４の実施態様について図面を参照して説明する。図６に、本発明の有機ＥＬ表示装置の第４の実施態様の断面図を示す。
有機ＥＬ表示装置３１０は、視認側から、偏光子１２と、第１光学異方性層１４Ｂと、λ／４板１６と、第２光学異方性層２０と、有機ＥＬ表示パネル１８とをこの順で有する。
図６に示す有機ＥＬ表示装置３１０は、第２光学異方性層２０を備える点を除いて、図４に示す有機ＥＬ表示装置２１０と同様の層を有するものである。また、第２光学異方性層２０は、上述した第２の実施態様に含まれる層である。よって、これらの各層には同一の符号を付し、その説明は省略する。
第２光学異方性層２０が含まれることにより、本発明の効果がより優れる。
なお、有機ＥＬ表示装置３１０において、偏光子１２の吸収軸の方向、第１光学異方性層１４Ｂの面内遅相軸およびλ／４板１６の面内遅相軸の方向の相互関係は、上述した有機ＥＬ表示装置２１０における各軸と同じ相互関係を満たす。また、有機ＥＬ表示装置３１０は、上述した有機ＥＬ表示装置１０が有していてもよい他の層を有していてもよい。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。

［実施例１］
＜円偏光板１の作製＞
＜保護膜の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープ１を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
エステルオリゴマー（化合物１−１） １０質量部
耐久性改良剤（化合物１−２） ４質量部
紫外線吸収剤（化合物１−３） ３質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４３８質量部
メタノール（第２溶媒） ６５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

［外層セルロースアシレートドープ１の作製］
上記のコア層セルロースアシレートドープ１９０質量部に下記組成のマット剤分散液１を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープ１を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
メタノール（第２溶媒） １１質量部
コア層セルロースアシレートドープ１ １質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

［セルロースアシレートフィルムの作製］
上記コア層セルロースアシレートドープ１とその両側に外層セルロースアシレートドープ１とを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した。溶媒含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、残留溶媒が３〜１５質量％の状態で、横方向に１．２倍延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、厚さ２５μｍのセルロースアシレートフィルムを作製し偏光板保護膜０１とした。

＜ハードコート層の作製＞
ハードコート層形成用の塗布液として、下記表１に記載のハードコート用硬化性組成物１を調製した。

上記ハードコート用硬化性組成物１を、上記にて作製した偏光板保護膜０１の表面上へ塗布し、その後、１００℃で６０秒乾燥し、窒素０．１％以下の条件でＵＶ（紫外線）を１．５ｋＷ、３００ｍＪにて照射し、硬化させ、厚み３μｍのハードコート層を有するハードコート層付保護膜０１を作製した。なお、ハードコート層の膜厚の調整は、スロットダイを用い、ダイコート法において塗布量を調整することにより行った。

＜片面保護膜付偏光板０１の作製＞
１）フィルムのケン化
作製したハードコート層付保護膜０１を３７℃に調温した４．５ｍｏｌ/Ｌの水酸化ナトリウム水溶液（ケン化液）に１分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、さらに水洗浴に通した。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、ケン化処理したハードコート層付保護膜０１を作製した。
２）偏光子の作製
特開２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、乾燥条件を変更して、２対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸し、幅１３３０ｍｍ、厚みは１５μｍの偏光子を調製した。このようにして作製した偏光子を偏光子１とした。
３）貼り合わせ
このようにして得た偏光子１と、ケン化処理したハードコート層付保護膜０１とを、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）（（株）クラレ製、ＰＶＡ−１１７Ｈ）３質量％水溶液を接着剤として、偏光子１の吸収軸とフィルム（ハードコート層付保護膜０１）の長手方向とが平行となるようにロールツーロールで貼りあわせて片面保護膜付偏光板０１（以後、単に偏光板０１とも称する）を作製した。
このとき、保護膜のセルロースアシレートフィルム側が、偏光子側になるように貼り合わせた。

＜片面保護膜付偏光板０２の作製＞
偏光板０１の作製において、偏光子の作製に使用する原反の厚みを変更することで厚み８μｍの偏光子を調製し、さらに乾燥条件を変更した以外は、片面保護膜付偏光板０１と同様の方法で片面保護膜付偏光板０２（以後、単に偏光板０２とも称する）を作製した。

＜第１光学異方性層の形成＞
偏光板０１の偏光子側表面に、偏光子の吸収軸と平行方向にラビング処理を施した。ラビング処理面上に下記光学異方性層用塗布液Ａ−１を塗布した。次いで、膜面温度６０℃で６０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度６０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、５００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第１光学異方性層を形成した。形成された第１光学異方性層は、棒状液晶化合物が水平配向しており、面内遅相軸方向はラビング方向と平行方向、すなわち、面内遅相軸方向は偏光子の吸収軸方向に対して平行方向であった。別途用意したガラス板上に第１光学異方性層を形成し、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅ（５５０）が２５０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が１２５ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．７７であった。

──────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液Ａ−１の組成
──────────────────────────────────
棒状液晶化合物１ ８０質量部
棒状液晶化合物２ ２０質量部
光重合開始剤１ ３．０質量部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ（株）製）
含フッ素化合物１ １．０質量部
密着改良剤１ ０．５質量部
架橋性ポリマー１ １．２質量部
メチルエチルケトン ２４７質量部
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棒状液晶化合物１

棒状液晶化合物２

光重合開始剤１

上記表２中の「含フッ素化合物１」欄、および、「含フッ素化合物２」欄の数値は、各繰り返し単位の含有モル％を表す。

密着改良剤１

架橋性ポリマー１

＜λ／４板の形成＞
偏光板０１上に形成した第１光学異方性層の上に、偏光子の吸収軸に対して４５°方向にラビング処理を施した。ラビング処理面上に下記光学異方性層用塗布液Ｂ−１を塗布した。次いで、膜面温度６０℃で６０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度６０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、５００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することによりλ／４板を形成した。形成されたλ／４板は、棒状液晶化合物が水平配向しており、面内遅相軸方向はラビング方向と平行方向、すなわち、面内遅相軸方向は偏光子の吸収軸方向に対して４５°方向であった。別途用意したガラス板上にλ／４板を形成し、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅ（５５０）が１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が６９ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．７７、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０５であった。

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光学異方性層用塗布液Ｂ−１の組成
──────────────────────────────────
棒状液晶化合物１ ８０質量部
棒状液晶化合物２ ２０質量部
光重合開始剤１ ３．０質量部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ（株）製）
含フッ素化合物１ １．０質量部
架橋性ポリマー１ １．２質量部
メチルエチルケトン ２４７質量部
──────────────────────────────────

＜第２光学異方性層の形成＞
偏光板０１上に形成したλ／４板の上に、下記光学異方性層用塗布液Ｃ−１を塗布し、６０℃で６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化し、第２光学異方性層を形成した。形成された第２光学異方性層では、棒状液晶化合物が垂直配向していた。別途用意したガラス板上に第２光学異方性層を形成し、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅ（５５０）が０．１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が−６５ｎｍ、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）が０．７７であった。

──────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液Ｃ−１の組成
──────────────────────────────────
棒状液晶化合物１ ８０質量部
棒状液晶化合物２ ２０質量部
垂直配向剤１ １．０質量部
垂直配向剤２ ０．５質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート ８質量部
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）
光重合開始剤１ ３．０質量部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ（株）製）
含フッ素化合物２ ０．４質量部
メチルエチルケトン ２６３質量部
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垂直配向剤１

垂直配向剤２

［実施例２］
＜円偏光板２の作製＞
第１光学異方性層の形成において、光学異方性層用塗布液Ａ−１を下記光学異方性層用塗布液Ａ−２に変更した以外は、実施例１と同様にして、円偏光板２を作製した。別途用意したガラス板上に第１光学異方性層を形成し、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅ（５５０）が２５０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が１２５ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０９であった。
──────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液Ａ−２の組成
──────────────────────────────────
棒状液晶化合物２ ８０質量部
棒状液晶化合物３ ２０質量部
光重合開始剤１ ３．０質量部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ（株）製）
含フッ素化合物１ １．０質量部
密着改良剤１ ０．５質量部
架橋性ポリマー１ １．２質量部
メチルエチルケトン ２４７質量部
──────────────────────────────────

棒状液晶化合物３

［実施例３］
＜円偏光板３の作製＞
第２光学異方性層の形成において、光学異方性層用塗布液Ｃ−１を下記光学異方性層用塗布液Ｃ−３に変更した以外は、実施例２と同様にして、円偏光板３を作製した。別途用意したガラス板上に第２光学異方性層を形成し、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅ（５５０）が０．１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が−６５ｎｍ、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）が１．０９であった。
──────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液Ｃ−３の組成
──────────────────────────────────
棒状液晶化合物２ ８０質量部
棒状液晶化合物３ ２０質量部
垂直配向剤１ １．０質量部
垂直配向剤２ ０．５質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート ８質量部
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）
光重合開始剤１ ３．０質量部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ（株）製）
含フッ素化合物２ ０．４質量部
メチルエチルケトン ２６３質量部
──────────────────────────────────

［実施例４］
＜円偏光板４の作製＞
第２光学異方性層の形成において、塗布膜厚を変更した以外は実施例３と同様にして、円偏光板４を作製した。

［実施例５］
＜円偏光板５の作製＞
第２光学異方性層の形成において、塗布膜厚を変更した以外は実施例３と同様にして、円偏光板５を作製した。

［実施例６］
（第１光学異方性層を形成した剥離性支持体Ａ−６の作製）
（配向膜の形成）
アルカリ鹸化処理してない市販のセルロースアシレートフィルム「フジタックＴＤ６０ＵＬ」（富士フイルム（株）製）に、下記組成の配向膜塗布液Ｏ−６を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥することで、剥離性支持体上に配向膜Ｏ−６を形成した。

――――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜塗布液Ｏ−６の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記変性ポリビニルアルコール１ １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．５質量部
クエン酸エステル（三協化学（株）製 ＡＳ３） ０．１７５質量部
光重合開始剤（イルガキュア２９５９、チバ・ジャパン製） ２．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

[変性ポリビニルアルコール１]

（第１光学異方性層Ａ−６の形成）
上記作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と平行方向にラビング処理を施した。
棒状液晶化合物を含む光学異方性層用塗布液Ａ−２を、上記作製した配向膜上に＃２．２のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は２６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥および棒状液晶化合物の配向熟成のために、塗膜を６０℃の温風で６０秒間加熱し、６０℃にてＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化することで、第１光学異方性層Ａ−６を形成した剥離性支持体Ａ−６を作製した。別途用意したガラス板上に第１光学異方性層Ａ−６を形成し、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅ（５５０）が２５０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が１２５ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０９であった。

（λ／４板を形成した剥離性支持体Ｂ−６の作製）
第１光学異方性層を形成した剥離性支持体Ａ−６の作製と同様の手順で、配向膜Ｏ−６を有する剥離性支持体を作製した。次に、配向膜Ｏ−６上に、長尺状のフィルムの長手方向と４５°方向にラビング処理を施し、ラビング処理面上に下記光学異方性層用塗布液Ｂ−６を塗布した。次いで、塗膜を膜面温度６０℃で６０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度６０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、５００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することによりλ／４板Ｂ−６を形成した。形成されたλ／４板Ｂ−６では、棒状液晶化合物が水平配向しており、面内遅相軸方向はラビング方向と平行方向、すなわち、長尺状のフィルムの長手方向と４５°方向であった。別途用意したガラス板上にλ／４板Ｂ−６を形成し、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅ（５５０）が１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が６９ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．８４、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０４であった。

──────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液Ｂ−６の組成
──────────────────────────────────
棒状液晶化合物１ ７５質量部
棒状液晶化合物２ ２５質量部
光重合開始剤１ ３．０質量部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ（株）製）
含フッ素化合物１ １．０質量部
架橋性ポリマー１ １．２質量部
メチルエチルケトン ２４７質量部
──────────────────────────────────

（第２光学異方性層を形成した剥離性支持体Ｃ−６の作製）
第１光学異方性層を形成した剥離性支持体Ａ−６の作製と同様の手順で、配向膜Ｏ−６を有する剥離性支持体を作製した。次に、配向膜Ｏ−６上に、光学異方性層用塗布液Ｃ−３を塗布し、塗膜を６０℃で６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化し、第２光学異方性層Ｃ−６を形成した。形成された第２光学異方性層Ｃ−６では、棒状液晶化合物が垂直配向していた。別途用意したガラス板上に第２光学異方性層Ｃ−６を形成し、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅ（５５０）が０．１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が−６５ｎｍ、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）が１．０９であった。

＜円偏光板６の作製＞
偏光板０１の偏光子側表面と、剥離性支持体Ａ−６の第１光学異方性層Ａ−６側の面とを接着剤を用いて連続的に貼り合せ、同時にセルロースアシレートフィルムと配向膜との間で剥離させた。続いて、偏光板０１の第１光学異方性層Ａ−６側の面と、剥離性支持体Ｂ−６のλ／４板Ｂ−６側の面とを接着剤を用いて連続的に貼り合せ、同時にセルロースアシレートフィルムと配向膜との間で剥離させた。さらに、偏光板０１のλ／４板Ｂ−６側の面と、剥離性支持体Ｃ−６の第２光学異方性層Ｃ−６側の面とを接着剤を用いて連続的に貼り合せ、同時にセルロースアシレートフィルムと配向膜との間で剥離させた。このようにして長尺状の円偏光板６を作製した。

［実施例７］
＜円偏光板７の作製＞
λ／４板の形成において、光学異方性層用塗布液Ｂ−１を下記光学異方性層用塗布液Ｂ−７に変更した以外は、実施例３と同様にして、円偏光板７を作製した。別途用意したガラス板上にλ／４板を形成し、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅ（５５０）が１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が６９ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．８８、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０３であった。

──────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液Ｂ−７の組成
──────────────────────────────────
棒状液晶化合物１ ７０質量部
棒状液晶化合物２ ３０質量部
光重合開始剤１ ３．０質量部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ（株）製）
含フッ素化合物１ １．０質量部
架橋性ポリマー１ １．２質量部
メチルエチルケトン ２４７質量部
──────────────────────────────────

［実施例８］
＜円偏光板８の作製＞
第１光学異方性層の形成において、塗布膜厚を変更した以外は実施例３と同様にして、円偏光板８を作製した。

［実施例９］
＜円偏光板９の作製＞
第１光学異方性層の形成において、塗布膜厚を変更した以外は実施例３と同様にして、円偏光板９を作製した。

［実施例１０］
＜円偏光板１０の作製＞
偏光板０１を偏光板０２に変更した以外は実施例３と同様にして、円偏光板１０を作製した。

［実施例１１］
＜円偏光板１１の作製＞
第１光学異方性層の形成において、偏光板０１の偏光子側表面に、偏光子の吸収軸に対して直交方向にラビング処理を施し、さらに、光学異方性層用塗布液Ａ−２を下記光学異方性層用塗布液Ａ−１１に変更した以外は、実施例３と同様にして、円偏光板１１を作製した。

下記の組成の円盤状（ディスコティック）液晶化合物を含む塗布液Ａ−１１を上記ラビング処理を施した偏光子上にワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は３６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥および円盤状液晶化合物の配向熟成のために、塗膜を１２０℃の温風で９０秒間加熱し、続いて、８０℃にてＵＶ照射を行い、円盤状液晶化合物の配向を固定化して、第１光学異方性層を形成した。形成された第１光学異方性層の面内遅相軸方向はラビング方向と平行方向、すなわち、面内遅相軸方向は偏光子の吸収軸方向に対して直交方向であった。別途用意したガラス板上に第１光学異方性層を形成し、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅ（５５０）が２５０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が−１２５ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．１９であった。

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光学異方性層用塗布液Ａ−１１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記ディスコティック液晶性化合物 ９１質量部
下記アクリレートモノマー ５質量部
光重合開始剤１ ３．０質量部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ（株）製）
下記のピリジニウム塩 ０．５質量部
下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ１） ０．２質量部
下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ３） ０．１質量部
メチルエチルケトン １８９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

アクリレートモノマー：
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）

［実施例１２］
＜円偏光板１２の作製＞
λ／４板の形成において、光学異方性層用塗布液Ｂ−１を光学異方性層用塗布液Ｂ−７に変更した以外は、実施例１１と同様にして、円偏光板１２を作製した。

［実施例１３］
＜円偏光板１３の作製＞
λ／４板の形成において、塗布膜厚を変更した以外は実施例３と同様にして、円偏光板１３を作製した。

［実施例１４］
＜円偏光板１４の作製＞
λ／４板の形成において、塗布膜厚を変更した以外は実施例３と同様にして、円偏光板１３を作製した。

［実施例１５］
＜円偏光板１５の作製＞
λ／４板の形成において、塗布膜厚を変更した以外は実施例１１と同様にして、円偏光板１５を作製した。

［実施例１６］
＜円偏光板１６の作製＞
λ／４板の形成において、塗布膜厚を変更した以外は実施例１１と同様にして、円偏光板１６を作製した。

［実施例１７］
＜円偏光板１７の作製＞
第２光学異方性層を形成しなかった以外は実施例３と同様にして、円偏光板１７を作製した。

［実施例１８］
＜光学異方性層Ａを形成した剥離性支持体Ａ−１８の作製＞
（光学異方性層Ａの形成）
円偏光板６の作製と同様にして、剥離性支持体上に配向膜Ｏ−６を形成した。作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が７５°（時計回り）とした（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１５°）。
下記の組成の円盤状（ディスコティック）液晶化合物を含む光学異方性層用塗布液Ａ−１８を上記作製した配向膜上にワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度は２６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥およびディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、塗膜を１３０℃の温風で９０秒間、続いて、１００℃の温風で６０秒間加熱し、８０℃にてＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層Ａを形成した。光学異方性層Ａでは、円盤状液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、円盤状液晶化合物がフィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。また、光学異方性層Ａの面内遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と平行で、フィルム長手方向を９０°（フィルム幅方向を０°）とすると、１５°であった。

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光学異方性層用塗布液Ａ−１８の組成
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ディスコティック液晶化合物２ ８０質量部
ディスコティック液晶化合物３ ２０質量部
配向膜界面配向剤１ ０．５５質量部
配向膜界面配向剤２ ０．０５質量部
含フッ素化合物３ ０．１質量部
変性トリメチロールプロパントリアクリレート １０質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ（株）製） ３質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

ディスコティック液晶化合物２

ディスコティック液晶化合物３

配向膜界面配向剤１

配向膜界面配向剤２

含フッ素化合物３

＜光学異方性層Ｂを形成した剥離性支持体Ｂ−１８の作製＞
（光学異方性層Ｂの形成）
円偏光板６の作製と同様にして、剥離性支持体上に配向膜Ｏ−６を形成した。作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が１０５°（時計回り）とした（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は−１５°）。
下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層用塗布液Ｂ−１８を、上記作製した配向膜上にワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度は２６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥および棒状液晶化合物の配向熟成のために、塗膜を６０℃の温風で６０秒間加熱し、６０℃にてＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層Ｂを形成した。光学異方性層Ｂでは、棒状液晶化合物の長軸のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、液晶化合物がフィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。また、光学異方性層Ｂの面内遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と直交で、フィルム長手方向を９０°（フィルム幅方向を０°）とすると、７５°であった。

――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液Ｂ−１８の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
棒状液晶化合物２ ８０質量部
棒状液晶化合物３ ２０質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ（株）製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
含フッ素化合物４ ０．３質量部
メチルエチルケトン １９３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

含フッ素化合物４

＜円偏光板１８の作製＞
円偏光板３の作製と同様の手順で、偏光板０１の偏光子側表面に、偏光子の吸収軸と平行方向にラビング処理を施して、ラビング処理面上に光学異方性層用塗布液Ａ−２を塗布し、偏光子上に第１光学異方性層を形成した。偏光板０１の第１光学異方性層側の面と、剥離性支持体Ａ−１８の光学異方性層Ａの面とを接着剤を用いて連続的に貼り合せ、同時に前述の剥離性支持体をセルロースアシレートフィルムと配向膜との間で剥離させた。このとき、偏光子の吸収軸は、偏光板の長手方向と一致しており、偏光子の吸収軸と光学異方性層Ａの面内遅相軸とのなす角度が７５°であった。
次いで、偏光板０１上の光学異方性層Ａ側の面と、剥離性支持体Ｂ−１８の光学異方性層Ｂの面とを接着剤を用いて連続的に貼り合せ、同時に前述の剥離性支持体をセルロースアシレートフィルムと配向膜との間で剥離させた。このとき、偏光子の吸収軸は、偏光板の長手方向と一致しており、偏光子の吸収軸と光学異方性層Ｂの面内遅相軸とのなす角度が１５°であった。なお、光学異方性層Ａの面内遅相軸と光学異方性層Ｂの面内遅相軸とのなす角は６０°であった。
さらに、円偏光板６と同様の手順で、第２光学異方性層を形成した剥離性支持体Ｃ−６を用意した。偏光板０１上の光学異方性層Ｂ側の面と、剥離性支持体Ｃ−６の光学異方性層の面とを接着剤を用いて連続的に貼り合せ、同時に前述の剥離性支持体をセルロースアシレートフィルムと配向膜との間で剥離させた。このようにして、円偏光板１８を作製した。
なお、上記光学異方性層Ａおよび上記光学異方性層Ｂの積層体は、いわゆる広帯域λ／４板に該当する。なお、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂの積層体を一つのλ／４板として考慮した場合、そのλ／４板の面内遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は４５°であった。

［比較例１］
＜円偏光板２１の作製＞
円偏光板１の作製と同様の手順で偏光板０１を用意した。偏光板０１の偏光子側表面に、偏光子の吸収軸に対して４５°方向にラビング処理を施し、実施例１と同様の手順で上記光学異方性層用塗布液Ｂ−１を塗布して、λ／４板を形成した。次いで、実施例３と同様の手順で上記光学異方性層用塗布液Ｃ−３を塗布して、第２光学異方性層を形成することで、円偏光板２１を作製した。
比較例１では、第１光学異方性層が含まれない。

［比較例２］
＜円偏光板２２の作製＞
偏光板０１の偏光子側表面に、偏光子の吸収軸に対して垂直方向にラビング処理を施して、ラビング処理面上に光学異方性層用塗布液Ａ−１を塗布した以外は、実施例１と同様の手順で、円偏光板２２を作製した。

［比較例３］
＜円偏光板２３の作製＞
偏光板０１の偏光子側表面に、偏光子の吸収軸に対して直交方向にラビング処理を施して、ラビング処理面上に第１光学異方性層を形成した以外は、実施例３と同様の手順で、円偏光板２３を作製した。

［比較例４］
＜円偏光板２４の作製＞
偏光板０１の偏光子側表面に、偏光子の吸収軸に対して平行方向にラビング処理を施した以外は、実施例１１と同様の手順で、円偏光板２４を作製した。

［比較例５］
＜円偏光板２５の作製＞
λ／４板の形成において、塗布膜厚を変更した以外は比較例１と同様にして、円偏光板２５を作製した。

［比較例６］
＜円偏光板２６の作製＞
λ／４板の形成において、塗布膜厚を変更した以外は比較例１と同様にして、円偏光板２６を作製した。

［比較例７］
＜円偏光板２７の作製＞
第２光学異方性層を形成しなかった以外は比較例１と同様にして、円偏光板２７を作製した。
なお、円偏光板２７は、特許文献１で開示される態様に該当する。

［比較例８］
＜円偏光板２８の作製＞
実施例１８の作製において、第１光学異方性層を形成しなかった以外は、実施例１８と同様の手順で、円偏光板２８を作製した。すなわち、円偏光板２８は、偏光板０１の偏光子上に、光学異方性層Ａ、光学異方性層Ｂ、第２光学異方性層が順に形成された偏光板である。

＜有機ＥＬ表示パネルへの実装および表示性能の評価＞
（有機ＥＬ表示装置への実装）
有機ＥＬパネル搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ ＩＶを分解し、円偏光板を剥離して、実施例１〜１８および比較例１〜８の円偏光板を有機ＥＬ表示パネル上に貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製した。

（表示性能の評価）
作製した有機ＥＬ表示装置について、明光下にて視認性および表示品位を評価した。外光反射光が最も視認されやすい黒表示にて、正面および極角４５度から蛍光灯を映し込んだときの反射光を観察した。正面方向および視野角方向（極角４５度）の表示品位を下記の基準で評価した。結果を表３にまとめて示す。
４：反射光がごくわずかに視認されるものの、色味付きは全く視認されない。（許容）
３：反射光がわずか視認されるが、色味付きは目立たない。（許容）
２：反射光が視認され、色味差も目立ち、許容できない。
１：反射光が強く視認され、許容できない。

表３中、「分散」欄は、第１光学異方性層（または、第２光学異方性層）が順波長分散性を示す場合は「順」、逆波長分散性を示す場合は「逆」と示す。
表３中、「偏光子吸収軸となす角度（°）」欄は、第１光学異方性層（または、λ／４板、光学異方性層Ａ、光学異方性層Ｂ）の面内遅相軸と、偏光子の吸収軸とのなす角度を表す。
表３中、「Ｒｅ波長分散（４５０／５５０）」欄は、波長４５０ｎｍおよび５５０ｎｍで測定した第１光学異方性層（または、λ／４板、光学異方性層Ａ、光学異方性層Ｂ）の面内レタデーション値であるＲｅ（４５０）およびＲｅ（５５０）の比（Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））を表す。
表３中、「Ｒｅ波長分散（６５０／５５０）」欄は、波長６５０ｎｍおよび５５０ｎｍで測定した第１光学異方性層（または、λ／４板、光学異方性層Ａ、光学異方性層Ｂ）の面内レタデーション値であるＲｅ（６５０）およびＲｅ（５５０）の比（Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０））を表す。
表３中、「Ｒｅ（ｎｍ）」欄は、波長５５０ｎｍで測定した第１光学異方性層（または、λ／４板、第２光学異方性層、光学異方性層Ａ、光学異方性層Ｂ）の面内レタデーション値を表す。
表３中、「Ｒｔｈ（ｎｍ）」欄は、波長５５０ｎｍで測定した第１光学異方性層（または、λ／４板、第２光学異方性層、光学異方性層Ａ、光学異方性層Ｂ）の厚み方向のレタデーション値を表す。
表３中、「Ｒｔｈ波長分散（４５０／５５０）」欄は、波長４５０ｎｍおよび５５０ｎｍで測定した第２光学異方性層の厚み方向のレタデーション値であるＲｔｈ（４５０）およびＲｔｈ（５５０）の比（Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０））を表す。
表３中、「Ｒｔｈ波長分散（６５０／５５０）」欄は、波長６５０ｎｍおよび５５０ｎｍで測定した第２光学異方性層の厚み方向のレタデーション値であるＲｔｈ（６５０）およびＲｔｈ（５５０）の比（Ｒｔｈ（６５０）／Ｒｔｈ（５５０））を表す。
表３中、「式（Ｙ）の関係を満たすか」欄は、上述した式（Ｙ）の関係を満たす場合を「Ａ」、満たさない場合を「Ｂ」として表す。

表３に示すように、本発明の有機ＥＬ表示装置は、正面方向のみならず、斜め方向から視認した際にも、外光反射および色味付きが抑制されていた。
特に、実施例３〜５の比較より、第２光学異方性層のＲｔｈ（５５０）が−９０〜−４０ｎｍである場合、より優れた効果が得られることが確認された。
また、実施例３および実施例８〜９の比較より、第１光学異方性層のＲｅ（５５０）が２００〜３００ｎｍである場合、より優れた効果が得られることが確認された。
また、実施例３および実施例１３〜１４の比較より、λ／４板のＲｅ（５５０）が１３０〜１４５ｎｍである場合、より優れた効果が得られることが確認された。
また、実施例３と１７との比較より、第２光学異方性層がある場合、より優れた効果が得られることが確認された。
また、実施例６と７との比較より、λ／４板のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．８６以下の場合、より優れた効果が得られることが確認された。

一方、第１光学異方性層がない比較例１および５〜７、並びに、第１光学異方性層の面内遅相軸と偏光子の吸収軸との関係（平行または直交）を満たしていない比較例２〜４においては、所望の効果が得られなかった。

１０，１１０，２１０，３１０ 有機ＥＬ表示装置
１２ 偏光子
１４Ａ，１４Ｂ 第１光学異方性層
１６ λ／４板
１８ 有機ＥＬ表示パネル
２０ 第２光学異方性層

Claims (10)

1. 視認側から、偏光子、第１光学異方性層、λ／４板、および、有機ＥＬ表示パネルをこの順で有し、
   前記偏光子の吸収軸と、前記λ／４板の面内遅相軸とのなす角度が４５±３°の範囲にあり、
   前記第１光学異方性層のＮｚファクターが−０．１以上１．１以下であり、
   前記第１光学異方性層のＮｚファクターが０．５以上１．１以下である場合は前記偏光子の吸収軸と前記第１光学異方性層の面内遅相軸とが平行になるように配置され、
   前記第１光学異方性層のＮｚファクターが−０．１以上０．５未満である場合は前記偏光子の吸収軸と前記第１光学異方性層の面内遅相軸とが直交するように配置され、
   波長５５０ｎｍで測定した前記第１光学異方性層の面内レタデーション値であるＲｅ（５５０）が以下の式（Ｘ）を満足する、有機ＥＬ表示装置。
   式（Ｘ） １００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦４５０ｎｍ
2. 前記第１光学異方性層の平均屈折率と前記偏光子の平均屈折率とが以下の式（Ｙ）の関係を満たす、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
   式（Ｙ） 第１光学異方性層の平均屈折率−偏光子の平均屈折率≧０．０３
3. 前記第１光学異方性層が、液晶化合物を含む、請求項１または２に記載の有機ＥＬ表示装置。
4. 前記第１光学異方性層のＮｚファクターが０．５以上１．１以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
5. 前記第１光学異方性層が、棒状液晶化合物を含む、請求項４に記載の有機ＥＬ表示装置。
6. 前記第１光学異方性層のＮｚファクターが−０．１以上０．５未満である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
7. 前記第１光学異方性層が、円盤状液晶化合物を含む、請求項６に記載の有機ＥＬ表示装置。
8. 前記λ／４板が、逆波長分散性を示す、請求項１〜７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
9. 前記λ／４板が、液晶化合物を含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
10. 前記λ／４板と前記有機ＥＬ表示パネルとの間に第２光学異方性層を有し、
    波長５５０ｎｍで測定した前記第２光学異方性層の面内レタデーション値であるＲｅ（５５０）が０〜１０ｎｍであり、
    波長５５０ｎｍで測定した前記第２光学異方性層の厚み方向のレタデーション値であるＲｔｈ（５５０）が−９０〜−４０ｎｍである、請求項１〜９のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。