JP6640847B2 - 有機エレクトロルミネッセンス表示装置 - Google Patents
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Description
円偏光板としては、λ/2板およびλ/4板からなる位相差板(いわゆる広帯域のλ/4板)と、偏光子とを組み合わせた態様が好適に使用されている(特許文献1参照)。
特に、有機EL表示装置には、タッチパネルまたはガスバリア層などの各種機能部材が配置される場合が多く、このような場合でも上述した黒色の視認性の向上が求められている。
本発明者は、上記問題についてさらに検討したところ、機能部材中において比較的高い屈折率を示す層(高屈折率層)が含まれる場合において、上記問題が生じることを知見している。
すなわち、以下の構成により上記目的を達成することができることを見出した。
一対の電極およびその間に挟まれた有機発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス表示素子と、を少なくとも含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
円偏光板と、一対の電極のうち視認側に位置する電極との間に、屈折率が1.7超2.1未満の高屈折率層が配置され、
円偏光板が、視認側から、偏光子と、λ/2板と、λ/4板とをこの順に有し、
λ/2板の波長550nmにおける厚さ方向のレタデーションRthA(550)が−120nm超−40nm未満の範囲であり、
λ/4板の波長550nmにおける厚さ方向のレタデーションRthB(550)が−60nm超20nm未満の範囲である、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
(2) RthA(550)が、−120nm超−90nm以下の範囲である、(1)に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
(3) λ/2板およびλ/4板が、以下の要件1または要件2を満たす、(1)または(2)に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
要件1:ポリマーフィルムからなる光学異方性層を含まない。
要件2:波長550nmにおける厚さ方向のレタデーションRthC(550)が0〜20nmを示す、ポリマーフィルムからなる光学異方性層を含む。
(4) 円偏光板と有機エレクトロルミネッセンス表示素子との間に、タッチパネルが含まれ、
タッチパネルに高屈折率層が含まれる、(1)〜(3)のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
(5) 高屈折率層が、タッチパネルの透明電極層を構成する、(4)に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
(6) 円偏光板と有機エレクトロルミネッセンス表示素子との間に、ガスバリア層が含まれ、
ガスバリア層に高屈折率層が含まれる、(1)〜(3)のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
Rth(λ)は、上記Re(λ)を、面内の遅相軸(KOBRA 21ADH、またはWRにより判断される)を傾斜軸(回転軸)として(遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする)のフィルム法線方向に対して法線方向から片側50°まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて全部で6点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADHまたはWRが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレタデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレタデーション値はその符号を負に変更した後、KOBRA 21ADH、またはWRが算出する。なお、遅相軸を傾斜軸(回転軸)として(遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする)、任意の傾斜した2方向からレタデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、および入力された膜厚値を基に、以下の式(A)、および式(B)よりRthを算出することもできる。
Rth=((nx+ny)/2−nz)×d・・・・・・・・・・式(B)
また、本明細書において、角度(例えば「90°」等の角度)、およびその関係(例えば「直交」、「平行」、「45°」および「90°」等)については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±10°以下の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、5°以下であることが好ましく、3°以下であることがより好ましい。例えば、直交の場合、90°±10°の範囲(80〜100°)であればよい。
Aプレートは、ポジティブAプレート(正のAプレート)とネガティブAプレート(負のAプレート)との2種があり、フィルム面内の遅相軸方向(面内での屈折率が最大となる方向)の屈折率をnx、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をny、厚さ方向の屈折率をnzとしたとき、ポジティブAプレートは式(A1)の関係を満たすものであり、ネガティブAプレートは式(A2)の関係を満たすものである。なお、ポジティブAプレートはRthが正の値を示し、ネガティブAプレートはRthが負の値を示す。
式(A1) nx>ny≒nz
式(A2) ny<nx≒nz
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、(ny−nz)×d(ただし、dはフィルムの厚みである)が、−10〜10nm(好ましくは−5〜5nm)の場合も「ny≒nz」に含まれ、(nx−nz)×dが、−10〜10nm(好ましくは−5〜5nm)の場合も「nx≒nz」に含まれる。
Cプレートは、ポジティブCプレート(正のCプレート)とネガティブCプレート(負のCプレート)との2種があり、ポジティブCプレートは式(C1)の関係を満たすものであり、ネガティブCプレートは式(C2)の関係を満たすものである。なお、ポジティブCプレートはRthが負の値を示し、ネガティブCプレートはRthが正の値を示す。
式(C1) nz>nx≒ny
式(C2) nz<nx≒ny
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、(nx−ny)×d(ただし、dはフィルムの厚みである)が、0〜10nm(好ましくは0〜5nm)の場合も「nx≒ny」に含まれる。
本発明の効果が得られる理由の詳細は不明だが、以下のように推測される。
まず、有機EL表示素子上には、タッチパネルまたはガスバリア膜のような機能部材が配置される場合が多く、そのような機能部材中には所定の屈折率を示す高屈折率層が含まれる場合が多い。このような高屈折率層が含まれる有機EL表示装置に対して斜め方向から光が入射すると、高屈折率層の表面にて光の反射や干渉が生じやすく、結果として高屈折率層を透過する光の特性が変わり、特許文献1の円偏光板では斜め方向からの黒色の視認性を十分に改善することができなかった。
そこで、本発明では、上記高屈折率層の影響を考慮した、所定の光学特性を示すλ/2板およびλ/4板を使用することにより、上記のような高屈折率層がある有機EL表示装置においても、所望の効果が得られることを知見している。
以下に、本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置(有機EL表示装置)の第1の実施態様について図面を参照して説明する。図1に、本発明の有機EL表示装置の第1の実施態様の断面図を示す。なお、本発明における図は模式図であり、各層の厚みの関係や位置関係などは必ずしも実際のものとは一致しない。以下の図も同様である。
有機EL表示装置10は、視認側から、円偏光板18と、タッチパネル20と、有機EL表示素子22とをこの順で有する。なお、図1中、上側が視認側に該当する。円偏光板18は、視認側から、偏光子12と、λ/2板14と、λ/4板16とをこの順で有する。
以下、有機EL表示装置10に含まれる各部材について詳述する。
円偏光板18は、偏光子12と、λ/2板14と、λ/4板16とをこの順で有する。以下、これらについて詳述する。
偏光子12は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材(直線偏光子)であればよく、主に、吸収型偏光子および反射型偏光子を利用することができる。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子などが用いられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子があり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
また、基材上にポリビニルアルコール層を配置した積層フィルムに延伸および染色を施すことで偏光子を得る方法として、特許第5048120号公報、特許第5143918号公報、特許第5048120号公報、特許第4691205号公報、特許第4751481号公報、特許第4751486号公報を挙げることができ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用することができる。
反射型偏光子としては、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子、ワイヤーグリッド型偏光子、選択反射域を有するコレステリック液晶と1/4波長板とを組み合わせた偏光子などが用いられる。
なかでも、取り扱い性の点から、ポリビニルアルコール系樹脂(−CH2−CHOH−を繰り返し単位として含むポリマー、特に、ポリビニルアルコールおよびエチレン−ビニルアルコール共重合体からなる群から選択される少なくとも1つが好ましい。)を含む偏光子であることが好ましい。
λ/2板14は、特定の波長λnmにおける面内レタデーションRe(λ)がRe(λ)≒λ/2を満たす光学異方性層のことをいう。この式は、可視光域のいずれかの波長(例えば、550nm)において達成されていればよい。なかでも、波長550nmにおける面内レタデーションRe(550)が、以下の関係を満たすことが好ましい。
210nm≦Re(550)≦300nm
なかでも、220nm≦Re(550)≦290nmを満たすことがより好ましい。
言い換えれば、λ/2板14の遅相軸と偏光子12の透過軸とのなす角度は、15±10°の範囲であることが好ましく、15±8°の範囲であることがより好ましく、15±5°の範囲であることがさらに好ましい。
なお、上記角度とは、偏光子表面の法線方向から視認した際の、λ/2板の遅相軸と偏光子の吸収軸(または、透過軸)とのなす角度を意図する。
RthA(550)が−120nm以下の場合、および、−40nm以上の場合、本発明の効果が劣る。
なお、上記厚みは平均厚みを意図し、λ/2板14の任意の5点の厚みを測定し、それらを算術平均したものである。
より具体的には、λ/2板14としては、例えば、低分子液晶化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、光架橋または熱架橋によって固定化して得られる光学異方性層、および、高分子液晶化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、冷却することによって配向を固定化して得られる光学異方性層が挙げられる。なお、本発明では、λ/2板14は、例えば、液晶化合物が重合等によって固定されて形成された層であり、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状タイプ(棒状液晶化合物)と円盤状タイプ(ディスコティック液晶化合物、円盤状液晶化合物)に分類できる。さらに、それぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が100以上のものを指す(高分子物理・相転移ダイナミクス,土井 正男 著,2頁,岩波書店,1992)。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、本発明の効果がより優れる点で、ディスコティック液晶化合物が好ましい。なお、2種以上の棒状液晶化合物、2種以上のディスコティック液晶化合物、または、棒状液晶化合物とディスコティック液晶化合物との混合物を用いてもよい。
なお、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平11−513019号公報の請求項1や特開2005−289980号公報の段落[0026]〜[0098]に記載のものを好ましく用いることができ、円盤状液晶化合物としては、例えば、特開2007−108732号公報の段落[0020]〜[0067]または特開2010−244038号公報の段落[0013]〜[0108]に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。
つまり、λ/2板14は、重合性基を有する棒状液晶化合物または重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物に含まれる重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが好ましく挙げられ、(メタ)アクリロイル基がより好ましい。なお、(メタ)アクリロイル基とは、メタアクリロイル基およびアクリロイル基の両者を包含する概念である。
例えば、所定の基板(仮基板を含む)に、重合性基を有する液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物(以後、単に「組成物」とも称する)を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜に対して硬化処理(紫外線の照射(光照射処理)または加熱処理)を施すことにより、λ/2板14を製造できる。なお、必要に応じて、後述する配向層を用いてもよい。
上記組成物の塗布としては、公知の方法(例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法)により実施できる。
例えば、組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、光重合開始剤が挙げられる。例えば、光重合開始剤としては、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、トリアリールイミダゾールダイマーとp−アミノフェニルケトンとの組み合わせなどが挙げられる。
重合開始剤の使用量は、組成物の全固形分に対して、0.01〜20質量%であることが好ましく、0.5〜5質量%であることがより好ましい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開2002−296423号公報中の段落[0018]〜[0020]に記載のものが挙げられる。
重合性モノマーの添加量は、液晶化合物の全質量に対して、1〜50質量%であることが好ましく、2〜30質量%であることがより好ましい。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開2001−330725号公報中の段落[0028]〜[0056]に記載の化合物、特願2003−295212号明細書中の段落[0069]〜[0126]に記載の化合物が挙げられる。
λ/4板16(λ/4機能を有する板)とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に(または、円偏光を直線偏光に)変換する機能を有する板である。より具体的には、所定の波長λnmにおける面内レタデーション値がRe(λ)≒λ/4(または、この奇数倍)を示す板である。この式は、可視光域のいずれかの波長(例えば、550nm)において達成されていればよいが、波長550nmにおける面内レタデーションRe(550)が、以下の関係を満たすことが好ましい。
100nm≦Re(550)≦160nm
なかでも、110nm≦Re(550)≦150nmを満たすことがより好ましい。
λ/4板16の遅相軸とλ/2板14の遅相軸とのなす角度θは、60±10°の範囲であることが好ましく、60±8°の範囲であることがより好ましく、60±5°の範囲であることがさらに好ましい。
なお、上記角度とは、偏光子12表面の法線方向から視認した際の、λ/4板16の遅相軸とλ/2板14の遅相軸とのなす角度を意図する。
言い換えれば、λ/4板16の遅相軸と偏光子12の透過軸とのなす角度は、75±10°の範囲であることが好ましく、75±8°の範囲であることがより好ましく、75±5°の範囲であることがさらに好ましい。
なお、上記角度とは、偏光子12表面の法線方向から視認した際の、偏光子12の吸収軸(または、透過軸)とλ/4板16の面内遅相軸とのなす角度を意図する。
RthB(550)が−60nm以下の場合、および、20nm以上の場合、本発明の効果が劣る。
なお、上記厚みは平均厚みを意図し、λ/4板16の任意の5点の厚みを測定し、それらを算術平均したものである。
例えば、図2に示すように、円偏光板118は、偏光子12とλ/2板114とλ/4板116とを含み、λ/2板114は第1光学異方性層24と第2光学異方性層26との2層を含み、λ/4板116は第3光学異方性層28と第4光学異方性層30との2層を含む。この場合、λ/2板114全体の波長550nmにおける厚さ方向のレタデーションが上述した範囲(−120nm超−40nm未満)にあり、λ/4板116全体の波長550nmにおける厚さ方向のレタデーションが上述した範囲(−60nm超20nm未満)にある。なお、第1光学異方性層24〜第4光学異方性層30を構成する光学異方性層の種類は特に制限されず、上述したλ/2板およびλ/4板の波長550nmにおける厚さ方向のレタデーションが所定の範囲であればよいが、レタデーションの調整が容易である点から、例えば、第1光学異方性層24および第3光学異方性層28がいわゆるCプレートであることが好ましく、第2光学異方性層26および第4光学異方性層30がいわゆるAプレートであることが好ましい。
また、第2光学異方性層26の波長550nmにおける厚さ方向のレタデーションは特に制限されないが、−150〜140nmの場合が多く、−150〜0nmの場合がより多い。
また、第3光学異方性層28の波長550nmにおける厚さ方向のレタデーションは特に制限されないが、−70〜100nmの場合が多く、0〜100nmの場合がより多い。
また、第4光学異方性層30の波長550nmにおける厚さ方向のレタデーションは特に制限されないが、−80〜70nmの場合が多く、−80〜0nmの場合がより多い。
なお、上記図2においては、λ/2板およびλ/4板の両方が2層構造の態様について述べたが、この態様に限定されず、λ/2板が単層構造であり、λ/4板が複層構造である態様であってもよいし、λ/2板が複層構造であり、λ/4板が単層構造であってもよい。
また、複層構造の場合、層の数は3層以上であってもよい。
要件1:ポリマーフィルムからなる光学異方性層を含まない。
要件2:波長550nmにおける厚さ方向のレタデーションRthC(550)が0〜20nmを示す、ポリマーフィルムからなる光学異方性層を含む。
一般的に、ポリマーフィルムからなる光学異方性層は大きなRth示すためには、その厚みが厚くなる傾向がある。そのため、上記λ/2板および上記λ/4板の少なくとも一方(好ましくは、両方)には、ポリマーフィルムからなる光学異方性層が含まれない、または、ポリマーフィルムからなる光学異方性層が含まれていても、そのポリマーフィルムからなる光学異方性層の波長550nmにおける厚さ方向のレタデーションRthC(550)が0〜20nmを示すことが好ましい。
なお、ここでポリマーフィルムからなる光学異方性層とは、主成分がポリマー(樹脂)より構成される光学異方性層であり、液晶化合物は実質的に含まれない。
上記円偏光板18は、本発明の効果を損なわない範囲で、上記偏光子12、λ/2板14およびλ/4板16以外の他の層を備えていてもよい。以下に、一例を示す。
円偏光板18(特に、λ/2板およびλ/4板)には、液晶化合物の配向方向を規定する機能を有する配向膜が含まれていてもよい。
配向膜は、一般的にはポリマーを主成分とする。配向膜用ポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。利用されるポリマー材料は、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、および、その誘導体が好ましい。特に、変性または未変性のポリビニルアルコールが好ましい。本発明に使用可能な配向膜については、WO01/88574A1号公報の43頁24行〜49頁8行、特許第3907735号公報の段落[0071]〜[0095]に記載の変性ポリビニルアルコールを参照することができる。なお、配向膜には、通常、公知のラビング処理が施される。つまり、配向膜は、通常、ラビング処理されたラビング配向膜であることが好ましい。
偏光子の表面上には、偏光子保護フィルムが配置されていてもよい。偏光子保護フィルムは、偏光子の片面上(視認側の表面上)にのみ配置されていてもよいし、偏光子の両面上に配置されていてもよい。
偏光子保護フィルムの構成は特に制限されず、例えば、いわゆる透明支持体またはハードコート層であっても、透明支持体とハードコート層との積層体であってもよい。
ハードコート層としては、公知の層を使用することができ、例えば、上述した多官能モノマーを重合硬化して得られる層であってもよい。
また、透明支持体としては、公知の透明支持体を使用することができ、例えば、透明支持体を形成する材料としては、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー(以下、セルロースアシレートという)、熱可塑性ノルボルネン系樹脂(日本ゼオン(株)製のゼオネックス、ゼオノア、JSR(株)製のアートン等)、アクリル系樹脂、および、ポリエステル系樹脂を使用することができる。
偏光子保護フィルムの厚みは特に限定されないが、偏光板の厚みを薄くできる等の理由から40μm以下が好ましく、25μm以下がより好ましい。
タッチパネル20は、上述した円偏光板18と、後述する有機EL表示素子22との間に配置される機能部材であり、視認側から操作者の指などの外部導体が有機EL表示装置の視認側の表面に接触(接近)するときに、その接触位置を検出するセンサーである。
タッチパネル20の構成としては、図3に示すように、視認側から第1絶縁層50と、センサー電極を含む透明電極層(導電性層)52と、第2絶縁層54と、基板56とを備え、透明電極層52が、屈折率が1.7超2.1未満の高屈折率層に該当する。なお、タッチパネル20の構成としては、上記高屈折率層が含まれていれば、図3の態様に限定されず、公知の構成をとることができる。
なお、タッチパネルの種類は特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、表面型静電容量方式タッチパネル、投影型静電容量方式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネルなどが挙げられる。
以下では、タッチパネル20を構成する各部材について詳述する。
第1絶縁層50および第2絶縁層54を構成する材料は特に制限されず、無機物や有機物、または、無機物と有機物との混合物により形成することができる。例えば、無機物として、NaF(1.3)、Na3AlF6(1.35)、LiF(1.36)、MgF2(1.38)、CaF2(1.4)、BaF2(1.3)、SiO2(1.46)、LaF3(1.55)、CeF3(1.63)、および、Al2O3(1.63)などの無機物〔上記各材料の括弧内の数値は光の屈折率である。〕が挙げられる。これらのなかでも、SiO2、MgF2、A12O3などが好ましく用いられる。また、有機物としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマー、および、有機シラン縮合物などが挙げられる。
なお、タッチパネル20においては、第1絶縁層50および第2絶縁層54の2種の絶縁層が配置されているが、タッチパネルが動作すれば、含まれていなくてもよい。
透明電極層52は、感知部(センシング部)を構成し、パターン状の第1検出電極および第2検出電極を含み、指が接触または近接した検出電極間の静電容量変化量を検出することによって、この変化量に基づいて指先の位置をIC(integrated circuit)回路によって演算する。
第1検出電極は、第1方向(X方向)に延び、第1方向と直交する第2方向(Y方向)に配列された電極であり、所定のパターンを有する。第2検出電極は、第2方向(Y方向)に延び、第1方向(X方向)に配列された電極であり、所定のパターンを有する。なお、第1検出電極と第2検出電極とは、絶縁層を介して交差している。
上記屈折率は、反射分光膜厚計FE3000(大塚電子社製)を用いて、光干渉法により測定した。屈折率の測定波長は、550nmである。
基板56は、上述した各部材を支持する部材である。
基板56としては、いわゆる透明基板(特に、透明絶縁性基板)であることが好ましい。その具体例としては、例えば、樹脂基板、セラミックス基板、および、ガラス基板などが挙げられる。なかでも、靭性に優れる理由から、樹脂基板であることが好ましい。
樹脂基板を構成する材料としては、より具体的には、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、および、シクロオレフィン系樹脂などが挙げられる。
また、タッチパネルにおいては、上述した絶縁層、透明電極層、および、基板以外の他の部材(例えば、粘着剤層など)が含まれていてもよい。
有機EL表示素子22は、図4に示すように、視認側から陰極として機能する第1電極60と、有機発光層62と、陽極として機能する第2電極64と、基板66とをこの順で有する。つまり、有機発光層62は、第1電極60および第2電極64で挟持されている。有機EL表示装置10に入射した外光は、第1電極と透過して、第2電極表面にて反射される場合が多い。
以下では、有機EL表示素子22を構成する各部材について詳述する。
第1電極60は陰極であり、有機発光層62に電子を注入する役割を果たすものである。
第1電極60を構成する材料としては、透明または半透明の電極を構成することができる材料が好ましく、効率良く電子注入を行うには、仕事関数の低い金属が好ましく、例えば、スズ、マグネシウム、インジウム、カルシウム、アルミニウム、銀等の適当な金属またはそれらの合金が用いられる。具体例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、アルミニウム−リチウム合金等の低仕事関数合金電極を挙げることができる。
有機発光層62は、第1電極60と第2電極64とで挟持される層であり、第1電極60から注入された電子と、第2電極64から注入されたホールとが再結合することにより発光する層である。
有機発光層62を構成する材料は公知の材料を使用することができ、例えば、9,10−ジアリールアントラセン誘導体、ピレン、コロネン、ペリレン、ルブレン、1,1,4,4−テトラフェニルブタジエン、トリス(8−キノリノラート)アルミニウム錯体、トリス(4−メチル−8−キノリノラート)アルミニウム錯体、ビス(8−キノリノラート)亜鉛錯体、および、トリス(4−メチル−5−トリフルオロメチル−8−キノリノラート)アルミニウム錯体などの低分子材料、並びに、ポリフルオレン、ポリパラフェニレンビニレン、および、ポリチオフェンなどの高分子材料などを挙げることができる。
第2電極64は陽極であり、有機発光層62へ正孔注入の役割を果たすものである。第2電極64は、通常、アルミニウム、金、銀、ニッケル、パラジウム、および、白金等の金属、インジウムおよび/またはスズの酸化物等の金属酸化物、ヨウ化銅などのハロゲン化金属、カーボンブラックの他、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性高分子等により構成される。
基板66は、上述した各部材を支持する支持体であり、その種類は特に制限されず、樹脂基板、セラミックス基板、および、ガラス基板などが挙げられる。樹脂基板を構成する樹脂の種類としては、上述したタッチパネルで説明した樹脂基板を構成する樹脂が挙げられる。
例えば、円偏光板18とタッチパネル20との間や、タッチパネル20と有機EL表示素子22との間には、封止剤層、粘着剤層または接着層が配置されていてもよい。
以下に、本発明の有機EL表示装置の第2の実施態様について図面を参照して説明する。図5に、本発明の有機EL表示装置の第2の実施態様の断面図を示す。
有機EL表示装置110は、視認側から、円偏光板18と、ガスバリア層70と、有機EL表示素子22とをこの順で有する。なお、図5中、上側が視認側に該当する。円偏光板18は、偏光子12と、λ/2板14と、λ/4板16とをこの順で有する。
図5に示す有機EL表示装置110は、タッチパネル20の代わりにガスバリア層70を備える点を除いて、図1に示す有機EL表示装置10と同様の層を有するものであるので、同一の構成要素には同一の参照符号を付し、その説明を省略し、以下ではガスバリア層70の構成について詳述する。
ガスバリア層70は、円偏光板18と、有機EL表示素子22との間に配置される機能部材であり、有機EL表示素子22への水分等の侵入を抑制する層である。
ガスバリア層70の構成は、図6に示すように、視認側から、第1無機膜72と、第1有機膜74と、第2無機膜76と、第2有機膜78とをこの順で備え、第1無機膜72および第2無機膜76が、屈折率が1.7超2.1未満の高屈折率層に該当する。
屈折率は、反射分光膜厚計FE3000(大塚電子社製)を用いて、光干渉法により測定した。屈折率の測定波長は、550nmである。
(1)光学異方性層Aの作製
(セルロースエステル溶液A−1の調製)
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースエステル溶液A−1を調製した。
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・セルロースアセテート(アセチル化度2.86) 100質量部
・メチレンクロライド(第1溶媒) 320質量部
・メタノール(第2溶媒) 83質量部
・1−ブタノール(第3溶媒) 3質量部
・トリフェニルフォスフェート 7.6質量部
・ビフェニルジフェニルフォスフェート 3.8質量部
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下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤分散液B−1を調製した。
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・シリカ粒子分散液(平均粒径16nm)
"AEROSIL R972"、日本アエロジル(株)製 10.0質量部
・メチレンクロライド 72.8質量部
・メタノール 3.9質量部
・ブタノール 0.5質量部
・セルロースエステル溶液A−1 10.3質量部
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下記の組成物を別のミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、紫外線吸収剤溶液C−1を調製した。
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・紫外線吸収剤(下記UV−1) 10.0質量部
・紫外線吸収剤(下記UV−2) 10.0質量部
・メチレンクロライド 55.7質量部
・メタノール 10質量部
・ブタノール 1.3質量部
・セルロースエステル溶液A−1 12.9質量部
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セルロースエステル溶液A−1を94.6質量部、マット剤分散液B−1を1.3質量部とした混合物に、セルロースアシレート100質量部当たり、紫外線吸収剤(UV−1)および紫外線吸収剤(UV−2)がそれぞれ1.0質量部となるように、紫外線吸収剤溶液C−1を加え、加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。得られたドープを30℃に加温し、流延ギーサーを通して直径3mのドラムである鏡面ステンレス支持体上に流延した。鏡面ステンレス支持体の表面温度は−5℃に設定し、塗布幅は1470mmとした。流延したドープ膜をドラム上で34℃の乾燥風を150m3/分で当てることにより乾燥させ、残留溶剤が150%の状態でドラムより剥離した。剥離の際、搬送方向(長手方向)に15%の延伸を行った。その後、フィルムの幅方向(流延方向に対して直交する方向)の両端をピンテンター(特開平4−1009号公報の図3に記載のピンテンター)で把持しながら搬送し、幅手方向には延伸処理を行わなかった。さらに、熱処理装置のロール間を搬送することによりさらに乾燥し、セルロースアシレートフィルム(T1)を製造した。作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム(T1)の残留溶剤量は0.2%で、厚みは60μmで、波長550nmにおけるRe(面内レタデーション)とRth(厚さ方向のレタデーション)はそれぞれ0.8nm、40nmであった。
前述のセルロースアシレートフィルム(T1)を、温度60℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を40℃に昇温した後に、フィルムのバンド面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量14ml/m2で塗布した。その後、アルカリ溶液が塗布されたセルロールアシレートフィルムを、110℃に加熱した(株)ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、10秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、得られたフィルム上に純水を3ml/m2塗布した。次いで、得られたフィルムに対して、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを3回繰り返した後に、フィルムを70℃の乾燥ゾーンに10秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを作製した。
─────────────────────────────────
・水酸化カリウム 4.7質量部
・水 15.8質量部
・イソプロパノール 63.7質量部
・界面活性剤SF−1:C14H29O(CH2CH2O)20H 1.0質量部
・プロピレングリコール 14.8質量部
─────────────────────────────────
セルロースアシレートフィルム(T1)のアルカリ鹸化処理を行った面に、下記組成の配向膜塗布液(A)を#14のワイヤーバーで連続的に塗布した。配向膜塗布液(A)が塗布されたフィルムを、60℃の温風で60秒、さらに100℃の温風で120秒乾燥して、配向膜を形成した。使用した変性ポリビニルアルコールの鹸化度は88%であった。
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・下記の変性ポリビニルアルコール 10質量部
・水 308質量部
・メタノール 70質量部
・イソプロパノール 29質量部
・光重合開始剤(イルガキュア2959、チバ・ジャパン製)0.8質量部
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上記作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向(搬送方向)とラビングローラーの回転軸とのなす角度が72.5°とした(フィルム長手方向(搬送方向)を90°とし、配向膜側から観察してフィルム幅方向を基準(0°)に反時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は−17.5°にある。言い換えれば、ラビングローラーの回転軸の位置は、フィルム長手方向を基準に、反時計回りに72.5°回転させた位置に該当する。)。
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・下記のディスコティック液晶化合物(A) 80質量部
・下記のディスコティック液晶化合物(B) 20質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
(V#360、大阪有機化学(株)製) 5質量部
・光重合開始剤(イルガキュアー907、チバ・ジャパン社製) 4質量部
・下記のピリジニウム塩(A) 2質量部
・下記のポリマー(A) 0.2質量部
・下記のポリマー(B) 0.1質量部
・下記のポリマー(C) 0.1質量部
・メチルエチルケトン 211質量部
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(光学異方性層Bの形成)
上記(光学異方性層Aの作製)と同様の手順に従って、セルロースアシレートフィルム(T1)上に配向膜を形成し、配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向(搬送方向)とラビングローラーの回転軸とのなす角度が102.5°とした(フィルム長手方向(搬送方向)を90°とし、配向膜側から観察してフィルム幅方向を基準に反時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は12.5°。言い換えれば、ラビングローラーの回転軸の位置は、フィルム長手方向を基準に、反時計回りに102.5°回転させた位置に該当する。)。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記ディスコティック液晶化合物(A) 80質量部
・上記ディスコティック液晶化合物(B) 20質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
(V#360、大阪有機化学(株)製) 10質量部
・光重合開始剤(イルガキュアー907、チバ・ジャパン社製) 5質量部
・下記のピリジニウム塩(A) 1質量部
・上記のポリマー(A) 0.2質量部
・上記のポリマー(B) 0.1質量部
・上記のポリマー(C) 0.1質量部
・メチルエチルケトン 348質量部
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厚さ80μmのポリビニルアルコール(PVA)フィルムを、ヨウ素濃度0.05質量%のヨウ素水溶液中に30℃で60秒浸漬して、フィルムを染色した。次いで、染色したフィルムをホウ酸濃度4質量%濃度のホウ酸水溶液中に60秒浸漬して、浸漬している間にフィルムを元の長さの5倍に縦延伸した後、50℃で4分間乾燥させて、厚さ20μmの偏光子を得た。
市販のセルロースアシレート系フィルム「TD80UL」(富士フイルム社製)を準備し、1.5モル/リットルで55℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、得られたフィルムを、0.005モル/リットルで35℃の希硫酸水溶液に1分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後にフィルムを120℃で十分に乾燥させ、偏光子保護フィルムを作製した。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Aに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Bを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Bとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、光学異方性層A(λ/2板)、および、光学異方性層B(λ/4板)がこの順に配置されている円偏光板X1を作製した。なお、偏光子側から観察して、偏光子の透過軸を基準(0°)に反時計回りを正の値で表すと、λ/2板の遅相軸の角度は−17.5°であり、λ/4板の遅相軸の角度は−77.5°であった。
つまり、光学異方性層A(λ/2板)の遅相軸と偏光子の透過軸とのなす角度は17.5°であり、光学異方性層A(λ/2板)の遅相軸と光学異方性層B(λ/4板)の遅相軸とのなす角度は60°であった。
なお、タッチパネル中には、ITOより構成される、屈折率1.9(波長550で測定)の透明電極層が含まれていた。
また、有機EL表示素子には、一対の電極に挟持された有機発光層が含まれていた。
実施例1にて作製した偏光板中の偏光子(偏光子保護フィルムのない)側に、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して粘着剤層を形成し、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Aを有するフィルムを、粘着剤層と光学異方性層Aとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Aに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、別途用意したセルロースアシレートフィルムA(厚さ25μm、波長550nmにおけるReとRthはそれぞれ0.8nm、9nm)を貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムA表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Bを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Bとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、光学異方性層A、セルロースアシレートフィルムA、および、光学異方性層Bがこの順に配置されている円偏光板X2を作製した。この態様においては、光学異方性層Aがλ/2板に該当し、セルロースアシレートフィルムAおよび光学異方性層Bの積層膜がλ/4板に該当する。
実施例1で使用した円偏光板X1の代わりに、上記円偏光板X2を使用した以外は、実施例1と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
セルロースアシレートフィルムAをセルロースアシレートフィルムB(厚さ25μm、波長550nmにおけるReとRthは、それぞれ4.0nm、36nm)に変更した以外は、実施例2と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
実施例1にて作製した偏光板中の偏光子(偏光子保護フィルムのない)側に、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して粘着剤層を形成し、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Aを有するフィルムを、粘着剤層と光学異方性層Aとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Aに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、別途用意した上述したセルロースアシレートフィルムBを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムB表面に前述の方法で粘着剤層を形成し、セルロースアシレートフィルムBをさらに貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムB表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成し、粘着剤層が配置された偏光板と上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Bを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Bとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、光学異方性層A、セルロースアシレートフィルムB、セルロースアシレートフィルムB、および、光学異方性層Bがこの順に配置されている円偏光板X4を作製した。この態様においては、光学異方性層Aがλ/2板に該当し、セルロースアシレートフィルムB、セルロースアシレートフィルムB、および、光学異方性層Bの積層膜がλ/4板に該当する。
実施例1で使用した円偏光板X1の代わりに、上記円偏光板X4を使用した以外は、実施例1と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
実施例1にて作製した偏光板中の偏光子(偏光子保護フィルムのない)側に、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して粘着剤層を形成し、別途用意したセルロースアシレートフィルムAを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムA表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Aを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Aとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Aに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Bを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Bとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、セルロースアシレートフィルムA、光学異方性層A、および、光学異方性層Bがこの順に配置されている円偏光板X5を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムAおよび光学異方性層Aの積層膜がλ/2板に該当し、光学異方性層Bがλ/4板に該当する。
実施例1で使用した円偏光板X1の代わりに、上記円偏光板X5を使用した以外は、実施例1と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
実施例1にて作製した偏光板中の偏光子(偏光子保護フィルムのない)側に、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して粘着剤層を形成し、別途用意したセルロースアシレートフィルムAを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムA表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Aを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Aとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Aに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、別途用意したセルロースアシレートフィルムAを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムA表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Bを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Bとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、セルロースアシレートフィルムA、光学異方性層A、セルロースアシレートフィルムA、および、光学異方性層Bがこの順に配置されている円偏光板X6を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムAおよび光学異方性層Aの積層膜がλ/2板に該当し、セルロースアシレートフィルムAおよび光学異方性層Bの積層膜がλ/4板に該当する。
実施例1で使用した円偏光板X1の代わりに、上記円偏光板X6を使用した以外は、実施例1と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
光学異方性層Bに隣接するセルロースアシレートフィルムAをセルロースアシレートフィルムBに変更した以外は、実施例6と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
セルロースアシレートフィルムAをセルロースアシレートフィルムBに変更した以外は、実施例5と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
偏光子に隣接するセルロースアシレートフィルムAをセルロースアシレートフィルムBに変更した以外は、実施例6と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
2枚のセルロースアシレートフィルムAをセルロースアシレートフィルムBに変更した以外は、実施例6と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
実施例1にて作製した偏光板中の偏光子(偏光子保護フィルムのない)側に、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して粘着剤層を形成し、別途用意したセルロースアシレートフィルムBを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムB表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Aを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Aとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Aに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、別途用意したセルロースアシレートフィルムBを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムB表面に前述の方法で粘着剤層を形成し、セルロースアシレートフィルムBをさらに貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムB表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成し、粘着剤層が配置された偏光板と上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Bを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Bとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、セルロースアシレートフィルムB、光学異方性層A、セルロースアシレートフィルムB、セルロースアシレートフィルムB、および、光学異方性層Bがこの順に配置されている円偏光板X11を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムBおよび光学異方性層Aの積層膜がλ/2板に該当し、セルロースアシレートフィルムB、セルロースアシレートフィルムB、および光学異方性層Bの積層膜がλ/4板に該当する。
実施例1で使用した円偏光板X1の代わりに、上記円偏光板X11を使用した以外は、実施例1と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
実施例1にて作製した偏光板中の偏光子(偏光子保護フィルムのない)側に、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して粘着剤層を形成し、別途用意したセルロースアシレートフィルムBを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムB表面に前述の方法で粘着剤層を形成し、セルロースアシレートフィルムBをさらに貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムB表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Aを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Aとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Aに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Bを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Bとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、セルロースアシレートフィルムB、セルロースアシレートフィルムB、光学異方性層A、および、光学異方性層Bがこの順に配置されている円偏光板X12を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムB、セルロースアシレートフィルムB、および、光学異方性層Aの積層膜がλ/2板に該当し、光学異方性層Bがλ/4板に該当する。
実施例1で使用した円偏光板X1の代わりに、上記円偏光板X12を使用した以外は、実施例1と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
実施例1にて作製した偏光板中の偏光子(偏光子保護フィルムのない)側に、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して粘着剤層を形成し、別途用意したセルロースアシレートフィルムBを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムB表面に前述の方法で粘着剤層を形成し、セルロースアシレートフィルムBをさらに貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムB表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Aを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Aとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
さらに、得られた積層体中の光学異方性層Aに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、別途用意したセルロースアシレートフィルムBを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムB表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成し、粘着剤層が配置された偏光板と上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Bを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Bとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、セルロースアシレートフィルムB、セルロースアシレートフィルムB、光学異方性層A、セルロースアシレートフィルムB、および、光学異方性層Bがこの順に配置されている円偏光板X13を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムB、セルロースアシレートフィルムB、および光学異方性層Aの積層膜がλ/2板に該当し、セルロースアシレートフィルムBおよび光学異方性層Bの積層膜がλ/4板に該当する。
実施例1で使用した円偏光板X1の代わりに、上記円偏光板X13を使用した以外は、実施例1と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
実施例1にて作製した偏光板中の偏光子(偏光子保護フィルムのない)側に、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して粘着剤層を形成し、別途用意したセルロースアシレートフィルムBを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムB表面に前述の方法で粘着剤層を形成し、セルロースアシレートフィルムBをさらに貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムB表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Aを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Aとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Aに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、別途用意したセルロースアシレートフィルムBを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムB表面に前述の方法で粘着剤層を形成し、セルロースアシレートフィルムBをさらに貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムB表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成し、粘着剤層が配置された偏光板と上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Bを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Bとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、セルロースアシレートフィルムB、セルロースアシレートフィルムB、光学異方性層A、セルロースアシレートフィルムB、セルロースアシレートフィルムB、および、光学異方性層Bがこの順に配置されている円偏光板X14を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムB、セルロースアシレートフィルムB、および光学異方性層Aの積層膜がλ/2板に該当し、セルロースアシレートフィルムB、セルロースアシレートフィルムB、および光学異方性層Bの積層膜がλ/4板に該当する。
実施例1で使用した円偏光板X1の代わりに、上記円偏光板X14を使用した以外は、実施例1と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
(光学異方性層C、D(棒状液晶垂直配向フィルム)の形成)
(剥離性支持体の作製)
セルロースアシレートフィルムにアルカリ鹸化処理することなく以下のように配向膜を作製し、剥離性支持体を作製した。
(配向膜の形成)
セルロースアシレートフィルムに、下記組成の配向膜塗布液(B)を#14のワイヤーバーで連続的に塗布した。60℃の温風で60秒、さらに100℃の温風で120秒乾燥した。
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下記変性ポリビニルアルコール−2 10質量部
水 371質量部
メタノール 119質量部
グルタルアルデヒド(架橋剤) 0.5質量部
クエン酸エステル(三協化学(株)製 AS3) 0.175質量部
光重合開始剤(イルガキュア2959、チバ・ジャパン製) 2.0質量部
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光学異方性層Cの厚みは0.8μmであり、Re(550)は0nm、Rth(550)は−65nmであった。
光学異方性層Dの厚みは2.0μmであり、Re(550)は0nm、Rth(550)は−160nmであった。
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棒状液晶化合物−1 80質量部
棒状液晶化合物−2 20質量部
光重合開始剤(イルガキュアー907、チバ・ジャパン社製) 3質量部
増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製) 1質量部
含フッ素化合物(FP−2) 0.3質量部
配向膜界面配向剤−1 0.55質量部
メチルエチルケトン 193質量部
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[棒状液晶化合物−2]
[含フッ素化合物(FP−2)]
上述した手順に従って、剥離性支持体および配向膜の作製を行った。
下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層塗布液(D)を、上記作製した配向膜上にワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度(V)は26m/minとした。塗布液の溶媒の乾燥および棒状液晶化合物の配向熟成のために、60℃の温風で60秒間加熱し、60℃にてUV照射を行い、棒状液晶化合物の配向を固定化して、棒状液晶水平配向フィルムを作製した。棒状液晶化合物の長軸のフィルム面に対する平均傾斜角は0°であり、棒状液晶化合物がフィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。
なお、厚みを変更して、2種の棒状液晶水平配向フィルムを作製した。
棒状液晶化合物の遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と直交で、フィルム長手方向を90°(フィルム幅方向を0°。配向膜側から観察してフィルム幅方向を基準(0°)に反時計回り方向を正の値で表す。)とすると、光学異方性層Eでは102.5°(−77.5°)であり、光学異方性層Fでは−17.5°であった。
光学異方性層EのRe(550)は118nm、Rth(550)は59nmであった。
光学異方性層FのRe(550)は238nm、Rth(550)は119nmであった。
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棒状液晶化合物−1 80質量部
棒状液晶化合物−2 20質量部
光重合開始剤(イルガキュアー907、チバ・ジャパン社製) 3質量部
増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製) 1質量部
含フッ素化合物(FP−2) 1.0質量部
メチルエチルケトン 193質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
[棒状液晶化合物−2]
[含フッ素化合物(FP−2)]
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムB表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Aを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Aとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Aに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Cを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Cとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムを剥離して、積層体を得た。
さらに、得られた積層体中の光学異方性層Cに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Eを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Eとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムを剥離して、積層体を得た。
上記手順により、偏光子、セルロースアシレートフィルムB、光学異方性層A、光学異方性層C、および光学異方性層Eがこの順に配置されている円偏光板X15を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムBおよび光学異方性層Aの積層膜がλ/2板に該当し、光学異方性層Cおよび光学異方性層Eの積層膜がλ/4板に該当する。
実施例1で使用した円偏光板X1の代わりに、上記円偏光板X15を使用した以外は、実施例1と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
実施例1にて作製した偏光板中の偏光子(偏光子保護フィルムのない)側に、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して粘着剤層を形成し、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Dを有するフィルムを、粘着剤層と光学異方性層Dとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムを剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Dに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Fを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Fとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Fに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Cを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Cとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムを剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Cに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Eを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Eとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムを剥離して、積層体を得た。
上記手順により、偏光子、光学異方性層D、光学異方性層F、光学異方性層C、および光学異方性層Eがこの順に配置されている円偏光板X16を作製した。この態様においては、光学異方性層Dおよび光学異方性層Fの積層膜がλ/2板に該当し、光学異方性層Cおよび光学異方性層Eの積層膜がλ/4板に該当する。
実施例1で使用した円偏光板X1の代わりに、上記円偏光板X16を使用した以外は、実施例1と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
実施例1にて作製した偏光板中の偏光子(偏光子保護フィルムのない)側に、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して粘着剤層を形成し、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Dを有するフィルムを、粘着剤層と光学異方性層Dとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムを剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Dに、粘着剤層を形成した。次に、市販のシクロオレフィン系ポリマーフィルム「ZEONOR ZF14」((株)オプテス製)を延伸したフィルムA(シクロオレフィン系ポリマーフィルムA)(厚さ32μm、波長550nmにおけるReとRthはそれぞれ238nm、119nm)を貼り合わせ、積層体を得た。
次に、得られた積層体中のシクロオレフィン系ポリマーフィルムAに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Cを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Cとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムを剥離して、積層体を得た。さらに、得られた積層体中の光学異方性層Cに、粘着剤層を形成した。
次に、粘着剤層が配置された偏光板と、市販のシクロオレフィン系ポリマーフィルム「ZEONOR ZF14」((株)オプテス製)を延伸したフィルムB(シクロオレフィン系ポリマーフィルムB)(厚さ28μm、波長550nmにおけるReとRthはそれぞれ118nm、59nm)を貼り合わせ、積層体を得た。
上記手順により、偏光子、光学異方性層D、シクロオレフィン系ポリマーフィルムA、光学異方性層C、およびシクロオレフィン系ポリマーフィルムBがこの順に配置されている円偏光板X17を作製した。この態様においては、光学異方性層Dおよびシクロオレフィン系ポリマーフィルムAの積層膜がλ/2板に該当し、光学異方性層Cおよびシクロオレフィン系ポリマーフィルムBの積層膜がλ/4板に該当する。
実施例1で使用した円偏光板X1の代わりに、上記円偏光板X17を使用した以外は、実施例1と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
(光学異方性層G(棒状液晶垂直配向フィルム)の形成)
光学異方性層の厚みを0.25μmに変更した以外は、実施例15に記載の(光学異方性層C、D(棒状液晶垂直配向フィルム)の形成)の手順に従って、光学異方性層G(棒状液晶垂直配向フィルム)を作製した。
光学異方性層Gの厚みは0.25μmであり、Re(550)は0nm、Rth(550)は−20nmであった。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Gに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Aを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Aとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Aに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Bを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Bとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、光学異方性層G、光学異方性層A、および、光学異方性層Bがこの順に配置されている円偏光板X18を作製した。この態様においては、光学異方性層Gおよび光学異方性層Aの積層膜がλ/2板に該当し、光学異方性層Bがλ/4板に該当する。
実施例1で使用した円偏光板X1の代わりに、上記円偏光板X18を使用した以外は、実施例1と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
実施例1にて作製した偏光板中の偏光子(偏光子保護フィルムのない)側に、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して粘着剤層を形成し、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Gを有するフィルムを、粘着剤層と光学異方性層Gとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムを剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Gに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Aを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Aとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Aに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、別途用意した上述したセルロースアシレートフィルムBを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムB表面に前述の方法で粘着剤層を形成し、セルロースアシレートフィルムBをさらに貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムB表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成し、粘着剤層が配置された偏光板と上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Bを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Bとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、光学異方性層G、光学異方性層A、セルロースアシレートフィルムB、セルロースアシレートフィルムB、および、光学異方性層Bがこの順に配置されている円偏光板X19を作製した。この態様においては、光学異方性層Gおよび光学異方性層Aの積層膜がλ/2板に該当し、セルロースアシレートフィルムB、セルロースアシレートフィルムB、および光学異方性層Bの積層膜がλ/4板に該当する。
実施例1で使用した円偏光板X1の代わりに、上記円偏光板X19を使用した以外は、実施例1と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
実施例1にて作製した偏光板中の偏光子(偏光子保護フィルムのない)側に、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して粘着剤層を形成し、別途用意したセルロースアシレートフィルムC(厚さ45μm、波長550nmにおけるReとRthはそれぞれ0.5nm、116nm)を貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムC表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Aを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Aとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Aに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Bを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Bとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、セルロースアシレートフィルムC、光学異方性層A、および、光学異方性層Bがこの順に配置されている円偏光板X20を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムCおよび光学異方性層Aの積層膜がλ/2板に該当し、光学異方性層Bがλ/4板に該当する。
実施例1で使用した円偏光板X1の代わりに、上記円偏光板X20を使用した以外は、実施例1と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
偏光子に隣接するセルロースアシレートフィルムAをセルロースアシレートフィルムCに変更した以外は、実施例6と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
偏光子に隣接するセルロースアシレートフィルムAをセルロースアシレートフィルムCに変更した以外は、実施例7と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
偏光子に隣接するセルロースアシレートフィルムBをセルロースアシレートフィルムCに変更した以外は、実施例11と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
セルロースアシレートフィルムBをセルロースアシレートフィルムCに変更した以外は、比較例5と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
偏光子に隣接するセルロースアシレートフィルムCを使用しなかった以外は、比較例7と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
偏光子に隣接するセルロースアシレートフィルムCをセルロースアシレートフィルムAに変更した以外は、比較例7と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
偏光子に隣接するセルロースアシレートフィルムCをセルロースアシレートフィルムBに変更した以外は、比較例7と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
光学異方性層Bに隣接するセルロースアシレートフィルムBをセルロースアシレートフィルムCに変更した以外は、実施例13と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
実施例1にて作製した偏光板中の偏光子(偏光子保護フィルムのない)側に、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して粘着剤層を形成し、別途用意したセルロースアシレートフィルムBを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムB表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Aを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Aとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Aに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Eを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Eとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムを剥離して、積層体を得た。
上記手順により、偏光子、セルロースアシレートフィルムB、光学異方性層A、および光学異方性層Eがこの順に配置されている円偏光板X29を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムBおよび光学異方性層Aの積層膜がλ/2板に該当し、光学異方性層Eがλ/4板に該当する。
実施例1で使用した円偏光板X1の代わりに、上記円偏光板X29を使用した以外は、実施例1と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
実施例1にて作製した偏光板中の偏光子(偏光子保護フィルムのない)側に、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して粘着剤層を形成し、別途用意したセルロースアシレートフィルムBを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムB表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Fを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Fとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Fに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、別途用意したセルロースアシレートフィルムBを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムB表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Eを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Eとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、セルロースアシレートフィルムB、光学異方性層F、セルロースアシレートフィルムB、および、光学異方性層Eがこの順に配置されている円偏光板X30を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムB、および光学異方性層Fの積層膜がλ/2板に該当し、セルロースアシレートフィルムBおよび光学異方性層Eの積層膜がλ/4板に該当する。
実施例1で使用した円偏光板X1の代わりに、上記円偏光板X30を使用した以外は、実施例1と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
実施例1にて作製した偏光板中の偏光子(偏光子保護フィルムのない)側に、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して粘着剤層を形成し、市販のシクロオレフィン系ポリマーフィルム「ZEONOR ZF14」((株)オプテス製)を延伸したフィルムC(シクロオレフィン系ポリマーフィルムC)(厚さ32μm、波長550nmにおけるReとRthはそれぞれ270nm、135nm)を貼り合わせ、積層体を得た。
次に、得られた積層体中のシクロオレフィン系ポリマーフィルムCに、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された偏光板と、市販のシクロオレフィン系ポリマーフィルム「ZEONOR ZF14」((株)オプテス製)を延伸したフィルムD(シクロオレフィン系ポリマーフィルムD)(厚さ28μm、波長550nmにおけるReとRthはそれぞれ138nm、69nm)を貼り合わせ、積層体を得た。
上記手順により、偏光子、シクロオレフィン系ポリマーフィルムC、およびシクロオレフィン系ポリマーフィルムDがこの順に配置されている円偏光板X31を作製した。この態様においては、シクロオレフィン系ポリマーフィルムCがλ/2板に該当し、シクロオレフィン系ポリマーフィルムDがλ/4板に該当する。
実施例1で使用した円偏光板X1の代わりに、上記円偏光板X31を使用した以外は、実施例1と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
有機ELパネル(有機EL表示素子)搭載のSAMSUNG社製GALAXY S5を分解し、有機EL表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、有機EL表示素子を単離した。続いて、上記作製した円偏光板X1を空気が入らないようにして有機EL表示素子の電極上に貼合し、有機EL表示装置を作製した。
なお、比較例15においては、有機EL表示装置の中にタッチパネルが含まれていなかった。
円偏光板X1を円偏光板X2に変更した以外は、比較例15と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
実施例1にて作製した偏光板中の偏光子に、特許文献1である特開2003−262727号公報の実施例4で使用されている等方性のロール状トリアセチルセルロースフィルム(以後、「セルロースアシレートフィルムD」と称する)、光学的異方性層(A)(以後、「光学異方性層H」と称する)、および、光学的異方性層(B)(以後、「光学異方性層I」と称する)を、粘着剤(SK-2057、綜研化学株式会社製)より形成される粘着剤層を介して貼り合わせて、積層体を得た。
上記手順により、セルロースアシレートフィルムD、光学異方性層H、および、光学異方性層Iがこの順に配置されている円偏光板X34を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムDおよび光学異方性層Hの積層膜がλ/2板に該当し、光学異方性層Iがλ/4板に該当する。
実施例1で使用した円偏光板X1の代わりに、上記円偏光板X34を使用した以外は、実施例1と同様の手順に従って、有機EL表示装置を作製した。
なお、比較例17においては、後述する表1に示すように、λ/4板が上述した要件を満たしていなかった。
つまり、λ/2板の遅相軸と偏光子の透過軸とのなす角度は17.5°であり、λ/2板の遅相軸とλ/4板の遅相軸とのなす角度は60°であった。
また、上述した実施例1〜17の有機EL表示装置中のλ/4板のRe(550)は、それぞれ100nm≦Re(550)≦160nmを満たしていた。
(45°反射率および反射色味の評価)
上記で作製した有機EL表示装置を、45°傾けてSR-3(トプコン製)に固定し、蛍光灯下での明度(L*)、および、色味(a*/b*)を測定した。得られた明度(L*)、色味(a*/b*)から下記式(1)によりΔEabを定義した。
ΔEab={(L*)2+(a*)2+(b*)2}0.5・・・(式1)
ΔEabはL*a*b*空間における原点からの距離を表しており、ΔEabの値が小さい程、黒色再現性が高いことを表す。実用上、ΔEabは30未満が好ましい。結果を表1に示す。
「COPフィルムA」はシクロオレフィン系ポリマーフィルムAを、「COPフィルムB」はシクロオレフィン系ポリマーフィルムBを、「COPフィルムC」はシクロオレフィン系ポリマーフィルムCを、「COPフィルムD」はシクロオレフィン系ポリマーフィルムDを表す。
表1中の「位相差層厚み」は、λ/2板およびλ/4板の合計厚みを意図する。
また、実施例1および16に示すように、λ/2板およびλ/4板がポリマーフィルムからなる光学異方性層を含まない場合(要件1を満たす場合)、円偏光板の厚みがより薄くなり好ましい。また、要件2を満たす場合も、円偏光板の厚みがより薄くなり好ましい。
一方、所定の光学要件を満たさない比較例においては、所望の効果が得られなかった。
12 偏光子
14,114 λ/2板
16,116 λ/4板
18,118 円偏光板
20 タッチパネル
22 有機EL表示素子
24 第1光学異方性層
26 第2光学異方性層
28 第3光学異方性層
30 第4光学異方性層
50 第1絶縁層
52 透明電極層
54 第2絶縁層
56 基板
60 第1電極
62 有機発光層
64 第2電極
66 基板
70 ガスバリア層
72 第1無機膜
74 第1有機膜
76 第2無機膜
78 第2有機膜
Claims (6)
- 視認側から、円偏光板と、
一対の電極およびその間に挟まれた有機発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス表示素子と、を少なくとも含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
前記円偏光板と、前記一対の電極のうち視認側に位置する電極との間に、屈折率が1.7超2.1未満の高屈折率層が配置され、
前記円偏光板が、視認側から、偏光子と、λ/2板と、λ/4板とをこの順に有し、
前記λ/2板の波長550nmにおける厚さ方向のレタデーションRthA(550)が−120nm超−40nm未満の範囲であり、
前記λ/4板の波長550nmにおける厚さ方向のレタデーションRthB(550)が−60nm超20nm未満の範囲であり、
前記λ/4板の遅相軸と前記λ/2板の遅相軸とのなす角度θが、60±10°の範囲である、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 - 前記RthA(550)が、−120nm超−90nm以下の範囲である、請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
- 前記λ/2板および前記λ/4板が、以下の要件1または要件2を満たす、請求項1または2に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
要件1:ポリマーフィルムからなる光学異方性層を含まない。
要件2:波長550nmにおける厚さ方向のレタデーションRthC(550)が0〜20nmを示す、ポリマーフィルムからなる光学異方性層を含む。 - 前記円偏光板と前記有機エレクトロルミネッセンス表示素子との間に、タッチパネルが含まれ、
前記タッチパネルに前記高屈折率層が含まれる、請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 - 前記高屈折率層が、前記タッチパネルの透明電極層を構成する、請求項4に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
- 前記円偏光板と前記有機エレクトロルミネッセンス表示素子との間に、ガスバリア層が含まれ、
前記ガスバリア層に前記高屈折率層が含まれる、請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
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