JPWO2015056789A1 - 感光性繊維およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
即ち、本発明は以下の通りである。
(B)光酸発生剤
を含む、繊維。
[2]上記(A)高分子化合物が、(A1)一般式(1):
R1は、水素原子又はメチル基を示し、
Q1は、エステル結合又はアミド結合を示し、
R2は、少なくとも1個の水素原子がヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基又は炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基で置換されている炭素原子数1〜10のアルキル基又は炭素原子数6〜10の芳香族炭化水素基を示す。〕
で表される構造単位を含む高分子化合物を含む、[1]記載の繊維。
[3]上記(A1)高分子化合物が、一般式(2):
R3は、水素原子又はメチル基を示し、
R4およびR5は、同一または異なっていてもよく、水素原子又はヒドロキシ基若しくはカルボキシ基で置換されていてもよい炭素原子数1〜4のアルキル基を示す。〕
で表される構造単位をさらに含む、[2]記載の繊維。
[4]上記(A1)高分子化合物の重量平均分子量が、1,000〜1,000,000である、[2]または[3]記載の繊維。
[5]上記(A)高分子化合物が、(A2)天然高分子自体であるか、或いは、(A2)天然高分子を含む、[1]記載の繊維。
[6]上記(A2)天然高分子が、デキストリン及びその誘導体から選ばれる少なくとも1種を含む、[5]記載の繊維。
[7]上記(A2)天然高分子が、生体高分子を含む、[5]記載の繊維。
[8](C)架橋剤をさらに含む、[1]〜[7]のいずれかに記載の繊維。
[9]感光性繊維である、[1]〜[8]のいずれかに記載の繊維。
[10]ナノ繊維及び/又はマイクロ繊維である、[1]〜[9]のいずれかに記載の繊維。
[11](A)ヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基及び炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基から選ばれる少なくとも1種の有機基を側鎖に有する構造単位を含む高分子化合物、
(B)光酸発生剤、および
(D)溶剤
を含有する感光性繊維製造用組成物。
[12]上記(A)高分子化合物が、(A1)一般式(1):
R1は、水素原子又はメチル基を示し、
Q1は、エステル結合又はアミド結合を示し、
R2は、少なくとも1個の水素原子がヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基又は炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基で置換されている炭素原子数1〜10のアルキル基又は炭素原子数6〜10の芳香族炭化水素基を示す。〕
で表される構造単位を含む高分子化合物を含む、[11]記載の組成物。
[13]上記(A1)高分子化合物が、一般式(2):
R3は、水素原子又はメチル基を示し、
R4およびR5は、同一または異なっていてもよく、水素原子又はヒドロキシ基若しくはカルボキシ基で置換されていてもよい炭素原子数1〜4のアルキル基を示す。〕
で表される構造単位をさらに含む、[12]記載の組成物。
[14]上記(A1)高分子化合物の重量平均分子量が、1,000〜1,000,000である、[12]または[13]記載の組成物。
[15]上記(A)高分子化合物が、(A2)天然高分子自体であるか、或いは、(A2)天然高分子を含む、[11]記載の組成物。
[16]上記(A2)天然高分子が、デキストリン及びその誘導体から選ばれる少なくとも1種を含む、[15]記載の組成物。
[17]上記(A2)天然高分子が、生体高分子を含む、[15]記載の組成物。
[18](C)架橋剤をさらに含む、[11]〜[17]のいずれかに記載の組成物。
[19]上記(A)高分子化合物の含有割合が、1〜90重量%である、[11]〜[18]のいずれかに記載の組成物。
[20][11]〜[19]のいずれかに記載の組成物を紡糸する工程を含む、繊維の製造方法。
[21]上記紡糸が、電界紡糸である、[20]記載の方法。
[22]紡糸した繊維を、70〜300℃の範囲で加熱する工程を含む、[20]又は[21]記載の方法。
[23]基材上に、感光性繊維による繊維層を形成する第1工程、
該繊維層を、マスクを介して露光する第2工程、及び
該繊維層を、現像液により現像する第3工程
を含む、繊維パターンの形成方法。
[24]上記感光性繊維が、[1]〜[10]のいずれかに記載の繊維である、[23]記載の方法。
[25]第2工程において、露光した後に繊維を加熱する、[23]又は[24]記載の方法。
[26]上記現像液が、水又は有機溶媒を含む、[23]〜[25]のいずれかに記載の方法。
[27][1]〜[10]のいずれかに記載の繊維を用いて形成された繊維パターン。
[28]表面に[27]記載の繊維パターンを有する基材。
[29][1]〜[10]のいずれかに記載の繊維または[27]記載の繊維パターンを含む、生体適合材料。
また本発明によれば、複雑で微細な繊維パターンを簡便に得ることができ、表面に複雑で微細な繊維パターンを有する基材を提供できる。
さらに、そのリソグラフィー処理で加工された繊維パターンはもちろん、その形成されている繊維による、例えば100nm〜50μmのランダムな微細パターンを利用した応用(例えば、不規則なランダム微細パターンを利用したエッチングマスクとしての利用)が期待できる。
本発明の繊維は、(A)ヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基及び炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基から選ばれる少なくとも1種の有機基を側鎖に有する構造単位を含む高分子化合物(以下、「成分Aの高分子化合物」又は単に「成分A」とも称する)および(B)光酸発生剤(以下、「成分Bの光酸発生剤」又は単に「成分B」とも称する)を含むことが主たる特徴である。
本発明の繊維の合計の重さは、例えば10μg/cm2以上である。
成分Aは「ヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基及び炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基から選ばれる少なくとも1種の有機基を側鎖に有する構造単位を含む高分子化合物」であり、光酸発生剤により発生した酸(H+)を触媒として、ヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基及び炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基から選ばれる少なくとも1種の有機基が反応することにより、ポリマー鎖間が結合して架橋構造が形成される。
これらの有機基の中でも、反応性の観点からヒドロキシ基が特に好ましい。
R1は、水素原子又はメチル基を示し、
Q1は、エステル結合又はアミド結合を示し、
R2は、少なくとも1個の水素原子がヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基又は炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基で置換されている炭素原子数1〜10のアルキル基又は炭素原子数6〜10の芳香族炭化水素基を示す。〕
で表される構造単位を含む高分子化合物(以下、「成分A1の高分子化合物」又は単に「成分A1」とも称する)、および/または、(A2)天然高分子(以下、「成分A2の天然高分子」又は単に「成分A2」とも称する)を含有する。
一般式(1)における各基の定義について、以下に詳述する。
「炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基」は、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよく、その具体例としては、上記と同様のものが挙げられ、好適な炭素原子数も上記と同様である。
「炭素原子数1〜10のアルキル基」は、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、1−エチルプロピル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、1,1−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、2−エチルブチル基、ヘキシル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。該アルキル基の炭素原子数は、好ましくは1〜6であり、より好ましくは1〜4である。
また、R2における炭素原子数6〜10の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等が挙げられる。
R2は、本発明の繊維の露光後に、光酸発生剤を触媒として反応性を有する架橋反応部位として作用させる観点から、好ましくは、少なくとも1個の水素原子がヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基又は炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基(より好ましくはヒドロキシ基)で置換されている炭素原子数1〜10(より好ましくは1〜6、特に好ましくは1〜4)のアルキル基、又は少なくとも1個の水素原子がヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基又は炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基(より好ましくはヒドロキシ基)で置換されているフェニル基である。
R3は、水素原子又はメチル基を示し、
R4およびR5は、同一または異なっていてもよく、水素原子又はヒドロキシ基若しくはカルボキシ基で置換させていてもよい炭素原子数1〜4のアルキル基を示す。〕
で表される構造単位が挙げられる。
本発明において「ヒドロキシ基若しくはカルボキシ基で置換されていてもよい」とは上記「炭素原子数1〜4のアルキル基」に含まれる水素原子の一部又は全部がヒドロキシ基若しくはカルボキシ基で置換されていてもよいことを示す。
なお、本発明において(メタ)アクリレート化合物とは、アクリレート化合物とメタクリレート化合物の両方をいう。例えば、(メタ)アクリル酸は、アクリル酸とメタクリル酸の両方をいう。
成分A1が、一般式(2)で表される構造単位を有する場合、後述の実施例に示すように、本発明の繊維は温度応答性を有する。この場合、成分A1の全構造単位に対する、一般式(2)で表される構造単位の含有割合は、60〜95モル%が好ましい。なお、本発明の繊維は、温度応答性を有することで、例えば、温度に応じて大きさが変化する繊維パターンを形成することができ、当該繊維及び繊維パターンは、例えば(i)水や薬剤等を繊維内に留まらせたり、放出したりできるドラックデリバリーシステム(DDS)や薬剤シートへの応用、(ii)繊維径が太くなったり細くなったりすることで、通過する物質を制御できるフィルター等への応用、(iii)表面の疎水/親水を制御することで、物質の付着性を制御できるデバイス等への応用等が期待される点で有利である。
成分A2の天然高分子は、ヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基及び炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基から選ばれる少なくとも1種の有機基を側鎖に有する構造単位を含み、酸との反応によって架橋構造を形成し得る天然高分子であれば特に制限されない。本発明において用いられる天然高分子は、天然高分子それ自体でもよいし、天然高分子に加水分解等の反応を起こさせた変性天然高分子でもよい。本発明において用いられる天然高分子は、好ましくはデンプン又はグリコーゲンの加水分解物であるデキストリン、並びにその誘導体である。ここでデキストリンの誘導体とは、デキストリンのヒドロキシ基の一部又は全部を置換基(例、アセトキシ基、ベンゾイル基等)で置換したものをいう。
さらに本願の(A)高分子化合物は任意の第3成分(成分A3)を含んでいてもよい。成分A3は、本発明の繊維等の性能を損なわず、上記成分A1及び/又は成分A2と重合することができるものであれば特に制限は無いが、例えば、アルキル基の炭素原子数が1〜10の(メタ)アクリル酸エステル類、ベンジル(メタ)アクリレート、アクリルアミド類(例、アクリルアミド、N−アルキルアクリルアミド、N−アリールアクリルアミド、N,N−ジアルキルアクリルアミド、N,N−ジアリールアクリルアミド、N−メチル−N−フェニルアクリルアミド、N−2−アセトアミドエチル−N−アセチルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類(例、メタクリルアミド、N−アルキルメタクリルアミド、N−アリールメタクリルアミド、N,N−ジアルキルメタクリルアミド、N,N−ジアリールメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメタクリルアミド、N−エチル−N−フェニルメタクリルアミド等)が挙げられる。
成分A3として、例えば疎水性の側鎖を有する、アルキル基の炭素原子数が1〜10の(メタ)アクリル酸エステル類やベンジル(メタ)アクリレート等を使用した場合、(A)高分子化合物の親疎水バランスを調整することができる。
成分A3はいずれか1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
成分Bの光酸発生剤は、露光により直接若しくは間接的に酸を発生する化合物であれば特に制限はなく、例えば、ジアゾメタン化合物、オニウム塩化合物、スルホンイミド化合物、ニトロベンジル化合物、鉄アレーン錯体、ベンゾイントシラート化合物、ハロゲン含有トリアジン化合物及びシアノ基含有オキシムスルホナート化合物等が挙げられる。
本発明の繊維は、さらに架橋剤(以下、「成分Cの架橋剤」又は単に「成分C」とも称する)を含有することができる。
当該極性溶剤としては、例えば、水、メタノール、エタノール、2−プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、アセトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等が挙げられ、組成物の紡糸し易さの観点から、好ましくはプロピレングリコールモノメチルエーテルである。
また電界紡糸法は、ドラムコレクター等を用いて行ってもよい。ドラムコレクター等を用いることにより、繊維の配向性を制御することができる。例えば、ドラムを低速回転した場合は不織布等を得ることができ、高速回転した場合は配向性繊維シート等を得ることができる。これは半導体材料加工時のエッチングマスク材料等を作成するときに有効である。
本発明の繊維は、感光性を有することから、繊維を集合させた繊維層を形成して、該繊維層に直接リソグラフィー処理を施すことで、未露光部が除去され、露光部の繊維が架橋により不溶化して残存する繊維パターンが形成される。ナノ繊維及び/又はマイクロ繊維の繊維層にリソグラフィー処理を施すことで、複雑で微細な繊維パターンの形成が可能である。
第1工程は、基材上に感光性繊維(好ましくは、本発明の繊維)による繊維層を形成する工程である。
感光性繊維(好ましくは、本発明の繊維)による繊維層を基材上に形成する方法は特に制限されず、例えば、本発明の組成物を基材上に直接紡糸して繊維層を形成してもよい。
第2工程は、上記第1工程において基材上に形成した繊維を、マスクを介して露光する工程である。当該露光は、例えば、g線(波長436nm)、h線(波長405nm)、i線(波長365nm)、水銀ランプ、各種レーザー、LED等により行うことができる。
第3工程は、上記第2工程において露光し、必要に応じて加熱した繊維を、現像液により現像する工程である。当該現像液には、感光性組成物のパターン形成のために通常使用される現像液を適宜用いることができるが、本発明の繊維に含まれる光酸発生剤や、未架橋の架橋剤等を溶解できる現像液が好ましい。上記第3工程において使用される現像液は、より好ましくは水又は有機溶媒を含む。
水は、水単独でもよいし、各種アルカリ性水溶液(例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ類;エチルアミン、N−プロピルアミン等の第一アミン類;ジエチルアミン、ジ−N−ブチルアミン等の第二アミン類;トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の第三アミン類;ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルコールアミン類;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン等の第4級アンモニウム塩;ピロール、ピペリジン等の環状アミン類;等のアルカリ類の水溶液)でもよい。
有機溶媒としては、例えば、アルコール類(例、1−ブタノール、2−ブタノール、イソブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール、1−ヘプタノール、2−ヘプタノール、tert−アミルアルコール、ネオペンチルアルコール、2−メチル−1−プロパノール、2−メチル−1−ブタノール、2−メチル−2−ブタノール、3−メチル−1−ブタノール、3−メチル−3−ペンタノール、シクロペンタノール、1−ヘキサノール、2−ヘキサノール、3−ヘキサノール、2,3−ジメチル−2−ブタノール、3,3−ジメチル−1−ブタノール、3,3−ジメチル−2−ブタノール、2−ジエチル−1−ブタノール、2−メチル−1−ペンタノール、2−メチル−2−ペンタノール、2−メチル−3−ペンタノール、3−メチル−1−ペンタノール、3−メチル−2−ペンタノール、3−メチル−3−ペンタノール、4−メチル−1−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、4−メチル−3−ペンタノール、1−ブトキシ−2−プロパノール及びシクロヘキサノール等)及び通常のレジスト組成物等に使用される溶媒(例、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトシキ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル等)等が挙げられる。
第3工程において使用される現像液は、水、乳酸エチル又はテトラメチルアンモニウムヒドロキシドの水溶液が好ましく、水又は乳酸エチルが特に好ましい。現像液のpHは中性付近(例えば、6〜8)又は塩基性(例えば、9〜14)が好ましく、また、現像液は、界面活性剤等の添加剤を含んでもよい。
本実施例において、重合体の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定した。測定に用いた装置、測定条件は次の通りである。
装置:TOSOH HLC−8320GPC system
カラム:Shodex(登録商標)KF−803L、KF−802及びKF−801
カラム温度:40℃
溶離液:DMF
流量:0.6ml/分
検出器:RI
標準試料:ポリスチレン
本実施例において、電界紡糸法による繊維の製造は、エスプレイヤーES−2000(株式会社フューエンス製)を用いて実施した。繊維製造用組成物は、1mlのロック式ガラス注射筒(アズワン株式会社製)に注入し、針長13mmのロック式金属製ニードル24G(武蔵エンジニアリング株式会社製)を取り付けた。ニードル先端から繊維を受け取る基板までの距離(吐出距離)は20cmとした。印加電圧は25kVとし、吐出速度は10μl/minとした。
N−イソプロピルアクリルアミド20.0g(0.177mol)、2−ヒドロキシエチルアクリレート5.13g(0.044mol)及び2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(和光純薬工業株式会社製)0.25gをプロピレングリコールモノメチルエーテル25.1gに溶解させ、窒素雰囲気下80℃で24時間反応させ、重合体1を含む溶液を得た。仕込み通りに反応が進行しているとすると、重合体1の全構造単位に対する、N−イソプロピルアクリルアミドに由来する構造単位の含有割合は80モル%であり、2−ヒドロキシエチルアクリレートに由来する構造単位の含有割合は20モル%である。重合体1の重量平均分子量は、ポリスチレン換算で19,000であった。
(実施例1)
重合体1を含む溶液2gにα−(メチルスルホニルオキシイミノ)−4−メトキシベンジルシアニド(商品名:PAI−1001、みどり化学(株)製)0.05g、1,3,4,6−テトラキス(メトキシメチル)グリコールウリル0.015g及びプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)0.597gを加え、実施例1の感光性繊維製造用組成物を調製した。当該感光性繊維製造用組成物における固形分(重合体1、α−(メチルスルホニルオキシイミノ)−4−メトキシベンジルシアニド及び1,3,4,6−テトラキス(メトキシメチル)グリコールウリル)の含有割合は、約40重量%である。
(実施例2)
デキストリン誘導体(製品名:GS−AB1、デキストリンの末端基割合:ヒドロキシ基30%、アセトキシ基52.5%、ベンゾイル基17.5%、群栄化学工業(株)製、重量平均分子量:3,920)1.5g、α−(メチルスルホニルオキシイミノ)−4−メトキシベンジルシアニド(商品名:PAI−1001、みどり化学(株)製)0.075g、1,3,4,6−テトラキス(メトキシメチル)グリコールウリル0.225g及びPGME1.2gを加え、実施例2の感光性繊維製造用組成物を調製した。当該感光性繊維製造用組成物における固形分(デキストリン誘導体、α−(メチルスルホニルオキシイミノ)−4−メトキシベンジルシアニド及び1,3,4,6−テトラキス(メトキシメチル)グリコールウリル)の含有割合は、約60重量%である。
α−(メチルスルホニルオキシイミノ)−4−メトキシベンジルシアニドを加えなかったこと以外は、実施例1と同様にして比較例1の感光性繊維製造用組成物を調製した。
実施例1の感光性繊維製造用組成物を電界紡糸法にて、シリコンウエハ上に、直径が約1〜5μmの繊維を紡糸し、繊維層を形成した。当該繊維層を、走査型電子顕微鏡(SEM)(S−4800、株式会社日立ハイテクノロジーズ製)を使用して撮影した写真を、図1に示す。次いで該繊維層を、i線アライナーPLA−501((株)キヤノン製、露光量:1000mJ/cm2)を使用し、マスクを介して露光した。露光後、ホットプレート上で、140℃で5分間加熱(PEB)し、水に10分間暴露した。その後、100℃で1分間加熱して乾燥させ、(200μm×200μm)の繊維パターンを得た。当該繊維パターンのSEM写真を図2に示す。また当該繊維パターンの一部断面の拡大図のSEM写真を図3に、当該繊維パターンの繊維部のSEM写真(図3の繊維部の一部の拡大図)を図4に示す。
実施例1の感光性繊維製造用組成物を電界紡糸法にて、直径が約1〜5μmの繊維を紡糸し、シリコンウエハ上に該繊維の繊維層を形成した。次いで該繊維を20℃及び40℃の水に10分間浸漬させた後、光学顕微鏡にて繊維の状態を観察した(図5及び6)。観察の結果、20℃では繊維が膨潤し、40℃では繊維が収縮していたことから、当該繊維は温度応答性を有することが示された。
実施例2の感光性繊維製造用組成物を電界紡糸法にて紡糸して繊維層を形成した後、当該繊維層をi線アライナーPLA−501((株)キヤノン製、露光量:1000mJ/cm2)を使用して露光した。露光後、120℃でPEB(Post Exposure Bake)を20分間行い、続いてPGMEに室温で1分間浸漬した後、100℃で30分間加熱して乾燥させた。当該繊維層のSEM写真を図7に示す。
また本発明によれば、複雑で微細な繊維パターンを簡便に得ることができ、表面に複雑で微細な繊維パターンを有する基材を提供できる。
さらに、そのリソグラフィー処理で加工された繊維パターンはもちろん、その形成されている繊維による、例えば100nm〜50μmのランダムな微細パターンを利用した応用(例えば、不規則なランダム微細パターンを利用したエッチングマスクとしての利用)が期待できる。
Claims (29)
- (A)ヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基及び炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基から選ばれる少なくとも1種の有機基を側鎖に有する構造単位を含む高分子化合物、および
(B)光酸発生剤
を含む、繊維。 - 上記(A)高分子化合物が、(A1)一般式(1):
R1は、水素原子又はメチル基を示し、
Q1は、エステル結合又はアミド結合を示し、
R2は、少なくとも1個の水素原子がヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基又は炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基で置換されている炭素原子数1〜10のアルキル基又は炭素原子数6〜10の芳香族炭化水素基を示す。〕
で表される構造単位を含む高分子化合物を含む、請求項1記載の繊維。 - 上記(A1)高分子化合物が、一般式(2):
R3は、水素原子又はメチル基を示し、
R4およびR5は、同一または異なっていてもよく、水素原子又はヒドロキシ基若しくはカルボキシ基で置換されていてもよい炭素原子数1〜4のアルキル基を示す。〕
で表される構造単位をさらに含む、請求項2記載の繊維。 - 上記(A1)高分子化合物の重量平均分子量が、1,000〜1,000,000である、請求項2または3記載の繊維。
- 上記(A)高分子化合物が、(A2)天然高分子自体であるか、或いは、(A2)天然高分子を含む、請求項1記載の繊維。
- 上記(A2)天然高分子が、デキストリン及びその誘導体から選ばれる少なくとも1種を含む、請求項5記載の繊維。
- 上記(A2)天然高分子が、生体高分子を含む、請求項5記載の繊維。
- (C)架橋剤をさらに含む、請求項1〜7のいずれか1項記載の繊維。
- 感光性繊維である、請求項1〜8のいずれか1項記載の繊維。
- ナノ繊維及び/又はマイクロ繊維である、請求項1〜9のいずれか1項記載の繊維。
- (A)ヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基及び炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基から選ばれる少なくとも1種の有機基を側鎖に有する構造単位を含む高分子化合物、
(B)光酸発生剤、および
(D)溶剤
を含有する感光性繊維製造用組成物。 - 上記(A)高分子化合物が、(A1)一般式(1):
R1は、水素原子又はメチル基を示し、
Q1は、エステル結合又はアミド結合を示し、
R2は、少なくとも1個の水素原子がヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基又は炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基で置換されている炭素原子数1〜10のアルキル基又は炭素原子数6〜10の芳香族炭化水素基を示す。〕
で表される構造単位を含む高分子化合物を含む、請求項11記載の組成物。 - 上記(A1)高分子化合物が、一般式(2):
R3は、水素原子又はメチル基を示し、
R4およびR5は、同一または異なっていてもよく、水素原子又はヒドロキシ基若しくはカルボキシ基で置換されていてもよい炭素原子数1〜4のアルキル基を示す。〕
で表される構造単位をさらに含む、請求項12記載の組成物。 - 上記(A1)高分子化合物の重量平均分子量が、1,000〜1,000,000である、請求項12または13記載の組成物。
- 上記(A)高分子化合物が、(A2)天然高分子自体であるか、或いは、(A2)天然高分子を含む、請求項11記載の組成物。
- 上記(A2)天然高分子が、デキストリン及びその誘導体から選ばれる少なくとも1種を含む、請求項15記載の組成物。
- 上記(A2)天然高分子が、生体高分子を含む、請求項15記載の組成物。
- (C)架橋剤をさらに含む、請求項11〜17のいずれか1項記載の組成物。
- 上記(A)高分子化合物の含有割合が、1〜90重量%である、請求項11〜18のいずれか1項記載の組成物。
- 請求項11〜19のいずれか1項記載の組成物を紡糸する工程を含む、繊維の製造方法。
- 上記紡糸が、電界紡糸である、請求項20記載の方法。
- 紡糸した繊維を、70〜300℃の範囲で加熱する工程を含む、請求項20又は21記載の方法。
- 基材上に、感光性繊維による繊維層を形成する第1工程、
該繊維層を、マスクを介して露光する第2工程、及び
該繊維層を、現像液により現像する第3工程
を含む、繊維パターンの形成方法。 - 上記感光性繊維が、請求項1〜10のいずれか1項記載の繊維である、請求項23に記載の方法。
- 第2工程において、露光した後に繊維を加熱する、請求項23又は24記載の方法。
- 上記現像液が、水又は有機溶媒を含む、請求項23〜25のいずれか1項記載の方法。
- 請求項1〜10のいずれか1項記載の繊維を用いて形成された繊維パターン。
- 表面に請求項27記載の繊維パターンを有する基材。
- 請求項1〜10のいずれか1項記載の繊維または請求項27記載の繊維パターンを含む、生体適合材料。
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