JP6706728B2 - 生体適合性塗布膜形成用組成物 - Google Patents
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Description
[2]上記(D)炭素原子数2〜5のメトキシアルコールが、2−メトキシエタノールである、[1]記載の組成物。
[3]上記(A)有機重合体が、ヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基及び炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基から選ばれる少なくとも1種の有機基を側鎖に有する構造単位を含む有機重合体を含む、[1]又は[2]記載の組成物。
[4]上記(A)有機重合体が、
(A1)一般式(1):
R1は、水素原子又はメチル基を示し、
Q1は、エステル結合又はアミド結合を示し、
R2は、少なくとも1個の水素原子がヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基又は炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基で置換されている炭素原子数1〜10のアルキル基又は炭素原子数6〜10の芳香族炭化水素基を示す。〕
で表される構造単位を含む有機重合体を含む、[1]〜[3]のいずれか1つに記載の組成物。
[5]上記(A1)有機重合体が、
一般式(2):
R3は、水素原子又はメチル基を示し、
R4およびR5は、同一または異なっていてもよく、水素原子又はヒドロキシ基若しくはカルボキシ基で置換されていてもよい炭素原子数1〜4のアルキル基を示す。〕
で表される構造単位をさらに含む、[4]記載の組成物。
[6]さらに(B)光酸発生剤を含む、[1]〜[5]のいずれか1つに記載の組成物。
[7][1]〜[6]のいずれか1つに記載の組成物で形成された塗布膜を表面に有する基材。
[8]基材がポリスチレンを含む、[7]記載の基材。
[9]基材の表面に、[1]〜[6]のいずれか1つに記載の組成物を用いて塗布膜を形成する工程を含む、表面に塗布膜を有する基材の製造方法。
[10]基材がポリスチレンを含む、[9]記載の製造方法。
[11][6]記載の組成物を用いて形成されたパターンを表面に有する基材。
[12]基材の表面に、[6]記載の組成物を用いて塗布膜を形成する工程、該塗布膜に光を照射する工程、及び露光後の塗布膜を現像する工程を含む、パターン付き基材の製造方法。
[13]基材の表面に、[6]記載の組成物を用いて塗布膜を形成する工程、該塗布膜に光を照射する工程、及び露光後の塗布膜を現像する工程を含む、パターン形成方法。
また本発明の組成物は、光酸発生剤を含有する場合、感光性を有する塗布膜を形成し得る。この場合、フォトリソグラフィ法にて生体適合性塗布膜パターンの形成が可能である。また当該特定のパターン付き基材を製造できる。
また本発明の組成物は、例えば、下記一般式(2)で表される構造単位を含む、温度応答性の有機重合体を用いた場合、温度応答性を有する塗布膜を形成し得る。この場合、温度応答性を有する特定のパターン付き基材を製造し提供することができる。
本発明の生体適合性塗布膜形成用組成物は、(A)有機重合体と、溶剤として(D)炭素原子数2〜5のメトキシアルコールとを含むことが主たる特徴である。
(A)有機重合体は、塗布膜形成用組成物に使用可能であれば、特に制限されないが、好ましくはヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基及び炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基から選ばれる少なくとも1種の有機基を側鎖に有する構造単位を含む有機重合体である。当該(A)有機重合体としては、例えば、オレフィンが反応したビニル重合ポリマー、ポリアミド、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタン、(メタ)アクリレート化合物を重合させた(メタ)アクリルポリマー等が挙げられるが、これらに制限されない。これらの(A)有機重合体は、ラジカル重合して得られたものが望ましいが、重縮合、重付加反応させたものも使用できる。これらの中でも特にオレフィンが反応したビニル重合ポリマー又は(メタ)アクリレート化合物を重合させた(メタ)アクリルポリマーが望ましい。
なお、本発明では(メタ)アクリレート化合物とは、アクリレート化合物とメタクリレート化合物の両方をいう。例えば(メタ)アクリル酸は、アクリル酸とメタクリル酸をいう。
(A)有機重合体は、好ましくは、一般式(1):
R1は、水素原子又はメチル基を示し、
Q1は、エステル結合又はアミド結合を示し、
R2は、少なくとも1個の水素原子がヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基又は炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基で置換されている炭素原子数1〜10のアルキル基又は炭素原子数6〜10の芳香族炭化水素基を示す。〕
で表される構造単位を含む有機重合体(以下、単に「成分A1」とも称する)を含む。より好ましくは、(A)有機重合体は、成分A1である。
「炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基」は、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよく、その具体例としては、上記と同様のものが挙げられ、好適な炭素原子数も上記と同様である。
「炭素原子数1〜10のアルキル基」は、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、1−エチルプロピル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、1,1−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、2−エチルブチル基、ヘキシル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。該アルキル基の炭素原子数は、好ましくは1〜6であり、より好ましくは1〜4である。
また、R2における炭素原子数6〜10の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等が挙げられる。
R2は、本発明の組成物に後述の(B)光酸発生剤を含有させ、これを用いて形成された塗布膜に感光性を付与した場合に、本発明の組成物を用いて形成された塗布膜の露光後に、(B)光酸発生剤を触媒として反応性を有する架橋反応部位として作用させる観点から、好ましくは、少なくとも1個の水素原子がヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基又は炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基(より好ましくはヒドロキシ基)で置換されている炭素原子数1〜10(より好ましくは1〜6、特に好ましくは1〜4)のアルキル基、又は少なくとも1個の水素原子がヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基又は炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基(より好ましくはヒドロキシ基)で置換されているフェニル基である。
R3は、水素原子又はメチル基を示し、
R4およびR5は、同一または異なっていてもよく、水素原子又はヒドロキシ基若しくはカルボキシ基で置換されていてもよい炭素原子数1〜4のアルキル基を示す。〕
で表される構造単位を含むことが望ましい。
本発明において「ヒドロキシ基若しくはカルボキシ基で置換されていてもよい」とは上記「炭素原子数1〜4のアルキル基」に含まれる水素原子の一部又は全部がヒドロキシ基若しくはカルボキシ基で置換されていてもよいことを示す。
一般式(2)で表される構造単位は、R3が、水素原子又はメチル基であり、R4およびR5がともにメチル基であるのがより好ましい。
成分A1が、一般式(2)で表される構造単位を有する場合、本発明の組成物を用いて形成された塗布膜は温度応答性を有する。この場合、成分A1の全構造単位に対する、一般式(2)で表される構造単位の含有割合は、60〜95モル%が好ましい。なお、本発明の組成物を用いて形成された塗布膜は、温度応答性を有することで、例えば、温度に応じて大きさが変化する塗布膜パターンを形成することができ、当該塗布膜及び塗布膜パターンは、例えば(i)水や薬剤等を塗布膜内に留まらせたり、放出したりできるドラッグデリバリーシステム(DDS)や薬剤シートへの応用、(ii)表面の疎水/親水を制御することで、物質の付着性を制御できるデバイス等への応用等が期待される点で有利である。
例えば疎水性の側鎖を有する、アルキル基の炭素原子数が1〜10の(メタ)アクリル酸エステル類やベンジル(メタ)アクリレート等を使用した場合、成分A1の親疎水バランスを調整することができる。
本発明の塗布膜形成組成物は、(B)光酸発生剤(以下、単に「成分B」とも称する)を含んでいてもよい。成分Bは、露光により直接若しくは間接的に酸を発生する化合物であれば特に制限はなく、例えば、ジアゾメタン化合物、オニウム塩化合物、スルホンイミド化合物、ニトロベンジル化合物、鉄アレーン錯体、ベンゾイントシラート化合物、ハロゲン含有トリアジン化合物、シアノ基含有オキシムスルホナート化合物及びナフタルイミド系化合物等が挙げられる。
本発明の塗布膜形成用組成物は、酸存在下で反応性基と反応する(C)架橋剤(以下、単に「成分C」とも称する)を含有することが好ましい。(C)架橋剤は1種のみを使用してもよく、2種以上を併用してもよい。なお、(A)有機重合体中に互いに反応する2種以上の反応性基が存在する場合には、(A)有機重合体は架橋剤無しで架橋することができる(自己架橋)。このような場合には、本発明の塗布膜形成用組成物は(C)架橋剤を含まなくてもよい。
本発明の塗布膜形成用組成物は、溶剤として、(D)炭素原子数2〜5のメトキシアルコール(以下、単に「成分D」とも称する)を含む。当該成分Dが溶剤として用いられることで、本発明の組成物は、特に樹脂製基材を侵食することなく、生体適合性塗布膜を形成できる。
本発明の塗布膜形成用組成物が成分Bを含有する場合、当該塗布膜形成用組成物における成分Bの含有割合(即ち、塗布膜形成用組成物を基準する成分Bの含有量)は、温度応答性樹脂の特性を保つ観点から、0.01〜50重量%が好ましく、0.05〜40重量%がより好ましく、0.1〜20重量%が特に好ましい。
本発明の塗布膜形成用組成物が成分Bを含有する場合、本発明の塗布膜形成用組成物に含まれる成分Aと成分Bの重量比(成分Aの重量/成分Bの重量)は、成分Aと成分Bとの反応効率の観点から、0.01〜50が好ましく、0.1〜40がより好ましい。
本発明の塗布膜形成用組成物が成分Cを含有する場合、本発明の塗布膜形成用組成物における成分Cの含有割合(即ち、塗布膜形成用組成物を基準する成分Cの含有量)は、成分Aとの反応効率の観点から、0.01〜15重量%が好ましく、0.03〜10重量%がより好ましく、0.05〜5重量%が特に好ましい。
本発明の塗布膜形成用組成物を用いて形成された塗布膜を表面の少なくとも一部に有する基材は、本発明の塗布膜形成用組成物を、例えばスピンコート、スリットコート等の方法で基材の表面の少なくとも一部に塗布した後、溶剤を除去することによって、塗布膜を基材の表面の少なくとも一部に形成することで製造できる。本発明は、このような塗布膜を有する基材も提供する。
2種以上のパターンを有する基材は、組成が異なる塗布膜形成用組成物毎に上記操作を繰り返すことによって、製造することができる。
本実施例において、有機重合体1の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定した。測定に用いた装置、測定条件は次の通りである
装置:TOSOH HLC−8320GPC system
カラム:Shodex(登録商標)KF−803L、KF−802及びKF−801
カラム温度:40℃
溶離液:DMF
流量:0.6ml/分
検出器:RI
標準試料:ポリスチレン
N−イソプロピルアクリルアミド20.0g(0.177mol)、2−ヒドロキシエチルアクリレート5.13g(0.044mol)及び2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(和光純薬工業株式会社製)0.25gをプロピレングリコールモノメチルエーテル25.1gに溶解させ、窒素雰囲気下80℃で24時間反応させ、有機重合体1を含む溶液を得た。その後、ヘキサンで再沈殿させ、得られた沈殿を真空オーブン下40℃で乾燥させた。仕込み通りに反応が進行しているとすると、有機重合体1の全構造単位に対する、N−イソプロピルアクリルアミドに由来する構造単位の含有割合は80モル%であり、2−ヒドロキシエチルアクリレートに由来する構造単位の含有割合は20モル%である。有機重合体1の重量平均分子量は、ポリスチレン換算で19,000であった。
<実施例1>
有機重合体1:0.5gに、架橋剤(1,3,4,6−テトラキス(メトキシメチル)グリコールウリル)0.035g、光酸発生剤(6−(n−ブチルチオ)−2−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)−2−アザ−2H−フェナレン−1,3−ジオン)0.075g、および2−メトキシエタノール50.2gを加え、塗布膜形成用組成物1を得た。
実施例1の2−メトキシエタノールを表1記載の溶剤に変えた以外は、実施例1と同様にして塗布膜形成用組成物2〜18を得た。
ポリスチレン製アズノールシャーレ(φ(ファイ)40×15)(アズワン株式会社製)へ表1記載の溶剤を1mL入れ24時間室温で放置した。その後プラシャーレ内の溶剤を回収した後、プラシャーレの性状を見ることで当該プラシャーレの溶剤耐性を確認した。プラシャーレへの溶剤試験後性状の評価は、変化のなかったもの(白濁、溶解及び割れが確認されなかったもの)を「○」とし、白濁、溶解及び割れの少なくとも一つが確認されたものを「×」として行った。結果を表1に示す。
実施例1及び比較例1〜17の塗布膜形成用組成物中に含まれる固形分の溶解状態を目視観察した。各塗布膜形成用組成物の溶解性は、下記の基準に従って評価した。
○;沈殿等が発生せず、透明液体状態。
×;組成物中の固形分が完全溶解せず、析出した状態。
結果を表1に示す。
塗布膜形成用組成物1を、シリコンウェハ上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上で80℃で1分間プリベークしてシリコンウェハ上に塗布膜を形成した。次いで、i線アライナーPLA−501(キヤノン(株)製)を用いて、露光量を変化させて塗布膜を露光した。次いで、オーブン中で80℃で20時間、露光後ベーク(PEB)した。露光後ベークした塗布膜をイソプロピルアルコールで1分間曝露し、その後60℃の水で3分間振とうしながらリンスを行った。その後、塗布膜を60℃で10分間乾燥させ、露光エリアの塗布膜の膜厚を測定した。結果を図1に示す。
なお、露光後ベーク(PEB)の時間を20時間から5時間に変えた以外は上記と同様に行った場合も、上記と同様の結果が得られた。
塗布膜形成用組成物1を、Nunc Thermanoxカバースリップ(ポリエステル製)(Thermo Fisher Scientific, Inc.社製)上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上において80℃で1分間プリベークしてシリコンウェハ上に塗布膜を形成した。次いで、i線アライナーPLA−501(キヤノン(株)製、露光量:2000mJ/cm2)を用いて、間隔20μmのラインパターンのマスク(すなわち、開口部幅20μm、マスク部幅20μmのマスク)を介して露光した。次いで、オーブン中で80℃で20時間露光後ベーク(PEB)した。露光後ベークした塗布膜をイソプロピルアルコールで1分間曝露し、その後60℃の水で3分間振とうしながらリンスを行った。その後、60℃で10分間乾燥させ、パターン付き基材を得た。パターン付き基材の表面を原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope、AFM)(ブルカー・エイエックスエス(株)製「Dimension Icon」)を用いて観察し、パターン(塗布膜)がある部分およびパターンが無い部分の厚さ及び幅を測定した。結果を図2に示す。
Claims (6)
- (A1)一般式(1):
〔式中、
R 1 は、水素原子又はメチル基を示し、
Q 1 は、エステル結合又はアミド結合を示し、
R 2 は、少なくとも1個の水素原子がヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基又は炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基で置換されている炭素原子数1〜10のアルキル基又は炭素原子数6〜10の芳香族炭化水素基を示す。〕
で表される構造単位、及び、一般式(2):
〔式中、
R 3 は、水素原子又はメチル基を示し、
R 4 およびR 5 は、同一または異なっていてもよく、水素原子又はヒドロキシ基若しくはカルボキシ基で置換されていてもよい炭素原子数1〜4のアルキル基を示す。〕
で表される構造単位を含む有機重合体と、(B)光酸発生剤と、溶剤として(D)2−メトキシエタノールとを含む、ポリスチレンを含む基材への生体適合性塗布膜形成用組成物。 - 請求項1記載の組成物で形成された塗布膜を表面に有する、ポリスチレンを含む基材。
- ポリスチレンを含む基材の表面に、請求項1記載の組成物を用いて塗布膜を形成する工程を含む、表面に塗布膜を有する基材の製造方法。
- 請求項1記載の組成物を用いて形成されたパターンを表面に有する、ポリスチレンを含む基材。
- ポリスチレンを含む基材の表面に、請求項1記載の組成物を用いて塗布膜を形成する工程、該塗布膜に光を照射する工程、及び露光後の塗布膜を現像する工程を含む、パターン付き基材の製造方法。
- ポリスチレンを含む基材の表面に、請求項1記載の組成物を用いて塗布膜を形成する工程、該塗布膜に光を照射する工程、及び露光後の塗布膜を現像する工程を含む、パターン形成方法。
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