JPWO2015050007A1 - 金属調皮膜の製造方法及び車両用アウトサイドドアハンドル - Google Patents

Abstract

スパッタリングにより第１の成膜速度で非導電性の基材の表面にクロムからなる第１クロム皮膜を成膜する第１成膜工程と、スパッタリングにより第１の成膜速度よりも速い第２の成膜速度で第１クロム皮膜の表面にクロムからなる第２クロム皮膜を成膜する第２成膜工程と、第１クロム皮膜及び第２クロム皮膜に応力を加えることにより、第１クロム皮膜内及び第２クロム皮膜内にクラックを形成するクラック形成工程と、を含む、金属調皮膜の製造方法。【選択図】 図２

Description

本発明は、金属調皮膜の製造方法及び車両用アウトサイドドアハンドルに関する。本発明は特に、電波透過性及び電気絶縁性に優れ、且つ金属光沢を有する金属調皮膜の製造方法、及び、そのような金属調皮膜がハンドル本体の表面に形成された車両用アウトサイドドアハンドルに関する。

車両用アウトサイドドアハンドルとして、近年スマートハンドルが良く用いられる。スマートハンドルは、非導電性の樹脂基材で形成されユーザがドアを開くときに操作するハンドル本体と、ハンドル本体内に内蔵されスマートキーから送信された信号を受信するアンテナとを備える。また、意匠性を向上させるために、ハンドル本体（基材）の外表面には金属光沢を有する皮膜（以下、金属調皮膜という）が形成される。

スマートハンドルには、スマートキーから送信された信号を正確に受信する機能、ユーザがスマートハンドルの所定位置に接触した際にドアの開閉が成されるように、人体が所定位置に接触したことによる静電容量変化を正確に検知するための機能、が要求される。スマートキーから送信される電波を正確に受信するために、ハンドル本体の外表面に形成された金属調皮膜は高い電波透過性を有していなければならない。また、ユーザがスマートハンドルの所定位置以外の位置に接触した際における誤動作を防止するために、ハンドル本体の外表面に形成された金属調皮膜は高い電気絶縁性を有していなければならない。

特許文献１は、樹脂基材の表面に金属調皮膜としてのクロム皮膜を成膜する工程と、樹脂基材とともにクロム皮膜を加熱する工程とを含む金属調皮膜の製造方法を開示する。また、特許文献２は、非導電性のポリカーボネート樹脂基材表面に乾式メッキ（例えばスパッタリング）によりアルミニウム皮膜及びクロム皮膜を形成する工程と、ポリカーボネート樹脂基材とともにアルミニウム皮膜及びクロム皮膜を加熱する工程とを含む金属調皮膜の製造方法を開示する。これらの特許文献に記載の金属調皮膜の製造方法によれば、樹脂基材の加熱による体積膨張に起因した外部応力および金属調皮膜の加熱や酸化に起因した内部応力によって、金属調皮膜内にクラックが形成される。クラックが形成されて金属調皮膜が分断されることにより、金属調皮膜の電気絶縁性及び電波透過性が向上する。

特開２０１２−１５３９１０号公報 特開２００９−２８６０８２号公報

（発明が解決しようとする課題）
金属調皮膜をスパッタリングにより基材表面に成膜する場合、金属調皮膜内の内部応力は、成膜時に基材表面に付着する金属粒子の熱エネルギー等が金属調皮膜内に蓄積されることによっても生じる。金属調皮膜内に生じる内部応力は、成膜条件に応じて変化する。内部応力が高過ぎる場合、基材表面に成膜した金属調皮膜の密着性が悪化する（密着強度が低下する）とともに、クラック形成後における皮膜の鏡面性が低下する。そのため金属調皮膜が樹脂基材から剥離する虞がある上、湿式メッキ皮膜のような鏡面性の高い金属外観を得ることができない。

また、特許文献２のように２種類の金属（アルミニウムとクロム）を金属調皮膜の原料として用いた場合、材料コストが高い。また、複数のスパッタ源が必要になるため装置も高価である。さらに、特許文献２のような方法で２種類の金属（アルミニウムとクロム）を金属調皮膜の原料として用いて成膜した金属調皮膜は、アルミニウム金属側が意匠面を構成する。そのため、湿式メッキにより成膜された金属光沢を有する装飾用のクロムメッキ皮膜（装飾クロムメッキ皮膜）と比較した場合、意匠面の金属種の違いにより、色合いが異なる。よって、装飾クロムメッキされた部品の多い自動車部品の一つに特許文献２に記載の方法で製造された金属調皮膜で表面が被覆された部品を採用した場合、その部品と周辺の装飾クロムメッキされた部品との色合いの違いから一体感が損なわれる。特に、車両用アウトサイドドアハンドル付近の部品の表面には湿式メッキにより成膜された装飾クロムメッキ皮膜が施されている。このため、特許文献２に記載の方法で車両用アウトサイドドアハンドルのハンドル本体の表面に金属調皮膜を形成した場合、車両用アウトサイドドアハンドルのハンドル本体とその周辺部品との明度を一致させることが困難である。その結果、明度差により一体感が損なわれる虞が有る。

本発明は、基材との密着性の悪化が抑えられ、湿式メッキにより成膜された装飾クロム皮膜の明度に近い明度及び十分に高い鏡面性を持ち、且つ、電波透過性及び電気絶縁性に優れた金属調皮膜の製造方法を提供することを、目的とする。また、本発明は、上記した特性を持つ金属調皮膜がハンドル本体の表面に形成された車両用アウトサイドドアハンドルを提供することを、目的とする。

（課題を解決するための手段）
本発明は、非導電性の基材の表面に形成される金属調皮膜の製造方法であって、スパッタリングにより第１の成膜速度で基材の表面にクロムからなる第１クロム皮膜を成膜する第１成膜工程と、スパッタリングにより第１の成膜速度よりも高い第２の成膜速度で第１クロム皮膜の表面にクロムからなる第２クロム皮膜を成膜する第２成膜工程と、第１クロム皮膜及び第２クロム皮膜に応力を加えることにより、第１クロム皮膜内及び第２クロム皮膜内にクラックを形成するクラック形成工程と、を含む、金属調皮膜の製造方法を提供する。この場合、第１の成膜速度は、第１クロム皮膜が基材から剥離しない程度の密着強度を有し、且つ高い鏡面性が得られるような低い成膜速度であり、第２の成膜速度は、第２クロム皮膜の明度が予め定められた明度以上となるような高い成膜速度であるのがよい。

本発明によれば、成膜時に用いられる金属がクロムのみであるので、２種類以上の金属を用いる場合と比較して皮膜材料のコスト及び設備コストを低減することができる。また、第１成膜工程にて低速度（第１の成膜速度）で第１クロム皮膜を基材表面に成膜することにより、第１クロム皮膜内に生じる内部応力が小さくされる。すなわち応力が緩和される。その結果、基材とクロム皮膜との密着性の悪化が抑えられる。ただし、低速度で成膜したクロム皮膜の明度は、自動車部品に用いられる一般的な装飾クロムメッキ皮膜、即ち湿式メッキにより成膜されたクロムメッキ皮膜の明度よりも低い。そこで、本発明では、第１成膜工程で基材表面に成膜した第１クロム皮膜の表面に、第２成膜工程にて、第１の成膜速度よりも高い速度（第２の成膜速度）で第２クロム皮膜を成膜する。これにより表面のクロム皮膜（第２クロム皮膜）の明度が装飾クロムメッキ皮膜の明度に近づく。よって、本発明に係る製造方法により製造された金属調皮膜と装飾クロムメッキ皮膜との明度をほぼ一致させることができる。このため、本発明に係る製造方法により製造された金属調皮膜が形成された部品とその周辺の装飾クロムメッキ部品とによって一体感を創出することができる。

また、クラック形成工程にて第１クロム皮膜内及び第２クロム皮膜内にクラックが形成されるため、電気絶縁性及び電波透過性を向上させることができる。また、第１クロム皮膜の内部応力が小さいために、クラック形成工程を経て製造された金属調皮膜表面での拡散反射が抑えられる。これにより、金属調皮膜に高い鏡面性、具体的には湿式メッキにより成膜された装飾クロムメッキ皮膜と同等程度に高い鏡面性を持たせることができる。このように、本発明によれば、基材との密着性の悪化が抑えられて密着性が良好に保たれるとともに、湿式メッキにより成膜された装飾クロム皮膜の明度に近い明度と十分な鏡面性を持ち、且つ、電波透過性及び電気絶縁性に優れた金属調皮膜の製造方法を提供することができる。

第１の成膜速度、すなわち第１クロム皮膜の成膜速度は、第１クロム皮膜内に生じる内部応力が予め定められた内部応力以下であるような低い成膜速度であるのがよい。成膜速度と内部応力との間には相関関係が存在し、成膜速度が低いほど内部応力が小さい。内部応力が所定の応力以下となるように低い成膜速度で第１クロム皮膜を成膜することにより、基材との密着性の悪化を十分に抑えることができ、且つ十分な鏡面性を得ることができる。上記予め定められた内部応力は、３０００ＭＰａ程度であると良い。この程度以下の内部応力であれば、密着性に悪影響を及ぼさず、且つ、クラック形成後において金属調皮膜に十分な鏡面性を持たせることができる。

また、第２の成膜速度、すなわち第２クロム皮膜の成膜速度は、第２クロム皮膜の明度が装飾クロムメッキ皮膜の明度と同等となるように高い成膜速度であるのがよい。成膜速度と明度との間には相関関係が存在し、成膜速度が高いほど明度が高い。したがって、湿式メッキにより成膜された装飾クロムメッキ皮膜の明度と同等となるように高い成膜速度で第２クロム皮膜を成膜することにより、第２クロム皮膜で表面が覆われた部品の明度と装飾クロムメッキされた周辺部品の明度とを合わせることができる。なお、装飾クロムメッキ皮膜の明度は、Ｌ＊ａ＊ｂ表色系におけるＬ＊により表現した場合、８２〜８３程度である。したがって、第２成膜速度は、第２クロム皮膜の明度がＬ＊で表現した場合において、８０以上となるような成膜速度であるのがよい。

この場合、第１の成膜速度は０．６ｎｍ／ｓｅｃ．以下であり、第２の成膜速度は１．２ｎｍ／ｓｅｃ．以上であるのがよい。第１の成膜速度が０．６ｎｍ／ｓｅｃ．以下である場合、第１クロム皮膜内に生じる内部応力を十分に小さくできる。そのため、十分に応力緩和され、内部応力による基材とクロム皮膜との密着性の悪化が十分に抑えられるとともに、十分な鏡面性を得ることができる。よって、基材とクロム皮膜との密着性が良好に保たれ、クロム皮膜が剥離されてしまうなどの不具合を確実に防止できる。また、第２の成膜速度が１．２ｎｍ／ｓｅｃ．以上である場合、第２クロム皮膜の明度を、湿式メッキにより成膜された装飾クロムメッキ皮膜の明度に十分に近づけることができる。よって、第２クロム皮膜により表面が覆われた部品の明度と装飾クロムメッキされた周辺部品の明度とを合わせることができる。

また、第１成膜工程にて成膜される第１クロム皮膜の膜厚と第２成膜工程にて成膜される第２クロム皮膜の膜厚との和である総膜厚が、３０ｎｍ以上であるのがよい。金属調皮膜の明度は総膜厚にも関連している。総膜厚が３０ｎｍ未満である場合における金属調皮膜の明度は、湿式メッキにより成膜された装飾クロムメッキ皮膜の明度よりもかなり低い。一方、総膜厚が３０ｎｍ以上である場合における金属調皮膜の明度は湿式メッキにより成膜された装飾クロムメッキ皮膜の明度と同等である。

この場合、総膜厚が、５０ｎｍ以上であるのがよい。総膜厚が５０ｎｍ以上である場合、総膜厚が５０ｎｍ未満である場合に比べて、第２クロム皮膜の膜厚が厚い。このためより明度を高めることができる。また、総膜厚が５０ｎｍ以上である場合、膜厚のばらつきによって部分的に膜厚の薄い部分が形成された場合であっても、その部分の膜厚が３０ｎｍ以上である可能性が高い。このため、皮膜された全ての領域において、湿式メッキにより成膜された装飾クロムメッキ皮膜の明度に十分に近い明度を持つ金属調皮膜を成膜することができる。

また、第２成膜工程にて成膜される第２クロム皮膜が第１成膜工程にて成膜される第１クロム皮膜よりも厚いのがよい。第２クロム皮膜の成膜速度は第１クロム皮膜の成膜速度よりも速い。総膜厚が同じという条件下において、第２クロム皮膜が第１クロム皮膜よりも厚い場合に必要な成膜時間は、第２クロム皮膜が第１クロム皮膜と同じ厚みである場合に必要な成膜時間及び第２クロム皮膜が第１クロム皮膜よりも薄い場合に必要な成膜時間よりも短い。よって、成膜時間の短縮化を図ることができ、これにより生産性が向上する。加えて、第２クロム皮膜を厚く成膜することにより、より一層明度を高めることができる。この場合、第１クロム皮膜の膜厚Ｔ１に対する第２クロム皮膜の膜厚Ｔ２の比Ｒ（Ｔ２／Ｔ１）が、５以上であり且つ９以下であるのが良い。

また、本発明は、電気絶縁性及び電波透過性を有する車両用アウトサイドドアハンドルであって、車両のドアの外表面に取り付けられる非導電性のハンドル本体と、スパッタリングにより第１の成膜速度でハンドル本体の表面に成膜されたクロムからなる第１クロム皮膜と、スパッタリングにより第１の成膜速度よりも高い第２の成膜速度で第１クロム皮膜の表面に成膜されたクロムからなる第２クロム皮膜と、を備え、第１クロム皮膜内及び第２クロム皮膜内にクラックが形成されてなる、車両用アウトサイドドアハンドルを提供する。この場合、第１の成膜速度は、第１クロム皮膜が基材から剥離しない程度の密着強度を有し、且つ高い鏡面性が得られるような低い成膜速度であり、第２の成膜速度は、第２クロム皮膜の明度が予め定められた明度以上となるような高い成膜速度であるのがよい。また、第１の成膜速度は、第１クロム皮膜内に生じる内部応力が予め定められた内部応力以下となるような低い成膜速度であり、第２の成膜速度は、第２クロム皮膜の明度が装飾クロムメッキ皮膜の明度と同等となるような高い成膜速度であるのがよい。具体的には、第１の成膜速度は０．６ｎｍ／ｓｅｃ．以下であり、第２の成膜速度は１．２ｎｍ／ｓｅｃ．以上であるのがよい。また、第１クロム皮膜の膜厚と第２クロム皮膜の膜厚の和（総膜厚）は、３０ｎｍ以上であるのがよい。好ましくは、総膜厚は、５０ｎｍ以上であるのがよい。また、第２クロム皮膜の膜厚が、第１クロム皮膜の膜厚よりも厚いのがよい。この場合、第１クロム皮膜の膜厚Ｔ１に対する第２クロム皮膜の膜厚Ｔ２の比Ｒ（Ｔ２／Ｔ１）が、５以上であり且つ９以下であるのがよい。

上記発明によれば、湿式法によりクロムメッキされた周辺部品（装飾クロムメッキ部品）に近い明度及び高い鏡面性を持ち、且つ電波透過性及び電気絶縁性に優れた車両用アウトサイドドアハンドルを提供することができる。

第１成膜工程及び第２成膜工程に用いられるスパッタリング装置の概略図である。 実施例１〜５に係る製造方法により製造された金属調皮膜の断面の模式図である。 比較例１に係る製造方法により製造された金属調皮膜の断面の模式図である。 比較例２に係る製造方法により製造された金属調皮膜の断面の模式図である。 実施例１に係る製造方法により製造された金属調皮膜の表面の顕微鏡写真である。 実施例２に係る製造方法により製造された金属調皮膜の表面の顕微鏡写真である。 実施例３に係る製造方法により製造された金属調皮膜の表面の顕微鏡写真である。 実施例４に係る製造方法により製造された金属調皮膜の表面の顕微鏡写真である。 実施例５に係る製造方法により製造された金属調皮膜の表面の顕微鏡写真である。 比較例１に係る製造方法により製造された金属調皮膜の表面の顕微鏡写真である。 比較例２に係る製造方法により製造された金属調皮膜の表面の顕微鏡写真である。 成膜速度と内部応力との関係を示すグラフである。 成膜速度と明度との関係を示すグラフである。 成膜速度と拡散反射明度との関係を示すグラフである。 クロム皮膜の総膜厚と明度との関係を示すグラフである。 第１クロム皮膜の膜厚Ｔ１と第２クロム皮膜の膜厚Ｔ２との比Ｒ（Ｔ２／Ｔ１）と明度との関係を示すグラフである。 車両ドアに取付けられた車両用アウトサイドドアハンドルを示す図である。

本発明に係る金属調皮膜は、第１成膜工程と、第２成膜工程と、クラック形成工程とを経て製造される。図１は、第１成膜工程及び第２成膜工程に用いられるスパッタリング装置１の概略図である。図１に示すように、本実施形態に係るスパッタリング装置１は、内部に空間が形成されたケーシング２と、保持プレート３と、円板状のテーブル４とを備える。ケーシング２内にて保持プレート３とテーブル４とが図１において上下に対向して配置される。保持プレート３がテーブル４の上方に位置する。保持プレート３の図１において下面にクロムからなるターゲット５が保持される。

また、円板状のテーブル４は、その中心部分にて上下方向に延びた回転軸６に接続されていて、回転軸６を軸心として回転可能に構成される。テーブル４の図１において上面に基材７が載置される。テーブル４の回転に伴いテーブル４上の基材７も回転する。本実施形態において、基材７は車両用アウトサイドドアハンドルの外郭を構成するハンドル本体である。基材７は非導電性（絶縁性）の樹脂（ＰＣ（ポリカーボネート樹脂）とＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート樹脂）の合成樹脂）により形成される。また、基材７の表面に厚さ２０μｍのアクリル樹脂等からなる平滑層がＵＶ硬化により形成されている。この平滑層により基材７の表面が平滑化される。

図１に示すように、ケーシング２には、その内部に不活性ガスであるアルゴンガスを導入するための不活性ガス導入口２ａと、内部の空気を排気するための排気口２ｂが設けられる。さらに、ケーシング２には、内部のガス圧力（成膜圧力）を検出するための圧力センサ８が取り付けられる。

このスパッタリング装置１を用いて第１成膜工程及び第２成膜工程が実施される。この場合、まず、ケーシング２内を減圧し、次いで、ケーシング２内の圧力（成膜圧力）が所定の圧力となるようにアルゴンガスをケーシング２内に導入する。また、テーブル４とターゲット５との間でグロー放電を発生させて、ケーシング２内のアルゴンガスをプラズマ化する。これによりアルゴンイオンが生成される。生成したアルゴンイオン（Ａｒ^＋）が陰極を構成するターゲット５に衝突することによってターゲット５からクロム粒子が叩き出される。図１において、アルゴンイオンが白丸により示され、ターゲット５から叩き出されたクロム粒子が黒丸で示される。ターゲット５から叩き出されたクロム粒子は保持プレート３に対面配置されているテーブル４上の基材７の表面に衝突する。基材７の表面に衝突したクロム粒子が基材７の表面に堆積することにより、基材７の表面（平滑層の上面）にクロム皮膜が成膜される。

なお、上記説明のスパッタリング法は２極ＤＣグロー放電スパッタリング法であるが、これ以外の方式によるスパッタリング、例えば高周波スパッタリング法やマグネトロンスパッタリング法により、クロム皮膜を成膜してもよい。

第１成膜工程では、スパッタリングにより第１の成膜速度で基材７の表面にクロム皮膜（第１クロム皮膜）を成膜する。第２成膜工程は第１成膜工程が実施された後に第１成膜工程に連続して実施される。第２成膜工程では、スパッタリングにより第２の成膜速度で第１クロム皮膜の表面にクロム皮膜（第２クロム皮膜）をさらに成膜する。したがって、第１クロム皮膜と第２クロム皮膜が積層した２層構造のクロム皮膜が基材７の表面に成膜される。

第２成膜工程における成膜速度（第２の成膜速度）は、第１成膜工程における成膜速度（第１の成膜速度）よりも高い。つまり、第１成膜工程にて低速度でクロム皮膜が成膜され、次いで、第２成膜工程にて高速度でクロム皮膜が成膜される。

成膜時には、プラズマ化した高温のアルゴンイオンがターゲット５に衝突するため、ターゲット５から叩き出されたクロム粒子は大きな熱エネルギーを持つ。したがって、クロム皮膜の成膜時には大きな熱エネルギーを持ったクロム粒子が基材表面に堆積する。このとき成膜速度が高い（速い）と、基材７に付着したクロム粒子が十分に放熱する前に、そのクロム粒子にターゲット５から叩き出された別のクロム粒子が付着することによって、クロム粒子の十分な放熱が妨げられる。よって、成膜速度が高い場合は、クロム皮膜内に蓄積される熱量が大きい。内部に蓄積される熱量が大きい場合、大きな熱応力が内部応力としてクロム皮膜内で生じる。すなわち、クロム皮膜の成膜速度は内部応力と相関関係を有し、成膜速度が高いほど内部応力が大きい。したがって、成膜速度が高い場合、クロム皮膜内の内部応力が大きくなり、大きな内部応力によってクロム皮膜が大きく変形する。このため基材とクロム皮膜との密着性が悪化（密着強度が低下）する。また、内部応力が大きい場合、皮膜表面での拡散反射が大きくなって、鏡面性が低下する。

この点に関し、本実施形態では、第１成膜工程にて基材７の表面に成膜される第１クロム皮膜の成膜速度が、後の第２成膜工程にて第１クロム皮膜の表面に成膜される第２クロム皮膜の成膜速度よりも低い。つまり、基材７に直接被覆される第１クロム皮膜の成膜速度は低い。このため、第１クロム皮膜内に蓄積される熱量は少なく、第１クロム皮膜内に蓄積された熱に起因して生じる内部応力も小さい。このようにして第１クロム皮膜内の応力が緩和されるので、内部応力に起因した第１クロム皮膜の変形量も少なく、それ故に、基材７と第１クロム皮膜との密着性の悪化が十分に抑えられる。また、拡散反射が抑えられるので、鏡面性を高めることができる。

また、クロム皮膜の成膜速度はクロム皮膜表面の明度との間にも相関関係を有する。具体的には、成膜速度が低いほど明度が低く（暗く）、成膜速度が高いほど明度が高い（明るい）。上記したように、第１成膜工程における成膜速度は低いので、第１クロム皮膜の明度は低く、そのため第１クロム皮膜の表面は暗い印象を呈する。したがって、第１クロム皮膜を基材７に成膜しただけでは、クロム皮膜と基材との密着性が向上し、且つ十分な鏡面性が得られるものの、クロム皮膜の外観は暗くなる。また、自動車部品に用いられる装飾クロムメッキ部品の表面には、湿式メッキにより成膜された装飾クロムメッキ皮膜が形成されている。装飾クロムメッキ皮膜の明度は高い。従って、第１クロムメッキ皮膜と装飾クロムメッキ皮膜が隣接している場合、第１クロム皮膜の明度とそれに隣接した装飾クロムメッキ皮膜の明度が合わず、一体感が損なわれる。

そこで、本実施形態では、第２成膜工程にて、第１クロム皮膜の表面に、成膜速度の高い第２成膜速度で第２クロム皮膜を形成する。第２成膜速度は第１成膜速度よりも高い速度であるので、第２クロム皮膜の明度は第１クロム皮膜の明度よりも高く、それ故に装飾クロムメッキ皮膜の明度に近づけることができる。このため、装飾クロムメッキ部品が周辺部品を構成する場合には、第２クロム皮膜が表面に形成された部品の明度とその周辺部品の明度とを合わせることができる。このため一体感が損なわれることが防止される。このように、本実施形態においては、低速度の第１成膜工程と高速度の第２成膜工程を実施することで、クロム皮膜の高い密着性、十分な鏡面性、明るい外観を全て有する金属調皮膜を製造することができる。

第１、第２成膜工程後のクラック形成工程にて、第１クロム皮膜内及び第２クロム皮膜内にクラックが形成される。クラック形成工程では、例えば第１クロム皮膜及び第２クロム皮膜（以下、これらの皮膜を総称してクロム皮膜と呼ぶ場合がある）が形成された基材７を加熱することによって、クロム皮膜に熱応力を加える。この場合、クロム皮膜が形成された基材７を恒温槽に入れ、所定の温度で所定時間恒温槽内に保持することで、クロム皮膜の線膨張係数と基材７を構成する樹脂の線膨張係数との差に起因する熱応力をクロム皮膜に作用させることができる。こうしてクロム皮膜に熱応力（引張応力）を加えることにより、クロム皮膜が破れてクラックが形成される。

クラック形成工程により、第１クロム皮膜内及び第２クロム皮膜内にクラックが形成される。クラックの形成により第１クロム皮膜及び第２クロム皮膜がひび割れるように分断される。クロム皮膜がクラックで分断されることにより、電気絶縁性及び電波透過性が高められる。なお、クロム皮膜をクラックにより均一に分断させるために、第１成膜工程及び第２成膜工程の実施時に基材７及び第１クロム皮膜に複数の方向からクロム粒子を衝突させるとよい。特に、第１成膜工程及び第２成膜工程の実施時にテーブル４（基材７）をターゲット５に対して回転させるとよい。これによれば、クロム皮膜の膜厚が均一化され、部分的に膜厚の薄い箇所を作ることがないので、クロム皮膜の引張強度が均一化される。つまり、どの方向に引っ張っても同じ様な引張強度が得られる。そのため、クラック形成工程によりクロム皮膜に応力を加えたときに、均一にクラックが形成される。その結果、特定の方向に沿って電気絶縁性が小さくなるようなことを防止でき、高い電気絶縁性及び電波透過性を得ることができる。

また、クラック形成工程の実施後に、保護膜塗装工程を実施してもよい。この保護膜塗装工程により、第１クロム皮膜及び第２クロム皮膜が形成された基材７にアクリルウレタン系塗料などの透明樹脂が塗装される。この保護膜により第２クロム皮膜の表面が覆われるため、クラック形成工程にて形成されたクラックの変形を防止することができる。また、保護膜の形成によって、耐傷、耐摩耗、耐候性等の環境性能が向上する。

（実施例）
車両のアウトサイドドアハンドルのハンドル本体に用いられる基材７の表面に、アクリル系樹脂からなる厚さ２０μｍの平滑層を形成した。その後、基材７を図１に示すスパッタリング装置１のテーブル４上に載置した。また、ターゲット５としてのクロムのバルク金属（固体金属）を保持プレート３に取り付けた。そして、スパッタリング装置１を作動させることにより、基材７の表面（平滑層の表面）にクロム皮膜（第１クロム皮膜）を成膜した（第１成膜工程）。

第１成膜工程に連続して、スパッタリング装置１内にて、第１クロム皮膜の表面にクロム皮膜（第２クロム皮膜）を成膜した（第２成膜工程）。このようにして、第１クロム皮膜及び第２クロム皮膜からなる２層構造のクロム皮膜をスパッタリングにより成膜した。

ここで、第１成膜工程の実行時における成膜条件（成膜速度、膜厚、成膜圧力）及び、第２成膜工程の実行時における成膜条件（成膜速度、膜厚、成膜圧力）を、表１の実施例１〜５に示すように設定した。そして、設定した各成膜条件に従って、基材表面に第１クロム皮膜及び第２クロム皮膜を成膜した。表１からわかるように、各実施例においては、いずれも、第２成膜工程の実行時における成膜速度が、第１成膜工程の実行時における成膜速度よりも高い。

また、第１成膜工程の実施時及び第２成膜工程の実施時に、ターゲット５から叩き出されたクロム粒子を基材７及び第１クロム皮膜の表面に複数の方向から衝突させるために、ターゲット５に対して基材７を回転させた。この場合において、基材７が載置されたテーブル４の回転速度は１２０ｒｐｍとした。成膜後、基材７を恒温槽に入れ、８０℃の温度雰囲気中で３０分間保持することにより基材７を加熱し、基材７と第１クロム皮膜及び第２クロム皮膜との線膨張係数の差に起因した熱応力を第１クロム皮膜及び第２クロム皮膜に加えた。これにより第１クロム皮膜内及び第２クロム皮膜内にクラックを形成した（クラック形成工程）。その後、クラックが形成された第２クロム皮膜の表面に、保護膜としてアクリルウレタン系塗料を厚さ２０μｍとなるように塗装し、熱乾燥させた。このようにして、第１成膜工程、第２成膜工程、及びクラック形成工程とを経て金属調皮膜を製造した。以下においては、各実施例に示す成膜条件に従いクロム皮膜が成膜されてなる金属調皮膜を、各実施例に係る製造方法により製造された金属調皮膜と言う。

図２は、各実施例に係る製造方法により製造された金属調皮膜の断面の模式図である。図２に示すように、基材７の表面に、平滑層１１、第１クロム皮膜１２ａ、第２クロム皮膜１２ｂ、保護膜１３がこの順で積層している。また、クラック形成工程によってクラックＣが形成されており、このクラックＣの形成によって、第１クロム皮膜１２ａが分断されているとともに第２クロム皮膜１２ｂが分断されている。

各実施例に係る製造方法により製造された金属調皮膜が形成された基材７は、図１１に示すように車両用アウトサイドドアハンドルＨのハンドル本体Ｈ１として車両のドアＤＲの外表面に取り付けられる。したがって、この車両用アウトサイドドアハンドルＨは、車両のドアＤＲの外表面に取り付けられてユーザにより操作される非導電性のハンドル本体Ｈ１（基材７）と、スパッタリングにより第１の成膜速度でハンドル本体Ｈ１の表面に成膜されたクロムからなる第１クロム皮膜と、スパッタリングにより第１の成膜速度よりも高い第２の成膜速度で第１クロム皮膜の表面に成膜されたクロムからなる第２クロム皮膜と、を備える。そして、第１クロム皮膜内及び第２クロム皮膜内にクラックが形成されている。

（比較例１）
アクリル系樹脂からなる厚さ２０μｍの平滑層が形成された基材７を、図１に示すスパッタリング装置１のテーブル４上に載置した。また、ターゲット５としてクロムのバルク金属（固体金属）を保持プレート３に取り付けた。そして、成膜条件を以下のように設定して、スパッタリング装置１を作動させることにより、基材７の表面に単層のクロム皮膜を成膜した（成膜工程）。
・成膜速度：０．６ｎｍ／ｓｅｃ．
・膜厚：３０ｎｍ
・成膜圧力：０．３Ｐａ

また、成膜時にターゲット５に対して基材７を回転させた。この場合において、基材７が載置されたテーブル４の回転速度は１２０ｒｐｍとした。成膜後、基材７を恒温槽に入れ、８０℃の温度雰囲気中で３０分間保持することにより基材７を加熱し、基材７とクロム皮膜との線膨張係数の差に起因した熱応力をクロム皮膜に加えた。これによりクロム皮膜内にクラックを形成した（クラック形成工程）。その後、クラックが形成されたクロム皮膜の表面に、保護膜としてアクリルウレタン系塗料を厚さ２０μｍとなるように塗装し、その後、熱乾燥させた。このようにして金属調皮膜を製造した。

図３は、比較例１に係る製造方法により製造された金属調皮膜の断面の模式図である。図３に示すように、基材７の表面に、平滑層１１、クロム皮膜１２、保護膜１３がこの順に積層している。なお、比較例１に係るクロム皮膜１２の成膜速度（０．６ｎｍ／ｓｅｃ．）は、表１の各実施例に係る第１クロム皮膜１２ａの成膜速度に等しい。また、クラック形成工程によってクラックＣが形成されており、このクラックＣによって、クロム皮膜１２が分断されている。

（比較例２）
アクリル系樹脂からなる厚さ２０μｍの平滑層が形成された基材７を、図１に示すスパッタリング装置１のテーブル４上に載置した。また、ターゲット５としてクロムのバルク金属（固体金属）を保持プレート３に取り付けた。そして、成膜条件を以下のように設定して、スパッタリング装置１を作動させることにより、基材７の表面に単層のクロム皮膜を成膜した（成膜工程）。
・成膜速度：３．０ｎｍ／ｓｅｃ．
・膜厚：３０ｎｍ
・成膜圧力：０．３Ｐａ

また、成膜時にターゲット５に対して基材７を回転させた。この場合において、基材７が載置されたテーブル４の回転速度は１２０ｒｐｍとした。成膜後、基材７を恒温槽に入れ、８０℃の温度雰囲気中で３０分間保持することにより基材７を加熱し、基材７とクロム皮膜との線膨張係数の差に起因した熱応力をクロム皮膜に加えた。これによりクロム皮膜内にクラックを形成した（クラック形成工程）。その後、クラックが形成されたクロム皮膜の表面に、保護膜としてアクリルウレタン系塗料を厚さ２０μｍとなるように塗装し、その後、熱乾燥させた。このようにして金属調皮膜を製造した。

図４は、比較例２に係る製造方法により製造された金属調皮膜の断面の模式図である。図４に示すように、基材７の表面に、平滑層１１、クロム皮膜１２、保護膜１３がこの順に積層している。なお、比較例２に係るクロム皮膜１２の成膜速度（３．０ｎｍ／ｓｅｃ．）は、表１の各実施例に係る第２クロム皮膜１２ｂの成膜速度に等しい。また、クラック形成工程によってクラックＣが形成されており、このクラックＣによって、クロム皮膜１２が分断されている。

図５Ａは実施例１に係る製造方法により製造された金属調皮膜の顕微鏡写真、図５Ｂは実施例２に係る製造方法により製造された金属調皮膜の顕微鏡写真、図５Ｃは実施例３に係る製造方法により製造された金属調皮膜の顕微鏡写真、図５Ｄは実施例４に係る製造方法により製造された金属調皮膜の顕微鏡写真、図５Ｅは実施例５に係る製造方法により製造された金属調皮膜の顕微鏡写真、図５Ｆは比較例１に係る製造方法により製造された金属調皮膜の顕微鏡写真、図５Ｇは比較例２に係る製造方法により製造された金属調皮膜の顕微鏡写真である。これらの図からわかるように、全ての例において、金属調皮膜には網目状のクラックが形成されている。

また、各例に係る製造方法により製造された金属調皮膜の明度、拡散反射明度、表面抵抗を測定した。この場合、保護膜を塗装する前に明度、拡散反射明度、表面抵抗を測定した。明度及び拡散反射明度の測定には、コニカミノルタ社製の分光測色計ＣＭ−７００ｄを使用した。明度を測定する場合は測定モードをＳＣＩ（全反射測定）方式に設定し、拡散反射明度を測定する場合は測定モードをＳＣＥ（正反射光除去）方式に設定した。ＳＣＩ方式で測定した明度が高いほど、明るい外観を呈すると判断され、ＳＣＥ方式で測定した拡散反射明度が高いほど拡散反射光が強い、すなわち鏡面性が低いと判断される。なお、明度は、国際照明委員会（ＣＩＥ）で規格化され、日本でもＪＩＳ（ＪＩＳＺ８７２９）に採用されているＬ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるＬ＊によって表現した。また、表面抵抗の測定には、シート抵抗測定装置を使用した。この場合、１０^８Ω／□以上の抵抗値は三菱化学アナリテック製のハイレスタ ＵＰ ＭＣＰ-ＨＴ４５０により測定し、１０^８Ω／□未満の抵抗値は三菱化学アナリテック製のロレスタ ＧＰ ＭＣＰ−Ｔ６００により測定した。

さらに、各例に係る製造方法により製造された金属調皮膜について、外観評価、密着性評価、アンテナ機能評価、およびタッチセンサ機能評価を実施した。外観評価するにあたり、各例に係る製造方法により製造された金属調皮膜の表面を目視観察した。そして、表面の明度及び鏡面性が、湿式メッキにより成膜される装飾クロムメッキ皮膜の明度及び鏡面性と同等であって十分に装飾クロムメッキ部品と一体感を創出することができると判断した場合を合格（○）と評価し、そうでないと判断した場合を不合格（×）と評価した。また、密着性を評価するにあたり、まず、各例に係る製造方法により製造された金属調皮膜が形成された基材（サンプル）をキセノン灯式促進耐候性試験機に投入して促進耐候性試験（規定量の紫外線を照射し、その後の温水に浸漬する試験）を実施した。そして、促進耐候性試験後のサンプルについて、密着性を評価した。この場合、各サンプルに形成されている金属調皮膜をカッター等で１０×１０（１０行１０列）の升目に分割し、分割されている升目領域にテープを張り付け、その後、基材表面とのなす角が所定角度である方向に向けてテープを引っ張ってはがした。そして、テープが張られていた領域の升目を構成する金属調皮膜の剥離状態を観察し、剥離した升目が一つも無い場合を合格（○）と評価し、１つ以上である場合を不合格（×）と評価した。

また、「アンテナ機能評価」は、各例に係る製造方法により製造された金属調皮膜が表面に形成されたハンドル本体を備えるスマートハンドルの内部にアンテナを配置し、このアンテナが、外部のスマートキーからの信号を正確に受信するか否かに基づく評価である。アンテナがスマートキーからの信号を正確に受信した場合を合格（○）と評価し、正確に受信しなかった場合を不合格（×）と評価した。アンテナ機能評価が合格（○）である場合、金属調皮膜は高い電波透過性を有する。また、「タッチセンサ機能評価」は、各例に係る製造方法により製造された金属調皮膜が表面に形成されたハンドル本体を備えるスマートハンドルの所定の位置以外の位置に人の手が接触したときに車両ドアの開閉に関する誤作動を起こすか否かに基づく評価である。誤作動を起こさない場合を合格（○）と評価し、誤作動を起こす場合を不合格（×）と評価した。タッチセンサ機能評価が合格（○）である場合、金属調皮膜は高い電気絶縁性を有する。

表２に、各例に係る製造方法により製造された金属調皮膜の明度及び拡散反射明度の測定値、外観評価結果、密着性評価結果、表面抵抗の測定値、各例に係る製造方法により製造された金属調皮膜が表面に形成されたハンドル本体を用いた場合におけるアンテナ機能評価結果及びタッチセンサ機能評価結果を示す。また、表２には、各例に係る製造方法により製造された金属調皮膜の成膜条件（成膜速度、膜厚、成膜圧力）も合わせて示されている。なお、表２の成膜速度に関し、実施例１〜５の欄の上段に第１成膜工程における成膜速度が示され、下段に第２成膜工程における成膜速度が示される。また、表２の膜厚に関し、実施例１〜５の欄の左半部分の上段に第１クロム皮膜の膜厚が示され、左半部分の下段に第２クロム皮膜の膜厚が示され、右半部分に総膜厚（第１クロム皮膜の膜厚と第２クロム皮膜の膜厚との和）が示される。

表２に示すように、いずれの例においても、アンテナ機能評価及びタッチセンサ評価は合格（○）であった。また、実施例１〜５に係る製造方法により製造された金属調皮膜は鏡面性が高く且つ明るい金属外観を呈しており、その外観評価は合格（○）である。これに対し、比較例１に係る製造方法により製造された金属調皮膜は、鏡面性は高いが暗い金属外観を呈しており、明度の点において外観評価が不合格（×）である。また、比較例２に係る製造方法により製造された金属調皮膜は、明るい金属外観であるが、鏡面性が低く、白曇ったような外観を呈しており、鏡面性（拡散反射明度）の点において外観評価が不合格（×）である。また、密着性評価に関し、実施例１〜５及び比較例２は合格（○）であるのに対し、比較例２は不合格（×）である。このことから、実施例に係る製造方法により製造された金属調皮膜は、密着性が良好で、明度および鏡面性に関する外観上の意匠性も良く、且つ、電波透過性及び電気絶縁性に優れており、極めて有用であることがわかる。

（成膜速度と内部応力との関係）
クロム皮膜の成膜速度と内部応力との関係を調査するために、図１に示すスパッタリング装置１を用い、複数の成膜速度（０．６ｎｍ／ｓｅｃ．，１．４ｎｍ／ｓｅｃ．，２．０ｎｍ／ｓｅｃ．，３．０ｎｍ／ｓｅｃ．）でガラス基材にスパッタリングによりクロム皮膜を成膜した。なお、膜厚は３０ｎｍ、成膜圧力は０．３Ｐａである。また、成膜時にターゲット５に対してガラス基材を回転させた。成膜後、ガラス基材を恒温槽に入れ、８０℃の温度雰囲気中で３０分間保持することによりガラス基材を加熱してクロム皮膜内にクラックを形成した。その後、クロム皮膜内の内部応力を測定した。内部応力の測定にあたり、文献「材料」（Ｊ．Ｓｏｃ．Ｍａｔ．Ｓｃｉ．，Ｊａｐａｎ，Ｖｏｌ．５１，Ｎｏ．１２，ｐｐ．１４２９−１４３５，Ｄｅｃ．２００２）を参考にし、侵入深さ一定法により内部応力を測定した。

表３は、測定された内部応力を成膜速度ごとに示している。また、図６は、表３から得られる成膜速度と内部応力との関係を示すグラフであり、横軸が成膜速度（ｎｍ／ｓｅｃ．）、縦軸が内部応力（ＭＰａ）である。

図６からわかるように、成膜速度が低いほど内部応力が低下する。また、成膜速度が１．４ｎｍ／ｓｅｃ．以上である場合には内部応力は３０００ＭＰａよりも大きいのに対し、成膜速度が０．６ｎｍ／ｓｅｃ．である場合には内部応力が３０００ＭＰａ以下（具体的には約２０００ＭＰａ）である。内部応力が３０００ＭＰａ以下であれば、内部応力が密着力の低下に及ぼす影響が少ないと考えられる。このことから、０．６ｎｍ／ｓｅｃ．以下の低成膜速度で第１クロム皮膜を基材７の表面に成膜することにより、内部応力の大きさを十分に小さくして応力を緩和できることがわかる。内部応力が小さい場合、基材７と第１クロム皮膜との密着性の悪化を十分に抑えることができ、且つクラック形成後における鏡面性を高めることができる。故に、第１成膜工程時における成膜速度は０．６ｎｍ／ｓｅｃ．以下であるのがよい。

（成膜速度と、明度及び拡散反射明度との関係）
また、クロム皮膜の成膜速度と、明度及び拡散反射明度との関係を調査するために、図１に示すスパッタリング装置１を用い、複数の成膜速度（０．６ｎｍ／ｓｅｃ．，１．４ｎｍ／ｓｅｃ．，２．０ｎｍ／ｓｅｃ．，３．０ｎｍ／ｓｅｃ．）でガラス基材にスパッタリングによりクロム皮膜を成膜した。なお、膜厚は３０ｎｍ、成膜圧力は０．３Ｐａである。また、成膜時にターゲット５に対してガラス基材を回転させた。成膜後、ガラス基材を恒温槽に入れ、８０℃の温度雰囲気中で３０分間保持することによりガラス基材を加熱してクロム皮膜内にクラックを形成した。その後、クロム皮膜の明度及び拡散反射明度（Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるＬ＊）を上述の各例と同様の方法で測定した。

表４は、測定された明度及び拡散反射明度を成膜速度ごとに示している。また、図７は、表４から得られる成膜速度と明度との関係を示すグラフ、図８は、表４から得られる成膜速度と拡散反射明度との関係を示すグラフであり、それぞれ横軸が成膜速度（ｎｍ／ｓｅｃ．）、縦軸が明度（−）である。

図７からわかるように、成膜速度が高いほど明度Ｌ＊が高い。これは、成膜速度が高いほど皮膜の酸化度が低いためであると考えられる。湿式メッキにより成膜された装飾クロムメッキ皮膜の明度Ｌ＊が約８２〜８３であるので、成膜速度が１．２ｎｍ／ｍｉｎ．以上であれば、明度Ｌ＊が８０以上になって、表面の明度を装飾クロムメッキ部品の明度に近づけることができる。したがって、第２成膜工程時における成膜速度は１．２ｎｍ／ｓｅｃ．以上であるのがよい。また、成膜速度が１．８ｎｍ／ｍｉｎ．であれば、明度Ｌ＊が８２以上となって、より一層表面の明度を装飾クロムメッキ部品の明度に近づけることができる。したがって、より好ましくは、第２成膜工程時における成膜速度は１．８ｎｍ以上である。

また、図８からわかるように、成膜速度が高いほど拡散反射明度Ｌ＊が高い。拡散反射明度Ｌ＊が高いということは、乱反射が多く、正反射強度が低い（鏡面性が低い）ことを意味する。つまり、拡散反射明度Ｌ＊が高いほど鏡面性が低く、拡散反射明度Ｌ＊が低いほど鏡面性が高い。これらのことからすれば、成膜速度が低いほど鏡面性が高くなることがわかる。実施例１〜５では、第１クロム皮膜の成膜速度が０．６ｎｍ／ｓｅｃ．と低いので、鏡面性を高めることができる。また、装飾クロムメッキ皮膜の拡散反射明度が約１０程度であるので、成膜速度が０．６ｎｍ／ｓｅｃ．以下であれば、拡散反射明度を十分に低くすることができ、その結果、装飾クロムメッキと同等程度の高い鏡面性（すなわち十分な鏡面性）を得ることができる。なお、上記実施例１〜５では、第１クロム皮膜（内側のクロム皮膜）の成膜速度を低速度とし、第２クロム皮膜（外側のクロム皮膜）の成膜速度を高速度としている。したがって、内側のクロム皮膜の成膜速度のみを低速度（０．６ｎｍ／ｓｅｃ．）とした場合であっても、製造された金属調皮膜の拡散反射明度は低く、鏡面性が高まることがわかる。

図９は、実施例１，２，３に示す成膜条件により成膜されたクロム皮膜の総膜厚（第１クロム皮膜の膜厚と第２クロム皮膜の膜厚との和）と明度との関係を示すグラフである。実施例１，２，３に示す成膜条件によれば、いずれも、第１クロム皮膜の膜厚Ｔ１と第２クロム皮膜の膜厚Ｔ２が等しい。すなわち、図９には、第１クロム皮膜の膜厚Ｔ１に対する第２クロム皮膜の膜厚Ｔ２の比Ｒ（Ｔ２／Ｔ１）が一定であるという条件下において、総膜厚と明度との関係が表される。

図９に示すように、総膜厚が大きいほど、明度が高い傾向にある。また、総膜厚が３０ｎｍ以上である場合、明度が８２［Ｌ＊］以上である。このことから、総膜厚は３０ｎｍ以上であるのがよい。より好ましくは、総膜厚は５０ｎｍ以上であるのがよい。総膜厚が５０ｎｍ以上である場合、より明度を高めることができる。また、総膜厚が５０ｎｍ以上である場合、膜厚のばらつきによって部分的に膜厚の薄い部分が形成されたとしても、その部分の膜厚は３０ｎｍ以上である可能性が高い。このため、皮膜された全ての領域において明度を一定の明るさ以上に維持することができる。

図１０は、実施例１，３，４，５に示す成膜条件により成膜された第１クロム皮膜の膜厚Ｔ１と第２クロム皮膜の膜厚Ｔ２との比Ｒ（Ｔ２／Ｔ１）と明度との関係を示すグラフである。ここで、実施例１，４に示す成膜条件により成膜されたクロム皮膜の総膜厚はともに３０ｎｍであり、実施例３，５に係る成膜条件により成膜されたクロム皮膜の総膜厚はともに１００ｎｍである。従って、実施例１，４により、総膜厚３０ｎｍである場合における、比Ｒと明度との関係が示され、実施例３，５により、総膜厚１００ｎｍである場合における、比Ｒと明度との関係が示される。

図１０に示されるように、比Ｒが大きいほど、明度が高くなる傾向にある。従って、より明度の高い金属光沢を得るためには、総膜厚比Ｒが１よりも大きいのがよい。すなわち、第２クロム皮膜が第１クロム皮膜よりも厚くなるように、第１クロム皮膜と第２クロム皮膜が成膜されるとよい。また、第２クロム皮膜の成膜速度は第１クロム皮膜の成膜速度よりも速い。総膜厚が同じという条件下において、第２クロム皮膜が第１クロム皮膜よりも厚い場合に必要な成膜時間は、第２クロム皮膜が第１クロム皮膜と同じ厚みである場合に必要な成膜時間及び第２クロム皮膜が第１クロム皮膜よりも薄い場合に必要な成膜時間よりも短い。よって、第２成膜工程にて成膜される第２クロム皮膜が第１成膜工程で成膜される第１クロム皮膜よりも厚くなるように、第１クロム皮膜及び第２クロム皮膜が成膜される場合には、成膜時間の短縮化を図ることができ、これにより生産性を向上させることができる。

比Ｒは５以上であるのがよい。比Ｒが５以上である場合、成膜時間を大きく短縮することができる。また、比Ｒは９以下であるのがよい。クロム皮膜の膜厚は、材料コストを抑えるという観点からすれば、薄い方が良い。総膜厚が薄い場合に比Ｒが大きすぎると、第１クロム皮膜が薄くなりすぎて、密着性の低下が懸念される。よって、比Ｒは９以下であるのがよい。つまり、比Ｒの好ましい範囲は、５以上であり且つ９以下である。

以上のように、本実施形態に係る金属調皮膜の製造方法は、スパッタリングにより第１の成膜速度で非導電性の基材の表面にクロムからなる第１クロム皮膜を成膜する第１成膜工程と、スパッタリングにより第１の成膜速度よりも高い第２の成膜速度で第１クロム皮膜の表面にクロムからなる第２クロム皮膜を成膜する第２成膜工程と、第１クロム皮膜及び第２クロム皮膜に応力を加えることにより、第１クロム皮膜内及び第２クロム皮膜内にクラックを形成するクラック形成工程と、を含む。

本実施形態によれば、成膜時に用いられる金属がクロムのみであるので、２種類以上の金属を用いる場合と比較して皮膜材料のコスト及び設備コストを低減することができる。また、第１成膜工程にて低速度（第１の成膜速度）で第１クロム皮膜を基材表面に成膜することにより、第１クロム皮膜内に蓄積される熱量が低減される。蓄熱量の低減により第１クロム皮膜内に生じる内部応力が小さくされる（応力が緩和される）。その結果、基材とクロム皮膜との密着性の悪化が抑えられるとともに、高い鏡面性を得ることができる。また、第１成膜工程で基材表面に成膜した第１クロム皮膜の表面に、第２成膜工程にて、第１の成膜速度よりも速い高速度（第２の成膜速度）で第２クロム皮膜を成膜することにより、クロム皮膜（第２クロム皮膜）の明度が装飾クロムメッキ皮膜の明度と同等程度にされる。よって、本実施形態の製造方法により製造された金属調皮膜が形成された部品と他の装飾クロムメッキされた周辺部品とによって一体感を創出することができる。つまり、本実施形態によれば、クロム皮膜の高い密着性、装飾クロムメッキ相当の明るい外観、十分な鏡面性を兼ね備えた金属調皮膜を製造することができる。

また、クラック形成工程にて第１クロム皮膜内及び第２クロム皮膜内にクラックが形成されるため、電気絶縁性及び電波透過性を向上させることができる。このように、本実施形態によれば、基材７との密着性が良好であるとともに、装飾クロムメッキ皮膜の明度に近い明度及び十分な鏡面性を持ち、且つ、電波透過性及び電気絶縁性に優れた金属調皮膜の製造方法を提供することができる。

また、第１の成膜速度は、第１クロム皮膜が基材７から剥離しない程度（上述のような密着性評価に合格する程度）の密着強度を有し、且つ高い鏡面性が得られるような低い成膜速度であり、第２の成膜速度は、第２クロム皮膜の明度が予め定められた明度（例えばＬ＊で表現して８０）以上となるような高い成膜速度である。さらに、第１の成膜速度は、第１クロム皮膜内に生じる内部応力が予め定められた内部応力（例えば３０００ＭＰａ）以下となるような低い成膜速度であり，第２の成膜速度は、第２クロム皮膜の明度が装飾クロムメッキ皮膜の明度と同等（例えばＬ＊で表現した場合に８０以上）となるような高い成膜速度である。より具体的には、第１の成膜速度は０．６ｎｍ／ｓｅｃ．以下であり、第２の成膜速度は１．２ｎｍ／ｓｅｃ．以上である。

これによれば、基材７と第１クロム皮膜との密着性の悪化が十分に抑えられ、クロム皮膜が剥離されてしまうなどの不具合を防止でき、且つ十分な鏡面性が得られるとともに、第２クロム皮膜の明度を装飾クロムメッキ部品の明度に十分に近づけることができる。

また、第１クロム皮膜と第２クロム皮膜との和（総膜厚）を３０ｎｍ以上とすることにより、本実施形態に係る金属調皮膜の明度を装飾クロムメッキ皮膜の明度により一層近づけることができる。また、第２クロム皮膜の膜厚Ｔ２が第１クロム皮膜の膜厚Ｔ１よりも厚くなるように、即ち比Ｒ（Ｔ２／Ｔ１）が１よりも大きくなるように、クロム皮膜を成膜することにより、成膜時間の短縮化を図ることができる。

また、上記実施形態に係る金属調皮膜を車両用アウトサイドドアハンドルのハンドル本体表面に形成することにより、湿式メッキにより成膜された装飾クロムメッキ皮膜が施されている周辺部品との一体感を損なわず、密着性も良好であり、且つ電波透過性及び電気絶縁性に優れた車両用アウトサイドドアハンドルを提供することができる。

（課題を解決するための手段）
本発明は、非導電性の基材の表面に形成される金属調皮膜の製造方法であって、スパッタリングにより第１の成膜速度で基材の表面にクロムからなる第１クロム皮膜を成膜する第１成膜工程と、スパッタリングにより第１の成膜速度よりも高い第２の成膜速度で第１クロム皮膜の表面にクロムからなる第２クロム皮膜を成膜する第２成膜工程と、第１クロム皮膜及び第２クロム皮膜に応力を加えることにより、第１クロム皮膜内及び第２クロム皮膜内にクラックを形成するクラック形成工程と、を含み、前記第１の成膜速度は０．６ｎｍ／ｓｅｃ．以下であり、
前記第２の成膜速度は１．２ｎｍ／ｓｅｃ．以上である、金属調皮膜の製造方法を提供する。

本発明においては、第１の成膜速度は０．６ｎｍ／ｓｅｃ．以下であり、第２の成膜速度は１．２ｎｍ／ｓｅｃ．以上である。第１の成膜速度が０．６ｎｍ／ｓｅｃ．以下である場合、第１クロム皮膜内に生じる内部応力を十分に小さくできる。そのため、十分に応力緩和され、内部応力による基材とクロム皮膜との密着性の悪化が十分に抑えられるとともに、十分な鏡面性を得ることができる。よって、基材とクロム皮膜との密着性が良好に保たれ、クロム皮膜が剥離されてしまうなどの不具合を確実に防止できる。また、第２の成膜速度が１．２ｎｍ／ｓｅｃ．以上である場合、第２クロム皮膜の明度を、湿式メッキにより成膜された装飾クロムメッキ皮膜の明度に十分に近づけることができる。よって、第２クロム皮膜により表面が覆われた部品の明度と装飾クロムメッキされた周辺部品の明度とを合わせることができる。

Claims (16)

1. 非導電性の基材の表面に形成される金属調皮膜の製造方法であって、
   スパッタリングにより第１の成膜速度で前記基材の表面にクロムからなる第１クロム皮膜を成膜する第１成膜工程と、
   スパッタリングにより前記第１の成膜速度よりも高い第２の成膜速度で前記第１クロム皮膜の表面にクロムからなる第２クロム皮膜を成膜する第２成膜工程と、
   前記第１クロム皮膜及び前記第２クロム皮膜に応力を加えることにより、前記第１クロム皮膜内及び前記第２クロム皮膜内にクラックを形成するクラック形成工程と、
   を含む、金属調皮膜の製造方法。
2. 請求項１に記載の金属調皮膜の製造方法において、
   前記第１の成膜速度は、前記第１クロム皮膜が前記基材から剥離しない程度の密着強度を有し、且つ高い鏡面性が得られるような低い成膜速度であり、
   前記第２の成膜速度は、前記第２クロム皮膜の明度が予め定められた明度以上となるような高い成膜速度である、金属調皮膜の製造方法。
3. 請求項１または２に記載の金属調皮膜の製造方法において、
   前記第１の成膜速度は、前記第１クロム皮膜内に生じる内部応力が予め定められた内部応力以下となるような低い成膜速度であり、
   前記第２の成膜速度は、前記第２クロム皮膜の明度が装飾クロムメッキ皮膜の明度と同等となるような高い成膜速度である、金属調皮膜の製造方法。
4. 請求項１乃至３のいずれか１項に記載の金属調皮膜の製造方法において、
   前記第１の成膜速度は０．６ｎｍ／ｓｅｃ．以下であり、
   前記第２の成膜速度は１．２ｎｍ／ｓｅｃ．以上である、金属調皮膜の製造方法。
5. 請求項１乃至４のいずれか１項に記載の金属調皮膜の製造方法において、
   前記第１成膜工程にて成膜される前記第１クロム皮膜の膜厚と前記第２成膜工程にて成膜される前記第２クロム皮膜の膜厚との和である総膜厚が、３０ｎｍ以上である、金属調皮膜の製造方法。
6. 請求項５に記載の金属調皮膜の製造方法において、
   前記総膜厚が、５０ｎｍ以上である、金属調被膜の製造方法。
7. 請求項１乃至６のいずれか１項に記載の金属調皮膜の製造方法において、
   前記第２成膜工程にて成膜される前記第２クロム皮膜の膜厚が、前記第１成膜工程にて成膜される前記第１クロム皮膜よりも厚い、金属調皮膜の製造方法。
8. 請求項７に記載の金属調皮膜の製造方法において、
   前記第１クロム皮膜の膜厚Ｔ１に対する前記第２クロム皮膜の膜厚Ｔ２の比Ｒ（Ｔ２／Ｔ１）が、５以上であり且つ９以下である、金属調皮膜の製造方法。
9. 電気絶縁性及び電波透過性を有する車両用アウトサイドドアハンドルであって、
   車両のドアの外表面に取り付けられる非導電性のハンドル本体と、
   スパッタリングにより第１の成膜速度で前記ハンドル本体の表面に成膜されたクロムからなる第１クロム皮膜と、
   スパッタリングにより前記第１の成膜速度よりも高い第２の成膜速度で前記第１クロム皮膜の表面に成膜されたクロムからなる第２クロム皮膜と、を備え、
   前記第１クロム皮膜内及び前記第２クロム皮膜内にクラックが形成されてなる、
   車両用アウトサイドドアハンドル。
10. 請求項９に記載の車両用アウトサイドドアハンドルにおいて、
    前記第１の成膜速度は、前記第１クロム皮膜が前記基材から剥離しない程度の密着強度を有し、且つ高い鏡面性が得られるような低い成膜速度であり、
    前記第２の成膜速度は、前記第２クロム皮膜の明度が予め定められた明度以上となるような高い成膜速度である、車両用アウトサイドドアハンドル。
11. 請求項９または１０に記載の車両用アウトサイドドアハンドルにおいて、
    前記第１の成膜速度は、前記第１クロム皮膜内に生じる内部応力が予め定められた内部応力以下となるような低い成膜速度であり、
    前記第２の成膜速度は、前記第２クロム皮膜の明度が装飾クロムメッキ皮膜の明度と同等となるような高い成膜速度である、車両用アウトサイドドアハンドル。
12. 請求項９乃至１１のいずれか１項に記載の車両用アウトサイドドアハンドルにおいて、
    前記第１の成膜速度は０．６ｎｍ／ｓｅｃ．以下であり、
    前記第２の成膜速度は１．２ｎｍ／ｓｅｃ．以上である、車両用アウトサイドドアハンドル。
13. 請求項９乃至１２のいずれか１項に記載の車両用アウトサイドドアハンドルにおいて、
    前記第１クロム皮膜の膜厚と前記第２クロム皮膜の膜厚の和である総膜厚が、３０ｎｍ以上である、車両用アウトサイドドアハンドル。
14. 請求項１３に記載の車両用アウトサイドドアハンドルにおいて、
    前記総膜厚が、５０ｎｍ以上である、車両用アウトサイドドアハンドル。
15. 請求項９乃至１４のいずれか１項に記載の車両用アウトサイドドアハンドルにおいて、
    前記第２クロム皮膜の膜厚が、前記第１クロム皮膜の膜厚よりも厚い、車両用アウトサイドドアハンドル。
16. 請求項１５に記載の車両用アウトサイドドアハンドルにおいて、
    前記第１クロム皮膜の膜厚Ｔ１に対する前記第２クロム皮膜の膜厚Ｔ２の比Ｒ（Ｔ２／Ｔ１）が、５以上であり且つ９以下である、車両用アウトサイドドアハンドル。