JPWO2015041267A1 - アンチコンタミネーショントラップおよび真空応用装置 - Google Patents
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- 238000011109 contamination Methods 0.000 title claims abstract description 66
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 247
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 98
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 49
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 claims abstract description 48
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 15
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 5
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims description 5
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 abstract description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 8
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 7
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 7
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- DDMOUSALMHHKOS-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-1,1,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(F)Cl DDMOUSALMHHKOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 3
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- 238000004108 freeze drying Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- RFCAUADVODFSLZ-UHFFFAOYSA-N 1-Chloro-1,1,2,2,2-pentafluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)Cl RFCAUADVODFSLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012620 biological material Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 230000003685 thermal hair damage Effects 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25B—REFRIGERATION MACHINES, PLANTS OR SYSTEMS; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS
- F25B19/00—Machines, plants or systems, using evaporation of a refrigerant but without recovery of the vapour
- F25B19/005—Machines, plants or systems, using evaporation of a refrigerant but without recovery of the vapour the refrigerant being a liquefied gas
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25B—REFRIGERATION MACHINES, PLANTS OR SYSTEMS; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS
- F25B45/00—Arrangements for charging or discharging refrigerant
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/16—Vessels; Containers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/002—Cooling arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/02—Details
- H01J2237/022—Avoiding or removing foreign or contaminating particles, debris or deposits on sample or tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/02—Details
- H01J2237/028—Particle traps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/18—Vacuum control means
- H01J2237/182—Obtaining or maintaining desired pressure
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/2001—Maintaining constant desired temperature
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/2002—Controlling environment of sample
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
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- Thermal Sciences (AREA)
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Abstract
従来構造では２重の冷却タンクの間を真空断熱し、内側容器に接続した高熱伝導率材を通して冷却部を冷却していた。このような構造では、高熱伝導率材や冷却部への浸入熱に因る影響もあるが、例えば、冷媒に液体窒素を使用した場合で−１２０℃に到達するまで約３０分かかっていた。時間をかけた場合でも−１５０℃前後までの到達温度であり、液体窒素温度の−１９６℃に遠く及ばなかった。そこで、本発明に係るアンチコンタミネーショントラップおよび真空応用装置にあっては、真空応用装置で装置内冷却部（５）を冷却する構造であって、冷却部（５）を冷却する冷媒（２）を入れる冷却タンク（１）と前記冷却タンク（１）から冷却部（５）近傍まで冷却パイプ（７）を有し、冷却部（５）先端まで冷媒（２）が供給されることを特徴とする。さらに、冷却パイプ内気泡（１０）を逃すためのチューブ（８）を冷却部（５）まで挿入することを特徴とする。
Description
本発明は、荷電粒子線装置や凍結乾燥装置などの真空応用装置に関する。
電子顕微鏡や集束イオンビーム加工装置（ＦＩＢ）などの荷電粒子線装置や凍結乾燥装置などにおいて、試料を凍結し冷却しながら、加工および観察することは、水分を含む試料や電子線照射によるダメージを受け易い材料等の加工と観察を可能にし、生体材料や有機物材料などの分野において、広く利用されている手法となっている。
上記手法では試料が極低温下にあるため、真空装置内のカーボンなどが試料に吸着されてしまい、汚れるというコンタミネーションの問題がある。そのため真空装置内に試料より温度の低い冷却部を設けて試料のコンタミネーションを防ぐことが必須となっている。
背景技術の１つに特開２０１０−２５７６１７号公報（特許文献１）がある。例えば要約には「［課題］本発明の目的は、冷却しながらの荷電粒子による加工もしくは観察を効率的に行うことに関する。特に、熱ダメージの影響が懸念されるような材料を冷却した状態で加工観察することに関する。また、荷電粒子を用いた試料加工法による影響を冷却により効果的に軽減することに関する。［解決手段］本発明は、イオンビーム照射により試料から摘出された試料片を固定できる試料台と、該試料台を所望方向に回転させる回転機構と、を備え、イオンビーム装置と透過電子線顕微鏡装置に装着可能であり、前記試料台と冷却源とを熱的に接続する可動な熱伝達物と、前記試料台と該熱伝達物質を熱的に外界から隔離する隔離物質を有する試料ホールダに関する。本発明により、効率的に冷却しながら荷電粒子線による加工や観察を行うことが可能となる。」と記載されている。
また、他の背景技術の１つに特開２０００−２７７０４５号公報（特許文献２）がある。例えば要約には「［課題］従来のクライオステージでは、冷却源である液体窒素容器と試料を熱伝導体で接続し、なおかつ、熱損失を防ぐためにその経路は熱絶縁しなければならないため、通常のステージよりも構造が複雑になり、さらに液体窒素容器があるため大型化してしまう。また、アンチコンタミネーショントラップを装備した走査電子顕微鏡でクライオステージを使用する場合、それぞれ別々に液体窒素を使用するために、装置を使用する者に余計な負担をかけることになる。［解決手段］アンチコンタミネーショントラップを装備した走査電子顕微鏡において、試料台、またはその試料台を試料ステージに固定する試料ホルダー、または試料ステージのいずれかの一部分をアンチコンタミネーショントラップの冷却部材に接触させることにより、試料の冷却を行う。」と記載されている。
また、他の背景技術の１つに特開２００７−５３０４８号公報（特許文献３）がある。例えば要約には「［課題］本発明は上記状況に鑑み、試料を迅速に冷却することができ、熱ドリフトを軽減して加工精度を向上させることが可能な集束荷電粒子ビームを用いた加工装置の提供。［解決手段］集束荷電粒子ビームにより観察・加工される試料を微小化し、微小試料のみを局所的に冷却する。あるいは、熱ドリフトを緩和可能な構造を有する試料載置部を使用する。」と記載されている。
本願発明者が、アンチコンタミネーショントラップの冷却温度を冷媒温度まで近づけることについて鋭意検討した結果、次の知見を得るに至った。
従来構造では２重の冷却タンクの間を真空断熱し、内側容器に接続した高熱伝導率材を通して冷却部を冷却していた。
上記の構造では、高熱伝導率材や冷却部への浸入熱に因る影響もあるが、例えば、冷媒に液体窒素を使用した場合で−１２０℃に到達するまで約３０分かかっていた。時間をかけた場合でも−１５０℃前後までの到達温度であり、液体窒素温度の−１９６℃に遠く及ばなかった。
試料を凍結し冷却することができる冷却ホルダ等の冷却機構を使用し、試料を冷却して観察した場合、アンチコンタミネーショントラップ先端が−１５０℃前後では、冷却した試料とアンチコンタミネーショントラップ先端との温度差が小さいため、試料表面に霜が付着してしまい、試料観察の妨げになることがある。
上記課題を解決するために、例えば特許請求の範囲に記載の構成を採用する。
本願は上記課題を解決する手段を複数含んでいるが、その一例を挙げるならば「真空応用装置で装置内冷却部を冷却する構造であって、冷却部を冷却する冷媒を入れる冷却タンクと前記容器から冷却部近傍まで冷却パイプを有し、冷却部先端まで冷媒が供給されること」を特徴とする。
本明細書は本願の優先権の基礎である日本国特許出願２０１３−１９４８０７号、及びそれを基礎とする日本国特許出願２０１４−０２６０４２号の明細書および／または図面に記載される内容を包含する。
本発明によれば、真空応用装置において冷媒（液体窒素・ドライアイス・液体ヘリウム等）を使った装置内冷却部を急速に冷却しかつ到達温度を冷媒温度に近づけることができる。
実施例では、真空応用装置の真空試料室の内部にその冷却部が配置されるアンチコンタミネーショントラップであって、冷却部の内部に冷媒を供給する導入管と、冷却部の内部の気化冷媒を排出する排出管と、を備えたものを開示する。
また、実施例では、アンチコンタミネーショントラップを備え、その真空試料室の内部にアンチコンタミネーショントラップの冷却部が配置されている真空応用装置であって、冷却部の内部に冷媒を供給する導入管と、冷却部の内部の気化冷媒を排出する排出管と、を備えたものを開示する。
また、実施例では、導入管の内部に排出管が挿入されていることを開示する。
また、実施例では、導入管の位置を調整する調整部を備えることを開示する。
また、実施例では、冷却部が、導入管より熱伝導率が高い材質で構成されていることを開示する。
また、実施例では、冷却部が、無酸素銅またはアルミニウムで構成されていることを開示する。
また、実施例では、冷却部が、半球状、中心部が窪んだＵ字形状、上下に板状部を有する形状、または下部に板状部を有する形状であることを開示する。
また、実施例では、冷媒が液体窒素であることを開示する。
また、実施例では、冷却タンクが、冷媒を保持する内側冷却タンクと、内側冷却タンクを熱シールド部を挟んで収容する外側冷却タンクとを備え、熱シールド部と真空試料室が空間的に繋がっている構造であることを開示する。
また、実施例では、真空応用装置が、アンチコンタミネーショントラップの冷媒と同一種の冷媒で試料を冷却する冷却ホルダを備えることを開示する。
また、実施例では、真空応用装置が、対物レンズの上磁極と外磁極との間に試料を配置する荷電粒子線装置であることを開示する。
また、実施例では、真空応用装置が、薄膜試料に電子ビームを透過させる透過電子顕微鏡であることを開示する。
また、実施例では、真空応用装置で装置内冷却部を冷却し試料のコンタミネーションを防ぐアンチコンタミネーショントラップであって、冷却部を冷却する冷媒を入れる冷却タンクから冷却部まで冷却パイプを有し、冷却タンクから冷却部の先端まで冷媒が供給されるものを開示する。
また、実施例では、冷却部、冷却パイプは無酸素銅やアルミニウムなどの高熱伝導率の材料を用いることを開示する。
また、実施例では、冷却パイプ内の気泡を逃すためのチューブを冷却タンクから冷却部まで挿入することを開示する。
また、実施例では、冷却パイプは、冷却タンクから冷却部に向けて低くなるように勾配がつけられていることを開示する。
また、冷却パイプは、冷却タンクから冷却部まで、上下方向に配置された２本の小径冷却パイプであることを開示する。
以下、図面を参照し、本発明の実施例について説明する。なお、図面はもっぱら発明の理解のために用いられるものであり、権利範囲を限縮するものではない。
図１は従来構造のアンチコンタミネーショントラップである。
従来構造のアンチコンタミネーショントラップは、冷媒２を入れる冷却タンク１と、真空チャンバー４と冷却タンク１を接続するためのフランジ３と、冷却タンク１に接続した無酸素銅棒６と、冷却部５で構成されている。冷却タンク１は２重壁の内部を真空にした構造となっている。冷却タンク１に冷媒２を入れると、冷却タンク１に接続された無酸素銅棒６を介して冷却部５が冷却される。
上記の構造では、無酸素銅棒６や冷却部５への浸入熱に因る影響もあるが、−１２０℃に到達するまで約３０分かかっていた。時間をかけた場合でも−１５０℃前後までの到達温度であり、液体窒素温度の−１９６℃に遠く及ばなかった。
図２は上記の課題である熱損失と、冷却時間の短縮化を図るための構造例である。
この場合、アンチコンタミネーショントラップは、冷媒２を入れる冷却タンク１と、真空チャンバー４と冷却タンク１を接続するためのフランジ３と、冷却タンク１に接続した冷却パイプ７と、冷却部５で構成されている。冷却タンク１に冷媒２を入れると、冷却パイプ７まで冷媒２が充填され、冷却部５が冷却される。
しかし、冷媒２に例えば、液体窒素を使用した場合、冷却タンク１から冷却部５までの冷却パイプ７の径が細いと、冷却パイプ７先端部で気化した窒素が気泡となって抜けにくい状態になる。そのため、冷却パイプ７先端部まで液体窒素が届かないことにより、冷却部５の温度が上昇してしまう。
図３は気化した窒素が気泡となって抜けにくい状態を解決する方法の具体例である。
この場合、アンチコンタミネーショントラップは、冷媒２を入れる冷却タンク１と、真空チャンバー４と冷却タンク１を接続するためのフランジ３と、冷却タンク１に接続した冷却パイプ７と、冷却部５と、冷却パイプ７先端部で気化した窒素を排出する気化窒素逃がしチューブ８で構成されている。
気化窒素逃しチューブ８を冷却パイプ７先端部まで挿入することにより、冷却パイプ７の先端部で気化した窒素の気泡１０が気化窒素逃しチューブ８を通って排出される。気化した窒素の気泡１０が気化窒素逃しチューブ８を通って排出されることにより、冷却パイプ７先端部まで液体窒素が充填される。
本実施例により、冷却部５近傍まで液体窒素が導入されるため、冷却部５を約３分で−１８６℃まで冷却することができる。
図８は、図３にかかるアンチコンタミネーショントラップを搭載した走査電子顕微鏡の構成図である。
走査電子顕微鏡１０１は、電子ビーム１０３を照射する電子光学鏡筒１０７と、電子光学鏡筒１０７の各条件を調整する制御装置と、試料に対する電子ビーム１０３の照射によって試料より放出される２次電子を検出する２次電子検出器１０８と、試料を凍結し冷却することができる試料ホルダ１０９と、図３にかかるアンチコンタミネーショントラップ１１０などにより構成されている。なお、試料下方に試料を透過した電子を検出できる透過電子検出器を配置してもよい。走査電子光学鏡筒１０７の内部には、電子源１０２と、電子源１０２より放出される電子ビーム１０３を収束する第一コンデンサレンズ１０４および第二コンデンサレンズ１０５と、電子ビーム１０３を走査する偏向コイル１０６と、電子ビーム１０３の焦点を合わせる対物レンズが設けられている。対物レンズは、上磁極１１１と下磁極１１２により構成されている。また、電子光学鏡筒１０７の側面には、試料ステージ１１３が設けられ、対物レンズの上磁極１１１と下磁極１１２との間に、試料を保持した試料ホルダ１０９が配置されている。試料ホルダ１０９の先端部を所望方向に移動する試料ステージ１１３が設けられている電子光学鏡筒１０７の別の側面に、アンチコンタミネーショントラップ１１０が設けられている。アンチコンタミネーショントラップ１１０先端の冷却部１１９は、真空チャンバー１１６における対物レンズの上磁極１１１と下磁極１１２と間の試料近傍に位置している。
図９は、図３にかかるアンチコンタミネーショントラップを搭載した走査電子顕微鏡の部分拡大図である。
アンチコンタミネーショントラップ１１０は、冷却タンク（内側冷却タンク１２３、外側冷却タンク１２５）と、冷却タンクに冷媒１１４を入れるための冷却タンク注入口１２０と、真空チャンバー１１６と冷却タンクを接続するためのフランジ１１７と、冷却タンクに接続されている冷却パイプ１２１と、冷却パイプ１２１の位置を調整するための冷却パイプ調整部１２２と、冷却部１１９で構成されている。
冷却タンクは、冷媒を保持する内側冷却タンク１２３と、内側冷却タンク１２３を熱シールド部１２４を挟んで収容する外側冷却タンク１２５の２重構造となっている。熱シールド部１２４と真空チャンバー１１６は繋がった空間であり、真空チャンバーを真空排気すると熱シールド部１２４も真空状態にすることができる構造となっている。
冷却パイプ調整部１２２は、例えば、フランジ１１７の端部に複数のネジ穴が設けられ、そこに締結された複数のネジが、フランジ１１７内の冷却パイプ１２１をカラーを介して保持することで構成されている。複数のネジを調整することにより、冷却パイプ１２１の位置を調整することができる。内側冷却タンク１２３と冷却パイプ１２１は溶接されているため、溶接の歪みにより冷却パイプ１２１に位置ずれが生じることがあるが、冷却パイプ調整部１２２により上磁極１１１や下磁極１１２に干渉しない適切な位置に冷却部１１９を配置することができる。
冷却パイプ１２１はＳＵＳなどで構成されているが、その先端にある冷却部１１９には無酸素銅やアルミニウムなどの高熱伝導材が使用されている。冷却部１１９は、半球状であり、その肉厚は一定である。冷却部１１９は冷却パイプ１２１に比べて表面積あたりの熱容量が小さくなっているため、冷媒１１４が供給されれば短時間で冷却される。
気化窒素逃がしチューブ１２６は冷却部１１９まで挿入されている。気化窒素逃がしチューブ１２６の材質が樹脂だと、冷却タンク注入口１２０から冷却部１１９まで挿入し易くてよいが、チューブを金属の配管にして冷却パイプ内に溶接してもよい。
気化窒素逃しチューブ１２６が冷却部１１９まで挿入されていることにより、冷却部１１９で気化した窒素の気泡１２８は気化窒素逃しチューブ１２６を通って排出される。これにより、冷却タンク注入口１２０から内側冷却タンク１２３内に冷媒１１４を供給すると、冷却パイプ１２１を通り、冷却部１１９まで冷媒１１４が充填され、冷却部１１９が冷却される。
本実施例では、高熱伝導材で構成されている冷却部１１９の内部に冷媒１１４が存在しているため、冷却部１１９は冷媒温度近くまで冷却される。試料を凍結し冷却することができる冷却ホルダ等が同じ冷媒を用いて冷却されている場合、本実施例の冷却部１１９は、その簡素な構造がゆえに、冷却ホルダ等より更に低温とすることができる。従って、冷却ホルダ等により冷却された試料と、アンチコンタミネーショントラップ１１０の温度差を大きくすることができ、試料表面への霜の付着を防止することができる。
特に、上磁極と下磁極との間に試料を配置するインレンズＳＥＭや、薄膜試料に電子線を透過する透過電子顕微鏡において冷却ホルダ等により試料を冷却すると、試料体積が小さいために、試料温度が低くなり易いが、その場合であっても、アンチコンタミネーショントラップとの温度差が大きいため、試料表面への霜の付着を防止することができる。
図３の他に気化した窒素が気泡となって抜けにくい状態を解決する方法の具体例として図４に示す構造をとってもよい。
この場合、アンチコンタミネーショントラップは、冷媒２を入れる冷却タンク１と、真空チャンバー４と冷却タンク１を接続するためのフランジ３と、冷却タンク１に接続する勾配をつけた冷却パイプ７と、冷却部５で構成されている。
図３では気化窒素逃しチューブ８を冷却パイプ７先端部まで挿入することにより、冷却パイプ７先端部で気化した窒素の気泡１０が気化窒素逃しチューブ８を通って排出されていた。本具体例では、図４に示すように冷却パイプ７に勾配をつける構造にすることにより、気化した窒素の気泡１０が抜けやすくなる。そのため、冷却パイプ７先端部まで液体窒素が充填される。冷却部５近傍まで液体窒素が導入されるため、冷却部５を短時間でかつ冷媒温度に近い温度まで冷却することができる。
図３、４の他に気化した窒素が気泡１０となって抜けにくい状態を解決する方法の具体例として図５に示す構造をとってもよい。
この場合、アンチコンタミネーショントラップは、冷媒２を入れる冷却タンク１と、真空チャンバー４と冷却タンク１を接続するためのフランジ３と、冷却タンク１に接続した小径冷却パイプ９と、冷却部５で構成されている。
図３、４の他に冷却パイプ７先端部で気化した窒素の気泡１０を排出する構造として、図５に示すように小径冷却パイプ９を上下方向に配置することにより、液体窒素の圧力差を利用して小径冷却パイプ９内の気化した窒素の気泡１０を上側のパイプから排出することができる。そのため、小径冷却パイプ９先端部まで液体窒素が充填される。冷却部５近傍まで液体窒素が導入されるため、冷却部５を短時間でかつ冷媒温度に近い温度まで冷却することができる。
図１０は、冷却部の第一変形例を示す説明図である。冷却部１１９は、中心部が窪んだＵ字形状であり、傾斜可能な試料ホルダ１０９が冷却部１１９の窪んだ部分に配置されている。試料ホルダ１０９を傾斜させても冷却部１１９との距離の変動が少ないため、試料ホルダ１０９を傾斜させても試料表面への霜の付着を防止できる。
図１１は、冷却部の第二変形例を示す説明図である。冷却部１１９は、上下に板状部を有する形状であり、板状部は電子ビーム１０３の照射領域まで伸びている。上下の板状部には、いずれも開口が形成されているため、電子ビームなどを遮ることはない。試料ホルダ１０９は、上下の板状部に挟まれるように配置される。試料ホルダ１０９の上下両面が冷却部１１９で覆われることになるため、試料表面全域への霜の付着を強力に防止できる。
図１２は、冷却部の第三変形例を示す説明図である。冷却部１１９は、下部に板状部を有する形状であり、板状部は電子ビーム１０３の照射領域まで伸びている。下部の板状部には、開口が形成されているため、試料を透過した透過電子などを遮ることはない。試料ホルダ１０９は、板状部の上に配置される。霜が付着し易い電子ビームの照射面と反対側の面が冷却部で覆われることになるため、試料表面への霜の付着を効率的に防止できる。
図６は図１に示す従来構造の冷却部５先端の温度測定結果である。温度測定は、冷媒２に液体窒素を使用し、Ｋ熱電対を冷却部５先端に取付けて行った冷却部５先端の温度は約６０分で−１５０℃まで到達している。この場合、冷却部５先端が低温で安定するまでは、冷媒から気泡が盛んに発生するバブリングによる振動などもあり、像観察できない。
図７は図３に示す構造の冷却部５先端の温度測定結果である。温度測定は、冷媒２に液体窒素を使用し、Ｋ熱電対を冷却部５先端に取付けて行った冷却部５先端の温度は約３分で−１８６℃まで到達しており、急速冷却が実現している。バブリングによる振動も素早く鎮静化し、直ぐに像観察することができる。
なお、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。対物レンズが上磁極しかないアウトレンズＳＥＭや、電子ビームを走査しないＴＥＭなどでも本発明は実施することができる。
１ 冷却タンク
２ 冷媒
３ フランジ
４ 真空チャンバー
５ 冷却部
６ 無酸素銅棒
７ 冷却パイプ
８ 気化窒素逃しチューブ
９ 小径冷却パイプ
１０ 気泡
１０１ 走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）
１０２ 電子源
１０３ 電子ビーム
１０４ 第１コンデンサレンズ
１０５ 第２コンデンサレンズ
１０６ 偏向コイル
１０７ 電子光学鏡筒
１０８ ２次電子検出器
１０９ 試料ホルダ
１１０ アンチコンタミネーショントラップ
１１１ 上磁極
１１２ 下磁極
１１３ 試料ステージ
１１４ 冷媒
１１５ 冷却タンク
１１６ 真空チャンバー
１１７ フランジ
１１９ 冷却部
１２０ 冷却タンク注入口
１２１ 冷却パイプ
１２２ 冷却パイプ調整部
１２３ 内側冷却タンク
１２４ 熱シールド部
１２５ 外側冷却タンク
１２６ 気化窒素逃しチューブ
１２８ 気泡
本明細書で引用した全ての刊行物、特許および特許出願をそのまま参考として本明細書にとり入れるものとする。
２ 冷媒
３ フランジ
４ 真空チャンバー
５ 冷却部
６ 無酸素銅棒
７ 冷却パイプ
８ 気化窒素逃しチューブ
９ 小径冷却パイプ
１０ 気泡
１０１ 走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）
１０２ 電子源
１０３ 電子ビーム
１０４ 第１コンデンサレンズ
１０５ 第２コンデンサレンズ
１０６ 偏向コイル
１０７ 電子光学鏡筒
１０８ ２次電子検出器
１０９ 試料ホルダ
１１０ アンチコンタミネーショントラップ
１１１ 上磁極
１１２ 下磁極
１１３ 試料ステージ
１１４ 冷媒
１１５ 冷却タンク
１１６ 真空チャンバー
１１７ フランジ
１１９ 冷却部
１２０ 冷却タンク注入口
１２１ 冷却パイプ
１２２ 冷却パイプ調整部
１２３ 内側冷却タンク
１２４ 熱シールド部
１２５ 外側冷却タンク
１２６ 気化窒素逃しチューブ
１２８ 気泡
本明細書で引用した全ての刊行物、特許および特許出願をそのまま参考として本明細書にとり入れるものとする。
Claims (24)
- 真空応用装置の真空試料室の内部にその冷却部が配置されるアンチコンタミネーショントラップであって、
前記冷却部の内部に冷媒を供給する導入管と、前記冷却部の内部の気化冷媒を排出する排出管と、を備えたことを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。 - 請求項１のアンチコンタミネーショントラップであって、
前記導入管の内部に前記排出管が挿入されていることを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。 - 請求項１のアンチコンタミネーショントラップであって、
前記導入管の位置を調整する調整部を備えることを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。 - 請求項１のアンチコンタミネーショントラップであって、
前記冷却部が、前記導入管より熱伝導率が高い材質で構成されていることを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。 - 請求項１のアンチコンタミネーショントラップであって、
前記冷却部が、無酸素銅またはアルミニウムで構成されていることを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。 - 請求項１のアンチコンタミネーショントラップであって、
前記冷却部が、半球状、中心部が窪んだＵ字形状、上下に板状部を有する形状、または下部に板状部を有する形状であることを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。 - 請求項１のアンチコンタミネーショントラップであって、
前記冷媒が液体窒素であることを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。 - 請求項１のアンチコンタミネーショントラップであって、
前記冷媒を保持する内側冷却タンクと、当該内側冷却タンクを熱シールド部を挟んで収容する外側冷却タンクとを備え、前記熱シールド部と前記真空試料室が空間的に繋がっている構造であることを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。 - アンチコンタミネーショントラップを備え、その真空試料室の内部に前記アンチコンタミネーショントラップの冷却部が配置されている真空応用装置であって、
前記冷却部の内部に冷媒を供給する導入管と、前記冷却部の内部の気化冷媒を排出する排出管と、を備えたことを特徴とする真空応用装置。 - 請求項９の真空応用装置であって、
前記導入管の内部に前記排出管が挿入されていることを特徴とする真空応用装置。 - 請求項９の真空応用装置であって、
前記導入管の位置を調整する調整部を備えることを特徴とする真空応用装置。 - 請求項９の真空応用装置であって、
前記冷却部が、前記導入管より熱伝導率が高い材質で構成されていることを特徴とする真空応用装置。 - 請求項９の真空応用装置であって、
前記冷却部が、無酸素銅またはアルミニウムで構成されていることを特徴とする真空応用装置。 - 請求項９の真空応用装置であって、
前記冷却部が、半球状、中心部が窪んだＵ字形状、上下に板状部を有する形状、または下部に板状部を有する形状であることを特徴とする真空応用装置。 - 請求項９の真空応用装置であって、
前記冷媒が液体窒素であることを特徴とする真空応用装置。 - 請求項９の真空応用装置であって、
前記冷媒を保持する内側冷却タンクと、当該内側冷却タンクを熱シールド部を挟んで収容する外側冷却タンクとを備え、前記熱シールド部と前記真空試料室が空間的に繋がっている構造であることを特徴とする真空応用装置。 - 請求項９の真空応用装置であって、
前記冷媒と同一種の冷媒で試料を冷却する冷却ホルダを備えることを特徴とする真空応用装置。 - 請求項９の真空応用装置であって、
当該真空応用装置が、対物レンズの上磁極と外磁極との間に試料を配置する荷電粒子線装置であることを特徴とする真空応用装置。 - 請求項９の真空応用装置であって、
当該真空応用装置が、薄膜試料に電子ビームを透過させる透過電子顕微鏡であることを特徴とする真空応用装置。 - 真空応用装置で装置内冷却部を冷却し試料のコンタミネーションを防ぐアンチコンタミネーショントラップであって、
冷却部を冷却する冷媒を入れる冷却タンクから冷却部まで冷却パイプを有し、
前記冷却タンクから前記冷却部の先端まで冷媒が供給されることを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。 - 請求項２０のアンチコンタミネーショントラップにおいて、
冷却部、冷却パイプは無酸素銅やアルミニウムなどの高熱伝導率の材料を用いることを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。 - 請求項２０のアンチコンタミネーショントラップにおいて、
冷却パイプ内の気泡を逃すためのチューブを前記冷却タンクから前記冷却部まで挿入することを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。 - 請求項２０のアンチコンタミネーショントラップにおいて、
前記冷却パイプは、前記冷却タンクから前記冷却部に向けて低くなるように勾配がつけられていることを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。 - 請求項２０のアンチコンタミネーショントラップにおいて、
前記冷却パイプは、前記冷却タンクから前記冷却部まで、上下方向に配置された２本の小径冷却パイプであることを特徴とするアンチコンタミネーショントラップ。
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013194807 | 2013-09-20 | ||
| JP2013194807 | 2013-09-20 | ||
| JP2014026042 | 2014-02-14 | ||
| JP2014026042 | 2014-02-14 | ||
| PCT/JP2014/074615 WO2015041267A1 (ja) | 2013-09-20 | 2014-09-18 | アンチコンタミネーショントラップおよび真空応用装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2015041267A1 true JPWO2015041267A1 (ja) | 2017-03-02 |
| JP6172690B2 JP6172690B2 (ja) | 2017-08-02 |
Family
ID=52688914
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015537954A Active JP6172690B2 (ja) | 2013-09-20 | 2014-09-18 | アンチコンタミネーショントラップおよび真空応用装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10269533B2 (ja) |
| JP (1) | JP6172690B2 (ja) |
| CN (1) | CN105474348B (ja) |
| DE (1) | DE112014003582B4 (ja) |
| WO (1) | WO2015041267A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017098574A1 (ja) * | 2015-12-08 | 2017-06-15 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | アンチコンタミネーショントラップおよびその制御方法、ならびに荷電粒子線装置 |
| CN106440481A (zh) * | 2016-11-30 | 2017-02-22 | 无锡溥汇机械科技有限公司 | 一种超声喷雾制冷装置 |
| KR20190092587A (ko) * | 2016-12-29 | 2019-08-07 | 아이피지 포토닉스 코포레이션 | 고온 광학 분자 오염 방지 게터 시스템 |
| EP4032648A1 (en) * | 2021-01-25 | 2022-07-27 | Infineon Technologies AG | Arrangement for forming a connection |
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Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| NL231361A (ja) * | 1958-09-13 | |||
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| JP5250470B2 (ja) | 2009-04-22 | 2013-07-31 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料ホールダ，該試料ホールダの使用法、及び荷電粒子装置 |
| JP5400916B2 (ja) | 2012-03-19 | 2014-01-29 | 本田技研工業株式会社 | 変速機のシンクロ装置 |
| JP2014026042A (ja) | 2012-07-25 | 2014-02-06 | Japan Display Inc | 表示装置 |
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2014
- 2014-09-18 JP JP2015537954A patent/JP6172690B2/ja active Active
- 2014-09-18 US US14/911,960 patent/US10269533B2/en active Active
- 2014-09-18 DE DE112014003582.3T patent/DE112014003582B4/de active Active
- 2014-09-18 WO PCT/JP2014/074615 patent/WO2015041267A1/ja active Application Filing
- 2014-09-18 CN CN201480045594.6A patent/CN105474348B/zh active Active
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US10269533B2 (en) | 2019-04-23 |
| WO2015041267A1 (ja) | 2015-03-26 |
| CN105474348A (zh) | 2016-04-06 |
| DE112014003582T5 (de) | 2016-05-04 |
| DE112014003582B4 (de) | 2020-08-06 |
| CN105474348B (zh) | 2018-02-23 |
| JP6172690B2 (ja) | 2017-08-02 |
| US20160203940A1 (en) | 2016-07-14 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170110 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170627 |
|
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|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
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|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |