JPWO2014188624A1 - 放熱構造体 - Google Patents
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Abstract
Description
1)(A)プリント基板、(B)第1の発熱体、(C)第2の発熱体、及び、(D)熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の硬化物を有する放熱構造体であって、プリント基板(A)が第1の面及び第1の面の反対側に位置する第2の面を有し、第1の発熱体(B)が第1の面上に、第2の発熱体(C)が第2の面上にそれぞれ配置されており、第1の発熱体(B)の発熱量が第2の発熱体(C)の発熱量以上であり、第2の発熱体(C)の周囲に熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の硬化物(D)が配置されており、第1の発熱体(B)の周囲には熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の硬化物(D)よりも熱伝導率が低い層が配置されていることを特徴とする放熱構造体。
2)さらに(E)電磁波シールドケースを有する1)に記載の放熱構造体。
3)熱伝導性硬化性液状樹脂組成物が湿気又は加熱により硬化するものである1)又は2)に記載の放熱構造体。
4)熱伝導性硬化性液状樹脂組成物が(I)硬化性アクリル系樹脂又は硬化性ポリプロピレンオキサイド系樹脂と、(II)熱伝導性充填材からなる熱伝導性硬化性液状樹脂組成物であって、粘度が30Pa・s以上3000Pa・s以下、熱伝導率が0.5W/(m・K)以上である1)〜3)のいずれかに記載の放熱構造体。
5)電磁波シールドケース(E)が第2の面上に設置されており、熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の硬化物(D)が第2の面上に設置された該電磁波シールドケース(E)内に配置されていることを特徴とする2)〜4)のいずれかに記載の放熱構造体。
6)プリント基板(A)の第1の面に垂直な方向から透視した場合に、第1の発熱体(B)が配置されている領域の少なくとも一部と、第2の発熱体(C)及び熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の硬化物(D)が配置されている領域の少なくとも一部が重なることを特徴とする2)〜5)のいずれかに記載の放熱構造体。
本発明にかかる放熱構造体は、(A)プリント基板、(B)第1の発熱体、(C)第2の発熱体、及び、(D)熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の硬化物を有する放熱構造体であって、プリント基板(A)が第1の面及び第1の面の反対側に位置する第2の面を有し、第1の発熱体(B)が第1の面上に、第2の発熱体(C)が第2の面上にそれぞれ配置されており、第1の発熱体(B)の発熱量が第2の発熱体(C)の発熱量以上であり、第2の発熱体(C)の周囲に熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の硬化物(D)が配置されており、第1の発熱体(B)の周囲には熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の硬化物(D)よりも熱伝導率が低い層が配置されていることを特徴とする。
なお、本明細書では、熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の硬化物のことを熱伝導性硬化物ともいう。
また、プリント基板の第1の面をプリント基板の表側、第2の面をプリント基板の裏側ともいう。
本発明で使用されるプリント基板は、電子機器や精密機器に使用される電子部品を固定して配線するための電気製品の部品であり、集積回路、抵抗器、コンデンサー等多数の電子部品を固定し、その部品間を配線で接続することで電子回路を構成するものであれば特に限定するものではない。例えば、柔軟性のない絶縁体機材を用いたリジット基板、絶縁体基板に薄く柔軟性のある材料を用いたフレキシブル基板、硬質な材料と薄く柔軟性のある材料とを複合したリジットフレキシブル基板等を挙げることができる。
また、プリント基板上に配線や発熱体以外の電子部品等が配置されていてもよい。
本発明で使用される発熱体(B)、(C)としては、電子部品が挙げられ、電子機器・精密機器駆動時に発熱するものであれば特に限定されない。例えば、トランジスタ、集積回路(IC)、CPU、ダイオード、LED等の半導体素子、電子管、電気モーター、抵抗器、コンデンサ(キャパシタ)、コイル、リレー、圧電素子、振動子、スピーカー、ヒーター、各種電池、各種チップ部品等の電子部品が挙げられる。
発熱量は、発熱体の発熱密度と発熱部分の面積から求めることができる。また、発熱体が同一面に複数配置されている場合は、第1の面上の各発熱体の発熱量の和を第1の発熱体の発熱量、第2の面上の各発熱体の発熱量の和を第2の発熱体の発熱量とする。
第1の発熱体の発熱量は、0.5W以上であることが好ましく、0.8W以上であることがより好ましく、1.0W以上であることがさらに好ましい。また、1000W以下であることが好ましく、900W以下であることがより好ましく、800W以下であることがさらに好ましい。
第2の発熱体の発熱量は、0.2W以上であることが好ましく、0.5W以上であることがより好ましく、0.8W以上であることがさらに好ましい。また、1000W以下であることが好ましく、900W以下であることがより好ましく、800W以下であることがさらに好ましい。
本発明の放熱構造体において、熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の硬化物は、第2の発熱体の周囲に配置されている。
発熱体の「周囲」とは、発熱体の近傍であって、発熱体から発生する熱が伝わる領域を指す。具体的には、電子機器を構成する種々の部品の表面や該部品間の領域を指し、該部品としては、プリント基板、発熱体、電磁波シールドケース、配線、銅線、銅板、発熱体以外の電子部品、グラファイトシート、放熱パッド等が挙げられる。
なお、熱伝導率は、23℃で測定した値である。また、熱伝導性硬化物の熱伝導率は、熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の熱伝導率とほぼ同一である。
また、材質や熱伝導率が異なる複数の熱伝導性硬化物が設けられていてもよい。
本発明で使用される熱伝導性硬化性液状樹脂組成物は、硬化前は液状物であるため、大小さまざまのサイズ、高さを有する発熱体にも追従することができ、密着性が高くなる。従って、発熱体との接触熱抵抗が小さく、発生する熱を効率よく逃がすことができる。また、電磁波シールドケース内に充填する場合、隙間なく充填することができるだけでなく、硬化するため継時的な系外への流失の懸念がない。
本発明で使用される熱伝導性硬化性液状樹脂組成物は、湿気又は加熱により硬化するものであることが好ましい。
硬化性アクリル系樹脂又は硬化性ポリプロピレンオキサイド系樹脂としては、分子内に反応性基を有し硬化性がある液状樹脂が好ましい。反応性基としては、エポキシ基、加水分解性シリル基、ビニル基、アクリロイル基、SiH基、ウレタン基、カルボジイミド基、無水カルボン酸基とアミノ基との組合せ等各種の反応性官能基を用いることができる。
熱伝導性充填材(II)としては、熱伝導率、入手性、絶縁性や電磁波吸収性等の電気特性を付与可能、充填性、毒性等種々の観点から、グラファイト、ダイヤモンド等の炭素化合物;酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ベリリウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛等の金属酸化物;窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素等の金属窒化物;炭化ホウ素、炭化アルミニウム、炭化ケイ素等の金属炭化物;水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物;炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩;結晶性シリカ;アクリロニトリル系ポリマー焼成物、フラン樹脂焼成物、クレゾール樹脂焼成物、ポリ塩化ビニル焼成物、砂糖の焼成物、木炭の焼成物等の有機性ポリマー焼成物;Znフェライトとの複合フェライト;Fe−Al−Si系三元合金;金属粉末等が好ましく挙げられる。
充填材容積率(容量%)=(充填材重量比率/充填材比重)÷[(樹脂分重量比率/樹脂分比重)+(充填材重量比率/充填材比重)]×100
ここで、樹脂分とは、熱伝導性充填材を除いた全成分を指す。
本発明の放熱構造体は、電磁波シールドケースを有していてもよい。電磁波シールドケースとは、電磁波を反射、伝導又は吸収することにより電磁波シールド性能を発揮するケースをいう。
発熱体(電子部品)及び熱伝導性硬化物は、電磁波シールドケース内に配置されていてもよいし、電磁波シールドケース外に配置されていてもよい。
第2の面上に電磁波シールドケースが設置されている場合は、熱伝導性硬化物が該電磁波シールドケース内に配置されていることが好ましい。電磁波シールドケースと内部の熱伝導性硬化物が全体として放熱部材となり、効率的な放熱を行えるためである。
本発明の放熱構造体を用いて、電子機器や精密機器を製造することができる。電子機器・精密機器としては、プリント基板上に電子部品を有する機器であれば特に限定されるものではない。例えば、サーバー、サーバー用パソコン、デスクトップパソコン等の機器、ゲーム機器、ノートパソコン、電子辞書、PDA、携帯電話、スマートフォン、タブレット端末、ポータブル音楽プレイヤー等の携帯機器、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、表面伝導型電子放出素子ディスプレイ(SED)、LED、有機EL、無機EL、液晶プロジェクタ、時計等の表示機器、インクジェットプリンタ(インクヘッド)、電子写真装置(現像装置、定着装置、ヒートローラ、ヒートベルト)等の画像形成装置、半導体素子、半導体パッケージ、半導体封止ケース、半導体ダイボンディング、CPU、メモリ、パワートランジスタ、パワートランジスタケース等の半導体関連部品、リジッド配線板、フレキシブル配線板、セラミック配線板、ビルドアップ配線板、多層基板等の配線基板(以上左記の配線板とは、プリント配線板なども含む)、真空処理装置、半導体製造装置、表示機器製造装置等の製造装置、断熱材、真空断熱材、輻射断熱材等の断熱装置、DVD(光ピックアップ、レーザー発生装置、レーザー受光装置)、ハードディスクドライブ等のデータ記録機器、カメラ、ビデオカメラ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、顕微鏡、CCD等の画像記録装置、充電装置、リチウムイオン電池、燃料電池、太陽電池等のバッテリー機器等が挙げられる。
(熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の粘度)
23℃50%RH条件下でBH型粘度計を用いて2rpmにて熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の粘度を測定した。
(熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の熱伝導率)
熱伝導性硬化性液状樹脂組成物をサランラップ(登録商標)内に包み、ホットディスク法熱伝導率測定装置TPA−501(京都電子工業株式会社製)を用い、4φサイズのセンサーを2個の試料で挟む方法にて、23℃で熱伝導率を測定した。
(熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の硬化物の引張弾性率)
熱伝導性硬化性液状樹脂組成物を23℃、50%RH雰囲気下で硬化させ、ミニダンベルを作製しJIS K 6251を参考に引張弾性率を測定した。
(電子部品、基板、電磁波シールドケースの温度測定)
図3、図4、図5、図6に示す簡易モデルを作製し、電子部品、基板、電磁波シールドケースの各モデルの温度をテフロン(登録商標)被覆極細熱電対ダブル線TT−D−40−SLE(オメガエンジニアリング社製)を用いて測定した。尚、温度は電子部品モデルを1時間発熱させた後の値である。
各モデルにおいて、電子部品(13a、13b)及び電磁シールドケース(11a、11b)は、図4に示すようにそれぞれ基板12の中央に配置した。熱電対は、電子部品上面及び電磁シールドケース上面のそれぞれ中央、及び、基板の中心部に取り付けた。
11a、11b:電磁波シールドケース・・・SUS(0.3mm厚み)、20mm×20mm×1.40mm
12:基板・・・ガラスエポキシ製、60mm×60mm×0.75mm
13a:電子部品(発熱体)・・・アルミナ発熱体(発熱密度1W/cm2)、10mm×10mm×1.05mm
13b:電子部品(発熱体)・・・アルミナ発熱体(発熱密度0.2W/cm2又は0.9W/cm2)、10mm×10mm×1.05mm
15:熱伝導性硬化物
○印:熱電対取付位置
窒素雰囲気下、250L反応機にCuBr(1.09kg)、アセトニトリル(11.4kg)、アクリル酸ブチル(26.0kg)及び2,5−ジブロモアジピン酸ジエチル(2.28kg)を加え、70〜80℃で30分程度撹拌した。これにペンタメチルジエチレントリアミンを加え、反応を開始した。反応開始30分後から2時間かけて、アクリル酸ブチル(104kg)を連続的に追加した。反応途中ペンタメチルジエチレントリアミンを適宜添加し、内温70℃〜90℃となるようにした。ここまでで使用したペンタメチルジエチレントリアミン総量は220gであった。反応開始から4時間後、80℃で減圧下、加熱攪拌することにより揮発分を除去した。これにアセトニトリル(45.7kg)、1,7−オクタジエン(14.0kg)、及び、ペンタメチルジエチレントリアミン(439g)を添加して8時間撹拌を続けた。混合物を80℃で減圧下、加熱攪拌して揮発分を除去した。
更にこの濃縮物に吸着剤として珪酸アルミ、ハイドロタルサイト、熱劣化防止剤を加え、減圧下、加熱攪拌した(平均温度約175℃、減圧度10Torr以下)。
更に吸着剤として珪酸アルミ、ハイドロタルサイトを追加し、酸化防止剤を加え、酸素窒素混合ガス雰囲気下(酸素濃度6%)、内温150℃で加熱攪拌した。
この濃縮物にトルエンを加え、重合体を溶解させた後、混合液中の固形分をろ過で除去し、ろ液を減圧下加熱攪拌して揮発分を除去し、アルケニル基を有する重合体を得た。
このアルケニル基を有する重合体、ジメトキシメチルシラン(アルケニル基に対して2.0モル当量)、オルトギ酸メチル(アルケニル基に対して1.0モル当量)、白金触媒[ビス(1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン)白金錯体触媒のキシレン溶液:以下白金触媒という](白金として重合体1kgに対して10mg)を混合し、窒素雰囲気下、100℃で加熱攪拌した。アルケニル基が消失したことを確認し、反応混合物を濃縮して末端にジメトキシシリル基を有するポリ(アクリル酸−n−ブチル)樹脂(I−1)を得た。得られた樹脂の数平均分子量は約26,000、分子量分布は1.3であった。樹脂1分子当たりに導入された平均のシリル基の数を1H NMR分析により求めたところ、約1.8個であった。
数平均分子量約2,000のポリオキシプロピレンジオールを開始剤とし、亜鉛ヘキサシアノコバルテートグライム錯体触媒にてプロピレンオキシドの重合を行い、数平均分子量25,500(送液システムとして東ソー株式会社製HLC−8120GPCを用い、カラムは東ソー株式会社製TSK−GEL Hタイプを用い、溶媒はTHFを用いて測定したポリスチレン換算値)のポリプロピレンオキシドを得た。続いて、この水酸基末端ポリプロピレンオキシドの水酸基に対して1.2倍当量のNaOMeメタノール溶液を添加してメタノールを留去し、更に塩化アリルを添加して末端の水酸基をアリル基に変換した。未反応の塩化アリルを減圧脱揮により除去した。得られた未精製のアリル基末端ポリプロピレンオキシド100重量部に対し、n−ヘキサン300重量部と、水300重量部を混合攪拌した後、遠心分離により水を除去し、得られたヘキサン溶液に更に水300重量部を混合攪拌し、再度遠心分離により水を除去した後、ヘキサンを減圧脱揮により除去した。以上により、末端がアリル基である数平均分子量約25,500の2官能ポリプロピレンオキシドを得た。
得られたアリル末端ポリプロピレンオキシド100重量部に対し、触媒として白金含量3wt%の白金ビニルシロキサン錯体イソプロパノール溶液150ppmを添加して、トリメトキシシラン0.95重量部と90℃で5時間反応させ、トリメトキシシリル基末端ポリオキシプロピレン系重合体(I−2)を得た。上記と同様、1H NMRの測定の結果、末端のトリメトキシシリル基は1分子あたり平均して1.3個であった。
合成例1で得られた樹脂(I−1):90重量部、合成例2で得られた樹脂(I−2):10重量部、可塑剤(モノサイザーW−7010、DIC株式会社製):100重量部、酸化防止剤(Irganox1010):1重量部、及び、熱伝導性充填材(水酸化アルミニウム450重量部、及び、酸化亜鉛100重量部)を手混ぜで十分攪拌混練した後に、5Lバタフライミキサーを用いて加熱混練しながら真空に引き脱水した。脱水完了後に冷却し、脱水剤(A171):2重量部、硬化触媒(ネオデカン酸スズ、ネオデカン酸):各4重量部を混合し、熱伝導性硬化性液状樹脂組成物を得た。得られた熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の粘度と熱伝導率とを測定した後、図6の簡易モデル図と同様にして熱伝導性硬化性液状樹脂組成物を充填し、放熱構造体を作製した。その後に温度を評価した。結果を表1に示す。
なお、熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の粘度は350〜400Pa・s、熱伝導率は1.1W/(m・K)であった。硬化物の引張弾性率は2.0MPaであった。
熱伝導性硬化性液状樹脂組成物を用いずに実施例1、2と同様に評価を行った。評価結果を表1に示す。
熱伝導性硬化性液状樹脂組成物を図3の簡易モデル図と同様にして充填し、実施例1、2と同様にして放熱構造体を作製、評価した。評価結果を表1に示す。
熱伝導性硬化性液状樹脂組成物を図5の簡易モデル図と同様にして充填し、実施例1、2と同様にして放熱構造体を作製、評価した。評価結果を表1に示す。
実施例1、2で使用した熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の代わりに、熱伝導性硬化性のシリコーン樹脂組成物(信越化学工業株式会社製、KE−4918、ペースト状、湿分硬化型、熱伝導率0.9W/(m・K))を用いて実施例1、2と同様に評価を行った。評価結果を表1に示す。
また、実施例2及び比較例4、5は2つの発熱体の発熱量にほとんど差がない場合である。この場合も電磁波シールドケース11aの温度は、比較例5では比較例4と比べて大きく上昇しているのに対し、実施例2では比較例4と比べて低下している。すなわち熱伝導性硬化物を配置していない側の温度上昇を抑制することが分かった。さらに、実施例2では、電子部品13aの温度上昇も抑制していることが分かる。
熱伝導性シリコーン樹脂組成物を使用した実施例3、4でも、実施例1、2と同様の効果が得られていることが分かる。
上記の実施例および比較例から、より放熱が望まれるプリント基板の表側の高発熱量の発熱体に対し、プリント基板の裏側に熱伝導性硬化物を配置することにより、電磁波シールドケースの天井壁、すなわち放熱が望まれる発熱体の上方の温度上昇が抑制されると同時に、該発熱体の温度上昇も抑制されることが確認された。このことは、該熱伝導性硬化物の配置位置により伝熱方向を制御できることを意味する。
12 プリント基板
13,13a,13b,13c,13d 電子部品(発熱体)
14 発熱体の周囲(熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の硬化物を配置してもよい空間)
15 熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の硬化物
Claims (6)
- (A)プリント基板、(B)第1の発熱体、(C)第2の発熱体、及び、(D)熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の硬化物を有する放熱構造体であって、
プリント基板(A)が第1の面及び第1の面の反対側に位置する第2の面を有し、
第1の発熱体(B)が第1の面上に、第2の発熱体(C)が第2の面上にそれぞれ配置されており、
第1の発熱体(B)の発熱量が第2の発熱体(C)の発熱量以上であり、
第2の発熱体(C)の周囲に熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の硬化物(D)が配置されており、
第1の発熱体(B)の周囲には熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の硬化物(D)よりも熱伝導率が低い層が配置されていることを特徴とする放熱構造体。 - さらに(E)電磁波シールドケースを有する請求項1に記載の放熱構造体。
- 熱伝導性硬化性液状樹脂組成物が湿気又は加熱により硬化するものである請求項1又は2に記載の放熱構造体。
- 熱伝導性硬化性液状樹脂組成物が(I)硬化性アクリル系樹脂又は硬化性ポリプロピレンオキサイド系樹脂と、(II)熱伝導性充填材からなる熱伝導性硬化性液状樹脂組成物であって、粘度が30Pa・s以上3000Pa・s以下、熱伝導率が0.5W/(m・K)以上である請求項1〜3のいずれかに記載の放熱構造体。
- 電磁波シールドケース(E)が第2の面上に設置されており、熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の硬化物(D)が第2の面上に設置された該電磁波シールドケース(E)内に配置されていることを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載の放熱構造体。
- プリント基板(A)の第1の面に垂直な方向から透視した場合に、第1の発熱体(B)が配置されている領域の少なくとも一部と、第2の発熱体(C)及び熱伝導性硬化性液状樹脂組成物の硬化物(D)が配置されている領域の少なくとも一部が重なることを特徴とする請求項2〜5のいずれかに記載の放熱構造体。
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