JPWO2014045898A1 - 光学フィルム - Google Patents

Abstract

厚さが１０〜４０μｍのフィルム基材（１）上に、硬化膜（２）が形成された光学フィルム（Ｆ）において、フィルム基材（１）の幅手方向の両端部から５０ｍｍまでの各領域を、第１の領域（Ｒ１）および第２の領域（Ｒ２）とする。硬化膜（２）は、フィルム基材（１）上で、第１の領域（Ｒ１）における幅手方向の２０〜１００％の範囲、および第２の領域（Ｒ２）における幅手方向の２０〜１００％の範囲をそれぞれ覆うように形成されている。第１の領域（Ｒ１）および第２の領域（Ｒ２）のそれぞれにおける硬化膜（２）の表面に、硬化膜形成後にナーリング加工することで凹凸状のナーリング部（３）が形成されている。ナーリング部（３）は、硬化膜（２）の表面において、硬化膜（２）の各端部から幅手方向に３ｍｍ以上にわたって形成されている。

Description

本発明は、膜厚の薄いフィルム基材上に硬化膜が形成された光学フィルムに関するものである。

近年、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）の他、液晶テレビやプラズマディスプレイ、有機ＥＬ（Electro Luminescence）ディスプレイ等種々の表示装置が開発されてきており、それらの画面サイズが大型化してきている。このような表示装置では、画面に直接、手が触れたり、物が接触したりすることがあり、画面に傷が付き易い。そこで、通常は、傷付き防止のために、ハードコート層（硬化膜）をフィルム基材上に形成した光学フィルムや、さらにハードコート層上に反射防止層等が形成された光学フィルムを、表示装置の表示画面に貼り付けることが行われている。

このような光学フィルムの製造においては、幅手方向の両端部に、ナーリング部またはエンボス部と呼ばれる、フィルム面よりも嵩高くした部分（凸部）が設けられたフィルム基材が用いられる。フィルム基材にナーリング部を形成しておくことにより、製造されたフィルム基材を巻芯に巻き取ったときに、巻芯方向のフィルム基材のずれや、基材同士のブロッキング（貼り付き）を抑えることができる。このようなフィルム基材の表面にハードコート層を形成することにより、ハードコート層付きの光学フィルムが得られる。得られた光学フィルムは、再度巻芯に巻き取られる。

ここで、ハードコート層付きの光学フィルムを製造するにあたって、例えば特許文献１および２では、フィルム基材のナーリング部がハードコート層の外側に位置するように、フィルム基材上にハードコート層を形成し、さらに、フィルム基材のナーリング部上にさらに別のナーリング部を追加で形成するようにしている。この場合、先に形成されたナーリング部の凹凸を利用して追加のナーリング部を形成することができるため、エンボスロールの凹凸部の厚みをそれほど大きくしなくても、容易に所望の高さのナーリング部を精度良く形成することができる。また、例えば特許文献３では、フィルム基材のナーリング部上までハードコート層を塗布し、かつ、ナーリング部の裏面に微細な突起を形成することで、光学フィルムを製造するようにしている。

ところで、近年では、表示装置の薄型化に伴い、用いる光学フィルムの薄型化も要求されている。ここで、製造された光学フィルムを巻芯に巻き取る際の巻径を一定とした場合、薄型の光学フィルムを巻き取る場合は、膜厚の厚い光学フィルムを巻き取る場合に比べて、巻数を増大させることができる。このため、薄型の光学フィルムとしては、巻数の多い長尺状（例えば３０００ｍ以上）の光学フィルムを製造することが可能となる。

しかし、特許文献１および２では、ハードコート層よりも柔らかいフィルム基材にナーリング部が形成されているため、長尺状の光学フィルムを巻き取ったときの自重や押圧力によって、ナーリング部がつぶれやすくなる。ナーリング部がつぶれると、光学フィルムの巻きずれやブロッキングを抑えることができなくなる。また、特許文献３では、ナーリング部の裏面の微細な突起は、ハードコート層の下地となるフィルム基材の裏面に設けられる突起と考えられるが、この突起はハードコート層よりも柔らかいため、やはり、長尺状の光学フィルムを巻き取ったときに突起がつぶれやすくなって、巻きずれ等を抑えることができなくなる。

したがって、膜厚の薄い、長尺状の光学フィルムを巻き取る場合でも、巻きずれやブロッキングを確実に抑えることができるように、光学フィルムを構成することが望まれる。

特開２００５−２１９２７２号公報（請求項１、段落〔００２８〕、図１等参照） 特開２００９−２２３１２９号公報（段落〔００２６〕、図１等参照） 特開２００４−３４７９２８号公報（請求項４、段落〔００１５〕等参照）

本発明の目的は、前記の事情に鑑み、膜厚の薄い、長尺状の光学フィルムを巻き取る場合でも、巻きずれやブロッキングを確実に抑えることができる光学フィルムを提供することにある。

本発明の上記目的は以下の構成により達成される。

１．厚さが１０〜４０μｍのフィルム基材上に、硬化膜が形成された光学フィルムであって、
前記フィルム基材の幅手方向の両端部から５０ｍｍまでの各領域を、第１の領域および第２の領域とすると、
前記硬化膜は、前記フィルム基材上で、前記第１の領域における幅手方向の２０〜１００％の範囲、および前記第２の領域における幅手方向の２０〜１００％の範囲をそれぞれ覆うように形成されており、
前記第１の領域および前記第２の領域のそれぞれにおける前記硬化膜の表面に、前記硬化膜形成後にナーリング加工することで凹凸状のナーリング部が形成されており、
前記ナーリング部は、前記硬化膜の表面において、該硬化膜の各端部から前記幅手方向に３ｍｍ以上にわたって形成されていることを特徴とする光学フィルム。

２．前記ナーリング部の高さが、１〜２５μｍであることを特徴とする前記１に記載の光学フィルム。

３．前記ナーリング部の凸部の個数が、１ｃｍ²あたり１０〜１４０個であることを特徴とする前記１または２に記載の光学フィルム。

４．前記硬化膜の弾性率が、４．０ＧＰａ以上であることを特徴とする前記１から３のいずれかに記載の光学フィルム。

上記の構成によれば、厚さが１０〜４０μｍと薄いフィルム基材上の硬化膜の表面に、硬化膜形成後にナーリング加工することで凹凸状のナーリング部が形成されている。ナーリング部は、フィルム基材に形成した凹凸だけを利用するものではなく、硬化膜の硬さを有しているため、光学フィルムを巻き取ったときでも自重や押圧力によってつぶれにくくなる。これにより、薄くて長尺状の光学フィルムを巻き取ったときでも、巻芯方向の巻きずれや、ブロッキングを抑えることができる。

しかも、上記のナーリング部は、フィルム基材の幅手方向に端部から３ｍｍ以上にわたって形成されているので、幅手方向（巻芯方向）に対する耐性を確実に増大させることができ、また、ナーリング部の強度も確実に確保できる。その結果、薄い光学フィルムの巻き取り時の巻芯方向の巻きずれおよびブロッキングを確実に抑えることができる。

また、硬化膜は、フィルム基材上で第１の領域および第２の領域（幅手方向の各端部から５０ｍｍまでの領域）における幅手方向の２０〜１００％の範囲をそれぞれ覆うように形成されているので、第１の領域および第２の領域における硬化膜の形成範囲は、幅手方向に１０ｍｍ（５０ｍｍの２０％に相当）〜５０ｍｍ（５０ｍｍの１００％に相当）となる。したがって、第１の領域および第２の領域の硬化膜表面において、ナーリング部の形成幅３ｍｍ以上を確実に確保することが可能となる。

本発明の実施の形態に係る光学フィルムの概略の構成を示す断面図である。 上記光学フィルムの他の構成を示す断面図である。 図１および図２の光学フィルムの硬化膜を拡大して示す断面図である。 実施例１の光学フィルムの概略の構成を示す断面図である。 実施例１０の光学フィルムの概略の構成を示す断面図である。 実施例１１の光学フィルムの概略の構成を示す断面図である。 実施例１２の光学フィルムの概略の構成を示す断面図である。 実施例１３の光学フィルムの概略の構成を示す断面図である。 比較例２の光学フィルムの概略の構成を示す断面図である。

本発明の実施の一形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、本明細書において、数値範囲をＡ〜Ｂと表記した場合、その数値範囲に下限Ａおよび上限Ｂの値は含まれるものとする。

〔光学フィルムの構成〕
図１は、本実施形態の光学フィルムＦの概略の構成を示す、幅手方向に沿った断面図である。なお、幅手方向とは、フィルム面内で長手方向（搬送方向、ＭＤ方向：Machine Direction）に垂直な方向（ＴＤ方向；Transverse Direction）を指す。光学フィルムＦは、フィルム基材１上に、ハードコート層としての硬化膜２が形成されたハードコートフィルムである。フィルム基材１の厚さは１０〜４０μｍであり、薄膜の基材となっている。ここで、以下での説明の便宜上、フィルム基材１の幅手方向の両端部から５０ｍｍまでの各領域を、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２とする。

硬化膜２は、例えば紫外線硬化型樹脂のような活性エネルギー線硬化型樹脂で構成されている。なお、硬化膜２の樹脂材料の詳細については後述する。硬化膜２の樹脂材料および活性エネルギー線の照射条件（照射量等）を適切に選択または制御することで、硬化膜２の弾性率を制御することができる。

ここで、弾性率とは、ひずみと応力との比例係数を指し、応力に対してひずみの小さい材料は、弾性率が高く、硬いことを示す（弾性率の小さい材料は柔らかい）。活性エネルギー線硬化型樹脂を用いた場合、その樹脂材料における官能基数および粒子添加、硬化条件によって硬化膜２の弾性率を制御することができる。例えば、官能基を２以上持つ活性エネルギー線硬化型アクリレートに対して、３００ｍＪ／ｃｍ²以上の活性線エネルギー線を照射することで、弾性率４．０ＧＰａ以上を実現することができる。

硬化膜２は、フィルム基材１上で、第１の領域Ｒ１における幅手方向の２０〜１００％の範囲、および第２の領域Ｒ２における幅手方向の２０〜１００％の範囲をそれぞれ覆うように形成されている。図１では、硬化膜２が、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、幅手方向の２０％の範囲をそれぞれ覆うようにフィルム基材１上に形成されている場合を示している。この場合、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、硬化膜２の幅手方向の長さは、５０ｍｍの２０％、つまり、１０ｍｍである。

一方、図２は、光学フィルムＦの他の構成を示す、幅手方向に沿った断面図である。図２の光学フィルムＦでは、硬化膜２は、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、幅手方向の１００％の範囲をそれぞれ覆うように形成されている。この場合、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、硬化膜２の幅手方向の長さは、５０ｍｍの１００％、つまり、５０ｍｍである。

したがって、硬化膜２が、フィルム基材１上で、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２における幅手方向の２０〜１００％の範囲をそれぞれ覆うように形成される場合、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２における硬化膜２の幅手方向の長さは、１０〜５０ｍｍとなる。

なお、図１および図２では、フィルム幅手方向において、硬化膜２は、第１の領域Ｒ１から第２の領域Ｒ２まで連続して形成されているが、不連続に形成されていてもよい。例えば、硬化膜２は、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２にのみ形成され、第１の領域Ｒ１と第２の領域Ｒ２との間には形成されていなくてもよい。この場合、硬化膜２は、フィルム基材１の表面の保護というよりも、後述する硬いナーリング部３を形成することだけを目的として形成される。また、第１の領域Ｒ１と第２の領域Ｒ２との間に硬化膜２が形成されるとともに、この硬化膜２と幅手方向に所定の間隔をおいて位置するように、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２に硬化膜２が形成されてもよい。

また、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２のそれぞれにおける硬化膜２の表面には、凹凸状のナーリング部３が形成されている。なお、図１および図２では、便宜上、ナーリング部３の形成領域を明確にする目的で、ナーリング部３を表面が平坦の層状で図示しているが、実際には図３に示すように、ナーリング部３の表面は凹凸状である。このナーリング部３は、凸凹のパターンを表面に有するエンボスロールを加熱して硬化膜２上に押し付けるナーリング加工により形成される。つまり、ナーリング部３は、硬化膜形成後のナーリング加工によって形成される。このとき、エンボスロールの加熱温度を、硬化膜２のガラス転移温度Ｔｇよりも高くすることで、硬化膜２に割れを生じさせることなくナーリング部３を形成することができる。なお、硬化膜２の紫外線照射等による硬化前に（例えば半硬化状態で）エンボスロールを押し当てて、その後、硬化膜材料を完全硬化させて、ナーリング部３を形成するようにしてもよい。

ナーリング部３は、硬化膜２の表面において、硬化膜２の幅手方向の各端部から、幅手方向に３ｍｍ以上にわたって形成されている。つまり、図１および図２において、硬化膜２上のナーリング部３の形成幅をｄ（ｍｍ）で示したとき、ｄ≧３である。

また、図１の構成では、硬化膜２に対するナーリング加工の際に、硬化膜２に加えてフィルム基材１の表面にもエンボスロールを押し当てることにより、フィルム基材１の表面に凹凸状のナーリング部４を形成している。なお、フィルム基材１の幅手方向両端部には、硬化膜２を形成する前に予めナーリング加工を行ってナーリング部を形成しておいてもよいし、ナーリング部を形成していなくてもよい。フィルム基材１に予めナーリング部を形成していた場合は、硬化膜２へのナーリング部３の形成の際に、フィルム基材１上に追加でナーリング部４を形成（積層）することになる。勿論、図２のように、硬化膜２がフィルム基材１の端部まで形成されている場合は、硬化膜２に対してのみナーリング加工を行って硬化膜２の表面にのみナーリング部３を形成することになる（ナーリング部４は形成されない）。

本実施形態のように、硬化膜２の表面にナーリング加工を施してナーリング部３を形成することにより、ナーリング部３を硬化膜２と同じ硬さで形成することができる。これにより、フィルム基材１が１０〜４０μｍと薄い光学フィルムＦを巻き取る場合でも、その自重や押圧力によってナーリング部３がつぶれにくくなり、巻芯方向の巻きずれや、ブロッキングを抑えることができる。また、ブロッキングを抑えることにより、光学フィルムＦの幅手方向の厚みムラに起因するブラックバンド（周方向に現れる帯状のスジ）の発生も抑えることができる。

また、幅手方向の長さが５０ｍｍの第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、幅手方向の２０〜１００％の範囲をそれぞれ覆うように硬化膜２を形成することで、硬化膜２の形成範囲が上述したように幅手方向に１０〜５０ｍｍとなる。これにより、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２の硬化膜２の表面に、ナーリング部３を幅手方向に３ｍｍ以上にわたって形成することが可能となる。そして、このように（幅手方向に３ｍｍ以上にわたって）硬化膜２の表面にナーリング部３を形成することにより、幅手方向すなわち巻芯方向に対する耐性を確実に増大させることができる。また、ナーリング部３を幅手方向に３ｍｍ以上と広い範囲で形成することで、ナーリング部３の強度も確実に確保できる。その結果、薄い光学フィルムＦの巻き取り時の巻芯方向の巻きずれおよびブロッキングを確実に抑えることができる。

また、本実施形態では、硬化膜２の弾性率は４．０ＧＰａ以上であり、硬化膜２が硬いので、硬化膜２の表面にナーリング加工を施すことで、上述した巻きずれおよびブロッキングを抑える機能を発揮する、硬いナーリング部３を確実に実現することができる。

また、硬化膜２は、静止摩擦係数が低く、平滑で貼り付きやすいので、巻きずれやブロッキングを抑えることができる本実施形態の構成は、硬化膜２を含んだ状態での厚さが７０μｍ以下、さらには５０μｍ以下の薄膜の光学フィルムＦの長尺での巻き取りに非常に有効となる。このように光学フィルムＦの巻きずれやブロッキングを抑えながら、光学フィルムＦの長尺での巻き取りが可能になると、その後、光学フィルムＦを用いて偏光板を作製する際に、偏光板の生産性を向上させることができる。

ところで、図３は、硬化膜２を拡大して示す断面図である。本実施形態では、ナーリング部３の高さｔは１〜２５μｍである。ここで、ナーリング部３の高さｔとは、硬化膜２の表面において、ナーリング部３の凹凸が形成されていない表面（ナーリング加工を施す前の硬化膜２の表面）からの、ナーリング部３の凸部３ａの高さ（最大高さ）を指す。ナーリング部３の高さｔは、ナーリング加工時に用いるエンボスロールの硬化膜２に対する押圧力を調整することで制御することができる。

ナーリング部３の高さｔが１μｍ未満である場合、ナーリング３による巻きずれ抑制の効果が小さくなるとともに、フィルム巻き取り時にフィルム同士のブロッキングが生じやすくなる。一方、ナーリング部３の高さｔが２５μｍを超えると、フィルム巻き取り時にナーリング部３の凸部３ａが幅手方向内側に倒れやすくなって、幅手方向に沿った断面内で巻き取ったロールに反り（変形）が発生しやすくなり、良好な巻き姿を確保することが困難となる。

したがって、ナーリング部３の高さｔを１〜２５μｍの範囲とすることにより、フィルム巻き取り時の巻きずれおよびブロッキングを抑えながら、ロールの変形を抑えて巻き姿を良好にすることができる。

また、本実施形態では、硬化膜２表面におけるナーリング部３の凸部３ａの個数（密度）は、１ｃｍ²あたり１０〜１４０個となっている。なお、凸部３ａの個数は、表面において型となる凸部の単位面積あたりの個数が異なる複数のエンボスロールの中から適切なものを選択してナーリング加工を行うことで調整することができる。

ナーリング部３の凸部３ａの個数が１０個／ｃｍ²未満であると、凸部３ａの数が少なすぎてナーリング部３の機能、すなわち、上記した巻きずれおよびブロッキングを抑える機能を効率よく発揮することができなくなる。一方、凸部３ａの個数が１４０個／ｃｍ²を超えると、フィルム破断の危険性が高くなる。つまり、凸部３ａの個数が１４０個／ｃｍ²を超えるようなナーリング加工を行うと、フィルム基材１に与えるダメージが増大し、フィルム基材１の幅手方向の強度が低下するため、フィルム破断の危険性が高くなる。

したがって、ナーリング部３の凸部３ａの個数を１０〜１４０個／ｃｍ²とすることにより、巻きずれおよびブロッキングを抑えるナーリング部３の機能を確実に発揮させながら、フィルムの破断を抑制することができる。

なお、フィルム基材１上への硬化膜２の形成時に、硬化膜材料をフィルム基材１の端部ぎりぎりまで塗布すると、その硬化膜材料がフィルム基材１の裏面に回り込み、その裏面にも硬化膜が形成されるおそれがある。このような事態を回避するためには、フィルム基材１の端部から少なくとも５ｍｍ離れた位置から幅手方向内側（端部とは反対側）に、硬化膜材料を塗布して硬化膜２を形成することが望ましい。

なお、以上では、硬化膜２上に反射防止層などの機能性層を設けていないが、機能性層を設ける場合でも、上述した本実施形態の構成を適用することができる。すなわち、硬化膜２上に機能性層を設けるとともに、その機能性層の幅手方向外側の硬化膜２上にナーリング部３を形成することで、光学フィルムＦの巻きずれ等を抑えることができる。なお、ナーリング部３は、機能性層の形成前に硬化膜２表面に形成されてもよいし、機能性層の形成後に形成されてもよい。

特に、機能性層として、防汚性向上のためにフッ素系の活性剤を含む層（防汚層）を設けた場合には、巻きずれ等が生じやすいので、この場合には、硬化膜２上にナーリング部３を設ける本実施形態の構成が非常に有効となる。

〔各層の詳細〕
以下、上記した光学フィルムＦの各層の詳細について説明する。

〔ハードコート層〕
上記した硬化膜としてのハードコート層は、活性エネルギー線硬化型樹脂で形成されている。活性エネルギー線硬化型とは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいい、具体的にはエチレン性不飽和基を有する樹脂である。活性エネルギー線硬化型樹脂には、活性エネルギー線硬化型イソシアヌレート誘導体と、イソシアヌレート誘導体以外の活性エネルギー線硬化型樹脂との両者が含まれる。

＜活性エネルギー線硬化型イソシアヌレート誘導体＞
活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体としては、イソシアヌル酸骨格に１個以上のエチレン性不飽和基が結合した構造を有する化合物であればよく、特に制限はないが、下記一般式（１）で示される同一分子内に３個以上のエチレン性不飽和基及び１個以上のイソシアヌレート環を有する化合物が好ましい。エチレン性不飽和基の種類は、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、ビニルエーテル基であり、より好ましくはメタクリロイル基又はアクリロイル基であり、特に好ましくはアクリロイル基である。

式中のＬ²は、２価の連結基であり、好ましくは、イソシアヌレート環に炭素原子が結合している置換又は無置換の炭素原子数４以下のアルキレンオキシ基またはポリアルキレンオキシ基であり、特に好ましくはアルキレンオキシ基であり、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。Ｒ²は、水素原子またはメチル基を表し、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。一般式（１）で示される具体的化合物を以下に示すが、これらに限られない。

その他の化合物としては、イソシアヌル酸ジアクリレート化合物が挙げられ、下記一般式（２）で表されるイソシアヌル酸エトキシ変性ジアクリレートが好ましい。

また、その他として、ε−カプロラクトン変性の活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体を挙げることもでき、具体的には下記一般式（３）で表される化合物である。

上記化学構造式のＲ₁〜Ｒ₃の−には、下記ａ，ｂ，ｃで示される官能基が付くが、Ｒ₁〜Ｒ₃の少なくとも一つはｂの官能基である。

ａ：−Ｈ、もしくは−（ＣＨ₂）ｎ−ＯＨ（ｎ＝１〜１０、好ましくはｎ＝２〜６）
ｂ：−（ＣＨ₂）ｎ−Ｏ−（ＣＯＣ₅Ｈ₁₀）ｍ−ＣＯＣＨ＝ＣＨ₂（ｎ＝１〜１０、好ましくはｎ＝２〜６、ｍ＝２〜８）
ｃ：−（ＣＨ₂）ｎ−Ｏ−Ｒ（Ｒは（メタ）アクリロイル基、ｎ＝１〜１０、好ましくはｎ＝２〜６）
一般式（３）で示される具体的化合物を以下に示すが、これらに限られない。

イソシアヌル酸トリアクリレート化合物の市販品としては、例えば新中村化学工業株式会社製Ａ−９３００などが挙げられる。イソシアヌル酸ジアクリレート化合物の市販品としては、例えば東亞合成株式会社製アロニックスＭ−２１５などが挙がられる。イソシアヌル酸トリアクリレート化合物及びイソシアヌル酸ジアクリレート化合物の混合物としては、例えば東亞合成株式会社製アロニックスＭ−３１５、アロニックスＭ−３１３などが挙げられる。

ε−カプロラクトン変性の活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体としては、ε−カプロラクトン変性トリス−（アクリロキシエチル）イソシアヌレートである新中村化学工業株式会社製Ａ−９３００−１ＣＬ、東亞合成株式会社製アロニックスＭ−３２７などを挙げることができるが、これらに限定されない。

＜イソシアヌレート誘導体以外の活性エネルギー線硬化型樹脂＞
イソシアヌレート誘導体以外の活性エネルギー線硬化型樹脂としては、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも、紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。

紫外線硬化型アクリレート系樹脂としては、多官能アクリレートが好ましい。該多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、およびジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に２個以上のアクリロイルオキシ基またはメタクロイルオキシ基を有する化合物である。

多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等が好ましく挙げられる。

イソシアヌレート誘導体以外の活性エネルギー線硬化型樹脂としては、単官能アクリレートを用いてもよい。単官能アクリレートとしては、イソボロニルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソオクチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベヘニルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートなどが挙げられる。単官能アクリレートとしては、新中村化学工業株式会社や大阪有機化学工業株式会社等から入手できる。これらの化合物は、それぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの２量体、３量体等のオリゴマーであってもよい。

多官能アクリレートの粘度は、２５℃における粘度が３０００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、２０００ｍＰａ・ｓ以下であることがさらに好ましい。なお、上記の粘度は、Ｂ型粘度計を用いて２５℃の条件にて測定した値である。

また、ハードコート層に活性エネルギー線硬化型イソシアヌレート誘導体とイソシアヌレート誘導体以外の活性エネルギー線硬化型樹脂を併用して用いる場合には、活性エネルギー線硬化型イソシアヌレート誘導体（Ａ）とイソシアヌレート誘導体以外の活性エネルギー線硬化型樹脂（Ｂ）との含有質量比を、（Ａ）：（Ｂ）＝１０：９０〜５０：５０の範囲で用いることで、膜強度（耐擦傷性）に優れる点で好ましい。

ハードコート層には、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化促進のため、光重合開始剤を含有させることが好ましい。光重合開始剤の量としては、質量比で、光重合開始剤：活性エネルギー線硬化型樹脂＝２０：１００〜０．０１：１００であることが好ましい。

光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等および、これらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。

また、ブロッキングの防止や、対擦り傷性等を高めるために、無機または有機の微粒子を活性エネルギー線硬化型樹脂に加えることが好ましい。無機微粒子としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＴＯ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。特に、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム等が好ましく用いられる。

これら無機微粒子は、光学フィルムの透明性を維持しつつ耐擦傷性が向上することから、表面の一部に反応性官能基を有する有機成分が被覆されたものが好ましい。表面の一部に反応性官能基を有する有機成分が被覆される態様としては、例えば、金属酸化物微粒子の表面に存在する水酸基にシランカップリング剤等の有機成分を含む化合物が反応して、表面の一部に有機成分が結合した態様、金属酸化物微粒子の表面に存在する水酸基に水素結合等の相互作用により有機成分を付着させた態様や、ポリマー粒子中に１個又は２個以上の無機微粒子を含有する態様などが挙げられる。

また、有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を用いることができる。

好ましい有機微粒子としては、架橋ポリスチレン粒子（例えば、綜研化学製ＳＸ−１３０Ｈ、ＳＸ−２００Ｈ、ＳＸ−３５０Ｈ）、ポリメチルメタクリレート系粒子（例えば、綜研化学製ＭＸ１５０、ＭＸ３００）、フッ素含有アクリル樹脂微粒子が挙げられる。フッ素含有アクリル樹脂微粒子としては、例えば日本ペイント製：ＦＳ−７０１等の市販品が挙げられる。また、アクリル粒子として、例えば日本ペイント製：Ｓ−４０００、アクリル−スチレン粒子として、例えば日本ペイント製：Ｓ−１２００、ＭＧ−２５１等が挙げられる。

これらの微粒子粉末の平均粒子径は特に制限されないが、０．０１〜５μｍが好ましく、０．０１〜１．０μｍであることが特に好ましい。また、粒径の異なる２種以上の微粒子を含有してもよい。微粒子の平均粒子径は、例えばレーザー回折式粒度分布測定装置により測定することができる。

紫外線硬化樹脂組成物と微粒子との割合は、樹脂組成物１００質量部に対して、１０〜４００質量部となるように微粒子を配合することが望ましく、更に望ましくは、５０〜２００質量部である。

また、本実施形態に係るハードコート層は、溶剤で希釈したハードコート層塗布組成物を、以下の方法でフィルム基材上に塗布、乾燥、硬化して設けることが、ハードコート層とフィルム基材との層間密着が得られやすい点から好ましい。溶剤としては、ケトン類またはエステル類が好ましい。ケトン類としては、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどを挙げることができる、また、エステル類としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピルなどを挙げることができるが、これらには限定されない。その他の溶剤としては、アルコール類（エタノール、メタノール、ブタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ジアセトンアルコール）、炭化水素類（トルエン、キシレン、ベンゼン、シクロヘキサン）、グリコールエーテル類（プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテルなど）などを好ましく用いることができる。

活性エネルギー線硬化型樹脂１００質量部に対して、これらの溶剤を２０〜２００質量部の範囲で用いることで、塗布組成物としての安定性に優れる。

また、ハードコート層塗布組成物の塗布量は、ウェット膜厚で０．１〜４０μｍが適当で、好ましくは、０．５〜３０μｍであり、ドライ膜厚では、平均膜厚０．１〜３０μｍ、好ましくは１〜２０μｍ、特に好ましくは４〜１５μｍである。

ハードコート層は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイ（押し出し）コーター、インクジェット法等公知の塗布方法を用いて、ハードコート層を形成するハードコート層塗布組成物を塗布した後、乾燥し、ＵＶ硬化処理し、更に必要に応じて、ＵＶ硬化に加熱処理することで形成できる。

ＵＶ硬化処理に用いる光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。照射条件は、それぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ²、好ましくは１００〜５００ｍＪ／ｃｍ²である。

また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅手方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は３０〜３００Ｎ／ｍが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅手方向、または２軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性の優れたフィルムを得ることができる。

ハードコート層には、帯電防止性を付与するために導電剤を含ませてもよい。好ましい導電剤としては、金属酸化物粒子またはπ共役系導電性ポリマーが挙げられる。また、イオン液体も導電性化合物として好ましく用いられる。また、ハードコート層には、塗布性の観点、及び微粒子の均一な分散性の観点から、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤或いはポリオキシエーテル等の非イオン性界面活性剤、アニオン界面活性剤、及びフッ素−シロキサングラフトポリマーを含有させてよい。フッ素−シロキサングラフトポリマーとは、少なくともフッ素系樹脂に、シロキサン及び／またはオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン及び／またはオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体のポリマーをいう。市販品としては、富士化成工業株式会社製のＺＸ−０２２Ｈ、ＺＸ−００７Ｃ、ＺＸ−０４９、ＺＸ−０４７−Ｄ等を挙げることができる。またこれら成分は、塗布液中の固形分成分に対し、０．０１〜３質量％の範囲で添加することが好ましい。

ハードコート層は、１層であってもよく、複数の層であってもよい。ハードコート層のハードコート性、ヘーズ、算術表面粗さＲａを制御し易くするために、ハードコート層を２層以上に分割して設けてもよい。また、ハードコート層は、フィルム基材の両面に設けてもよい。

ハードコート層を２層以上設ける場合の最上層の膜厚は、０．０５〜２μｍの範囲であることが好ましい。２層以上の積層は同時重層で形成してもよい。同時重層とは、乾燥工程を経ずに基材上に２層以上のハードコート層をｗｅｔ ｏｎ ｗｅｔで塗布して、ハードコート層を形成する手法である。第１ハードコート層の上に乾燥工程を経ずに、第２ハードコート層をｗｅｔ ｏｎ ｗｅｔで積層するには、押し出しコーターにより逐次重層するか、若しくは複数のスリットを有するスロットダイにて同時重層を行えばよい。

ハードコート層は、硬度の指標で有る鉛筆硬度が、Ｈ以上であり、より好ましくは４Ｈ以上である。４Ｈ以上であれば、液晶表示装置の偏光板化工程で、傷が付きにくいばかりではなく、屋外用途で用いられることが多い、大型の液晶表示装置や、デジタルサイネージ用液晶表示装置の表面フィルム基材として用いた際も優れた膜強度を示す。鉛筆硬度は、作製した光学フィルムを温度２３℃、相対湿度５５％の条件で２時間以上調湿した後、ＪＩＳ（Japanese Industrial Standards Committee；日本工業標準調査会）の規格の一つである、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規定されている試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ Ｋ５４００に規定されている鉛筆硬度評価方法に従い測定した値である。

＜ヘーズ＞
本実施形態の光学フィルムのヘーズ値は、クリア光学フィルムでは、１％以下が好ましい。ヘーズ値を１％以下とすることで、大型化された液晶表示装置やデジタルサイネージ等の屋外で用いられる際の、十分な輝度や高いコントラストが得られる。ヘーズ値は、ＪＩＳ Ｋ７１０５及びＪＩＳ Ｋ７１３６に準じて測定することができる。

また、本実施形態の光学フィルムは、防眩性を有してもよい。防眩性とは、光学フィルムのハードコート層で反射した像や外光の輪郭をぼかす機能であり、反射像の視認性を低下させて、液晶ディスプレイ等に光学フィルムを使用したときに、反射像の映り込みが気にならないようにすることである。防眩性を有した光学フィルムでは、全ヘーズ値は、３％〜４０％であることが好ましい。また、表面ヘーズ値（フィルムの表面散乱に起因するヘーズ）は、３〜４０％であることが好ましく、内部ヘーズ値（内部散乱に起因するヘーズ）は３５％以下が好ましい。

〔フィルム基材〕
フィルム基材は、製造が容易であることから、トリアセチルセルロースフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルムが好ましい。その他フィルムとして、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等をフィルム基材に用いることができる。前記したフィルムを構成する樹脂は併用して用いてもよい。

フィルム基材の屈折率は、１．３０〜１．７０であることが好ましく、１．４０〜１．６５であることがより好ましい。屈折率は、アタゴ社製 アッペ屈折率計２Ｔを用いてＪＩＳ Ｋ７１４２の方法で測定することができる。

＜セルロースエステル系フィルム＞
セルロースエステル系フィルムは、セルローストリアセテートの場合には、平均酢化度（結合酢酸量）５４．０〜６２．５％のものが好ましく用いられ、更に好ましくは、平均酢化度が５８．０〜６２．５％のセルローストリアセテートフィルムである。平均酢化度が小さいと、寸法変化が大きく、また偏光板の偏光度が低下する。平均酢化度が大きいと、溶剤に対する溶解度が低下し、生産性が下がる。

フィルム基材は、アセチル基置換度が２．８０〜２．９５であって、数平均分子量（Ｍｎ）が１２５０００以上１５５０００未満であるセルローストリアセテートＡを含有することが好ましい。また、セルローストリアセテートＡは、重量平均分子量（Ｍｗ）が２６５０００以上３１００００未満、Ｍｗ／Ｍｎが１．９〜２．１であるものが好ましい。

また、鉛筆硬度が向上する点から、アセチル基置換度が２．７５〜２．９０であって、数平均分子量（Ｍｎ）が１５５０００以上１８００００未満、Ｍｗが２９００００以上３６００００未満、Ｍｗ／Ｍｎが１．８〜２．０であるセルローストリアセテートＢをセルローストリアセテートＡに併用することが好ましい。セルローストリアセテートＡとセルローストリアセテートＢを併用する場合には、質量比でセルローストリアセテートＡ：セルローストリアセテートＢ＝１００：０〜２０：８０の範囲であることが好ましい。

セルローストリアセテート以外では、炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＹとしたときに、下記式（Ｉ）および（II）を同時に満たすセルロースエステルを用いることができる。
式（Ｉ） ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（II） ０≦Ｘ≦２．５
その中では、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく、中でも１．９≦Ｘ≦２．５、０．１≦Ｙ≦０．９であることが好ましい。アシル基置換度の測定は、ＡＳＴＭ（American Society for Testing and Materials；米国試験材料協会）が策定・発行する規格の一つである、ＡＳＴＭ Ｄ８１７−９６に準じて行うことができる。また、セルロースジアセテートも好ましく用いることができる。

セルロースエステルの数平均分子量（Ｍｎ）および分子量分布（Ｍｗ）は、高速液体クロマトグラフィーを用いて測定することができる。測定条件は以下の通りである。
溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）
Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。

＜エステル化合物＞
セルロースエステル系フィルムは、耐透湿性に優れる点から、エステル化合物を含有することが好ましい。エステル化合物としては、フタル酸、アジピン酸、少なくとも一種のベンゼンモノカルボン酸および少なくとも一種の炭素数２〜１２のアルキレングリコールを反応させた構造を有するエステル化合物が好ましい。

ベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、ｐ−トルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ１種または２種以上の混合物として使用することができる。安息香酸であることが最も好ましい。

炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用される。特に１，２−プロピレングリコールが好ましい。

前記エステル化合物は、最終的な化合物の構造として、アジピン酸残基およびフタル酸残基を有していればよい。

前記エステル化合物は、必要に応じてエステル化触媒の存在下で、例えば１８０〜２５０℃の温度範囲内で、１０〜２５時間混合させ、エステル化反応させることによって製造することができる。

更に、エステル化合物としては、芳香族末端エステル化合物も用いることができる。芳香族末端エステル化合物の例示化合物を以下に示すが、これらに限定されない。

また、エステル化合物としては、糖エステル系化合物も挙げることができる。糖エステル系化合物は、下記単糖、二糖、三糖またはオリゴ糖などの糖のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化した化合物であり、より具体的な例示としては、一般式（４）で表わされる化合物などをあげることができる。

式中、Ｒ₁〜Ｒ₈は、置換又は無置換の炭素数２〜２２のアルキルカルボニル基、或いは、置換又は無置換の炭素数２〜２２のアリールカルボニル基を表す。Ｒ₁〜Ｒ₈は、同じであっても、異なっていてもよい。

以下に一般式（４）で示される化合物をより具体的に（化合物４−１〜化合物４−２３として）示すが、これらに限定されない。

前記エステル化合物においては、数平均分子量が、好ましくは３００〜２０００、より好ましくは４００〜１５００である。また、酸価は、０．０８〜０．５０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。水酸基価は、２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、より好ましくは１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。

前記エステル化合物は、フィルム基材中に１〜３５質量％、特に５〜３０質量％含まれることが好ましい。この範囲内であれば、ブリードアウトなどもなく、透明性に優れる。

セルロースエステル系フィルムは、熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂を含有しても良い。

アクリル樹脂には、メタクリル樹脂も含まれる。アクリル樹脂としては、特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位５０〜９９質量％、およびこれと共重合可能な他の単量体単位１〜５０質量％からなるものが好ましい。共重合可能な他の単量体としては、アルキル数の炭素数が２〜１８のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が１〜１８のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられる。これらは単独で用いることもできるし、２種以上の単量体を併用して用いることもできる。

これらの中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやｎ−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。

また、アクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は８００００〜５０００００であることが好ましく、更に好ましくは、１１００００〜５０００００の範囲内である。アクリル樹脂の重量平均分子量は、測定条件含めて、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。また、市販品としてはデルペット６０Ｎ、８０Ｎ（旭化成ケミカルズ（株）製）、ダイヤナールＢＲ５２、ＢＲ８０，ＢＲ８３，ＢＲ８５，ＢＲ８８（三菱レイヨン（株）製）、ＫＴ７５（電気化学工業（株）製）等が挙げられる。アクリル樹脂は２種以上を併用することもできる。

＜添加剤＞
フィルム基材の脆性を改善する目的で、アクリル粒子を含有してもよい。アクリル粒子の市販品の例としては、例えば、メタブレンＷ−３４１（Ｃ２）（三菱レイヨン（株）製）を、ケミスノーＭＲ−２Ｇ（Ｃ３）、ＭＳ−３００Ｘ（Ｃ４）（綜研化学（株）製）等を挙げることができる。

アクリル微粒子は、フィルム基材を形成する樹脂の総質量に対して、０．５％〜３０％の範囲で含有させることが好ましい。

（微粒子）
フィルム基材は、アクリル微粒子以外の微粒子を含有してもよい。アクリル微粒子以外の微粒子としては、滑り性、保管安定性の観点から二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等の無機微粒子が好ましい。

これら無機微粒子の中では、濁度が低い点で、二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素は疎水化処理をされたものが滑り性とヘーズを両立する上で好ましい。４個のシラノール基のうち、２個以上が疎水性の置換基で置き換わったものが好ましく、３個以上が置き換わったものがより好ましい。疎水性の置換基はメチル基であることが好ましい。二酸化珪素の一次粒径は２０ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。これらの中でも、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖがフィルム基材のヘーズを低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく、アエロジルＲ８１２が最も好ましく用いられる。フィルム基材においては、少なくとも一方の面の動摩擦係数が０．２〜１．０であることが好ましい。

（その他の添加剤）
フィルム基材には、組成物の流動性や柔軟性を向上するために、可塑剤を添加することもできる。可塑剤としては、フタル酸化合物、脂肪酸化合物、トリメリット酸化合物、リン酸化合物、アクリル系ポリマー、あるいはエポキシ系化合物等が挙げられる。

アクリル系ポリマーとしては、アクリル酸またはメタクリル酸アルキルエステルのホモポリマーまたはコポリマーが好ましい。アクリル酸エステルのモノマーとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−メトキシエチル）、アクリル酸（２−エトキシエチル）等、又は上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができる。アクリル系ポリマーは上記モノマーのホモポリマーまたはコポリマーであるが、アクリル酸メチルエステルモノマー単位が３０質量％以上を有していることが好ましく、またメタクリル酸メチルエステルモノマー単位が４０質量％以上有することが好ましい。特にアクリル酸メチルまたはメタクリル酸メチルのホモポリマーが好ましい。

用途に応じてこれらの可塑剤を選択、あるいは併用して用いることができる。また、可塑剤の添加量は、フィルム基材１００質量部に対して、０．５〜３０質量部であることが好ましい。

フィルム基材は、紫外線吸収剤を含有することも好ましい。用いられる紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、２−ヒドロキシベンゾフェノン系またはサリチル酸フェニルエステル系のもの等が挙げられる。例えば、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類を例示することができる。ここで、紫外線吸収剤のうちでも、分子量が４００以上の紫外線吸収剤は、高沸点で揮発しにくく、高温成形時にも飛散しにくいため、比較的少量の添加で効果的に耐候性を改良することができる。

分子量が４００以上の紫外線吸収剤としては、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］等のベンゾトリアゾール系、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート等のヒンダードアミン系、さらには２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等の分子内にヒンダードフェノールとヒンダードアミンの構造を共に有するハイブリッド系のものが挙げられ、これらは単独で、あるいは２種以上を併用して使用することができる。これらのうちでも、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾールや２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］が特に好ましい。

さらに、フィルム基材には、成形加工時の熱分解性や熱着色性を改良するために各種の酸化防止剤を添加することもできる。また帯電防止剤を加えて、フィルム基材に帯電防止性能を与えることも可能である。

フィルム基材には、リン系難燃剤を配合した難燃アクリル系樹脂組成物を用いてもよい。ここで用いられるリン系難燃剤としては、赤リン、トリアリールリン酸エステル、ジアリールリン酸エステル、モノアリールリン酸エステル、アリールホスホン酸化合物、アリールホスフィンオキシド化合物、縮合アリールリン酸エステル、ハロゲン化アルキルリン酸エステル、含ハロゲン縮合リン酸エステル、含ハロゲン縮合ホスホン酸エステル、含ハロゲン亜リン酸エステル等から選ばれる１種、あるいは２種以上の混合物を挙げることができる。

具体的な例としては、トリフェニルホスフェート、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキシド、フェニルホスホン酸、トリス（β−クロロエチル）ホスフェート、トリス（ジクロロプロピル）ホスフェート、トリス（トリブロモネオペンチル）ホスフェート等が挙げられる。

デジタルサイネージ等の屋外用途への利用により、より高い輝度が求められていることから、フィルム基材は、より高温の環境下での使用に耐えられることが求められている。フィルム基材の張力軟化点が１０５℃〜１４５℃であれば、十分な耐熱性を示すものと判断でき、好ましく、特に１１０℃〜１３０℃に制御することが好ましい。

張力軟化点の具体的な測定方法としては、例えば、テンシロン試験機（ＯＲＩＥＮＴＥＣ社製、ＲＴＣ−１２２５Ａ）を用いて、光学フィルムを１２０ｍｍ（縦）×１０ｍｍ（幅）で切り出し、１０Ｎの張力で引っ張りながら３０℃／ｍｉｎの昇温速度で昇温を続け、９Ｎになった時点での温度を３回測定し、その平均値により求めることができる。

また、耐熱性の観点で、フィルム基材は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１１０℃以上であることが好ましい。より好ましくは１２０℃以上である。特に好ましくは１５０℃以上である。

なお、ここでいうガラス転移温度とは、示差走査熱量測定器（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ社製ＤＳＣ−７型）を用いて、昇温速度２０℃／分で測定し、ＪＩＳ Ｋ７１２１（１９８７）に従い求めた中間点ガラス転移温度（Ｔｍｇ）である。

また、フィルム基材を、特に屋外で使用される液晶表示装置に用いられる場合、フィルム基材の寸法変化率（％）は０．５％未満が好ましく、更に、０．３％未満であることが好ましい。

また、フィルム基材において、フィルム面内の直径５μｍ以上の欠点が１個／１０ｃｍ四方以下であることが好ましい。更に好ましくは０．５個／１０ｃｍ四方以下、一層好ましくは０．１個／１０ｃｍ四方以下である。ここで、欠点とは、溶液製膜の乾燥工程において溶媒の急激な蒸発に起因して発生するフィルム中の空洞（発泡欠点）や、製膜原液中の異物や製膜中に混入する異物に起因するフィルム中の異物（異物欠点）、さらには、ロール傷の転写や擦り傷など、表面形状が変化している部分を言う。また、欠点の直径とは、欠点が円形の場合はその直径を示し、円形でない場合は欠点の範囲を下記方法により顕微鏡で観察して決定し、その最大径（外接円の直径）とする。

欠点の範囲は、欠点が気泡や異物の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の透過光で観察したときの影の大きさである。欠点が、ロール傷の転写や擦り傷など、表面形状の変化の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の反射光で観察して大きさを確認する。なお、反射光で観察する場合に、欠点の大きさが不明瞭であれば、表面にアルミや白金を蒸着して観察する。

かかる欠点頻度にて表される、品位に優れたフィルムを生産性よく得るには、ポリマー溶液を流延直前に高精度濾過することや、流延機周辺のクリーン度を高くすること、また、流延後の乾燥条件を段階的に設定し、効率よくかつ発泡を抑えて乾燥させることが有効である。

欠点の個数が１個／１０ｃｍ四方より多いと、例えば後工程での加工時などでフィルムに張力がかかると、欠点を基点としてフィルムが破断して生産性が低下する場合がある。また、欠点の直径が５μｍ以上になると、偏光板観察などにより目視で確認でき、光学部材として用いたとき輝点が生じる場合がある。

また、欠点を目視で確認できない場合でも、該フィルム上にハードコート層を形成したときに、ハードコート層塗布組成物が均一に塗布できず、欠点（塗布抜け）となる場合がある。

また、フィルム基材は、ＪＩＳ Ｋ７１２７（１９９９）に準拠した測定において、少なくとも一方向の破断伸度が、１０％以上であることが好ましく、より好ましくは２０％以上である。

破断伸度の上限は特に限定されるものではないが、現実的には２５０％程度である。破断伸度を大きくするには異物や発泡に起因するフィルム中の欠点を抑制することが有効である。

フィルム基材の厚さは、１０μｍ以上であることが好ましい。より好ましくは２０μｍ以上である。

フィルム基材の厚さの上限は特に限定されるものではないが、溶液製膜法でフィルム化する場合は、塗布性、発泡、溶媒乾燥などの観点から、上限は２５０μｍ程度である。なお、フィルム基材の厚さは用途により適宜選定することができる。

したがって、本実施形態のフィルム基材の厚さは、１０〜２５０μｍであることが好ましく、２０〜１００μｍであることがより好ましい。なお、光学部材の薄膜化の観点からは、１０〜４０μｍであることが特に好ましい。

フィルム基材は、その全光線透過率が９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９３％以上である。また、現実的な上限としては、９９％程度である。かかる全光線透過率にて表される優れた透明性を達成するには、可視光を吸収する添加剤や共重合成分を導入しないようにすることや、ポリマー中の異物を高精度濾過により除去し、フィルム内部の光の拡散や吸収を低減させることが有効である。

また、フィルム基材のリターデーションは、波長５９０ｎｍにおける面内リターデーションＲｏが０〜５０ｎｍ、厚み方向のリターデーションＲｔｈが−１０〜５０ｎｍ範囲が好ましい。当該範囲のリターデーションを有するフィルム基材を用いて光学フィルムを構成することで、光学フィルムを例えばタッチパネル用構成部材に用いた場合に、複屈折による干渉縞を良好に抑制できる。

なお、上記のＲｏ及びＲｔｈは下記式（Ｉ）及び（II）で定義された値である。
式（Ｉ） Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（II） Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
ただし、式中、ｎｘはフィルム基材の面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム基材の面内で遅相軸に直交する方向の屈折率、ｎｚはフィルム基材の厚み方向の屈折率、ｄはフィルム基材の厚み（ｎｍ）をそれぞれ表す。上記のリターデーションは、例えばＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株））を用い、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、測定波長５９０ｎｍで求めることができる。

リターデーションは、前述したエステル化合物や可塑剤の種類、添加量、及びフィルム基材の膜厚や延伸条件などで調整できる。

また、製膜時のフィルム接触部（冷却ロール、カレンダーロール、ドラム、ベルト、溶液製膜における塗布基材、搬送ロールなど）の表面粗さを小さくしてフィルム表面の表面粗さを小さくすることや、アクリル樹脂の屈折率を小さくすることによりフィルム表面の光の拡散や反射を低減させることが有効である。

（フィルム基材の製膜）
次に、フィルム基材の製膜方法の例について説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。

フィルム基材の製膜方法としては、インフレーション法、Ｔ−ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できる。着色抑制、異物欠点の抑制、ダイラインなどの光学欠点の抑制などの観点からは、流延法による製膜が好ましい。流延法による製膜には、溶液流延法と溶融流延法とがある。

（有機溶媒）
フィルム基材を溶液流延法で製造する場合のドープを形成するのに有用な有機溶媒は、セルロースエステル系樹脂や、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。

例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができ、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。

ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の炭素原子数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ないときは、非塩素系有機溶媒系でのアクリル樹脂、セルロースエステル樹脂の溶解が促進される。

特に、メチレンクロライド、及び炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有する溶媒に、アクリル樹脂と、セルロースエステル樹脂と、アクリル粒子の３種を、少なくとも計１５〜４５質量％溶解させたドープ組成物であることが好ましい。

炭素原子数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることができる。これらのうち、ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等から、エタノールが好ましい。

（溶液流延法）
フィルム基材は、溶液流延法によって製造することができる。溶液流延法では、樹脂および添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状もしくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体からウェブを剥離する工程、ウェブを延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻き取る工程により行われる。

ドープ中のセルロースエステル系樹脂の濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステル系樹脂の濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５〜２５質量％である。

流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。

キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、あまり高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。

金属支持体の温度は、０〜１００℃の範囲で適宜決定されることが好ましく、５〜３０℃が更に好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態で金属支持体から剥離することも好ましい方法である。

金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。

温風を用いる場合は、溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で金属支持体の温度および乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。

セルロースエステル系フィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましい。残留溶媒量の下限の好ましい範囲は、２０〜４０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％である。残留溶媒量の上限の好ましい範囲は、６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、７０〜１２０質量％である。なお、残留溶媒量は下記式で定義される。
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
ここで、Ｍはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。

また、セルロースエステルフィルム或いはセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。

延伸工程では、ウェブ（フィルム）の搬送方向（ＭＤ方向；Machine Direction）、及びこれに垂直な幅手方向（ＴＤ方向；Transverse Direction）に対して、逐次または同時に延伸することができる。互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的にはＭＤ方向に１．０〜２．０倍、ＴＤ方向に１．０７〜２．０倍の範囲とすることが好ましく、ＭＤ方向に１．０〜１．５倍、ＴＤ方向に１．０７〜２．０倍の範囲で行うことが好ましい。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用してＭＤ方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げてＭＤ方向に延伸する方法、同様に横方向に広げてＴＤ方向に延伸する方法、或いはＭＤ／ＴＤ方向同時に広げてＭＤ／ＴＤ両方向に延伸する方法などが挙げられる。

製膜工程のこれらの幅保持或いは幅手方向の延伸は、テンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。テンター内などにおける製膜工程でのフィルム搬送張力は、温度にもよるが、１２０Ｎ／ｍ〜２００Ｎ／ｍが好ましく、１４０Ｎ／ｍ〜２００Ｎ／ｍがさらに好ましく、１４０Ｎ／ｍ〜１６０Ｎ／ｍが最も好ましい。

フィルムを延伸する際の温度は、フィルム基材のガラス転移温度をＴｇ℃とすると、（Ｔｇ−３０）〜（Ｔｇ＋１００）℃、より好ましくは（Ｔｇ−２０）〜（Ｔｇ＋８０）℃、さらに好ましくは（Ｔｇ−５）〜（Ｔｇ＋２０）℃である。

フィルム基材のガラス転移温度は、フィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率によって制御することができる。フィルム基材の乾燥時のガラス転移温度は１１０℃以上が好ましく、さらに１２０℃以上がより好ましい。また、フィルム基材のガラス転移温度は１９０℃以下であることが好ましく、さらに１７０℃以下であることがより好ましい。このとき、フィルム基材のガラス転移温度は、ＪＩＳ Ｋ７１２１に記載の方法などによって求めることができる。

フィルムを延伸する際の温度を１５０℃以上とし、延伸倍率を１．１５倍以上にすると、表面が適度に粗面化するため好ましい。フィルム表面を適度に粗面化することは、滑り性を向上させるのみでなく、表面加工性、特にハードコート層の密着性が向上するため好ましい。フィルム基材の表面の算術平均粗さＲａは、好ましくは２．０ｎｍ〜４．０ｎｍ、より好ましくは２．５ｎｍ〜３．５ｎｍである。

フィルム乾燥工程では、一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールにウェブを交互に通し乾燥させる方式）や、テンターでウェブを搬送しながら乾燥させる方式が採られる。

（溶融流延法）
フィルム基材は、溶融流延法によって製膜することもできる。溶融流延法は、樹脂および可塑剤などの添加剤を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性のセルロースエステルを含む溶融物を流延することをいう。フィルム形成材料が加熱されて、その流動性を発現させた後、ドラム上またはエンドレスベルト上に押出し製膜する方法も溶融流延法に含まれる。

加熱溶融する成形法は、更に詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの成形法の中では、機械的強度および表面精度などの点から、溶融押出成形法が好ましい。溶融押出しに用いる複数の原材料は、通常予め混錬してペレット化しておくことが好ましい。

ペレット化は、公知の方法を用いて行うことができる。例えば、乾燥セルロースエステルや可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出し機に供給し、１軸や２軸の押出し機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷または空冷し、カッティングすることでペレット化できる。

添加剤は、押出し機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで押出し機に供給してもよい。

粒子や酸化防止剤等少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。

押出し機は、剪断力を抑え、樹脂が劣化（分子量低下、着色、ゲル生成等）しないようにペレット化可能で、なるべく低温で加工するものであることが好ましい。例えば、２軸押出し機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。

以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。もちろんペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出し機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。

上記ペレットを１軸や２軸タイプの押出し機を用いて押出す際の溶融温度を２００〜３００℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどで濾過し異物を除去した後、Ｔダイからフィルム状に流延し、冷却ロールと弾性タッチロールとでフィルムをニップし、冷却ロール上で固化させる。

供給ホッパーから押出し機へ材料を導入する際は、真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。また、ペレットの押出し流量は、ギヤポンプを導入するなどして安定に行うことが好ましい。

また、異物の除去に用いるフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を、複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し、接触箇所を焼結し一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、濾過精度を調整できる。

可塑剤や粒子などの添加剤は、予め樹脂と混合しておいてもよいし、押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサーなどの混合装置を用いることが好ましい。

冷却ロールと弾性タッチロールとでフィルムをニップする際のタッチロール側のフィルム温度は、フィルムのＴｇ以上Ｔｇ＋１１０℃以下であることが好ましい。このような目的で使用する弾性タッチロールは、表面に弾性体を有する公知のロールを使用できる。弾性タッチロールは挟圧回転体とも呼ばれ、特許３１９４９０４号、特許３４２２７９８号、特開２００２−３６３３２号、特開２００２−３６３３３号などで開示されているタッチロールを好ましく用いることができる。また、市販されている弾性タッチロールを用いることもできる。

冷却ロールからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。

また、上記のようにして得られたフィルムは、冷却ロールに接する工程を通過後、延伸操作により延伸することが好ましい。延伸する方法は、公知のロール延伸機やテンターなどを好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のＴｇ〜Ｔｇ＋６０℃の温度範囲で行われることが好ましい。

製膜されたフィルムを巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きや、すり傷防止のために、ナーリング加工（エンボッシング加工）を両端に施してもよい。ナーリング加工は、凸凹のパターンを表面に有するエンボスロールを加熱してフィルムに押し付けることによって行うことができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は、通常、フィルムが変形しており、製品として使用できないので切除されて、再利用される。

〔機能性層〕
本実施形態の光学フィルムには、帯電防止層、バックコート層、反射防止層、易滑性層、接着層、バリアー層等の機能性層を設けることができる。

（バックコート層）
本実施形態の光学フィルムは、フィルム基材のハードコート層を設けた側とは反対側の面に、カールやくっつき防止のためにバックコート層を設けてもよい。

バックコート層に添加される無機化合物の粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。

バックコート層に含まれる粒子の量は、バインダーに対して０．１〜５０質量％であることが好ましい。バインダーとしては、ジアセチルセルロース等のセルロースエステル樹脂が好ましい。

また、バックコート層を設けた場合のヘーズの増加は１．５％以下であることが好ましく、０．５％以下であることが更に好ましく、特に０．１％以下であることが好ましい。

（反射防止層）
本実施形態の光学フィルムは、ハードコート層の上層に反射防止層を塗設して、外光反射防止機能を有する反射防止フィルムとして用いることができる。

反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層数、層順等を考慮して積層されていることが好ましい。反射防止層は、支持体であるフィルム基材よりも屈折率の低い低屈折率層、もしくは支持体であるフィルム基材よりも屈折率の高い高屈折率層と低屈折率層とを組み合わせて構成されていることが好ましい。特に好ましくは、３層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる３層を、中屈折率層（支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているものが好ましく用いられる。または、２層以上の高屈折率層と２層以上の低屈折率層とを交互に積層した４層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。

反射防止フィルムの層構成としては、下記のような構成が考えられるが、これに限定されるものではない。

フィルム基材／ハードコート層／低屈折率層
フィルム基材／ハードコート層／中屈折率層／低屈折率層
フィルム基材／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
フィルム基材／ハードコート層／高屈折率層（導電性層）／低屈折率層
フィルム基材／ハードコート層／防眩性層／低屈折率層

＜低屈折率層＞
低屈折率層は、シリカ系微粒子を含有することが好ましく、その屈折率は、２３℃、測定波長５５０ｎｍにおいて、１．３０〜１．４５の範囲であることが好ましい。

低屈折率層の膜厚は、５ｎｍ〜０．５μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍであることが最も好ましい。

低屈折率層形成用組成物については、シリカ系微粒子として、特に外殻層を有し内部が多孔質または空洞の粒子を少なくとも１種類以上含むことが好ましい。特に該外殻層を有し内部が多孔質または空洞である粒子が、中空シリカ系微粒子であることが好ましい。

なお、低屈折率層形成用組成物には、下記一般式（ＯＳｉ−１）で表される有機珪素化合物もしくはその加水分解物、或いは、その重縮合物を併せて含有させても良い。

一般式（ＯＳｉ−１）：Ｓｉ（ＯＲ）₄
式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を表す。前記一般式で表される有機珪素化合物として、具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。

また、低屈折率層形成用組成物は、フッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含み、且つ架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素化合物を主としてなる熱硬化性および／または光硬化性を有する化合物を含有してもよい。具体的には、含フッ素ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル化合物などである。含フッ素ポリマーとしては、例えばパーフルオロアルキル基含有シラン化合物〔例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン〕の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。その他、溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を低屈折率層形成用組成物に添加してもよい。

＜高屈折率層＞
高屈折率層の屈折率は、２３℃、測定波長５５０ｎｍにおいて、１．４〜２．２の範囲であることが好ましい。また、高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜０．２μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ〜０．１μｍであることが最も好ましい。屈折率を調整する手段は、高屈折率層に金属酸化物微粒子等を添加することで達成できる。用いる金属酸化物微粒子の屈折率は、１．８０〜２．６０であることが好ましく、１．８５〜２．５０であることが更に好ましい。

金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることができる。これらの金属酸化物微粒子には、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素、Ｔａなどの微量の原子がドープされていてもよく、また、これらの混合物であってもよい。中でも、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも１種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが特に好ましい。特にアンチモン酸亜鉛粒子を含有することが好ましい。

これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は、１０ｎｍ〜２００ｎｍであり、１０ｎｍ〜１５０ｎｍであることが特に好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができるが、動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘーズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、針状或いは不定形状であることが好ましい。

金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理されてもよい。金属酸化物微粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑えることもできる。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は、金属酸化物微粒子に対して０．１質量％〜５質量％、より好ましくは０．５質量％〜３質量％である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でもシランカップリング剤が好ましい。また、二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。

また、高屈折率層は、π共役系導電性ポリマーを含有してもよい。π共役系導電性ポリマーとは、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば使用することができる。例えば、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリアニリン類、ポリフェニレン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体が挙げられる。重合の容易さ、安定性の点からは、ポリチオフェン類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類が好ましい。

π共役系導電性ポリマーは、無置換のままでも十分な導電性やバインダー樹脂への溶解性を示すが、導電性や溶解性をより高めるために、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基等の官能基を導入してもよい。該ポリマーとバインダーとの比率は、ポリマー１００質量部に対して、バインダーが１０〜４００質量部であることが好ましく、特に好ましくは、ポリマー１００質量部に対して、バインダーが１００〜２００質量部である。

また、高屈折率層はイオン性化合物を含有してもよい。イオン性化合物としては、イミダゾリウム系、ピリジウム系、脂環式アミン系、脂肪族アミン系、脂肪族ホスホニウム系の陽イオンと、ＢＦ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-等の無機イオン系、ＣＦ₃ＳＯ₂ ^-、（ＣＦ₃ＳＯ₂）₂Ｎ^-、ＣＦ₃ＣＯ₂ ^-等のフッ素系の陰イオンとからなる化合物等が挙げられる。

〔偏光板〕
次に、本実施形態の光学フィルムを用いた偏光板について説明する。偏光板は一般的な方法で作製することができる。本実施形態の光学フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理した光学フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。なお、偏光膜のもう一方の面に、本実施形態の光学フィルムを貼り合わせてもよく、上述したフィルム基材を貼り合わせてもよい。

また、他に、波長５９０ｎｍにおいて、面内リターデーションＲｏが、２０〜７０ｎｍ、膜厚方向のリターデーションＲｔが７０〜４００ｎｍの位相差を有する光学補償フィルム（位相差フィルム）を用いて、視野角拡大可能な偏光板とすることもできる。このような偏光板は、例えば特開２００２−７１９５７号公報に記載の方法で作製することができる。また、更にディスコチック液晶等の液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開２００３−９８３４８号公報に記載の方法で光学異方性層を形成することができる。

また、好ましく用いられる市販の偏光板フィルム基材としては、ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ４ＵＥＷ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ４ＦＲ−２、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ４ＵＥ（コニカミノルタオプト（株）製）等が挙げられる。

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子である。現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムであり、これには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがあるが、偏向膜はこれらに限定されるものではない。

偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光膜は、膜厚が５〜３０μｍ、好ましくは８〜１５μｍのものが好ましく用いられる。

該偏光膜の面上に、本実施形態の光学フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは、完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。

〔粘着層〕
液晶セルの基板と貼り合わせるためにフィルム基材の片面に用いられる粘着層は、光学的に透明であることはもとより、適度な粘弾性や粘着特性を示すものが好ましい。

具体的には、粘着層として、例えばアクリル系共重合体やエポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーン系ポリマー、ポリエーテル、ブチラール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、合成ゴムなどの接着剤もしくは粘着剤等のポリマーを用いることができる。これらの材料を用いて、乾燥法、化学硬化法、熱硬化法、熱熔融法、光硬化法等によって膜形成し、硬化させることによって粘着層を形成することができる。中でも、アクリル系共重合体は、最も粘着物性を制御しやすく、かつ透明性や耐候性、耐久性などに優れており、好ましく用いることができる。

＜液晶表示装置＞
本実施形態の光学フィルムを用いて作製した偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた画像表示装置を作製することができる。

本実施形態の光学フィルムは偏光板に組み込まれて、反射型、透過型、半透過型液晶表示装置またはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型、ＯＣＢ型等の各種駆動方式の液晶表示装置に好ましく用いられる。

また、タッチパネル付き液晶表示装置のタッチパネル用部材に本実施形態の光学フィルムを用いることもできる。この場合、視認性やペン入力に対する耐久性（摺動による傷等）を向上させることができる。

＜実施例＞
以下、本発明の具体例について実施例として説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるわけではない。

（実施例１）
図４は、実施例１の光学フィルムＦの概略の構成を示す、幅手方向に沿った断面図である。なお、光学フィルムＦは、幅手方向の中心を通る、幅手方向に垂直な断面に対して対称な層構成であるため、同図では、光学フィルムＦの第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２のうちで第１の領域Ｒ１のみを図示し、第２の領域Ｒ２の図示を省略している（以下で登場する断面図についても同様とする）。

実施例１では、フィルム基材１として、トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ）を用い、硬化膜材料として、ペンタエリスリトールジアクリレート樹脂を用いた。そして、フィルム基材１の幅手方向において、第１の領域Ｒ１から第２の領域Ｒ２にわたって硬化膜材料を塗布し、紫外線の照射によって硬化させて、弾性率４．５ＧＰａの硬化膜２を形成した。なお、このときの紫外線の照射条件は、照度１００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²であった。その後、光学フィルムＦに対して、エンボスロールを用いてナーリング加工を行い、硬化膜２上にナーリング部３を形成するとともに、フィルム基材１上にナーリング部４を形成して光学フィルムＦを作製した。

ここで、フィルム基材１の幅手方向の端部の位置をＡとする。そして、位置Ａから幅手方向内側（端部Ａとは反対側）に５０ｍｍ入った位置をＤとする。この場合、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２は、Ａ−Ｄ間の領域（５０ｍｍ幅）となる。また、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２のそれぞれにおいて、硬化膜２は、フィルム基材１上で幅手方向に位置Ｂ１から位置Ｂ２まで形成されているものとし、ナーリング部全体（ナーリング部３＋ナーリング部４）は、上記幅手方向において位置Ｃ１から位置Ｃ２まで形成されるものとする。なお、位置Ｂ１・Ｃ１は、位置Ｂ２・Ｃ２よりも端部Ａ側に位置しているものとする。なお、特に断らない限り、位置Ｃ１は位置Ａと一致しており、位置Ｂ２は位置Ｄと一致しているものとする。

実施例１では、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、硬化膜２の形成範囲は、Ｂ１−Ｂ２間の４５ｍｍ（Ａ−Ｄ間の９０％）であり、ナーリング部全体（ナーリング部３＋ナーリング部４）の形成範囲は、Ｃ１−Ｃ２間の１５ｍｍであった。つまり、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、フィルム基材１上のナーリング部４の形成範囲は、Ａ（Ｃ１）−Ｂ１間の５ｍｍであり、硬化膜２上のナーリング部３の形成範囲は、Ｂ１−Ｃ２間の１０ｍｍであった。

また、ナーリング部３の高さｔは、１０μｍであり、ナーリング部３の凸部３ａの個数は、７０個／ｃｍ²であった。なお、ナーリング部３の高さｔの測定は、接触式膜厚計 ＴＯＦ−６Ｒ（株式会社 山文電気）によって行い、凸部３ａの個数の測定は、マイクロスコープＶＨＸ−２０００（株式会社 キーエンス）によって行った。また、用いたフィルム基材１の厚さは３０μｍであった。

（実施例２）
実施例２では、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、フィルム端部からのナーリング部全体（ナーリング部３＋ナーリング部４）の形成範囲（Ｃ１−Ｃ２間）を８ｍｍとし、硬化膜２上でのナーリング部３の形成範囲（Ｂ１−Ｃ２間）を３ｍｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。

（実施例３）
実施例３では、ナーリング部３の高さｔを１μｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。

（実施例４）
実施例４では、ナーリング部３の高さｔを２５μｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。

（実施例５）
実施例５では、ナーリング部３の凸部３ａの個数を１０個／ｃｍ²とした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。

（実施例６）
実施例６では、ナーリング部３の凸部３ａの個数を１４０個／ｃｍ²とした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。

（実施例７）
実施例７では、用いるフィルム基材１の膜厚を１０μｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。

（実施例８）
実施例８では、用いるフィルム基材１の膜厚を４０μｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。

（実施例９）
実施例９では、紫外線の照射条件を、照度８０ｍＷ／ｃｍ²、照射量１００ｍＪ／ｃｍ²とし、硬化膜材料に紫外線を照射することにより、硬化膜２の弾性率を４．０ＧＰａとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。

（実施例１０）
図５は、実施例１０の光学フィルムＦの概略の構成を示す、幅手方向に沿った断面図である。実施例１０では、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、硬化膜２の形成範囲（Ｂ１−Ｂ２間）を１０ｍｍ（Ａ−Ｄ間の２０％）とし、ナーリング部全体（ナーリング部３＋ナーリング部４）の形成範囲（Ｃ１−Ｃ２間）を５０ｍｍとした。つまり、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２の硬化膜２上では、ナーリング部３の形成範囲（Ｂ１−Ｃ２間）を１０ｍｍとした。それ以外については、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。

（実施例１１）
図６は、実施例１１の光学フィルムＦの概略の構成を示す、幅手方向に沿った断面図である。実施例１１では、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、硬化膜２の形成範囲（Ｂ１−Ｂ２間）を５０ｍｍ（Ａ−Ｄ間の１００％）とし、その硬化膜２上のナーリング部３の形成範囲（Ｂ１−Ｃ２間）を１５ｍｍとした。すなわち、実施例１１では、硬化膜２の端部の位置Ｂ１が、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２の端部の位置Ａ（Ｃ１）と一致しているため、ナーリング加工によって硬化膜２上にのみナーリング部３が形成されている（フィルム基材１上にナーリング部４は形成されていない）。それ以外については、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。

（実施例１２）
図７は、実施例１２の光学フィルムＦの概略の構成を示す、幅手方向に沿った断面図である。実施例１２では、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２にのみ硬化膜２を形成するとともに、硬化膜２の端部の位置Ｂ２を、位置Ｄよりも幅方向端部側（位置Ａ側）にずらしている。

より詳しくは、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、硬化膜２の形成範囲（Ｂ１−Ｂ２間）を、端部の位置Ａから幅手方向に２０ｍｍまでの範囲（Ａ−Ｄ間の４０％）とし、ナーリング部３の形成範囲（Ｂ１−Ｃ２間）を１５ｍｍとした。すなわち、実施例１２では、硬化膜２の端部の位置Ｂ１が、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２の端部の位置Ａ（Ｃ１）と一致しているため、ナーリング加工によって硬化膜２上にのみナーリング部３が形成されている（フィルム基材１上にナーリング部４は形成されていない）。それ以外については、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。

（実施例１３）
図８は、実施例１３の光学フィルムＦの概略の構成を示す、幅手方向に沿った断面図である。実施例１３においても、実施例１２と同様に、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２にのみ硬化膜２を形成するとともに、硬化膜２の端部の位置Ｂ２を、位置Ｄよりも幅方向端部側（位置Ａ側）にずらしている。

より詳しくは、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、硬化膜２の形成範囲を、端部の位置Ａから幅手方向内側に１０ｍｍの位置Ｂ１から、位置Ａから幅手方向内側に４０ｍｍの位置Ｂ２までの３０ｍｍの範囲（Ａ−Ｄ間の６０％）とし、ナーリング部（ナーリング部３＋ナーリング部４）の形成範囲（Ｃ１−Ｃ２間）を２０ｍｍとした。この場合、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２の硬化膜２上では、ナーリング部３の形成範囲（Ｂ１−Ｃ２間）は１０ｍｍである。それ以外については、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。

（実施例１４）
実施例１４では、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、フィルム端部からのナーリング部（ナーリング部３＋ナーリング部４）の形成範囲（Ｃ１−Ｃ２間）を１０ｍｍとし、硬化膜２上でのナーリング部３の形成範囲（Ｂ１−Ｃ２間）を５ｍｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。

（実施例１５）
実施例１５では、ナーリング部３の高さｔを０．５μｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。

（実施例１６）
実施例１６では、ナーリング部３の高さｔを３０μｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。

（実施例１７）
実施例１７では、ナーリング部３の凸部３ａの個数を５個／ｃｍ²とした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。

（実施例１８）
実施例１８では、ナーリング部３の凸部３ａの個数を１５０個／ｃｍ²とした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。

（実施例１９）
実施例１９では、紫外線の照射条件を、照度５０ｍＷ／ｃｍ²、照射量５０ｍＪ／ｃｍ²とし、硬化膜材料に紫外線を照射することにより、硬化膜２の弾性率を３．５ＧＰａとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。

（比較例１）
比較例１では、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、フィルム端部からのナーリング部（ナーリング部３＋ナーリング部４）の形成範囲（Ｃ１−Ｃ２間）を７ｍｍとし、硬化膜２上でのナーリング部３の形成範囲（Ｂ１−Ｃ２間）を２ｍｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。

（比較例２）
図９は、比較例２の光学フィルムＦの概略の構成を示す、幅手方向に沿った断面図である。比較例２では、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、硬化膜２の形成範囲（Ｂ１−Ｂ２間）を５ｍｍ（Ａ−Ｄ間の１０％）とし、ナーリング部（ナーリング部３＋ナーリング部４）の形成範囲（Ｃ１−Ｃ２間）を４５ｍｍとした。つまり、比較例２では、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２のフィルム基材１上にのみナーリング部４を形成し、硬化膜２上にはナーリング部３を形成しなかった。それ以外については、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。

＜評価＞
上述した実施例１〜１９、比較例１〜２にて作製された光学フィルムＦを巻き取り、巻芯方向の巻きずれ、ゲージバンド（貼り付き、ブロッキング）、巻き姿、フィルム破断についての評価を行った結果を表１に示す。

ここで、巻きずれの評価基準は、以下の通りである。
◎：巻きずれが全く発生しておらず、良好である。
○：巻きずれが少し発生しているが、問題のないレベルである。
△：巻きずれがさらに発生しているが、実用上問題ないレベルである。
×：巻きずれが問題がある程度に発生しており、不良である。

ゲージバンドの評価基準は、以下の通りである。
◎：ゲージバンドが全く発生しておらず、良好である。
○：ゲージバンドが少し発生しているが、問題のないレベルである。
△：ゲージバンドがさらに発生しているが、実用上問題ないレベルである。
×：ゲージバンドが問題がある程度に発生しており、不良である。

巻き姿の評価基準は、以下の通りである。
◎：ロールが変形しておらず、巻き姿が良好である。
○：ロールに反りが少し発生しているが、問題のないレベルである。
△：ロールに反りがさらに発生しているが、実用上問題ないレベルである。
×：ロールの反りが問題がある程度に発生しており、不良である。

フィルム破断の評価基準は、以下の通りである。
◎：フィルムの破断が全く発生しておらず、良好である。
○：フィルムの破断が少し発生しているが、問題のないレベルである。
△：フィルムの破断がさらに発生しているが実用上問題ないレベルである。
×：フィルムの破断が問題がある程度に発生しており、不良である。

表１の結果より、実施例１〜１９では、硬化膜２上のナーリング部３が幅手方向に３ｍｍ以上形成されており、巻きずれおよびゲージバンドについて、良好（◎）か、問題のないレベル（○）か、実使用上問題ないレベル（△）である。これに対して、比較例１〜２では、硬化膜２上のナーリング部３が幅手方向に３ｍｍ未満であり、巻きずれおよびゲージバンドがいずれも発生し、不良（×）となっている。したがって、硬化膜２上に幅手方向に３ｍｍ以上にわたってナーリング部３を形成することにより、巻きずれおよびゲージバンドを抑えることができると言える。

また、実施例１５では、硬化膜２上にナーリング部３が幅手方向に３ｍｍ以上にわたって形成されていても、巻きずれおよびゲージバンドが実施例１と比較するとさらに発生している。これは、ナーリング部３の高さが０．５μｍと小さいことから、ナーリング部３によって巻きずれおよびゲージバンドを十分に抑えることができないためと考えられる。

また、実施例１６では、巻き取ったロールが変形し、巻き姿が実施例１と比較すると劣る結果となっている。これは、ナーリング部３の高さが３０μｍと大きいことから、巻き取り時に凸部３ａが幅手方向内側に倒れやすくなり、その結果、巻き取ったロールに反りがさらに発生したためと考えられる。

これに対して、実施例１〜１４では、ナーリング部３の高さが１〜２５μｍの範囲であり、巻きずれ、ゲージバンド、巻き姿のいずれについても良好（◎）か、問題のないレベル（○）である。したがって、巻きずれおよびブロッキングを抑えながら、ロールの変形を抑えて巻き姿を良好にするためには、ナーリング部３の高さが１〜２５μｍであることが望ましいと言える。

また、実施例１７では、硬化膜２上にナーリング部３が幅手方向に３ｍｍ以上にわたって形成されていても、巻きずれおよびゲージバンドが実施例１と比較するとさらに発生している。これは、ナーリング部３の凸部３ａの個数が、５個／ｃｍ²であり、凸部３ａの数が少なすぎるため、ナーリング部３によって巻きずれおよびブロッキングを抑える機能を効率よく発揮することができなくないためと考えられる。

また、実施例１８では、巻き取り中にフィルムの破断が実施例１と比較するとさらに生じている。これは、ナーリング部３の凸部３ａの個数が１５０個／ｃｍ²となるようなナーリング加工を行ったときに、フィルム基材１に大きなダメージを与えてしまい、これによってフィルムの幅手方向の強度が低下したためと考えられる。

これに対して、実施例１〜１４では、ナーリング部３の凸部３ａの個数が１０〜１４０個／ｃｍ²であり、巻きずれ、ゲージバンド、フィルム破断のいずれについても良好（◎）か、問題のないレベル（○）である。したがって、巻きずれ、ブロッキングおよびフィルム破断を抑えるためには、ナーリング部３の凸部３ａの個数が１０〜１４０個／ｃｍ²であることが望ましいと言える。

また、実施例１９では、硬化膜２上にナーリング部３が幅手方向に３ｍｍ以上にわたって形成されていても、巻きずれおよびゲージバンドが実施例１と比較するとさらに発生している。これは、硬化膜２の弾性率が３．５ＧＰａと低いため、硬化膜２の表面に形成されるナーリング部３に所望の硬さを付与することができず、巻きずれやゲージバンドがさらに発生したためと考えられる。

これに対して、実施例１〜１４では、硬化膜２の弾性率が４．０ＧＰａ以上であり、巻きずれやゲージバンドの発生は見られない。これは、硬化膜２の表面に硬いナーリング部３が形成されることで、ナーリング部３が、巻きずれやゲージバンドの発生を抑える機能を確実に発揮しているためと考えられる。したがって、巻きずれ等を抑えるナーリング部３の機能を確実に発揮させるためには、硬化膜２の弾性率が４．０ＧＰａ以上であることが望ましいと言える。

本発明は、例えば液晶表示装置に用いられる偏光板用保護フィルム、位相差フィルム、視野角拡大フィルムなどの各種機能フィルムに利用可能である。

１ フィルム基材
２ 硬化膜
３ ナーリング部
Ｆ 光学フィルム
Ｒ１ 第１の領域
Ｒ２ 第２の領域

＜評価＞
上述した実施例１〜１９、比較例１〜２にて作製された光学フィルムＦを巻き取り、巻芯方向の巻きずれ、ゲージバンド（貼り付き、ブロッキング）、巻き姿、フィルム破断についての評価を行った結果を表１に示す。なお、実施例１１、１２は、本発明の単なる参考例であり、本発明には属さないものである。

Claims (4)

1. 厚さが１０〜４０μｍのフィルム基材上に、硬化膜が形成された光学フィルムであって、
   前記フィルム基材の幅手方向の両端部から５０ｍｍまでの各領域を、第１の領域および第２の領域とすると、
   前記硬化膜は、前記フィルム基材上で、前記第１の領域における幅手方向の２０〜１００％の範囲、および前記第２の領域における幅手方向の２０〜１００％の範囲をそれぞれ覆うように形成されており、
   前記第１の領域および前記第２の領域のそれぞれにおける前記硬化膜の表面に、前記硬化膜形成後にナーリング加工することで凹凸状のナーリング部が形成されており、
   前記ナーリング部は、前記硬化膜の表面において、該硬化膜の各端部から前記幅手方向に３ｍｍ以上にわたって形成されていることを特徴とする光学フィルム。
2. 前記ナーリング部の高さが、１〜２５μｍであることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
3. 前記ナーリング部の凸部の個数が、１ｃｍ²あたり１０〜１４０個であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルム。
4. 前記硬化膜の弾性率が、４．０ＧＰａ以上であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の光学フィルム。

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