WO2014045898A1 - 光学フィルム - Google Patents

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WO2014045898A1
WO2014045898A1 PCT/JP2013/074033 JP2013074033W WO2014045898A1 WO 2014045898 A1 WO2014045898 A1 WO 2014045898A1 JP 2013074033 W JP2013074033 W JP 2013074033W WO 2014045898 A1 WO2014045898 A1 WO 2014045898A1
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knurling
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cured film
width direction
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PCT/JP2013/074033
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山本　智弘
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コニカミノルタ株式会社
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    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings

Definitions

  • the present invention relates to an optical film in which a cured film is formed on a thin film substrate.
  • a film substrate is used in which both ends in the width direction are provided with a portion (convex portion) called a knurling portion or an embossed portion, which is higher in volume than the film surface.
  • a knurling part on the film base material, when the produced film base material is wound around the core, the film base is displaced in the core direction, and the base materials are blocked (attached). Can be suppressed.
  • a hard coat layer on the surface of such a film substrate, an optical film with a hard coat layer can be obtained. The obtained optical film is wound around the core again.
  • the hard coat layer is formed on the film base so that the knurling portion of the film base is located outside the hard coat layer.
  • another knurling portion is additionally formed on the knurling portion of the film base material.
  • the additional knurling portion can be formed by using the unevenness of the previously formed knurling portion, the desired height can be easily obtained without increasing the thickness of the unevenness portion of the embossing roll.
  • the knurling portion can be formed with high accuracy.
  • an optical film is manufactured by applying a hard coat layer up to a knurling portion of a film substrate and forming fine protrusions on the back surface of the knurling portion.
  • the optical film to be used is also required to be thinned.
  • the wound diameter when winding the manufactured optical film around the core is constant, when winding a thin optical film, the number of windings is smaller than when winding a thick optical film. Can be increased. For this reason, as a thin optical film, it becomes possible to manufacture a long (for example, 3000 m or more) optical film having a large number of windings.
  • Patent Documents 1 and 2 since the knurling part is formed on a film base material softer than the hard coat layer, the knurling part is crushed by its own weight or pressing force when winding the long optical film. It becomes easy. When the knurling portion is crushed, it becomes impossible to suppress winding deviation and blocking of the optical film. Further, in Patent Document 3, the fine protrusion on the back surface of the knurling portion is considered to be a protrusion provided on the back surface of the film base material that is the base of the hard coat layer, but this protrusion is softer than the hard coat layer, so When the long optical film is wound up, the protrusions are easily crushed and it is impossible to suppress winding deviation and the like.
  • Japanese Patent Laying-Open No. 2005-219272 (refer to claim 1, paragraph [0028], FIG. 1, etc.) JP 2009-223129 A (see paragraph [0026], FIG. 1 etc.) Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-347928 (see claim 4, paragraph [0015], etc.)
  • an object of the present invention is to provide an optical film that can reliably prevent winding slippage and blocking even when a thin, long optical film is wound.
  • An optical film having a cured film formed on a film substrate having a thickness of 10 to 40 ⁇ m When each region from the both ends in the width direction of the film base to 50 mm is a first region and a second region, The cured film covers a range of 20 to 100% in the width direction in the first region and a range of 20 to 100% in the width direction in the second region on the film substrate. Is formed, An uneven knurling portion is formed on the surface of the cured film in each of the first region and the second region by knurling after the cured film is formed, The knurling part is formed on the surface of the cured film over 3 mm or more in the width direction from each end of the cured film.
  • an uneven knurling portion is formed on the surface of the cured film on a thin film substrate having a thickness of 10 to 40 ⁇ m by knurling after the cured film is formed.
  • the knurling part does not use only the unevenness formed on the film base material, and has the hardness of the cured film, so that even when the optical film is wound up, the knurling part is not easily crushed by its own weight or pressing force. Thereby, even when a thin and long optical film is wound, winding deviation in the core direction and blocking can be suppressed.
  • the knurling part is formed over 3 mm from the end in the width direction of the film base material, the resistance to the width direction (core direction) can be surely increased.
  • the strength of the part can also be secured reliably. As a result, winding deviation and blocking in the core direction when winding a thin optical film can be reliably suppressed.
  • the cured film covers a range of 20 to 100% in the width direction in the first area and the second area (area from each end in the width direction to 50 mm) on the film substrate. Since it is formed, the formation range of the cured film in the first region and the second region is 10 mm (corresponding to 20% of 50 mm) to 50 mm (corresponding to 100% of 50 mm) in the width direction. Accordingly, it is possible to reliably ensure a knurling portion forming width of 3 mm or more on the surface of the cured film in the first region and the second region.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of an optical film of Example 1.
  • FIG. It is sectional drawing which shows the schematic structure of the optical film of Example 10.
  • 10 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of an optical film of Example 11.
  • FIG. It is sectional drawing which shows the schematic structure of the optical film of Example 12.
  • FIG. 13 6 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of an optical film of Comparative Example 2.
  • the numerical value range includes the values of the lower limit A and the upper limit B.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view along the width direction showing a schematic configuration of the optical film F of the present embodiment.
  • the width direction refers to a direction (TD direction; Transverse Direction) perpendicular to the longitudinal direction (conveyance direction, MD direction: Machine Direction) in the film plane.
  • the optical film F is a hard coat film in which a cured film 2 as a hard coat layer is formed on a film substrate 1.
  • the film substrate 1 has a thickness of 10 to 40 ⁇ m and is a thin film substrate.
  • each region from the both ends in the width direction of the film substrate 1 to 50 mm is defined as a first region R1 and a second region R2.
  • the cured film 2 is made of an active energy ray curable resin such as an ultraviolet curable resin. The details of the resin material of the cured film 2 will be described later.
  • the elastic modulus of the cured film 2 can be controlled by appropriately selecting or controlling the resin material of the cured film 2 and the irradiation conditions (irradiation amount, etc.) of the active energy rays.
  • the elastic modulus indicates a proportional coefficient between strain and stress, and a material having a small strain relative to the stress has a high elastic modulus and is hard (a material having a small elastic modulus is soft).
  • the elastic modulus of the cured film 2 can be controlled by the number of functional groups in the resin material, addition of particles, and curing conditions.
  • an elastic modulus of 4.0 GPa or more can be realized by irradiating an active energy ray-curable acrylate having two or more functional groups with an active ray energy ray of 300 mJ / cm 2 or more.
  • the cured film 2 covers a range of 20 to 100% in the width direction in the first region R1 and a range of 20 to 100% in the width direction in the second region R2 on the film substrate 1 respectively. Is formed.
  • FIG. 1 shows a case where the cured film 2 is formed on the film substrate 1 so as to cover a 20% range in the width direction in each of the first region R1 and the second region R2. .
  • the length in the width direction of the cured film 2 is 20% of 50 mm, that is, 10 mm.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view along the width direction showing another configuration of the optical film F.
  • the cured film 2 is formed so as to cover a 100% range in the width direction in the first region R1 and the second region R2, respectively.
  • the length in the width direction of the cured film 2 is 100% of 50 mm, that is, 50 mm.
  • the first region R1 and the second region R2 are 10 to 50 mm.
  • the cured film 2 is formed continuously from the first region R1 to the second region R2 in the film width direction, but may be formed discontinuously.
  • the cured film 2 is formed only in the first region R1 and the second region R2, and may not be formed between the first region R1 and the second region R2.
  • the cured film 2 is formed only for the purpose of forming a hard knurling portion 3 described later, rather than protecting the surface of the film substrate 1.
  • the cured film 2 is formed between the first region R1 and the second region R2, and the first region is positioned so as to be spaced apart from the cured film 2 in the width direction.
  • the cured film 2 may be formed in R1 and the second region R2.
  • an uneven knurling portion 3 is formed on the surface of the cured film 2 in each of the first region R1 and the second region R2.
  • the knurling part 3 is illustrated in a layered shape with a flat surface for the purpose of clarifying the formation region of the knurling part 3.
  • the surface of the knurling part 3 is uneven.
  • the knurling part 3 is formed by a knurling process in which an embossing roll having an uneven pattern on the surface is heated and pressed onto the cured film 2. That is, the knurling part 3 is formed by knurling after the cured film is formed.
  • the knurling part 3 can be formed without causing cracks in the cured film 2.
  • the knurling part 3 may be formed by pressing an embossing roll before the cured film 2 is cured by ultraviolet irradiation or the like (for example, in a semi-cured state), and then completely curing the cured film material.
  • the knurling part 3 is formed on the surface of the cured film 2 from each end in the width direction of the cured film 2 over 3 mm in the width direction. That is, in FIG. 1 and FIG. 2, when the formation width of the knurling part 3 on the cured film 2 is indicated by d (mm), d ⁇ 3.
  • the surface of the film base material 1 is uneven.
  • a knurling portion 4 is formed.
  • the knurling part may be formed in advance in the width direction both ends of the film base material 1, and the knurling part may be formed. Good.
  • the knurling part 4 is additionally formed (laminated) on the film base material 1 when the knurling part 3 is formed on the cured film 2. .
  • the knurling process is performed only on the cured film 2 and the knurling part 3 is formed only on the surface of the cured film 2. (The knurling part 4 is not formed).
  • the knurling part 3 can be formed with the same hardness as the cured film 2 by applying a knurling process to the surface of the cured film 2 to form the knurling part 3 as in this embodiment.
  • a knurling process to the surface of the cured film 2 to form the knurling part 3 as in this embodiment.
  • the knurling part 3 is not easily crushed by its own weight or pressing force, and winding deviation in the core direction and blocking can be suppressed. .
  • by suppressing blocking it is possible to suppress the occurrence of black bands (band-like streaks appearing in the circumferential direction) due to uneven thickness in the width direction of the optical film F.
  • the cured film 2 is formed so as to cover the range of 20 to 100% in the width direction, whereby the cured film
  • the formation range of 2 is 10 to 50 mm in the width direction as described above.
  • the knurling portion 3 in a wide range of 3 mm or more in the width direction, the strength of the knurling portion 3 can be reliably ensured. As a result, winding deviation and blocking in the core direction when winding the thin optical film F can be reliably suppressed.
  • the elastic modulus of the cured film 2 is 4.0 GPa or more and the cured film 2 is hard, a function of suppressing the above-described winding deviation and blocking by performing a knurling process on the surface of the cured film 2. It is possible to reliably realize the hard knurling portion 3 that exhibits the following.
  • the configuration of this embodiment capable of suppressing winding deviation and blocking has a thickness of 70 ⁇ m or less including the cured film 2. Further, it is very effective for winding a thin optical film F having a thickness of 50 ⁇ m or less. In this way, when winding of the optical film F becomes possible while suppressing winding deviation and blocking of the optical film F, when producing a polarizing plate using the optical film F, production of the polarizing plate is performed thereafter. Can be improved.
  • FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of the cured film 2.
  • the height t of the knurling portion 3 is 1 to 25 ⁇ m.
  • the height t of the knurling part 3 is the knurling part 3 from the surface of the cured film 2 where the unevenness of the knurling part 3 is not formed (the surface of the cured film 2 before being knurled). Refers to the height (maximum height) of the convex portion 3a.
  • the height t of the knurling part 3 can be controlled by adjusting the pressing force against the cured film 2 of the embossing roll used during the knurling process.
  • the height t of the knurling part 3 When the height t of the knurling part 3 is less than 1 ⁇ m, the effect of suppressing the winding deviation by the knurling 3 is reduced, and the films are easily blocked at the time of winding the film. On the other hand, when the height t of the knurling part 3 exceeds 25 ⁇ m, the convex part 3a of the knurling part 3 easily falls down in the width direction at the time of winding the film, and the roll is wound in the cross section along the width direction. Warpage (deformation) is likely to occur, and it becomes difficult to secure a good winding shape.
  • the height t of the knurling part 3 in the range of 1 to 25 ⁇ m, it is possible to improve the winding shape by suppressing the deformation of the roll while suppressing the winding deviation and blocking at the time of winding the film.
  • the number (density) of the convex portions 3a of the knurling portion 3 on the surface of the cured film 2 is 10 to 140 per cm 2 .
  • the number of the convex parts 3a can be adjusted by selecting an appropriate thing from several embossing rolls from which the number per unit area of the convex part used as a type
  • the number of the convex portions 3a of the knurling portion 3 is less than 10 / cm 2 , the number of the convex portions 3a is too small, and the function of the knurling portion 3, that is, the function of suppressing the above-described winding deviation and blocking is efficiently exhibited. Can not do.
  • the number of convex portions 3a exceeds 140 pieces / cm 2 , the risk of film breakage increases. That is, when knurling is performed such that the number of convex portions 3a exceeds 140 pieces / cm 2 , damage to the film base material 1 increases, and the strength of the film base material 1 in the width direction decreases. The risk of breakage increases.
  • the cured film material when the cured film material is applied to the edge of the film base material 1 at the time of forming the cured film 2 on the film base material 1, the cured film material wraps around the back surface of the film base material 1, and also on the back surface. A cured film may be formed.
  • the cured film 2 is applied by applying a cured film material from the position at least 5 mm away from the end of the film substrate 1 to the inside in the width direction (opposite the end). It is desirable to form.
  • a functional layer such as an antireflection layer is not provided on the cured film 2, but the configuration of the above-described embodiment can be applied even when a functional layer is provided. That is, by providing a functional layer on the cured film 2 and forming the knurling part 3 on the cured film 2 on the outer side in the width direction of the functional layer, it is possible to suppress the winding deviation or the like of the optical film F. .
  • the knurling part 3 may be formed on the surface of the cured film 2 before the functional layer is formed, or may be formed after the functional layer is formed.
  • a layer containing a fluorine-based activator (antifouling layer) is provided as a functional layer to improve antifouling properties, winding dislocation or the like is likely to occur.
  • the cured film 2 The configuration of the present embodiment in which the knurling portion 3 is provided on the top is very effective.
  • the hard coat layer as the cured film described above is formed of an active energy ray curable resin.
  • the active energy ray curable type refers to a resin that is cured through a crosslinking reaction or the like by irradiation with active rays such as ultraviolet rays or electron beams, and specifically, a resin having an ethylenically unsaturated group.
  • the active energy ray curable resin includes both an active energy ray curable isocyanurate derivative and an active energy ray curable resin other than the isocyanurate derivative.
  • the active energy ray-curable isocyanurate derivative is not particularly limited as long as it is a compound having a structure in which one or more ethylenically unsaturated groups are bonded to an isocyanuric acid skeleton. Compounds having three or more ethylenically unsaturated groups and one or more isocyanurate rings in the same molecule shown are preferred.
  • the kind of ethylenically unsaturated group is an acryloyl group, a methacryloyl group, a styryl group, and a vinyl ether group, more preferably a methacryloyl group or an acryloyl group, and particularly preferably an acryloyl group.
  • L 2 in the formula is a divalent linking group, preferably a substituted or unsubstituted alkyleneoxy group or polyalkyleneoxy group having 4 or less carbon atoms in which a carbon atom is bonded to the isocyanurate ring. Particularly preferred are alkyleneoxy groups, which may be the same or different.
  • R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, and may be the same or different.
  • Other compounds include isocyanuric acid diacrylate compounds, and isocyanuric acid ethoxy-modified diacrylate represented by the following general formula (2).
  • ⁇ -caprolactone-modified active energy ray-curable isocyanurate derivatives specifically, compounds represented by the following general formula (3).
  • R 1 ⁇ R 3 of the above chemical formulas - the following a, b, although functional groups attached represented by c, at least one of R 1 ⁇ R 3 is a functional group b.
  • Examples of commercially available isocyanuric acid triacrylate compounds include A-9300 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • Examples of commercially available isocyanuric acid diacrylate compounds include Aronix M-215 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • Examples of the mixture of the isocyanuric acid triacrylate compound and the isocyanuric acid diacrylate compound include Aronix M-315 and Aronix M-313 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • ⁇ -Caprolactone-modified active energy ray-curable isocyanurate derivatives include ⁇ -caprolactone-modified tris- (acryloxyethyl) isocyanurate, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. A-9300-1CL, Toagosei Co., Ltd. Examples include, but are not limited to, Aronix M-327.
  • Active energy ray-curable resins other than isocyanurate derivatives include UV curable urethane acrylate resins, UV curable polyester acrylate resins, UV curable epoxy acrylate resins, UV curable polyol acrylate resins, or UV curable resins. Epoxy resins and the like are preferably used. Of these, UV curable acrylate resins are preferred.
  • polyfunctional acrylate is preferable.
  • the polyfunctional acrylate is preferably selected from the group consisting of pentaerythritol polyfunctional acrylate, dipentaerythritol polyfunctional acrylate, pentaerythritol polyfunctional methacrylate, and dipentaerythritol polyfunctional methacrylate.
  • the polyfunctional acrylate is a compound having two or more acryloyloxy groups or methacryloyloxy groups in the molecule.
  • polyfunctional acrylate monomer examples include ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, and tetramethylolmethane triacrylate.
  • Tetramethylolmethane tetraacrylate pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, glycerol triacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaeth Thritol hexaacrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, Tetramethylol methane trimethacrylate, tetramethylol
  • Monofunctional acrylates may be used as active energy ray-curable resins other than isocyanurate derivatives.
  • Monofunctional acrylates include isobornyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, isostearyl acrylate, benzyl acrylate, ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, lauryl acrylate, isooctyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, behenyl Examples thereof include acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, and cyclohexyl acrylate.
  • Monofunctional acrylates can be obtained from Shin Nakamura Chemical Co., Ltd., Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., and the like. These compounds are used alone or in admixture of two or more. Moreover, oligomers, such as a dimer and a trimer of the said monomer, may be sufficient.
  • the viscosity of the polyfunctional acrylate is preferably 3000 mPa ⁇ s or less, more preferably 2000 mPa ⁇ s or less, at 25 ° C.
  • said viscosity is the value measured on 25 degreeC conditions using the B-type viscometer.
  • the active energy ray-curable isocyanurate derivative (A) and the isocyanurate derivative are used in combination in the hard coat layer.
  • the hard coat layer preferably contains a photopolymerization initiator to accelerate the curing of the active energy ray-curable resin.
  • photopolymerization initiator examples include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, ⁇ -amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof, but are not particularly limited thereto. .
  • inorganic or organic fine particles to the active energy ray-curable resin in order to prevent blocking and improve scratch resistance.
  • inorganic fine particles silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, ITO, zinc oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated silicic acid Mention may be made of calcium, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate.
  • silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide and the like are preferably used.
  • These inorganic fine particles are preferably coated with an organic component having a reactive functional group on a part of the surface because the scratch resistance is improved while maintaining the transparency of the optical film.
  • a part of the surface is coated with an organic component having a reactive functional group
  • a compound containing an organic component such as a silane coupling agent reacts with a hydroxyl group present on the surface of the metal oxide fine particles
  • a mode in which an organic component is bonded to a part of the surface, a mode in which an organic component is attached to a hydroxyl group present on the surface of a metal oxide fine particle by an interaction such as a hydrogen bond, or one or two or more in a polymer particle examples include inorganic fine particles.
  • the organic fine particles include polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin. Powder, polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, polyfluoroethylene resin powder, and the like can be used.
  • Preferred organic fine particles include crosslinked polystyrene particles (for example, SX-130H, SX-200H, SX-350H manufactured by Soken Chemical), polymethyl methacrylate-based particles (for example, MX150 and MX300 manufactured by Soken Chemical), and fluorine-containing acrylic resin fine particles.
  • fluorine-containing acrylic resin fine particles include commercially available products such as FS-701 manufactured by Nippon Paint.
  • acrylic particles include Nippon Paint: S-4000, and examples of the acrylic-styrene particles include Nippon Paint: S-1200, MG-251.
  • the average particle diameter of these fine particle powders is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 5 ⁇ m, particularly preferably 0.01 to 1.0 ⁇ m. Moreover, you may contain 2 or more types of microparticles
  • the average particle diameter of the fine particles can be measured by, for example, a laser diffraction particle size distribution measuring device.
  • the proportion of the ultraviolet curable resin composition and the fine particles is desirably 10 to 400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition, and more preferably 50 to 200 parts by mass. .
  • the hard coat layer according to the present embodiment is provided by applying a hard coat layer coating composition diluted with a solvent onto a film substrate by the following method, drying, and curing. It is preferable from the viewpoint that interlayer adhesion with a material is easily obtained.
  • a solvent such as acetone, cyclohexanone, and methyl isobutyl ketone.
  • ketones include methyl ethyl ketone, acetone, cyclohexanone, and methyl isobutyl ketone.
  • esters include methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, and propyl acetate. It is not limited.
  • solvents include alcohols (ethanol, methanol, butanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, diacetone alcohol), hydrocarbons (toluene, xylene, benzene, cyclohexane), glycol ethers (propylene glycol monomethyl ether, Propylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, etc.) can be preferably used.
  • the stability as a coating composition is excellent.
  • the coating amount of the hard coat layer coating composition is suitably 0.1 to 40 ⁇ m in wet film thickness, preferably 0.5 to 30 ⁇ m, and average film thickness 0.1 to 30 ⁇ m in dry film thickness.
  • the thickness is preferably 1 to 20 ⁇ m, particularly preferably 4 to 15 ⁇ m.
  • the hard coat layer was coated with a hard coat layer coating composition that forms a hard coat layer using a known coating method such as a gravure coater, dip coater, reverse coater, wire bar coater, die (extrusion) coater, or ink jet method. Thereafter, it can be formed by drying, UV curing treatment, and further heat treatment for UV curing as necessary.
  • a known coating method such as a gravure coater, dip coater, reverse coater, wire bar coater, die (extrusion) coater, or ink jet method.
  • any light source that generates ultraviolet rays can be used without limitation.
  • a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used.
  • Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation amount of active rays is usually 50 to 1000 mJ / cm 2 , preferably 100 to 500 mJ / cm 2 .
  • the actinic radiation when irradiating the actinic radiation, it is preferably performed while applying tension in the transport direction of the film, more preferably while applying tension in the width direction.
  • the tension to be applied is preferably 30 to 300 N / m.
  • the method for applying tension is not particularly limited, and tension may be applied in the conveying direction on the back roll, or tension may be applied in the width direction or biaxial direction by a tenter. Thereby, a film having further excellent flatness can be obtained.
  • the hard coat layer may contain a conductive agent in order to impart antistatic properties.
  • Preferred conductive agents include metal oxide particles or ⁇ -conjugated conductive polymers.
  • An ionic liquid is also preferably used as the conductive compound.
  • the hard coat layer has a nonionic surfactant such as a silicone surfactant, a fluorosurfactant or a polyoxyether, an anionic interface, from the viewpoint of coating properties and the uniform dispersibility of fine particles.
  • An activator and a fluorine-siloxane graft polymer may be included.
  • the fluorine-siloxane graft polymer refers to a copolymer polymer obtained by grafting polysiloxane containing siloxane and / or organosiloxane alone and / or organopolysiloxane to at least a fluorine resin.
  • Examples of commercially available products include ZX-022H, ZX-007C, ZX-049, ZX-047-D manufactured by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd. These components are preferably added in a range of 0.01 to 3% by mass with respect to the solid component in the coating solution.
  • the hard coat layer may be a single layer or a plurality of layers.
  • the hard coat layer may be divided into two or more layers. Moreover, you may provide a hard-coat layer on both surfaces of a film base material.
  • the thickness of the uppermost layer when two or more hard coat layers are provided is preferably in the range of 0.05 to 2 ⁇ m.
  • Two or more layers may be formed as a simultaneous multilayer.
  • the simultaneous multi-layer is a method of forming a hard coat layer by applying two or more hard coat layers on a base material without going through a drying step.
  • the layers are stacked one after another with an extrusion coater or simultaneously with a slot die having a plurality of slits. Can be done.
  • the pencil hardness as an index of hardness of the hard coat layer is H or more, more preferably 4H or more. If it is 4H or more, the surface film base of a large-sized liquid crystal display device or a liquid crystal display device for digital signage that is not only difficult to be scratched in the polarizing plate forming process of the liquid crystal display device but is often used for outdoor applications. Excellent film strength when used as a material.
  • Pencil hardness is one of the standards of JIS (Japanese Industrial Standards Committee) after conditioning the prepared optical film for 2 hours or more at a temperature of 23 ° C and a relative humidity of 55%. This is a value measured according to the pencil hardness evaluation method specified in JIS K5400 using a test pencil specified in S6006.
  • the haze value of the optical film of the present embodiment is preferably 1% or less for a clear optical film.
  • the haze value can be measured according to JIS K7105 and JIS K7136.
  • the optical film of the present embodiment may have antiglare properties.
  • Anti-glare is a function that blurs the outline of the image and external light reflected by the hard coat layer of the optical film. It reduces the visibility of the reflected image and reflects when the optical film is used for a liquid crystal display or the like. It is to avoid the reflection of the image.
  • the total haze value is preferably 3% to 40%.
  • the surface haze value (haze due to film surface scattering) is preferably 3 to 40%, and the internal haze value (haze due to internal scattering) is preferably 35% or less.
  • the film base is preferably a cellulose ester film such as a triacetyl cellulose film, a cellulose acetate propionate film, a cellulose diacetate film, or a cellulose acetate butyrate film because it is easy to produce.
  • a cellulose ester film such as a triacetyl cellulose film, a cellulose acetate propionate film, a cellulose diacetate film, or a cellulose acetate butyrate film because it is easy to produce.
  • polyester films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polycarbonate films, polyarylate films, polysulfone (including polyethersulfone) films, polyethylene films, polypropylene films, cellophane, polyvinylidene chloride films, polyvinyl Alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, norbornene resin film, polymethylpentene film, polyether ketone film, polyether ketone imide film, polyamide film, fluororesin film, nylon film, cycloolefin polymer film , Polymethyl methacrylate film, acrylic film, etc. It can be used for the film substrate. You may use together the resin which comprises an above described film.
  • the refractive index of the film substrate is preferably 1.30 to 1.70, and more preferably 1.40 to 1.65.
  • the refractive index can be measured by the method of JIS K7142 using an Atpe refractometer 2T manufactured by Atago Co., Ltd.
  • the cellulose ester film preferably has an average degree of acetylation (bound acetic acid amount) of 54.0 to 62.5%, and more preferably an average degree of acetylation of 58.0 to 62.5% cellulose triacetate film.
  • the average acetylation degree is small, the dimensional change is large, and the polarization degree of the polarizing plate is lowered.
  • the average acetylation degree is large, the solubility in a solvent is lowered, and the productivity is lowered.
  • the film base material preferably contains cellulose triacetate A having an acetyl group substitution degree of 2.80 to 2.95 and a number average molecular weight (Mn) of 125000 or more and less than 155000.
  • Cellulose triacetate A preferably has a weight average molecular weight (Mw) of 265,000 or more and less than 310,000 and Mw / Mn of 1.9 to 2.1.
  • the degree of acetyl group substitution is 2.75 to 2.90
  • the number average molecular weight (Mn) is 155,000 or more and less than 180,000
  • Mw is 290000 or more and less than 360,000
  • Mw / Mn is 1
  • cellulose triacetate B of .8 to 2.0 in combination with cellulose triacetate A.
  • the weight ratio of cellulose triacetate A: cellulose triacetate B is preferably in the range of 100: 0 to 20:80.
  • cellulose triacetate when an acyl group having 2 to 4 carbon atoms is used as a substituent, the substitution degree of acetyl group is X, and the substitution degree of propionyl group or butyryl group is Y, the following formula (I) Cellulose esters that simultaneously satisfy (II) and (II) can be used.
  • Formula (II) 0 ⁇ X ⁇ 2.5 Among them, cellulose acetate propionate is preferable, and 1.9 ⁇ X ⁇ 2.5 and 0.1 ⁇ Y ⁇ 0.9 are particularly preferable.
  • the degree of acyl group substitution can be measured according to ASTM D817-96, one of the standards formulated and published by ASTM (American Society for Testing and Materials). Cellulose diacetate can also be preferably used.
  • the number average molecular weight (Mn) and molecular weight distribution (Mw) of the cellulose ester can be measured using high performance liquid chromatography.
  • the measurement conditions are as follows. Solvent: Methylene chloride Column: Shodex K806, K805, K803G (Used by connecting three Showa Denko Co., Ltd.) Column temperature: 25 ° C Sample concentration: 0.1% by mass Detector: RI Model 504 (GL Science Co., Ltd.) Pump: L6000 (manufactured by Hitachi, Ltd.) Flow rate: 1.0 ml / min
  • the cellulose ester film preferably contains an ester compound from the viewpoint of excellent moisture resistance.
  • an ester compound having a structure obtained by reacting phthalic acid, adipic acid, at least one benzene monocarboxylic acid and at least one alkylene glycol having 2 to 12 carbon atoms is preferable.
  • benzene monocarboxylic acid component examples include benzoic acid, para-tert-butylbenzoic acid, orthotoluic acid, metatoluic acid, p-toluic acid, dimethylbenzoic acid, ethylbenzoic acid, normal propylbenzoic acid, aminobenzoic acid, acetoxybenzoic acid.
  • an acid etc. there exists an acid etc., and these can be used as a 1 type, or 2 or more types of mixture, respectively. Most preferred is benzoic acid.
  • alkylene glycol component having 2 to 12 carbon atoms examples include ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,2-propanediol, 2-methyl 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol (neopentyl glycol), 2,2-diethyl-1, 3-propanediol (3,3-dimethylolpentane), 2-n-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol (3,3-dimethylolheptane), 3-methyl-1,5-pentanediol 1 , 6-hexanediol, 2,2,4-trimethyl 1,3-pentanediol, 2-ethyl 1,3-hexan
  • the ester compound only needs to have an adipic acid residue and a phthalic acid residue as the final compound structure.
  • the ester compound can be produced by mixing in the presence of an esterification catalyst as necessary, for example, within a temperature range of 180 to 250 ° C. for 10 to 25 hours, and performing an esterification reaction.
  • an aromatic terminal ester compound can also be used as the ester compound.
  • the exemplary compound of an aromatic terminal ester compound is shown below, it is not limited to these.
  • ester compounds include sugar ester compounds.
  • the sugar ester compound is a compound obtained by esterifying all or part of the OH group of a sugar such as the following monosaccharide, disaccharide, trisaccharide or oligosaccharide.
  • a general formula (4) The compound etc. which are represented by these can be mention
  • R 1 to R 8 represent a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 2 to 22 carbon atoms or a substituted or unsubstituted arylcarbonyl group having 2 to 22 carbon atoms.
  • R 1 to R 8 may be the same or different.
  • the compounds represented by the general formula (4) are more specifically shown as the compounds 4-1 to 4-23, but are not limited thereto.
  • the number average molecular weight of the ester compound is preferably 300 to 2000, more preferably 400 to 1500.
  • the acid value is preferably 0.08 to 0.50 mg KOH / g.
  • the hydroxyl value is preferably 25 mgKOH / g or less, more preferably 15 mgKOH / g or less.
  • the ester compound is preferably contained in the film substrate in an amount of 1 to 35% by mass, particularly 5 to 30% by mass. Within this range, there is no bleeding out and excellent transparency.
  • the cellulose ester film may contain a thermoplastic acrylic resin and a cellulose ester resin.
  • Acrylic resin includes methacrylic resin.
  • the acrylic resin is not particularly limited, but is preferably composed of 50 to 99% by mass of methyl methacrylate units and 1 to 50% by mass of other monomer units copolymerizable therewith.
  • Examples of other copolymerizable monomers include alkyl methacrylates having 2 to 18 alkyl carbon atoms, alkyl acrylates having 1 to 18 carbon atoms, alkyl acrylates such as acrylic acid and methacrylic acid.
  • Unsaturated group-containing divalent carboxylic acids such as saturated acid, maleic acid, fumaric acid and itaconic acid, aromatic vinyl compounds such as styrene and ⁇ -methylstyrene, ⁇ , ⁇ -unsaturated nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile, Examples include maleic anhydride, maleimide, N-substituted maleimide, glutaric anhydride, and the like. These can be used alone or in combination of two or more monomers.
  • methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, n-butyl acrylate, s-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and the like are preferable from the viewpoint of thermal decomposition resistance and fluidity of the copolymer.
  • n-Butyl acrylate is particularly preferably used.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the acrylic resin is preferably 80,000 to 500,000, and more preferably 110,000 to 500,000.
  • the weight average molecular weight of the acrylic resin can be measured by gel permeation chromatography including the measurement conditions.
  • Delpet 60N, 80N (Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd. product), Dianal BR52, BR80, BR83, BR85, BR88 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd. product), KT75 (Electrochemical Industry Co., Ltd. product) Etc. Two or more acrylic resins can be used in combination.
  • Acrylic particles may be contained for the purpose of improving the brittleness of the film substrate.
  • examples of commercially available acrylic particles include, for example, Metablen W-341 (C2) (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Chemisnow MR-2G (C3), MS-300X (C4) (Soken Chemical Co., Ltd.) And the like.
  • the acrylic fine particles are preferably contained in the range of 0.5% to 30% with respect to the total mass of the resin forming the film substrate.
  • the film substrate may contain fine particles other than acrylic fine particles.
  • fine particles other than acrylic fine particles silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated silica from the viewpoint of slipperiness and storage stability.
  • Inorganic fine particles such as calcium acid, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate are preferred.
  • silicon dioxide is preferable because of its low turbidity. Silicon dioxide that has been subjected to a hydrophobization treatment is preferable in terms of achieving both slipperiness and haze. Of the four silanol groups, those in which two or more are replaced with hydrophobic substituents are preferred, and those in which three or more are substituted are more preferred.
  • the hydrophobic substituent is preferably a methyl group.
  • the primary particle size of silicon dioxide is preferably 20 nm or less, and more preferably 10 nm or less.
  • Silicon dioxide fine particles are commercially available, for example, under the trade names Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.). it can.
  • Zirconium oxide fine particles are commercially available, for example, under the trade names Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and can be used.
  • Aerosil 200V and Aerosil R972V are particularly preferable because they have a large effect of reducing the friction coefficient while keeping the haze of the film substrate low, and Aerosil R812 is most preferably used.
  • the dynamic friction coefficient of at least one surface is preferably 0.2 to 1.0.
  • a plasticizer can be added to the film substrate.
  • the plasticizer include phthalic acid compounds, fatty acid compounds, trimellitic acid compounds, phosphoric acid compounds, acrylic polymers, and epoxy compounds.
  • the acrylic polymer is preferably a homopolymer or copolymer of acrylic acid or alkyl methacrylate.
  • the acrylate monomer include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate (i-, n-), butyl acrylate (n-, i-, s-, t-), pentyl acrylate ( n-, i-, s-), hexyl acrylate (n-, i-), heptyl acrylate (n-, i-), octyl acrylate (n-, i-), nonyl acrylate (n-, i-), myristyl acrylate (n-, i-), acrylic acid (2-ethylhexyl), acrylic acid ( ⁇ -caprolactone), acrylic acid (2-hydroxyethyl), acrylic acid (2-hydroxypropyl), acrylic Acid (3-hydroxypropyl), acrylic acid (4-hydroxybutyl), acrylic acid (2-hydroxy
  • the acrylic polymer is a homopolymer or copolymer of the above-mentioned monomer, but it is preferable that the acrylic acid methyl ester monomer unit has 30% by mass or more, and the methacrylic acid methyl ester monomer unit has 40% by mass or more. preferable. In particular, a homopolymer of methyl acrylate or methyl methacrylate is preferred.
  • plasticizers can be selected or used in combination depending on the application.
  • the amount of the plasticizer added is preferably 0.5 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the film substrate.
  • the film substrate contains an ultraviolet absorber.
  • the ultraviolet absorber used include benzotriazole, 2-hydroxybenzophenone and salicylic acid phenyl ester.
  • ultraviolet absorbers having a molecular weight of 400 or more are less likely to volatilize at a high boiling point and are difficult to disperse even during high-temperature molding, so that the weather resistance is effectively improved with a relatively small amount of addition. be able to.
  • Examples of the ultraviolet absorber having a molecular weight of 400 or more include 2- [2-hydroxy-3,5-bis ( ⁇ , ⁇ -dimethylbenzyl) phenyl] -2-benzotriazole, 2,2-methylenebis [4- (1, 1,3,3-tetrabutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol], bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis ( Hindered amines such as 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate and 2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-n-butylmalonic acid Bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl), 1- [2- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] Such as til] -4- [3- (3,5-di-tert-butyl
  • 2- [2-hydroxy-3,5-bis ( ⁇ , ⁇ -dimethylbenzyl) phenyl] -2-benzotriazole and 2,2-methylenebis [4- (1,1,3,3- Tetrabutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol] is particularly preferred.
  • antioxidants can also be added to the film substrate in order to improve the thermal decomposability and thermal colorability during the molding process.
  • An antistatic agent can be added to impart antistatic performance to the film substrate.
  • a flame retardant acrylic resin composition containing a phosphorus flame retardant may be used.
  • Phosphorus flame retardants used here include red phosphorus, triaryl phosphate ester, diaryl phosphate ester, monoaryl phosphate ester, aryl phosphonate compound, aryl phosphine oxide compound, condensed aryl phosphate ester, halogenated alkyl phosphorus. Examples thereof include one or a mixture of two or more selected from acid esters, halogen-containing condensed phosphates, halogen-containing condensed phosphonates, halogen-containing phosphites, and the like.
  • triphenyl phosphate 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, phenylphosphonic acid, tris ( ⁇ -chloroethyl) phosphate, tris (dichloropropyl) Examples thereof include phosphate and tris (tribromoneopentyl) phosphate.
  • the film base material Since higher brightness is required for use in outdoor applications such as digital signage, the film base material is required to withstand use in a higher temperature environment. If the tension softening point of the film substrate is 105 ° C. to 145 ° C., it can be judged that the film has sufficient heat resistance, and it is preferable to control the temperature to 110 ° C. to 130 ° C.
  • a Tensilon tester (ORIENTEC Co., RTC-1225A) is used to cut out the optical film at 120 mm (length) ⁇ 10 mm (width) and pull it with a tension of 10 N.
  • the temperature can be continuously increased at a temperature increase rate of 30 ° C./min, and the temperature at 9 N can be measured three times, and the average value can be obtained.
  • the film substrate preferably has a glass transition temperature (Tg) of 110 ° C. or higher. More preferably, it is 120 ° C. or higher. Especially preferably, it is 150 degreeC or more.
  • Tg glass transition temperature
  • the glass transition temperature referred to here is an intermediate value determined according to JIS K7121 (1987) using a differential scanning calorimeter (DSC-7 model manufactured by Perkin Elmer) at a heating rate of 20 ° C./min. Point glass transition temperature (Tmg).
  • the dimensional change rate (%) of the film substrate is preferably less than 0.5%, and further less than 0.3%. Is preferred.
  • the number of defects in the film plane having a diameter of 5 ⁇ m or more is 1 piece / 10 cm square or less. More preferably, it is 0.5 piece / 10 cm square or less, more preferably 0.1 piece / 10 cm square or less.
  • the defect is a void in the film (foaming defect) generated due to the rapid evaporation of the solvent in the drying process of the solution casting, a foreign matter in the film forming stock solution, or a foreign matter mixed in the film forming. It refers to the part where the surface shape has changed, such as the foreign matter (foreign matter defect) in the film, and the transfer or scratching of a roll wound.
  • the diameter of the defect indicates the diameter when the defect is circular, and when the defect is not circular, the range of the defect is determined by observing with a microscope according to the following method, and the maximum diameter (diameter of circumscribed circle) is determined.
  • the range of the defect is the size of the shadow when the defect is observed with the transmitted light of the differential interference microscope when the defect is a bubble or a foreign object.
  • the defect is a change in the surface shape, such as transfer of a roll flaw or an abrasion
  • the size is confirmed by observing the defect with the reflected light of a differential interference microscope.
  • aluminum or platinum is deposited on the surface for observation.
  • the film When the number of defects is more than 1/10 cm square, for example, when a tension is applied to the film during processing in a later process, the film may be broken with the defect as a starting point and productivity may be reduced. Moreover, when the diameter of a defect becomes 5 micrometers or more, it can confirm visually by polarizing plate observation etc., and when used as an optical member, a bright spot may arise.
  • the hard coat layer coating composition may not be applied uniformly, resulting in defects (coating defects).
  • the film substrate preferably has a breaking elongation in at least one direction of 10% or more, more preferably 20% or more in the measurement based on JIS K7127 (1999).
  • the upper limit of the elongation at break is not particularly limited, but is practically about 250%. In order to increase the elongation at break, it is effective to suppress defects in the film caused by foreign matter and foaming.
  • the thickness of the film substrate is preferably 10 ⁇ m or more. More preferably, it is 20 ⁇ m or more.
  • the upper limit of the thickness of the film base material is not particularly limited, but in the case of forming a film by a solution casting method, the upper limit is about 250 ⁇ m from the viewpoint of applicability, foaming, solvent drying and the like.
  • the thickness of a film base material can be suitably selected according to a use.
  • the thickness of the film substrate of the present embodiment is preferably 10 to 250 ⁇ m, and more preferably 20 to 100 ⁇ m. From the viewpoint of reducing the thickness of the optical member, it is particularly preferably 10 to 40 ⁇ m.
  • the film substrate preferably has a total light transmittance of 90% or more, more preferably 93% or more. Moreover, as a realistic upper limit, it is about 99%. In order to achieve excellent transparency expressed by such total light transmittance, it is necessary not to introduce additives and copolymerization components that absorb visible light, or to remove foreign substances in the polymer by high-precision filtration. It is effective to reduce the diffusion and absorption of light inside the film.
  • the retardation of the film substrate is preferably such that the in-plane retardation Ro at a wavelength of 590 nm is 0 to 50 nm and the retardation Rth in the thickness direction is in the range of ⁇ 10 to 50 nm.
  • Ro and Rth are values defined by the following formulas (I) and (II).
  • Formula (I) Ro (nx ⁇ ny) ⁇ d
  • Formula (II) Rth ⁇ (nx + ny) / 2 ⁇ nz ⁇ ⁇ d
  • nx is the refractive index in the slow axis direction in the plane of the film substrate
  • ny is the refractive index in the direction perpendicular to the slow axis in the plane of the film substrate
  • nz is the thickness direction of the film substrate.
  • d represents the thickness (nm) of the film substrate.
  • the above retardation can be obtained at a measurement wavelength of 590 nm in an environment of 23 ° C. and 55% RH using, for example, KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments).
  • Retardation can be adjusted by the type and amount of the ester compound and plasticizer described above, the film thickness of the film substrate, and the stretching conditions.
  • a production method such as an inflation method, a T-die method, a calendar method, a cutting method, a casting method, an emulsion method, or a hot press method can be used. From the viewpoints of suppressing coloring, suppressing defects of foreign matter, and suppressing optical defects such as die lines, film formation by a casting method is preferable. Film formation by the casting method includes a solution casting method and a melt casting method.
  • Organic solvent An organic solvent useful for forming a dope when a film substrate is produced by a solution casting method can be used without limitation as long as it dissolves a cellulose ester resin and other additives simultaneously.
  • methylene chloride as a non-chlorinated organic solvent, methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, acetone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-hexafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro- 2-methyl-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-propanol, nitroethane, etc.
  • Methylene chloride, methyl acetate, ethyl acetate and acetone can be preferably used.
  • the dope preferably contains 1 to 40% by mass of a linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 4 carbon atoms.
  • a linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 4 carbon atoms.
  • the proportion of alcohol in the dope increases, the web gels, and peeling from the metal support becomes easy.
  • the proportion of alcohol is small, acrylic resin and cellulose ester resin in a non-chlorine organic solvent system are used. Dissolution is promoted.
  • the dope composition is dissolved in%.
  • linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 4 carbon atoms examples include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, sec-butanol, and tert-butanol. Of these, ethanol is preferable because the stability of the dope, the boiling point is relatively low, and the drying property is good.
  • the film substrate can be produced by a solution casting method.
  • a step of preparing a dope by dissolving a resin and an additive in a solvent a step of casting the dope on a belt-like or drum-like metal support, and a step of drying the cast dope as a web
  • the step of peeling the web from the metal support, the step of stretching or maintaining the width of the web, the step of further drying, and the step of winding up the finished film are performed.
  • the concentration of the cellulose ester resin in the dope is preferably higher because the drying load after casting on the metal support can be reduced, but if the concentration of the cellulose ester resin is too high, the load during filtration increases. Thus, the filtration accuracy is deteriorated.
  • the concentration that achieves both of these is preferably 10 to 35% by mass, and more preferably 15 to 25% by mass.
  • the metal support in the casting process is preferably a mirror-finished surface, and a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting is preferably used as the metal support.
  • the cast width can be 1 ⁇ 4m.
  • the surface temperature of the metal support in the casting step is set to ⁇ 50 ° C. to below the temperature at which the solvent boils and does not foam. A higher temperature is preferable because the web can be dried faster, but if it is too high, the web may foam or the flatness may deteriorate.
  • the temperature of the metal support is suitably determined in the range of 0 to 100 ° C, more preferably 5 to 30 ° C.
  • the method for controlling the temperature of the metal support is not particularly limited, but there are a method of blowing hot air or cold air, and a method of contacting hot water with the back side of the metal support. It is preferable to use warm water because heat transfer is performed efficiently, so that the time until the temperature of the metal support becomes constant is short.
  • the amount of residual solvent when peeling the web from the metal support is preferably 10 to 150% by mass.
  • a preferable lower limit of the residual solvent amount is 20 to 40% by mass, particularly preferably 20 to 30% by mass.
  • a preferable range of the upper limit of the residual solvent amount is 60 to 130% by mass, and particularly preferably 70 to 120% by mass.
  • M is the mass of a sample taken at any time during or after production of the web or film
  • N is the mass after heating M at 115 ° C. for 1 hour.
  • the web is peeled off from the metal support and further dried to make the residual solvent amount 1% by mass or less, more preferably 0. 0.1 mass% or less, particularly preferably 0 to 0.01 mass% or less.
  • the web (film) can be stretched sequentially or simultaneously in the conveyance direction (MD direction; Machine Direction) and the width direction (TD direction; Transverse Direction) perpendicular thereto.
  • the draw ratios in the biaxial directions perpendicular to each other are preferably in the range of 1.0 to 2.0 times in the MD direction and 1.07 to 2.0 times in the TD direction, respectively. It is preferably performed in the range of 1.0 to 1.5 times and 1.07 to 2.0 times in the TD direction.
  • a method in which peripheral speed differences are applied to a plurality of rolls and a roll peripheral speed difference is used to stretch in the MD direction both ends of the web are fixed with clips and pins, and the distance between the clips and pins is increased in the traveling direction.
  • a method of stretching in the MD direction a method of stretching in the transverse direction and stretching in the TD direction, a method of stretching in the MD / TD direction simultaneously and stretching in both the MD / TD directions, and the like.
  • the width maintenance or the width direction stretching in the film forming process is performed by a tenter, which may be a pin tenter or a clip tenter.
  • the film transport tension in the film forming process in the tenter is preferably 120 N / m to 200 N / m, more preferably 140 N / m to 200 N / m, most preferably 140 N / m to 160 N / m, depending on the temperature. preferable.
  • the temperature at which the film is stretched is (Tg ⁇ 30) to (Tg + 100) ° C., more preferably (Tg ⁇ 20) to (Tg + 80) ° C., more preferably when the glass transition temperature of the film substrate is Tg ° C. (Tg-5) to (Tg + 20) ° C.
  • the glass transition temperature of the film substrate can be controlled by the type of material constituting the film and the ratio of the constituting materials.
  • the glass transition temperature during drying of the film substrate is preferably 110 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher.
  • the glass transition temperature of a film base material is 190 degrees C or less, and it is more preferable that it is 170 degrees C or less.
  • the glass transition temperature of the film substrate can be determined by the method described in JIS K7121.
  • the surface is preferably roughened. It is preferable to appropriately roughen the film surface because not only the slipperiness is improved but also the surface processability, particularly the adhesion of the hard coat layer is improved.
  • the arithmetic average roughness Ra of the surface of the film substrate is preferably 2.0 nm to 4.0 nm, more preferably 2.5 nm to 3.5 nm.
  • a roll drying method (a method in which webs are alternately passed through a plurality of rolls arranged above and below) and a method in which the web is dried while being conveyed by a tenter are generally used.
  • the film substrate can also be formed by a melt casting method.
  • the melt casting method refers to heating and melting a composition containing an additive such as a resin and a plasticizer to a temperature exhibiting fluidity, and then casting a melt containing a fluid cellulose ester.
  • the melt casting method includes a method in which a film-forming material is heated to develop its fluidity and then extruded to form a film on a drum or an endless belt.
  • the molding method for heating and melting can be further classified into a melt extrusion molding method, a press molding method, an inflation method, an injection molding method, a blow molding method, a stretch molding method, and the like.
  • the melt extrusion molding method is preferable from the viewpoint of mechanical strength and surface accuracy. It is preferable that a plurality of raw materials used for melt extrusion are usually kneaded in advance and pelletized.
  • Pelletization can be performed using a known method. For example, dry cellulose ester, plasticizer, and other additives are supplied to an extruder with a feeder, kneaded using a single or twin screw extruder, extruded into a strand from a die, water-cooled or air-cooled, and cut. Can be pelletized.
  • the additive may be mixed before being supplied to the extruder, or may be supplied to the extruder by an individual feeder.
  • a small amount of additives such as particles and antioxidants are preferably mixed in advance in order to mix uniformly.
  • the extruder is preferably one that can be pelletized so as to suppress the shearing force and prevent the resin from deteriorating (molecular weight reduction, coloring, gel formation, etc.) and processing at as low a temperature as possible.
  • a twin screw extruder it is preferable to rotate in the same direction using a deep groove type screw. From the uniformity of kneading, the meshing type is preferable.
  • Film formation is performed using the pellets obtained as described above.
  • the raw material powder can be directly fed to the extruder by a feeder without being pelletized to form a film as it is.
  • the melting temperature is set to about 200 to 300 ° C., filtered through a leaf disk type filter or the like to remove foreign matters, and then formed into a film from a T die.
  • the film is cast, the film is nipped between the cooling roll and the elastic touch roll, and solidified on the cooling roll.
  • the material When the material is introduced from the supply hopper to the extruder, it is preferable to prevent oxidative decomposition and the like under vacuum, reduced pressure, or inert gas atmosphere. Moreover, it is preferable to carry out the extrusion flow rate of the pellets stably by introducing a gear pump or the like.
  • a stainless fiber sintered filter is preferably used as a filter for removing foreign substances.
  • a stainless steel fiber sintered filter is made by compressing a stainless steel fiber body after creating a complex intertwined state, and sintering and integrating the contact points. The density is changed according to the thickness of the fiber and the amount of compression, and filtration is performed. The accuracy can be adjusted.
  • Additives such as plasticizers and particles may be mixed with the resin in advance, or may be kneaded in the middle of the extruder. In order to add uniformly, it is preferable to use a mixing apparatus such as a static mixer.
  • the film temperature on the touch roll side when the film is nipped between the cooling roll and the elastic touch roll is preferably Tg or more and Tg + 110 ° C. or less of the film.
  • the elastic touch roll used for such a purpose can use the well-known roll which has an elastic body on the surface.
  • the elastic touch roll is also called a pinching rotator, and the touch roll disclosed in Japanese Patent No. 3194904, Japanese Patent No. 3422798, Japanese Patent Laid-Open No. 2002-36332, Japanese Patent Laid-Open No. 2002-36333, and the like can be preferably used.
  • a commercially available elastic touch roll can also be used.
  • the film obtained as described above is stretched by a stretching operation after passing through the step of contacting the cooling roll.
  • a known roll stretching machine or tenter can be preferably used as a method of stretching.
  • the stretching temperature is usually preferably in the temperature range of Tg to Tg + 60 ° C. of the resin constituting the film.
  • knurling embossing
  • the knurling process can be performed by heating and pressing an embossing roll having an uneven pattern on the surface thereof.
  • the film is deform
  • the optical film of the present embodiment can be provided with functional layers such as an antistatic layer, a backcoat layer, an antireflection layer, a slippery layer, an adhesive layer, and a barrier layer.
  • functional layers such as an antistatic layer, a backcoat layer, an antireflection layer, a slippery layer, an adhesive layer, and a barrier layer.
  • a back coat layer may be provided on the surface of the film base opposite to the side on which the hard coat layer is provided to prevent curling and sticking.
  • inorganic compound particles added to the backcoat layer include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, tin oxide, indium oxide, Mention may be made of zinc oxide, ITO, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate.
  • the amount of particles contained in the backcoat layer is preferably 0.1 to 50% by mass with respect to the binder.
  • a cellulose ester resin such as diacetylcellulose is preferable.
  • the increase in haze when the back coat layer is provided is preferably 1.5% or less, more preferably 0.5% or less, and particularly preferably 0.1% or less.
  • the optical film of this embodiment can be used as an antireflection film having an external light antireflection function by coating an antireflection layer on the hard coat layer.
  • the antireflection layer is preferably laminated in consideration of the refractive index, the film thickness, the number of layers, the layer order, etc. so that the reflectance is reduced by optical interference.
  • the antireflection layer is a combination of a low refractive index layer having a lower refractive index than that of the film substrate that is the support, or a combination of a high refractive index layer and a low refractive index layer that have a higher refractive index than that of the film substrate that is the support. It is preferable to be configured.
  • an antireflection layer composed of three or more refractive index layers, and three layers having different refractive indexes from the support side are divided into medium refractive index layers (high refractive index layers having a higher refractive index than the support).
  • medium refractive index layers high refractive index layers having a higher refractive index than the support.
  • the layer structure of the antireflection film the following structure can be considered, but it is not limited thereto.
  • Film substrate / hard coat layer / low refractive index layer Film substrate / hard coat layer / medium refractive index layer / low refractive index layer Film substrate / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index Layer Film substrate / hard coat layer / high refractive index layer (conductive layer) / low refractive index layer Film substrate / hard coat layer / antiglare layer / low refractive index layer
  • the low refractive index layer preferably contains silica-based fine particles, and the refractive index is preferably in the range of 1.30 to 1.45 at 23 ° C. and a measurement wavelength of 550 nm.
  • the film thickness of the low refractive index layer is preferably 5 nm to 0.5 ⁇ m, more preferably 10 nm to 0.3 ⁇ m, and most preferably 30 nm to 0.2 ⁇ m.
  • the composition for forming a low refractive index layer preferably contains at least one kind of particles having an outer shell layer and porous or hollow inside as silica-based fine particles.
  • the particles having the outer shell layer and having a porous or hollow interior are preferably hollow silica-based fine particles.
  • composition for forming a low refractive index layer may contain an organosilicon compound represented by the following general formula (OSi-1), a hydrolyzate thereof, or a polycondensate thereof.
  • OSi-1 organosilicon compound represented by the following general formula (OSi-1)
  • hydrolyzate thereof a hydrolyzate thereof
  • polycondensate thereof a polycondensate thereof.
  • R represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane and the like are preferably used as the organosilicon compound represented by the general formula.
  • the composition for forming a low refractive index layer is a thermosetting and / or photocuring mainly comprising a fluorine-containing compound containing a fluorine atom in a range of 35 to 80% by mass and containing a crosslinkable or polymerizable functional group.
  • it is a fluorine-containing polymer or a fluorine-containing sol-gel compound.
  • the fluorine-containing polymer include hydrolysates and dehydration condensates of perfluoroalkyl group-containing silane compounds [eg (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) triethoxysilane], and fluorine-containing monomers.
  • Examples thereof include fluorine-containing copolymers having units and cross-linking reactive units as constituent units.
  • the refractive index of the high refractive index layer is preferably in the range of 1.4 to 2.2 at 23 ° C. and a measurement wavelength of 550 nm.
  • the thickness of the high refractive index layer is preferably 5 nm to 1 ⁇ m, more preferably 10 nm to 0.2 ⁇ m, and most preferably 30 nm to 0.1 ⁇ m.
  • the means for adjusting the refractive index can be achieved by adding metal oxide fine particles or the like to the high refractive index layer.
  • the refractive index of the metal oxide fine particles used is preferably 1.80 to 2.60, and more preferably 1.85 to 2.50.
  • the kind of metal oxide fine particles is not particularly limited, and Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P and S
  • a metal oxide having at least one element selected from can be used.
  • These metal oxide fine particles may be doped with a trace amount of atoms such as Al, In, Sn, Sb, Nb, halogen elements, Ta, or a mixture thereof.
  • at least one metal oxide fine particle selected from zirconium oxide, antimony oxide, tin oxide, zinc oxide, indium-tin oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), and zinc antimonate is used as a main component. It is particularly preferred. In particular, it is preferable to contain zinc antimonate particles.
  • the average particle diameter of primary particles of these metal oxide fine particles is 10 nm to 200 nm, particularly preferably 10 nm to 150 nm.
  • the average particle diameter of the metal oxide fine particles can be measured from an electron micrograph obtained by a scanning electron microscope (SEM) or the like, but is measured by a particle size distribution meter using a dynamic light scattering method or a static light scattering method. May be. If the particle size is too small, aggregation tends to occur and the dispersibility deteriorates. If the particle size is too large, the haze is remarkably increased, which is not preferable.
  • the shape of the metal oxide fine particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape, a needle shape, or an indefinite shape.
  • the metal oxide fine particles may be surface-treated with an organic compound.
  • an organic compound By modifying the surface of the metal oxide fine particles with an organic compound, the dispersion stability in an organic solvent is improved, the dispersion particle size can be easily controlled, and aggregation and sedimentation over time can be suppressed. .
  • the surface modification amount with a preferable organic compound is 0.1% by mass to 5% by mass, and more preferably 0.5% by mass to 3% by mass with respect to the metal oxide fine particles.
  • the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Of these, silane coupling agents are preferred. Two or more kinds of surface treatments may be combined.
  • the high refractive index layer may contain a ⁇ -conjugated conductive polymer.
  • the ⁇ -conjugated conductive polymer can be used as long as it is an organic polymer having a main chain composed of a ⁇ -conjugated system. Examples thereof include polythiophenes, polypyrroles, polyanilines, polyphenylenes, polyacetylenes, polyphenylene vinylenes, polyacenes, polythiophene vinylenes, and copolymers thereof. From the viewpoint of ease of polymerization and stability, polythiophenes, polyanilines, and polyacetylenes are preferable.
  • the ⁇ -conjugated conductive polymer exhibits sufficient conductivity and solubility in a binder resin even if it is not substituted, but in order to further improve conductivity and solubility, an alkyl group, a carboxy group, a sulfo group, an alkoxy group A functional group such as a hydroxy group or a cyano group may be introduced.
  • the ratio of the polymer to the binder is preferably 10 to 400 parts by mass of the binder with respect to 100 parts by mass of the polymer, and particularly preferably 100 to 200 parts by mass of the binder with respect to 100 parts by mass of the polymer. is there.
  • the high refractive index layer may contain an ionic compound.
  • the ionic compound include imidazolium, pyridium, alicyclic amine, aliphatic amine, and aliphatic phosphonium cations, inorganic ions such as BF 4 ⁇ and PF 6 ⁇ , CF 3 SO 2, and the like.
  • the polarizing plate can be produced by a general method.
  • the back side of the optical film of this embodiment is subjected to alkali saponification treatment, and the treated optical film is attached to at least one surface of a polarizing film prepared by immersing and stretching in an iodine solution using a completely saponified aqueous polyvinyl alcohol solution. It is preferable to match.
  • the optical film of this embodiment may be bonded to the other surface of the polarizing film, and the above-described film substrate may be bonded.
  • an optical compensation film (retardation film) having an in-plane retardation Ro of 20 to 70 nm and a retardation Rt in the film thickness direction of 70 to 400 nm, a viewing angle is obtained.
  • the polarizing plate can be enlarged.
  • Such a polarizing plate can be produced, for example, by the method described in JP-A-2002-71957.
  • an optical compensation film having an optical anisotropic layer formed by aligning a liquid crystal compound such as a discotic liquid crystal can be formed by the method described in JP2003-98348A.
  • polarizing plate base materials preferably used include KC8UX2MW, KC4UX, KC5UX, KC4UY, KC8UY, KC12UR, KC4UEW, KC8UCR-3, KC8UCR-4, KC8UCR-5, KC4FR-2, KC4FR-2, KC4FR-2, KC8FR-2 , KC4UE (manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.) and the like.
  • a polarizing film which is a main component of a polarizing plate, is an element that allows only light having a polarization plane in a certain direction to pass through.
  • a typical polarizing film currently known is a polyvinyl alcohol polarizing film, which includes a polyvinyl alcohol film dyed with iodine and a dichroic dye dyed. The deflection film is not limited to these.
  • polarizing film a polyvinyl alcohol aqueous solution is formed and dyed by uniaxially stretching or dyed, or uniaxially stretched after dyeing, and then preferably subjected to a durability treatment with a boron compound.
  • a polarizing film having a film thickness of 5 to 30 ⁇ m, preferably 8 to 15 ⁇ m is preferably used.
  • a polarizing plate is formed by bonding one side of the optical film of the present embodiment on the surface of the polarizing film. Preferably, they are bonded together with an aqueous adhesive mainly composed of completely saponified polyvinyl alcohol or the like.
  • the pressure-sensitive adhesive layer used on one side of the film base material to be bonded to the substrate of the liquid crystal cell is preferably optically transparent and exhibits moderate viscoelasticity and pressure-sensitive adhesive properties.
  • an acrylic copolymer for example, an acrylic copolymer, epoxy resin, polyurethane, silicone polymer, polyether, butyral resin, polyamide resin, polyvinyl alcohol resin, synthetic rubber, or other adhesive or adhesive
  • a polymer such as an agent can be used as an agent.
  • a pressure-sensitive adhesive layer can be formed by forming a film by a drying method, a chemical curing method, a thermal curing method, a thermal melting method, a photocuring method, or the like and curing the film.
  • acrylic copolymers are most easily controlled for adhesive properties and are excellent in transparency, weather resistance, durability, and the like, and can be preferably used.
  • ⁇ Liquid crystal display device> By incorporating a polarizing plate produced using the optical film of the present embodiment into a display device, various image display devices with excellent visibility can be produced.
  • the optical film of this embodiment is incorporated in a polarizing plate, and is a reflective type, transmissive type, transflective type liquid crystal display device or TN type, STN type, OCB type, HAN type, VA type (PVA type, MVA type), IPS. It is preferably used for liquid crystal display devices of various driving systems such as a type and an OCB type.
  • the optical film of this embodiment can be used as a member for a touch panel of a liquid crystal display device with a touch panel. In this case, visibility and durability against pen input (scratches due to sliding, etc.) can be improved.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view along the width direction showing a schematic configuration of the optical film F of Example 1.
  • the optical film F is a layer structure symmetrical with respect to a cross section perpendicular to the width direction passing through the center in the width direction, the first region R1 and the second region of the optical film F are shown in FIG. Of the region R2, only the first region R1 is shown, and the second region R2 is not shown (the same applies to the sectional views appearing below).
  • Example 1 a triacetyl cellulose film (TAC) was used as the film substrate 1, and a pentaerythritol diacrylate resin was used as the cured film material. Then, in the width direction of the film substrate 1, a cured film material is applied from the first region R1 to the second region R2, and cured by irradiation with ultraviolet rays to form a cured film 2 having an elastic modulus of 4.5 GPa. did. In addition, the irradiation conditions of the ultraviolet rays at this time were an illuminance of 100 mW / cm 2 and an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 . Thereafter, the optical film F is knurled using an embossing roll to form the knurling portion 3 on the cured film 2 and the knurling portion 4 is formed on the film substrate 1 to produce the optical film F. did.
  • TAC triacetyl cellulose film
  • A is the position of the end of the film substrate 1 in the width direction.
  • a position 50 mm from the position A on the inner side in the width direction (opposite the end A) is defined as D.
  • the first region R1 and the second region R2 are regions between AD (50 mm width).
  • the cured film 2 shall be formed from the position B1 to the position B2 in the width direction on the film base material 1, and the whole knurling part (knurling)
  • the part 3 + the knurling part 4) is formed from the position C1 to the position C2 in the width direction.
  • position B1 * C1 shall be located in the edge part A side rather than position B2 * C2. Unless otherwise specified, it is assumed that the position C1 coincides with the position A, and the position B2 coincides with the position D.
  • Example 1 in the first region R1 and the second region R2, the formation range of the cured film 2 is 45 mm between B1 and B2 (90% between AD), and the entire knurling portion (the knurling portion)
  • the formation range of the 3+ knurling part 4) was 15 mm between C1 and C2. That is, in the first region R1 and the second region R2, the formation range of the knurling part 4 on the film substrate 1 is 5 mm between A (C1) and B1, and the knurling part 3 on the cured film 2 The formation range was 10 mm between B1 and C2.
  • the height t of the knurling part 3 was 10 ⁇ m, and the number of the convex parts 3a of the knurling part 3 was 70 / cm 2 .
  • the height t of the knurling part 3 is measured with a contact-type film thickness meter TOF-6R (Yamabun Electric Co., Ltd.), and the number of convex parts 3a is measured with a microscope VHX-2000 (Keyence Co., Ltd.). Went by.
  • the thickness of the used film base material 1 was 30 micrometers.
  • Example 2 In Example 2, in the first region R1 and the second region R2, the formation range (between C1 and C2) of the entire knurling portion (between the knurling portion 3 and the knurling portion 4) from the film end is 8 mm, and the cured film 2
  • An optical film F was produced in the same manner as in Example 1 except that the formation range of the knurling part 3 (between B1 and C2) was 3 mm.
  • Example 3 an optical film F was produced in the same manner as in Example 1 except that the height t of the knurling part 3 was 1 ⁇ m.
  • Example 4 an optical film F was produced in the same manner as in Example 1 except that the height t of the knurling part 3 was 25 ⁇ m.
  • Example 5 an optical film F was produced in the same manner as in Example 1 except that the number of convex portions 3a of the knurling portion 3 was 10 / cm 2 .
  • Example 6 an optical film F was produced in the same manner as in Example 1 except that the number of convex portions 3a of the knurling portion 3 was 140 pieces / cm 2 .
  • Example 7 an optical film F was produced in the same manner as in Example 1 except that the film base 1 used had a thickness of 10 ⁇ m.
  • Example 8 an optical film F was produced in the same manner as in Example 1 except that the film substrate 1 used had a thickness of 40 ⁇ m.
  • Example 9 In Example 9, the irradiation conditions of ultraviolet rays were set to an illuminance of 80 mW / cm 2 , an irradiation amount of 100 mJ / cm 2 , and the cured film material was irradiated with ultraviolet rays, whereby the elastic modulus of the cured film 2 was set to 4.0 GPa. In the same manner as in Example 1, an optical film F was produced.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view along the width direction showing a schematic configuration of the optical film F of Example 10.
  • the formation range of the cured film 2 (between B1 and B2) is 10 mm (20% between A and D), and the entire knurling part (knurling part 3+)
  • the formation range of the knurling part 4) (between C1 and C2) was 50 mm. That is, on the cured film 2 in the first region R1 and the second region R2, the formation range of the knurling portion 3 (between B1 and C2) was set to 10 mm. Otherwise, the optical film F was produced in the same manner as in Example 1.
  • Example 11 6 is a cross-sectional view along the width direction showing a schematic configuration of the optical film F of Example 11.
  • FIG. 11 in the first region R1 and the second region R2, the formation range (between B1 and B2) of the cured film 2 is 50 mm (100% between AD), and the knurling on the cured film 2 is performed.
  • the formation range of the part 3 (between B1 and C2) was 15 mm. That is, in Example 11, since the position B1 of the end portion of the cured film 2 coincides with the position A (C1) of the end portions of the first region R1 and the second region R2, the cured film is obtained by knurling.
  • the knurling part 3 is formed only on 2 (the knurling part 4 is not formed on the film base 1). Otherwise, the optical film F was produced in the same manner as in Example 1.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view along the width direction showing a schematic configuration of the optical film F of Example 12.
  • the cured film 2 is formed only in the first region R1 and the second region R2, and the position B2 of the end portion of the cured film 2 is set to the end in the width direction from the position D (position A side). ).
  • the formation range of the cured film 2 (between B1 and B2) is a range from the end position A to 20 mm in the width direction (between AD). 40%), and the formation range of the knurling part 3 (between B1 and C2) was 15 mm. That is, in Example 12, the position B1 of the end portion of the cured film 2 coincides with the position A (C1) of the end portions of the first region R1 and the second region R2, and thus the cured film is obtained by knurling. The knurling part 3 is formed only on 2 (the knurling part 4 is not formed on the film base 1). Otherwise, the optical film F was produced in the same manner as in Example 1.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view along the width direction showing a schematic configuration of the optical film F of Example 13.
  • the cured film 2 is formed only in the first region R1 and the second region R2, and the position B2 at the end of the cured film 2 is wider than the position D. It is shifted toward the direction end (position A side).
  • the formation range of the cured film 2 is changed from the position A of the end portion to the inner side in the width direction from the position B1 of 10 mm to the inner side in the width direction from the position A.
  • the range of 30 mm up to the position B2 of 40 mm (60% between AD) was set, and the formation range (between C1 and C2) of the knurling part (knurling part 3 + knurling part 4) was 20 mm.
  • the formation range of the knurling part 3 (between B1 and C2) is 10 mm on the cured film 2 in the first region R1 and the second region R2.
  • the optical film F was produced in the same manner as in Example 1.
  • Example 14 In Example 14, in the first region R1 and the second region R2, the formation range (between C1 and C2) of the knurling portion (between the knurling portion 3 and the knurling portion 4) from the film end is set to 10 mm.
  • An optical film F was produced in the same manner as in Example 1 except that the formation range of the knurling part 3 (between B1 and C2) was 5 mm.
  • Example 15 an optical film F was produced in the same manner as in Example 1 except that the height t of the knurling part 3 was 0.5 ⁇ m.
  • Example 16 an optical film F was produced in the same manner as in Example 1 except that the height t of the knurling part 3 was 30 ⁇ m.
  • Example 17 an optical film F was produced in the same manner as in Example 1 except that the number of convex portions 3a of the knurling portion 3 was 5 / cm 2 .
  • Example 18 an optical film F was produced in the same manner as in Example 1 except that the number of convex portions 3a of the knurling portion 3 was 150 pieces / cm 2 .
  • Example 19 In Example 19, except that the ultraviolet irradiation conditions were an illuminance of 50 mW / cm 2 and an irradiation amount of 50 mJ / cm 2 , and the cured film material was irradiated with ultraviolet rays, whereby the elastic modulus of the cured film 2 was 3.5 GPa. In the same manner as in Example 1, an optical film F was produced.
  • Comparative Example 1 In Comparative Example 1, in the first region R1 and the second region R2, the formation range (between C1 and C2) of the knurling part (knurling part 3 + knurling part 4) from the film end is set to 7 mm.
  • An optical film F was produced in the same manner as in Example 1, except that the formation range of the knurling part 3 (between B1 and C2) was 2 mm.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view along the width direction showing a schematic configuration of the optical film F of Comparative Example 2.
  • the formation range of the cured film 2 (between B1 and B2) is 5 mm (10% between AD) in the first region R1 and the second region R2, and the knurling portion (knurling portion 3 + knurling)
  • the formation range of part 4) (between C1 and C2) was 45 mm. That is, in Comparative Example 2, the knurling part 4 was formed only on the film substrate 1 in the first region R1 and the second region R2, and the knurling part 3 was not formed on the cured film 2. Otherwise, the optical film F was produced in the same manner as in Example 1.
  • the evaluation criteria for the gauge band are as follows. A: Gauge band is not generated at all and is good. ⁇ : Gauge band is generated a little, but it is a level with no problem. (Triangle
  • the evaluation criteria for the rolled form are as follows. A: The roll is not deformed and the winding shape is good. ⁇ : The roll is slightly warped, but at a level with no problem. (Triangle
  • the evaluation criteria for film breakage are as follows. A: The film is not broken at all and is good. ⁇ : Although the film is slightly broken, it is a level with no problem. (Triangle
  • the knurling part 3 on the cured film 2 is formed in a width direction of 3 mm or more, and the winding deviation and the gauge band are good ( ⁇ ) or at a level with no problem. ( ⁇ ) or a level ( ⁇ ) where there is no problem in actual use.
  • the knurling portion 3 on the cured film 2 is less than 3 mm in the width direction, and winding deviation and a gauge band are both generated, resulting in a defect (x). Therefore, it can be said that by forming the knurling part 3 on the cured film 2 in the width direction over 3 mm or more, winding deviation and a gauge band can be suppressed.
  • Example 15 even when the knurling part 3 is formed on the cured film 2 over 3 mm in the width direction, winding deviation and a gauge band are further generated as compared with Example 1. This is presumably because the knurling part 3 cannot sufficiently suppress the winding deviation and the gauge band because the height of the knurling part 3 is as small as 0.5 ⁇ m.
  • Example 16 the wound roll was deformed, and the winding form was inferior to that of Example 1. This is presumably because the height of the knurling part 3 is as large as 30 ⁇ m, so that the convex part 3a easily falls down in the width direction at the time of winding, resulting in further warping of the wound roll.
  • the height of the knurling portion 3 is in the range of 1 to 25 ⁇ m, and any of the winding deviation, gauge band, and winding shape is good ( ⁇ ), or a level with no problem ( ⁇ ). Accordingly, it can be said that the height of the knurling portion 3 is preferably 1 to 25 ⁇ m in order to suppress roll deformation and blocking while suppressing roll deformation and improving the winding shape.
  • Example 17 even when the knurling part 3 is formed on the cured film 2 over 3 mm in the width direction, the winding deviation and the gauge band are further generated as compared with Example 1. This is because the number of the convex portions 3a of the knurling portion 3 is 5 / cm 2 and the number of the convex portions 3a is too small, so that the function of suppressing winding deviation and blocking by the knurling portion 3 can be efficiently exhibited. It is thought that it is not possible.
  • Example 18 the film was further broken during winding as compared with Example 1. This causes a great damage to the film substrate 1 when the knurling process is performed so that the number of the convex portions 3a of the knurling portion 3 is 150 pieces / cm 2 , thereby causing the film in the width direction of the film. This is thought to be due to a decrease in strength.
  • the number of convex portions 3a of the knurling portion 3 is 10 to 140 pieces / cm 2 , and any of winding deviation, gauge band, and film breakage is good ((). There is no problem level ( ⁇ ). Accordingly, it can be said that the number of convex portions 3a of the knurling portion 3 is desirably 10 to 140 / cm 2 in order to suppress winding slip, blocking, and film breakage.
  • Example 19 even when the knurling part 3 is formed on the cured film 2 over 3 mm in the width direction, the winding deviation and the gauge band are further generated as compared with Example 1. This is because the cured film 2 has a low elastic modulus of 3.5 GPa, so that the desired hardness cannot be imparted to the knurling portion 3 formed on the surface of the cured film 2, and further winding deviation and gauge bands are generated. It is thought that it was because.
  • the cured film 2 has an elastic modulus of 4.0 GPa or more, and no winding deviation or gauge band is observed. This is presumably because the knurling part 3 is formed on the surface of the cured film 2 so that the knurling part 3 surely exhibits a function of suppressing the occurrence of winding deviation and gauge bands. Therefore, it can be said that the elastic modulus of the cured film 2 is preferably 4.0 GPa or more in order to reliably exhibit the function of the knurling portion 3 that suppresses winding deviation and the like.
  • the present invention can be used for various functional films such as a polarizing plate protective film, a retardation film, and a viewing angle widening film used in a liquid crystal display device, for example.

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Abstract

　厚さが１０～４０μｍのフィルム基材（１）上に、硬化膜（２）が形成された光学フィルム（Ｆ）において、フィルム基材（１）の幅手方向の両端部から５０ｍｍまでの各領域を、第１の領域（Ｒ１）および第２の領域（Ｒ２）とする。硬化膜（２）は、フィルム基材（１）上で、第１の領域（Ｒ１）における幅手方向の２０～１００％の範囲、および第２の領域（Ｒ２）における幅手方向の２０～１００％の範囲をそれぞれ覆うように形成されている。第１の領域（Ｒ１）および第２の領域（Ｒ２）のそれぞれにおける硬化膜（２）の表面に、硬化膜形成後にナーリング加工することで凹凸状のナーリング部（３）が形成されている。ナーリング部（３）は、硬化膜（２）の表面において、硬化膜（２）の各端部から幅手方向に３ｍｍ以上にわたって形成されている。

Description

光学フィルム
　本発明は、膜厚の薄いフィルム基材上に硬化膜が形成された光学フィルムに関するものである。
　近年、ＣＲＴ（Cathode  Ray　Tube）の他、液晶テレビやプラズマディスプレイ、有機ＥＬ（Electro  Luminescence）ディスプレイ等種々の表示装置が開発されてきており、それらの画面サイズが大型化してきている。このような表示装置では、画面に直接、手が触れたり、物が接触したりすることがあり、画面に傷が付き易い。そこで、通常は、傷付き防止のために、ハードコート層（硬化膜）をフィルム基材上に形成した光学フィルムや、さらにハードコート層上に反射防止層等が形成された光学フィルムを、表示装置の表示画面に貼り付けることが行われている。
　このような光学フィルムの製造においては、幅手方向の両端部に、ナーリング部またはエンボス部と呼ばれる、フィルム面よりも嵩高くした部分（凸部）が設けられたフィルム基材が用いられる。フィルム基材にナーリング部を形成しておくことにより、製造されたフィルム基材を巻芯に巻き取ったときに、巻芯方向のフィルム基材のずれや、基材同士のブロッキング（貼り付き）を抑えることができる。このようなフィルム基材の表面にハードコート層を形成することにより、ハードコート層付きの光学フィルムが得られる。得られた光学フィルムは、再度巻芯に巻き取られる。
　ここで、ハードコート層付きの光学フィルムを製造するにあたって、例えば特許文献１および２では、フィルム基材のナーリング部がハードコート層の外側に位置するように、フィルム基材上にハードコート層を形成し、さらに、フィルム基材のナーリング部上にさらに別のナーリング部を追加で形成するようにしている。この場合、先に形成されたナーリング部の凹凸を利用して追加のナーリング部を形成することができるため、エンボスロールの凹凸部の厚みをそれほど大きくしなくても、容易に所望の高さのナーリング部を精度良く形成することができる。また、例えば特許文献３では、フィルム基材のナーリング部上までハードコート層を塗布し、かつ、ナーリング部の裏面に微細な突起を形成することで、光学フィルムを製造するようにしている。
　ところで、近年では、表示装置の薄型化に伴い、用いる光学フィルムの薄型化も要求されている。ここで、製造された光学フィルムを巻芯に巻き取る際の巻径を一定とした場合、薄型の光学フィルムを巻き取る場合は、膜厚の厚い光学フィルムを巻き取る場合に比べて、巻数を増大させることができる。このため、薄型の光学フィルムとしては、巻数の多い長尺状（例えば３０００ｍ以上）の光学フィルムを製造することが可能となる。
　しかし、特許文献１および２では、ハードコート層よりも柔らかいフィルム基材にナーリング部が形成されているため、長尺状の光学フィルムを巻き取ったときの自重や押圧力によって、ナーリング部がつぶれやすくなる。ナーリング部がつぶれると、光学フィルムの巻きずれやブロッキングを抑えることができなくなる。また、特許文献３では、ナーリング部の裏面の微細な突起は、ハードコート層の下地となるフィルム基材の裏面に設けられる突起と考えられるが、この突起はハードコート層よりも柔らかいため、やはり、長尺状の光学フィルムを巻き取ったときに突起がつぶれやすくなって、巻きずれ等を抑えることができなくなる。
　したがって、膜厚の薄い、長尺状の光学フィルムを巻き取る場合でも、巻きずれやブロッキングを確実に抑えることができるように、光学フィルムを構成することが望まれる。
特開２００５－２１９２７２号公報（請求項１、段落〔００２８〕、図１等参照） 特開２００９－２２３１２９号公報（段落〔００２６〕、図１等参照） 特開２００４－３４７９２８号公報（請求項４、段落〔００１５〕等参照）
　本発明の目的は、前記の事情に鑑み、膜厚の薄い、長尺状の光学フィルムを巻き取る場合でも、巻きずれやブロッキングを確実に抑えることができる光学フィルムを提供することにある。
　本発明の上記目的は以下の構成により達成される。
　１．厚さが１０～４０μｍのフィルム基材上に、硬化膜が形成された光学フィルムであって、
　前記フィルム基材の幅手方向の両端部から５０ｍｍまでの各領域を、第１の領域および第２の領域とすると、
　前記硬化膜は、前記フィルム基材上で、前記第１の領域における幅手方向の２０～１００％の範囲、および前記第２の領域における幅手方向の２０～１００％の範囲をそれぞれ覆うように形成されており、
　前記第１の領域および前記第２の領域のそれぞれにおける前記硬化膜の表面に、前記硬化膜形成後にナーリング加工することで凹凸状のナーリング部が形成されており、
　前記ナーリング部は、前記硬化膜の表面において、該硬化膜の各端部から前記幅手方向に３ｍｍ以上にわたって形成されていることを特徴とする光学フィルム。
　２．前記ナーリング部の高さが、１～２５μｍであることを特徴とする前記１に記載の光学フィルム。
　３．前記ナーリング部の凸部の個数が、１ｃｍ2あたり１０～１４０個であることを特徴とする前記１または２に記載の光学フィルム。
　４．前記硬化膜の弾性率が、４．０ＧＰａ以上であることを特徴とする前記１から３のいずれかに記載の光学フィルム。
　上記の構成によれば、厚さが１０～４０μｍと薄いフィルム基材上の硬化膜の表面に、硬化膜形成後にナーリング加工することで凹凸状のナーリング部が形成されている。ナーリング部は、フィルム基材に形成した凹凸だけを利用するものではなく、硬化膜の硬さを有しているため、光学フィルムを巻き取ったときでも自重や押圧力によってつぶれにくくなる。これにより、薄くて長尺状の光学フィルムを巻き取ったときでも、巻芯方向の巻きずれや、ブロッキングを抑えることができる。
　しかも、上記のナーリング部は、フィルム基材の幅手方向に端部から３ｍｍ以上にわたって形成されているので、幅手方向（巻芯方向）に対する耐性を確実に増大させることができ、また、ナーリング部の強度も確実に確保できる。その結果、薄い光学フィルムの巻き取り時の巻芯方向の巻きずれおよびブロッキングを確実に抑えることができる。
　また、硬化膜は、フィルム基材上で第１の領域および第２の領域（幅手方向の各端部から５０ｍｍまでの領域）における幅手方向の２０～１００％の範囲をそれぞれ覆うように形成されているので、第１の領域および第２の領域における硬化膜の形成範囲は、幅手方向に１０ｍｍ（５０ｍｍの２０％に相当）～５０ｍｍ（５０ｍｍの１００％に相当）となる。したがって、第１の領域および第２の領域の硬化膜表面において、ナーリング部の形成幅３ｍｍ以上を確実に確保することが可能となる。
本発明の実施の形態に係る光学フィルムの概略の構成を示す断面図である。 上記光学フィルムの他の構成を示す断面図である。 図１および図２の光学フィルムの硬化膜を拡大して示す断面図である。 実施例１の光学フィルムの概略の構成を示す断面図である。 実施例１０の光学フィルムの概略の構成を示す断面図である。 実施例１１の光学フィルムの概略の構成を示す断面図である。 実施例１２の光学フィルムの概略の構成を示す断面図である。 実施例１３の光学フィルムの概略の構成を示す断面図である。 比較例２の光学フィルムの概略の構成を示す断面図である。
　本発明の実施の一形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、本明細書において、数値範囲をＡ～Ｂと表記した場合、その数値範囲に下限Ａおよび上限Ｂの値は含まれるものとする。
　〔光学フィルムの構成〕
　図１は、本実施形態の光学フィルムＦの概略の構成を示す、幅手方向に沿った断面図である。なお、幅手方向とは、フィルム面内で長手方向（搬送方向、ＭＤ方向：Machine  Direction）に垂直な方向（ＴＤ方向；Transverse　Direction）を指す。光学フィルムＦは、フィルム基材１上に、ハードコート層としての硬化膜２が形成されたハードコートフィルムである。フィルム基材１の厚さは１０～４０μｍであり、薄膜の基材となっている。ここで、以下での説明の便宜上、フィルム基材１の幅手方向の両端部から５０ｍｍまでの各領域を、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２とする。
　硬化膜２は、例えば紫外線硬化型樹脂のような活性エネルギー線硬化型樹脂で構成されている。なお、硬化膜２の樹脂材料の詳細については後述する。硬化膜２の樹脂材料および活性エネルギー線の照射条件（照射量等）を適切に選択または制御することで、硬化膜２の弾性率を制御することができる。
　ここで、弾性率とは、ひずみと応力との比例係数を指し、応力に対してひずみの小さい材料は、弾性率が高く、硬いことを示す（弾性率の小さい材料は柔らかい）。活性エネルギー線硬化型樹脂を用いた場合、その樹脂材料における官能基数および粒子添加、硬化条件によって硬化膜２の弾性率を制御することができる。例えば、官能基を２以上持つ活性エネルギー線硬化型アクリレートに対して、３００ｍＪ／ｃｍ2以上の活性線エネルギー線を照射することで、弾性率４．０ＧＰａ以上を実現することができる。
　硬化膜２は、フィルム基材１上で、第１の領域Ｒ１における幅手方向の２０～１００％の範囲、および第２の領域Ｒ２における幅手方向の２０～１００％の範囲をそれぞれ覆うように形成されている。図１では、硬化膜２が、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、幅手方向の２０％の範囲をそれぞれ覆うようにフィルム基材１上に形成されている場合を示している。この場合、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、硬化膜２の幅手方向の長さは、５０ｍｍの２０％、つまり、１０ｍｍである。
　一方、図２は、光学フィルムＦの他の構成を示す、幅手方向に沿った断面図である。図２の光学フィルムＦでは、硬化膜２は、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、幅手方向の１００％の範囲をそれぞれ覆うように形成されている。この場合、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、硬化膜２の幅手方向の長さは、５０ｍｍの１００％、つまり、５０ｍｍである。
　したがって、硬化膜２が、フィルム基材１上で、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２における幅手方向の２０～１００％の範囲をそれぞれ覆うように形成される場合、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２における硬化膜２の幅手方向の長さは、１０～５０ｍｍとなる。
　なお、図１および図２では、フィルム幅手方向において、硬化膜２は、第１の領域Ｒ１から第２の領域Ｒ２まで連続して形成されているが、不連続に形成されていてもよい。例えば、硬化膜２は、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２にのみ形成され、第１の領域Ｒ１と第２の領域Ｒ２との間には形成されていなくてもよい。この場合、硬化膜２は、フィルム基材１の表面の保護というよりも、後述する硬いナーリング部３を形成することだけを目的として形成される。また、第１の領域Ｒ１と第２の領域Ｒ２との間に硬化膜２が形成されるとともに、この硬化膜２と幅手方向に所定の間隔をおいて位置するように、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２に硬化膜２が形成されてもよい。
　また、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２のそれぞれにおける硬化膜２の表面には、凹凸状のナーリング部３が形成されている。なお、図１および図２では、便宜上、ナーリング部３の形成領域を明確にする目的で、ナーリング部３を表面が平坦の層状で図示しているが、実際には図３に示すように、ナーリング部３の表面は凹凸状である。このナーリング部３は、凸凹のパターンを表面に有するエンボスロールを加熱して硬化膜２上に押し付けるナーリング加工により形成される。つまり、ナーリング部３は、硬化膜形成後のナーリング加工によって形成される。このとき、エンボスロールの加熱温度を、硬化膜２のガラス転移温度Ｔｇよりも高くすることで、硬化膜２に割れを生じさせることなくナーリング部３を形成することができる。なお、硬化膜２の紫外線照射等による硬化前に（例えば半硬化状態で）エンボスロールを押し当てて、その後、硬化膜材料を完全硬化させて、ナーリング部３を形成するようにしてもよい。
　ナーリング部３は、硬化膜２の表面において、硬化膜２の幅手方向の各端部から、幅手方向に３ｍｍ以上にわたって形成されている。つまり、図１および図２において、硬化膜２上のナーリング部３の形成幅をｄ（ｍｍ）で示したとき、ｄ≧３である。
　また、図１の構成では、硬化膜２に対するナーリング加工の際に、硬化膜２に加えてフィルム基材１の表面にもエンボスロールを押し当てることにより、フィルム基材１の表面に凹凸状のナーリング部４を形成している。なお、フィルム基材１の幅手方向両端部には、硬化膜２を形成する前に予めナーリング加工を行ってナーリング部を形成しておいてもよいし、ナーリング部を形成していなくてもよい。フィルム基材１に予めナーリング部を形成していた場合は、硬化膜２へのナーリング部３の形成の際に、フィルム基材１上に追加でナーリング部４を形成（積層）することになる。勿論、図２のように、硬化膜２がフィルム基材１の端部まで形成されている場合は、硬化膜２に対してのみナーリング加工を行って硬化膜２の表面にのみナーリング部３を形成することになる（ナーリング部４は形成されない）。
　本実施形態のように、硬化膜２の表面にナーリング加工を施してナーリング部３を形成することにより、ナーリング部３を硬化膜２と同じ硬さで形成することができる。これにより、フィルム基材１が１０～４０μｍと薄い光学フィルムＦを巻き取る場合でも、その自重や押圧力によってナーリング部３がつぶれにくくなり、巻芯方向の巻きずれや、ブロッキングを抑えることができる。また、ブロッキングを抑えることにより、光学フィルムＦの幅手方向の厚みムラに起因するブラックバンド（周方向に現れる帯状のスジ）の発生も抑えることができる。
　また、幅手方向の長さが５０ｍｍの第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、幅手方向の２０～１００％の範囲をそれぞれ覆うように硬化膜２を形成することで、硬化膜２の形成範囲が上述したように幅手方向に１０～５０ｍｍとなる。これにより、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２の硬化膜２の表面に、ナーリング部３を幅手方向に３ｍｍ以上にわたって形成することが可能となる。そして、このように（幅手方向に３ｍｍ以上にわたって）硬化膜２の表面にナーリング部３を形成することにより、幅手方向すなわち巻芯方向に対する耐性を確実に増大させることができる。また、ナーリング部３を幅手方向に３ｍｍ以上と広い範囲で形成することで、ナーリング部３の強度も確実に確保できる。その結果、薄い光学フィルムＦの巻き取り時の巻芯方向の巻きずれおよびブロッキングを確実に抑えることができる。
　また、本実施形態では、硬化膜２の弾性率は４．０ＧＰａ以上であり、硬化膜２が硬いので、硬化膜２の表面にナーリング加工を施すことで、上述した巻きずれおよびブロッキングを抑える機能を発揮する、硬いナーリング部３を確実に実現することができる。
　また、硬化膜２は、静止摩擦係数が低く、平滑で貼り付きやすいので、巻きずれやブロッキングを抑えることができる本実施形態の構成は、硬化膜２を含んだ状態での厚さが７０μｍ以下、さらには５０μｍ以下の薄膜の光学フィルムＦの長尺での巻き取りに非常に有効となる。このように光学フィルムＦの巻きずれやブロッキングを抑えながら、光学フィルムＦの長尺での巻き取りが可能になると、その後、光学フィルムＦを用いて偏光板を作製する際に、偏光板の生産性を向上させることができる。
　ところで、図３は、硬化膜２を拡大して示す断面図である。本実施形態では、ナーリング部３の高さｔは１～２５μｍである。ここで、ナーリング部３の高さｔとは、硬化膜２の表面において、ナーリング部３の凹凸が形成されていない表面（ナーリング加工を施す前の硬化膜２の表面）からの、ナーリング部３の凸部３ａの高さ（最大高さ）を指す。ナーリング部３の高さｔは、ナーリング加工時に用いるエンボスロールの硬化膜２に対する押圧力を調整することで制御することができる。
　ナーリング部３の高さｔが１μｍ未満である場合、ナーリング３による巻きずれ抑制の効果が小さくなるとともに、フィルム巻き取り時にフィルム同士のブロッキングが生じやすくなる。一方、ナーリング部３の高さｔが２５μｍを超えると、フィルム巻き取り時にナーリング部３の凸部３ａが幅手方向内側に倒れやすくなって、幅手方向に沿った断面内で巻き取ったロールに反り（変形）が発生しやすくなり、良好な巻き姿を確保することが困難となる。
　したがって、ナーリング部３の高さｔを１～２５μｍの範囲とすることにより、フィルム巻き取り時の巻きずれおよびブロッキングを抑えながら、ロールの変形を抑えて巻き姿を良好にすることができる。
　また、本実施形態では、硬化膜２表面におけるナーリング部３の凸部３ａの個数（密度）は、１ｃｍ2あたり１０～１４０個となっている。なお、凸部３ａの個数は、表面において型となる凸部の単位面積あたりの個数が異なる複数のエンボスロールの中から適切なものを選択してナーリング加工を行うことで調整することができる。
　ナーリング部３の凸部３ａの個数が１０個／ｃｍ2未満であると、凸部３ａの数が少なすぎてナーリング部３の機能、すなわち、上記した巻きずれおよびブロッキングを抑える機能を効率よく発揮することができなくなる。一方、凸部３ａの個数が１４０個／ｃｍ2を超えると、フィルム破断の危険性が高くなる。つまり、凸部３ａの個数が１４０個／ｃｍ2を超えるようなナーリング加工を行うと、フィルム基材１に与えるダメージが増大し、フィルム基材１の幅手方向の強度が低下するため、フィルム破断の危険性が高くなる。
　したがって、ナーリング部３の凸部３ａの個数を１０～１４０個／ｃｍ2とすることにより、巻きずれおよびブロッキングを抑えるナーリング部３の機能を確実に発揮させながら、フィルムの破断を抑制することができる。
　なお、フィルム基材１上への硬化膜２の形成時に、硬化膜材料をフィルム基材１の端部ぎりぎりまで塗布すると、その硬化膜材料がフィルム基材１の裏面に回り込み、その裏面にも硬化膜が形成されるおそれがある。このような事態を回避するためには、フィルム基材１の端部から少なくとも５ｍｍ離れた位置から幅手方向内側（端部とは反対側）に、硬化膜材料を塗布して硬化膜２を形成することが望ましい。
　なお、以上では、硬化膜２上に反射防止層などの機能性層を設けていないが、機能性層を設ける場合でも、上述した本実施形態の構成を適用することができる。すなわち、硬化膜２上に機能性層を設けるとともに、その機能性層の幅手方向外側の硬化膜２上にナーリング部３を形成することで、光学フィルムＦの巻きずれ等を抑えることができる。なお、ナーリング部３は、機能性層の形成前に硬化膜２表面に形成されてもよいし、機能性層の形成後に形成されてもよい。
　特に、機能性層として、防汚性向上のためにフッ素系の活性剤を含む層（防汚層）を設けた場合には、巻きずれ等が生じやすいので、この場合には、硬化膜２上にナーリング部３を設ける本実施形態の構成が非常に有効となる。
　〔各層の詳細〕
　以下、上記した光学フィルムＦの各層の詳細について説明する。
　〔ハードコート層〕
　上記した硬化膜としてのハードコート層は、活性エネルギー線硬化型樹脂で形成されている。活性エネルギー線硬化型とは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいい、具体的にはエチレン性不飽和基を有する樹脂である。活性エネルギー線硬化型樹脂には、活性エネルギー線硬化型イソシアヌレート誘導体と、イソシアヌレート誘導体以外の活性エネルギー線硬化型樹脂との両者が含まれる。
　＜活性エネルギー線硬化型イソシアヌレート誘導体＞
　活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体としては、イソシアヌル酸骨格に１個以上のエチレン性不飽和基が結合した構造を有する化合物であればよく、特に制限はないが、下記一般式（１）で示される同一分子内に３個以上のエチレン性不飽和基及び１個以上のイソシアヌレート環を有する化合物が好ましい。エチレン性不飽和基の種類は、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、ビニルエーテル基であり、より好ましくはメタクリロイル基又はアクリロイル基であり、特に好ましくはアクリロイル基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　式中のＬ2は、２価の連結基であり、好ましくは、イソシアヌレート環に炭素原子が結合している置換又は無置換の炭素原子数４以下のアルキレンオキシ基またはポリアルキレンオキシ基であり、特に好ましくはアルキレンオキシ基であり、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。Ｒ2は、水素原子またはメチル基を表し、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。一般式（１）で示される具体的化合物を以下に示すが、これらに限られない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　その他の化合物としては、イソシアヌル酸ジアクリレート化合物が挙げられ、下記一般式（２）で表されるイソシアヌル酸エトキシ変性ジアクリレートが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　また、その他として、ε－カプロラクトン変性の活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体を挙げることもでき、具体的には下記一般式（３）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　上記化学構造式のＲ1～Ｒ3の－には、下記ａ，ｂ，ｃで示される官能基が付くが、Ｒ1～Ｒ3の少なくとも一つはｂの官能基である。
　ａ：－Ｈ、もしくは－（ＣＨ2）ｎ－ＯＨ（ｎ＝１～１０、好ましくはｎ＝２～６）
　ｂ：－（ＣＨ2）ｎ－Ｏ－（ＣＯＣ5Ｈ10）ｍ－ＣＯＣＨ＝ＣＨ2（ｎ＝１～１０、好ましくはｎ＝２～６、ｍ＝２～８）
　ｃ：－（ＣＨ2）ｎ－Ｏ－Ｒ（Ｒは（メタ）アクリロイル基、ｎ＝１～１０、好ましくはｎ＝２～６）
　一般式（３）で示される具体的化合物を以下に示すが、これらに限られない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　イソシアヌル酸トリアクリレート化合物の市販品としては、例えば新中村化学工業株式会社製Ａ－９３００などが挙げられる。イソシアヌル酸ジアクリレート化合物の市販品としては、例えば東亞合成株式会社製アロニックスＭ－２１５などが挙がられる。イソシアヌル酸トリアクリレート化合物及びイソシアヌル酸ジアクリレート化合物の混合物としては、例えば東亞合成株式会社製アロニックスＭ－３１５、アロニックスＭ－３１３などが挙げられる。
　ε－カプロラクトン変性の活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体としては、ε－カプロラクトン変性トリス－（アクリロキシエチル）イソシアヌレートである新中村化学工業株式会社製Ａ－９３００－１ＣＬ、東亞合成株式会社製アロニックスＭ－３２７などを挙げることができるが、これらに限定されない。
　＜イソシアヌレート誘導体以外の活性エネルギー線硬化型樹脂＞
　イソシアヌレート誘導体以外の活性エネルギー線硬化型樹脂としては、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも、紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。
　紫外線硬化型アクリレート系樹脂としては、多官能アクリレートが好ましい。該多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、およびジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に２個以上のアクリロイルオキシ基またはメタクロイルオキシ基を有する化合物である。
　多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等が好ましく挙げられる。
　イソシアヌレート誘導体以外の活性エネルギー線硬化型樹脂としては、単官能アクリレートを用いてもよい。単官能アクリレートとしては、イソボロニルアクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソオクチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベヘニルアクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレート、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートなどが挙げられる。単官能アクリレートとしては、新中村化学工業株式会社や大阪有機化学工業株式会社等から入手できる。これらの化合物は、それぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの２量体、３量体等のオリゴマーであってもよい。
　多官能アクリレートの粘度は、２５℃における粘度が３０００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、２０００ｍＰａ・ｓ以下であることがさらに好ましい。なお、上記の粘度は、Ｂ型粘度計を用いて２５℃の条件にて測定した値である。
　また、ハードコート層に活性エネルギー線硬化型イソシアヌレート誘導体とイソシアヌレート誘導体以外の活性エネルギー線硬化型樹脂を併用して用いる場合には、活性エネルギー線硬化型イソシアヌレート誘導体（Ａ）とイソシアヌレート誘導体以外の活性エネルギー線硬化型樹脂（Ｂ）との含有質量比を、（Ａ）：（Ｂ）＝１０：９０～５０：５０の範囲で用いることで、膜強度（耐擦傷性）に優れる点で好ましい。
　ハードコート層には、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化促進のため、光重合開始剤を含有させることが好ましい。光重合開始剤の量としては、質量比で、光重合開始剤：活性エネルギー線硬化型樹脂＝２０：１００～０．０１：１００であることが好ましい。
　光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α－アミロキシムエステル、チオキサントン等および、これらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。
　また、ブロッキングの防止や、対擦り傷性等を高めるために、無機または有機の微粒子を活性エネルギー線硬化型樹脂に加えることが好ましい。無機微粒子としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＴＯ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。特に、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム等が好ましく用いられる。
　これら無機微粒子は、光学フィルムの透明性を維持しつつ耐擦傷性が向上することから、表面の一部に反応性官能基を有する有機成分が被覆されたものが好ましい。表面の一部に反応性官能基を有する有機成分が被覆される態様としては、例えば、金属酸化物微粒子の表面に存在する水酸基にシランカップリング剤等の有機成分を含む化合物が反応して、表面の一部に有機成分が結合した態様、金属酸化物微粒子の表面に存在する水酸基に水素結合等の相互作用により有機成分を付着させた態様や、ポリマー粒子中に１個又は２個以上の無機微粒子を含有する態様などが挙げられる。
　また、有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を用いることができる。
　好ましい有機微粒子としては、架橋ポリスチレン粒子（例えば、綜研化学製ＳＸ－１３０Ｈ、ＳＸ－２００Ｈ、ＳＸ－３５０Ｈ）、ポリメチルメタクリレート系粒子（例えば、綜研化学製ＭＸ１５０、ＭＸ３００）、フッ素含有アクリル樹脂微粒子が挙げられる。フッ素含有アクリル樹脂微粒子としては、例えば日本ペイント製：ＦＳ－７０１等の市販品が挙げられる。また、アクリル粒子として、例えば日本ペイント製：Ｓ－４０００、アクリル－スチレン粒子として、例えば日本ペイント製：Ｓ－１２００、ＭＧ－２５１等が挙げられる。
　これらの微粒子粉末の平均粒子径は特に制限されないが、０．０１～５μｍが好ましく、０．０１～１．０μｍであることが特に好ましい。また、粒径の異なる２種以上の微粒子を含有してもよい。微粒子の平均粒子径は、例えばレーザー回折式粒度分布測定装置により測定することができる。
　紫外線硬化樹脂組成物と微粒子との割合は、樹脂組成物１００質量部に対して、１０～４００質量部となるように微粒子を配合することが望ましく、更に望ましくは、５０～２００質量部である。
　また、本実施形態に係るハードコート層は、溶剤で希釈したハードコート層塗布組成物を、以下の方法でフィルム基材上に塗布、乾燥、硬化して設けることが、ハードコート層とフィルム基材との層間密着が得られやすい点から好ましい。溶剤としては、ケトン類またはエステル類が好ましい。ケトン類としては、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどを挙げることができる、また、エステル類としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピルなどを挙げることができるが、これらには限定されない。その他の溶剤としては、アルコール類（エタノール、メタノール、ブタノール、ｎ－プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ジアセトンアルコール）、炭化水素類（トルエン、キシレン、ベンゼン、シクロヘキサン）、グリコールエーテル類（プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテルなど）などを好ましく用いることができる。
　活性エネルギー線硬化型樹脂１００質量部に対して、これらの溶剤を２０～２００質量部の範囲で用いることで、塗布組成物としての安定性に優れる。
　また、ハードコート層塗布組成物の塗布量は、ウェット膜厚で０．１～４０μｍが適当で、好ましくは、０．５～３０μｍであり、ドライ膜厚では、平均膜厚０．１～３０μｍ、好ましくは１～２０μｍ、特に好ましくは４～１５μｍである。
　ハードコート層は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイ（押し出し）コーター、インクジェット法等公知の塗布方法を用いて、ハードコート層を形成するハードコート層塗布組成物を塗布した後、乾燥し、ＵＶ硬化処理し、更に必要に応じて、ＵＶ硬化に加熱処理することで形成できる。
　ＵＶ硬化処理に用いる光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。照射条件は、それぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ2、好ましくは１００～５００ｍＪ／ｃｍ2である。
　また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅手方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は３０～３００Ｎ／ｍが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅手方向、または２軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性の優れたフィルムを得ることができる。
　ハードコート層には、帯電防止性を付与するために導電剤を含ませてもよい。好ましい導電剤としては、金属酸化物粒子またはπ共役系導電性ポリマーが挙げられる。また、イオン液体も導電性化合物として好ましく用いられる。また、ハードコート層には、塗布性の観点、及び微粒子の均一な分散性の観点から、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤或いはポリオキシエーテル等の非イオン性界面活性剤、アニオン界面活性剤、及びフッ素－シロキサングラフトポリマーを含有させてよい。フッ素－シロキサングラフトポリマーとは、少なくともフッ素系樹脂に、シロキサン及び／またはオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン及び／またはオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体のポリマーをいう。市販品としては、富士化成工業株式会社製のＺＸ－０２２Ｈ、ＺＸ－００７Ｃ、ＺＸ－０４９、ＺＸ－０４７－Ｄ等を挙げることができる。またこれら成分は、塗布液中の固形分成分に対し、０．０１～３質量％の範囲で添加することが好ましい。
　ハードコート層は、１層であってもよく、複数の層であってもよい。ハードコート層のハードコート性、ヘーズ、算術表面粗さＲａを制御し易くするために、ハードコート層を２層以上に分割して設けてもよい。また、ハードコート層は、フィルム基材の両面に設けてもよい。
　ハードコート層を２層以上設ける場合の最上層の膜厚は、０．０５～２μｍの範囲であることが好ましい。２層以上の積層は同時重層で形成してもよい。同時重層とは、乾燥工程を経ずに基材上に２層以上のハードコート層をｗｅｔ　ｏｎ　ｗｅｔで塗布して、ハードコート層を形成する手法である。第１ハードコート層の上に乾燥工程を経ずに、第２ハードコート層をｗｅｔ　ｏｎ　ｗｅｔで積層するには、押し出しコーターにより逐次重層するか、若しくは複数のスリットを有するスロットダイにて同時重層を行えばよい。
　ハードコート層は、硬度の指標で有る鉛筆硬度が、Ｈ以上であり、より好ましくは４Ｈ以上である。４Ｈ以上であれば、液晶表示装置の偏光板化工程で、傷が付きにくいばかりではなく、屋外用途で用いられることが多い、大型の液晶表示装置や、デジタルサイネージ用液晶表示装置の表面フィルム基材として用いた際も優れた膜強度を示す。鉛筆硬度は、作製した光学フィルムを温度２３℃、相対湿度５５％の条件で２時間以上調湿した後、ＪＩＳ（Japanese　Industrial　Standards  Committee；日本工業標準調査会）の規格の一つである、ＪＩＳ　Ｓ　６００６に規定されている試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ　Ｋ５４００に規定されている鉛筆硬度評価方法に従い測定した値である。
　＜ヘーズ＞
　本実施形態の光学フィルムのヘーズ値は、クリア光学フィルムでは、１％以下が好ましい。ヘーズ値を１％以下とすることで、大型化された液晶表示装置やデジタルサイネージ等の屋外で用いられる際の、十分な輝度や高いコントラストが得られる。ヘーズ値は、ＪＩＳ　Ｋ７１０５及びＪＩＳ　Ｋ７１３６に準じて測定することができる。
　また、本実施形態の光学フィルムは、防眩性を有してもよい。防眩性とは、光学フィルムのハードコート層で反射した像や外光の輪郭をぼかす機能であり、反射像の視認性を低下させて、液晶ディスプレイ等に光学フィルムを使用したときに、反射像の映り込みが気にならないようにすることである。防眩性を有した光学フィルムでは、全ヘーズ値は、３％～４０％であることが好ましい。また、表面ヘーズ値（フィルムの表面散乱に起因するヘーズ）は、３～４０％であることが好ましく、内部ヘーズ値（内部散乱に起因するヘーズ）は３５％以下が好ましい。
　〔フィルム基材〕
　フィルム基材は、製造が容易であることから、トリアセチルセルロースフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルムが好ましい。その他フィルムとして、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等をフィルム基材に用いることができる。前記したフィルムを構成する樹脂は併用して用いてもよい。
　フィルム基材の屈折率は、１．３０～１．７０であることが好ましく、１．４０～１．６５であることがより好ましい。屈折率は、アタゴ社製　アッペ屈折率計２Ｔを用いてＪＩＳ　Ｋ７１４２の方法で測定することができる。
　＜セルロースエステル系フィルム＞
　セルロースエステル系フィルムは、セルローストリアセテートの場合には、平均酢化度（結合酢酸量）５４．０～６２．５％のものが好ましく用いられ、更に好ましくは、平均酢化度が５８．０～６２．５％のセルローストリアセテートフィルムである。平均酢化度が小さいと、寸法変化が大きく、また偏光板の偏光度が低下する。平均酢化度が大きいと、溶剤に対する溶解度が低下し、生産性が下がる。
　フィルム基材は、アセチル基置換度が２．８０～２．９５であって、数平均分子量（Ｍｎ）が１２５０００以上１５５０００未満であるセルローストリアセテートＡを含有することが好ましい。また、セルローストリアセテートＡは、重量平均分子量（Ｍｗ）が２６５０００以上３１００００未満、Ｍｗ／Ｍｎが１．９～２．１であるものが好ましい。
　また、鉛筆硬度が向上する点から、アセチル基置換度が２．７５～２．９０であって、数平均分子量（Ｍｎ）が１５５０００以上１８００００未満、Ｍｗが２９００００以上３６００００未満、Ｍｗ／Ｍｎが１．８～２．０であるセルローストリアセテートＢをセルローストリアセテートＡに併用することが好ましい。セルローストリアセテートＡとセルローストリアセテートＢを併用する場合には、質量比でセルローストリアセテートＡ：セルローストリアセテートＢ＝１００：０～２０：８０の範囲であることが好ましい。
　セルローストリアセテート以外では、炭素原子数２～４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＹとしたときに、下記式（Ｉ）および（II）を同時に満たすセルロースエステルを用いることができる。
　式（Ｉ）　２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
　式（II）　０≦Ｘ≦２．５
　その中では、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく、中でも１．９≦Ｘ≦２．５、０．１≦Ｙ≦０．９であることが好ましい。アシル基置換度の測定は、ＡＳＴＭ（American　Society  for　Testing  and　Materials；米国試験材料協会）が策定・発行する規格の一つである、ＡＳＴＭ　Ｄ８１７－９６に準じて行うことができる。また、セルロースジアセテートも好ましく用いることができる。
　セルロースエステルの数平均分子量（Ｍｎ）および分子量分布（Ｍｗ）は、高速液体クロマトグラフィーを用いて測定することができる。測定条件は以下の通りである。
　溶媒：メチレンクロライド
　カラム：Ｓｈｏｄｅｘ　Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
　カラム温度：２５℃
　試料濃度：０．１質量％
　検出器：ＲＩ　Ｍｏｄｅｌ　５０４（ＧＬサイエンス社製）
　ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
　流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
　校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ　ｓｔａｎｄａｒｄ　ポリスチレン（東ソー（株）製）
　Ｍｗ＝１００００００～５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
　＜エステル化合物＞
　セルロースエステル系フィルムは、耐透湿性に優れる点から、エステル化合物を含有することが好ましい。エステル化合物としては、フタル酸、アジピン酸、少なくとも一種のベンゼンモノカルボン酸および少なくとも一種の炭素数２～１２のアルキレングリコールを反応させた構造を有するエステル化合物が好ましい。
　ベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、ｐ－トルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ１種または２種以上の混合物として使用することができる。安息香酸であることが最も好ましい。
　炭素数２～１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２－プロピレングリコール、１，３－プロピレングリコール、１，２－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，２－プロパンジオール、２－メチル１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、２，２－ジメチル－１，３－プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２－ジエチル－１，３－プロパンジオール（３，３－ジメチロールペンタン）、２－ｎ－ブチル－２－エチル－１，３プロパンジオール（３，３－ジメチロールヘプタン）、３－メチル－１，５－ペンタンジオール１，６－ヘキサンジオール、２，２，４－トリメチル１，３－ペンタンジオール、２－エチル１，３－ヘキサンジオール、２－メチル１，８－オクタンジオール、１，９－ノナンジオール、１，１０－デカンジオール、１，１２－オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用される。特に１，２－プロピレングリコールが好ましい。
　前記エステル化合物は、最終的な化合物の構造として、アジピン酸残基およびフタル酸残基を有していればよい。
　前記エステル化合物は、必要に応じてエステル化触媒の存在下で、例えば１８０～２５０℃の温度範囲内で、１０～２５時間混合させ、エステル化反応させることによって製造することができる。
　更に、エステル化合物としては、芳香族末端エステル化合物も用いることができる。芳香族末端エステル化合物の例示化合物を以下に示すが、これらに限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　また、エステル化合物としては、糖エステル系化合物も挙げることができる。糖エステル系化合物は、下記単糖、二糖、三糖またはオリゴ糖などの糖のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化した化合物であり、より具体的な例示としては、一般式（４）で表わされる化合物などをあげることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　式中、Ｒ1～Ｒ8は、置換又は無置換の炭素数２～２２のアルキルカルボニル基、或いは、置換又は無置換の炭素数２～２２のアリールカルボニル基を表す。Ｒ1～Ｒ8は、同じであっても、異なっていてもよい。
　以下に一般式（４）で示される化合物をより具体的に（化合物４－１～化合物４－２３として）示すが、これらに限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　前記エステル化合物においては、数平均分子量が、好ましくは３００～２０００、より好ましくは４００～１５００である。また、酸価は、０．０８～０．５０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。水酸基価は、２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、より好ましくは１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。
　前記エステル化合物は、フィルム基材中に１～３５質量％、特に５～３０質量％含まれることが好ましい。この範囲内であれば、ブリードアウトなどもなく、透明性に優れる。
　セルロースエステル系フィルムは、熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂を含有しても良い。
　アクリル樹脂には、メタクリル樹脂も含まれる。アクリル樹脂としては、特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位５０～９９質量％、およびこれと共重合可能な他の単量体単位１～５０質量％からなるものが好ましい。共重合可能な他の単量体としては、アルキル数の炭素数が２～１８のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が１～１８のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β－不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α－メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β－不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ－置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられる。これらは単独で用いることもできるし、２種以上の単量体を併用して用いることもできる。
　これらの中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ－プロピルアクリレート、ｎ－ブチルアクリレート、ｓ－ブチルアクリレート、２－エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやｎ－ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。
　また、アクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は８００００～５０００００であることが好ましく、更に好ましくは、１１００００～５０００００の範囲内である。アクリル樹脂の重量平均分子量は、測定条件含めて、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。また、市販品としてはデルペット６０Ｎ、８０Ｎ（旭化成ケミカルズ（株）製）、ダイヤナールＢＲ５２、ＢＲ８０，ＢＲ８３，ＢＲ８５，ＢＲ８８（三菱レイヨン（株）製）、ＫＴ７５（電気化学工業（株）製）等が挙げられる。アクリル樹脂は２種以上を併用することもできる。
　＜添加剤＞
　フィルム基材の脆性を改善する目的で、アクリル粒子を含有してもよい。アクリル粒子の市販品の例としては、例えば、メタブレンＷ－３４１（Ｃ２）（三菱レイヨン（株）製）を、ケミスノーＭＲ－２Ｇ（Ｃ３）、ＭＳ－３００Ｘ（Ｃ４）（綜研化学（株）製）等を挙げることができる。
　アクリル微粒子は、フィルム基材を形成する樹脂の総質量に対して、０．５％～３０％の範囲で含有させることが好ましい。
　（微粒子）
　フィルム基材は、アクリル微粒子以外の微粒子を含有してもよい。アクリル微粒子以外の微粒子としては、滑り性、保管安定性の観点から二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等の無機微粒子が好ましい。
　これら無機微粒子の中では、濁度が低い点で、二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素は疎水化処理をされたものが滑り性とヘーズを両立する上で好ましい。４個のシラノール基のうち、２個以上が疎水性の置換基で置き換わったものが好ましく、３個以上が置き換わったものがより好ましい。疎水性の置換基はメチル基であることが好ましい。二酸化珪素の一次粒径は２０ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。
　二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。これらの中でも、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖがフィルム基材のヘーズを低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく、アエロジルＲ８１２が最も好ましく用いられる。フィルム基材においては、少なくとも一方の面の動摩擦係数が０．２～１．０であることが好ましい。
　（その他の添加剤）
　フィルム基材には、組成物の流動性や柔軟性を向上するために、可塑剤を添加することもできる。可塑剤としては、フタル酸化合物、脂肪酸化合物、トリメリット酸化合物、リン酸化合物、アクリル系ポリマー、あるいはエポキシ系化合物等が挙げられる。
　アクリル系ポリマーとしては、アクリル酸またはメタクリル酸アルキルエステルのホモポリマーまたはコポリマーが好ましい。アクリル酸エステルのモノマーとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ－、ｎ－）、アクリル酸ブチル（ｎ－、ｉ－、ｓ－、ｔ－）、アクリル酸ペンチル（ｎ－、ｉ－、ｓ－）、アクリル酸ヘキシル（ｎ－、ｉ－）、アクリル酸ヘプチル（ｎ－、ｉ－）、アクリル酸オクチル（ｎ－、ｉ－）、アクリル酸ノニル（ｎ－、ｉ－）、アクリル酸ミリスチル（ｎ－、ｉ－）、アクリル酸（２－エチルヘキシル）、アクリル酸（ε－カプロラクトン）、アクリル酸（２－ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２－ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３－ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４－ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２－ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２－メトキシエチル）、アクリル酸（２－エトキシエチル）等、又は上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができる。アクリル系ポリマーは上記モノマーのホモポリマーまたはコポリマーであるが、アクリル酸メチルエステルモノマー単位が３０質量％以上を有していることが好ましく、またメタクリル酸メチルエステルモノマー単位が４０質量％以上有することが好ましい。特にアクリル酸メチルまたはメタクリル酸メチルのホモポリマーが好ましい。
　用途に応じてこれらの可塑剤を選択、あるいは併用して用いることができる。また、可塑剤の添加量は、フィルム基材１００質量部に対して、０．５～３０質量部であることが好ましい。
　フィルム基材は、紫外線吸収剤を含有することも好ましい。用いられる紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、２－ヒドロキシベンゾフェノン系またはサリチル酸フェニルエステル系のもの等が挙げられる。例えば、２－（５－メチル－２－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－［２－ヒドロキシ－３，５－ビス（α，α－ジメチルベンジル）フェニル］－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、２－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－２－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－オクトキシベンゾフェノン、２，２′－ジヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類を例示することができる。ここで、紫外線吸収剤のうちでも、分子量が４００以上の紫外線吸収剤は、高沸点で揮発しにくく、高温成形時にも飛散しにくいため、比較的少量の添加で効果的に耐候性を改良することができる。
　分子量が４００以上の紫外線吸収剤としては、２－［２－ヒドロキシ－３，５－ビス（α，α－ジメチルベンジル）フェニル］－２－ベンゾトリアゾール、２，２－メチレンビス［４－（１，１，３，３－テトラブチル）－６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェノール］等のベンゾトリアゾール系、ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）セバケート等のヒンダードアミン系、さらには２－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－２－ｎ－ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）、１－［２－［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］－４－［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン等の分子内にヒンダードフェノールとヒンダードアミンの構造を共に有するハイブリッド系のものが挙げられ、これらは単独で、あるいは２種以上を併用して使用することができる。これらのうちでも、２－［２－ヒドロキシ－３，５－ビス（α，α－ジメチルベンジル）フェニル］－２－ベンゾトリアゾールや２，２－メチレンビス［４－（１，１，３，３－テトラブチル）－６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェノール］が特に好ましい。
　さらに、フィルム基材には、成形加工時の熱分解性や熱着色性を改良するために各種の酸化防止剤を添加することもできる。また帯電防止剤を加えて、フィルム基材に帯電防止性能を与えることも可能である。
　フィルム基材には、リン系難燃剤を配合した難燃アクリル系樹脂組成物を用いてもよい。ここで用いられるリン系難燃剤としては、赤リン、トリアリールリン酸エステル、ジアリールリン酸エステル、モノアリールリン酸エステル、アリールホスホン酸化合物、アリールホスフィンオキシド化合物、縮合アリールリン酸エステル、ハロゲン化アルキルリン酸エステル、含ハロゲン縮合リン酸エステル、含ハロゲン縮合ホスホン酸エステル、含ハロゲン亜リン酸エステル等から選ばれる１種、あるいは２種以上の混合物を挙げることができる。
　具体的な例としては、トリフェニルホスフェート、９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナンスレン－１０－オキシド、フェニルホスホン酸、トリス（β－クロロエチル）ホスフェート、トリス（ジクロロプロピル）ホスフェート、トリス（トリブロモネオペンチル）ホスフェート等が挙げられる。
　デジタルサイネージ等の屋外用途への利用により、より高い輝度が求められていることから、フィルム基材は、より高温の環境下での使用に耐えられることが求められている。フィルム基材の張力軟化点が１０５℃～１４５℃であれば、十分な耐熱性を示すものと判断でき、好ましく、特に１１０℃～１３０℃に制御することが好ましい。
　張力軟化点の具体的な測定方法としては、例えば、テンシロン試験機（ＯＲＩＥＮＴＥＣ社製、ＲＴＣ－１２２５Ａ）を用いて、光学フィルムを１２０ｍｍ（縦）×１０ｍｍ（幅）で切り出し、１０Ｎの張力で引っ張りながら３０℃／ｍｉｎの昇温速度で昇温を続け、９Ｎになった時点での温度を３回測定し、その平均値により求めることができる。
　また、耐熱性の観点で、フィルム基材は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１１０℃以上であることが好ましい。より好ましくは１２０℃以上である。特に好ましくは１５０℃以上である。
　なお、ここでいうガラス転移温度とは、示差走査熱量測定器（Ｐｅｒｋｉｎ　Ｅｌｍｅｒ社製ＤＳＣ－７型）を用いて、昇温速度２０℃／分で測定し、ＪＩＳ　Ｋ７１２１（１９８７）に従い求めた中間点ガラス転移温度（Ｔｍｇ）である。
　また、フィルム基材を、特に屋外で使用される液晶表示装置に用いられる場合、フィルム基材の寸法変化率（％）は０．５％未満が好ましく、更に、０．３％未満であることが好ましい。
　また、フィルム基材において、フィルム面内の直径５μｍ以上の欠点が１個／１０ｃｍ四方以下であることが好ましい。更に好ましくは０．５個／１０ｃｍ四方以下、一層好ましくは０．１個／１０ｃｍ四方以下である。ここで、欠点とは、溶液製膜の乾燥工程において溶媒の急激な蒸発に起因して発生するフィルム中の空洞（発泡欠点）や、製膜原液中の異物や製膜中に混入する異物に起因するフィルム中の異物（異物欠点）、さらには、ロール傷の転写や擦り傷など、表面形状が変化している部分を言う。また、欠点の直径とは、欠点が円形の場合はその直径を示し、円形でない場合は欠点の範囲を下記方法により顕微鏡で観察して決定し、その最大径（外接円の直径）とする。
　欠点の範囲は、欠点が気泡や異物の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の透過光で観察したときの影の大きさである。欠点が、ロール傷の転写や擦り傷など、表面形状の変化の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の反射光で観察して大きさを確認する。なお、反射光で観察する場合に、欠点の大きさが不明瞭であれば、表面にアルミや白金を蒸着して観察する。
　かかる欠点頻度にて表される、品位に優れたフィルムを生産性よく得るには、ポリマー溶液を流延直前に高精度濾過することや、流延機周辺のクリーン度を高くすること、また、流延後の乾燥条件を段階的に設定し、効率よくかつ発泡を抑えて乾燥させることが有効である。
　欠点の個数が１個／１０ｃｍ四方より多いと、例えば後工程での加工時などでフィルムに張力がかかると、欠点を基点としてフィルムが破断して生産性が低下する場合がある。また、欠点の直径が５μｍ以上になると、偏光板観察などにより目視で確認でき、光学部材として用いたとき輝点が生じる場合がある。
　また、欠点を目視で確認できない場合でも、該フィルム上にハードコート層を形成したときに、ハードコート層塗布組成物が均一に塗布できず、欠点（塗布抜け）となる場合がある。
　また、フィルム基材は、ＪＩＳ　Ｋ７１２７（１９９９）に準拠した測定において、少なくとも一方向の破断伸度が、１０％以上であることが好ましく、より好ましくは２０％以上である。
　破断伸度の上限は特に限定されるものではないが、現実的には２５０％程度である。破断伸度を大きくするには異物や発泡に起因するフィルム中の欠点を抑制することが有効である。
　フィルム基材の厚さは、１０μｍ以上であることが好ましい。より好ましくは２０μｍ以上である。
　フィルム基材の厚さの上限は特に限定されるものではないが、溶液製膜法でフィルム化する場合は、塗布性、発泡、溶媒乾燥などの観点から、上限は２５０μｍ程度である。なお、フィルム基材の厚さは用途により適宜選定することができる。
　したがって、本実施形態のフィルム基材の厚さは、１０～２５０μｍであることが好ましく、２０～１００μｍであることがより好ましい。なお、光学部材の薄膜化の観点からは、１０～４０μｍであることが特に好ましい。
　フィルム基材は、その全光線透過率が９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９３％以上である。また、現実的な上限としては、９９％程度である。かかる全光線透過率にて表される優れた透明性を達成するには、可視光を吸収する添加剤や共重合成分を導入しないようにすることや、ポリマー中の異物を高精度濾過により除去し、フィルム内部の光の拡散や吸収を低減させることが有効である。
　また、フィルム基材のリターデーションは、波長５９０ｎｍにおける面内リターデーションＲｏが０～５０ｎｍ、厚み方向のリターデーションＲｔｈが－１０～５０ｎｍ範囲が好ましい。当該範囲のリターデーションを有するフィルム基材を用いて光学フィルムを構成することで、光学フィルムを例えばタッチパネル用構成部材に用いた場合に、複屈折による干渉縞を良好に抑制できる。
　なお、上記のＲｏ及びＲｔｈは下記式（Ｉ）及び（II）で定義された値である。
　式（Ｉ）　Ｒｏ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ
　式（II）　Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ｝×ｄ
　ただし、式中、ｎｘはフィルム基材の面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム基材の面内で遅相軸に直交する方向の屈折率、ｎｚはフィルム基材の厚み方向の屈折率、ｄはフィルム基材の厚み（ｎｍ）をそれぞれ表す。上記のリターデーションは、例えばＫＯＢＲＡ－２１ＡＤＨ（王子計測機器（株））を用い、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、測定波長５９０ｎｍで求めることができる。
　リターデーションは、前述したエステル化合物や可塑剤の種類、添加量、及びフィルム基材の膜厚や延伸条件などで調整できる。
　また、製膜時のフィルム接触部（冷却ロール、カレンダーロール、ドラム、ベルト、溶液製膜における塗布基材、搬送ロールなど）の表面粗さを小さくしてフィルム表面の表面粗さを小さくすることや、アクリル樹脂の屈折率を小さくすることによりフィルム表面の光の拡散や反射を低減させることが有効である。
　（フィルム基材の製膜）
　次に、フィルム基材の製膜方法の例について説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
　フィルム基材の製膜方法としては、インフレーション法、Ｔ－ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できる。着色抑制、異物欠点の抑制、ダイラインなどの光学欠点の抑制などの観点からは、流延法による製膜が好ましい。流延法による製膜には、溶液流延法と溶融流延法とがある。
　（有機溶媒）
　フィルム基材を溶液流延法で製造する場合のドープを形成するのに有用な有機溶媒は、セルロースエステル系樹脂や、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。
　例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３－ジオキソラン、１，４－ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２－トリフルオロエタノール、２，２，３，３－ヘキサフルオロ－１－プロパノール、１，３－ジフルオロ－２－プロパノール、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－メチル－２－プロパノール、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロパノール、２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－１－プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができ、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。
　ドープには、上記有機溶媒の他に、１～４０質量％の炭素原子数１～４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ないときは、非塩素系有機溶媒系でのアクリル樹脂、セルロースエステル樹脂の溶解が促進される。
　特に、メチレンクロライド、及び炭素数１～４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有する溶媒に、アクリル樹脂と、セルロースエステル樹脂と、アクリル粒子の３種を、少なくとも計１５～４５質量％溶解させたドープ組成物であることが好ましい。
　炭素原子数１～４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノールを挙げることができる。これらのうち、ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等から、エタノールが好ましい。
　（溶液流延法）
　フィルム基材は、溶液流延法によって製造することができる。溶液流延法では、樹脂および添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状もしくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体からウェブを剥離する工程、ウェブを延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻き取る工程により行われる。
　ドープ中のセルロースエステル系樹脂の濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステル系樹脂の濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０～３５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５～２５質量％である。
　流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。
　キャストの幅は１～４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は－５０℃～溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、あまり高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。
　金属支持体の温度は、０～１００℃の範囲で適宜決定されることが好ましく、５～３０℃が更に好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態で金属支持体から剥離することも好ましい方法である。
　金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。
　温風を用いる場合は、溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で金属支持体の温度および乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。
　セルロースエステル系フィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０～１５０質量％が好ましい。残留溶媒量の下限の好ましい範囲は、２０～４０質量％であり、特に好ましくは、２０～３０質量％である。残留溶媒量の上限の好ましい範囲は、６０～１３０質量％であり、特に好ましくは、７０～１２０質量％である。なお、残留溶媒量は下記式で定義される。
　残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ－Ｎ）／Ｎ｝×１００
　ここで、Ｍはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。
　また、セルロースエステルフィルム或いはセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０～０．０１質量％以下である。
　延伸工程では、ウェブ（フィルム）の搬送方向（ＭＤ方向；Machine  Direction）、及びこれに垂直な幅手方向（ＴＤ方向；Transverse　Direction）に対して、逐次または同時に延伸することができる。互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的にはＭＤ方向に１．０～２．０倍、ＴＤ方向に１．０７～２．０倍の範囲とすることが好ましく、ＭＤ方向に１．０～１．５倍、ＴＤ方向に１．０７～２．０倍の範囲で行うことが好ましい。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用してＭＤ方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げてＭＤ方向に延伸する方法、同様に横方向に広げてＴＤ方向に延伸する方法、或いはＭＤ／ＴＤ方向同時に広げてＭＤ／ＴＤ両方向に延伸する方法などが挙げられる。
　製膜工程のこれらの幅保持或いは幅手方向の延伸は、テンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。テンター内などにおける製膜工程でのフィルム搬送張力は、温度にもよるが、１２０Ｎ／ｍ～２００Ｎ／ｍが好ましく、１４０Ｎ／ｍ～２００Ｎ／ｍがさらに好ましく、１４０Ｎ／ｍ～１６０Ｎ／ｍが最も好ましい。
　フィルムを延伸する際の温度は、フィルム基材のガラス転移温度をＴｇ℃とすると、（Ｔｇ－３０）～（Ｔｇ＋１００）℃、より好ましくは（Ｔｇ－２０）～（Ｔｇ＋８０）℃、さらに好ましくは（Ｔｇ－５）～（Ｔｇ＋２０）℃である。
　フィルム基材のガラス転移温度は、フィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率によって制御することができる。フィルム基材の乾燥時のガラス転移温度は１１０℃以上が好ましく、さらに１２０℃以上がより好ましい。また、フィルム基材のガラス転移温度は１９０℃以下であることが好ましく、さらに１７０℃以下であることがより好ましい。このとき、フィルム基材のガラス転移温度は、ＪＩＳ　Ｋ７１２１に記載の方法などによって求めることができる。
　フィルムを延伸する際の温度を１５０℃以上とし、延伸倍率を１．１５倍以上にすると、表面が適度に粗面化するため好ましい。フィルム表面を適度に粗面化することは、滑り性を向上させるのみでなく、表面加工性、特にハードコート層の密着性が向上するため好ましい。フィルム基材の表面の算術平均粗さＲａは、好ましくは２．０ｎｍ～４．０ｎｍ、より好ましくは２．５ｎｍ～３．５ｎｍである。
　フィルム乾燥工程では、一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールにウェブを交互に通し乾燥させる方式）や、テンターでウェブを搬送しながら乾燥させる方式が採られる。
　（溶融流延法）
　フィルム基材は、溶融流延法によって製膜することもできる。溶融流延法は、樹脂および可塑剤などの添加剤を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性のセルロースエステルを含む溶融物を流延することをいう。フィルム形成材料が加熱されて、その流動性を発現させた後、ドラム上またはエンドレスベルト上に押出し製膜する方法も溶融流延法に含まれる。
　加熱溶融する成形法は、更に詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの成形法の中では、機械的強度および表面精度などの点から、溶融押出成形法が好ましい。溶融押出しに用いる複数の原材料は、通常予め混錬してペレット化しておくことが好ましい。
　ペレット化は、公知の方法を用いて行うことができる。例えば、乾燥セルロースエステルや可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出し機に供給し、１軸や２軸の押出し機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷または空冷し、カッティングすることでペレット化できる。
　添加剤は、押出し機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで押出し機に供給してもよい。
　粒子や酸化防止剤等少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。
　押出し機は、剪断力を抑え、樹脂が劣化（分子量低下、着色、ゲル生成等）しないようにペレット化可能で、なるべく低温で加工するものであることが好ましい。例えば、２軸押出し機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。
　以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。もちろんペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出し機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。
　上記ペレットを１軸や２軸タイプの押出し機を用いて押出す際の溶融温度を２００～３００℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどで濾過し異物を除去した後、Ｔダイからフィルム状に流延し、冷却ロールと弾性タッチロールとでフィルムをニップし、冷却ロール上で固化させる。
　供給ホッパーから押出し機へ材料を導入する際は、真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。また、ペレットの押出し流量は、ギヤポンプを導入するなどして安定に行うことが好ましい。
　また、異物の除去に用いるフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を、複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し、接触箇所を焼結し一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、濾過精度を調整できる。
　可塑剤や粒子などの添加剤は、予め樹脂と混合しておいてもよいし、押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサーなどの混合装置を用いることが好ましい。
　冷却ロールと弾性タッチロールとでフィルムをニップする際のタッチロール側のフィルム温度は、フィルムのＴｇ以上Ｔｇ＋１１０℃以下であることが好ましい。このような目的で使用する弾性タッチロールは、表面に弾性体を有する公知のロールを使用できる。弾性タッチロールは挟圧回転体とも呼ばれ、特許３１９４９０４号、特許３４２２７９８号、特開２００２－３６３３２号、特開２００２－３６３３３号などで開示されているタッチロールを好ましく用いることができる。また、市販されている弾性タッチロールを用いることもできる。
　冷却ロールからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。
　また、上記のようにして得られたフィルムは、冷却ロールに接する工程を通過後、延伸操作により延伸することが好ましい。延伸する方法は、公知のロール延伸機やテンターなどを好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のＴｇ～Ｔｇ＋６０℃の温度範囲で行われることが好ましい。
　製膜されたフィルムを巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きや、すり傷防止のために、ナーリング加工（エンボッシング加工）を両端に施してもよい。ナーリング加工は、凸凹のパターンを表面に有するエンボスロールを加熱してフィルムに押し付けることによって行うことができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は、通常、フィルムが変形しており、製品として使用できないので切除されて、再利用される。
　〔機能性層〕
　本実施形態の光学フィルムには、帯電防止層、バックコート層、反射防止層、易滑性層、接着層、バリアー層等の機能性層を設けることができる。
　（バックコート層）
　本実施形態の光学フィルムは、フィルム基材のハードコート層を設けた側とは反対側の面に、カールやくっつき防止のためにバックコート層を設けてもよい。
　バックコート層に添加される無機化合物の粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。
　バックコート層に含まれる粒子の量は、バインダーに対して０．１～５０質量％であることが好ましい。バインダーとしては、ジアセチルセルロース等のセルロースエステル樹脂が好ましい。
　また、バックコート層を設けた場合のヘーズの増加は１．５％以下であることが好ましく、０．５％以下であることが更に好ましく、特に０．１％以下であることが好ましい。
　（反射防止層）
　本実施形態の光学フィルムは、ハードコート層の上層に反射防止層を塗設して、外光反射防止機能を有する反射防止フィルムとして用いることができる。
　反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層数、層順等を考慮して積層されていることが好ましい。反射防止層は、支持体であるフィルム基材よりも屈折率の低い低屈折率層、もしくは支持体であるフィルム基材よりも屈折率の高い高屈折率層と低屈折率層とを組み合わせて構成されていることが好ましい。特に好ましくは、３層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる３層を、中屈折率層（支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているものが好ましく用いられる。または、２層以上の高屈折率層と２層以上の低屈折率層とを交互に積層した４層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。
　反射防止フィルムの層構成としては、下記のような構成が考えられるが、これに限定されるものではない。
　フィルム基材／ハードコート層／低屈折率層
　フィルム基材／ハードコート層／中屈折率層／低屈折率層
　フィルム基材／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
　フィルム基材／ハードコート層／高屈折率層（導電性層）／低屈折率層
　フィルム基材／ハードコート層／防眩性層／低屈折率層
　＜低屈折率層＞
　低屈折率層は、シリカ系微粒子を含有することが好ましく、その屈折率は、２３℃、測定波長５５０ｎｍにおいて、１．３０～１．４５の範囲であることが好ましい。
　低屈折率層の膜厚は、５ｎｍ～０．５μｍであることが好ましく、１０ｎｍ～０．３μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ～０．２μｍであることが最も好ましい。
　低屈折率層形成用組成物については、シリカ系微粒子として、特に外殻層を有し内部が多孔質または空洞の粒子を少なくとも１種類以上含むことが好ましい。特に該外殻層を有し内部が多孔質または空洞である粒子が、中空シリカ系微粒子であることが好ましい。
　なお、低屈折率層形成用組成物には、下記一般式（ＯＳｉ－１）で表される有機珪素化合物もしくはその加水分解物、或いは、その重縮合物を併せて含有させても良い。
　一般式（ＯＳｉ－１）：Ｓｉ（ＯＲ）4
　式中、Ｒは炭素数１～４のアルキル基を表す。前記一般式で表される有機珪素化合物として、具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。
　また、低屈折率層形成用組成物は、フッ素原子を３５～８０質量％の範囲で含み、且つ架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素化合物を主としてなる熱硬化性および／または光硬化性を有する化合物を含有してもよい。具体的には、含フッ素ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル化合物などである。含フッ素ポリマーとしては、例えばパーフルオロアルキル基含有シラン化合物〔例えば（ヘプタデカフルオロ－１，１，２，２－テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン〕の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。その他、溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を低屈折率層形成用組成物に添加してもよい。
　＜高屈折率層＞
　高屈折率層の屈折率は、２３℃、測定波長５５０ｎｍにおいて、１．４～２．２の範囲であることが好ましい。また、高屈折率層の厚さは、５ｎｍ～１μｍであることが好ましく、１０ｎｍ～０．２μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ～０．１μｍであることが最も好ましい。屈折率を調整する手段は、高屈折率層に金属酸化物微粒子等を添加することで達成できる。用いる金属酸化物微粒子の屈折率は、１．８０～２．６０であることが好ましく、１．８５～２．５０であることが更に好ましい。
　金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることができる。これらの金属酸化物微粒子には、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素、Ｔａなどの微量の原子がドープされていてもよく、また、これらの混合物であってもよい。中でも、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム－スズ（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも１種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが特に好ましい。特にアンチモン酸亜鉛粒子を含有することが好ましい。
　これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は、１０ｎｍ～２００ｎｍであり、１０ｎｍ～１５０ｎｍであることが特に好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができるが、動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘーズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、針状或いは不定形状であることが好ましい。
　金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理されてもよい。金属酸化物微粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑えることもできる。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は、金属酸化物微粒子に対して０．１質量％～５質量％、より好ましくは０．５質量％～３質量％である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でもシランカップリング剤が好ましい。また、二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。
　また、高屈折率層は、π共役系導電性ポリマーを含有してもよい。π共役系導電性ポリマーとは、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば使用することができる。例えば、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリアニリン類、ポリフェニレン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体が挙げられる。重合の容易さ、安定性の点からは、ポリチオフェン類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類が好ましい。
　π共役系導電性ポリマーは、無置換のままでも十分な導電性やバインダー樹脂への溶解性を示すが、導電性や溶解性をより高めるために、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基等の官能基を導入してもよい。該ポリマーとバインダーとの比率は、ポリマー１００質量部に対して、バインダーが１０～４００質量部であることが好ましく、特に好ましくは、ポリマー１００質量部に対して、バインダーが１００～２００質量部である。
　また、高屈折率層はイオン性化合物を含有してもよい。イオン性化合物としては、イミダゾリウム系、ピリジウム系、脂環式アミン系、脂肪族アミン系、脂肪族ホスホニウム系の陽イオンと、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -等の無機イオン系、ＣＦ3ＳＯ2 -、（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-、ＣＦ3ＣＯ2 -等のフッ素系の陰イオンとからなる化合物等が挙げられる。
　〔偏光板〕
　次に、本実施形態の光学フィルムを用いた偏光板について説明する。偏光板は一般的な方法で作製することができる。本実施形態の光学フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理した光学フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。なお、偏光膜のもう一方の面に、本実施形態の光学フィルムを貼り合わせてもよく、上述したフィルム基材を貼り合わせてもよい。
　また、他に、波長５９０ｎｍにおいて、面内リターデーションＲｏが、２０～７０ｎｍ、膜厚方向のリターデーションＲｔが７０～４００ｎｍの位相差を有する光学補償フィルム（位相差フィルム）を用いて、視野角拡大可能な偏光板とすることもできる。このような偏光板は、例えば特開２００２－７１９５７号公報に記載の方法で作製することができる。また、更にディスコチック液晶等の液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開２００３－９８３４８号公報に記載の方法で光学異方性層を形成することができる。
　また、好ましく用いられる市販の偏光板フィルム基材としては、ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ４ＵＥＷ、ＫＣ８ＵＣＲ－３、ＫＣ８ＵＣＲ－４、ＫＣ８ＵＣＲ－５、ＫＣ４ＦＲ－１、ＫＣ４ＦＲ－２、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ４ＵＥ（コニカミノルタオプト（株）製）等が挙げられる。
　偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子である。現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムであり、これには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがあるが、偏向膜はこれらに限定されるものではない。
　偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光膜は、膜厚が５～３０μｍ、好ましくは８～１５μｍのものが好ましく用いられる。
　該偏光膜の面上に、本実施形態の光学フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは、完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。
　〔粘着層〕
　液晶セルの基板と貼り合わせるためにフィルム基材の片面に用いられる粘着層は、光学的に透明であることはもとより、適度な粘弾性や粘着特性を示すものが好ましい。
　具体的には、粘着層として、例えばアクリル系共重合体やエポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーン系ポリマー、ポリエーテル、ブチラール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、合成ゴムなどの接着剤もしくは粘着剤等のポリマーを用いることができる。これらの材料を用いて、乾燥法、化学硬化法、熱硬化法、熱熔融法、光硬化法等によって膜形成し、硬化させることによって粘着層を形成することができる。中でも、アクリル系共重合体は、最も粘着物性を制御しやすく、かつ透明性や耐候性、耐久性などに優れており、好ましく用いることができる。
　＜液晶表示装置＞
　本実施形態の光学フィルムを用いて作製した偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた画像表示装置を作製することができる。
　本実施形態の光学フィルムは偏光板に組み込まれて、反射型、透過型、半透過型液晶表示装置またはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型、ＯＣＢ型等の各種駆動方式の液晶表示装置に好ましく用いられる。
　また、タッチパネル付き液晶表示装置のタッチパネル用部材に本実施形態の光学フィルムを用いることもできる。この場合、視認性やペン入力に対する耐久性（摺動による傷等）を向上させることができる。
　＜実施例＞
　以下、本発明の具体例について実施例として説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるわけではない。
　（実施例１）
　図４は、実施例１の光学フィルムＦの概略の構成を示す、幅手方向に沿った断面図である。なお、光学フィルムＦは、幅手方向の中心を通る、幅手方向に垂直な断面に対して対称な層構成であるため、同図では、光学フィルムＦの第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２のうちで第１の領域Ｒ１のみを図示し、第２の領域Ｒ２の図示を省略している（以下で登場する断面図についても同様とする）。
　実施例１では、フィルム基材１として、トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ）を用い、硬化膜材料として、ペンタエリスリトールジアクリレート樹脂を用いた。そして、フィルム基材１の幅手方向において、第１の領域Ｒ１から第２の領域Ｒ２にわたって硬化膜材料を塗布し、紫外線の照射によって硬化させて、弾性率４．５ＧＰａの硬化膜２を形成した。なお、このときの紫外線の照射条件は、照度１００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2であった。その後、光学フィルムＦに対して、エンボスロールを用いてナーリング加工を行い、硬化膜２上にナーリング部３を形成するとともに、フィルム基材１上にナーリング部４を形成して光学フィルムＦを作製した。
　ここで、フィルム基材１の幅手方向の端部の位置をＡとする。そして、位置Ａから幅手方向内側（端部Ａとは反対側）に５０ｍｍ入った位置をＤとする。この場合、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２は、Ａ－Ｄ間の領域（５０ｍｍ幅）となる。また、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２のそれぞれにおいて、硬化膜２は、フィルム基材１上で幅手方向に位置Ｂ１から位置Ｂ２まで形成されているものとし、ナーリング部全体（ナーリング部３＋ナーリング部４）は、上記幅手方向において位置Ｃ１から位置Ｃ２まで形成されるものとする。なお、位置Ｂ１・Ｃ１は、位置Ｂ２・Ｃ２よりも端部Ａ側に位置しているものとする。なお、特に断らない限り、位置Ｃ１は位置Ａと一致しており、位置Ｂ２は位置Ｄと一致しているものとする。
　実施例１では、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、硬化膜２の形成範囲は、Ｂ１－Ｂ２間の４５ｍｍ（Ａ－Ｄ間の９０％）であり、ナーリング部全体（ナーリング部３＋ナーリング部４）の形成範囲は、Ｃ１－Ｃ２間の１５ｍｍであった。つまり、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、フィルム基材１上のナーリング部４の形成範囲は、Ａ（Ｃ１）－Ｂ１間の５ｍｍであり、硬化膜２上のナーリング部３の形成範囲は、Ｂ１－Ｃ２間の１０ｍｍであった。
　また、ナーリング部３の高さｔは、１０μｍであり、ナーリング部３の凸部３ａの個数は、７０個／ｃｍ2であった。なお、ナーリング部３の高さｔの測定は、接触式膜厚計　ＴＯＦ－６Ｒ（株式会社　山文電気）によって行い、凸部３ａの個数の測定は、マイクロスコープＶＨＸ－２０００（株式会社　キーエンス）によって行った。また、用いたフィルム基材１の厚さは３０μｍであった。
　（実施例２）
　実施例２では、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、フィルム端部からのナーリング部全体（ナーリング部３＋ナーリング部４）の形成範囲（Ｃ１－Ｃ２間）を８ｍｍとし、硬化膜２上でのナーリング部３の形成範囲（Ｂ１－Ｃ２間）を３ｍｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。
　（実施例３）
　実施例３では、ナーリング部３の高さｔを１μｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。
　（実施例４）
　実施例４では、ナーリング部３の高さｔを２５μｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。
　（実施例５）
　実施例５では、ナーリング部３の凸部３ａの個数を１０個／ｃｍ2とした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。
　（実施例６）
　実施例６では、ナーリング部３の凸部３ａの個数を１４０個／ｃｍ2とした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。
　（実施例７）
　実施例７では、用いるフィルム基材１の膜厚を１０μｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。
　（実施例８）
　実施例８では、用いるフィルム基材１の膜厚を４０μｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。
　（実施例９）
　実施例９では、紫外線の照射条件を、照度８０ｍＷ／ｃｍ2、照射量１００ｍＪ／ｃｍ2とし、硬化膜材料に紫外線を照射することにより、硬化膜２の弾性率を４．０ＧＰａとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。
　（実施例１０）
　図５は、実施例１０の光学フィルムＦの概略の構成を示す、幅手方向に沿った断面図である。実施例１０では、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、硬化膜２の形成範囲（Ｂ１－Ｂ２間）を１０ｍｍ（Ａ－Ｄ間の２０％）とし、ナーリング部全体（ナーリング部３＋ナーリング部４）の形成範囲（Ｃ１－Ｃ２間）を５０ｍｍとした。つまり、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２の硬化膜２上では、ナーリング部３の形成範囲（Ｂ１－Ｃ２間）を１０ｍｍとした。それ以外については、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。
　（実施例１１）
　図６は、実施例１１の光学フィルムＦの概略の構成を示す、幅手方向に沿った断面図である。実施例１１では、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、硬化膜２の形成範囲（Ｂ１－Ｂ２間）を５０ｍｍ（Ａ－Ｄ間の１００％）とし、その硬化膜２上のナーリング部３の形成範囲（Ｂ１－Ｃ２間）を１５ｍｍとした。すなわち、実施例１１では、硬化膜２の端部の位置Ｂ１が、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２の端部の位置Ａ（Ｃ１）と一致しているため、ナーリング加工によって硬化膜２上にのみナーリング部３が形成されている（フィルム基材１上にナーリング部４は形成されていない）。それ以外については、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。
　（実施例１２）
　図７は、実施例１２の光学フィルムＦの概略の構成を示す、幅手方向に沿った断面図である。実施例１２では、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２にのみ硬化膜２を形成するとともに、硬化膜２の端部の位置Ｂ２を、位置Ｄよりも幅方向端部側（位置Ａ側）にずらしている。
　より詳しくは、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、硬化膜２の形成範囲（Ｂ１－Ｂ２間）を、端部の位置Ａから幅手方向に２０ｍｍまでの範囲（Ａ－Ｄ間の４０％）とし、ナーリング部３の形成範囲（Ｂ１－Ｃ２間）を１５ｍｍとした。すなわち、実施例１２では、硬化膜２の端部の位置Ｂ１が、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２の端部の位置Ａ（Ｃ１）と一致しているため、ナーリング加工によって硬化膜２上にのみナーリング部３が形成されている（フィルム基材１上にナーリング部４は形成されていない）。それ以外については、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。
　（実施例１３）
　図８は、実施例１３の光学フィルムＦの概略の構成を示す、幅手方向に沿った断面図である。実施例１３においても、実施例１２と同様に、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２にのみ硬化膜２を形成するとともに、硬化膜２の端部の位置Ｂ２を、位置Ｄよりも幅方向端部側（位置Ａ側）にずらしている。
　より詳しくは、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、硬化膜２の形成範囲を、端部の位置Ａから幅手方向内側に１０ｍｍの位置Ｂ１から、位置Ａから幅手方向内側に４０ｍｍの位置Ｂ２までの３０ｍｍの範囲（Ａ－Ｄ間の６０％）とし、ナーリング部（ナーリング部３＋ナーリング部４）の形成範囲（Ｃ１－Ｃ２間）を２０ｍｍとした。この場合、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２の硬化膜２上では、ナーリング部３の形成範囲（Ｂ１－Ｃ２間）は１０ｍｍである。それ以外については、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。
　（実施例１４）
　実施例１４では、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、フィルム端部からのナーリング部（ナーリング部３＋ナーリング部４）の形成範囲（Ｃ１－Ｃ２間）を１０ｍｍとし、硬化膜２上でのナーリング部３の形成範囲（Ｂ１－Ｃ２間）を５ｍｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。
　（実施例１５）
　実施例１５では、ナーリング部３の高さｔを０．５μｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。
　（実施例１６）
　実施例１６では、ナーリング部３の高さｔを３０μｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。
　（実施例１７）
　実施例１７では、ナーリング部３の凸部３ａの個数を５個／ｃｍ2とした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。
　（実施例１８）
　実施例１８では、ナーリング部３の凸部３ａの個数を１５０個／ｃｍ2とした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。
　（実施例１９）
　実施例１９では、紫外線の照射条件を、照度５０ｍＷ／ｃｍ2、照射量５０ｍＪ／ｃｍ2とし、硬化膜材料に紫外線を照射することにより、硬化膜２の弾性率を３．５ＧＰａとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。
　（比較例１）
　比較例１では、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、フィルム端部からのナーリング部（ナーリング部３＋ナーリング部４）の形成範囲（Ｃ１－Ｃ２間）を７ｍｍとし、硬化膜２上でのナーリング部３の形成範囲（Ｂ１－Ｃ２間）を２ｍｍとした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。
　（比較例２）
　図９は、比較例２の光学フィルムＦの概略の構成を示す、幅手方向に沿った断面図である。比較例２では、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２において、硬化膜２の形成範囲（Ｂ１－Ｂ２間）を５ｍｍ（Ａ－Ｄ間の１０％）とし、ナーリング部（ナーリング部３＋ナーリング部４）の形成範囲（Ｃ１－Ｃ２間）を４５ｍｍとした。つまり、比較例２では、第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２のフィルム基材１上にのみナーリング部４を形成し、硬化膜２上にはナーリング部３を形成しなかった。それ以外については、実施例１と同様にして光学フィルムＦを作製した。
　＜評価＞
　上述した実施例１～１９、比較例１～２にて作製された光学フィルムＦを巻き取り、巻芯方向の巻きずれ、ゲージバンド（貼り付き、ブロッキング）、巻き姿、フィルム破断についての評価を行った結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
　ここで、巻きずれの評価基準は、以下の通りである。
　　　◎：巻きずれが全く発生しておらず、良好である。
　　　○：巻きずれが少し発生しているが、問題のないレベルである。
　　　△：巻きずれがさらに発生しているが、実用上問題ないレベルである。
　　　×：巻きずれが問題がある程度に発生しており、不良である。
　ゲージバンドの評価基準は、以下の通りである。
　　　◎：ゲージバンドが全く発生しておらず、良好である。
　　　○：ゲージバンドが少し発生しているが、問題のないレベルである。
　　　△：ゲージバンドがさらに発生しているが、実用上問題ないレベルである。
　　　×：ゲージバンドが問題がある程度に発生しており、不良である。
　巻き姿の評価基準は、以下の通りである。
　　　◎：ロールが変形しておらず、巻き姿が良好である。
　　　○：ロールに反りが少し発生しているが、問題のないレベルである。
　　　△：ロールに反りがさらに発生しているが、実用上問題ないレベルである。
　　　×：ロールの反りが問題がある程度に発生しており、不良である。
　フィルム破断の評価基準は、以下の通りである。
　　　◎：フィルムの破断が全く発生しておらず、良好である。
　　　○：フィルムの破断が少し発生しているが、問題のないレベルである。
　　　△：フィルムの破断がさらに発生しているが実用上問題ないレベルである。
　　　×：フィルムの破断が問題がある程度に発生しており、不良である。
　表１の結果より、実施例１～１９では、硬化膜２上のナーリング部３が幅手方向に３ｍｍ以上形成されており、巻きずれおよびゲージバンドについて、良好（◎）か、問題のないレベル（○）か、実使用上問題ないレベル（△）である。これに対して、比較例１～２では、硬化膜２上のナーリング部３が幅手方向に３ｍｍ未満であり、巻きずれおよびゲージバンドがいずれも発生し、不良（×）となっている。したがって、硬化膜２上に幅手方向に３ｍｍ以上にわたってナーリング部３を形成することにより、巻きずれおよびゲージバンドを抑えることができると言える。
　また、実施例１５では、硬化膜２上にナーリング部３が幅手方向に３ｍｍ以上にわたって形成されていても、巻きずれおよびゲージバンドが実施例１と比較するとさらに発生している。これは、ナーリング部３の高さが０．５μｍと小さいことから、ナーリング部３によって巻きずれおよびゲージバンドを十分に抑えることができないためと考えられる。
　また、実施例１６では、巻き取ったロールが変形し、巻き姿が実施例１と比較すると劣る結果となっている。これは、ナーリング部３の高さが３０μｍと大きいことから、巻き取り時に凸部３ａが幅手方向内側に倒れやすくなり、その結果、巻き取ったロールに反りがさらに発生したためと考えられる。
　これに対して、実施例１～１４では、ナーリング部３の高さが１～２５μｍの範囲であり、巻きずれ、ゲージバンド、巻き姿のいずれについても良好（◎）か、問題のないレベル（○）である。したがって、巻きずれおよびブロッキングを抑えながら、ロールの変形を抑えて巻き姿を良好にするためには、ナーリング部３の高さが１～２５μｍであることが望ましいと言える。
　また、実施例１７では、硬化膜２上にナーリング部３が幅手方向に３ｍｍ以上にわたって形成されていても、巻きずれおよびゲージバンドが実施例１と比較するとさらに発生している。これは、ナーリング部３の凸部３ａの個数が、５個／ｃｍ2であり、凸部３ａの数が少なすぎるため、ナーリング部３によって巻きずれおよびブロッキングを抑える機能を効率よく発揮することができなくないためと考えられる。
　また、実施例１８では、巻き取り中にフィルムの破断が実施例１と比較するとさらに生じている。これは、ナーリング部３の凸部３ａの個数が１５０個／ｃｍ2となるようなナーリング加工を行ったときに、フィルム基材１に大きなダメージを与えてしまい、これによってフィルムの幅手方向の強度が低下したためと考えられる。
　これに対して、実施例１～１４では、ナーリング部３の凸部３ａの個数が１０～１４０個／ｃｍ2であり、巻きずれ、ゲージバンド、フィルム破断のいずれについても良好（◎）か、問題のないレベル（○）である。したがって、巻きずれ、ブロッキングおよびフィルム破断を抑えるためには、ナーリング部３の凸部３ａの個数が１０～１４０個／ｃｍ2であることが望ましいと言える。
　また、実施例１９では、硬化膜２上にナーリング部３が幅手方向に３ｍｍ以上にわたって形成されていても、巻きずれおよびゲージバンドが実施例１と比較するとさらに発生している。これは、硬化膜２の弾性率が３．５ＧＰａと低いため、硬化膜２の表面に形成されるナーリング部３に所望の硬さを付与することができず、巻きずれやゲージバンドがさらに発生したためと考えられる。
　これに対して、実施例１～１４では、硬化膜２の弾性率が４．０ＧＰａ以上であり、巻きずれやゲージバンドの発生は見られない。これは、硬化膜２の表面に硬いナーリング部３が形成されることで、ナーリング部３が、巻きずれやゲージバンドの発生を抑える機能を確実に発揮しているためと考えられる。したがって、巻きずれ等を抑えるナーリング部３の機能を確実に発揮させるためには、硬化膜２の弾性率が４．０ＧＰａ以上であることが望ましいと言える。
　本発明は、例えば液晶表示装置に用いられる偏光板用保護フィルム、位相差フィルム、視野角拡大フィルムなどの各種機能フィルムに利用可能である。
　　　１　　　フィルム基材
　　　２　　　硬化膜
　　　３　　　ナーリング部
　　　Ｆ　　　光学フィルム
　　　Ｒ１　　第１の領域
　　　Ｒ２　　第２の領域

Claims (4)

  1. 　厚さが１０～４０μｍのフィルム基材上に、硬化膜が形成された光学フィルムであって、
    　前記フィルム基材の幅手方向の両端部から５０ｍｍまでの各領域を、第１の領域および第２の領域とすると、
    　前記硬化膜は、前記フィルム基材上で、前記第１の領域における幅手方向の２０～１００％の範囲、および前記第２の領域における幅手方向の２０～１００％の範囲をそれぞれ覆うように形成されており、
    　前記第１の領域および前記第２の領域のそれぞれにおける前記硬化膜の表面に、前記硬化膜形成後にナーリング加工することで凹凸状のナーリング部が形成されており、
    　前記ナーリング部は、前記硬化膜の表面において、該硬化膜の各端部から前記幅手方向に３ｍｍ以上にわたって形成されていることを特徴とする光学フィルム。
  2. 　前記ナーリング部の高さが、１～２５μｍであることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
  3. 　前記ナーリング部の凸部の個数が、１ｃｍ2あたり１０～１４０個であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルム。
  4. 　前記硬化膜の弾性率が、４．０ＧＰａ以上であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の光学フィルム。
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