JP2014061643A - 光学フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】フィルム基材１の厚さも考慮して各硬化膜２ａ・２ｂの高さのバラツキを小さくし、かつ、各硬化膜２ａ・２ｂに所望の弾性率を付与することで、巻き姿を良好にしてフィルムの変形を防止するとともに、フィルム基材１・１同士のブロッキングを防止する。
【解決手段】フィルム基材１の幅方向両端部において、フィルム基材１の長手方向に帯状に各硬化膜２ａ・２ｂを形成する。このとき、各硬化膜材料２ａ₁・２ｂ₁の塗布量を互いに独立して制御しながら、各硬化膜材料２ａ₁・２ｂ₁をフィルム基材１の幅方向両端部に塗布し、硬化させることにより、各硬化膜２ａ・２ｂの高さの差がフィルム基材１の厚さの３％以下で、弾性率が４．０〜８．０ＧＰａの各硬化膜２ａ・２ｂをそれぞれ形成する。
【選択図】図１

Description

本発明は、フィルム基材の幅方向両端部において、フィルム基材の長手方向に帯状に各硬化膜を形成する光学フィルムの製造方法に関するものである。

近年、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）の他、液晶テレビやプラズマディスプレイ、有機ＥＬ（Electro Luminescence）ディスプレイ等種々の表示装置が開発されてきており、それらの画面サイズが大型化してきている。このような表示装置では、画面に直接、手が触れたり、物が接触したりすることがあり、画面に傷が付き易い。そこで、通常は、傷付き防止のために、ハードコート層をフィルム基材上に形成した光学フィルムを、表示装置の表示画面に貼り付けることが行われている。

このような光学フィルムの製造においては、幅方向の両端部に、ナーリング部またはエンボス部と呼ばれる、フィルム面よりも嵩高くした部分（凸部）が設けられたフィルム基材が用いられる。フィルム基材にナーリング部を形成しておくことにより、製造されたフィルム基材を巻芯に巻き取ったときに、巻芯方向のフィルム基材のずれや、基材同士のブロッキング（貼り付き）を抑えることができる。例えば特許文献１では、高分子フィルムの両端部にナーリングを施して巻き取る例が開示されている。

上記のナーリング部は、例えば表面に凹凸が形成されたロール（エンボスロール）によって、フィルム基材の表面を押圧することで形成される。しかし、このような方法では、エンボスロールの押し込み力の調整が難しく、凸部の高さを安定させることが難しい。

そこで、エンボスロールを用いたナーリング加工の代替手段として、フィルム両端部に硬化膜材料を塗布して硬化させることで、凸部を形成する方法が提案されている。例えば特許文献２では、フィルムの幅方向両端部にインクジェット方式によって硬化膜材料を塗布し、これを硬化させることで凸部を形成するようにしている。また、特許文献３では、フィルム基材上に、ドクターブレードを用いたグラビアロールコーティング法によって硬化膜材料を塗布し、硬化させることで、幅方向中央部に位置するハードコート層と、幅方向両端部に位置してナーリング部として機能する端部ハードコート層とを同時に形成するようにしている。

しかし、特許文献２および３には、幅方向両端の各硬化膜の高さ精度（高さのバラツキ）や必要な弾性率に関する具体的な記載はない。各硬化膜の高さに差が生じている場合、各硬化膜が形成されたフィルム基材を巻き取ったときに、幅方向一方側で巻径が小さく、他方側で巻径が大きくなる。このように幅方向で巻径が異なり、巻き姿が不良になると、フィルム基材に変形（ねじれ、シワ）が生じる。一方、各硬化膜の弾性率が必要以上に確保されていないと、巻き取り時の自重によって各硬化膜がつぶれて、フィルム基材同士が貼り付き、耐久試験後に大きな位相差変動を生じさせる要因なる。特に、フィルム基材が薄膜（例えば膜厚４０μｍ以下）の場合には、巻き数が多くなるため（巻径を一定とした場合）、上記の問題が顕著に現れる。

特許第３１９４６６３号公報（請求項１、段落〔０００７〕、図１等参照） 特開２０１０−５８３１１号公報（請求項１、段落〔００４３〕、図５、図６等参照） 特開２０１１−２１８６１８号公報（請求項１、請求項８、段落〔００４５〕、〔００４６〕、図２、図３等参照）

本発明の目的は、前記の事情に鑑み、フィルム基材の厚さも考慮して各硬化膜の高さのバラツキを小さく抑え、かつ、各硬化膜に所望の弾性率を付与することで、巻き姿を良好にしてフィルムの変形を防止するとともに、フィルム基材同士のブロッキングを防止することができる光学フィルムの製造方法を提供することにある。

本発明の上記目的は以下の構成により達成される。

１．フィルム基材の幅方向両端部において、前記フィルム基材の長手方向に帯状に各硬化膜を形成する光学フィルムの製造方法であって、
前記各硬化膜の材料の塗布量を互いに独立して制御しながら、前記各硬化膜材料を前記フィルム基材の幅方向両端部に塗布し、硬化させることにより、前記各硬化膜の高さの差が前記フィルム基材の厚さの３％以下で、弾性率が４．０〜８．０ＧＰａの前記各硬化膜をそれぞれ形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。

２．前記各硬化膜材料を、対応するダイコーターによって、前記フィルム基材の幅方向両端部に塗布し、硬化させることにより、前記各硬化膜をそれぞれ形成することを特徴とする前記１に記載の光学フィルムの製造方法。

３．前記硬化膜材料の樹脂成分が、活性エネルギー線硬化型アクリレート樹脂であることを特徴とする前記１または２に記載の光学フィルムの製造方法。

４．前記フィルム基材の厚さが、４０μｍ以下であることを特徴とする前記１から３のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。

５．前記フィルム基材が、トリアセチルセルロースフィルムであることを特徴とする前記１から４のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。

上記の製造方法によれば、フィルム基材の幅方向の両端部において、各硬化膜の材料の塗布量を互いに独立して制御するので、各硬化膜の高さの差が小さくなるように、各硬化膜の高さを個別にかつ高精度で制御することが可能となる。そして、形成される各硬化膜の高さの差がフィルム基材の厚さの３％以下であるので、薄膜で長尺のフィルム基材を巻き取ったときでも、幅方向の一方側と他方側とで巻径をほぼ揃えることができ、巻き姿を良好にしてフィルムの変形を防止することができる。また、各硬化膜の弾性率が４．０ＧＰａ以上であるので、薄膜で長尺のフィルム基材を巻き取ったときでも、各硬化膜がつぶれにくくなり、フィルム基材同士の貼り付き（ブロッキング）を防止することができる。さらに、硬化後の各硬化膜の弾性率が８．０ＧＰａ以下であるので、硬化膜の靱性を保つことができ、割れ、裂けなどのフィルム欠陥を抑制することができる。

（ａ）は、本発明の実施の形態に係る、硬化膜形成時の光学フィルムのＭＤ方向に沿った断面図であり、（ｂ）は、上記光学フィルムのＴＤ方向に沿った断面図である。

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

本実施形態の光学フィルムは、フィルム基材の幅方向両端部において、フィルム基材の長手方向に帯状に各硬化膜を形成して構成されている。この光学フィルムは、フィルム基材の上にハードコート層を備えたハードコートフィルムであってもよいし、そのようなハードコート層を備えていない光学フィルムであってもよい。ハードコートフィルムの場合、フィルム基材上において、ハードコート層の幅方向外側に、各硬化膜が形成される。以下、ハードコートフィルムを例として、光学フィルムの概要について説明する。

〔ハードコート層〕
ハードコート層は、活性エネルギー線硬化型樹脂で形成されている。活性エネルギー線硬化型とは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいい、具体的にはエチレン性不飽和基を有する樹脂である。活性エネルギー線硬化型樹脂には、活性エネルギー線硬化型イソシアヌレート誘導体と、イソシアヌレート誘導体以外の活性エネルギー線硬化型樹脂との両者が含まれる。

＜活性エネルギー線硬化型イソシアヌレート誘導体＞
活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体としては、イソシアヌル酸骨格に１個以上のエチレン性不飽和基が結合した構造を有する化合物であればよく、特に制限はないが、下記一般式（１）で示される同一分子内に３個以上のエチレン性不飽和基及び１個以上のイソシアヌレート環を有する化合物が好ましい。エチレン性不飽和基の種類は、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、ビニルエーテル基であり、より好ましくはメタクリロイル基又はアクリロイル基であり、特に好ましくはアクリロイル基である。

式中のＬ²は、２価の連結基であり、好ましくは、イソシアヌレート環に炭素原子が結合している置換又は無置換の炭素原子数４以下のアルキレンオキシ基またはポリアルキレンオキシ基であり、特に好ましくはアルキレンオキシ基であり、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。Ｒ²は、水素原子またはメチル基を表し、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。一般式（１）で示される具体的化合物を以下に示すが、これらに限られない。

その他の化合物としては、イソシアヌル酸ジアクリレート化合物が挙げられ、下記一般式（２）で表されるイソシアヌル酸エトキシ変性ジアクリレートが好ましい。

また、その他として、ε−カプロラクトン変性の活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体を挙げることもでき、具体的には下記一般式（３）で表される化合物である。

上記化学構造式のＲ₁〜Ｒ₃の−には、下記ａ，ｂ，ｃで示される官能基が付くが、Ｒ₁〜Ｒ₃の少なくとも一つはｂの官能基である。

ａ：−Ｈ、もしくは−（ＣＨ₂）ｎ−ＯＨ（ｎ＝１〜１０、好ましくはｎ＝２〜６）
ｂ：−（ＣＨ₂）ｎ−Ｏ−（ＣＯＣ₅Ｈ₁₀）ｍ−ＣＯＣＨ＝ＣＨ₂（ｎ＝１〜１０、好ましくはｎ＝２〜６、ｍ＝２〜８）
ｃ：−（ＣＨ₂）ｎ−Ｏ−Ｒ（Ｒは（メタ）アクリロイル基、ｎ＝１〜１０、好ましくはｎ＝２〜６）
一般式（３）で示される具体的化合物を以下に示すが、これらに限られない。

イソシアヌル酸トリアクリレート化合物の市販品としては、例えば新中村化学工業株式会社製Ａ−９３００などが挙げられる。イソシアヌル酸ジアクリレート化合物の市販品としては、例えば東亞合成株式会社製アロニックスＭ−２１５などが挙がられる。イソシアヌル酸トリアクリレート化合物及びイソシアヌル酸ジアクリレート化合物の混合物としては、例えば東亞合成株式会社製アロニックスＭ−３１５、アロニックスＭ−３１３などが挙げられる。

ε−カプロラクトン変性の活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体としては、ε−カプロラクトン変性トリス−（アクリロキシエチル）イソシアヌレートである新中村化学工業株式会社製Ａ−９３００−１ＣＬ、東亞合成株式会社製アロニックスＭ−３２７などを挙げることができるが、これらに限定されない。

＜イソシアヌレート誘導体以外の活性エネルギー線硬化型樹脂＞
イソシアヌレート誘導体以外の活性エネルギー線硬化型樹脂としては、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも、紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。

紫外線硬化型アクリレート系樹脂としては、多官能アクリレートが好ましい。該多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、およびジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に２個以上のアクリロイルオキシ基またはメタクロイルオキシ基を有する化合物である。

多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等が好ましく挙げられる。

イソシアヌレート誘導体以外の活性エネルギー線硬化型樹脂としては、単官能アクリレートを用いてもよい。単官能アクリレートとしては、イソボロニルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソオクチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベヘニルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートなどが挙げられる。単官能アクリレートとしては、新中村化学工業株式会社や大阪有機化学工業株式会社等から入手できる。これらの化合物は、それぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの２量体、３量体等のオリゴマーであってもよい。

多官能アクリレートの粘度は、２５℃における粘度が３０００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、２０００ｍＰａ・ｓ以下であることがさらに好ましい。なお、上記の粘度は、Ｂ型粘度計を用いて２５℃の条件にて測定した値である。

また、ハードコート層に活性エネルギー線硬化型イソシアヌレート誘導体とイソシアヌレート誘導体以外の活性エネルギー線硬化型樹脂を併用して用いる場合には、活性エネルギー線硬化型イソシアヌレート誘導体（Ａ）とイソシアヌレート誘導体以外の活性エネルギー線硬化型樹脂（Ｂ）との含有質量比を、（Ａ）：（Ｂ）＝１０：９０〜５０：５０の範囲で用いることで、膜強度（耐擦傷性）に優れる点で好ましい。

ハードコート層には、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化促進のため、光重合開始剤を含有させることが好ましい。光重合開始剤の量としては、質量比で、光重合開始剤：活性エネルギー線硬化型樹脂＝２０：１００〜０．０１：１００であることが好ましい。

光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等および、これらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。

また、ブロッキングの防止や、対擦り傷性等を高めるために、無機または有機の微粒子を活性エネルギー線硬化型樹脂に加えることが好ましい。無機微粒子としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＴＯ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。特に、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム等が好ましく用いられる。

これら無機微粒子は、光学フィルムの透明性を維持しつつ耐擦傷性が向上することから、表面の一部に反応性官能基を有する有機成分が被覆されたものが好ましい。表面の一部に反応性官能基を有する有機成分が被覆される態様としては、例えば、金属酸化物微粒子の表面に存在する水酸基にシランカップリング剤等の有機成分を含む化合物が反応して、表面の一部に有機成分が結合した態様、金属酸化物微粒子の表面に存在する水酸基に水素結合等の相互作用により有機成分を付着させた態様や、ポリマー粒子中に１個又は２個以上の無機微粒子を含有する態様などが挙げられる。

また、有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を用いることができる。

好ましい有機微粒子としては、架橋ポリスチレン粒子（例えば、綜研化学製ＳＸ−１３０Ｈ、ＳＸ−２００Ｈ、ＳＸ−３５０Ｈ）、ポリメチルメタクリレート系粒子（例えば、綜研化学製ＭＸ１５０、ＭＸ３００）、フッ素含有アクリル樹脂微粒子が挙げられる。フッ素含有アクリル樹脂微粒子としては、例えば日本ペイント製：ＦＳ−７０１等の市販品が挙げられる。また、アクリル粒子として、例えば日本ペイント製：Ｓ−４０００、アクリル−スチレン粒子として、例えば日本ペイント製：Ｓ−１２００、ＭＧ−２５１等が挙げられる。

これらの微粒子粉末の平均粒子径は特に制限されないが、０．０１〜５μｍが好ましく、０．０１〜１．０μｍであることが特に好ましい。また、粒径の異なる２種以上の微粒子を含有してもよい。微粒子の平均粒子径は、例えばレーザー回折式粒度分布測定装置により測定することができる。

紫外線硬化樹脂組成物と微粒子との割合は、樹脂組成物１００質量部に対して、１０〜４００質量部となるように微粒子を配合することが望ましく、更に望ましくは、５０〜２００質量部である。

また、本実施形態に係るハードコート層は、溶剤で希釈したハードコート層塗布組成物を、以下の方法でフィルム基材上に塗布、乾燥、硬化して設けることが、ハードコート層とフィルム基材との層間密着が得られやすい点から好ましい。溶剤としては、ケトン類またはエステル類が好ましい。ケトン類としては、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどを挙げることができる、また、エステル類としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピルなどを挙げることができるが、これらには限定されない。その他の溶剤としては、アルコール類（エタノール、メタノール、ブタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ジアセトンアルコール）、炭化水素類（トルエン、キシレン、ベンゼン、シクロヘキサン）、グリコールエーテル類（プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテルなど）などを好ましく用いることができる。

活性エネルギー線硬化型樹脂１００質量部に対して、これらの溶剤を２０〜２００質量部の範囲で用いることで、塗布組成物としての安定性に優れる。

また、ハードコート層塗布組成物の塗布量は、ウェット膜厚で０．１〜４０μｍが適当で、好ましくは、０．５〜３０μｍであり、ドライ膜厚では、平均膜厚０．１〜３０μｍ、好ましくは１〜２０μｍ、特に好ましくは４〜１５μｍである。

ハードコート層は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイ（押し出し）コーター、インクジェット法等公知の塗布方法を用いて、ハードコート層を形成するハードコート層塗布組成物を塗布した後、乾燥し、ＵＶ硬化処理し、更に必要に応じて、ＵＶ硬化に加熱処理することで形成できる。

ＵＶ硬化処理に用いる光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。照射条件は、それぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ²、好ましくは１００〜５００ｍｍＪ／ｃｍ²である。

また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は３０〜３００Ｎ／ｍが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、または２軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性の優れたフィルムを得ることができる。

ハードコート層には、帯電防止性を付与するために導電剤を含ませてもよい。好ましい導電剤としては、金属酸化物粒子またはπ共役系導電性ポリマーが挙げられる。また、イオン液体も導電性化合物として好ましく用いられる。また、ハードコート層には、塗布性の観点、及び微粒子の均一な分散性の観点から、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤或いはポリオキシエーテル等の非イオン性界面活性剤、アニオン界面活性剤、及びフッ素−シロキサングラフトポリマーを含有させてよい。フッ素−シロキサングラフトポリマーとは、少なくともフッ素系樹脂に、シロキサン及び／またはオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン及び／またはオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体のポリマーをいう。市販品としては、富士化成工業株式会社製のＺＸ−０２２Ｈ、ＺＸ−００７Ｃ、ＺＸ−０４９、ＺＸ−０４７−Ｄ等を挙げることができる。またこれら成分は、塗布液中の固形分成分に対し、０．０１〜３質量％の範囲で添加することが好ましい。

ハードコート層は、１層であってもよく、複数の層であってもよい。ハードコート層のハードコート性、ヘーズ、算術表面粗さＲａを制御し易くするために、ハードコート層を２層以上に分割して設けてもよい。また、ハードコート層は、フィルム基材の両面に設けてもよい。

ハードコート層を２層以上設ける場合の最上層の膜厚は、０．０５〜２μｍの範囲であることが好ましい。２層以上の積層は同時重層で形成してもよい。同時重層とは、乾燥工程を経ずに基材上に２層以上のハードコート層をｗｅｔ ｏｎ ｗｅｔで塗布して、ハードコート層を形成する手法である。第１ハードコート層の上に乾燥工程を経ずに、第２ハードコート層をｗｅｔ ｏｎ ｗｅｔで積層するには、押し出しコーターにより逐次重層するか、若しくは複数のスリットを有するスロットダイにて同時重層を行えばよい。

ハードコート層は、硬度の指標で有る鉛筆硬度が、Ｈ以上であり、より好ましくは４Ｈ以上である。４Ｈ以上であれば、液晶表示装置の偏光板化工程で、傷が付きにくいばかりではなく、屋外用途で用いられることが多い、大型の液晶表示装置や、デジタルサイネージ用液晶表示装置の表面フィルム基材として用いた際も優れた膜強度を示す。鉛筆硬度は、作製した光学フィルムを温度２３℃、相対湿度５５％の条件で２時間以上調湿した後、ＪＩＳ（Japanese Industrial Standards Committee；日本工業標準調査会）の規格の一つである、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規定されている試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ Ｋ５４００に規定されている鉛筆硬度評価方法に従い測定した値である。

＜ヘーズ＞
本実施形態の光学フィルムのヘーズ値は、クリア光学フィルムでは、１％以下が好ましい。ヘーズ値を１％以下とすることで、大型化された液晶表示装置やデジタルサイネージ等の屋外で用いられる際の、十分な輝度や高いコントラストが得られる。ヘーズ値は、ＪＩＳ Ｋ７１０５及びＪＩＳ Ｋ７１３６に準じて測定することができる。

また、本実施形態の光学フィルムは、防眩性を有してもよい。防眩性とは、光学フィルムのハードコート層で反射した像や外光の輪郭をぼかす機能であり、反射像の視認性を低下させて、液晶ディスプレイ等に光学フィルムを使用したときに、反射像の映り込みが気にならないようにすることである。防眩性を有した光学フィルムでは、全ヘーズ値は、３％〜４０％であることが好ましい。また、表面ヘーズ値（フィルムの表面散乱に起因するヘーズ）は、３〜４０％であることが好ましく、内部ヘーズ値（内部散乱に起因するヘーズ）は３５％以下が好ましい。

〔フィルム基材〕
フィルム基材は、製造が容易であることから、トリアセチルセルロースフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルムが好ましい。その他フィルムとして、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等をフィルム基材に用いることができる。前記したフィルムを構成する樹脂は併用して用いてもよい。

フィルム基材の屈折率は、１．３０〜１．７０であることが好ましく、１．４０〜１．６５であることがより好ましい。屈折率は、アタゴ社製 アッペ屈折率計２Ｔを用いてＪＩＳ Ｋ７１４２の方法で測定することができる。

＜セルロースエステル系フィルム＞
セルロースエステル系フィルムは、セルローストリアセテートの場合には、平均酢化度（結合酢酸量）５４．０〜６２．５％のものが好ましく用いられ、更に好ましくは、平均酢化度が５８．０〜６２．５％のセルローストリアセテートフィルムである。平均酢化度が小さいと、寸法変化が大きく、また偏光板の偏光度が低下する。平均酢化度が大きいと、溶剤に対する溶解度が低下し、生産性が下がる。

フィルム基材は、アセチル基置換度が２．８０〜２．９５であって、数平均分子量（Ｍｎ）が１２５０００以上１５５０００未満であるセルローストリアセテートＡを含有することが好ましい。また、セルローストリアセテートＡは、重量平均分子量（Ｍｗ）が２６５０００以上３１００００未満、Ｍｗ／Ｍｎが１．９〜２．１であるものが好ましい。

また、鉛筆硬度が向上する点から、アセチル基置換度が２．７５〜２．９０であって、数平均分子量（Ｍｎ）が１５５０００以上１８００００未満、Ｍｗが２９００００以上３６００００未満、Ｍｗ／Ｍｎが１．８〜２．０であるセルローストリアセテートＢをセルローストリアセテートＡに併用することが好ましい。セルローストリアセテートＡとセルローストリアセテートＢを併用する場合には、質量比でセルローストリアセテートＡ：セルローストリアセテートＢ＝１００：０〜２０：８０の範囲であることが好ましい。

セルローストリアセテート以外では、炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＹとしたときに、下記式（Ｉ）および（II）を同時に満たすセルロースエステルを用いることができる。
式（Ｉ） ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（II） ０≦Ｘ≦２．５
その中では、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく、中でも１．９≦Ｘ≦２．５、０．１≦Ｙ≦０．９であることが好ましい。アシル基置換度の測定は、ＡＳＴＭ（American Society for Testing and Materials；米国試験材料協会）が策定・発行する規格の一つである、ＡＳＴＭ Ｄ８１７−９６に準じて行うことができる。また、セルロースジアセテートも好ましく用いることができる。

セルロースエステルの数平均分子量（Ｍｎ）および分子量分布（Ｍｗ）は、高速液体クロマトグラフィーを用いて測定することができる。測定条件は以下の通りである。
溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）
Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。

＜エステル化合物＞
セルロースエステル系フィルムは、耐透湿性に優れる点から、エステル化合物を含有することが好ましい。エステル化合物としては、フタル酸、アジピン酸、少なくとも一種のベンゼンモノカルボン酸および少なくとも一種の炭素数２〜１２のアルキレングリコールを反応させた構造を有するエステル化合物が好ましい。

ベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、ｐ−トルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ１種または２種以上の混合物として使用することができる。安息香酸であることが最も好ましい。

炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用される。特に１，２−プロピレングリコールが好ましい。

前記エステル化合物は、最終的な化合物の構造として、アジピン酸残基およびフタル酸残基を有していればよい。

前記エステル化合物は、必要に応じてエステル化触媒の存在下で、例えば１８０〜２５０℃の温度範囲内で、１０〜２５時間混合させ、エステル化反応させることによって製造することができる。

更に、エステル化合物としては、芳香族末端エステル化合物も用いることができる。芳香族末端エステル化合物の例示化合物を以下に示すが、これらに限定されない。

また、エステル化合物としては、糖エステル系化合物も挙げることができる。糖エステル系化合物は、下記単糖、二糖、三糖またはオリゴ糖などの糖のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化した化合物であり、より具体的な例示としては、一般式（４）で表わされる化合物などをあげることができる。

式中、Ｒ₁〜Ｒ₈は、置換又は無置換の炭素数２〜２２のアルキルカルボニル基、或いは、置換又は無置換の炭素数２〜２２のアリールカルボニル基を表す。Ｒ₁〜Ｒ₈は、同じであっても、異なっていてもよい。

以下に一般式（４）で示される化合物をより具体的に（化合物４−１〜化合物４−２３として）示すが、これらに限定されない。

前記エステル化合物においては、数平均分子量が、好ましくは３００〜２０００、より好ましくは４００〜１５００である。また、酸価は、０．０８〜０．５０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。水酸基価は、２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、より好ましくは１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。

前記エステル化合物は、フィルム基材中に１〜３５質量％、特に５〜３０質量％含まれることが好ましい。この範囲内であれば、ブリードアウトなどもなく、透明性に優れる。

セルロースエステル系フィルムは、熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂を含有しても良い。

アクリル樹脂には、メタクリル樹脂も含まれる。アクリル樹脂としては、特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位５０〜９９質量％、およびこれと共重合可能な他の単量体単位１〜５０質量％からなるものが好ましい。共重合可能な他の単量体としては、アルキル数の炭素数が２〜１８のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が１〜１８のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられる。これらは単独で用いることもできるし、２種以上の単量体を併用して用いることもできる。

これらの中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやｎ−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。

また、アクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は８００００〜５０００００であることが好ましく、更に好ましくは、１１００００〜５０００００の範囲内である。アクリル樹脂の重量平均分子量は、測定条件含めて、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。また、市販品としてはデルペット６０Ｎ、８０Ｎ（旭化成ケミカルズ（株）製）、ダイヤナールＢＲ５２、ＢＲ８０，ＢＲ８３，ＢＲ８５，ＢＲ８８（三菱レイヨン（株）製）、ＫＴ７５（電気化学工業（株）製）等が挙げられる。アクリル樹脂は２種以上を併用することもできる。

＜添加剤＞
フィルム基材の脆性を改善する目的で、アクリル粒子を含有してもよい。アクリル粒子の市販品の例としては、例えば、メタブレンＷ−３４１（Ｃ２）（三菱レイヨン（株）製）を、ケミスノーＭＲ−２Ｇ（Ｃ３）、ＭＳ−３００Ｘ（Ｃ４）（綜研化学（株）製）等を挙げることができる。

アクリル微粒子は、フィルム基材を形成する樹脂の総質量に対して、０．５％〜３０％の範囲で含有させることが好ましい。

（微粒子）
フィルム基材は、アクリル微粒子以外の微粒子を含有してもよい。アクリル微粒子以外の微粒子としては、滑り性、保管安定性の観点から二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等の無機微粒子が好ましい。

これら無機微粒子の中では、濁度が低い点で、二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素は疎水化処理をされたものが滑り性とヘーズを両立する上で好ましい。４個のシラノール基のうち、２個以上が疎水性の置換基で置き換わったものが好ましく、３個以上が置き換わったものがより好ましい。疎水性の置換基はメチル基であることが好ましい。二酸化珪素の一次粒径は２０ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。これらの中でも、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖがフィルム基材のヘーズを低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく、アエロジルＲ８１２が最も好ましく用いられる。フィルム基材においては、少なくとも一方の面の動摩擦係数が０．２〜１．０であることが好ましい。

（その他の添加剤）
フィルム基材には、組成物の流動性や柔軟性を向上するために、可塑剤を添加することもできる。可塑剤としては、フタル酸化合物、脂肪酸化合物、トリメリット酸化合物、リン酸化合物、アクリル系ポリマー、あるいはエポキシ系化合物等が挙げられる。

アクリル系ポリマーとしては、アクリル酸またはメタクリル酸アルキルエステルのホモポリマーまたはコポリマーが好ましい。アクリル酸エステルのモノマーとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−メトキシエチル）、アクリル酸（２−エトキシエチル）等、又は上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができる。アクリル系ポリマーは上記モノマーのホモポリマーまたはコポリマーであるが、アクリル酸メチルエステルモノマー単位が３０質量％以上を有していることが好ましく、またメタクリル酸メチルエステルモノマー単位が４０質量％以上有することが好ましい。特にアクリル酸メチルまたはメタクリル酸メチルのホモポリマーが好ましい。

用途に応じてこれらの可塑剤を選択、あるいは併用して用いることができる。また、可塑剤の添加量は、フィルム基材１００質量部に対して、０．５〜３０質量部であることが好ましい。

フィルム基材は、紫外線吸収剤を含有することも好ましい。用いられる紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、２−ヒドロキシベンゾフェノン系またはサリチル酸フェニルエステル系のもの等が挙げられる。例えば、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類を例示することができる。ここで、紫外線吸収剤のうちでも、分子量が４００以上の紫外線吸収剤は、高沸点で揮発しにくく、高温成形時にも飛散しにくいため、比較的少量の添加で効果的に耐候性を改良することができる。

分子量が４００以上の紫外線吸収剤としては、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］等のベンゾトリアゾール系、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート等のヒンダードアミン系、さらには２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等の分子内にヒンダードフェノールとヒンダードアミンの構造を共に有するハイブリッド系のものが挙げられ、これらは単独で、あるいは２種以上を併用して使用することができる。これらのうちでも、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾールや２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］が特に好ましい。

さらに、フィルム基材には、成形加工時の熱分解性や熱着色性を改良するために各種の酸化防止剤を添加することもできる。また帯電防止剤を加えて、フィルム基材に帯電防止性能を与えることも可能である。

フィルム基材には、リン系難燃剤を配合した難燃アクリル系樹脂組成物を用いてもよい。ここで用いられるリン系難燃剤としては、赤リン、トリアリールリン酸エステル、ジアリールリン酸エステル、モノアリールリン酸エステル、アリールホスホン酸化合物、アリールホスフィンオキシド化合物、縮合アリールリン酸エステル、ハロゲン化アルキルリン酸エステル、含ハロゲン縮合リン酸エステル、含ハロゲン縮合ホスホン酸エステル、含ハロゲン亜リン酸エステル等から選ばれる１種、あるいは２種以上の混合物を挙げることができる。

具体的な例としては、トリフェニルホスフェート、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキシド、フェニルホスホン酸、トリス（β−クロロエチル）ホスフェート、トリス（ジクロロプロピル）ホスフェート、トリス（トリブロモネオペンチル）ホスフェート等が挙げられる。

デジタルサイネージ等の屋外用途への利用により、より高い輝度が求められていることから、フィルム基材は、より高温の環境下での使用に耐えられることが求められている。フィルム基材の張力軟化点が１０５℃〜１４５℃であれば、十分な耐熱性を示すものと判断でき、好ましく、特に１１０℃〜１３０℃に制御することが好ましい。

張力軟化点の具体的な測定方法としては、例えば、テンシロン試験機（ＯＲＩＥＮＴＥＣ社製、ＲＴＣ−１２２５Ａ）を用いて、光学フィルムを１２０ｍｍ（縦）×１０ｍｍ（幅）で切り出し、１０Ｎの張力で引っ張りながら３０℃／ｍｉｎの昇温速度で昇温を続け、９Ｎになった時点での温度を３回測定し、その平均値により求めることができる。

また、耐熱性の観点で、フィルム基材は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１１０℃以上であることが好ましい。より好ましくは１２０℃以上である。特に好ましくは１５０℃以上である。

なお、ここでいうガラス転移温度とは、示差走査熱量測定器（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ社製ＤＳＣ−７型）を用いて、昇温速度２０℃／分で測定し、ＪＩＳ Ｋ７１２１（１９８７）に従い求めた中間点ガラス転移温度（Ｔｍｇ）である。

また、フィルム基材を、特に屋外で使用される液晶表示装置に用いられる場合、フィルム基材の寸法変化率（％）は０．５％未満が好ましく、更に、０．３％未満であることが好ましい。

また、フィルム基材において、フィルム面内の直径５μｍ以上の欠点が１個／１０ｃｍ四方以下であることが好ましい。更に好ましくは０．５個／１０ｃｍ四方以下、一層好ましくは０．１個／１０ｃｍ四方以下である。ここで、欠点とは、溶液製膜の乾燥工程において溶媒の急激な蒸発に起因して発生するフィルム中の空洞（発泡欠点）や、製膜原液中の異物や製膜中に混入する異物に起因するフィルム中の異物（異物欠点）、さらには、ロール傷の転写や擦り傷など、表面形状が変化している部分を言う。また、欠点の直径とは、欠点が円形の場合はその直径を示し、円形でない場合は欠点の範囲を下記方法により顕微鏡で観察して決定し、その最大径（外接円の直径）とする。

欠点の範囲は、欠点が気泡や異物の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の透過光で観察したときの影の大きさである。欠点が、ロール傷の転写や擦り傷など、表面形状の変化の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の反射光で観察して大きさを確認する。なお、反射光で観察する場合に、欠点の大きさが不明瞭であれば、表面にアルミや白金を蒸着して観察する。

かかる欠点頻度にて表される、品位に優れたフィルムを生産性よく得るには、ポリマー溶液を流延直前に高精度濾過することや、流延機周辺のクリーン度を高くすること、また、流延後の乾燥条件を段階的に設定し、効率よくかつ発泡を抑えて乾燥させることが有効である。

欠点の個数が１個／１０ｃｍ四方より多いと、例えば後工程での加工時などでフィルムに張力がかかると、欠点を基点としてフィルムが破断して生産性が低下する場合がある。また、欠点の直径が５μｍ以上になると、偏光板観察などにより目視で確認でき、光学部材として用いたとき輝点が生じる場合がある。

また、欠点を目視で確認できない場合でも、該フィルム上にハードコート層を形成したときに、ハードコート層塗布組成物が均一に塗布できず、欠点（塗布抜け）となる場合がある。

また、フィルム基材は、ＪＩＳ Ｋ７１２７（１９９９）に準拠した測定において、少なくとも一方向の破断伸度が、１０％以上であることが好ましく、より好ましくは２０％以上である。

破断伸度の上限は特に限定されるものではないが、現実的には２５０％程度である。破断伸度を大きくするには異物や発泡に起因するフィルム中の欠点を抑制することが有効である。

フィルム基材の厚さは、１０μｍ以上であることが好ましい。より好ましくは２０μｍ以上である。

フィルム基材の厚さの上限は特に限定されるものではないが、溶液製膜法でフィルム化する場合は、塗布性、発泡、溶媒乾燥などの観点から、上限は２５０μｍ程度である。なお、フィルム基材の厚さは用途により適宜選定することができる。

したがって、本実施形態のフィルム基材の厚さは、１０〜２５０μｍであることが好ましく、２０〜１００μｍであることがより好ましく、光学部材の薄膜化の観点からは、２０〜４０μｍであることが特に好ましい。

フィルム基材は、その全光線透過率が９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９３％以上である。また、現実的な上限としては、９９％程度である。かかる全光線透過率にて表される優れた透明性を達成するには、可視光を吸収する添加剤や共重合成分を導入しないようにすることや、ポリマー中の異物を高精度濾過により除去し、フィルム内部の光の拡散や吸収を低減させることが有効である。

また、フィルム基材のリターデーションは、波長５９０ｎｍにおける面内リターデーションＲｏが０〜５０ｎｍ、厚み方向のリターデーションＲｔｈが−１０〜５０ｎｍ範囲が好ましい。当該範囲のリターデーションを有するフィルム基材を用いて光学フィルムを構成することで、光学フィルムを例えばタッチパネル用構成部材に用いた場合に、複屈折による干渉縞を良好に抑制できる。

なお、上記のＲｏ及びＲｔｈは下記式（Ｉ）及び（II）で定義された値である。
式（Ｉ） Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（II） Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
ただし、式中、ｎｘはフィルム基材の面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム基材の面内で遅相軸に直交する方向の屈折率、ｎｚはフィルム基材の厚み方向の屈折率、ｄはフィルム基材の厚み（ｎｍ）をそれぞれ表す。上記のリターデーションは、例えばＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株））を用い、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、測定波長５９０ｎｍで求めることができる。

リターデーションは、前述したエステル化合物や可塑剤の種類、添加量、及びフィルム基材の膜厚や延伸条件などで調整できる。

また、製膜時のフィルム接触部（冷却ロール、カレンダーロール、ドラム、ベルト、溶液製膜における塗布基材、搬送ロールなど）の表面粗さを小さくしてフィルム表面の表面粗さを小さくすることや、アクリル樹脂の屈折率を小さくすることによりフィルム表面の光の拡散や反射を低減させることが有効である。

（フィルム基材の製膜）
次に、フィルム基材の製膜方法の例について説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。

フィルム基材の製膜方法としては、インフレーション法、Ｔ−ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できる。着色抑制、異物欠点の抑制、ダイラインなどの光学欠点の抑制などの観点からは、流延法による製膜が好ましい。流延法による製膜には、溶液流延法と溶融流延法とがある。

（有機溶媒）
フィルム基材を溶液流延法で製造する場合のドープを形成するのに有用な有機溶媒は、セルロースエステル系樹脂や、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。

例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができ、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。

ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の炭素原子数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ないときは、非塩素系有機溶媒系でのアクリル樹脂、セルロースエステル樹脂の溶解が促進される。

特に、メチレンクロライド、及び炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有する溶媒に、アクリル樹脂と、セルロースエステル樹脂と、アクリル粒子の３種を、少なくとも計１５〜４５質量％溶解させたドープ組成物であることが好ましい。

炭素原子数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることができる。これらのうち、ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等から、エタノールが好ましい。

（溶液流延法）
フィルム基材は、溶液流延法によって製造することができる。溶液流延法では、樹脂および添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状もしくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体からウェブを剥離する工程、ウェブを延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻き取る工程により行われる。

ドープ中のセルロースエステル系樹脂の濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステル系樹脂の濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５〜２５質量％である。

流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。

キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、あまり高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。

金属支持体の温度は、０〜１００℃の範囲で適宜決定されることが好ましく、５〜３０℃が更に好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態で金属支持体から剥離することも好ましい方法である。

金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。

温風を用いる場合は、溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で金属支持体の温度および乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。

セルロースエステル系フィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましい。残留溶媒量の下限の好ましい範囲は、２０〜４０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％である。残留溶媒量の上限の好ましい範囲は、６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、７０〜１２０質量％である。なお、残留溶媒量は下記式で定義される。
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
ここで、Ｍはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。

また、セルロースエステルフィルム或いはセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。

延伸工程では、ウェブ（フィルム）の搬送方向（ＭＤ方向；Machine Direction）、及びこれに垂直な幅手方向（ＴＤ方向；Transverse Direction）に対して、逐次または同時に延伸することができる。互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的にはＭＤ方向に１．０〜２．０倍、ＴＤ方向に１．０７〜２．０倍の範囲とすることが好ましく、ＭＤ方向に１．０〜１．５倍、ＴＤ方向に１．０７〜２．０倍の範囲で行うことが好ましい。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用してＭＤ方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げてＭＤ方向に延伸する方法、同様に横方向に広げてＴＤ方向に延伸する方法、或いはＭＤ／ＴＤ方向同時に広げてＭＤ／ＴＤ両方向に延伸する方法などが挙げられる。

製膜工程のこれらの幅保持或いは幅手方向の延伸は、テンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。テンター内などにおける製膜工程でのフィルム搬送張力は、温度にもよるが、１２０Ｎ／ｍ〜２００Ｎ／ｍが好ましく、１４０Ｎ／ｍ〜２００Ｎ／ｍがさらに好ましく、１４０Ｎ／ｍ〜１６０Ｎ／ｍが最も好ましい。

フィルムを延伸する際の温度は、フィルム基材のガラス転移温度をＴｇ℃とすると、（Ｔｇ−３０）〜（Ｔｇ＋１００）℃、より好ましくは（Ｔｇ−２０）〜（Ｔｇ＋８０）℃、さらに好ましくは（Ｔｇ−５）〜（Ｔｇ＋２０）℃である。

フィルム基材のガラス転移温度は、フィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率によって制御することができる。フィルム基材の乾燥時のガラス転移温度は１１０℃以上が好ましく、さらに１２０℃以上がより好ましい。また、フィルム基材のガラス転移温度は１９０℃以下であることが好ましく、さらに１７０℃以下であることがより好ましい。このとき、フィルム基材のガラス転移温度は、ＪＩＳ Ｋ７１２１に記載の方法などによって求めることができる。

フィルムを延伸する際の温度を１５０℃以上とし、延伸倍率を１．１５倍以上にすると、表面が適度に粗面化するため好ましい。フィルム表面を適度に粗面化することは、滑り性を向上させるのみでなく、表面加工性、特にハードコート層の密着性が向上するため好ましい。フィルム基材の表面の算術平均粗さＲａは、好ましくは２．０ｎｍ〜４．０ｎｍ、より好ましくは２．５ｎｍ〜３．５ｎｍである。

フィルム乾燥工程では、一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールにウェブを交互に通し乾燥させる方式）や、テンターでウェブを搬送しながら乾燥させる方式が採られる。

（溶融流延法）
フィルム基材は、溶融流延法によって製膜することもできる。溶融流延法は、樹脂および可塑剤などの添加剤を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性のセルロースエステルを含む溶融物を流延することをいう。フィルム形成材料が加熱されて、その流動性を発現させた後、ドラム上またはエンドレスベルト上に押出し製膜する方法も溶融流延法に含まれる。

加熱溶融する成形法は、更に詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの成形法の中では、機械的強度および表面精度などの点から、溶融押出成形法が好ましい。溶融押出しに用いる複数の原材料は、通常予め混錬してペレット化しておくことが好ましい。

ペレット化は、公知の方法を用いて行うことができる。例えば、乾燥セルロースエステルや可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出し機に供給し、１軸や２軸の押出し機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷または空冷し、カッティングすることでペレット化できる。

添加剤は、押出し機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで押出し機に供給してもよい。

粒子や酸化防止剤等少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。

押出し機は、剪断力を抑え、樹脂が劣化（分子量低下、着色、ゲル生成等）しないようにペレット化可能で、なるべく低温で加工するものであることが好ましい。例えば、２軸押出し機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。

以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。もちろんペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出し機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。

上記ペレットを１軸や２軸タイプの押出し機を用いて押出す際の溶融温度を２００〜３００℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどで濾過し異物を除去した後、Ｔダイからフィルム状に流延し、冷却ロールと弾性タッチロールとでフィルムをニップし、冷却ロール上で固化させる。

供給ホッパーから押出し機へ材料を導入する際は、真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。また、ペレットの押出し流量は、ギヤポンプを導入するなどして安定に行うことが好ましい。

また、異物の除去に用いるフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を、複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し、接触箇所を焼結し一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、濾過精度を調整できる。

可塑剤や粒子などの添加剤は、予め樹脂と混合しておいてもよいし、押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサーなどの混合装置を用いることが好ましい。

冷却ロールと弾性タッチロールとでフィルムをニップする際のタッチロール側のフィルム温度は、フィルムのＴｇ以上Ｔｇ＋１１０℃以下であることが好ましい。このような目的で使用する弾性タッチロールは、表面に弾性体を有する公知のロールを使用できる。弾性タッチロールは挟圧回転体とも呼ばれ、特許３１９４９０４号、特許３４２２７９８号、特開２００２−３６３３２号、特開２００２−３６３３３号などで開示されているタッチロールを好ましく用いることができる。また、市販されている弾性タッチロールを用いることもできる。

冷却ロールからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。

また、上記のようにして得られたフィルムは、冷却ロールに接する工程を通過後、延伸操作により延伸することが好ましい。延伸する方法は、公知のロール延伸機やテンターなどを好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のＴｇ〜Ｔｇ＋６０℃の温度範囲で行われることが好ましい。

製膜されたフィルムを巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きや、すり傷防止のために、ナーリング加工（エンボッシング加工）を両端に施してもよい。ナーリング加工は、凸凹のパターンを表面に有するエンボスロールを加熱してフィルムに押し付けることによって行うことができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は、通常、フィルムが変形しており、製品として使用できないので切除されて、再利用される。

〔機能性層〕
本実施形態の光学フィルムには、帯電防止層、バックコート層、反射防止層、易滑性層、接着層、バリアー層等の機能性層を設けることができる。

（バックコート層）
本実施形態の光学フィルムは、フィルム基材のハードコート層を設けた側とは反対側の面に、カールやくっつき防止のためにバックコート層を設けてもよい。

バックコート層に添加される無機化合物の粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。

バックコート層に含まれる粒子の量は、バインダーに対して０．１〜５０質量％であることが好ましい。バインダーとしては、ジアセチルセルロース等のセルロースエステル樹脂が好ましい。

また、バックコート層を設けた場合のヘーズの増加は１．５％以下であることが好ましく、０．５％以下であることが更に好ましく、特に０．１％以下であることが好ましい。

（反射防止層）
本実施形態の光学フィルムは、ハードコート層の上層に反射防止層を塗設して、外光反射防止機能を有する反射防止フィルムとして用いることができる。

反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層数、層順等を考慮して積層されていることが好ましい。反射防止層は、支持体であるフィルム基材よりも屈折率の低い低屈折率層、もしくは支持体であるフィルム基材よりも屈折率の高い高屈折率層と低屈折率層とを組み合わせて構成されていることが好ましい。特に好ましくは、３層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる３層を、中屈折率層（支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているものが好ましく用いられる。または、２層以上の高屈折率層と２層以上の低屈折率層とを交互に積層した４層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。

反射防止フィルムの層構成としては、下記のような構成が考えられるが、これに限定されるものではない。

フィルム基材／ハードコート層／低屈折率層
フィルム基材／ハードコート層／中屈折率層／低屈折率層
フィルム基材／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
フィルム基材／ハードコート層／高屈折率層（導電性層）／低屈折率層
フィルム基材／ハードコート層／防眩性層／低屈折率層

＜低屈折率層＞
低屈折率層は、シリカ系微粒子を含有することが好ましく、その屈折率は、２３℃、測定波長５５０ｎｍにおいて、１．３０〜１．４５の範囲であることが好ましい。

低屈折率層の膜厚は、５ｎｍ〜０．５μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍであることが最も好ましい。

低屈折率層形成用組成物については、シリカ系微粒子として、特に外殻層を有し内部が多孔質または空洞の粒子を少なくとも１種類以上含むことが好ましい。特に該外殻層を有し内部が多孔質または空洞である粒子が、中空シリカ系微粒子であることが好ましい。

なお、低屈折率層形成用組成物には、下記一般式（ＯＳｉ−１）で表される有機珪素化合物もしくはその加水分解物、或いは、その重縮合物を併せて含有させても良い。

一般式（ＯＳｉ−１）：Ｓｉ（ＯＲ）₄
式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を表す。前記一般式で表される有機珪素化合物として、具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。

また、低屈折率層形成用組成物は、フッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含み、且つ架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素化合物を主としてなる熱硬化性および／または光硬化性を有する化合物を含有してもよい。具体的には、含フッ素ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル化合物などである。含フッ素ポリマーとしては、例えばパーフルオロアルキル基含有シラン化合物〔例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン〕の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。その他、溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を低屈折率層形成用組成物に添加してもよい。

＜高屈折率層＞
高屈折率層の屈折率は、２３℃、測定波長５５０ｎｍにおいて、１．４〜２．２の範囲であることが好ましい。また、高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜０．２μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ〜０．１μｍであることが最も好ましい。屈折率を調整する手段は、高屈折率層に金属酸化物微粒子等を添加することで達成できる。用いる金属酸化物微粒子の屈折率は、１．８０〜２．６０であることが好ましく、１．８５〜２．５０であることが更に好ましい。

金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることができる。これらの金属酸化物微粒子には、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素、Ｔａなどの微量の原子がドープされていてもよく、また、これらの混合物であってもよい。中でも、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも１種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが特に好ましい。特にアンチモン酸亜鉛粒子を含有することが好ましい。

これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は、１０ｎｍ〜２００ｎｍであり、１０ｎｍ〜１５０ｎｍであることが特に好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができるが、動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘーズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、針状或いは不定形状であることが好ましい。

金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理されてもよい。金属酸化物微粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑えることもできる。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は、金属酸化物微粒子に対して０．１質量％〜５質量％、より好ましくは０．５質量％〜３質量％である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でもシランカップリング剤が好ましい。また、二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。

また、高屈折率層は、π共役系導電性ポリマーを含有してもよい。π共役系導電性ポリマーとは、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば使用することができる。例えば、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリアニリン類、ポリフェニレン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体が挙げられる。重合の容易さ、安定性の点からは、ポリチオフェン類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類が好ましい。

π共役系導電性ポリマーは、無置換のままでも十分な導電性やバインダー樹脂への溶解性を示すが、導電性や溶解性をより高めるために、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基等の官能基を導入してもよい。該ポリマーとバインダーとの比率は、ポリマー１００質量部に対して、バインダーが１０〜４００質量部であることが好ましく、特に好ましくは、ポリマー１００質量部に対して、バインダーが１００〜２００質量部である。

また、高屈折率層はイオン性化合物を含有してもよい。イオン性化合物としては、イミダゾリウム系、ピリジウム系、脂環式アミン系、脂肪族アミン系、脂肪族ホスホニウム系の陽イオンと、ＢＦ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-等の無機イオン系、ＣＦ₃ＳＯ₂ ^-、（ＣＦ₃ＳＯ₂）₂Ｎ^-、ＣＦ₃ＣＯ₂ ^-等のフッ素系の陰イオンとからなる化合物等が挙げられる。

〔偏光板〕
次に、本実施形態の光学フィルムを用いた偏光板について説明する。偏光板は一般的な方法で作製することができる。本実施形態の光学フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理した光学フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。なお、偏光膜のもう一方の面に、本実施形態の光学フィルムを貼り合わせてもよく、上述したフィルム基材を貼り合わせてもよい。

また、他に、波長５９０ｎｍにおいて、面内リターデーションＲｏが、２０〜７０ｎｍ、膜厚方向のリターデーションＲｔが７０〜４００ｎｍの位相差を有する光学補償フィルム（位相差フィルム）を用いて、視野角拡大可能な偏光板とすることもできる。このような偏光板は、例えば特開２００２−７１９５７号公報に記載の方法で作製することができる。また、更にディスコチック液晶等の液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開２００３−９８３４８号公報に記載の方法で光学異方性層を形成することができる。

また、好ましく用いられる市販の偏光板フィルム基材としては、ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ４ＵＥＷ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ４ＦＲ−２、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ４ＵＥ（コニカミノルタオプト（株）製）等が挙げられる。

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子である。現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムであり、これには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがあるが、偏向膜はこれらに限定されるものではない。

偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光膜は、膜厚が５〜３０μｍ、好ましくは８〜１５μｍのものが好ましく用いられる。

該偏光膜の面上に、本実施形態の光学フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは、完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。

〔粘着層〕
液晶セルの基板と貼り合わせるためにフィルム基材の片面に用いられる粘着層は、光学的に透明であることはもとより、適度な粘弾性や粘着特性を示すものが好ましい。

具体的には、粘着層として、例えばアクリル系共重合体やエポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーン系ポリマー、ポリエーテル、ブチラール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、合成ゴムなどの接着剤もしくは粘着剤等のポリマーを用いることができる。これらの材料を用いて、乾燥法、化学硬化法、熱硬化法、熱熔融法、光硬化法等によって膜形成し、硬化させることによって粘着層を形成することができる。中でも、アクリル系共重合体は、最も粘着物性を制御しやすく、かつ透明性や耐候性、耐久性などに優れており、好ましく用いることができる。

＜液晶表示装置＞
本実施形態の光学フィルムを用いて作製した偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた画像表示装置を作製することができる。

本実施形態の光学フィルムは偏光板に組み込まれて、反射型、透過型、半透過型液晶表示装置またはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型、ＯＣＢ型等の各種駆動方式の液晶表示装置に好ましく用いられる。

また、タッチパネル付き液晶表示装置のタッチパネル用部材に本実施形態の光学フィルムを用いることもできる。この場合、視認性やペン入力に対する耐久性（摺動による傷等）を向上させることができる。

〔硬化膜〕
次に、フィルム基材の幅方向両端部に形成される硬化膜について説明する。硬化膜は、光学フィルムの巻き取り時における巻芯方向の巻きずれを抑える目的で形成されるものである。硬化膜の形成位置は、フィルム基材の幅方向の両端部であれば特に制約はなく、幅方向の両端部のそれぞれにおいて、幅方向端部から全幅比率で例えば０．２〜６％の範囲に形成することができる。

硬化膜の材料としては、ハードコート層を形成する上述の材料と同一のものを選択することができる。ここでは、活性エネルギー線硬化型アクリレート樹脂の樹脂材料および活性線エネルギーの照射条件（照射量等）を適切に選択または制御することで、硬化後の弾性率が４．０〜８．０ＧＰａとなる硬化膜を実現している。硬化膜の弾性率は、上記樹脂材料における官能基数および粒子添加、硬化条件によって制御することができ、２官能基以上の活性エネルギー線硬化型アクリレートを３００ｍＪ／ｃｍ²以上の活性線エネルギー線を照射することで、弾性率４．０〜８．０ＧＰａを実現することができる。

なお、弾性率とは、ひずみと応力との比例係数を指し、応力に対してひずみの小さい材料は、弾性率が高く、硬いことを示す（弾性率の小さい材料は柔らかい）。ちなみに、弾性率４．０〜８．０ＧＰａは、フィルム基材１の弾性率よりも高い。なお、上述したハードコート層の材料から異なる２種の材料を選択し、一方の材料を用いてハードコート層を形成し、他方の材料を用いて硬化膜を形成することもできる。

図１（ａ）および図１（ｂ）は、硬化膜形成時の光学フィルムＦのＭＤ方向（搬送方向）およびＴＤ方向（幅手方向）に沿った断面図をそれぞれ示している。なお、同図では、便宜上、フィルム基材１上のハードコート層の図示を省略している。本実施形態では、フィルム基材１の幅方向両端部に形成される硬化膜２ａ・２ｂの形成位置、つまり、各硬化膜２ａ・２ｂを形成する材料の塗布位置に対応して、２つのダイコーターＤ１・Ｄ２がそれぞれ設けられており、このダイコーターＤ１・Ｄ２によって、フィルム基材１上に硬化膜２ａ・２ｂがそれぞれ形成される。

ダイコーターＤ１・Ｄ２は、硬化膜材料の塗布量を各々調整することが可能であり、これによって、硬化膜の高さを数μｍ単位で調整することが可能である。このような精度の高い硬化膜の高さ管理は、インクジェット方式やドクターブレードを用いたグラビアロールコーティング法ではできない。これは、インクジェット方式では、硬化膜材料を吐出するノズルの径が数十μｍと大きく、吐出量を制御して数μｍ単位で硬化膜の高さを調整することは現実的には困難と考えられるからである。また、グラビアロールコーティング法では、硬化膜材料をコーティングロールの表面に供給し、余剰の硬化膜材料をドクターブレードによって掻き落とし、フィルム基材１への塗布量を調整することにより硬化膜が形成されるが、ドクターブレードは、フィルム幅方向の両端部への塗布量を個別に制御できるものではなく、両端部の各硬化膜の高さを個別に制御することができないからである。

以下、フィルム基材１上で幅方向の一端部側に形成される硬化膜２ａを形成する材料を硬化膜材料２ａ₁とし、他端部側に形成される硬化膜２ｂを形成する材料を硬化膜材料２ｂ₁とする。

各硬化膜２ａ・２ｂの形成は、以下のようにして行われる。すなわち、２つのダイコーターＤ１・Ｄ２にて、各硬化膜材料２ａ₁・２ｂ₁の塗布量を互いに独立して制御しながら、各硬化膜材料２ａ₁・２ｂ₁をダイコーターＤ１・Ｄ２からそれぞれ押し出し、フィルム基材１を搬送しながら、フィルム基材１上の幅方向両端部に、フィルム基材１の長手方向（搬送方向）に帯状に塗布する。そして、活性エネルギー線（例えば紫外線）の照射によって各硬化膜材料２ａ₁・２ｂ₁を硬化させる。これにより、フィルム基材１上の幅方向両端部に、各硬化膜２ａ・２ｂがそれぞれ帯状に形成される。なお、ハードコートフィルムの場合、各硬化膜２ａ・２ｂの形成は、ハードコート層の形成と同時に行ってもよいし（インライン塗布）、ハードコート層の形成後に行ってもよいが、これらの形成を同時に行うほうが効率的である。

このように、フィルム基材１の幅方向の両端部において、各硬化膜材料２ａ₁・２ｂ₁の塗布量を互いに独立して制御することで、各硬化膜２ａ・２ｂの高さの差が小さくなるように、上記高さを個別にかつ高精度で制御することが可能となる。その結果、本実施形態では、各硬化膜２ａ・２ｂの高さの差がフィルム基材１の厚さの３％以下となっている。このように、フィルム基材１の厚さに対して、各硬化膜２ａ・２ｂの高さのバラツキを格段に小さくできるので、薄膜で長尺のフィルム基材１を巻き取ったときでも、幅方向の一方側で巻径が小さく他方側で巻径が大きくなるようなことはなく、巻き姿を良好にしてフィルムの変形（ねじれやシワの発生）を防止することができる。

また、硬化後の各硬化膜２ａ・２ｂの弾性率が４．０ＧＰａ以上であるので、薄膜で長尺のフィルム基材１を巻き取ったときでも、各硬化膜２ａ・２ｂがつぶれにくくなる。これにより、フィルム基材１・１同士の貼り付き（ブロッキング）を防止することができ、この貼り付きによってフィルムが塑性変形を起こして位相差が変動するのを抑えることができ、光学特性の劣化を抑えることができる。また、硬化後の各硬化膜２ａ・２ｂの弾性率が８．０ＧＰａ以下であるので、硬化膜の靱性を保つことができ、割れ、裂けなどのフィルム欠陥を抑制することができる。

また、ダイコーターＤ１・Ｄ２を用いることで、各硬化膜材料２ａ₁・２ｂ₁の塗布量の制御を容易に行うことができる。このため、各硬化膜材料２ａ₁・２ｂ₁を、対応するダイコーターＤ１・Ｄ２によって、フィルム基材１の幅方向両端部に塗布し、硬化させることで、各硬化膜２ａ・２ｂの高さの制御、管理が容易となる。また、各硬化膜２ａ・２ｂを厚膜で形成する場合でも、インクジェット方式のように生産速度（フィルム搬送速度）を落とす必要がないため、インクジェット方式に比べてフィルムの生産効率を向上させることができる。

また、各硬化膜材料２ａ₁・２ｂ₁の樹脂成分が、活性エネルギー線硬化型アクリレート樹脂であるので、活性エネルギー線（例えば紫外線）の照射によって各硬化膜材料２ａ₁・２ｂ₁を硬化させて、各硬化膜２ａ・２ｂを容易に形成することができる。

また、フィルム基材１が厚さ４０μｍ以下の薄膜であると、フィルム基材１を巻き取ったときに巻き数が多くなり、巻径方向の押圧力の増大およびフィルム基材１の自重によって各硬化膜２ａ・２ｂがつぶれやすくなる。このため、特に、厚さが４０μｍ以下の薄膜のフィルム基材１を用いて各硬化膜２ａ・２ｂを形成する場合に、上述した本実施形態の製法が非常に有効となる。

また、厚さ４０μｍ以下の薄膜では、限界座屈応力が小さくなって変形を拾いやすくなり、巻き取りの難易度が上がる。しかし、本実施形態のように、弾性率の高い各硬化膜２ａ・２ｂを形成して、巻き取り時のフィルムの変形を抑えるようにすることで、巻き取るフィルムが薄膜の場合でも、その巻き取りを容易にすることができる。

また、フィルム基材１としては、上述したように、トリアセチルセルロースフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、アクリルフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルムなどで構成することができるが、中でも、トリアセチルセルロースフィルムは、液晶表示装置の偏光板を構成する光学フィルムとして多く用いられている。そのような、トリアセチルセルロースフィルムの幅方向両端部に各硬化膜２ａ・２ｂを形成する場合には、上述した本実施形態の製法が非常に有効となる。

＜実施例＞
以下、本発明の具体例について、実施例として説明する。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるわけではない。また、各実施例との比較のため、比較例についても併せて説明する。なお、以下の実施例および比較例において、フィルム基材１の厚さは、全て４０μｍとした。

（実施例１）
実施例１では、フィルム基材１として、トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ）を用い、各硬化膜材料２ａ₁・２ｂ₁として、ペンタエリスリトールジアクリレート樹脂を用いた。そして、各硬化膜２ａ・２ｂの高さの差がフィルム基材１の厚さの３％以下となるように、ダイコーターＤ１・Ｄ２によって塗布量を制御しながら、フィルム基材１の幅方向両端部に硬化膜材料２ａ₁・２ｂ₁をそれぞれ塗布し、紫外線の照射によって硬化させて、弾性率４．０ＧＰａの各硬化膜２ａ・２ｂを形成した。なお、このときの紫外線の照射条件は、照度１００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²であった。

（実施例２）
実施例２では、各硬化膜材料２ａ₁・２ｂ₁として、ペンタエリスリトールトリアクリレート樹脂を用い、各硬化膜２ａ・２ｂの弾性率を５．５ＧＰａとした以外は、実施例１と同様の条件で各硬化膜２ａ・２ｂを形成した。なお、紫外線の照射条件についても、実施例１と同様である。

（実施例３）
実施例３では、フィルム基材１として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ）を用いた以外は、実施例２と同様の条件で各硬化膜２ａ・２ｂを形成した。

（実施例４）
実施例４では、フィルム基材１として、アクリルフィルムを用いた以外は、実施例２と同様の条件で各硬化膜２ａ・２ｂを形成した。

（実施例５）
実施例５では、フィルム基材１として、シクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ）を用いた以外は、実施例２と同様の条件で各硬化膜２ａ・２ｂを形成した。

（比較例１）
比較例１では、紫外線の照射条件を、照度８０ｍＷ／ｃｍ²、照射量１００ｍＪ／ｃｍ²とし、各硬化膜２ａ・２ｂの弾性率を３．５ＧＰａとした以外は、実施例１と同様の条件で各硬化膜２ａ・２ｂを形成した。

（比較例２）
比較例２では、各硬化膜材料２ａ₁・２ｂ₁の塗布をインクジェット方式で行った以外は、実施例２と同様の条件で各硬化膜２ａ・２ｂを形成した。

（比較例３）
比較例３では、各硬化膜材料２ａ₁・２ｂ₁の塗布をグラビアロールコーティング法で行った以外は、実施例２と同様の条件で各硬化膜２ａ・２ｂを形成した。

（比較例４）
比較例３では、各硬化膜材料２ａ₁・２ｂ₁の塗布をワイヤーバー方式で行った以外は、実施例２と同様の条件で各硬化膜２ａ・２ｂを形成した。

（比較例５）
比較例５では、各硬化膜材料２ａ₁・２ｂ₁として、ナノシリカ粒子７０％含有ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）樹脂を用い、各硬化膜２ａ・２ｂの弾性率を８．５ＧＰａとした以外は、実施例１と同様の条件で各硬化膜２ａ・２ｂを形成した。なお、比較例５では、各硬化膜材料２ａ₁・２ｂ₁に対する紫外線の照射条件も、実施例１と同じ条件（照度１００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²）とした。

（評価方法）
〔巻き取り状態の評価〕
各実施例および各比較例にて作製された光学フィルムを巻き取り、巻き取り状態の評価を行った。ここでは、巻き取り中および巻き取り後におけるフィルムの貼り付き（ブロッキング）を示すゲージバンドの評価と、巻き取り中の巻き姿（ロール変形状況）の評価と、硬化膜の割れ、裂けの評価とを行った。

ゲージバンドの評価基準は、以下の通りである。
◎：ゲージバンドが全く発生しておらず、良好である。
○：ゲージバンドが発生しているが、問題のないレベルである。
×：ゲージバンドが実使用上問題がある程度に発生しており、不良である。

巻き姿の評価基準は、以下の通りである。
◎：幅方向全体にわたって巻径が一定であり、巻き姿が良好である。
○：幅方向において巻径が変化しているが、問題のないレベルである。
×：幅方向において巻径が実使用上問題のある程度に変化しており、不良である。

硬化膜の割れ、裂けの評価基準は、以下の通りである。
○：ロール巻き取り後の繰り出し時の硬化膜の割れ、裂けが発生しなかった
×：ロール巻き取り後の繰り出し時の硬化膜の割れ、裂けが発生した。

〔各硬化膜の高さ精度について〕
上記した各硬化膜２ａ・２ｂの高さについては、光学干渉式の非接触膜厚計（キーエンス社製ＳＩ−Ｔ）を用いて測定し、
｛（各硬化膜２ａ・２ｂの高さの差）／（フィルム基材１の厚さ）｝×１００（％）
の演算により、各硬化膜２ａ・２ｂの高さ精度を算出した。

〔耐久後の位相差変動の評価について〕
巻き取った光学フィルムを、温度２３℃、湿度５５％ＲＨの環境下で３か月間放置した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器株式会社製）を用いてリターデーション値Ｒ（ＲｏおよびＲｔ）を測定し、放置前後でのリターデーション値Ｒの変動を、耐久後の位相差変動として評価した。位相差変動の評価の基準は、以下の通りである。
◎：Ｒ値の最大変動が０である。
○：Ｒ値の最大変動が０よりも大きく２ｎｍ以下である。
×：Ｒ値の最大変動が５ｎｍ以上である。

表１に、各実施例および各比較例についての評価の結果を示す。

実施例１〜５の結果より、各硬化膜２ａ・２ｂの高さの差がフィルム基材１の厚さの３％以下で、各硬化膜２ａ・２ｂの弾性率が４．０ＧＰａ以上であれば、ゲージバンド、耐久後の位相差変動および巻き姿のいずれについても問題のないレベルであり、特に、各硬化膜２ａ・２ｂの弾性率が高くなるほど、それらについて良好な結果が得られていることがわかる。

一方、比較例１では、ゲージバンドおよび耐久後の位相差変動において不良となっている。これは、各硬化膜２ａ・２ｂの弾性率が３．５ＧＰａで、十分な硬さを有していないため、光学フィルムを巻き取ったときに各硬化膜２ａ・２ｂがつぶれてフィルム同士が面で貼り付き、荷重がかかることによって塑性変形を起こし、フィルム位相差が変化したためと考えられる。

また、比較例２〜４では、光学フィルムＦの巻き姿が不良となっている。これは、ダイコート方式以外の塗布方式（インクジェット方式、グラビアロールコーティング方式、ワイヤーバー方式）では、各硬化膜２ａ・２ｂの高さ管理を精度よく行うことができない結果、フィルム基材１の厚さに対して、各硬化膜２ａ・２ｂの高さの差（バラツキ）が５μｍ以上と大きくなり、幅方向において巻径が変化したものと考えられる。

また、比較例５では、光学フィルムの割れ、裂けの不良が発生している。これは、硬化膜２ａ・２ｂの弾性率が８．０ＧＰａを超えており、十分な靱性を保持できていないため、ロール繰り出し時に端部に負荷がかかることで硬化膜に割れ、裂けが発生したものと考えられる。

以上のことから、各硬化膜２ａ・２ｂの高さの差がフィルム基材１の厚さの３％以下で、かつ、弾性率が４．０〜８．０Ｇｐａとなるように、各硬化膜材料２ａ₁・２ｂ₁の塗布量を互いに独立して制御しながら、各硬化膜材料２ａ₁・２ｂ₁をフィルム基材１の幅方向両端部に塗布し、硬化させることにより、薄型の光学フィルムＦを巻き取ったときでも、巻き姿を良好にしてフィルムの変形を防止できるとともに、フィルム同士のブロッキングを防止して位相差変動による光学特性の劣化を抑えることができ、さらに、光学フィルムＦの割れ、裂けの発生を抑えることができると言える。

なお、各硬化膜２ａ・２ｂの弾性率は、実施例２〜５で示した５．５ＧＰａと比較例５で示した８．５ＧＰａとの中間の７．０ＧＰａ以下であれば、硬化膜の割れ、裂けによるフィルム劣化をより抑えることができると考えられる。

なお、本実施形態では、フィルム基材１上にハードコート層を塗布した塗布品に、各硬化膜２ａ・２ｂを形成する例について説明したが、フィルム基材１そのものに各硬化膜２ａ・２ｂを形成する場合も本実施形態の製法を適用することができる。

本発明は、例えば液晶表示装置に用いられる偏光板用保護フィルム、位相差フィルム、視野角拡大フィルムなどの各種機能フィルムの製造に利用可能である。

１ フィルム基材
２ａ 硬化膜
２ａ₁ 硬化膜材料
２ｂ 硬化膜
２ｂ₁ 硬化膜材料
Ｄ１ ダイコーター
Ｄ２ ダイコーター
Ｆ 光学フィルム

Claims (5)

1. フィルム基材の幅方向両端部において、前記フィルム基材の長手方向に帯状に各硬化膜を形成する光学フィルムの製造方法であって、
   前記各硬化膜の材料の塗布量を互いに独立して制御しながら、前記各硬化膜材料を前記フィルム基材の幅方向両端部に塗布し、硬化させることにより、前記各硬化膜の高さの差が前記フィルム基材の厚さの３％以下で、弾性率が４．０〜８．０ＧＰａの前記各硬化膜をそれぞれ形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
2. 前記各硬化膜材料を、対応するダイコーターによって、前記フィルム基材の幅方向両端部に塗布し、硬化させることにより、前記各硬化膜をそれぞれ形成することを特徴とする請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
3. 前記硬化膜材料の樹脂成分が、活性エネルギー線硬化型アクリレート樹脂であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法。
4. 前記フィルム基材の厚さが、４０μｍ以下であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
5. 前記フィルム基材が、トリアセチルセルロースフィルムであることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。

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