JPWO2013151135A1 - マイクロアレイ処理装置、マイクロアレイ処理装置用ウェルプレート、マイクロアレイホルダ、及び、マイクロアレイの洗浄方法 - Google Patents

Abstract

マイクロアレイを十分に洗浄することができるマイクロアレイ処理装置を提供することを目的とする。マイクロアレイ処理装置（30）は、マイクロアレイ（1）を収容する１又は２以上のウェル（40）が設けられているウェルプレート（38）と、ウェルから液体を吸引する吸引ノズル（46）とを備え、ウェルは、上端が開口しマイクロアレイの高さ以上の深さを有し且つ吸引ノズルの先端をこのウェルに収容されたマイクロアレイの下端の高さ位置まで挿通可能な凹部形状を備え、吸引ノズルは、この吸引ノズルの先端が、ウェルに収容されたマイクロアレイの下端の高さ位置に位置するまで、ウェル内を相対的に降下可能である。

Description

本発明は、マイクロアレイ処理装置、マイクロアレイ処理装置用ウェルプレート、マイクロアレイホルダ、及び、マイクロアレイの洗浄方法に関し、詳細には、マイクロアレイのハイブリダイゼーション処理及び洗浄処理を行うマイクロアレイ処理装置等に関する。

多数の遺伝子の一括発現解析を行う方法として、ＤＮＡチップ法（ＤＮＡマイクロアレイ法）と呼ばれる分析法が知られている。この分析法では、例えば、多数のＤＮＡ断片が中央部の貫通孔内に固定された平板状のマイクロアレイを、蛍光色素等で標識した研究対象の細胞の発現遺伝子等を含むサンプル（液体試料）に浸し、ハイブリダイゼーションを行わせて互いに相補的な核酸同士を結合させ、ハイブリットを形成した区画を検出装置で読み取ることにより、核酸の検出及び定量を行う。
このＤＮＡチップ法では、ハイブリダイゼーションが完了すると、核酸の検出及び定量に先だって、洗浄液でマイクロアレイに付着している液体試料を洗浄する洗浄処理が行われる。

そして、このＤＮＡチップ法では、マイクロアレイのハイブリダイゼーション処理及び洗浄処理を行うためのマイクロアレイ処理装置が用いられている。このマイクロアレイ処理装置では、ウェルプレートの上面に、上向きの開口を備えた有底長穴状に形成された複数のウェルが配列されている。これらの各ウェルに、ウェルの深さと同じ高さを有するマイクロアレイホルダによって外縁が保持された平板状のマイクロアレイを立てた状態で収容し、ウェルに液体試料を注入し、一定時間、高温に保持することでハイブリダイゼーション処理を行う。その後、マイクロアレイホルダが収容されているウェル内の液体試料を吸引ノズルで吸引しながら、このウェルに注入ノズルで洗浄液を注入することにより、洗浄処理を行う（特許文献１）。

特開２００８−３０９６６９号公報

ところで、ハイブリダイゼーションを行う際にウェルに注入される液体試料の量は、液体試料を採取される患者の負担を低減する等の理由により、可能な限り少ないことが望ましい。そこで、上述したような従来のマイクロアレイ処理装置では、立てた状態でウェルに収容されたマイクロアレイとウェルの内壁との間隔を狭めることでウェルの容積を低減し、必要な液体試料の量を少なくしている。この結果、従来のマイクロアレイ処理装置では、ウェルに収容されたマイクロアレイとウェルの内壁との間隔は、吸引ノズル及び注入ノズルの外径よりも小さくなっている。

一方、ウェルに対して、吸引ノズルを用いた液体の吸引、及び注入ノズルを用いた洗浄液等の注入を行う必要があることから、ウェルには、マイクロアレイをウェルに収容した状態で、吸引ノズル及び注入ノズルの先端部をウェル内に挿入可能とする凹部が形成されている。これらの凹部は、上述のようにウェルの容積を可能な限り小さくするため、ウェルに収容されたマイクロアレイの側方で終端している。即ち、マイクロアレイの洗浄処理において、吸引ノズルはマイクロアレイの側方までしか挿入できないので、ウェルに収容されたマイクロアレイの下端よりも下方に液面が低下するまでウェル内の液体を吸引することはできない。その結果、ウェル内の液体を十分に吸引すること、及びウェルに注入された洗浄液をマイクロアレイの下端まで十分に行き渡らせることができず、マイクロアレイの洗浄が不十分となる可能性がある。

また、上述したような従来のマイクロアレイの洗浄処理では、ウェル内の液体を吸引ノズルを用いて吸引しながら、このウェルに注入ノズルを用いて洗浄液を注入するため、ウェル内の液体試料と洗浄液とを十分に置換することができず、マイクロアレイの洗浄が不十分となる可能性がある。

また、上述したような従来のマイクロアレイホルダでは、マイクロアレイの側端面と側端面に連なる表面および裏面の外縁部とが「コ字状」に保持される構成であるため、ハイブリダイゼーション処理において、マイクロアレイの側端面とマイクロアレイホルダとの間に侵入した液体試料が、洗浄液による洗浄処理によっても十分に除去されず残留し易くなる。そして、このように残留した液体試料が検出時に流れ出し、核酸の検出及び定量の精度が低下することがあった。

また、ハイブリダイゼーション処理を行っている間に、ウェルに注入された液体試料が蒸発することを防止するため、各ウェルの開口を密閉する必要がある。そこで、従来のマイクロアレイ処理装置では、ウェルカバーでウェルの開口を密閉している。具体的には、平板状のウェルカバーがウェルプレートの上方に配置され、ウェルカバーの下面がウェルプレートの上面と対向するようになっている。マイクロアレイが収容されたウェルに液体試料を注入し、その後、ウェルカバーを下降させてウェルカバーの下面をウェルプレートの上面に密着させることで、ウェルの開口がウェルカバーの下面により密閉される。
しかし、従来のマイクロアレイ処理装置では、ウェルに収容されるマイクロアレイホルダの高さがウェルの深さと同一であるため、ウェルの開口面と面一になっているマイクロアレイホルダの上端面が、ウェルカバーの下面に吸着される可能性がある。その結果、ハイブリダイゼーション処理の完了後、ウェルカバーを上昇させる際に、ウェルカバーの下面に吸着したマイクロアレイホルダがウェルカバーと一緒に引き上げられてしまう可能性がある。
また、ウェル又はマイクロアレイホルダの製造誤差により、ウェルへの収容時にマイクロアレイホルダの上端面がウェルの開口面よりも上方に突出する可能性がある。その結果、ウェルカバーを下降させる際、ウェルプレートの上面よりも先にマイクロアレイホルダの上端面がウェルカバーの下面に当接してしまい、ウェルの開口をウェルカバーの下面によって密閉できない可能性がある。

本発明は、上述した従来技術の問題点を解決するためになされたものであり、マイクロアレイを十分に洗浄することができ、ウェルに注入された液体試料が蒸発することを防止することができるマイクロアレイ処理装置、マイクロアレイ処理装置用ウェルプレート、マイクロアレイホルダ、及び、マイクロアレイの洗浄方法を提供することを目的とする。

上記の目的を達成するために本発明によれば、マイクロアレイのハイブリダイゼーション処理及び洗浄処理を行うマイクロアレイ処理装置であって、マイクロアレイを収容する１又は２以上のウェルが設けられているウェルプレートと、ウェルから液体を吸引する吸引ノズルと、を備え、ウェルは、上端が開口しマイクロアレイの高さ以上の深さを有し且つ吸引ノズルの先端をこのウェルに収容されたマイクロアレイの下端の高さ位置まで挿通可能な凹部形状を備え、吸引ノズルは、この吸引ノズルの先端が、ウェルに収容されたマイクロアレイの下端の高さ位置に位置するまで、ウェル内を相対的に降下可能であることを特徴とするマイクロアレイ処理装置が提供される。
このように構成された本発明においては、ウェルに収容されたマイクロアレイの下端の高さ位置に先端が位置するまで降下した吸引ノズルによって、ウェルにおける液面がマイクロアレイの下端の高さ位置に低下するまで、ウェルから液体を吸引することができる。従って、その後ウェルに洗浄液を注入することにより、ウェル内の液体と洗浄液とを十分に置換することができ、マイクロアレイを十分に洗浄することができる。

また、本発明において、好ましくは、マイクロアレイ処理装置は、ウェルに液体を注入する注入ノズルを備えている。
このように構成された本発明においては、注入ノズルによって洗浄液等の液体をウェルに注入することができる。

また、本発明において、好ましくは、ウェルの凹部形状は、注入ノズルの先端をウェルに収容されたマイクロアレイの上端より下方の高さ位置まで挿通可能な形状であり、注入ノズルは、この注入ノズルの先端がウェルに収容されたマイクロアレイの上端より下方の高さ位置に位置するまで、ウェル内を相対的に降下可能である。
このように構成された本発明においては、注入ノズルは、注入ノズルの先端がウェルに収容されたマイクロアレイの上端より下方の高さ位置に位置するまで、ウェル内を相対的に降下可能であるので、この注入ノズルからウェル内に確実に洗浄液等の液体を注入することができる。

また、本発明において、好ましくは、ウェルは、マイクロアレイホルダに取り付けられた平板状のマイクロアレイを立てた状態で収容する。
このように構成された本発明においては、マイクロアレイホルダに取り付けられ立てた状態でウェルに収容されたマイクロアレイの下端の高さ位置に先端が位置するまで降下した吸引ノズルによって、ウェルにおける液面がマイクロアレイの下端の高さ位置に低下するまで、ウェルから液体を吸引することができる。従って、その後ウェルに洗浄液を注入することにより、ウェル内の液体と洗浄液とを十分に置換することができ、マイクロアレイホルダに取り付けられた平板状のマイクロアレイを十分に洗浄することができる。

また、本発明において、好ましくは、マイクロアレイ処理装置は、ハイブリダイゼーション処理及び洗浄処理に関する運転条件の入力を受け付ける入力手段と、入力手段を介して入力された運転条件に基づき、ハイブリダイゼーション処理及び洗浄処理の終了予定時間を算出する算出手段と、算出手段による算出結果を出力する出力手段と、を備えている。
このように構成された本発明においては、出力手段が、入力手段を介して入力された運転条件に対応するハイブリダイゼーション処理及び洗浄処理の終了予定時間を出力するので、ハイブリダイゼーション処理及び洗浄処理の終了予定時間をユーザに把握させることができる。

また、本発明において、好ましくは、吸引ノズルは、この吸引ノズルの先端が、ウェルの底面から１ｍｍ以上２ｍｍ以下の高さ位置に位置するまで、ウェル内を相対的に降下可能である。
このように構成された本発明においては、ウェルの底面から１ｍｍ以上２ｍｍ以下の高さ位置に位置するまで降下した吸引ノズルによって、ウェルからほぼ全ての液体を吸引することができる。従って、その後ウェルに洗浄液を注入することにより、ウェル内の液体と洗浄液とを十分に置換することができ、マイクロアレイを十分に洗浄することができる。

また、本発明において、好ましくは、吸引ノズルの先端面は、ウェルの底面に対する傾斜角が１０度以下である。
このように構成された本発明においては、吸引ノズルの先端面の全体をウェルの底面に近接させることができ、ウェル内の液面がウェルの底面近傍に低下するまでウェルから液体を吸引することができる。従って、その後ウェルに洗浄液を注入することにより、ウェル内の液体と洗浄液とを十分に置換することができ、マイクロアレイを十分に洗浄することができる。

また、本発明の他の態様によれば、マイクロアレイのハイブリダイゼーション処理及び洗浄処理を行うマイクロアレイ処理装置用ウェルプレートであって、マイクロアレイを収容する１又は２以上のウェルを有し、ウェルは、上端が開口しマイクロアレイの高さ以上の深さを有し且つこのウェルから液体を吸引するための吸引ノズルの先端をウェルに収容されたマイクロアレイの下端の高さ位置まで挿通可能な凹部形状を備えたことを特徴とするマイクロアレイ処理装置用ウェルプレートが提供される。
このように構成された本発明においては、ウェルに収容されたマイクロアレイの下端の高さ位置に先端が位置するまで降下した吸引ノズルによって、ウェルにおける液面がマイクロアレイの下端の高さ位置に低下するまで、ウェルから液体を吸引することができる。従って、その後ウェルに洗浄液を注入することにより、ウェル内の液体と洗浄液とを十分に置換することができ、マイクロアレイを十分に洗浄することができる。

また、本発明において、好ましくは、ウェルの凹部形状は、吸引ノズルの先端をウェルに収容されたマイクロアレイの下端より下方の高さ位置まで挿通可能な形状である。
このように構成された本発明においては、ウェルに収容されたマイクロアレイの下端よりも下方の高さ位置に先端が位置するまで降下した吸引ノズルによって、ウェルにおける液面がマイクロアレイの下端よりも下方の高さ位置に低下するまで、ウェルから液体を吸引することができる。従って、その後ウェルに洗浄液を注入することにより、ウェル内の液体と洗浄液とを十分に置換することができ、マイクロアレイを十分に洗浄することができる。

また、本発明において、好ましくは、ウェルの凹部形状は、このウェルに液体を注入する注入ノズルの先端をウェルに収容されたマイクロアレイの上端より下方の高さ位置まで挿通可能な形状である。
このように構成された本発明においては、ウェルの凹部形状は、注入ノズルの先端をウェルに収容されたマイクロアレイの上端より下方の高さ位置まで挿通させることができるので、この注入ノズルからウェル内に確実に洗浄液等の液体を注入することができる。

また、本発明において、好ましくは、ウェルの凹部形状は、注入ノズルの先端をウェルに収容されたマイクロアレイの下端より下方の高さ位置まで挿通可能な形状である。
このように構成された本発明においては、ウェルの凹部形状は、注入ノズルの先端を、ウェルに収容されたマイクロアレイの下端より下方の高さ位置まで挿通させることができるので、マイクロアレイの下端よりも下方の高さ位置から注入ノズルにより洗浄液等の液体を注入することができ、ウェル内に洗浄液等の液体を十分に行き渡らせることができる。

また、本発明の他の態様によれば、マイクロアレイ処理装置を用いたマイクロアレイの洗浄方法であって、吸引ノズルを、この吸引ノズルの先端が、ウェルに収容されたマイクロアレイの下端の高さ位置に位置するまで、ウェル内を相対的に降下させる降下工程と、吸引ノズルにより、ウェルにおける液面がマイクロアレイの下端の高さ位置に低下するまで、このウェルから液体を吸引する吸引工程と、吸引工程の後、注入ノズルにより、ウェルに洗浄液を注入する注入工程と、を有することを特徴とするマイクロアレイの洗浄方法が提供される。
このように構成された本発明においては、ウェル内の液体と洗浄液とを十分に置換することができ、マイクロアレイを十分に洗浄することができる。

また、本発明において、好ましくは、降下工程、吸引工程、及び、注入工程を、複数回繰り返す。
このように構成された本発明においては、ウェル内の液体と洗浄液とを十分に置換することができ、マイクロアレイを十分に洗浄することができる。

また、本発明において、好ましくは、マイクロアレイ処理装置を用いたマイクロアレイの洗浄方法は、注入工程の後、降下工程及び吸引工程を実行し、その後、ウェルに収容されたマイクロアレイを乾燥させる乾燥工程を有する。
このように構成された本発明においては、十分に洗浄されたマイクロアレイを乾燥させることができる。

また、本発明において、好ましくは、降下工程及び吸引工程において、吸引ノズルにウェル内を相対的に降下させつつ、並行してこの吸引ノズルによりウェルから液体を吸引させる。
このように構成された本発明においては、ウェルから液体を吸引する際の所要時間を短縮することができる。

また、本発明の他の態様によれば、平板状のマイクロアレイを保持するマイクロアレイホルダであって、マイクロアレイの少なくとも中央部を露出させた状態で、該マイクロアレイの外縁部を該マイクロアレイの一方の主面と他方の主面との両側から挟持し、且つ、該マイクロアレイの側端面に面する保持枠を備え、マイクロアレイの一方の主面に面する保持枠の部分は、マイクロアレイの側端面に面する保持枠の部分から分離しており、且つ、該マイクロアレイの側端面から該マイクロアレイの内方側に位置している、ことを特徴とするマイクロアレイホルダが提供される。
このように構成された本発明においては、マイクロアレイの側端面と該側端面に面する保持枠との間隙は、マイクロアレイの一方の主面に面する保持枠によって覆われないので、ハイブリダイゼーション処理においてマイクロアレイの側端面とマイクロアレイホルダのとの間に液体試料が侵入した場合であっても、洗浄液をこの間隙に容易に浸透させ、液体試料を確実に洗浄することが可能となる。

また、本発明において、好ましくは、保持枠は、マイクロアレイの一方の主面の外縁部と該外縁部に隣接する側端面とに連続的に当接する枠本体と、マイクロアレイの他方の主面の外縁部に当接して枠本体との間でマイクロアレイの外縁を挟持する蓋部材とを有し、蓋部材は、マイクロアレイの側端面からマイクロアレイの内方側に離間した位置でマイクロアレイの他方の主面に当接する。
このように構成された本発明においては、蓋部材は、マイクロアレイの側端面と枠本体との間隙を覆わないので、この間隙を外部に向かって開放することができる。従って、洗浄液をこの当接面に容易に浸透させ、液体試料を確実に洗浄することができる。

また、本発明において、好ましくは、枠本体と蓋部材とは、マイクロアレイの厚方向において少なくとも部分的にオフセットされた位置でマイクロアレイの外縁を挟持する。
このように構成された本発明においては、マイクロアレイの側端面と枠本体との当接面との間隙が覆われることを防止することができるので、この間隙に洗浄液を容易に浸透させることができ、間隙に入り込んだ液体試料を確実に洗浄することができる。

また、本発明において、好ましくは、枠本体と蓋部材とは、マイクロアレイの厚さ方向において完全にオフセットされた位置でマイクロアレイの外縁を挟持する。
このように構成された本発明においては、蓋部材がマイクロアレイの側端面から離れた位置に配置されるので、マイクロアレイの側端面と枠本体との間隙が覆われることを一層確実に防止することができる。その結果、この間隙に洗浄液を更に容易に浸透させることができ、間隙に入り込んだ液体試料を一層確実に洗浄することができる。

また、本発明の他の態様によれば、マイクロアレイのハイブリダイゼーション処理又は洗浄処理を行うマイクロアレイ処理装置であって、マイクロアレイを立てた状態で収容する１又は２以上のウェルが設けられ、ウェルは、上端が開口しマイクロアレイの高さより深い深さを有する凹部形状を備えた、ウェルプレートと、ウェルプレートの上面に当接してウェルの開口を密閉するウェルカバーと、を備えること特徴とするマイクロアレイ処理装置が提供される。
このように構成された本発明においては、ウェルカバーがウェルプレートの上面に当接している状態において、ウェルカバーの下面とマイクロアレイの上端面とが離間しているので、マイクロアレイの上端面がウェルカバーの下面に吸着することを防止できる。また、マイクロアレイの上端面はウェルの開口面よりも上方に突出していないので、ウェルカバーの下面をウェルプレートの上面に密着させることができ、ウェルの開口をウェルカバーの下面によって密閉することができる。

また、本発明において、好ましくは、マイクロアレイは、マイクロアレイホルダによって外縁が保持された平板状のマイクロアレイであり、ウェルの凹部形状は、マイクロアレイホルダの高さより深い深さを有する。
このように構成された本発明においては、ウェルカバーがウェルプレートの上面に当接している状態において、ウェルカバーの下面とマイクロアレイホルダの上端面とが離間しているので、マイクロアレイホルダの上端面がウェルカバーの下面に吸着することを防止できる。また、マイクロアレイホルダの上端面はウェルの開口面よりも上方に突出していないので、ウェルカバーの下面をウェルプレートの上面に密着させることができ、ウェルの開口をウェルカバーの下面によって密閉することができる。

また、本発明において、好ましくは、マイクロアレイ処理装置は、ウェルプレートの上方において、ウェルカバーの下面がウェルプレートの上面と対向するように該ウェルカバーを支持し、該ウェルカバーを上下方向に移動させるウェルカバー支持機構を備える。
このように構成された本発明においては、ウェルカバー支持機構によってウェルカバーを下方に移動させることで、ウェルカバーの下面をウェルプレートの上面に当接させることができる。

また、本発明において、好ましくは、ウェルプレートは円板形状を有し、複数のウェルは、ウェルプレートの円周方向に配列され、ウェルカバーは、ウェルプレートとほぼ同一の外形を有する円板状部材であり、ウェルカバー支持機構は、ウェルカバーを中心軸まわりに回転させる。
このように構成された本発明においては、ウェルカバー支持機構によってウェルカバーを回転させることで、ウェルカバーに設置された吸引ノズル及び注入ノズルを任意のウェルの上方に移動させ、更にウェルカバーを下方に移動させることにより、吸引ノズル及び注入ノズルを任意のウェル内に降下させることができる。

本発明によるマイクロアレイ処理装置、マイクロアレイ処理装置用ウェルプレート、及びマイクロアレイの洗浄方法によれば、ウェル内の液体と洗浄液とを十分に置換することができ、マイクロアレイを十分に洗浄することができる。

本発明の実施形態によるマイクロアレイホルダとマイクロアレイとの分解斜視図である。 本発明の実施形態によるマイクロアレイホルダが保持するマイクロアレイを示す平面図である。 本発明の実施形態によるマイクロアレイホルダのホルダ本体を示す平面図である。 図３のＡ−Ａ線に沿った断面図である。 本発明の実施形態によるマイクロアレイホルダの蓋部材を示す平面図である。 本発明の実施形態によるマイクロアレイホルダがマイクロアレイを保持した状態を示す組立図である。 図６に示した本発明の実施形態によるマイクロアレイホルダがマイクロアレイを保持した状態を示す断面図であり、（ａ）は図６に示したＢ−Ｂ線の断面図、（ｂ）は（ａ）においてＣ−Ｃ線で指示した箇所の部分拡大断面図である。 本発明の実施形態によるマイクロアレイ処理装置を示す斜視図である。 本発明の実施形態による吸引ノズルの先端とウェルの底面とを示す部分拡大側面図である。 本発明の実施形態によるマイクロアレイ処理装置用ウェルプレートを示す斜視図である。 本発明の実施形態によるマイクロアレイ処理装置のウェルを示す図であり、（ａ）はウェルの上面図、（ｂ）は（ａ）に示したウェルのＤ−Ｄ断面図、（ｃ）は（ｂ）に示したウェルのＥ−Ｅ断面図、（ｄ）は（ｂ）に示したウェルのＦ−Ｆ断面図である。 マイクロアレイホルダによって保持されたマイクロアレイが収容されたウェルの断面図である。 マイクロアレイホルダによって保持されたマイクロアレイが収容されたウェル及びウェルカバーの模式的な断面図である。 本発明の実施形態によるマイクロアレイ処理装置を用いたマイクロアレイの洗浄方法を模式的に示す側面図である。 本発明の実施形態によるマイクロアレイホルダの変形例を示す部分拡大断面図である。

以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態のマイクロアレイ処理装置、マイクロアレイ処理装置用ウェルプレート、マイクロアレイホルダ、及び、マイクロアレイの洗浄方法を説明する。

まず、図１乃至図４により、本発明の実施形態によるマイクロアレイ及びマイクロアレイホルダについて説明する。図１は本発明の実施形態によるマイクロアレイホルダとマイクロアレイとの分解斜視図であり、図２は本発明の実施形態のマイクロアレイホルダが保持するマイクロアレイを示す平面図であり、図３は、本発明の実施形態によるマイクロアレイホルダのホルダ本体を示す平面図であり、図４は、図３のＡ−Ａ線に沿った断面図である。

図１及び図２に示すマイクロアレイ１は、公知のマイクロアレイ（特許第４１５０３３０号公報、特許第３６５４８９４号公報等）を使用することができる。例えば、マイクロアレイ１には、図２に示すように、矩形平板状のマイクロアレイ本体２の中央に、プローブを含む高分子ゲルが充填された多数の貫通孔４が形成された区画である貫通孔形成部６が設けられている。このマイクロアレイ１は、横方向長さ（幅）がＷ１、縦方向長さ（高さ）がＬ１、厚さがＴ１である。

本実施形態で使用するマイクロアレイの検出対象は限定されず、ＤＮＡ、ＲＮＡ、タンパク質、化学物質等を挙げることができる。マイクロアレイの種類についても限定されないが、貫通孔型マイクロアレイが好ましい。本実施形態のマイクロアレイホルダの効果が現れやすいからである。
以下、貫通孔型マイクロアレイの一態様について説明する。当該マイクロアレイは、下記（ｉ）〜（ｉｖ）の工程を経て製造することができる。

工程（ｉ）：複数本の中空繊維を、中空繊維の各繊維軸が同一方向となるように３次元に配列し、その配列を樹脂で固定することにより、中空繊維束を製造する工程
貫通孔を形成する方法に特に限定はなく、例えば、特開２００１−１３３４５３号公報に記載されたような中空繊維を同軸方向に配列させた配列体を作製後、樹脂で固める方法を利用することができる。中空繊維は、種々の材料を用いることができるが、有機材料が好ましい。

有機材料からなる中空繊維としては、例えば、ナイロン６、ナイロン６６、芳香族ポリアミド等のポリアミド系中空繊維、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリカーボネート等のポリエステル系中空繊維、ポリアクリロニトリル等のアクリル系中空繊維、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン系中空繊維、ポリメタクリル酸メチル等のポリメタクリレート系中空繊維、ポリビニルアルコール系中空繊維、ポリ塩化ビニリデン系中空繊維、ポリ塩化ビニル系中空繊維、ポリウレタン系中空繊維、フェノール系中空繊維、ポリフッ化ビニリデンやポリテトラフルオロエチレン等からなるフッ素系中空繊維、ポリアルキレンパラオキシベンゾエート系中空繊維等が挙げられる。中空繊維は多孔質であってもよく、溶融紡糸法又は溶液紡糸法に延伸法、ミクロ相分離法、抽出法などの公知の多孔化技術を組み合わせることにより得ることができる。多孔度は特に限定されるものではないが、繊維材料単位長さ辺りに固定化されるプローブの密度を高めるという観点から、比表面積が大きくなるように高い多孔度であることが望ましい。中空繊維の内径は任意に設定できる。好ましくは１０〜２０００μｍ、より好ましくは１５０〜１０００μｍとすることができる。

当該中空繊維の製造方法は限定されず、特開平１１−１０８９２８号公報に記載されたような公知の方法で製造することができる。例えば、溶融紡糸法が好ましく、ノズルとしては馬蹄型やＣ型ノズル、２重管ノズルなどを使用することができる。本実施形態においては、連続した均一な中空部を形成させることができる点で２重管ノズルを用いるのが好ましい。

また、必要に応じて、中空繊維にはカーボンブラック等の黒色顔料を適量含有させたものを用いることもできる。黒色顔料を含有することにより、検出する際にゴミ等の夾雑物由来の光学的ノイズを軽減することができたり、樹脂の強度を上げたりすることができる。顔料の含有量は限定されず、中空繊維のサイズやマイクロアレイの使用目的等に応じて適宜選択することができる。例えば、０．１〜１０質量％、好ましくは０．５〜５質量％、より好ましくは１〜３質量％とすることができる。

ブロック体の製造は配列体の配列が乱れないように接着剤等の樹脂で固定する方法が利用できる。例えば、粘着シート等のシート状物に複数本の中空繊維を所定の間隔をもって平行に配置し、シート状とした後、このシートを螺旋状に巻き取る方法（特開平１１−１０８９２８号公報参照）が挙げられる。

また、複数の孔が所定の間隔をもって設けられた多孔板２枚を孔部が一致するように重ねあわせ、それらの孔部に、中空繊維を通過させ、２枚の多孔板の間隔を開き、２枚の多孔板間の、中空繊維の周辺に硬化性樹脂原料を充満させ硬化させる方法（特開２００１−１３３４５３号公報）が挙げられる。

硬化性樹脂原料としては、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の有機材料からなるものが好ましい。具体的には、有機高分子等から構成される１種類以上の材料から形成されているものが好ましい。有機高分子としては、ポリウレタン、シリコン樹脂、エポキシ樹脂などのゴム材料や、ナイロン６、ナイロン６６、芳香族ポリアミド等のポリアミド系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリカーボネート等のポリエステル系樹脂、ポリアクリロニトリル等のアクリル系樹脂、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリメタクリル酸メチル等のポリメタクリレート系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、フェノール系樹脂、ポリフッ化ビニリデンやポリテトラフルオロエチレン等からなるフッ素系樹脂、ポリアルキレンパラオキシベンゾエート系樹脂等が挙げられる。有機高分子にはカーボンブラック等の黒色顔料を適量含有させることもできる。黒色顔料を添加することにより、検出する際にゴミ等の夾雑物由来の光学的ノイズを軽減することができたり、また、樹脂の強度を上げたりすることができる。顔料の含有量は限定されず、中空繊維のサイズやマイクロアレイの使用目的等に応じて適宜選択することができる。例えば、０．１〜１０質量％、好ましくは０．５〜５質量％、より好ましくは１〜３質量％とすることができる。

本実施形態で配列する中空繊維の数、すなわちスポットの数は限定されず、目的とする実験等に応じて適宜選択することができる。従って、中空繊維同士の距離も、マイクロアレイの面積と配列する中空繊維の数等に応じて適宜選択することができる。

工程（ｉｉ）：上述したように選択した４群の遺伝子又は当該遺伝子の一部を含むゲル前駆体溶液を中空繊維束の各中空繊維の中空部に導入する工程
中空糸内へ充填するゲル材の種類は、特に限定されず、天然物から得られるゲル材であれば、アガロース、アルギン酸ナトリウムなどの多糖類の他、ゼラチン、ポリリジン等のタンパク質などが利用できる。合成高分子としては、例えば、ポリアクロイルスクシンイミドなど反応性官能基を有するポリマーと、反応性を示す架橋剤を反応させて得られるゲルが利用できる。他には、アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルアミノエトキシエタノール、Ｎ−アクリロイルアミノプロパノール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、ヒドロキシエチルメタクリレート、（メタ）アクリル酸及びアリルデキストリン等の重合性モノマーを単量体として、多官能性単量体、例えば、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等との共重合により得られる合成高分子ゲルが好ましい。

本実施形態のマイクロアレイに用いるゲルの濃度は特には限定されず、使用するプローブの長さや量に応じて適宜選択することができる。例えば、単量体成分の濃度に換算して、２〜１０質量％が好ましく、より好ましくは３〜７質量％、更により好ましくは３．５〜５質量％である。２質量％以上とするのは、プローブが確実に固定化することができ、標的物質の検出を効率良く行うことができるからである。また、１０質量％以下とするのは、それ以上濃度を高くしても飛躍的な効果が得られにくいからである。

合成高分子ゲルを前記の貫通孔基板のマイクロアレイに保持させる場合は、前記ブロックに合成高分子のゲル前駆体溶液を充填させた後、ブロック内でゲル化させて保持させることができる。ゲル前駆体溶液をブロックの貫通孔内に充填する方法は、例えば、微細な針を有するシリンジに前記溶液を吸引し、各中空繊維の中空部に針を差し込むことにより導入することができる。また、中空繊維束の固定されている端部の中空部を封止し、もう一方の固定されていない端部の中空部を開放しておく。次にメタクリル基などの重合反応点を末端に持つ核酸プローブを含むゲル前駆体溶液を調製し、該ゲル前駆体溶液及び前記中空繊維束をデシゲーター内に設置し、次いで中空繊維束の中空繊維が固定されていない端部を、この溶液中に浸し、デシゲーター内を減圧状態にした後、常圧に戻すことにより、中空繊維の溶液に浸した端部より、この溶液を中空繊維中空部へ導入することができる。

工程（ｉｉｉ）：中空繊維束の中空部に導入したゲル前駆体溶液を反応させ、プローブを含むゲル状物を中空繊維の中空部に保持する工程
中空繊維の中空部に導入されたゲル前駆体溶液を重合させることにより、プローブ含むゲル状物を中空繊維の中空部に保持させる。重合条件は特には限定されず、使用したゲル前駆体の種類等により適宜選択することができる。例えば、アクリルアミド系の単量体であれば、ラジカル開始剤を使用して重合することができ、好ましくは、アゾ系開始剤を利用した熱重合反応により重合させることができる。

プローブの種類やサイズは限定されず、検出対象となる物質又は化合物の種類に応じて適宜選択することができる。

工程（ｉｖ）：中空繊維束を繊維の長手方向に交叉する方向で切断して薄片化する工程 切断方法は、薄片化することができれば限定されない。例えば、ミクロトーム、レーザー等により行うことができる。得られる薄片の厚みは限定されず、実験の目的等に応じて適宜選択することができる。例えば、５ｍｍ以下、好ましくは０．１〜１ｍｍとすることができる。

図２に示すように、マイクロアレイ本体２の１辺（図１では右側の短辺）には、半円形の切欠部８が設けられている。この切欠部８は、マイクロアレイホルダにマイクロアレイ１を取付ける際、マイクロアレイ１がマイクロアレイホルダに対して正しい取付方向等で取付けられるようにするためのガイドとなるものである。

図１、図３及び図４に示すように、ホルダ本体１０は、ほぼ矩形の板状部材であり、横方向長さ（幅）がＷ２、縦方向長さ（高さ）がＬ２である。このホルダ本体１０のほぼ中央で縦方向に分割した内の一方（下側）の領域が、蓋部材２６が取り付けられる蓋部材取付部１２として形成されている。蓋部材取付部１２は、横方向長さ（幅）がＷ２、縦方向長さ（高さ）がＬ３である。また、蓋部材取付部１２の厚さは、ホルダ本体１０の他の領域の厚さより、蓋部材２６の厚さの分だけ薄く形成されている。従って、蓋部材取付部１２に蓋部材２６を取り付けると、蓋部材２６の表面とホルダ本体１０の表面とがほぼ面一になる。蓋部材取付部１２の四隅には、蓋部材２６に形成された４本のピン２８を受け入れ可能な４つのピン孔１４が形成されている。

更に、蓋部材取付部１２のほぼ中央に、ホルダ本体１０を横方向に貫くように溝部１６が形成されている。この溝部１６の幅（縦方向長さ）Ｌ４は、マイクロアレイ１の縦方向長さＬ１とほぼ等しい。また、溝部１６におけるホルダ本体１０の厚さは、蓋部材取付部１２の厚さより、マイクロアレイ１の厚さＴ１の分だけ薄く形成されている。従って、溝部１６の中にマイクロアレイを取り付けると、マイクロアレイ１の表面と蓋部材取付部１２の表面とがほぼ面一になる。

この溝部１６の中央には矩形の開口部１８が設けられている。この開口部１８は、マイクロアレイホルダがマイクロアレイ１を保持した際に貫通孔形成部６を外部に露出させることができるような大きさに形成されている。

また、溝部１６には、マイクロアレイホルダにマイクロアレイ１を保持させるときにマイクロアレイ１の切欠部８に当接する突起２０が形成されている。突起２０は、マイクロアレイ１の切欠部８に対応する半円形を有している。
また、開口部１８を挟んで突起２０のほぼ反対側に、マイクロアレイ１の側端面２ａに当接するガイド２２が設けられている。ガイド２２は直方体状に形成されている。突起２０及びガイド２２が溝部１６から突出する高さＨ１は、マイクロアレイ１の厚さＴ１とほぼ等しい。また、突起２０とガイド２２との間の、横方向距離Ｗ３は、マイクロアレイ１の横方向長さＷ１に等しい。

このように形成された溝部１６にマイクロアレイ１が収容されると、マイクロアレイ１の一方の主面の外縁部が溝部１６の底面に当接する。また、マイクロアレイ１の切欠部８はホルダ本体１０の突起２０に当接し、マイクロアレイ１の短辺のうち切欠部８が無い短辺の側端面２ａは、ホルダ本体１０のガイド２２に当接する。即ち、ホルダ本体１０は、突起２０及びガイド２２が設けられている部分において、マイクロアレイ１の一方の主面の外縁部と、この外縁部に隣接する側端面２ａとに連続的に当接する。また、マイクロアレイ１の両長辺の側端面２ａは、溝部１６とホルダ本体１０の他の部分との間の段差に当接する。これにより、溝部１６の底面に沿ったマイクロアレイ１の移動が規制される。

また、ホルダ本体１０の両長辺の側端面には、ホルダ本体１０が公知のマイクロアレイ処理装置のウェルに収容されるときの収容方向（図３ではホルダ本体１０の縦方向）に沿って、所定の深さの凹部２４が形成されている。このような凹部２４を形成することで、マイクロアレイ１の洗浄処理を行うときに、マイクロアレイホルダに保持されたマイクロアレイ１の両主面間に、この凹部２４を介して洗浄液を行き渡らせることができるので、より効率的にマイクロアレイ１を洗浄することができる。

図５は、本発明の実施形態によるマイクロアレイホルダの蓋部材２６を示す平面図である。
図１及び図５に示すように、蓋部材２６は、Ｕ字形状を有する板状部材である。蓋部材２６の一方の面には４本の円柱状のピン２８が形成されており、これらの各ピン２８を蓋部材取付部１２の対応するピン孔１４に嵌合させることによって、蓋部材２６がホルダ本体１０の開口部１８の外縁に整合した状態で蓋部材取付部１２に取り付けられる。これにより、蓋部材２６は、マイクロアレイ１の一方の主面（ホルダ本体１０に当接していない主面）の外縁部に当接してホルダ本体１０との間でマイクロアレイ１の外縁を挟持する。

なお、ホルダ本体１０および蓋部材２６の材料は、ハイブリダイゼーション反応、抗原抗体反応等を阻害する物質を含まない任意の材料である。例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネイト等の熱可塑性樹脂材料を材料として用いることでき、このような材料によれば、マイクロアレイホルダを、射出成形で安価に製造することができる。

蛍光を用いた検出を行う場合、マイクロアレイホルダの自家蛍光が大きいと検出のＳ／Ｎ比が低下し、精度の高い検出ができなくなるため、このような用途に用いる場合には、自家蛍光が小さい素材を選択することが必要である。自家蛍光が大きい材料を使用する場合には、自家蛍光を吸収する添加剤、例えばカーボンブラックを添加することができる。

図６は、本発明の実施形態によるマイクロアレイホルダがマイクロアレイ１を保持した状態を示す組立図である。
まず、マイクロアレイ１の切欠部８がホルダ本体１０の突起２０に当接するようにマイクロアレイ１の取付方向を決定し、溝部１６の中に設置する。続いて、蓋部材２６の各ピン２８を蓋部材取付部１２の対応するピン孔１４に嵌合させるように蓋部材２６を蓋部材取付部１２に取り付ける。これにより、マイクロアレイ１の貫通孔形成部６の外側の領域、即ちマイクロアレイ１の外縁が、ホルダ本体１０の溝部１６における開口部１８の周辺と蓋部材２６とによって挟持される。即ち、ホルダ本体１０の溝部１６における開口部１８の周辺と蓋部材２６とが、マイクロアレイ１の少なくとも中央部を外部に露出させた状態でマイクロアレイ１の外縁をマイクロアレイ１の一方の主面と他方の主面との両側から挟持し、且つ、マイクロアレイ１の側端面２ａに面する保持枠となる。

図７は、本発明の実施形態によるマイクロアレイホルダ３０がマイクロアレイ１を保持した状態を示す断面図であり、（ａ）は図４に示したＢ−Ｂ線の断面図、（ｂ）は（ａ）においてＣ−Ｃ線で指示した箇所の部分拡大断面図である。

図７に示すように、ガイド２２の位置では、ホルダ本体１０の溝部１６の底面とガイド２２の側面とが、マイクロアレイ１の一方の主面（図７では下面）の外縁部及びこの外縁部に隣接する側端面２ａに、連続的に当接している。マイクロアレイ１の他方の主面（図７では上面）に面する蓋部材２６は、マイクロアレイ１の側端面２ａに面するホルダ本体１０のガイド２２から分離しており、且つ、マイクロアレイ１の側端面２ａからマイクロアレイ１の内方側に位置している。
より詳細には、蓋部材２６が、マイクロアレイ１の側端面２ａからマイクロアレイ１の内方側に離間した位置でマイクロアレイ１の他方の主面（図７では上面）に当接している。即ち、蓋部材２６は、マイクロアレイ１の側端面２ａとホルダ本体１０のガイド２２との間隙３２を覆わないので、この間隙３２が外部（図７では上方）に向かって開放される。

このように、ホルダ本体１０がマイクロアレイ１の一方の主面の外縁部及びこの外縁部に隣接する側端面２ａに連続的に当接するガイド２２の位置において、ホルダ本体１０とマイクロアレイ１の側端面２ａとの間隙３２が蓋部材２６によって覆われないので、ハイブリダイゼーション処理において、ガイド２２の位置でホルダ本体１０とマイクロアレイ１の側端面２ａとの間隙３２に液体試料が入り込んだ場合であっても、洗浄液をこの間隙３２に容易に浸透させ、洗浄液によって液体試料を確実に洗浄することが可能となる。ホルダ本体１０がマイクロアレイ１の一方の面の外縁部及びこの外縁部に隣接する側端面２ａに連続的に当接する突起２０の位置においても同様である。

特に、ホルダ本体１０の溝部１６と蓋部材２６とが、マイクロアレイ１の厚方向において、少なくとも部分的にオフセットされた位置で、より好ましくは完全にオフセットされた位置でマイクロアレイ１の外縁を挟持することが好ましい。即ち、図７（ｂ）に拡大して示したように、ホルダ本体１０の溝部１６がマイクロアレイ１の一方の主面（図７では下面）に当接している領域と、蓋部材２６がマイクロアレイ１の他方の主面（図７では上面）に当接している領域とが、マイクロアレイ１の厚方向に全く重ならないようになっている。このようにホルダ本体１０と蓋部材２６とを形成することにより、蓋部材２６がマイクロアレイ１の側端面２ａから十分に離れた位置に配置されるので、ホルダ本体１０とマイクロアレイ１の側端面２ａとの間隙３２が覆われることを一層確実に防止できる。その結果、ホルダ本体１０とマイクロアレイ１の側端面２ａとの間に洗浄液を更に容易に浸透させることができ、洗浄液によって液体試料を確実に洗浄することができる。

次に、図８により、本発明の実施形態によるマイクロアレイ処理装置の構成を説明する。図８は、本発明の実施形態によるマイクロアレイ処理装置を示す斜視図である。
図８に示すように、マイクロアレイ処理装置３４には、ベース３６が設けられている。このベース３６の上面に、円板状のウェルプレート３８が着脱自在に取り付けられている。ウェルプレート３８の上面には、マイクロアレイ１を収容する複数のウェル４０が、ウェルプレート３８の周方向に配列されている。各ウェル４０は、上向きの開口を備えた有底長穴状に形成されている。なお、ベース３６は、ペルチェ素子やヒータ等を用いた公知の温度調節部（図示省略）を備えており、この温度調節部によりウェルプレート３８の温度調節が行われる。また、ベース３６には、光学式又は電波式等の公知の漏液センサが設けられており、ウェル４０から液体が溢れた場合にこれを検出可能となっている。

また、マイクロアレイ処理装置３４は、ウェルカバー支持機構４２を備えている。ウェルカバー支持機構４２は、ベース３６の上方においてウェルカバー４４を支持する。ウェルカバー４４は、ウェルプレート３８とほぼ同一の外径を有する円板状に形成されている。ウェルカバー支持機構４２は、ウェルカバー４４の中心軸とウェルプレート３８の中心軸とがほぼ一致し、ウェルカバー４４の下面がウェルプレート３８の上面と対向するように、ウェルカバー４４を支持する。更に、ウェルカバー支持機構４２は、ウェルカバー４４を中心軸線に沿って上下方向に直動させる直動機構と、ウェルカバー４４を中心軸まわりに回転させる回転機構とを備えている（何れも図示省略）。直動機構によりウェルカバー４４を下方に移動させることで、ウェルカバー４４の下面がウェルプレート３８の上面に当接する。

ウェルカバー４４の下面には、ウェル４０から液体を吸引する吸引ノズル４６と、ウェル４０に液体を注入する注入ノズル４８が設けられている。回転機構によりウェルカバー４４を回転させることで吸引ノズル４６及び注入ノズル４８を何れか１つのウェル４０の上方に移動させると共に、直動機構によりウェルカバー４４を下方に移動させることにより、これらの吸引ノズル４６及び注入ノズル４８がウェル４０内に降下する。

吸引ノズル４６は、先端が、ウェル４０に収容されたマイクロアレイ１の下端よりも下方の高さ位置に位置するまで降下可能な長さに形成されている。即ち、吸引ノズル４６は、ウェル４０の開口からマイクロアレイ１の下端までの長さよりも長く、且つ、ウェル４０の開口から底面までの長さ（ウェル４０の深さ）よりも短い。

図９は、吸引ノズル４６の先端とウェル４０の底面とを示す部分拡大側面図である。この図９に示すように、吸引ノズル４６は、吸引ノズル４６の先端のウェル４０の底面からの高さｈが１ｍｍ以上２ｍｍ以下となるまで、吸引ノズル４６をウェル４０内に降下可能な長さに形成されることが好ましい。また、吸引ノズル４６は、ウェル４０の底面に対する吸引ノズル４６の先端面の傾斜角θ（ウェル４０の底面と吸引ノズル４６の先端面との成す角）が１０度以下となるように形成されることが好ましく、特に、吸引ノズル４６の先端面がウェル４０の底面と平行になるように（傾斜角θが０度になるように）形成されることが好ましい。

また、吸引ノズル４６は、吸引ポンプ５０を介して廃液回収ボトル５２に接続されている。吸引ノズル４６と廃液回収ボトル５２との間に接続された吸引ポンプ５０が、吸引ノズル４６から廃液回収ボトル５２に液体を移送する。これにより、吸引ノズル４６によってウェル４０から吸引された液体が廃液回収ボトル５２に回収される。この吸引ポンプ５０は、気液混合流体を移送可能なポンプであり、例えばダイアフラムポンプを使用することができる。廃液回収ボトル５２には、フロート式、光式、静電容量式等の公知の液面計が設けられている。液面計による検出値は、制御部（図示省略）に出力される。

注入ノズル４８は、例えば吸引ノズル４６とほぼ同じ長さに形成されている。
また、注入ノズル４８は、注入ポンプ５４を介して洗浄液ボトル５６に接続されている。注入ノズル４８と洗浄液ボトル５６との間に接続された注入ポンプ５４は、洗浄液ボトル５６から洗浄液を吸引し、所定量の洗浄液を注入ノズル４８に吐出する。この注入ポンプ５４は、所定量の流体を吐出可能なポンプであり、例えばシリンジポンプを使用することができる。なお、バルブを介して複数の洗浄液ボトル５６に注入ポンプ５４を接続してもよい。このバルブを切り替えることにより、洗浄液を吸引する洗浄液ボトル５６を選択することができ、異なる種類の洗浄液を注入ノズル４８からウェル４０に注入させることができる。洗浄液ボトル５６には、フロート式、光式、静電容量式等の公知の液面計が設けられている。液面計による検出値は、制御部（図示省略）に出力される。

次に、図１０により、本発明の実施形態によるマイクロアレイ処理装置３４のウェルプレート３８の構成を説明する。図１０は、本発明の実施形態によるマイクロアレイ処理装置３４のウェルプレート３８を示す斜視図である。
図１０に示すように、ウェルプレート３８は、円板状に形成されている。このウェルプレート３８の中央に設けられた円形穴３８ａが、ベース３６の上面に設けられた円柱状の突起３６ａに嵌め込まれることにより、ウェルプレート３８がベース３６に取り付けられる。
このウェルプレート３８には、周方向に沿って、マイクロアレイ１を立てた状態で収容する複数のウェル４０が配列されている。図１０に示すように、ウェル４０は上向きの開口を備えた有底長穴状に形成されている。各ウェル４０には、マイクロアレイ１を保持したマイクロアレイホルダ３０が収容される。

次に、図１１及び図１２により、本発明の実施形態によるマイクロアレイ処理装置３４のウェル４０の構造を詳細に説明する。図１１は、本発明の実施形態によるマイクロアレイ処理装置３４のウェル４０を示す図であり、（ａ）はウェル４０の上面図、（ｂ）は（ａ）に示したウェル４０のＤ−Ｄ断面図、（ｃ）は（ｂ）に示したウェル４０のＥ−Ｅ断面図、（ｄ）は（ｂ）に示したウェル４０のＦ−Ｆ断面図である。また図１２は、マイクロアレイホルダ３０によって保持されたマイクロアレイ１が収容されたウェル４０の断面図である。

図１１及び図１２に示すように、ウェル４０は、上端が開口しマイクロアレイ１の高さより深い深さを有する凹部形状を備えるように形成されている。以下の説明では、ウェル４０の各寸法の内、ウェル４０の開口の長手方向（図１１における左右方向）に沿った長さをウェル４０の幅、ウェル４０の開口の長手方向と直交する方向（即ちウェル４０に収容されたマイクロアレイホルダ３０の厚さ方向。図１１（ａ）、（ｃ）、（ｄ）における上下方向）に沿った長さをウェル４０の奥行きと呼ぶ。
なお、図２及び図３を参照して説明したように、マイクロアレイホルダ３０及びマイクロアレイ１の各寸法の内、ウェル４０へのマイクロアレイホルダ３０の収容方向に沿ったマイクロアレイ１の長さ（高さ）はＬ１、マイクロアレイホルダ３０の長さ（高さ）はＬ２であり、ウェル４０の開口の長手方向に沿ったマイクロアレイ１の長さ（幅）はＷ１、マイクロアレイホルダ３０の長さ（幅）はＷ２である。また、マイクロアレイホルダ３０の板厚をＴ２とする。

ウェル４０の幅は、ウェル４０の底面から開口までの範囲において、マイクロアレイホルダ３０の幅Ｗ２よりも大きい所定幅Ｗ３となっている。また、ウェル４０の奥行きＤ１は、ウェル４０の底面より長さＬ４上方の位置から、ウェル４０の開口までの範囲において、ウェル４０の内壁とマイクロアレイホルダ３０との間隔（Ｄ１−Ｔ２）／２が長さＧ以上になるように形成されている。ここで、長さＧは、例えば、ウェル４０に収容されているマイクロアレイホルダ３０を把持するために、ウェル４０の内壁とマイクロアレイホルダ３０との間にピンセットの先端を差し込むことが可能な長さである。また、長さＬ４は、例えば、ウェル４０の底面から、ウェル４０に収容されたマイクロアレイホルダ３０に保持されているマイクロアレイ１の上端までの長さである。
即ち、ウェル４０は、収容されたマイクロアレイ１の上端の高さ位置より上方が、ウェル４０の内壁とマイクロアレイ１との間隔が長さＧ以上になるように形成されている。また、図１２に示すように、マイクロアレイホルダ３０の上端は、マイクロアレイホルダ３０に取付けられたマイクロアレイ１の上端より上方に位置している。従って、マイクロアレイ１の上端の高さ位置より上方において、ウェル４０の内壁とマイクロアレイホルダ３０との間にピンセット等を差し込み、マイクロアレイホルダ３０を容易に把持することができる。
なお、ウェル４０に収容されたマイクロアレイホルダ３０に保持されているマイクロアレイ１の上端の高さ位置よりも上方には液体試料を注入する必要がないことから、ウェル４０の内壁とマイクロアレイホルダ３０との間隔を長さＧ以上とすることでウェル４０の容積が増大してもウェル４０に注入すべき液体試料の量は増大せず、問題は生じない。

一方、ウェル４０の底面から長さＬ４上方の位置までの範囲において、ウェル４０の奥行きＤ２は、マイクロアレイホルダ３０の板厚Ｔ２より僅かに大きい。これにより、ウェル４０の内壁によってマイクロアレイホルダ３０を挟持させると共に、ウェル４０に液体試料が注入される範囲（即ち、ウェル４０の底面から長さＬ４上方の位置までの範囲）の容積を最小限とすることができる。この場合、ウェル４０の内壁とマイクロアレイホルダ３０との間隔（Ｄ２−Ｔ２）／２は吸引ノズル４６の外径Ｎ１及び注入ノズル４８の外径Ｎ２よりも小さくなる。従って、ウェル４０の底面から長さＬ４上方の位置までの範囲（即ち、収容されたマイクロアレイ１の上端より下方の高さ位置）において、ウェル４０の内壁とマイクロアレイホルダ３０との間に吸引ノズル４６及び注入ノズル４８を挿通することはできない。なお、本実施形態において、ウェル４０の奥行きＤ２はＤ１より小さい。

更に、吸引ノズル４６及び注入ノズル４８を挿通可能な寸法形状の凹部４０ａが、ウェル４０の内壁に、ウェル４０の底面から開口まで形成されている。具体的には、ウェル４０に収容されたマイクロアレイホルダ３０の両面に対向する各内壁のほぼ中央に、マイクロアレイホルダ３０の収容方向（図１１（ｂ）における上下方向）に沿って延び、円弧状の断面を有する凹部４０ａが形成されている。この凹部４０ａの円弧状断面の直径は、吸引ノズル４６の外径Ｎ１及び注入ノズル４８の外径Ｎ２よりも大きい。また、ウェル４０内で相互に対向する凹部４０ａ間の長さＤ３は、凹部４０ａとマイクロアレイホルダ３０との間隔（Ｄ３−Ｔ２）／２が吸引ノズル４６の外径Ｎ１及び注入ノズル４８の外径Ｎ２よりも大きくなるように形成されている。これにより、吸引ノズル４６及び注入ノズル４８を、ウェル４０の底面（即ちマイクロアレイ１の下端よりも下方の高さ位置）まで、凹部４０ａ内を降下させることができる。

また、ウェル４０の底面から長さＬ４上方の位置までの範囲では、図１１（ｄ）に示すように、凹部４０ａがほぼＶ字形の断面を有するように形成されている。このＶ字形断面には、上述した円弧状の断面が包含される。このＶ字形断面を有する凹部４０ａの幅Ｗ５は、マイクロアレイ１の幅Ｗ１とほぼ等しい。これにより、マイクロアレイホルダ３０の開口部を介して露出しているマイクロアレイ１とＶ字形断面を有する凹部４０ａとに囲まれる三角柱状の空間が形成される。注入ノズル４８からウェル４０に洗浄液を注入すると、この三角柱状の空間に洗浄液が十分に行き渡るので、マイクロアレイ１を十分に洗浄することができる。

次に、図１３により、ウェルプレート３８とウェルカバー４４の関係について説明する。図１３は、マイクロアレイホルダ３０によって保持されたマイクロアレイ１が収容されたウェル４０及びウェルカバー４４の模式的な縦断面図であり、（ａ）はウェルカバー４４の下面がウェルプレート３８の上面に当接している状態を示し、（ｂ）はウェルカバー４４の下面とウェルプレート３８の上面とが離れている状態を示す。
図１３に示すように、ウェル４０の深さＬ５（マイクロアレイホルダ３０の下端面に当接する底面から上端の開口面までの長さ）は、マイクロアレイホルダ３０の高さＬ２（マイクロアレイホルダ３０の下端から上端までの長さ）より大きい。従って、マイクロアレイホルダ３０がその下端がウェル４０の底に接触するようにしてウェル４０に収容された状態において、マイクロアレイホルダ３０の上端はウェル４０の開口面よりも下方位置（例えばウェル４０の開口面よりも１ｍｍ下方の位置）に位置することになる。即ち、図１３（ａ）に示すように、ウェルカバー４４の下面がウェルプレート３８の上面に当接している状態において、ウェルカバー４４の下面とマイクロアレイホルダ３０の上端面とが離間している。

その結果、マイクロアレイホルダ３０は、ウェルへの収容時に上端面がウェル４０の開口面よりも上方に突出せず、ハイブリダイゼーション処理において、ウェルカバー支持機構４２の直動機構によりウェルカバー４４を下方に移動させることで、ウェルカバー４４の下面をウェルプレート３８の上面に密着させることができ、ウェル４０の開口をウェルカバー４４の下面によって密閉することができる。

また、ウェルカバー４４の下面をウェルプレート３８の上面に密着させても、マイクロアレイホルダ３０の上端面は、ウェルカバー４４の下面に吸着しない。従って、マイクロアレイ１のハイブリダイゼーションを行った後、ウェルカバー支持機構４２の直動機構によりウェルカバー４４を上方に移動させる際、図１３（ｂ）に示すように、マイクロアレイホルダ３０はウェルカバー４４と共に引き上げられることなく、ウェル４０の内部に収容された状態を維持できる。

次に、図１４により、上述した本発明の実施形態によるマイクロアレイ処理装置３４を用いたマイクロアレイ１の洗浄方法について説明する。
図１４は、本発明の実施形態によるマイクロアレイ処理装置３４を用いたマイクロアレイ１の洗浄方法を模式的に示す側面図である。

マイクロアレイ１の洗浄に先立って、マイクロアレイ１のハイブリダイゼーション処理が行われる。このハイブリダイゼーション処理では、まず、ベース３６にウェルプレート３８が取り付けられると共に、ウェルプレート３８の各ウェル４０に、マイクロアレイ１を保持したマイクロアレイホルダ３０が収容される。更に、各ウェル４０に液体試料を注入する。この際、液体試料の液面がマイクロアレイ１の上端に達していればよい。

続いて、制御部が、廃液回収ボトル５２及び洗浄液ボトル５６の液面計からの出力値と、事前に設定されている基準値とを比較し、異常の有無を判定する。例えば、廃液回収ボトル５２の液面が基準値よりも高い場合、洗浄処理を実行すると廃液回収ボトル５２から廃液が溢れる可能性があることから、異常が有ると判定する。また、洗浄液ボトル５６の液面が基準値よりも低い場合、洗浄処理を実行中に洗浄液が不足する可能性があることから、異常が有ると判定する。異常が有ると判定された場合、異常が解消されるまでハイブリダイゼーション処理は開始されない。

一方、異常が無いと判定された場合（即ち、廃液回収ボトル５２の液面が基準値より低く、且つ洗浄液ボトル５６の液面が基準値よりも高い場合）、ウェルカバー支持機構４２の回転機構によってウェルカバー４４を回転させ、吸引ノズル４６及び注入ノズル４８を何れか１つのウェル４０の上方に移動させる。次に、ウェルカバー支持機構４２の直動機構によりウェルカバー４４を下方に移動させ、ウェルカバー４４の下面をウェルプレート３８の上面に当接させる。これにより、各ウェル４０の開口がウェルカバー４４により密閉される。この状態で、温度調節部によりウェルプレート３８の温度調節を行い、所定時間維持することにより、マイクロアレイ１のハイブリダイゼーションを行う。

上述したようにハイブリダイゼーション処理を行った後、洗浄処理が行われる。洗浄処理が開始されると、ウェルカバー支持機構４２の直動機構によりウェルカバー４４を上方に移動させ、更に回転機構によりウェルカバー４４を回転させ、吸引ノズル４６及び注入ノズル４８を洗浄を行うウェル４０の上方に移動させる。次に、ウェルカバー支持機構４２の直動機構によりウェルカバー４４を下方に移動させる。これにより、図１４（ａ）に示すように、吸引ノズル４６及び注入ノズル４８が、凹部４０ａに沿ってウェル４０の内壁とマイクロアレイホルダ３０との間に挿通される。このとき、吸引ノズル４６及び注入ノズル４８は、それぞれの先端が、ウェル４０に収容されたマイクロアレイ１の下端よりも下方の高さ位置に位置するまで、凹部４０ａに沿ってウェル４０に降下する。

続いて、吸引ポンプ５０を動作させ、吸引ノズル４６により、ウェル４０から液体（液体試料又は洗浄液）を吸引させる。上述したように、吸引ノズル４６は、その先端が、ウェル４０に収容されたマイクロアレイ１の下端よりも下方の高さ位置に位置するまで、降下しているので、図１４（ｂ）に示すように、ウェル４０における液面がマイクロアレイ１の下端よりも下方の高さ位置に低下するまで、ウェル４０から液体を吸引することができる。吸引ノズル４６により吸引された液体は、吸引ポンプ５０を介して廃液回収ボトル５２まで移送される。
特に、直動機構によりウェルカバー４４を下方に移動させることで吸引ノズル４６及び注入ノズル４８をウェル４０に降下させつつ、並行して吸引ノズル４６によりウェル４０から液体を吸引させることにより、洗浄処理に要する時間を短縮することができる。

ウェル４０における液面がマイクロアレイ１の下端よりも下方の高さ位置に低下するまで、ウェル４０から液体を吸引した後、注入ポンプ５４を動作させ、注入ノズル４８により、ウェル４０に洗浄液を注入する。このとき、ウェル４０における液面がマイクロアレイ１の上端よりも上方の高さ位置に到達するまで洗浄液を注入する。このように、マイクロアレイ１の下端よりも下方の高さ位置まで液体を吸引した後、ウェル４０に洗浄液を注入することにより、ウェル４０内の液体と洗浄液とを十分に置換することができ、マイクロアレイ１を十分に洗浄することができる。
なお、ベース３６の漏液センサによって漏液が検出された場合、ウェル４０への洗浄液の注入を中止する。これにより、吸引ポンプ５０の異常等のためにウェル４０から正常に液体が吸引されず、ウェル４０に注入された洗浄液が溢れた場合であっても、それ以上の漏液を防止することができる。

次に、ウェルカバー支持機構４２の直動機構によりウェルカバー４４を上方に移動させ、更に回転機構によりウェルカバー４４を回転させ、吸引ノズル４６及び注入ノズル４８を、次に洗浄を行うウェル４０（例えば隣接しているウェル４０）の上方に移動させる。続いて、ウェルカバー支持機構４２の直動機構によりウェルカバー４４を下方に移動させ、次に洗浄を行うウェル４０に吸引ノズル４６及び注入ノズル４８を降下させる。同様に、吸引ノズル４６及び注入ノズル４８の降下、液体の吸引、及び洗浄液の注入の各工程を、全てのウェル４０について所定回数（実験条件等によって異なるが、例えば３０乃至４０回）繰り返す。

吸引ノズル４６及び注入ノズル４８の降下、液体の吸引、及び洗浄液の注入の各工程を、全てのウェル４０について所定回数繰り返した後、温度調節部によりウェルプレート３８の温度調節を行い、所定時間維持することにより、マイクロアレイ１の乾燥を行う。

最後に、マイクロアレイ処理装置３４、マイクロアレイ処理装置３４のウェルプレート３８、マイクロアレイホルダ３０、及びマイクロアレイ１の洗浄方法の変形例について説明する。

上述した実施形態では、マイクロアレイホルダ３０は、平板状のマイクロアレイ１の外縁部を一方の主面と他方の主面との両側から挟持するが、これとは異なる構成のマイクロアレイ及びマイクロアレイホルダを使用してもよい。例えば、平板状のマイクロアレイの側端面に密着することによりマイクロアレイを保持する枠状のマイクロアレイホルダを私用してもよい。あるいは、１つのマイクロアレイホルダが複数のマイクロアレイを保持するように構成してもよい。

また、上述した実施形態では、ウェルカバー支持機構４２の直動機構によりウェルカバー４４を下方に移動させることにより、吸引ノズル４６及び注入ノズル４８は、凹部４０ａに沿ってウェル４０内を降下すると説明したが、所定の直動機構によりウェルプレート３８を上方に移動させることにより、吸引ノズル４６及び注入ノズル４８がウェル４０に対して相対的に降下するようにしてもよい。

また、図８では、吸引ノズル４６と注入ノズル４８の長さがほぼ同一である場合を例示したが、吸引ノズル４６は、先端がウェル４０に収容されたマイクロアレイ１の下端よりも下方の高さ位置に位置するまで降下可能であればよく、注入ノズル４８の長さを吸引ノズル４６よりも短くしてもよい。

また、図１１では、ウェル４０の奥行きは、ウェル４０の底面より長さＬ４上方の位置から、ウェル４０の開口までの範囲におけるウェル４０の奥行きＤ１が、ウェル４０の底面から長さＬ４上方の位置までの範囲におけるウェル４０の奥行きＤ２より大きい場合を例示したが、ウェル４０の底面から開口まで、ウェル４０の奥行きが等しくなるようにしてもよい。例えば、ウェル４０の底面から開口まで、奥行きをＤ２とし、ウェル４０の内壁とマイクロアレイホルダ３０との間隔が吸引ノズル４６の外径よりも小さくなるようにしてもよい。

また、図１１では、ウェル４０の底面から長さＬ４上方の位置までの範囲に、ほぼＶ字形の断面を有する凹部４０ａが形成されている場合について説明したが、ウェル４０の底面から開口まで、同一の円弧状の断面を有する凹部４０ａが形成されるようにしてもよい。

また、マイクロアレイ１のハイブリダイゼーション処理及び洗浄処理を行う際に、処理の終了予定時間（時刻）を表示するようにしてもよい。例えば、タッチパネルやテンキー等の公知の入力手段を介して、ハイブリダイゼーション処理の反応時間、及び洗浄処理における洗浄回数等の運転条件の事前入力を受け付ける。そして、公知の計算機が、入力された運転条件に基づき終了予定時間（時刻）を算出し、算出結果をディスプレイによって表示させる。

図１５は、本発明の実施形態によるマイクロアレイホルダ３０の変形例を示す部分拡大断面図である。
図７では、ホルダ本体１０の溝部１６と蓋部材２６とが、マイクロアレイ１の厚方向において完全にオフセットされた位置でマイクロアレイ１の外縁を挟持する場合について説明したが、図１５に示すように、ホルダ本体１０の溝部１６と蓋部材２６とが、マイクロアレイ１の厚方向において少なくとも部分的にオフセットされた位置でマイクロアレイ１の外縁を挟持するようにしてもよい。即ち、ホルダ本体１０の溝部１６がマイクロアレイ１の一方の主面（図１５では下面）に当接している領域と、蓋部材２６がマイクロアレイ１の他方の主面（図１５では上面）に当接している領域とが、マイクロアレイ１の厚方向に部分的に重なるようにしてもよい。
この場合でも、マイクロアレイ１の側端面２ａとホルダ本体１０との間隙３２は蓋部材２６によって覆われないので、ホルダ本体１０とマイクロアレイ１の側端面２ａとの間に洗浄液を容易に浸透させることができ、洗浄液によって液体試料を確実に洗浄することができる。

本発明は上記実施形態に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された技術的事項の範囲内で種々の変更・変形が可能である。

１ マイクロアレイ
２ マイクロアレイ本体
２ａ 側端面
４ 貫通孔
６ 貫通孔形成部
８ 切欠部
１０ ホルダ本体
１２ 蓋部材取付部
１４ ピン孔
１６ 溝部
１８ 開口部
２０ 突起
２２ ガイド
２４ 凹部
２６ 蓋部材
２８ ピン
３０ マイクロアレイホルダ
３２ 間隙
３４ マイクロアレイ処理装置
３６ ベース
３６ａ 突起
３８ ウェルプレート
３８ａ 円形穴
４０ ウェル
４０ａ 凹部
４２ ウェルカバー支持機構
４４ ウェルカバー
４６ 吸引ノズル
４８ 注入ノズル
５０ 吸引ポンプ
５２ 廃液回収ボトル
５４ 注入ポンプ
５６ 洗浄液ボトル

Claims (23)

1. マイクロアレイのハイブリダイゼーション処理及び洗浄処理を行うマイクロアレイ処理装置であって、
   マイクロアレイを収容する１又は２以上のウェルが設けられているウェルプレートと、
   前記ウェルから液体を吸引する吸引ノズルと、を備え、
   前記ウェルは、上端が開口し前記マイクロアレイの高さ以上の深さを有し且つ前記吸引ノズルの先端を該ウェルに収容されたマイクロアレイの下端の高さ位置まで挿通可能な凹部形状を備え、
   前記吸引ノズルは、該吸引ノズルの先端が、前記ウェルに収容された前記マイクロアレイの下端の高さ位置に位置するまで、前記ウェル内を相対的に降下可能である、
   ことを特徴とするマイクロアレイ処理装置。
2. 前記ウェルに液体を注入する注入ノズルを備えた、請求項１に記載のマイクロアレイ処理装置。
3. 前記ウェルの凹部形状は、前記注入ノズルの先端を該ウェルに収容された前記マイクロアレイの上端より下方の高さ位置まで挿通可能な形状であり、
   前記注入ノズルは、該注入ノズルの先端が前記ウェルに収容された前記マイクロアレイの上端より下方の高さ位置に位置するまで、該ウェル内を相対的に降下可能である、
   請求項１又は２に記載のマイクロアレイ処理装置。
4. 前記ウェルは、マイクロアレイホルダに取り付けられた平板状のマイクロアレイを立てた状態で収容する、
   請求項１乃至３の何れか１項に記載のマイクロアレイ処理装置。
5. ハイブリダイゼーション処理及び洗浄処理に関する運転条件の入力を受け付ける入力手段と、
   前記入力手段を介して入力された前記運転条件に基づき、ハイブリダイゼーション処理及び洗浄処理の終了予定時間を算出する算出手段と、
   前記算出手段による算出結果を出力する出力手段と、を備えた、
   請求項１乃至４の何れか１項に記載のマイクロアレイ処理装置。
6. 前記吸引ノズルは、該吸引ノズルの先端が、前記ウェルの底面から１ｍｍ以上２ｍｍ以下の高さ位置に位置するまで、前記ウェル内を相対的に降下可能である、
   請求項１乃至５の何れか１項に記載のマイクロアレイ処理装置。
7. 前記吸引ノズルの先端面は、前記ウェルの底面に対する傾斜角が１０度以下である、
   請求項１乃至６の何れか１項に記載のマイクロアレイ処理装置。
8. マイクロアレイのハイブリダイゼーション処理及び洗浄処理を行うマイクロアレイ処理装置用ウェルプレートであって、
   マイクロアレイを収容する１又は２以上のウェルを有し、
   前記ウェルは、上端が開口し前記マイクロアレイの高さ以上の深さを有し且つ該ウェルから液体を吸引するための吸引ノズルの先端を該ウェルに収容されたマイクロアレイの下端の高さ位置まで挿通可能な凹部形状を備えた、
   ことを特徴とするマイクロアレイ処理装置用ウェルプレート。
9. 前記ウェルの凹部形状は、前記吸引ノズルの先端を該ウェルに収容されたマイクロアレイの下端より下方の高さ位置まで挿通可能な形状である、
   請求項８に記載のマイクロアレイ処理装置用ウェルプレート。
10. 前記ウェルの凹部形状は、該ウェルに液体を注入する注入ノズルの先端を該ウェルに収容された前記マイクロアレイの上端より下方の高さ位置まで挿通可能な形状である、
    請求項８又は９に記載のマイクロアレイ処理装置用ウェルプレート。
11. 前記ウェルの凹部形状は、前記注入ノズルの先端を該ウェルに収容された前記マイクロアレイの下端より下方の高さ位置まで挿通可能な形状である、
    請求項１０に記載のマイクロアレイ処理装置用ウェルプレート。
12. 請求項１乃至７の何れか１項に記載のマイクロアレイ処理装置を用いたマイクロアレイの洗浄方法であって、
    前記吸引ノズルを、該吸引ノズルの先端が、前記ウェルに収容された前記マイクロアレイの下端の高さ位置に位置するまで、前記ウェル内を相対的に降下させる降下工程と、
    前記吸引ノズルにより、前記ウェルにおける液面が前記マイクロアレイの下端の高さ位置に低下するまで、該ウェルから液体を吸引する吸引工程と、
    前記吸引工程の後、注入ノズルにより、前記ウェルに洗浄液を注入する注入工程と、
    を有することを特徴とするマイクロアレイの洗浄方法。
13. 前記降下工程、前記吸引工程、及び、前記注入工程を、複数回繰り返す、
    請求項１２に記載のマイクロアレイの洗浄方法。
14. 前記注入工程の後、前記降下工程及び前記吸引工程を実行し、その後、前記ウェルに収容された前記マイクロアレイを乾燥させる乾燥工程を有する、
    請求項１２又は１３に記載のマイクロアレイの洗浄方法。
15. 前記降下工程及び前記吸引工程において、前記吸引ノズルに前記ウェル内を相対的に降下させつつ、並行して該吸引ノズルにより前記ウェルから液体を吸引させる、
    請求項１２乃至１４の何れか１項に記載のマイクロアレイの洗浄方法。
16. 平板状のマイクロアレイを保持するマイクロアレイホルダであって、
    前記マイクロアレイの少なくとも中央部を露出させた状態で、該マイクロアレイの外縁部を該マイクロアレイの一方の主面と他方の主面との両側から挟持し、且つ、該マイクロアレイの側端面に面する保持枠を備え、
    前記マイクロアレイの一方の主面に面する前記保持枠の部分は、前記マイクロアレイの側端面に面する前記保持枠の部分から分離しており、且つ、該マイクロアレイの側端面から該マイクロアレイの内方側に位置している、
    ことを特徴とするマイクロアレイホルダ。
17. 前記保持枠は、前記マイクロアレイの一方の主面の外縁部と該外縁部に隣接する側端面とに連続的に当接する枠本体と、該マイクロアレイの他方の主面の外縁部に当接して該枠本体との間で該マイクロアレイの外縁を挟持する蓋部材とを有し、
    前記蓋部材は、前記マイクロアレイの側端面から該マイクロアレイの内方側に離間した位置で該マイクロアレイの他方の主面に当接する、
    請求項１６に記載のマイクロアレイホルダ。
18. 前記枠本体と前記蓋部材とは、前記マイクロアレイの厚方向において少なくとも部分的にオフセットされた位置で該マイクロアレイの外縁を挟持する、
    請求項１７に記載のマイクロアレイホルダ。
19. 前記枠本体と前記蓋部材とは、前記マイクロアレイの厚さ方向において完全にオフセットされた位置で該マイクロアレイの外縁を挟持する、
    請求項１８に記載のマイクロアレイホルダ。
20. マイクロアレイのハイブリダイゼーション処理又は洗浄処理を行うマイクロアレイ処理装置であって、
    前記マイクロアレイを立てた状態で収容する１又は２以上のウェルが設けられ、前記ウェルは、上端が開口し前記マイクロアレイの高さより深い深さを有する凹部形状を備えた、ウェルプレートと、
    前記ウェルプレートの上面に当接して前記ウェルの開口を密閉するウェルカバーと、
    を備えること特徴とするマイクロアレイ処理装置。
21. 前記マイクロアレイは、マイクロアレイホルダによって外縁が保持された平板状のマイクロアレイであり、
    前記ウェルの凹部形状は、前記マイクロアレイホルダの高さより深い深さを有する、
    請求項２０に記載のマイクロアレイ処理装置。
22. 前記ウェルプレートの上方において、前記ウェルカバーの下面が前記ウェルプレートの上面と対向するように該ウェルカバーを支持し、該ウェルカバーを上下方向に移動させるウェルカバー支持機構を備える、
    請求項２０又は２１に記載のマイクロアレイ処理装置。
23. 前記ウェルプレートは円板形状を有し、
    複数の前記ウェルは、前記ウェルプレートの円周方向に配列され、
    前記ウェルカバーは、前記ウェルプレートとほぼ同一の外形を有する円板状部材であり、
    前記ウェルカバー支持機構は、前記ウェルカバーを中心軸まわりに回転させる、
    請求項２２に記載のマイクロアレイ処理装置。

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